JP2005322823A - Wiring board, method of forming the same, and film mask used for the method of forming the wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板上に導電性材料からなる複数の配線パターンを形成した配線基板およびその製造方法と配線基板を形成する時に用いられる配線基板形成用フィルムマスクに関する。 The present invention relates to a wiring board in which a plurality of wiring patterns made of a conductive material are formed on a substrate, a method for manufacturing the wiring board, and a film mask for forming a wiring board used when forming the wiring board.
スクリーン印刷等の印刷手段を用いて基板上に銀、銅や錫等を含む導電性ペーストからなる配線パターンを形成した配線基板は、従来からよく知られている。しかし、銀、銅や錫等を含む導電性ペーストで形成した配線パターンは吸湿あるいは水滴等によって水分が付着する場合や電界が存在する場合、配線パターン中の銀、銅や錫等のマイグレーションが起こり、配線抵抗が変化するという課題があった。なかでも、銀は電気抵抗の低い優れた導電性金属で、低温で焼成できると共に安価であるため導電性ペーストとして一般的に用いられているが、他の導電性金属と比較してマイグレーションを起こしやすいことが知られている。そこで、従来から、例えば銀等のマイグレーションを防止する提案が色々なされている。特に、外部機器と接続するための配線基板の端子部は、電極を露出させておく必要があるためにマイグレーションが起こりやすく、この端子部でのマイグレーションの防止が強く要求されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring board in which a wiring pattern made of a conductive paste containing silver, copper, tin or the like is formed on a board using a printing means such as screen printing is well known. However, migration of silver, copper, tin, etc. in the wiring pattern occurs when the wiring pattern formed of a conductive paste containing silver, copper, tin, etc. has moisture adhering to it due to moisture absorption or water drops or when an electric field is present. There was a problem that the wiring resistance changed. Among them, silver is an excellent conductive metal with low electrical resistance, and is generally used as a conductive paste because it can be fired at low temperatures and is inexpensive. However, it causes migration compared to other conductive metals. It is known to be easy. Therefore, various proposals for preventing migration of silver or the like have been made. In particular, the terminal portion of the wiring board for connecting to an external device is likely to migrate because the electrodes need to be exposed, and prevention of migration at this terminal portion is strongly demanded.
マイグレーションを防止するための配線基板構成としては、図7のような構成がある。図7は、従来の配線基板における外部機器との接続部の端子構成を示した斜視図である。端子部700は、プラスチックフィルム710の表面に銀ペーストからなる銀ペースト層720を印刷した後、銀ペースト層720の上にカーボンペーストからなるカーボンペースト層730を印刷した構成になっている。なお、端子部700間のプラスチックフィルム710は接続を容易にするために除去されている。また、端子部700以外の領域には保護膜740が形成されている。このように、銀ペースト層720の上にマイグレーションの起こりにくいカーボンペースト層730を積層させた二層構造にすることによって、吸湿もしくは水滴付着による銀のマイグレーションを防止している(例えば、特許文献1)。
As a wiring board configuration for preventing migration, there is a configuration as shown in FIG. FIG. 7 is a perspective view showing a terminal configuration of a connection portion with an external device in a conventional wiring board. The
また、マイグレーションを防止するための配線基板の製造方法としては、図8に示すように、一般的に、銀のマイグレーション防止のためにカーボンペースト層850をスクリーン印刷法やステンシル印刷法等で形成する方法がある。
Further, as a method for manufacturing a wiring board for preventing migration, as shown in FIG. 8, generally, a
この方法は、まず、プラスチックフィルム820上に配線パターン830を形成する。次に、端子部810以外の配線パターン830を覆うように保護層840を形成する。次に、スクリーンやステンシル版800を保護層840にまたがるように配置し、カーボンペーストを印刷することによりカーボンペースト層850を形成する。
In this method, first, a
この方法により製造された配線基板は、銀からなる配線パターン830をカーボンペースト層850で被覆することにより銀のマイグレーションを防止することができるものである。
しかし、図7に示すように、銀ペースト層720上にカーボンペースト層730を形成する二層構造の場合、銀ペースト層720の側面部はカーボンペースト層730で覆われていないために、銀ペースト層720の側面の露出部から銀がマイグレーションすることがあり、確実にマイグレーションの防止を行うことはできなかった。
However, as shown in FIG. 7, in the case of a two-layer structure in which the
また、図8(a)に示したように、一般的なスクリーン印刷法やステンシル印刷法等を用いてカーボンペースト層850を形成する場合、マスクとして用いるスクリーンやステンシル版800は、平面性が要求されるため、通常ある程度の張力や剛性を必要とする。そのため、端子部810の保護層840端部において、図8(b)に示すように、スクリーンやステンシル版800と保護層840との間に段差860を生じる。その理由は、スクリーンやステンシル版800は段差860の形状に応じて自由に変形できないためであり、その結果、段差860の位置で隙間870が発生する。そして、図8(c)に示すように、印刷されるカーボンペースト層850が、その隙間870を介して流動し、隣接する配線パターン830間のカーボンペースト層850同士が繋がり、短絡部880を生じてしまうという課題があった。
Further, as shown in FIG. 8A, when the
また、図8(d)に示すように、特にスクリーン印刷法の場合、印刷されたカーボンペースト層850は、例えば、表面張力が大きい場合や加熱硬化時のだれ等に起因して半円状になりやすく、平坦な表面が形成できない。その結果、外部機器に接続する場合、相手側コネクタとの接触面積が小さくなり、接触抵抗が増大する。また、カーボンペースト層850の表面張力や粘度が小さい場合には、カーボンペースト層850が広がるため、その側面がシャープに形成できないので、カーボンペースト層850の間隔が狭くなる。その結果、カーボンペースト層850の広がりを考慮する必要があるため、隣接するカーボンペースト層850の間隔を微細化できないという課題もあった。
Further, as shown in FIG. 8D, particularly in the case of the screen printing method, the printed
また、図8(b)に示すような保護層840による段差860を解消するために、保護層840を形成する前に端子部810の配線パターン830をスクリーンやステンシル版800を用いてカーボンペースト層850で被覆し、図9(b)に示すように、段差910を小さくすることによって短絡を起こりにくくする方法が考えられる。しかし、スクリーン800等をマスクとして用いる場合、図9(c)に示すように、配線パターン830の間隔が狭いために、配線パターン830間ではマスクが変形できず、配線パターン830の厚みによって隙間900が形成される。そのため、隣接するカーボンペースト層間で短絡部が形成されるという課題は解消されない。
Further, in order to eliminate the
そこで、本発明は上記の課題を解決して、マイグレーションの発生と隣接する配線パターン間のカーボンペーストによる短絡を防止すると共に、外部機器との接続時の接触抵抗を低減し、かつ配線パターン間を微細化できる配線基板およびその製造方法とそれに用いられる配線基板形成用フィルムマスクを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, prevents occurrence of migration and short circuit due to carbon paste between adjacent wiring patterns, reduces contact resistance at the time of connection with an external device, and eliminates a gap between wiring patterns. It is an object to provide a wiring board that can be miniaturized, a manufacturing method thereof, and a film mask for forming a wiring board used therefor.
上記目的を達成するために、本発明の配線基板は、基板上に導電性樹脂からなる複数の配線パターンと、複数の配線パターンに形成された端子部と、端子部で複数の配線パターン毎にかつ複数の配線パターンが露出しないように被覆するカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体と、少なくとも端子部以外の複数の配線パターンを被覆する絶縁性保護膜とを有し、外部機器と接続される被覆導体の表面が平坦であると共にその側面がシャープな形状である構成を有する。 In order to achieve the above object, a wiring board of the present invention includes a plurality of wiring patterns made of a conductive resin on a substrate, terminal portions formed on the plurality of wiring patterns, and a plurality of wiring patterns at the terminal portions. In addition, it has a coated conductor made of a conductive resin containing carbon particles that covers a plurality of wiring patterns so as not to be exposed, and an insulating protective film that covers at least a plurality of wiring patterns other than the terminal portion, and is connected to an external device. The covered conductor has a flat surface and a sharp side surface.
また、絶縁性保護膜の端子部側の端面がテーパ形状であってもよい。 Further, the end surface on the terminal portion side of the insulating protective film may be tapered.
これらの構成により、相手側コネクタと接触する被覆導体の表面が平坦化して形成されるため、接触抵抗の低減と端子間の接触抵抗の変動を抑えることができる。さらに、被覆導体の側面がシャープな形状で形成されるため、配線パターンの微細化が容易になる。そして、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体を印刷することにより、配線パターンが完全に被覆されるため、配線パターンのマイグレーションの発生を防ぐことができる。 With these configurations, the surface of the coated conductor that comes into contact with the mating connector is flattened, so that the contact resistance can be reduced and the contact resistance variation between the terminals can be suppressed. Further, since the side surface of the coated conductor is formed with a sharp shape, the wiring pattern can be easily miniaturized. Then, by printing a coated conductor made of a conductive resin containing carbon particles, the wiring pattern is completely covered, so that the migration of the wiring pattern can be prevented.
また、本発明の配線基板の製造方法は、基板上に導電性樹脂からなる複数の配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、複数の配線パターンに端子部を形成する端子部形成工程と、端子部の複数の配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させるように配線基板形成用フィルムマスクの開口部を貼り合せる工程と、配線基板形成用フィルムマスクの開口部にカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体を充填する被覆導体形成工程と、配線基板形成用フィルムマスクを剥離する剥離工程とを有する方法からなる。 The wiring board manufacturing method of the present invention includes a wiring pattern forming step for forming a plurality of wiring patterns made of a conductive resin on a substrate, a terminal portion forming step for forming terminal portions on the plurality of wiring patterns, and a terminal. A step of bonding the openings of the film mask for forming a wiring board so that each of the plurality of wiring patterns and its peripheral part are individually exposed, and a conductive resin containing carbon particles in the openings of the film mask for forming a wiring board The method comprises a coated conductor forming step for filling a coated conductor made of the above and a peeling step for peeling the wiring substrate forming film mask.
この方法により、配線基板形成用フィルムマスクの貼り合せや剥離という簡単な工程で、配線パターンの端子部をカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体で被覆することができる。また、被覆導体は、硬化時に配線基板形成用フィルムマスクの開口部とほぼ同じ形状で形成されるため、側面では周辺への広がりやだれの発生がなく、また表面では平坦な形状とできる。そのため、マイグレーションの防止およびカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体の広がりによる短絡の防止や接触面積の増加により接続部の接触抵抗を低減できる。そして、配線基板形成用フィルムマスクは、絶縁性保護膜による段差部に沿って変形できる程度の可撓性を有するため、段差部を確実に被覆できる。さらに、配線基板形成用フィルムマスクは、熱や紫外線等により簡単に着脱できる接着層で基板や絶縁性保護膜と接着されるため、隙間が形成されない。そのため、隙間を介するカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体同士の短絡が発生しない。 By this method, the terminal portion of the wiring pattern can be covered with a coated conductor made of a conductive resin containing carbon particles by a simple process of bonding and peeling of the wiring substrate forming film mask. Further, since the coated conductor is formed in substantially the same shape as the opening of the film mask for forming a wiring board at the time of curing, the side conductor does not spread to the periphery and does not sag, and can have a flat shape on the surface. Therefore, it is possible to reduce the contact resistance of the connecting portion by preventing migration and preventing a short circuit due to the spread of the coated conductor made of a conductive resin containing carbon particles and increasing the contact area. And since the film mask for wiring board formation has the flexibility which can deform | transform along the level | step-difference part by an insulating protective film, it can coat | cover a level | step-difference part reliably. Furthermore, since the film mask for forming a wiring board is adhered to the substrate and the insulating protective film with an adhesive layer that can be easily attached and detached by heat, ultraviolet rays, or the like, no gap is formed. Therefore, a short circuit between the coated conductors made of conductive resin containing carbon particles through the gap does not occur.
また、本発明の配線基板の製造方法は、基板上に導電性樹脂からなる複数の配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、端子部が形成される位置で、複数の配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させるように配線基板形成用フィルムマスクの開口部を貼り合せる工程と、配線基板形成用フィルムマスクの開口部にカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体を充填する被覆導体形成工程と、配線基板形成用フィルムマスクを剥離する剥離工程と、複数の配線パターンに端子部を形成する端子部形成工程とを有する方法からなる。 In addition, the method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes a wiring pattern forming step of forming a plurality of wiring patterns made of a conductive resin on the substrate, and a plurality of wiring patterns at and around the wiring pattern forming positions. A step of bonding the openings of the film mask for forming the wiring board so that the portions are individually exposed, and formation of a coated conductor that fills the opening of the film mask for forming the wiring board with a conductive conductor containing carbon particles The method includes a step, a peeling step of peeling the wiring substrate forming film mask, and a terminal portion forming step of forming terminal portions on a plurality of wiring patterns.
この方法により、配線基板形成用フィルムマスクは、絶縁性保護膜でなく配線パターンの厚さのみ被覆すればよく、配線パターンの断面形状に沿って変形できる程度の可撓性を有する配線基板形成用フィルムマスクによって、配線パターン間の段差部で形成される隙間を確実に埋めることができる。そのため、配線基板形成用フィルムマスクの変形可能な配線パターンの間隔までの微細な配線パターンを形成できる。 By this method, the film mask for forming a wiring board only needs to cover the thickness of the wiring pattern, not the insulating protective film, and has a flexibility that allows deformation along the cross-sectional shape of the wiring pattern. The film mask can reliably fill the gap formed at the stepped portion between the wiring patterns. Therefore, it is possible to form a fine wiring pattern up to the interval between the deformable wiring patterns of the wiring substrate forming film mask.
また、本発明の配線基板の製造方法は、端子部形成工程において、端子部以外の複数の配線パターンを絶縁性保護膜で被覆し、絶縁性保護膜の端子部側の端面がテーパ形状に形成される方法からなる。 In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, in the terminal portion forming step, a plurality of wiring patterns other than the terminal portions are covered with an insulating protective film, and the end surface on the terminal portion side of the insulating protective film is formed in a tapered shape. It consists of a method.
この方法により、配線パターンと絶縁性保護膜との厚みばらつき等によるシャープな段差部の形状に追従できない場合でも、絶縁性保護膜の段差部がテーパ形状によりなだらかに形成される。そして、配線基板形成用フィルムマスクで段差部を隙間なく貼り合せることができる。そのため、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体の隙間を介した流動等がなく、隣接する被覆導体同士の短絡を確実に防止できる。 By this method, even when the shape of the sharp step portion due to the thickness variation between the wiring pattern and the insulating protective film cannot be followed, the step portion of the insulating protective film is gently formed by the taper shape. And a level | step-difference part can be bonded together without a gap with the film mask for wiring board formation. Therefore, there is no flow or the like through the gap between the coated conductors made of conductive resin containing carbon particles, and a short circuit between adjacent coated conductors can be reliably prevented.
また、本発明の配線基板形成用フィルムマスクは、基板上に形成された導電性樹脂からなる複数の配線パターンと複数の配線パターンに形成された端子部と端子部の複数の配線パターンが配線基板形成用フィルムマスクを用いて被覆導体で被覆される配線基板において、配線基板形成用フィルムマスクは、少なくとも一方の側は撥水性または撥油性を有し、かつ他方の側に接着層を備えた樹脂フィルムからなり、樹脂フィルムは、少なくとも端子部の複数の配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させる開口部を有すると共に、複数の配線パターンの厚みより厚い構成を有する。 Further, the film mask for forming a wiring board according to the present invention includes a plurality of wiring patterns made of a conductive resin formed on the substrate, a terminal portion formed in the plurality of wiring patterns, and a plurality of wiring patterns in the terminal portion. In a wiring board coated with a coated conductor using a forming film mask, the wiring board forming film mask has a water repellency or oil repellency on at least one side, and a resin having an adhesive layer on the other side The resin film is made of a film, and has a configuration in which at least each of the plurality of wiring patterns in the terminal portion and the peripheral portion thereof have openings that are individually exposed and are thicker than the thickness of the plurality of wiring patterns.
また、被覆導体は、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる構成としてもよい。 The coated conductor may be made of a conductive resin containing carbon particles.
また、樹脂フィルムは、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂の材料を含む構成としてもよい。 In addition, the resin film may include a fluororesin or silicone resin material.
また、接着層は、熱または紫外線により接着性が低下する材料からなる構成としてもよい。 The adhesive layer may be made of a material whose adhesiveness is lowered by heat or ultraviolet rays.
これらの構成により、配線基板形成用フィルムマスクの開口部以外に被覆導体等が付着することを防止できる。また、被覆導体の乾燥もしくは加熱硬化時や硬化後に配線基板形成用フィルムマスクを熱や紫外線で剥離できるため、被覆導体を配線基板形成用フィルムマスクの開口部の形状とほぼ同じ形状で形成できる。そして、樹脂フィルムは、スクリーンやステンシル版よりも可撓性を有するため、配線パターン等の段差部の被覆性に優れると共に、開口部以外は接着層で基板等に密着できるため隙間が発生しない。 With these configurations, it is possible to prevent the coated conductor and the like from adhering to the film substrate forming film mask other than the opening. Further, since the wiring substrate forming film mask can be peeled off by heat or ultraviolet rays at the time of drying or heat curing of the coated conductor or after curing, the coated conductor can be formed in substantially the same shape as the opening of the wiring substrate forming film mask. Since the resin film is more flexible than a screen or a stencil plate, the resin film is excellent in coverage of a stepped portion such as a wiring pattern and can be adhered to the substrate or the like with an adhesive layer other than the opening portion, so that no gap is generated.
本発明によれば、配線パターンの耐湿性および耐水性を著しく向上させて配線パターンのマイグレーションの発生を抑制できる。また、配線基板形成用フィルムマスクが被覆導体硬化後に剥離されるため、被覆導体の側面はシャープに、その表面は平坦な形状で形成できる。その結果、接触面積の増大により接触抵抗を低減させると共に配線パターン間を微細化できる。さらに、配線基板形成用フィルムマスクが基板に接着層を介して密着されるため、隙間の発生がない。そのため、被覆導体による短絡を生じない等、信頼性に優れた配線基板を実現できるという大きな効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to remarkably improve the moisture resistance and water resistance of a wiring pattern and suppress the occurrence of migration of the wiring pattern. Moreover, since the film mask for wiring board formation is peeled off after the coated conductor is cured, the side surface of the coated conductor can be formed sharp and the surface thereof can be formed in a flat shape. As a result, the contact resistance can be reduced by increasing the contact area and the wiring pattern can be miniaturized. Furthermore, since the film mask for forming a wiring board is brought into close contact with the substrate via an adhesive layer, no gap is generated. Therefore, there is a great effect that a highly reliable wiring board can be realized, for example, a short circuit due to the coated conductor does not occur.
(第1の実施の形態)
以下、本発明の第1の実施の形態に係る配線基板および配線基板の製造方法とそれに用いられる配線基板形成用フィルムマスクについて、図1から図4を用いて説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a wiring board according to a first embodiment of the present invention, a method for manufacturing the wiring board, and a film mask for forming a wiring board used therefor will be described with reference to FIGS.
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る配線基板を示す図である。図1(a)は平面図、図1(b)はそのA−A’断面図、図1(c)はそのB−B’断面図である。 FIG. 1 is a diagram showing a wiring board according to a first embodiment of the present invention. 1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line A-A ′, and FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line B-B ′.
また、図2は、図1の配線基板100の端子部110を形成する途中の状態を説明する図である。図2(a)は平面図、図2(b)はそのA−A’断面図、図2(c)はそのB−B’断面図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a state in the middle of forming the
図2(a)に示すように、絶縁性の基板120の表面上に、例えば、銀ペースト等の導電性樹脂からなる複数の配線パターン130が形成されている。その上に端子部110は除いて、絶縁性保護膜140が形成される。そして、端子部110から絶縁性保護膜140にかけて配線基板形成用フィルムマスク(以下、フィルムマスクと記す。)300が貼り合されている。このフィルムマスク300には、個々の配線パターン130およびその周辺部を個別に露出させる開口部330が形成されている。このようにフィルムマスク300を接着層を介して貼り付けた状態で、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体(以下、被覆導体と記す。)150が開口部330に充填される。最終状態では、被覆導体150を形成後にフィルムマスク300を除いて、図1に示す配線基板100が完成する。
As shown in FIG. 2A, a plurality of
この構成により、配線パターン130が、マイグレーションを起こしやすい、例えば、銀、銅、錫や半田等のペーストで形成される場合でも、配線パターン130が完全に被覆導体150で覆われているので、水分等による配線パターン130のマイグレーションの発生を防止できる配線基板100が作製される。
With this configuration, even when the
また、図1(b)や図1(c)に示すように、被覆導体150の表面170が平坦な形状で形成されるため、外部機器と接続される接触面積が拡大する。その結果、接触抵抗が低減する。
Further, as shown in FIGS. 1B and 1C, the
さらに、被覆導体150の側面160もシャープな形状で形成されるため、被覆導体150の広がりがなくなり、被覆導体150間を容易に微細化できる。
Furthermore, since the
以下に、図3を用いて、配線基板100の作製に用いられるフィルムマスク300について説明する。
Below, the
図3(a)は、本発明の第1の実施の形態に係るフィルムマスク300を模式的に示した平面図、図3(b)は、そのA−A’断面図である。
3A is a plan view schematically showing the
本発明の第1の実施の形態に係るフィルムマスク300は、少なくとも一方の側は撥水性または撥油性を有する樹脂フィルム310と、他方の側には設けられた熱や紫外線によって接着強度が低下する接着層320と、被覆導体形成用の開口部330とで構成されている。そして、開口部330は、図2に示した端子部110の個々の配線パターン130およびその周辺部を個別に露出させる大きさを有する。このフィルムマスク300は、少なくとも配線パターン130よりも厚い厚みを有している。例えば、配線パターンの厚みが30μmの場合、フィルムマスク300の厚みは50μm程度である。なお、フィルムマスク300の厚みは、配線パターン130の厚み以上で、少なくとも配線パターン130表面の凹凸は被覆されると共に、配線基板100が使用される環境(例えば、湿度等)条件や要求される配線抵抗を考慮して被覆導体150の厚みを加えることにより決められる。つまり、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体150の抵抗率は、例えば、銀、銅や錫等の導電性樹脂からなる配線パターン130の抵抗率に比べて一般に大きく、その値が接続される機器の特性を左右する。そのため、接続時の電力損失や信号の伝送速度等に応じて、要望される抵抗値を被覆導体150の厚みによって調整する必要があり、フィルムマスク300の厚みの設計が重要である。例えば、低抵抗が必要とされる用途においては、被覆導体150を薄く形成することになる。
In the
なお、樹脂フィルム310は、撥水性または撥油性を有する、または少なくとも接着層320と反対側の表面に、例えばフッ素被膜等を付与した、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル樹脂、アクリルニトリルブタジエンスチレン(ABS)樹脂やフッ素樹脂、シリコーン樹脂等からなる。特に、フッ素樹脂やシリコーン樹脂は、被覆導体150との付着力が小さく、樹脂フィルム310として好ましい。また、接着層320は、例えばガラス転移温度50℃から90℃程度で接着強度が低下する熱可塑性樹脂等からなる材料や紫外線で接着強度が低下するUV自己隔離型粘着剤等からなる材料で構成される。なお、樹脂フィルム310や接着層320等は、配線パターン130や被覆導体150の導電性樹脂材料の硬化温度等を考慮して最適な材料同士を組み合せることが好ましい。なぜならば、被覆導体150の硬化時に、フィルムマスク300の剥離を同時に行うことができるため、工程が簡略化される。
The
また、フィルムマスク300は、図2(b)に示すように、例えば300μm程度の段差部260に沿って変形できる程度の可撓性を有する樹脂フィルム310で形成されている。そのため、フィルムマスク300は、絶縁性保護膜140の端面部の段差部260や隣接する配線パターン130間の隙間を形成することなく被覆し、さらに接着層320により密着させて固定される。その結果、隙間を介して被覆導体150が広がることがなくなるため、被覆導体150同士の短絡が防止される。
Further, as shown in FIG. 2B, the
さらに、図2(c)に示すように、フィルムマスク300の開口部330に被覆導体150が充填され、その状態で被覆導体150が乾燥もしくは加熱された後、フィルムマスク300を剥離することにより被覆導体150が形成される。その結果、図1(c)に示すように、被覆導体150の側面160をだれのないシャープな形状で形成できると共に、その表面170を平坦な形状とすることができる。そのため、フィルムマスク300の開口部330間の形成限界まで微細化した配線パターン130を有する端子部110の形成が可能となる。
Further, as shown in FIG. 2C, the
また、被覆導体150が、例えば、配線パターン130の銀粒子よりも微細な粒径を有するカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる場合、銀粒子による配線パターン130表面の凹凸をカーボン粒子で覆うことにより、その表面部は平滑化されると共に上述したように平坦化される。そのため、外部機器との接続時、相手側コネクタと端子部110との接触する面積が拡大され、接触抵抗が低減される。
Further, when the
以下に、配線基板100の具体的な構成の一例について説明する。
Hereinafter, an example of a specific configuration of the
本発明の第1の実施の形態における基板120としては、ガラス繊維入りエポキシ樹脂、セラミック板またはガラス板等の比較的硬質の基板、あるいはポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン(ABS)樹脂、ポリカーボネートまたはポリイミド等の高分子樹脂からなるフィルムシート基板等、通常の配線基板に用いられているものであれば、いずれでも使用可能である。なかでも、フィルムシート基板は、汎用性プラスチックとして広く利用されているため安価であり、しかも基板の板厚を100μm〜400μmに薄くできるのでこの配線基板を用いた電子回路装置の薄型化に有効な点で好ましい。なお、配線パターンが形成される面が絶縁性を有するものであれば導電性の基板を用いてもよい。
As the
本発明の第1の実施の形態における導電性樹脂からなる複数の配線パターン130として、銀粒子を結着剤に分散混合した銀ペーストが主に用いられる。なかでも、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂またはポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂を結着剤に用いた銀ペーストは、フィルムシート基板との接着強度が強く、しかも配線パターン130自体の機械的強度が強くなる点で好ましい。
As the plurality of
本発明の第1の実施の形態における被覆導体150としては、導電性カーボンの微粒子を結着剤に分散混合したもので、銀ペーストに用いる銀粒子の粒径よりも小さな粒径のカーボン粒子を用いることが、銀ペーストの表面の凹凸を平滑化できる点で好ましい。例えば、銀ペーストに用いる銀粒子の粒径が0.5μm〜10μmの球状銀粒子または鱗片状銀粒子の場合、カーボン粒子の粒径としては0.1μm〜1μm程度が望ましく、さらに0.3μm以下とすることがより望ましい。また、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂またはポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂を結着剤に用いた被覆導体150は、銀ペーストとの接着強度が強く、耐湿性および耐水性に優れ、しかも耐摩擦性に優れる点で好ましい。
As the
なお、本発明の第1の実施の形態では、絶縁性保護膜140による段差部260まで被覆導体150で覆う位置にフィルムマスク300の開口部330を貼り合せる構成で示したが、絶縁性保護膜140上の一部も被覆導体150で覆うようにフィルムマスク300の開口部330を位置合せして貼り付け、被覆導体150を形成してもよい。この場合、例えば、フィルムマスク300の開口部330と絶縁性保護膜140の段差部260とが、ずれて貼り合された場合に発生する配線パターン130の露出によるマイグレーションの発生を未然に防ぐことができる。さらに、フィルムマスク300と絶縁性保護膜140の段差部260との精密な位置合せを必要としないため、生産性が向上する。
In the first embodiment of the present invention, the structure is shown in which the
以下に、本発明の第1の実施の形態に係る配線基板の製造方法について説明する。図4は、本発明の第1の実施の形態に係る配線基板の製造方法の一例を示す平面図である。 Below, the manufacturing method of the wiring board based on the 1st Embodiment of this invention is demonstrated. FIG. 4 is a plan view showing an example of a method for manufacturing a wiring board according to the first embodiment of the present invention.
まず、図4(a)に示すように、スクリーン印刷またはグラビア印刷等、一般的に配線基板の配線パターンを形成するために用いられる印刷手段を用いて、基板120上に、例えば銀ペーストを印刷し、乾燥もしくは加熱して硬化させると、低抵抗で、かつ接着強度の良好な複数の配線パターン130が得られる(この工程を配線パターン形成工程という)。なかでも、スクリーン印刷法は配線パターン130形状を自由に、しかも比較的微細なパターンまで作製可能で、かつ量産性に優れ、製造コストも安価である点で好ましい。なお、配線パターン130の表面部は比較的大きな凹凸を有している。これは、スクリーン印刷で形成する場合には、スクリーンメッシュによる印刷厚さのむらが最終的に残ること、および銀ペーストの銀粒子の形状ばらつきの影響によるものである。
First, as shown in FIG. 4A, for example, silver paste is printed on the
次に、図4(b)に示すように、端子部110以外の配線パターン130が形成されている部分の上に絶縁性保護膜140を形成する。この絶縁性保護膜140としては、通常用いられるポリイミド等の絶縁性の樹脂材料や二酸化ケイ素、窒化ケイ素等の無機材料等を形成すればよく、さらに無機材料と樹脂材料とを積層する構成としてもよい。また、樹脂材料は、スクリーン印刷で形成した場合、配線パターン130による凸形状を反映することなく、平坦に絶縁性保護膜140が形成できるため好ましい。
Next, as shown in FIG. 4B, an insulating
次に、図4(c)に示すように、フィルムマスク300の開口部330を端子部110の配線パターン130と位置合せし、接着層によって基板120に貼り合せる。この時、フィルムマスク300の厚みは、配線パターン130の膜厚より厚く、また、その開口部330は、絶縁性保護膜140側以外の配線パターン130を内包することになる。
Next, as shown in FIG. 4C, the
次に、図4(d)に示すように、フィルムマスク300の開口部330に被覆導体150を、スクリーン印刷等と同様の方法を用いて、充填する(この工程を被覆導体形成工程という)。
Next, as shown in FIG. 4D, the
次に、図4(e)に示すように、例えば、フィルムマスク300がフッ素樹脂で、接着層が熱可塑性樹脂の場合、90℃程度まで加熱し、フィルムマスク300の接着性を低下させてフィルムマスク300を剥離する(この工程を剥離工程という)。この時、被覆導体150は、フィルムマスク300の剥離時の加熱により、フィルムマスク300の開口部330の形状で硬化し形成される。また、必要に応じて、フィルムマスク300を剥離後、さらに被覆導体150を乾燥もしくは加熱して硬化させてもよい。この場合、予めフィルムマスク300の剥離時の加熱により被覆導体150の形状が決まるため、再度の加熱によりだれが発生することはない。
Next, as shown in FIG. 4E, for example, when the
以上の工程により、被覆導体150で端子部110の配線パターン130が完全に被覆された配線基板100が得られる。
Through the above steps, the
なお、剥離工程において、フィルムマスク300の接着層として、紫外線で接着性が低下する、例えば、UV自己隔離型粘着剤を用いた場合、フィルムマスク300面から紫外線を照射することにより簡単に剥離することができる。また、例えばPETからなる基板120や絶縁性保護膜140が紫外線に対して透明であれば基板120側から紫外線を照射することもできる。この場合には、フィルムマスク300を剥離する前に、被覆導体150を乾燥もしくは加熱により硬化させる必要がある。
In the peeling process, the adhesiveness of the
これにより、被覆導体150により端子部110の配線パターン130が被覆され、湿度の高い雰囲気や水滴が付着するような雰囲気中で配線基板100を使用しても、銀ペーストからなる配線パターン130のマイグレーションの発生を防止できる。さらに、フィルムマスク300が基板120に接着されるため、隣接する配線パターン130間に隙間が形成されないので、被覆導体150のにじみや流動等による短絡を防止できる。従って、被覆導体150のにじみ等によって配線パターン130間が狭くならず、フィルムマスク300の開口部330の形状で被覆導体150が形成されるため、配線パターン130の微細化が容易となる。
As a result, the
(第2の実施の形態)
図5は、本発明の第2の実施の形態に係る配線基板の製造方法の一例を示す平面図である。図5において図4と同じ構成については同じ符号を用い説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a plan view showing an example of a method of manufacturing a wiring board according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 5, the same components as those in FIG.
本発明の第2の実施の形態では、配線パターン130上に被覆導体150を形成した後、絶縁性保護膜140により端子部110を形成するものである。
In the second embodiment of the present invention, after the covered
以下に、図5を用いて第2の実施の形態について第1の実施の形態と異なる工程を主に説明する。 Hereinafter, the steps different from those of the first embodiment will be mainly described in the second embodiment with reference to FIG.
まず、図5(a)に示すように、基板120上に、例えば、銀ペーストからなる配線パターン130を印刷し、加熱硬化により、低抵抗で、かつ接着強度の良好な配線パターン130を形成する(この工程を配線パターン形成工程という)。
First, as shown in FIG. 5A, a
次に、図5(b)に示すように、端子部110が形成される位置に、フィルムマスク300が、その開口部330を配線パターン130と位置合せされ、接着層によって基板120に貼り合される。この時、フィルムマスク300の厚みは、配線パターン130の膜厚より厚いので、開口部330は、配線パターン130を内包することができる。
Next, as shown in FIG. 5B, the
次に、図5(c)に示すように、フィルムマスク300の開口部330に被覆導体150を、スクリーン印刷等と同様の方法を用いて、充填する(この工程を被覆導体形成工程という)。この場合、フィルムマスク300の開口部330以外の配線パターン130上に被覆導体150が塗布されないように形成する必要がある。
Next, as shown in FIG. 5C, the
次に、図5(d)に示すように、例えば、フィルムマスク300がシリコーン樹脂で、接着層が熱可塑性樹脂の場合、90℃程度まで加熱し、フィルムマスク300の接着性を低下させてフィルムマスク300を剥離する(この工程を剥離工程という)。この場合、被覆導体150は、フィルムマスク300の剥離時の加熱により、フィルムマスク300の開口部330の形状で乾燥もしくは硬化する。また、必要に応じて、フィルムマスク300を剥離後、カーボンペーストを乾燥もしくは加熱して硬化させてもよい。この場合、予めフィルムマスク300の剥離時の加熱により被覆導体150の形状が決まるため、再度の加熱によりだれが発生することはない。
Next, as shown in FIG. 5D, for example, when the
次に、図5(e)に示すように、少なくとも被覆導体150の一部を覆うように絶縁性保護膜140を形成する。
Next, as shown in FIG. 5E, an insulating
以上の工程により、被覆導体150で端子部110の配線パターン130が被覆されると共に、少なくとも被覆導体150の一部が絶縁性保護膜140で被覆された配線基板100が得られる。
Through the above steps, the
これにより、第1の実施の形態における絶縁性保護膜140による段差部260をフィルムマスク300で被覆する必要がなく、配線パターン130の段差部500(厚みに相当)を被覆するだけでよいため、フィルムマスク300の接着により基板120との隙間がほとんどなくなる。そのため、被覆導体150のにじみや流動等による被覆導体150同士の短絡の防止効果をさらに向上させ、信頼性を高めた配線基板100を実現できるものである。また、被覆導体150の一部が絶縁性保護膜140で覆われているため、例えば、相手側コネクタに差し込む場合に発生する配線基板100の変形による被覆導体150の剥離が起こりにくい。従って、信頼性に優れた配線基板100を実現できる。
Thereby, it is not necessary to cover the stepped
(第3の実施の形態)
図6(a)は、本発明の第3の実施の形態に係る配線基板を示す平面図、図6(b)は同図(a)A−A’断面図、図6(c)は同図(b)のB部の拡大図、図6(d)は第3の実施の形態に係る絶縁性保護膜を形成するメタルマスクの断面図である。図6において図2と同じ構成については同じ符号を用い説明を省略する。
(Third embodiment)
6A is a plan view showing a wiring board according to the third embodiment of the present invention, FIG. 6B is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 6, and FIG. FIG. 6B is an enlarged view of a portion B in FIG. 6B, and FIG. 6D is a cross-sectional view of a metal mask for forming an insulating protective film according to the third embodiment. In FIG. 6, the same components as those in FIG.
本発明の第3の実施の形態は、絶縁性保護膜140の端子部110側の端面形状をテーパ形状600にするものである。
In the third embodiment of the present invention, the end face shape of the insulating
以下に、図6を用いて第3の実施の形態について説明する。 The third embodiment will be described below with reference to FIG.
図6(b)において、端子部110の絶縁性保護膜140の端面の形成方法は、例えば、図6(d)に示すように、オーバーエッチング等により開口部の断面形状を逆テーパ状に形成したメタルマスク等を用いて、絶縁性樹脂等を塗布することにより絶縁性保護膜140が形成される。あるいは、絶縁性樹脂等で絶縁性保護膜140を形成した後、加熱等によりテーパ状の断面とすることにより、図6(c)のB部の拡大図に示すようなテーパ形状600の絶縁性保護膜140が形成される。また、スクリーン印刷等においては、粘度の低い絶縁性保護膜140材料を用いることによって、スクリーンを取り除いた後に自然に端面部をだれさせてテーパ形状600とすることもできる。さらには、スクリーン印刷時にスクリーンを徐々に端子部110と逆方向に移動させてテーパ形状600を形成してもよい。このようにして形成されたテーパ形状600に沿ってフィルムマスク300を貼り合せることにより、絶縁性保護膜140の端面部における段差部や配線パターン130間での隙間が形成されない。
In FIG. 6B, the method for forming the end face of the insulating
次に、フィルムマスク300の開口部330に被覆導体150を充填後、フィルムマスク300を加熱により剥離すると同時に、被覆導体150を硬化させることにより、配線パターン130を完全に被覆導体150で被覆した配線基板が形成されるものである。
Next, after the
この構成により、絶縁性保護膜140の端面部がテーパ形状600に形成されているため、図2(b)の段差部260のような過剰な変形をフィルムマスク300に加えることがなく、簡単で、しかも隙間なく貼り合せることができる。
With this configuration, since the end surface portion of the insulating
また、図2(b)で示すような絶縁性保護膜140の段差部260で被覆導体150を付着し、硬化させた場合と比べて、絶縁性保護膜140を覆うように被覆導体150が形成されるため、被覆導体150の剥離が発生しにくい。さらに、第1の実施の形態と同様に、隣接する配線パターン130間はフィルムマスク300と基板120が接着層を介して接着されるため、一般的に用いられるスクリーンやステンシル版等のマスクで形成する時に生じる隙間が発生しない。そのため、隣接する配線パターン130間の被覆導体150の流動やにじみ等による被覆導体150同士の短絡を防止できる。
Further, the
以下、本発明の第1の実施の形態に係る配線基板の作製について、実施例に基づいて具体的に説明する。他の実施の形態においても同様であり説明は省略する。 Hereinafter, the production of the wiring board according to the first embodiment of the present invention will be specifically described based on examples. The same applies to other embodiments, and a description thereof will be omitted.
本実施例においては、以下の条件により、例えば、銀ペーストからなる配線パターン130を基板120上に印刷した。基板120としては、ポリイミド樹脂からなるフィルムシートで、その厚みは100μmとした。銀ペーストは、銀粒子の粒径が0.5μm〜10μmの球状銀粒子と鱗片状銀粒子の混合粒子を75重量部、硬化温度120℃の熱硬化性エポキシ樹脂からなる結着剤を15重量部に混合して用いた。これをスクリーン印刷法で印刷した。その時のスクリーンメッシュの線径は25μm、感光性乳剤層厚は10μmで、配線の線幅設計値が150μmとなるようにした。銀ペーストを印刷した後、熱硬化させることにより配線パターン130を形成した。この時の配線パターン130の膜厚は20μm〜30μm、その線幅は160μm〜170μmおよび表面部の凹凸は約10μmであった。
In this example, a
次に、配線基板100の端子部110が形成される部分以外の配線パターン130を覆うように絶縁性保護膜140を形成して、耐湿、耐水性を確保した。この時の絶縁性保護膜140としては、一般的に鍍金等のレジスト膜として用いられている樹脂をスクリーン印刷により形成した。
Next, an insulating
次に、カーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体150を、端子部110の配線パターン130の位置でフィルムマスク300の開口部330と配線パターン130とを位置合せして隙間なく貼り合せた後、スクリーン印刷により開口部330に充填した。その後、基板120を130℃で10分間加熱して、被覆導体150を加熱硬化させると共に、フィルムマスク300の接着層320の接着性を低下させ基板120から剥離した。この時、被覆導体150としては、粒径が0.1μm〜0.3μmのアセチレンブラックから作製された導電性カーボンを85重量部、硬化温度120℃の熱硬化性エポキシ樹脂からなる結着剤を15重量部に混合したものを用いた。また、フィルムマスク300は、厚みが50μmで、開口部330が端子部110の配線パターン130を確実に被覆できる形状とした。
Next, the
その結果、端子部110の配線パターン130は、硬化した被覆導体150で被覆され、隣接する被覆導体150間ににじみ等による短絡のない配線基板100が得られた。硬化後の配線パターン130と被覆導体150の全膜厚は45μm〜50μm、その表面の凹凸は2μm以下であり、配線パターン130の凹凸は被覆導体150により平滑化されていた。また、形成された被覆導体150は、フィルムマスク300の開口部330の形状を反映しており、だれもなく、その側面160はシャープであり、かつその表面170は平坦であった。
As a result, the
このようにして作製した配線基板100の信頼性を評価するために信頼性評価試験を行った。試験条件および評価は、以下の方法により行った。すなわち、65℃、95%RH雰囲気中で電圧を印加した状態で放置し、1000時間後に端子部110の配線の表面の観察を行った。その結果、銀のマイグレーションはまったく観察されなかった。また、外部機器と接続するための配線パターン130の端子部110と外部機器の端子とを機械的に接触させて接触抵抗を測定したが、従来の凹凸がある場合に比べて接触抵抗はほぼ1桁小さくなり、接触抵抗も充分小さくできることが見出された。さらに、端子部110の被覆導体150間を絶縁抵抗計で測定した結果、基板120の抵抗値と同様の値であり、短絡の発生や絶縁抵抗の低下はなかった。
A reliability evaluation test was performed in order to evaluate the reliability of the
なお、本発明の実施例では被覆導体が覆われていない配線パターンにはレジストからなる絶縁性保護膜を形成したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、ポリイミドからなるフィルムシートを貼り合せてもよいし、無機膜からなる保護膜をスパッタリングや化学気相成膜(CVD)法等により形成してもよい。 In the embodiment of the present invention, an insulating protective film made of resist is formed on the wiring pattern not covered with the coated conductor, but the present invention is not limited to this. That is, a film sheet made of polyimide may be bonded, or a protective film made of an inorganic film may be formed by sputtering, chemical vapor deposition (CVD), or the like.
また、本発明の実施例では、配線パターンの露出部のうち、端子部のみを被覆導体で覆ったが、配線パターンの全体を個別に被覆導体で覆う構成にしてもよい。 In the embodiment of the present invention, only the terminal portion of the exposed portion of the wiring pattern is covered with the covered conductor, but the entire wiring pattern may be individually covered with the covered conductor.
また、本発明の実施例においては、単層構成の配線基板について説明したが、本発明はこれに限定されない。多層配線構成であってもよく、その場合には最上層の配線パターン上に本発明の実施例で説明した方法でカーボンを含む導電性樹脂からなる被覆導体を形成すればよい。 In the embodiments of the present invention, the wiring board having a single layer structure has been described. However, the present invention is not limited to this. A multilayer wiring structure may be used. In that case, a coated conductor made of a conductive resin containing carbon may be formed on the uppermost wiring pattern by the method described in the embodiment of the present invention.
本発明に係る配線基板は、外部機器と低い接触抵抗での接続や配線パターンの微細化が要望される電子機器やマイグレーションの抑制が必要な厳しい環境で使用される各種電子機器に適用することができる。 The wiring board according to the present invention can be applied to an electronic device that is required to be connected to an external device with a low contact resistance or to have a finer wiring pattern, or to various electronic devices that are used in a severe environment that requires suppression of migration. it can.
また、本発明の配線基板形成用フィルムマスクは、表面が平坦で、かつシャープな側面形状が必要な配線パターン形成に有用である。 Moreover, the film mask for forming a wiring board of the present invention is useful for forming a wiring pattern that requires a flat surface and a sharp side shape.
100 配線基板
110 端子部
120 基板
130 配線パターン
140 絶縁性保護膜
150 被覆導体
160 (被覆導体の)側面
170 (被覆導体の)表面
260,500 段差部
300 (配線基板形成用)フィルムマスク
310 樹脂フィルム
320 接着層
330 開口部
600 テーパ形状
DESCRIPTION OF
Claims (9)
複数の前記配線パターンに形成された端子部と、
前記端子部で複数の前記配線パターン毎に、かつ複数の前記配線パターンが露出しないように被覆するカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体と、
少なくとも前記端子部以外の複数の前記配線パターンを被覆する絶縁性保護膜とを有し、
外部機器と接続される前記被覆導体の表面が平坦であると共に側面がシャープな形状であることを特徴とする配線基板。 A plurality of wiring patterns made of conductive resin on the substrate;
A plurality of terminal portions formed in the wiring pattern;
A coated conductor made of a conductive resin containing carbon particles that covers the plurality of wiring patterns in the terminal portion so that the plurality of wiring patterns are not exposed; and
An insulating protective film covering at least the plurality of wiring patterns other than the terminal portions;
A wiring board characterized in that a surface of the coated conductor connected to an external device is flat and has a sharp side surface.
複数の前記配線パターンに端子部を形成する端子部形成工程と、
前記端子部の複数の前記配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させるように配線基板形成用フィルムマスクの開口部を貼り合せる工程と、
前記配線基板形成用フィルムマスクの前記開口部にカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体を充填する被覆導体形成工程と、
前記配線基板形成用フィルムマスクを剥離する剥離工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 A wiring pattern forming step of forming a plurality of wiring patterns made of a conductive resin on a substrate;
A terminal part forming step of forming a terminal part in the plurality of wiring patterns;
Bonding the openings of the wiring board forming film mask so that each of the plurality of wiring patterns of the terminal part and its peripheral part are individually exposed;
A covered conductor forming step of filling the opening of the wiring board forming film mask with a covered conductor made of a conductive resin containing carbon particles;
A peeling step for peeling the wiring substrate forming film mask;
A method of manufacturing a wiring board, comprising:
端子部が形成される位置で、複数の前記配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させるように配線基板形成用フィルムマスクの開口部を貼り合せる工程と、
前記配線基板形成用フィルムマスクの前記開口部にカーボン粒子を含む導電性樹脂からなる被覆導体を充填する被覆導体形成工程と、
前記配線基板形成用フィルムマスクを剥離する剥離工程と、
複数の前記配線パターンに前記端子部を形成する端子部形成工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 A wiring pattern forming step of forming a plurality of wiring patterns made of a conductive resin on a substrate;
At the position where the terminal portion is formed, a step of bonding the opening portion of the wiring board forming film mask so that each of the plurality of wiring patterns and its peripheral portion are individually exposed,
A covered conductor forming step of filling the opening of the wiring board forming film mask with a covered conductor made of a conductive resin containing carbon particles;
A peeling step for peeling the wiring substrate forming film mask;
A terminal part forming step of forming the terminal part in a plurality of the wiring patterns;
A method of manufacturing a wiring board, comprising:
前記配線基板形成用フィルムマスクは、少なくとも一方の側は撥水性または撥油性を有し、かつ他方の側に接着層を備えた樹脂フィルムからなり、前記樹脂フィルムが、少なくとも前記端子部の複数の前記配線パターン毎およびその周辺部は個別に露出させる開口部を有すると共に、複数の前記配線パターンの厚みより厚いことを特徴とする配線基板形成用フィルムマスク。 A plurality of wiring patterns made of a conductive resin formed on a substrate, terminal portions formed on the plurality of wiring patterns, and the plurality of wiring patterns on the terminal portions are coated conductors using a wiring substrate forming film mask. In the wiring board to be coated,
The film mask for forming a wiring board is formed of a resin film having water repellency or oil repellency on at least one side and having an adhesive layer on the other side, and the resin film includes at least a plurality of terminal portions. A film mask for forming a wiring board, wherein each wiring pattern and its peripheral part have openings that are individually exposed and are thicker than a plurality of wiring patterns.
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