JP2005318632A - Non-contact transition part element between waveguide and microstrip feed line - Google Patents

Non-contact transition part element between waveguide and microstrip feed line Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new non-contact transition part between a waveguide structure and a structure that is realized, using a microstrip technology. <P>SOLUTION: The transition part element is installed between a waveguide (10) and a transition feed line on a substrate (30). The transition part element includes a fixed flange (20) on the substrate. In the fixed flange, in at least microstrip feed line direction, the size of the flange width d is such as to be selected to move the resonance mode, in the direction away from a useful bandwidth. Application: the element is used especially for a circuit which uses SMD technology at millimeter frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、マイクロストリップ技術ライン回路と、導波管回路との間の移行部素子に関し、より詳細には、マイクロストリップ技術給電線と、金属化成形体に基づく技術を用いることによって実現される矩形の導波管との間の非接触移行部に関する。   The present invention relates to a transition element between a microstrip technology line circuit and a waveguide circuit, and more particularly a rectangle realized by using a technology based on a microstrip technology feed line and a metallized compact. This relates to a non-contact transition between the waveguide and the other waveguide.

高ビット速度を伝送し得る無線通信システムが現在大きく発達している。開発されているシステム、特に、LMDS(ローカル・マルチ・ポイント・ディストリビューション・システム)のようなポイント・トゥ・マルチポイントシステム、WLAN(ワイヤレス・ローカル・エリア・ネットワーク)は、極めて高周波、即ち、数十ギガヘルツのオーダで稼動している。これらのシステムは複雑であるが、大衆消費者向けであるが故に、ますます低コストで実現されなければならない。現在、LTCC(低温焼結セラミック)又はHTCC(高温焼結セラミック)技術のような技術があり、平面基板上に低コストで実現されるべき上記周波数で動作する受動的及び能動的機能を統合する装置を可能とする。   Wireless communication systems capable of transmitting high bit rates are currently greatly developed. Systems that are being developed, especially point-to-multipoint systems such as LMDS (Local Multi-Point Distribution System), WLAN (Wireless Local Area Network), are very high frequency, i.e. several It operates on the order of 10 GHz. While these systems are complex, they must be implemented at increasingly lower costs because they are intended for the mass consumer. Currently there are technologies such as LTCC (Low Temperature Sintered Ceramic) or HTCC (High Temperature Sintered Ceramic) technology, which integrate passive and active functions operating at the above frequencies to be realized at low cost on a planar substrate. Enable the device.

しかしながら、一部の機能は、特に、フィルタリング機能は、ミリ波帯域において実現するのが困難である。なぜならば、この場合に用いられるべき基板はミリ波帯域レベルで要求される品質を有さないからである。従って、この種の機能は導波管のような従来技術の基板を用いて実現されなければならない。そこで、問題として生じるのは、システムの他の機能によって用いるために設計されたマイクロストリップ技術を用いて実現される導波管とプリント基板との相互接続である。   However, some functions, especially the filtering function, are difficult to realize in the millimeter wave band. This is because the substrate to be used in this case does not have the required quality at the millimeter wave band level. Therefore, this type of function must be realized using a prior art substrate such as a waveguide. Thus, what arises is the interconnect between the waveguide and the printed circuit board, implemented using microstrip technology designed for use by other functions of the system.

他方、主としてミリメートル周波数に関連した同一の理由のために、アンテナ及びそれらの関連要素、例えば、フィルター、分極器又は正モード器(orthomode)は、導波管技術を用いて実現される。従って、導波管技術を用いて実現された回路を従来技術のプリント基板技術を用いて実現された平面構造に接続可能であることが必要であり、この最新技術は大量生産のために適切に構成されている。   On the other hand, for the same reason mainly related to millimeter frequencies, antennas and their associated elements, such as filters, polarisers or orthomodes, are realized using waveguide technology. Therefore, it is necessary to be able to connect the circuit realized using the waveguide technology to the planar structure realized using the conventional printed circuit board technology, and this latest technology is suitable for mass production. It is configured.

この結果、マイクロストリップ技術における導波管構造と平面構造との間の接続に関する多くの研究がなされてきた。それ故に、Muller et al,, EADS「大量生産に適した、表面実装可能なメッキプラスチック導波管フィルタ」と題する、2003年にミュンヘンで行われた第33回欧州マイクロ波会議の論文の1255頁は、SMD(表面実装部品)技術を用いることによって複層PCB(プリント回路基板)に接続され得る導波管フィルタを記載している。この場合、導波管フィルタの入力及び出力はプリント基板上に実現されたフットプリント上に直接半田付けされている。これらのフットプリントはマイクロストリップ給電線への直接的な接続を供給する。それ故に、導波管モードの励起はマイクロストリップアクセス給電線と導波管構造との間の直接的な接触によって実行される。従って、この移行部は実現するのが複雑であることが分かっており、厳格な製造及び位置決め公差を要求する。   As a result, much research has been done on connections between waveguide structures and planar structures in microstrip technology. Therefore, Muller et al ,, EADS, page 1255 of a paper from the 33rd European Microwave Conference in Munich in 2003 entitled “Surface Mountable Plated Plastic Waveguide Filter Suitable for Mass Production”. Describes a waveguide filter that can be connected to a multilayer PCB (printed circuit board) by using SMD (surface mount component) technology. In this case, the input and output of the waveguide filter are soldered directly onto the footprint realized on the printed circuit board. These footprints provide a direct connection to the microstrip feeder. Therefore, waveguide mode excitation is performed by direct contact between the microstrip access feed line and the waveguide structure. Thus, this transition has been found to be complex to implement and requires strict manufacturing and positioning tolerances.

矩形の導波管とマイクロストリップ給電線との間の移行部も2003年1月3日にトムソン・ライセンシングS.A.名義で出願された仏国特許出願第0300045号において提案されている。この移行部は導波管の端部を特別な方法で型どり、マイクロストリップ給電線を成形体基板上に実現することを要求し、リブ付き導波管が実現されているフォーム構造に延ばす。この場合、導波管を形成する成形体棒材はマイクロストリップ給電線用の基板としても用いられる。この種の基板は受動又は能動回路の実現と必ずしも常時適合するものではない。   The transition between the rectangular waveguide and the microstrip feed line was also made on January 3, 2003 by Thomson Licensing S.C. A. This is proposed in French patent application No. 0300045, filed in the name of the company. This transition part shapes the end of the waveguide in a special way, requires the microstrip feed line to be realized on the shaped substrate and extends to the foam structure where the ribbed waveguide is realized. In this case, the molded bar forming the waveguide is also used as a substrate for a microstrip feed line. This type of substrate is not always compatible with the realization of passive or active circuits.

全ての場合において、上述の実施態様は複雑であり柔軟性に欠ける。   In all cases, the above-described embodiments are complex and lack flexibility.

従って、本発明は、マイクロストリップ技術を用いて実現される導波管構造と移行部との間の新規な非接触型の移行部を提案する。この移行部は実現容易であり、広い製造公差及び組立公差を許容する。さらに、本発明の移行部はSMD実装技術に適合する。   The present invention therefore proposes a novel non-contact type transition between the waveguide structure and the transition realized using microstrip technology. This transition is easy to implement and allows wide manufacturing and assembly tolerances. Furthermore, the transition part of the present invention is compatible with SMD mounting technology.

本発明は、導波管回路と、誘電性基板上に実現されたマイクロストリップ技術給電線との間の非接触接続のための移行部素子に関する。移行部素子は、基板への固定ために、導波管の端部をフランジによって拡大し、基板は、前記フランジの下面との接続のための導電性フットプリントを有する。加えて、移行部の適用を実現するために、特別の寸法を示すキャビティが、基板の下方で、導波管の端部に対向して実現される。   The invention relates to a transition element for a contactless connection between a waveguide circuit and a microstrip technology feed line realized on a dielectric substrate. The transition element expands the end of the waveguide with a flange for fixing to the substrate, and the substrate has a conductive footprint for connection with the lower surface of the flange. In addition, in order to realize the application of the transition, a cavity with special dimensions is realized below the substrate and facing the end of the waveguide.

導波管回路及び固定フランジは、キャビティに対向するゾーン以外は金属化された外面を備えた成形体のような、合成材料のブロックにおいて実現される。   The waveguide circuit and the fixed flange are realized in a block of synthetic material, such as a shaped body with a metallized outer surface except in the zone facing the cavity.

固定フランジは導波管の端部と一体的であるのが好ましい。しかしながら、幾つかの実施態様に関しては、固定フランジは導波管の端部に固着された独立した素子である。   The fixed flange is preferably integral with the end of the waveguide. However, for some embodiments, the fixed flange is an independent element secured to the end of the waveguide.

第一実施態様によれば、固定フランジは、少なくともマイクロストリップ給電線の方向において、フランジの幅dが共振モードを有用帯域から離れる方向に移動するように選択されるような寸法とされ、フランジは、導波管の端部に対して少なくとも直交している。この場合、キャビティはλ/4と同一の深さを有し、ここで、λは前記導波管内の導波長に対応しており、マイクロストリップ給電線はプローブで終端する。   According to a first embodiment, the fixed flange is dimensioned such that at least in the direction of the microstrip feed line, the flange width d is selected to move the resonance mode away from the useful band, , At least orthogonal to the end of the waveguide. In this case, the cavity has the same depth as λ / 4, where λ corresponds to the waveguide length in the waveguide and the microstrip feed line terminates with a probe.

第二実施態様によれば、固定フランジは、導波管の延長部において実現される。この場合、マイクロストリップ給電線は容量性のプローブで終端し、キャビティはλ/4とλ/2との間の深さを有し、ここで、λは前記導波管内の導波長に対応する。電気漏洩を防止するために、導電性フットプリントが基板上に実現されてC字形状フランジと接続可能とし、C字形状の枝部間の開放部は、短絡を阻止しつつ、電界漏洩を制限するような寸法とされる。   According to a second embodiment, the fixing flange is realized in the extension of the waveguide. In this case, the microstrip feed line terminates with a capacitive probe and the cavity has a depth between λ / 4 and λ / 2, where λ corresponds to the waveguide length in the waveguide . In order to prevent electrical leakage, a conductive footprint is realized on the substrate and can be connected to a C-shaped flange, and the open part between the C-shaped branches restricts electric field leakage while preventing short circuit The dimensions are as follows.

第三実施態様によれば、導波管は、外面が金属化された誘電性ブロックをくり抜くことによって形成される。この場合、基板上に実現されたC字形状の導電性フットプリントは導波管方向に延び、導波管の下部を形成する。フットプリントは、導波管が溶接される第一金属化ゾーンと、該第一金属化ゾーン内部に位置し、導波管のためのカバーを形成する第二金属化ゾーンとを含むのが好ましい。   According to a third embodiment, the waveguide is formed by hollowing out a dielectric block whose outer surface is metallized. In this case, the C-shaped conductive footprint realized on the substrate extends in the waveguide direction and forms the lower part of the waveguide. The footprint preferably includes a first metallization zone to which the waveguide is welded and a second metallization zone located within the first metallization zone and forming a cover for the waveguide. .

本発明の他の特徴及び利点は、添付の図面を参照して、多様な実施態様の記述を読むことで明らかになろう。   Other features and advantages of the present invention will become apparent upon reading the description of various embodiments with reference to the accompanying drawings.

図1乃至4を参照して、導波管回路と誘電性基板上に実現されるマイクロストリップ給電線との間の移行部素子の第一実施態様に関する第一の記述を行う。   With reference to FIGS. 1-4, a first description of a first embodiment of a transition element between a waveguide circuit and a microstrip feed line realized on a dielectric substrate is given.

移行部素子の展開図に関する図1に図式的に示されているように、参照番号10は矩形の導波管を図式的に示している。この導波管は合成材料で実現されているのが好ましく、より具体的には、空気の誘電率と著しく類似する誘電率を備える成形体で実現されているのが好ましい。11によって参照されるように、成形体の矩形ブロックは全ての外面が金属化されることで、マイクロ波導波管を実現している。   As schematically shown in FIG. 1 for the development of the transition element, reference numeral 10 schematically represents a rectangular waveguide. This waveguide is preferably realized by a synthetic material, and more specifically, it is preferably realized by a molded body having a dielectric constant remarkably similar to that of air. 11, the rectangular block of the molded body realizes a microwave waveguide by metallizing all outer surfaces.

図1及び3に特に示されるように、顕著なC形状を示すフランジ20が導波管10の一端に実現されており、好ましくは、同時に、成形体技術導波管として実現されている。このフランジ20はその2つの短側辺及び1つの長側辺で導波管10の矩形端部を囲んでいるのに対し、他の長側辺は開口22を有し、この開口は誘電性基盤30上に実現されたマイクロストリップ給電線31との如何なる短絡も防止するよう位置している。   As particularly shown in FIGS. 1 and 3, a flange 20 having a pronounced C-shape is realized at one end of the waveguide 10, and preferably at the same time as a molded-body waveguide. The flange 20 surrounds the rectangular end of the waveguide 10 with its two short sides and one long side, whereas the other long side has an opening 22 which is dielectric. Located to prevent any short circuit with the microstrip feed line 31 realized on the substrate 30.

図3により明瞭に示されているように、矩形の導波管と、フランジによって構成されている移行部とによって形成されているアセンブリは、11及び23で金属化されている。しかしながら、垂直方向でフランジ20の切断部のレベルにあるゾーンと共に矩形ゾーンを形成する導波管の出力部に対応する端部は、24によって示されるように金属化されていない。   As more clearly shown in FIG. 3, the assembly formed by the rectangular waveguide and the transition constituted by the flange is metallized 11 and 23. However, the end corresponding to the output of the waveguide that forms a rectangular zone with the zone at the level of the cut of the flange 20 in the vertical direction is not metallized as indicated by 24.

部分的に金属化された成形体構造によって構成されたこのフランジは、移行性能を害し且つ低下し得る過剰周波数キャビティを形成する。この問題を防止するために、本発明に従って、フランジ20は、後述のように、マイクロストリップ技術回路を搭載する基板との信頼性のある電気接触を得るような特別な寸法とされているのに加えて、共振モードを排除することによってアセンブリのための良好な機械的支持を保証している。   Constructed by a partially metallized green body structure, this flange forms an overfrequency cavity that can compromise and degrade migration performance. To prevent this problem, in accordance with the present invention, the flange 20 is specially sized to obtain reliable electrical contact with the substrate mounting the microstrip technology circuit, as described below. In addition, good mechanical support for the assembly is ensured by eliminating resonant modes.

それ故に、マイクロストリップ給電線の反対側の部分に対応する、非金属化部分の反対側のフランジ20の一部は、フランジの共振周波数を有用帯域外に移動するような寸法とされている。要求される機械的強度に従って選択されるフランジの厚さ、即ち、フランジのこの部分の寸法dは、発生される共振周波数が有用帯域の外側にあるよう選択されている。さらに、図1に示されるように、マイクロストリップ技術回路は誘電性基板30上に実現されている。より具体的には、図2に示されるように、誘電性基板30は金属層30aを含むことで、下面に接地平面を形成している。接地平面は、導波管10の矩形の出力部に対応する矩形の非金属化ゾーン30bを備え、非金属化ゾーンは、基板30を支持するボックス又はベース40内に実現されたキャビティ40に隣接している。以下にこれらを詳述する。   Therefore, the portion of the flange 20 opposite the non-metallized portion, corresponding to the opposite portion of the microstrip feedline, is dimensioned to move the resonant frequency of the flange out of the useful band. The thickness of the flange selected according to the required mechanical strength, i.e. the dimension d of this part of the flange, is selected such that the resonant frequency generated is outside the useful band. Further, as shown in FIG. 1, the microstrip technology circuit is implemented on a dielectric substrate 30. More specifically, as shown in FIG. 2, the dielectric substrate 30 includes a metal layer 30a, thereby forming a ground plane on the lower surface. The ground plane comprises a rectangular non-metallized zone 30 b corresponding to the rectangular output of the waveguide 10, which is adjacent to the cavity 40 realized in the box or base 40 that supports the substrate 30. doing. These are described in detail below.

図2aに示される基板の頂面は、マイクロストリップ技術を用いてインピーダンス整合給電線31bによって延長されているマイクロストリップ技術給電線31aと、導波管10によって放出されるエネルギーを回収するための接続素子又はプローブ31cとを含む。この素子は英語の「プローブ」という専門用語で知られている。   The top surface of the substrate shown in FIG. 2a has a microstrip technology feed line 31a extended by an impedance matching feed line 31b using microstrip technology and a connection for recovering the energy emitted by the waveguide 10. Element or probe 31c. This element is known by the technical term “probe” in English.

導波管出力部とプローブ31cとの間の接続を可能とするために、フランジ20下面のフットプリント30c、が基板30の頂面上の導電性材料において実現されている。図2aに明瞭に示されているように、プローブ31cの延長部に見られるフットプリントの部分は、図1に示されているフランジ20の部分の幅dに対応する幅dを有する。   In order to allow a connection between the waveguide output and the probe 31c, a footprint 30c on the bottom surface of the flange 20 is realized in the conductive material on the top surface of the substrate 30. As clearly shown in FIG. 2a, the portion of the footprint found in the extension of the probe 31c has a width d corresponding to the width d of the portion of the flange 20 shown in FIG.

金属化ゾーン30cは、溶接、より具体的には、半田付けによって接続されているフランジの対応面を受け入れるために用いられ、この金属化ゾーンは、図示されていない金属孔によって下方の接地平面30aに電気的に接続されている。   The metallization zone 30c is used to receive the corresponding surface of the flange connected by welding, more specifically soldering, which metallization zone is below the ground plane 30a by a metal hole not shown. Is electrically connected.

さらに、図1に示されるように、マイクロストリップ技術回路を受け入れる誘電性基板は、導波管に面する部分にキャビティ41を有する金属ベース又は金属ボックス40上に装着されている。このキャビティは、矩形の導波管の開口と同一の大きさの開口と、導波管内の導波長の4分の1と顕著に同一の深さとを有する。これは移行部のためのインピーダンス整合を提供するためである。   Further, as shown in FIG. 1, a dielectric substrate that accepts a microstrip technology circuit is mounted on a metal base or metal box 40 having a cavity 41 in the portion facing the waveguide. The cavity has an opening that is the same size as the rectangular waveguide opening and a depth that is significantly the same as one-fourth of the waveguide length in the waveguide. This is to provide impedance matching for the transition.

本発明に関しては、マイクロストリップ技術給電線と同一の方向に見られる移行部のフランジの部分の幅のみが共振現象との関係で重要である。正に、図1に示されるような矩形の導波管に関しては、基本モードTE10が励起され、電界がアクセス給電線の軸において最大であり、導波管の短側辺上で横方向に準ゼロである。それ故に、マイクロストリップ給電線のいずれかの側に位置し且つフランジの横方向部材の近傍に形成されたキャビティは、性能に対して殆ど影響を及ぼさず、フランジのこれらの部分の大きさは、アセンブリの機械的剛性を与えるためにのみ選択される。これに対し、後方のフランジ部に関しては、それは給電線によって励起され、この部分の大きさに依存して共振周波数を生成する。この周波数は有用帯域内にある。従って、幅dは、この周波数を有用帯域から移動するために選択され、高さは機械的制限に従って選択される。   For the present invention, only the width of the flange portion of the transition portion seen in the same direction as the microstrip technology feed line is important in relation to the resonance phenomenon. Indeed, for a rectangular waveguide as shown in FIG. 1, the fundamental mode TE10 is excited, the electric field is greatest in the axis of the access feed line, and quasi-laterally on the short side of the waveguide. Zero. Therefore, cavities formed on either side of the microstrip feed line and in the vicinity of the lateral members of the flange have little effect on performance, and the size of these portions of the flange is Selected only to provide mechanical rigidity of the assembly. On the other hand, for the rear flange part, it is excited by the feeder and generates a resonance frequency depending on the size of this part. This frequency is in the useful band. Thus, the width d is selected to move this frequency out of the useful band and the height is selected according to mechanical limitations.

上記の概念を確認するために、有限要素法を用いた「Ansoft/HFSS」という名称で知られるシミュレーションソフトウェアを用いることによって、図1の形式の平面構造及び矩形の導波管に関連する移行部素子を3Dで電磁的にシミュレートした。この場合、3.556mm×7.112mmの管断面を有するWR28という名称の導波管が、図1に示されるようなフランジによって拡げられている。1.5mmの厚さ、2mmの短側辺の幅及び4mm又は2.3mmと同一の幅を有するフランジが、上述のように、RO4003という商品名で知られている0.2mmの厚さの低コストのマイクロ波基板に装着され、この基板上にマイクロストリップ給電線が実現されている。   In order to confirm the above concept, by using simulation software known as “Ansoft / HFSS” using the finite element method, a transition structure associated with a planar structure in the form of FIG. 1 and a rectangular waveguide. The device was simulated electromagnetically in 3D. In this case, a waveguide named WR28 having a tube cross section of 3.556 mm × 7.112 mm is expanded by a flange as shown in FIG. A flange having a thickness of 1.5 mm, a short side width of 2 mm, and a width equal to 4 mm or 2.3 mm, as described above, has a thickness of 0.2 mm known by the trade name RO4003. It is mounted on a low-cost microwave substrate, and a microstrip feed line is realized on this substrate.

さらに、導波管は「Rohacell/HF71」という商品名で知られる成形体材料を金属化することによって実現されている。この材料は極めて低い比誘電率及び低い誘電損失を示し、ここで、εr=1.09,tg、δ=0.001、最大60GHzである。このシミュレーションの結果は図4a及び4bに示されており、ここで、図4aにおいて、d=4mmであり、図4bにおいて、d=2.3mmである。   Furthermore, the waveguide is realized by metallizing a molding material known by the trade name “Rohacell / HF71”. This material exhibits a very low dielectric constant and low dielectric loss, where εr = 1.09, tg, δ = 0.001, up to 60 GHz. The results of this simulation are shown in FIGS. 4a and 4b, where d = 4 mm in FIG. 4a and d = 2.3 mm in FIG. 4b.

d=4mmに関しては、18dB近辺の優れたインピーダンス整合が27〜32GHzの周波数帯域に亘って得られるのが観察されるのに対し、d=2.3mmに関しては、破滅的な共振が29GHz近辺で観察される。   For d = 4 mm, excellent impedance matching around 18 dB is observed over the 27-32 GHz frequency band, whereas for d = 2.3 mm, catastrophic resonances are seen around 29 GHz. Observed.

図5において、本発明の他の実施例が示されている。この場合、参照番号101によって示されるように、導波管100は90°に屈曲した管であり、端部にフランジ102を含み、アセンブリは成形体技術を用いて、即ち、上述のように、成形体ブロックを圧延し、それを金属層で被覆することによって実現されている。フランジ102は図1に示されているフランジと同一種類である。フランジ102は「C」形状を有し、導波管に結合されるべきマイクロストリップ技術給電線に面しなければならない部分に開口103を有する。   In FIG. 5, another embodiment of the present invention is shown. In this case, as indicated by reference numeral 101, the waveguide 100 is a tube bent at 90 ° and includes a flange 102 at the end, and the assembly is made using molded body technology, ie, as described above. This is realized by rolling the compact block and coating it with a metal layer. The flange 102 is of the same type as the flange shown in FIG. Flange 102 has a “C” shape and has an opening 103 in the portion that must face the microstrip technology feed line to be coupled to the waveguide.

図5に示されるように、図1及び2の基板30と同一種類の基板110は、マイクロストリップ技術給電線111と、フランジ102を固定するための導電性フットプリント112とを有する。このフットプリント112は、給電線111の反対側において、この部分の共振周波数を有用帯域外に移動するような方法で上述のように決定された値を備える寸法dを示す。   As shown in FIG. 5, a substrate 110 of the same type as the substrate 30 of FIGS. 1 and 2 has a microstrip technology feed line 111 and a conductive footprint 112 for fixing the flange 102. This footprint 112 shows a dimension d with the value determined as described above in such a way that on the opposite side of the feed line 111 the resonance frequency of this part is moved out of the useful band.

図1の実施態様と同一の方法で、この基板は金属ベース又は金属ボックス上に取り付けられており、その高さはλ/4と同一であり、ここで、λは導波管内における導波長である。   In the same manner as the embodiment of FIG. 1, the substrate is mounted on a metal base or metal box, the height of which is the same as λ / 4, where λ is the waveguide length in the waveguide. is there.

この種のシステムは、基板及び導波管のために同一の材料を用いて、上記と同一のソフトウェアを用いることによってシミュレートされた。屈曲部101の寸法は、30GHz近辺での適用のために最適化された。周波数の関数としてのインピーダンス整合に関する曲線が図6に示されている。それは30GHz近辺の帯域幅で20dB以上のインピーダンス整合を示している。   This type of system was simulated by using the same software as described above, using the same materials for the substrate and the waveguide. The dimensions of the bend 101 were optimized for application near 30 GHz. A curve for impedance matching as a function of frequency is shown in FIG. It shows an impedance matching of 20 dB or more with a bandwidth around 30 GHz.

図7において、2つの導波管/平面基板移行部を備えた他の実施態様が示されている。より具体的には、成形体技術を用いて実現された直線の導波路200は、各端部で90°の屈曲部201a及び201bによって延びている。各曲線端部は、図5を参照して記述されたものと同様に、フランジ102a,102bによって延びている。このフランジは、導波管200を、マイクロ波誘電性材料の平面基板上にマイクロストリップ技術で実現された入力回路及び出力回路に接続するために用いられている。基板上にマイクロストリップ給電線を備えた各導波管端部の移行部のレベルで、図5のフットプリント112と同一種類のフットプリント211a,211bが実現されている。これらのフットプリントは非金属化部分213a,213bを囲み、平面技術を用いて実現される回路を供給するために用いられるマイクロストリップ給電線212a,212bの端部(又はプローブ)が非金属化部分内に達している。基板210は金属ベース又は金属ボックス220上に装着され、図5に関してと同様に、金属ベースは、導波管200の端部201a,201bに対向するキャビティを有する。キャビティは図1の実施態様と同様な寸法とされている。   In FIG. 7, another embodiment with two waveguide / planar substrate transitions is shown. More specifically, the straight waveguide 200 realized by using the molded body technique is extended by 90 ° bent portions 201a and 201b at each end. Each curved end is extended by flanges 102a, 102b, similar to that described with reference to FIG. This flange is used to connect the waveguide 200 to input and output circuits implemented in microstrip technology on a planar substrate of microwave dielectric material. The same types of footprints 211a and 211b as the footprint 112 of FIG. 5 are realized at the level of the transition portion of each waveguide end provided with the microstrip feed line on the substrate. These footprints surround the non-metallized portions 213a, 213b and the ends (or probes) of the microstrip feed lines 212a, 212b used to supply the circuit implemented using planar technology are non-metallized portions. Has reached in. The substrate 210 is mounted on a metal base or metal box 220, and the metal base has cavities opposite the ends 201a, 201b of the waveguide 200, as with FIG. The cavity is sized similar to the embodiment of FIG.

この種の構造は上述のようにシミュレートされ、インピーダンス整合に関するシミュレーションの結果が図8に示されている。   This type of structure is simulated as described above, and the simulation results for impedance matching are shown in FIG.

この場合、損失のレベルは、30GHzで単一の移行部のために得られる損失に近く、42mmの波長に関して、シミュレートされた挿入損失は1.5dBである。   In this case, the level of loss is close to that obtained for a single transition at 30 GHz, and for 42 mm wavelength, the simulated insertion loss is 1.5 dB.

上述のように、寸法dは、マイクロストリップ給電線に対応する部分に対向するフランジの部分によって形成されるキャビティが、有用帯域の周波数外の周波数で共振するように選択されている。これを達成するために、この部分の共振周波数は、dの値のみならず、フランジのこの部分の高さ及び幅にも依存する。これらの最後の2つの寸法は、フランジが機械的に剛的であるように選択されている。従って、dは選択された高さ及びベース幅のための周波数に反比例する値である。図9の曲線は、フランジの幅dの関数としての共振周波数における変化を示している。例えば、27〜29GHzの帯域幅で動作するシステムのために、共振周波数が有用帯域幅から相当離れて移動されるよう、dの値は2.5mmよりもかなり上でなければならない。   As described above, the dimension d is selected such that the cavity formed by the portion of the flange opposite the portion corresponding to the microstrip feed line resonates at a frequency outside the useful band frequency. To achieve this, the resonance frequency of this part depends not only on the value of d, but also on the height and width of this part of the flange. These last two dimensions are chosen so that the flange is mechanically rigid. Thus, d is a value that is inversely proportional to the frequency for the selected height and base width. The curve in FIG. 9 shows the change in resonance frequency as a function of the flange width d. For example, for a system operating with a bandwidth of 27-29 GHz, the value of d must be well above 2.5 mm so that the resonant frequency is moved considerably away from the useful bandwidth.

次に、図10乃至17を参照して、本発明に従った移行部素子の他の実施態様を記述する。この場合、導波管回路50は矩形の導波管51を含み、平面技術回路、具体的には、マイクロストリップを有する基板60に固定するために、導波管の端部はフランジ52によって拡げられている。   10 to 17, another embodiment of the transition element according to the present invention will now be described. In this case, the waveguide circuit 50 includes a rectangular waveguide 51 and the end of the waveguide is widened by a flange 52 for securing to a planar technology circuit, specifically a substrate 60 having a microstrip. It has been.

この実施態様では、導波管の全体が基板60上に位置するよう、フランジ52の下面52aは矩形の導波管の下部51aを拡張している。さらに、矩形の導波管の端部は傾斜部53で終端している。第一の実施態様に関しては、矩形の導波管50は合成繊維の成形体の中実ブロックにおいて実現されており、図1の実施例で用いられているものと同一種類であり得る。ゾーン54及びゾーン55を除いて、導波管及びフランジの外面は、金属化されている。如何なる短絡を阻止するために、ゾーン54は、図示の実施態様では矩形であり且つ後に詳述されるインピーダンス整合キャビティ71の上に位置し、ゾーン55は、マイクロストリップ技術給電線と成形体ブロックとの間のインターフェイスで垂直方向に位置している。   In this embodiment, the lower surface 52a of the flange 52 extends the lower part 51a of the rectangular waveguide so that the entire waveguide is located on the substrate 60. Further, the end portion of the rectangular waveguide is terminated by the inclined portion 53. With respect to the first embodiment, the rectangular waveguide 50 is realized in a solid block of synthetic fiber and can be of the same type as used in the embodiment of FIG. With the exception of zone 54 and zone 55, the outer surfaces of the waveguide and flange are metallized. In order to prevent any short circuit, the zone 54 is rectangular in the illustrated embodiment and is located above the impedance matching cavity 71, which will be described in detail later, and the zone 55 includes a microstrip technology feed line, a molded body block, The interface between is located vertically.

平面技術回路、より具体的には、マイクロストリップ技術との非接触接続を実現するために、図1、2a及び2bに示されるように、誘電性材料の基板60は下部接地平面60aを含み、下部接地平面はキャビティ71に対向して位置する部分に非金属化ゾーン60bを有する。   In order to achieve a contactless connection with planar technology circuitry, more specifically with microstrip technology, a substrate 60 of dielectric material includes a lower ground plane 60a, as shown in FIGS. 1, 2a and 2b, The lower ground plane has a non-metallized zone 60b at a portion located opposite the cavity 71.

基板の上面60cには、プローブ60eで終端するアクセス給電線60dがマイクロストリップ技術で実現されており、この場合では、容量性があるようような寸法とされている。   On the upper surface 60c of the substrate, an access power supply line 60d that terminates with a probe 60e is realized by a microstrip technique, and in this case, is dimensioned so as to be capacitive.

さらに、基板60への導波管50の装着を実現するために、プローブ60eは、フランジ52の下面に対応する成形体を備えた導電性のフットプリント60fによって囲まれている。フランジのフットプリントへの取り付けは、溶接、より具体的には、半田付け又は任意の他の均等手段によってなされる。フットプリントの形状は以下に詳述される。さらに、フットプリント60fは、図示されていない金属化された孔によって、接地平面60aに電気的に接続されている。   Further, in order to realize the mounting of the waveguide 50 to the substrate 60, the probe 60e is surrounded by a conductive footprint 60f having a molded body corresponding to the lower surface of the flange 52. The attachment of the flange to the footprint is made by welding, more specifically by soldering or any other equivalent means. The footprint shape is described in detail below. Furthermore, the footprint 60f is electrically connected to the ground plane 60a by a metallized hole (not shown).

さらに、基板60は金属ベース又は金属ユニット70に装着されている。本発明のために、金属ベースは、移行部のレベルにおいて、ベース70内で型どられた或いは圧延されたキャビティ71を含む。キャビティ71は、矩形の導波管と同一の断面と、λ/4とλ/2との間の深さを有するのが好ましく、ここで、λは導波管内の導波長を表わしている。深さの正確な寸法は移行部素子の反応を最適化するように選択される。   Further, the substrate 60 is mounted on a metal base or metal unit 70. For the purposes of the present invention, the metal base includes a cavity 71 that is shaped or rolled in the base 70 at the level of the transition. Cavity 71 preferably has the same cross-section as a rectangular waveguide and a depth between λ / 4 and λ / 2, where λ represents the waveguide length within the waveguide. The exact dimensions of the depth are selected to optimize the response of the transition element.

この実施態様において、フランジの寸法は、基板上で導波管を正しくオフセットするのを容易にするのみならず、信頼性のあるプリント回路との電気的接触を提供して、移行部のレベルでの動力漏洩を回避しながら、アセンブリ全体のための接地結合をもたらすように実現されている。ところで、フランジは、移行部の性能に干渉し且つ移行部の性能を低下し得る余剰周波数キャビティを含む。従って、フランジは正しい寸法とされなければならない。   In this embodiment, the flange dimensions not only facilitate correct offset of the waveguide on the substrate, but also provide reliable electrical contact with the printed circuit at the transition level. It is implemented to provide ground coupling for the entire assembly while avoiding power leakage. By the way, the flange includes an extra frequency cavity that can interfere with the performance of the transition and reduce the performance of the transition. Therefore, the flange must be sized correctly.

この場合、TE10モードが励起される。従って、電界の構造はアクセス給電線の軸において最大であり、導波管の短側辺上で横方向に殆どゼロである。   In this case, the TE10 mode is excited. Therefore, the structure of the electric field is maximal on the axis of the access feed line and is almost zero laterally on the short side of the waveguide.

従って、アクセス給電線のいずれかの側に位置するキャビティを形成するフランジの部分は、システムの性能に対してスプリアス効果(spurious effect)を殆ど有さない。しかしながら、マイクロストリップ給電線60dの入力にとって本質的なフランジ52内の開口55の寸法は重要である。マイクロストリップアクセス給電線とフランジの金属化ゾーンとの間の結合に関連した外乱を阻止するためには、十分な空間を提供することが必要である。反対に、大き過ぎる開口は、電界の高集中ゾーン内に位置することで、漏洩の顕著な増大の直接的な原因となる。   Thus, the portion of the flange that forms the cavity located on either side of the access feeder has little spurious effect on system performance. However, the size of the opening 55 in the flange 52, which is essential for the input of the microstrip feed line 60d, is important. In order to prevent disturbances associated with the coupling between the microstrip access feeder and the metallization zone of the flange, it is necessary to provide sufficient space. Conversely, an aperture that is too large is a direct cause of a significant increase in leakage by being located in a highly concentrated zone of the electric field.

下記の実施態様は図1の実施態様のために記述されたものと同一の方法を用いてシミュレートされた。それ故に、0.2mmの厚さのROGERS RO4003という名称の誘電性材料で形成された低コストの基板上に実現されたマイクロストリップ給電線と、標準断面WR28: 3.556mm×7.112mmで高さが1mmの(ROHACELL HF71という商品名で知られている成形体のような)低損失材料で実現された図10に示されるような導波管との間の移行部素子に関して、30GHz近辺で動作するよう設計された導波管の寸法を用いたシミュレーションの結果が図12に示されている。   The following embodiment was simulated using the same method as described for the embodiment of FIG. Therefore, a microstrip feed line realized on a low-cost substrate formed of a dielectric material named ROGERS RO4003 with a thickness of 0.2 mm, and a high standard section WR28: 3.556 mm x 7.112 mm For a transition element to and from a waveguide as shown in FIG. 10 realized with a low loss material (such as the molded product known under the trade name ROACELL HF71) with a length of 1 mm, around 30 GHz The results of a simulation using the dimensions of a waveguide designed to operate are shown in FIG.

この場合、次の結果が得られた。   In this case, the following results were obtained.

・22.2〜30.8GHzに亘る極めて広範な帯域幅における20dB以上のインピーダンス整合。 Impedance matching over 20 dB over a very wide bandwidth ranging from 22.2 to 30.8 GHz.

・28.9〜30.1GHzの25dB以上のインピーダンス整合。 -Impedance matching of 25 dB or more from 28.9 to 30.1 GHz.

・25dBのオーダの相当に低い挿入損失 ・ Remarkably low insertion loss on the order of 25 dB

移行部の最適化に対するフランジ52寸法の影響を図13乃至17を参照して以下に記述する。図13は、導波管が基板上に装着されたときの移行部素子を図式的に示す頂面図である。この場合、フランジ52は、導波管51自体の横壁に対して横方向に突出する2つのキャビティ52bを含む。これらの2つのキャビティは、中央部に開口52cを有する垂直方向のキャビティ52aの近傍に延び、マイクロストリップ給電線の通路に対応している。この実施態様において、上述のように、開口52cの寸法は、挿入損失(S21)及び反射減衰量(S11)のような、移行部の電気的な性能に対して影響を有する。   The effect of flange 52 dimensions on transition optimization is described below with reference to FIGS. FIG. 13 is a top view schematically showing the transition element when the waveguide is mounted on a substrate. In this case, the flange 52 includes two cavities 52b projecting laterally with respect to the lateral wall of the waveguide 51 itself. These two cavities extend in the vicinity of the vertical cavity 52a having an opening 52c in the center and correspond to the path of the microstrip feed line. In this embodiment, as described above, the size of the opening 52c has an effect on the electrical performance of the transition, such as insertion loss (S21) and return loss (S11).

それ故に、図14に示されるように、図14は開口52aの幅の関数としての挿入損失S21を示し、次の3つの明確なゾーンがあるのが分かる。   Therefore, as shown in FIG. 14, FIG. 14 shows the insertion loss S21 as a function of the width of the opening 52a, and it can be seen that there are three distinct zones:

・8mm以下の開口に関しては、損失は大きく、給電線と導波管の金属化された壁との間の結合の現象を反映している。 • For apertures of 8 mm or less, the loss is significant, reflecting the phenomenon of coupling between the feed line and the metallized wall of the waveguide.

・8mm〜2mmの間の開口に関しては、移行部損失が−0.25dBのオーダと最低限である最適値の範囲が観察される。 • For apertures between 8 mm and 2 mm, an optimal value range is observed where the transition loss is on the order of -0.25 dB and minimal.

・2mm以上の開口に関しては、損失は増大し始め、その結果、電界漏洩が増大している。 • For apertures greater than 2 mm, the loss begins to increase, resulting in increased field leakage.

さらに、図15は、前記3つのゾーンの各々に関して見られる、開口の幅dの関数としての反射減衰量を示している。従って、下記の点が観察される。   Further, FIG. 15 shows the return loss as a function of the aperture width d as seen for each of the three zones. Therefore, the following points are observed.

・8mm以下の開口に関しては、構造の反射減衰量応答は完全に阻害されている。接近しすぎているキャビティの端部の存在が、顕著な不整合を導入している。 • For apertures of 8 mm or less, the return loss response of the structure is completely disturbed. The presence of cavity ends that are too close introduces significant misalignment.

・8〜2mmの間の開口に関しては、インピーダンス整合が最適化され、動作帯域幅をカバーしている。 • For apertures between 8 and 2 mm, impedance matching is optimized and covers the operating bandwidth.

・2mm以上の開口に関しては、広すぎる開口による漏洩に関連するレベルの隆起が開始している。 • For openings larger than 2 mm, a level of ridges has started that is related to leakage due to openings that are too wide.

図16及び17は、フランジを形成するキャビティ52a,52bの幅a及びbが移行部の性能に対して及ぼす影響を示している。   FIGS. 16 and 17 show the effect of the widths a and b of the cavities 52a, 52b forming the flange on the performance of the transition.

・キャビティaに関して、図16は、このキャビティの幅は移行部の反射減衰量応答に対して僅か少しの影響しか有さないことを示している。広い周波数帯域において、0.2〜1.5mmの広範囲の幅に関して、損失は常時−15dB以下のままである。 For cavity a, FIG. 16 shows that the width of this cavity has only a minor effect on the return loss response of the transition. In a wide frequency band, the loss always remains below -15 dB for a wide range of 0.2-1.5 mm.

・キャビティbの幅に関して、図17は、その値を1mm〜2mmに倍増することによって、反射減衰量は、極めて広範な周波数帯域において、常時−17dB以下のままであるので、それは移行部の性能をより少しだけしか阻害しないことを示している。 Regarding the width of the cavity b, FIG. 17 shows that by doubling its value from 1 mm to 2 mm, the return loss always remains below −17 dB in a very wide frequency band, which is the performance of the transition part. It shows that it inhibits only a little.

図18及び19は、図10を参照して記述された種類の移行部素子で用いられる導波管回路の他の2つの実施態様を図式的に示している。   18 and 19 schematically show two other embodiments of a waveguide circuit used in a transition element of the type described with reference to FIG.

図18に関しては、導波管500は、チェビシェフ型の応答を示す3つのオーダの絞り導波管フィルタである。導波管500は上記のような移行部素子を用いることによって平面技術回路に接続されている。それ故に、図18aは、接続フットプリント及びアクセス給電線を有することを特徴とする基板501と、フィルタ500の出力部に対向するキャビティを有することを特徴とするベース502とを図式的に示している。   With respect to FIG. 18, the waveguide 500 is a three-order apertured waveguide filter that exhibits a Chebyshev-type response. Waveguide 500 is connected to a planar technology circuit by using a transition element as described above. Thus, FIG. 18a schematically shows a substrate 501 characterized by having a connection footprint and access feed line and a base 502 characterized by having a cavity facing the output of the filter 500. FIG. Yes.

この実施態様に関連する性能は図18bに示されている。以下の結果が分かる。   The performance associated with this embodiment is shown in FIG. 18b. The following results can be seen.

・30GHz近辺の900MHzの範囲の周波数に関して、1.2dBのオーダの低い挿入損失。 Low insertion loss on the order of 1.2 dB for frequencies in the 900 MHz range near 30 GHz.

・同一の周波数の範囲で−23dB以下の反射減衰量。 -Return loss of -23 dB or less in the same frequency range.

図19は図18と類似しており、導波管の各入力部に位置する2つのスタブを含む擬楕円のフィルタを包含する導波管600を示している。この装置の目的は、帯域通過の局地的な外側に伝達零点を生成することによって、フィルタの選択性を増大することである。基板601(RO4003)と、キャビティを有することを特徴とし且つ2つのマイクロストリップ給電線によって励起されるベース602との上に表面装着されたフィルタ600が、3Dで完全にシミュレートされた。図18bは得られた性能を示している。   FIG. 19 is similar to FIG. 18 and shows a waveguide 600 that includes a quasi-elliptical filter containing two stubs located at each input of the waveguide. The purpose of this device is to increase the selectivity of the filter by generating transmission zeros outside the bandpass locally. A filter 600 surface mounted on a substrate 601 (RO4003) and a base 602 characterized by having a cavity and excited by two microstrip feed lines was fully simulated in 3D. FIG. 18b shows the performance obtained.

・30GHz近辺の1GHzの通過帯域における1.2dBのオーダの挿入損失。 -Insertion loss of the order of 1.2 dB in the 1 GHz passband near 30 GHz.

・29.5〜30.0GHzの帯域幅で−30dB以下の反射減衰量 -Return loss of -30 dB or less with a bandwidth of 29.5 to 30.0 GHz

・28.55GHzでの60dB以上の減衰であり、28.55GHzは拒絶するスプリアス周波数に対応する周波数。 • Attenuation of 60 dB or more at 28.55 GHz, where 28.55 GHz is the frequency corresponding to the rejected spurious frequency.

図20乃至22を参照して、本発明に従った移行部素子の他の実施例を以下に記述する。この場合、導波管回路80は矩形の導波管81を含み、端部は固定フランジを形成する素子82によって拡がっている。この実施態様において、導波管は誘電性材料のブロックによって形成されており、このブロックは空気と同一の誘電率の合成繊維の成形体であり得る。ブロックはくり抜かれてキャビティ83を形成し、ブロックの外面は完全に金属化されている。さらに、フランジ82はスロット84を有し、その役割は後述される。実施態様において、導波管が平面技術回路、特に、マイクロストリップ給電線を受け入れる基板90上に位置するよう、フランジ82の下面は矩形の導波管81のくり抜かれた部分に延びている。   With reference to FIGS. 20 to 22, another embodiment of a transition element according to the present invention is described below. In this case, the waveguide circuit 80 includes a rectangular waveguide 81, the end of which is widened by an element 82 that forms a fixed flange. In this embodiment, the waveguide is formed by a block of dielectric material, which may be a molded body of synthetic fiber having the same dielectric constant as air. The block is hollowed out to form a cavity 83, and the outer surface of the block is fully metallized. Further, the flange 82 has a slot 84, the role of which will be described later. In an embodiment, the lower surface of the flange 82 extends into the hollowed out portion of the rectangular waveguide 81 so that the waveguide is located on a planar technical circuit, in particular a substrate 90 that receives a microstrip feed line.

図20及び21に示されるように、マイクロ波誘電性材料の基板90は、図21aで94と印されている成形体平面を含み、この接地平面は、移行部のレベルにおいて、導波管出力部に対向して位置する部分に非金属化領域95を有する。さらに、この実施態様において、基板90の上面は、導波管80をオフセットするために用いられる第一金属化ゾーン93bを含む。   As shown in FIGS. 20 and 21, the substrate 90 of microwave dielectric material includes a shaped body plane marked 94 in FIG. 21a, which ground plane is at the level of the waveguide at the transition level. A non-metallized region 95 is provided in a portion located opposite to the portion. Further, in this embodiment, the top surface of the substrate 90 includes a first metallization zone 93b that is used to offset the waveguide 80.

このゾーン93bは図示されていない金属化された孔によって接地平面94に電気的に接続されている。さらに、基板90は、ゾーン93b内に位置する第二金属化ゾーン93aを含み、導波管の開口83をカバーするよう、導波管80の開口全体の下に延びている。   This zone 93b is electrically connected to the ground plane 94 by a metallized hole (not shown). In addition, the substrate 90 includes a second metallization zone 93a located within the zone 93b and extends below the entire opening of the waveguide 80 to cover the opening 83 of the waveguide.

基板90の上面は、ゾーン95に対応する非金属化ゾーン96も含む。このゾーン96は、プリント回路技術、特に、マイクロストリップによって実現された給電線91の端部92又は「プローブ」を受け入れる。この給電線は、フランジ82内の間隙84に対応するゾーン93a内の非金属化ゾーンを横断している。   The top surface of the substrate 90 also includes a non-metallized zone 96 corresponding to the zone 95. This zone 96 receives the end 92 or “probe” of the feeder 91 realized by printed circuit technology, in particular by microstrip. This feed line traverses a non-metallized zone in zone 93 a corresponding to gap 84 in flange 82.

アセンブリは金属ベース又は金属ボックス72上に装着される。本発明に関して、金属ベースは、ベース内に型どられ或いは圧延された移行部のレベルにおいて、キャビティ73を含む。キャビティは導波管の端部の断面と顕著に同一の断面を有する。すなわち、非金属化ゾーン95及びλ/4とλ/2との間の深さに対応し、ここで、λは導波管における導波長を表わしている。   The assembly is mounted on a metal base or metal box 72. In the context of the present invention, the metal base includes a cavity 73 at the level of the transition that has been cast or rolled into the base. The cavity has a cross section that is significantly identical to the cross section of the end of the waveguide. That is, it corresponds to the non-metallized zone 95 and the depth between λ / 4 and λ / 2, where λ represents the waveguide length in the waveguide.

上述の実施態様は前記の実施態様のために記述されたものと同一の方法を用いてシミュレートされた。それ故に、基板は、0.2mmの厚さのROGERS RO4003という名称で知られている誘電性材料によって構成されている。導波管の内部断面が標準WR28: 3.556mm×7.112mmと同等であり且つ2mmの厚さを示すような方法で、導波管は圧延された誘電性材料のブロック内に実現されている。導波管は錫、銅等のような導電性材料で金属化されている。システムは30GHzで動作するよう設定されている。   The embodiment described above was simulated using the same method as described for the previous embodiment. The substrate is therefore composed of a dielectric material known under the name ROGERS RO4003 with a thickness of 0.2 mm. The waveguide is realized in a block of rolled dielectric material in such a way that the internal cross section of the waveguide is equivalent to the standard WR28: 3.556 mm × 7.112 mm and exhibits a thickness of 2 mm. Yes. The waveguide is metallized with a conductive material such as tin, copper or the like. The system is set to operate at 30 GHz.

この場合、単一のマイクロストリップ給電線/導波管移行部に関する図22に示されているように、次の結果が得られる。   In this case, as shown in FIG. 22 for a single microstrip feed / waveguide transition, the following results are obtained:

・26GHz〜36GHzの範囲の極めて大きな帯域における15dB以上のインピーダンス整合。 -Impedance matching of 15 dB or more in a very large band ranging from 26 GHz to 36 GHz.

・この周波数帯域における0.4dBのオーダの相当に低い反射減衰量。 A considerably low return loss on the order of 0.4 dB in this frequency band.

上記の導波管80は、図18に示された種類のチェビシェフ型応答を有することを特徴とする絞り導波管フィルタ又は図19において示された種類の導波管の各入力部に位置する2つのスタブを備えた擬楕円のフィルタを実現するよう変形され得ることは当業者にとって自明である。   The waveguide 80 is located at each input of a diaphragm waveguide filter or a waveguide of the type shown in FIG. 19, characterized by having a Chebyshev-type response of the type shown in FIG. It will be apparent to those skilled in the art that it can be modified to implement a quasi-elliptical filter with two stubs.

上記の実施態様に対して多くの変形がなされ得ることは当業者にとって自明である。具体的には、幾つかの実施態様のための独立の移行部素子に導波管の端部を挿入することが想定されるであろう。重要な点は、スプリアス共振モードを示さない非接触移行部を実現することである。   It will be apparent to those skilled in the art that many variations can be made to the embodiments described above. In particular, it would be envisaged to insert the end of the waveguide into a separate transition element for some embodiments. The important point is to realize a non-contact transition that does not exhibit a spurious resonance mode.

本発明に従った導波管回路とマイクロストリップ技術給電線との間の移行部素子の第一実施態様を示す展開斜視図である。FIG. 2 is a developed perspective view showing a first embodiment of a transition element between a waveguide circuit and a microstrip technology feed line according to the present invention. (a)は、第一実施態様において用いられるマイクロストリップ技術給電線を含む基板の頂面図であり、(b)は、第一実施態様において用いられるマイクロストリップ技術給電線を含む基板の底面図である。(A) is a top view of a substrate including a microstrip technology feed line used in the first embodiment, and (b) is a bottom view of a substrate including a microstrip technology feed line used in the first embodiment. It is. 導波管と一体化された移行部素子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the transition part element integrated with the waveguide. (a)及び(b)は、図1の実施態様に関し、マイクロストリップ給電線方向のフランジの寸法dのための周波数の関数としての適用を示す曲線グラフであり、例えば、各々d=4mm及びd=2.3mmである。(A) and (b) are curve graphs showing application as a function of frequency for the dimension d of the flange in the microstrip feed direction for the embodiment of FIG. 1, eg, d = 4 mm and d, respectively. = 2.3 mm. 第二実施態様に従って、マイクロストリップ給電線と90°に屈曲する導波管との間の素子を示す展開斜視図である。FIG. 6 is an exploded perspective view showing an element between a microstrip feed line and a waveguide bent at 90 ° according to a second embodiment. 図5の実施態様に関する周波数の関数としてのインピーダンス整合及び移行部損失を示す曲線グラフである。6 is a curve graph showing impedance matching and transition loss as a function of frequency for the embodiment of FIG. 2つの90°屈曲部を備える導波管に関し、第一実施態様の他の変形を示す展開斜視図である。It is an expansion | deployment perspective view which shows the other deformation | transformation of a 1st embodiment regarding the waveguide provided with two 90 degree bending parts. 図7の実施態様に関する周波数の関数としてのインピーダンス整合及び移行部損失を示す曲線グラフである。8 is a curve graph showing impedance matching and transition loss as a function of frequency for the embodiment of FIG. 寸法dの関数としての共振周波数の変化を示す曲線グラフであり、dの限界値を決定可能にしている。4 is a curve graph showing the change in resonance frequency as a function of the dimension d, allowing the limit value of d to be determined. 本発明に従った導波管回路とマイクロストリップ技術給電線との間の移行部素子の第二実施態様を示す展開斜視図である。FIG. 5 is a developed perspective view showing a second embodiment of a transition element between a waveguide circuit and a microstrip technology feed line according to the present invention. (a)及び(b)は、各々、第二実施態様において用いられているマイクロストリップ技術給電線を含む基板の頂面図及び底面図である。(A) And (b) is the top view and bottom view of a board | substrate containing the microstrip technology electric power feeding line used in the 2nd embodiment, respectively. 図10に従った導波管とマイクロストリップ給電線との間の移行部に関してシミュレートされた挿入損失及び反射減衰量を示す曲線グラフである。11 is a curve graph showing simulated insertion loss and return loss for a transition between a waveguide and a microstrip feed line according to FIG. 図10の実施態様のための基板上の導電性フットプリントとマイクロストリップ給電線を示す拡大底面図である。FIG. 11 is an enlarged bottom view showing a conductive footprint and a microstrip feed line on a substrate for the embodiment of FIG. 30GHzで図10の実施態様のためのフットプリントの開口幅の関数としての挿入損失を示す曲線グラフである。11 is a curve graph showing insertion loss as a function of footprint aperture width for the embodiment of FIG. 10 at 30 GHz. 異なるフットプリント寸法に関する反射減衰量を示す曲線グラフである。It is a curve graph which shows the return loss amount regarding a different footprint dimension. 異なるフットプリント寸法に関する反射減衰量を示す曲線グラフである。It is a curve graph which shows the return loss amount regarding a different footprint dimension. 異なるフットプリント寸法に関する反射減衰量を示す曲線グラフである。It is a curve graph which shows the return loss amount regarding a different footprint dimension. (a)は、SMDフィルタを含む導波管回路に関する図10の実施態様の変形を示す展開斜視図であり、(b)は、この変形に関してシミュレートされたインピーダンス整合及び反射減衰量を示す曲線グラフである。(A) is an exploded perspective view showing a variation of the embodiment of FIG. 10 for a waveguide circuit including an SMD filter, and (b) is a curve showing simulated impedance matching and return loss for this variation. It is a graph. (a)は、SMD擬楕円フィルタを含む導波管回路に関する図10の実施態様の他の変形を示す展開斜視図であり、(b)は、この変形に関してシミュレートされたインピーダンス整合及び反射減衰量を示す曲線グラフである。(A) is an exploded perspective view showing another variation of the embodiment of FIG. 10 for a waveguide circuit including an SMD pseudo-elliptic filter, and (b) is a simulated impedance matching and return attenuation for this variation. It is a curve graph which shows quantity. 本発明に従った導波管回路とマイクロストリップ技術給電線との間の移行部素子の第二実施態様を示す展開斜視図である。FIG. 5 is a developed perspective view showing a second embodiment of a transition element between a waveguide circuit and a microstrip technology feed line according to the present invention. (a)及び(b)は、各々、第三実施態様において用いられるマイクロストリップ技術給電線を含む基板を示す底面図及び頂面図である。(A) And (b) is the bottom view and top view which respectively show the board | substrate containing the microstrip technology electric power feeding line used in 3rd embodiment. 図20に従った移行部に関してシミュレートされた挿入損失及び反射減衰量を示す曲線グラフである。FIG. 21 is a curve graph showing simulated insertion loss and return loss for a transition according to FIG. 20.

符号の説明Explanation of symbols

10 導波管
20 フランジ
30 基板
30a 接地平面
30b 非金属化ゾーン
30c フットプリント
31 マイクロストリップ技術給電線
31a マイクロストリップ技術給電線
31b インピーダンス整合給電線
31c プローブ
32 フットプリント
41 キャビティ
50 導波管
51a 下部
52 フランジ
52a キャビティ
52b キャビティ
52c 開口
53 傾斜部
54 非金属化ゾーン
55 非金属化ゾーン
60 基板
60a 下部接地平面
60b 非金属化ゾーン
60c 上面
60d アクセス給電線
60e プローブ
60f フットプリント
70 金属ベース
71 キャビティ
80 導波管回路
81 導波管
82 フランジ
83 キャビティ
84 スロット
90 基板
93a 第一金属化ゾーン
93b 第二金属化ゾーン
94 接地平面
95 非金属化領域
96 非金属化ゾーン
100 導波管
101 屈曲部
102 フランジ
110 基板
111 マイクロストリップ技術給電線
112 フットプリント
200 導波管
201a 屈曲部
201b 屈曲部
210 基板
211a フットプリント
211b フットプリント
212a マイクロストリップ給電線
212b マイクロストリップ給電線
213a 非金属化部分
213b 非金属化部分
600 導波管
601 基板
602 ベース
10 Waveguide 20 Flange 30 Substrate 30a Ground plane 30b Non-metallized zone 30c Footprint 31 Microstrip technology feed line 31a Microstrip technology feed line 31b Impedance matching feed line 31c Probe 32 Footprint 41 Cavity 50 Waveguide 51a Lower part 52 Flange 52a Cavity 52b Cavity 52c Opening 53 Slope 54 Non-metallized zone 55 Non-metallized zone 60 Substrate 60a Lower ground plane 60b Non-metallized zone 60c Top surface 60d Access feed line 60e Probe 60f Footprint 70 Metal base 71 Cavity 80 Waveguide Tube circuit 81 Waveguide 82 Flange 83 Cavity 84 Slot 90 Substrate 93a First metallization zone 93b Second metallization zone 94 Ground plane 95 Nonmetallized region 96 Nonmetallized 100 Waveguide 101 Bent portion 102 Flange 110 Substrate 111 Microstrip technology feeder 112 Footprint 200 Waveguide 201a Bent portion 201b Bent portion 210 Substrate 211a Footprint 211b Footprint 212a Microstrip feeder 212b Microstrip feeder 213a Non-metallized part 213b Non-metallized part 600 Waveguide 601 Substrate 602 Base

Claims (14)

導波管回路と、誘電性基板上に実現されたマイクロストリップ技術給電線との間の非接触接続のための移行部素子であって、
当該移行部素子は、前記基板への固定ために、前記導波管の端部をフランジによって拡大し、
前記基板は、前記フランジの下面との接続のための導電性フットプリントを有し、
前記導波管回路とのインピーダンス整合を実現するような寸法とされたキャビティが、前記基板の下方で、前記導波管の前記端部に対向して実現されていることを特徴とする移行部素子。
A transition element for contactless connection between a waveguide circuit and a microstrip technology feed line realized on a dielectric substrate,
The transition element is enlarged by a flange at the end of the waveguide for fixing to the substrate,
The substrate has a conductive footprint for connection with the lower surface of the flange;
A transition section characterized in that a cavity dimensioned to achieve impedance matching with the waveguide circuit is realized below the substrate and opposite the end of the waveguide. element.
前記導波管回路及び前記固定フランジは、前記キャビティに対向するゾーン以外は金属化された外面を備えた成形体のような、合成材料のブロックにおいて実現されていることを特徴とする請求項1に記載の移行部素子。   2. The waveguide circuit and the fixed flange are realized in a block of synthetic material, such as a molded body with a metallized outer surface except in a zone facing the cavity. Transition part element as described in. 前記固定フランジは、前記導波管の端部と一体的であることを特徴とする請求項1又は2に記載の移行部素子。   The transition element according to claim 1, wherein the fixing flange is integral with an end of the waveguide. 前記固定フランジは、前記導波管の端部に固着された別体の素子であることを特徴とする請求項1又は2に記載の移行部素子。   The transition element according to claim 1, wherein the fixing flange is a separate element fixed to an end of the waveguide. 前記固定フランジは、少なくとも前記マイクロストリップ給電線の方向において、前記フランジの幅dが共振モードを有用帯域から離れる方向に移動するように選択されるような寸法とされ、前記フランジは、前記導波管の端部に対して少なくとも直交していることを特徴とする請求項3又は4のうちいずれか1項に記載の移行部素子。   The fixed flange is dimensioned such that at least in the direction of the microstrip feedline, the width d of the flange is selected to move the resonant mode away from the useful band; 5. A transition element according to claim 3, wherein the transition element is at least orthogonal to the end of the tube. 前記キャビティは、λ/4と同一の深さを有し、ここで、λは前記導波管内の導波長に対応していることを特徴とする請求項3乃至5のうち何れか1項に記載の移行部素子。   The cavity according to any one of claims 3 to 5, wherein the cavity has the same depth as λ / 4, where λ corresponds to a waveguide length in the waveguide. The transition element described. 前記マイクロストリップ給電線は、プローブで終端していることを特徴とする請求項3乃至6のうち何れか1項に記載の移行部素子。   The transition element according to claim 3, wherein the microstrip feed line is terminated with a probe. 前記固定フランジは、前記導波管の延長部に実現されていることを特徴とする請求項3に記載の移行部素子。   The transition element according to claim 3, wherein the fixed flange is realized in an extension of the waveguide. 前記キャビティは、λ/4とλ/2との間の深さを有し、ここで、λは前記導波管内の導波長に対応していることを特徴とする請求項8に記載の移行部素子。   The transition of claim 8, wherein the cavity has a depth between λ / 4 and λ / 2, where λ corresponds to a waveguide length in the waveguide. Element. 前記マイクロストリップ給電線は、プローブで終端していることを特徴とする請求項8又は9に記載の移行部素子。   10. The transition element according to claim 8, wherein the microstrip feed line is terminated with a probe. 前記導電性フットプリントはC字形状を有し、該C字形状の枝部間の開放部は、短絡を阻止しつつ、電界の漏洩を制限するような寸法とされていることを特徴とする請求項8乃至10に記載の移行部素子。   The conductive footprint has a C-shape, and an open portion between the C-shaped branches is dimensioned to limit electric field leakage while preventing a short circuit. A transition element according to claim 8. 前記導波管は、外面が金属化された誘電性ブロックをくり抜くことによって形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の移行部素子。   4. The transition element according to claim 1, wherein the waveguide is formed by hollowing out a dielectric block whose outer surface is metallized. 前記導電性フットプリントは、前記導波管のくり抜き部分の下方で延びることにより、カバーを形成していることを特徴とする請求項12に記載の移行部素子。   The transition element according to claim 12, wherein the conductive footprint extends below a hollowed portion of the waveguide to form a cover. 前記基板上に実現された前記導電性フットプリントは、前記導波管が固定される第一金属化ゾーンと、該第一金属化ゾーン内の第二金属化ゾーンとを含み、該第二金属化ゾーンは、前記導波管のためのカバーを形成することを特徴とする請求項12又は13に記載の移行部素子。   The conductive footprint implemented on the substrate includes a first metallization zone to which the waveguide is fixed, and a second metallization zone in the first metallization zone, the second metal 14. A transition element according to claim 12 or 13, characterized in that the activation zone forms a cover for the waveguide.
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