JP2005313027A - Conductive film and its manufacturing method, optical element and image display device - Google Patents

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Shinya Nakano
真也 中野
Katsunori Takada
勝則 高田
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a conductive film capable of forming a conductive layer good in adhesion even under a heat-resistant/humidity-resistant environment. <P>SOLUTION: In manufacturing the conductive film by overlaying at least one side of a transparent base material film with the conductive layer, which is formed of a curable resin and a conductive inorganic filler, a solvent capable of dissolving the material of the transparent base material is applied to the transparent base material and, after the coated film is dried, the conductive layer is formed on the solvent treated surface of the transparent base material. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は導電性フィルムの製造方法に関する。導電性フィルムは、ハードコート層を形成したハードコートフィルム、反射防止層を形成した反射防止フィルムとして各種光学フィルム用途に用いられる。偏光板等の光学素子に適用したものは、液晶表示装置、有機EL表示装置、PDP、CRT等の各種画像表示装置において好適に利用できる。たとえば、ワープロ、コンピューター、テレビ、カーナビゲーション用モニター、ビデオカメラ用モニター等のディスプレイにおいて好適に用いられる。また、サングラス、ゴーグル等の光学系製品においては、偏光フィルター、反射防止フィルター等の構成部材または貼付用部材などとして好適に利用できる。   The present invention relates to a method for producing a conductive film. The conductive film is used for various optical film applications as a hard coat film having a hard coat layer and an antireflection film having an antireflection layer. Those applied to optical elements such as polarizing plates can be suitably used in various image display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, PDPs, and CRTs. For example, it is suitably used in displays such as word processors, computers, televisions, car navigation monitors, and video camera monitors. Further, in an optical system product such as sunglasses and goggles, it can be suitably used as a constituent member such as a polarizing filter or an antireflection filter or a member for sticking.

液晶パネル、有機EL表示装置、PDPなどの画像表示装置は近年の研究開発によりディスプレイとしての確固たる地位を確立しつつある。しかし、明るい照明下での使用頻度の高いカーナヒゲーション用モニターやビデオカメラ用モニターなどは表面反射による視認性の低下が顕著である。そのため、これら屋外使用頻度の高いディスプレイのほとんどには、表面に反射防止処理が施されている。反射防止処理は、一般的に真空蒸着法やスパッタリング法、CVD法等の乾式法を使って、またはダイやグラビアロール塗工等を用いた湿式法によって屈折率の異なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体を作製し、可視光領域の反射をできるだけ低減させるような設計が行われている。   Image display devices such as liquid crystal panels, organic EL display devices, and PDPs are establishing a firm position as displays through recent research and development. However, in the case of a car navigation monitor or a video camera monitor that is frequently used under bright illumination, the visibility is significantly reduced due to surface reflection. Therefore, most of these outdoor-use displays have antireflection treatment on the surface. The antireflection treatment is generally performed by using a dry method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or a plurality of thin films made of materials having different refractive indexes by a wet method using a die or a gravure roll coating. Designs are made to produce a multilayer laminate and reduce reflection in the visible light region as much as possible.

例えば、透明基材フィルム上に高屈折率ハードコート層を積層し、さらにその上に低屈折率層を形成することにより、光の干渉作用による打ち消し効果を利用して反射防止に対する要求を満たした反射防止フィルムが提案されている(特許文献1参照)。   For example, a high refractive index hard coat layer is laminated on a transparent substrate film, and a low refractive index layer is further formed thereon, thereby satisfying the requirement for antireflection by utilizing the cancellation effect due to the interference of light. An antireflection film has been proposed (see Patent Document 1).

前記反射防止フィルム等は上記用途において構成部材または貼付用部材として最外層で多く用いられる。最外層で用いる場合には静電気が発生しやすく、その静電気により埃などのゴミが付着しやすい。そのため、反射防止フィルムには帯電防止性の付与を目的に、導電層を設けて静電気による弊害を防止している。導電層は、通常、バインダー中に導電性超微粒子を分散含有させた塗工液により形成される。   The antireflection film or the like is often used in the outermost layer as a constituent member or a sticking member in the above applications. When used in the outermost layer, static electricity is likely to be generated, and dust such as dust is likely to adhere due to the static electricity. Therefore, for the purpose of imparting antistatic properties to the antireflection film, a conductive layer is provided to prevent adverse effects due to static electricity. The conductive layer is usually formed by a coating liquid in which conductive ultrafine particles are dispersed and contained in a binder.

反射防止フィルムに用いる透明基材フィルムの材料としては、従来より、安価で光学特性や各環境における信頼性等に優れていることからトリアセチルセルロース(以下、TACと略称する)、ポリカーボネート、アクリル系樹脂が多用されている。しかし、これらの透明基材フィルムと導電層との密着性は十分ではなかった。特に、近年急速に普及が進んでいるカーナビゲーション用ディスプレイなどでは反射防止フィルムが使用されているが、乗用車内の温度と湿度は極めて大きな変化が繰り返されるため、耐熱・耐湿環境下においても透明基材フィルムと導電層との密着性が求められる。また透明基材フィルムと導電層とは密着性が悪い上に、TACなどは吸湿性が大きく、さらには熱膨張率が高いため、温度変化で寸法変化しやすいという欠点がある。そのため導電層との間に高い応力が生じ、導電層の剥がれ等の重大なトラブルが発生し、耐熱・耐湿環境下における密着性に問題を有するものであった。   As the material of the transparent base film used for the antireflection film, triacetyl cellulose (hereinafter abbreviated as TAC), polycarbonate, acrylic based on its low cost and excellent optical characteristics and reliability in each environment. Resin is frequently used. However, the adhesion between these transparent substrate films and the conductive layer was not sufficient. In particular, anti-reflection films are used in car navigation displays and the like that have been rapidly spreading in recent years. However, since the temperature and humidity in passenger cars are repeatedly changed greatly, they are transparent under heat and humidity resistance. Adhesion between the material film and the conductive layer is required. In addition, the transparent base film and the conductive layer have poor adhesion, and TAC has a high hygroscopic property and also has a high coefficient of thermal expansion, so that it has a drawback that it easily changes in dimensions due to a temperature change. For this reason, high stress is generated between the conductive layer, serious troubles such as peeling of the conductive layer occur, and there is a problem in adhesion in a heat and moisture resistant environment.

TAC等の透明基材フィルムに対する塗工層の密着性を改善するために、塗工層を形成する塗工液の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いることが提案されている(特許文献2参照)。しかし、特許文献2は、塗工層として紫外線硬化型樹脂を用いた粗面化層(ハードコート層)に係わるものであり、導電層との密着性を十分に向上できるものではない。また、特許文献2では紫外線硬化型樹脂を使用しているため、層厚が薄い場合には酸素阻害により硬化不良を起す問題があり、一般的な層厚が0.5μm以下の導電層には適用できなかった。
特開2002−301783号公報 特開平11−209717号公報
In order to improve the adhesion of the coating layer to a transparent substrate film such as TAC, it has been proposed to use methyl isobutyl ketone as a solvent for the coating solution for forming the coating layer (see Patent Document 2). However, Patent Document 2 relates to a roughened layer (hard coat layer) using an ultraviolet curable resin as a coating layer, and cannot sufficiently improve the adhesion to the conductive layer. Further, in Patent Document 2, since an ultraviolet curable resin is used, when the layer thickness is thin, there is a problem of causing curing failure due to oxygen inhibition. For a conductive layer having a general layer thickness of 0.5 μm or less, It was not applicable.
JP 2002-301783 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-209717

本発明は、耐熱・耐湿環境下においても密着性が良好な導電層を形成しうる、導電性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of an electroconductive film which can form an electroconductive layer with favorable adhesiveness also in a heat-resistant / humid-proof environment.

また本発明は、当該導電性フィルムを用いた光学素子を提供すること、さらには当該光学素子等を搭載した画像表示装置を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an optical element using the conductive film, and further to provide an image display device equipped with the optical element or the like.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す製造方法により前記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに到った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the object can be achieved by the manufacturing method shown below, and have completed the present invention.

すなわち本発明は、透明基材フィルムの少なくとも片面に、硬化型樹脂および導電性無機フィラーから形成される導電層を積層した導電性フィルムを製造するにあたり、
透明基材フィルムに、当該透明基材フィルムの材料を溶解しうる溶剤を塗布し、乾燥させた後、
透明基材フィルムの溶剤処理面に導電層を形成することを特徴とする導電性フィルムの製造方法、に関する。
That is, the present invention provides a conductive film in which a conductive layer formed of a curable resin and a conductive inorganic filler is laminated on at least one surface of a transparent substrate film.
After applying a solvent capable of dissolving the material of the transparent substrate film to the transparent substrate film and drying,
The present invention relates to a method for producing a conductive film, comprising forming a conductive layer on a solvent-treated surface of a transparent substrate film.

上記本発明では、透明基材フィルムと導電層との密着性を高めるために、透明基材フィルムを予め溶剤で表面処理した後に、当該フィルムの溶剤処理面に導電層を形成している。透明基材フィルムの溶剤処理面は、溶剤により溶解および/または膨潤することから、透明基材フィルムと導電層との密着強度が大幅に高められる。そのため、耐熱・耐湿環境下においても密着性を満足することができる。   In the said invention, in order to improve the adhesiveness of a transparent base film and a conductive layer, after carrying out the surface treatment of the transparent base film with a solvent previously, the conductive layer is formed in the solvent processing surface of the said film. Since the solvent-treated surface of the transparent substrate film is dissolved and / or swelled by the solvent, the adhesion strength between the transparent substrate film and the conductive layer is greatly increased. Therefore, the adhesion can be satisfied even in a heat and humidity resistant environment.

前記導電性フィルムの製造方法において、溶剤は、ケトン系溶剤であることが好ましい。またケトン系溶剤は、シクロヘキサノンおよび/またはシクロペンタノンであることが好ましい。   In the method for producing the conductive film, the solvent is preferably a ketone solvent. The ketone solvent is preferably cyclohexanone and / or cyclopentanone.

ケトン系溶剤は、透明基材フィルムに対する溶解力が高く、透明基材フィルムに導電層を形成する前に透明基材フィルムの表面処理をする上で好適である。ケトン系溶剤としては、標準沸点が155.7℃と比較的高温であり、かつ適度な溶解力を有することから、透明基材フィルムに対する溶解力および浸透力を両立させることのできるシクロへキサノンやシクロペンタノンなどが好適である。   The ketone solvent has a high dissolving power with respect to the transparent substrate film, and is suitable for surface treatment of the transparent substrate film before forming a conductive layer on the transparent substrate film. The ketone solvent has a normal boiling point of 155.7 ° C. and a relatively high temperature, and has an appropriate dissolving power. Therefore, cyclohexanone, which can achieve both a dissolving power and a penetrating power for a transparent base film, Cyclopentanone and the like are preferable.

前記導電性フィルムの製造方法において、導電層は、透明基材フィルムの溶剤処理表面に、硬化型樹脂、導電性無機フィラーおよび溶剤を含有する塗工液を塗工し、乾燥硬化させて形成することが好ましい。硬化型樹脂としては、無機系熱硬化型樹脂が好適である。   In the method for producing a conductive film, the conductive layer is formed by applying a coating liquid containing a curable resin, a conductive inorganic filler, and a solvent to the solvent-treated surface of the transparent base film, followed by drying and curing. It is preferable. As the curable resin, an inorganic thermosetting resin is suitable.

導電層のバインダーである硬化型樹脂として無機系熱硬化型樹脂を用いる場合には表面硬度の高い導電層を形成できる。また、無機系熱硬化型樹脂は、透明基材フィルムの溶剤処理面と導電層の密着性を向上させる点でも好ましい。また、無機系熱硬化型樹脂によれば、一般的な導電層の厚み0.5μm以下においても硬化不良を起すことなく、導電層を形成できる。   When an inorganic thermosetting resin is used as the curable resin that is a binder for the conductive layer, a conductive layer having a high surface hardness can be formed. The inorganic thermosetting resin is also preferable in terms of improving the adhesion between the solvent-treated surface of the transparent base film and the conductive layer. Moreover, according to the inorganic thermosetting resin, the conductive layer can be formed without causing poor curing even when the thickness of the general conductive layer is 0.5 μm or less.

前記導電性フィルムの製造方法において、透明基材フィルムは、トリアセチルセルロースフィルムが好適である。   In the method for producing the conductive film, the transparent substrate film is preferably a triacetyl cellulose film.

透明基材フィルムとしては、トリアセチルセルロース系、ポリカーボネート系、アクリル系樹脂等の各種の透明基材フィルムに適用できるが、溶剤、特にケトン系溶剤への溶解性が好適であり、導電層の密着強度を高くすることができることから、トリアセチルセルロースフィルムが好適である。   As the transparent substrate film, it can be applied to various transparent substrate films such as triacetylcellulose-based, polycarbonate-based, and acrylic-based resins. However, the solubility in a solvent, particularly a ketone-based solvent, is preferable, and the conductive layer adheres. A triacetyl cellulose film is preferred because the strength can be increased.

また本発明は前記製造方法により得られた導電性フィルム、に関する。当該導電性フィルムは、導電層上にハードコート層を形成したハードコートフィルムとして用いることができる。また当該導電性フィルムは、ハードコート層表面を、凹凸形状にすることにより防眩性を付与することができる。   Moreover, this invention relates to the electroconductive film obtained by the said manufacturing method. The conductive film can be used as a hard coat film in which a hard coat layer is formed on a conductive layer. Moreover, the said electroconductive film can provide anti-glare property by making the hard-coat layer surface uneven | corrugated shape.

また前記導電性フィルムは、導電層上(ハードコート層上)に反射防止層を形成した反射防止フィルムとして用いることができる。   The conductive film can be used as an antireflection film in which an antireflection layer is formed on a conductive layer (on a hard coat layer).

本発明の前記導電性フィルムから導かれる反射防止フィルム等は、導電層と透明基材フィルムとの密着性が良好なため、車載用として充分な信頼性を有する。特に反射防止フィルムは、ディスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを防止することにより、優れた反射特性を発揮する。   The antireflection film or the like led from the conductive film of the present invention has sufficient reliability for in-vehicle use because of good adhesion between the conductive layer and the transparent substrate film. In particular, the antireflection film exhibits excellent reflection characteristics by preventing reflection of external light such as sunlight and fluorescent lamps on the display.

また本発明は、光学素子の片面又は両面に、前記導電性フィルムが設けられていることを特徴とする光学素子、に関する。さらに本発明は、前記導電性フィルムまたは光学素子を搭載した画像表示装置、に関する。   The present invention also relates to an optical element characterized in that the conductive film is provided on one side or both sides of the optical element. Furthermore, this invention relates to the image display apparatus carrying the said electroconductive film or optical element.

本発明では、透明基材フィルムに、当該透明基材フィルムを溶解しうる溶剤を塗布し、乾燥させた後、透明基材フィルムの溶剤処理面に導電層を形成する。以下に本発明の好ましい実施形態を説明する。   In this invention, after apply | coating the solvent which can melt | dissolve the said transparent base film to a transparent base film and making it dry, a conductive layer is formed in the solvent processing surface of a transparent base film. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

透明基材フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。またポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあげられる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなどもあげられる。   As the transparent substrate film, a film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropy and the like is preferable. Examples thereof include films made of a transparent polymer such as a polyester polymer such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, a cellulose polymer such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, a polycarbonate polymer, and an acrylic polymer such as polymethyl methacrylate. Styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin polymers such as ethylene / propylene copolymers, vinyl chloride polymers, nylon and aromatic polyamides, etc. Examples thereof include films made of transparent polymers such as amide polymers. Furthermore, imide polymers, sulfone polymers, polyether sulfone polymers, polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers Examples thereof include a film made of a transparent polymer such as a polymer, an epoxy-based polymer, and a blend of the aforementioned polymers.

また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルム、たとえば、(A)側鎖に置換および/または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、(B)側鎖に置換および/または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。これらのフィルムは位相差が小さく、光弾性係数が小さいため偏光板等の保護フィルムに適用した場合には歪みによるムラなどの不具合を解消することができ、また透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。   Moreover, the polymer film described in JP-A-2001-343529 (WO01 / 37007), for example, (A) a thermoplastic resin having a substituted and / or unsubstituted imide group in the side chain, and (B) a substitution in the side chain And / or a resin composition containing a thermoplastic resin having unsubstituted phenyl and a nitrile group. A specific example is a film of a resin composition containing an alternating copolymer composed of isobutylene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile / styrene copolymer. As the film, a film made of a mixed extruded product of the resin composition or the like can be used. Since these films have a small phase difference and a small photoelastic coefficient, when applied to a protective film such as a polarizing plate, it is possible to eliminate defects such as unevenness due to distortion. Excellent.

前記透明基材フィルムとしては、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、アクリル系ポリマー等が好ましい。これらのなかでもセルロース系ポリマー、特にトリアセチルセルロースが好ましい。なお、透明基材フィルム表面には、ケン化処理、コロナ放電処理、スパッタ処理、低圧UV照射、プラズマ処理などの表面処理を施すことができるが、未ケン化の透明基材フィルム、特に未ケン化のトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。   As the transparent substrate film, a cellulose polymer, a polycarbonate polymer, an acrylic polymer and the like are preferable. Among these, a cellulose-based polymer, particularly triacetyl cellulose is preferable. The surface of the transparent substrate film can be subjected to surface treatment such as saponification treatment, corona discharge treatment, sputtering treatment, low-pressure UV irradiation, plasma treatment, etc. A triacetyl cellulose film is preferred.

透明基材フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より10〜300μm程度である。特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。   The thickness of the transparent substrate film can be appropriately determined, but is generally about 10 to 300 μm from the viewpoints of workability such as strength and handleability, and thin layer properties. 20-300 micrometers is especially preferable, and 30-200 micrometers is more preferable.

透明基材フィルムに塗布して、表面処理する溶剤は、透明基材フィルムの材料を溶解しうる溶剤であれば特に制限されず、透明基材フィルムに応じて適宜に選択できる。また、透明基材フィルムを溶解しうる溶剤は、種類の異なる複数の溶剤を調合して使用してもよいし、それぞれの溶剤により独立して透明基材フィルムの表面処理を行ってもよい。またこれらの手法を組み合わせてもよい。   The solvent applied to the transparent base film and subjected to the surface treatment is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving the material of the transparent base film, and can be appropriately selected according to the transparent base film. Moreover, the solvent which can melt | dissolve a transparent base film may mix and use several types of different solvents, and may perform the surface treatment of a transparent base film independently with each solvent. Moreover, you may combine these methods.

前記の通り、表面処理する溶剤は、ケトン系溶剤が好適である。ケトン系溶剤としては、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等があげられる。これらのなかでもシクロヘキサノン、シクロペンタノンが好ましい。ケトン系溶剤以外の溶剤としては、たとえば、キシレン等の芳香族系溶剤、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等があげられる。   As described above, the solvent for surface treatment is preferably a ketone solvent. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and cyclopentanone. Of these, cyclohexanone and cyclopentanone are preferable. Examples of the solvent other than the ketone solvent include aromatic solvents such as xylene, cellosolve solvents such as ethyl cellosolve, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, and the like.

透明基材フィルム上への前記溶剤の塗布方法としては、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、ダイコーター法等の適宜な方式にて形成することができる。なお、溶剤の塗布量は特に制限されず、透明基材フィルムおよび塗工液の種類、ならびに所望の溶解および/または膨潤量により適宜選択することができる。なお、溶剤塗布から乾燥までの時間が長すぎると白化のおそれがあるため、塗布後乾燥までの時間は300秒間以下程度、好ましくは60秒間以下とするのが好ましい。   As a method for applying the solvent onto the transparent substrate film, it can be formed by an appropriate method such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, a dipping method, or a die coater method. In addition, the application amount of the solvent is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the types of the transparent base film and the coating liquid and the desired dissolution and / or swelling amount. If the time from solvent application to drying is too long, whitening may occur, so the time from application to drying is about 300 seconds or less, preferably 60 seconds or less.

また透明基材フィルム上へ前記溶剤を塗布し、表面処理した後には、溶剤を乾燥する。乾燥は、必要に応じて、表面処理後にエアーナイフや加熱オープン等による乾燥工程を施すことにより、透明基材フィルム表面の溶解および/または膨潤量を制御することができる。溶解および/または膨潤量は、透明基材フィルムの全部を溶解せず、透明基材フィルムの透明性を損なわない適度な粗さを付与することができる程度とするのが好ましい。   Moreover, after apply | coating the said solvent on a transparent base film and surface-treating, a solvent is dried. The drying can control the amount of dissolution and / or swelling of the transparent substrate film surface by applying a drying process such as an air knife or heating open after the surface treatment, if necessary. The amount of dissolution and / or swelling is preferably such that it does not dissolve the entire transparent substrate film and can impart an appropriate roughness that does not impair the transparency of the transparent substrate film.

次いで、前記透明基材フィルムの溶剤処理面に、硬化型樹脂および導電性無機フィラーにより導電層を形成する。導電層は、通常、無機系熱硬化型樹脂、導電性無機フィラーおよび溶剤からなる塗工液を、塗工し、乾燥硬化させて形成することが好ましい。   Next, a conductive layer is formed with a curable resin and a conductive inorganic filler on the solvent-treated surface of the transparent substrate film. In general, the conductive layer is preferably formed by applying a coating liquid composed of an inorganic thermosetting resin, a conductive inorganic filler, and a solvent, followed by drying and curing.

導電層のバインダーである硬化型樹脂としては、各種の硬化型樹脂を使用することができるが、導電層の厚みが0.5μm以下の場合に紫外線硬化型の樹脂では酸素阻害を起すため、熱硬化型樹脂が好ましい。特に無機系熱硬化型樹脂が好ましい。   Various types of curable resins can be used as the curable resin that is a binder for the conductive layer. However, when the thickness of the conductive layer is 0.5 μm or less, the ultraviolet curable resin causes oxygen inhibition. A curable resin is preferred. In particular, an inorganic thermosetting resin is preferable.

無機系熱硬化型樹脂としては、アルコキシシランおよび/またはその縮合物があげられる。アルコキシシランは熱硬化してポリシロキサン構造を形成する。アルコキシシランの具体的としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等があげられる。これらアルコキシシランはその部分縮合物等として用いることができる。これらのなかでもテトラアルコキシシラン類またはこれらの部分縮合物等が好ましい。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランまたはこれらの部分縮合物が好ましい。   Examples of the inorganic thermosetting resin include alkoxysilane and / or a condensate thereof. The alkoxysilane is thermally cured to form a polysiloxane structure. Specific examples of the alkoxysilane include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, Methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3 -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopro Trialkoxysilanes such as rutriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane , Diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane and the like. These alkoxysilanes can be used as a partial condensate thereof. Among these, tetraalkoxysilanes or partial condensates thereof are preferable. In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane or a partial condensate thereof is preferable.

導電性無機フィラーとしては、たとえば導電性の金属および/または金属酸化物の超微粒子があげられる。導電性の金属および/または金属酸化物としては、たとえば、酸化アンチモン、酸化セレン、酸化チタン、酸化タングステン、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ、酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、スズドープ酸化インジウムなどの屈折率の高い金属酸化物超微粒子があげられる。金属酸化物超微粒子としては、導電性の高いアンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ、アンチモン酸亜鉛、スズドープ酸化インジウムなどのスズ、アンチモン、インジウムの中から選ばれる金属の酸化物を主成分とする、ゾル粒子が好ましい。なかでも塗工液の安定性とゾルの再現性の良好なアンチモンドープ酸化スズが好ましい。超微粒子は、平均粒子径が好ましくは100nm以下、より好ましくは80nm以下、さらに好ましくは60nm以下である。平均粒子径が100nmを超えると、一般にはヘイズが大きくなり、透明性が劣る傾向がある。分散性の高いゾルを得るために、通常は水、アルコール、エステル、炭化水素などの分散媒に分散させたものを用いる。   Examples of the conductive inorganic filler include ultrafine particles of conductive metal and / or metal oxide. Examples of the conductive metal and / or metal oxide include antimony oxide, selenium oxide, titanium oxide, tungsten oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, zinc oxide, zinc antimonate, and tin-doped indium oxide. And metal oxide ultrafine particles having a high refractive index. As the metal oxide ultrafine particles, the main component is a metal oxide selected from tin, antimony, and indium, such as highly conductive antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, zinc antimonate, and tin-doped indium oxide. Sol particles are preferred. Of these, antimony-doped tin oxide is preferable because it has good coating solution stability and sol reproducibility. The ultrafine particles preferably have an average particle size of 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and still more preferably 60 nm or less. When the average particle diameter exceeds 100 nm, generally haze increases and transparency tends to be inferior. In order to obtain a highly dispersible sol, a dispersion in a dispersion medium such as water, alcohol, ester or hydrocarbon is usually used.

前記硬化性樹脂と導電性無機フィラーの割合は特に制限されないが、形成させる導電層において、導電性無機フィラーが40〜98重量%程度含有されるように調整するのが好ましい。導電層中に、前記範囲内で導電性無機フィラーを含有させることにより、帯電防止性がよい導電層を付与することができる。また密着性のうえでも好ましい。導電層中の導電性無機フィラーの割合は、50〜95重量%であるのがより好ましい。   The ratio of the curable resin and the conductive inorganic filler is not particularly limited, but it is preferable to adjust the conductive layer to be formed so that the conductive inorganic filler is contained in an amount of about 40 to 98% by weight. By containing a conductive inorganic filler within the above range in the conductive layer, a conductive layer having good antistatic properties can be provided. Moreover, it is preferable also on adhesiveness. The proportion of the conductive inorganic filler in the conductive layer is more preferably 50 to 95% by weight.

導電層の形成に用いる塗工液の溶剤は特に制限されない。たとえば、ケトン系溶剤、芳香族系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、アミド系溶剤、スルホキシド系溶剤、エーテル系溶剤、セロソルブ系溶剤等の各種溶剤の1種または2種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。   The solvent of the coating liquid used for forming the conductive layer is not particularly limited. For example, one or more of various solvents such as ketone solvents, aromatic solvents, ester solvents, alcohol solvents, ketone solvents, amide solvents, sulfoxide solvents, ether solvents, cellosolve solvents, etc. They can be used in appropriate combinations.

前記溶剤のなかでもケトン系溶剤を含有することが、密着性の良好な導電層を形成する点で好ましい。   Among the solvents, it is preferable to contain a ketone solvent from the viewpoint of forming a conductive layer with good adhesion.

また前記溶剤は、ケトン系溶剤とアルコール系溶剤を含む混合溶剤であることが好ましい。ケトン系溶剤以外の溶剤は特に制限されないが、ケトン系溶剤よりも沸点が低い溶剤が好ましい。特にケトン系溶剤はアルコール系溶剤との混合溶剤として用いた場合には、ケトン系溶剤が透明基材フィルム(特にセルロース系フィルム)を溶解して透明基材フィルムと導電層との密着性を向上させることができ、アルコール系溶剤は導電層のバインダー(硬化型樹脂)を溶解させる能力が高く好ましい。アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、i−ブタノール、t−ブタノール等があげられる。   The solvent is preferably a mixed solvent containing a ketone solvent and an alcohol solvent. A solvent other than the ketone solvent is not particularly limited, but a solvent having a boiling point lower than that of the ketone solvent is preferable. In particular, when a ketone solvent is used as a mixed solvent with an alcohol solvent, the ketone solvent dissolves the transparent substrate film (especially the cellulose film) and improves the adhesion between the transparent substrate film and the conductive layer. The alcohol solvent is preferable because it has a high ability to dissolve the binder (curable resin) of the conductive layer. Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, i-butanol, t-butanol and the like.

なお、塗工液には、硬化型樹脂、導電性無機フィラーおよび溶剤の他に、硬化触媒を用いることができる。硬化型樹脂がアルコキシシランの場合には、硬化触媒としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸触媒、ジブチル錫ラウレートやオクチル酸錫など錫系の触媒、ホウ酸、リン酸等の無機酸触媒やアルカリ系の触媒があげられる。また、塗工液には、導電層に用いられる各種の添加剤を配合することができる。   In addition to the curable resin, the conductive inorganic filler, and the solvent, a curing catalyst can be used for the coating liquid. When the curable resin is an alkoxysilane, the curing catalyst includes organic acid catalysts such as formic acid, acetic acid, propionic acid, paratoluenesulfonic acid and methanesulfonic acid, tin-based catalysts such as dibutyltin laurate and tin octylate, Examples thereof include inorganic acid catalysts such as boric acid and phosphoric acid, and alkaline catalysts. Moreover, the various additives used for a conductive layer can be mix | blended with a coating liquid.

塗工液の固形分濃度は1〜10重量%程度、さらには1〜3重量%に調製するのが好ましい。塗工液中の硬化方樹脂と導電性無機フィラーの割合は、塗工液により形成される導電層中において、導電性無機フィラーの割合が前述の40〜95重量%程度になるように調整するのが好ましい。   The solid content concentration of the coating liquid is preferably adjusted to about 1 to 10% by weight, more preferably 1 to 3% by weight. The ratio of the curing method resin and the conductive inorganic filler in the coating liquid is adjusted so that the ratio of the conductive inorganic filler is about 40 to 95% by weight in the conductive layer formed by the coating liquid. Is preferred.

前記塗工液は透明基材フィルムの溶剤処理面に塗布された後、溶剤を乾燥し、硬化して導電層を形成する。乾燥よび硬化は、通常、温度100〜160℃程度で、1〜120分間程度行えばよい。無機系硬化型樹脂として用いるアルコキシシランおよび/またはその縮合物が紫外線硬化性を有する場合には、加熱硬化後に、紫外線硬化することができる。塗工液の塗工法は特に制限されず、ディッピング法、グラビアコーター法、スピンコート法、スロットダイコート法等の各種方式を採用できる。導電層の厚さは、通常、0.01〜0.5μm、好ましくは0.05〜0.2μmである。   The coating liquid is applied to the solvent-treated surface of the transparent substrate film, and then the solvent is dried and cured to form a conductive layer. Drying and curing are usually performed at a temperature of about 100 to 160 ° C. for about 1 to 120 minutes. When the alkoxysilane and / or condensate thereof used as the inorganic curable resin has ultraviolet curable properties, it can be cured with ultraviolet rays after heat curing. The coating method of the coating liquid is not particularly limited, and various methods such as a dipping method, a gravure coater method, a spin coating method, and a slot die coating method can be adopted. The thickness of the conductive layer is usually 0.01 to 0.5 μm, preferably 0.05 to 0.2 μm.

上記導電層には、ハードコート層を形成することができる。ハードコート層を形成する樹脂としてはハードコート性に優れ(JIS K5400の鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すもの)、十分な強度を持ち、光線透過率の優れたものであれば特に制限はない。たとえば、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられる。これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を2個以上、特に3〜6個有するアクリル系のモノマーやオリゴマーを成分を含むものがあげられる。また紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。   A hard coat layer can be formed on the conductive layer. The resin for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it has excellent hard coat properties (showing a hardness of H or higher in the pencil hardness test of JIS K5400), has sufficient strength, and has excellent light transmittance. Absent. Examples thereof include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, two-component mixed resins, and the like. Among these, an ultraviolet curable resin capable of efficiently forming a hard coat layer by a simple processing operation by a curing treatment by ultraviolet irradiation is preferable. Examples of the ultraviolet curable resin include polyester-based, acrylic-based, urethane-based, amide-based, silicone-based, and epoxy-based resins, and include ultraviolet curable monomers, oligomers, polymers, and the like. The UV curable resin preferably used includes, for example, those having an ultraviolet polymerizable functional group, and in particular, those containing an acrylic monomer or oligomer having 2 or more, particularly 3 to 6 functional groups. . Further, an ultraviolet polymerization initiator is blended in the ultraviolet curable resin.

前記透明樹脂溶液の塗工は、ワイヤーバーなどのバーコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーター、キャスティング、スピンコート、ファンテンメタリング等の適宜な方式で塗工される。なお、前記透明樹脂を溶解する溶剤としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等の一般的な溶剤があげられる。ハードコート層の厚さは特に制限されないが、1〜10μm程度、特に2〜5μmとするのが好ましい。   The transparent resin solution is applied by an appropriate method such as a bar coater such as a wire bar, a micro gravure coater, a die coater, casting, spin coating or phantom metalling. Examples of the solvent for dissolving the transparent resin include general solvents such as toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol, and ethyl alcohol. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably about 1 to 10 μm, particularly 2 to 5 μm.

ハードコート層には、高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加して、高屈折率に調整することができる。高屈折率の超微粒子としては、TiO2、SnO2、ZnO2、ZrO2、酸化アルミニウム、酸化亜鉛などの金属酸化物の超微粒子があげられる。かかる超微粒子の平均粒子径は通常0.1μm以下程度であるのが好ましい。高屈折率の超微粒子は、ハードコート層中に、殆ど均一に分散させることができる。 The hard coat layer can be adjusted to a high refractive index by adding ultrafine particles of a high refractive index metal or metal oxide. Examples of the ultrafine particles having a high refractive index include ultrafine particles of metal oxides such as TiO 2 , SnO 2 , ZnO 2 , ZrO 2 , aluminum oxide, and zinc oxide. The average particle diameter of such ultrafine particles is usually preferably about 0.1 μm or less. High refractive index ultrafine particles can be dispersed almost uniformly in the hard coat layer.

ハードコート層の表面は微細凹凸構造にして防眩性を付与することができる。ハードコート層の表面を凹凸形状とすることにより光拡散による防眩性を付与することができる。光拡散性の付与は反射率を低減するうえでも好ましい。   The surface of the hard coat layer can have a fine concavo-convex structure to impart antiglare properties. By making the surface of the hard coat layer uneven, antiglare properties due to light diffusion can be imparted. The provision of light diffusibility is also preferable for reducing the reflectance.

表面に微細凹凸構造を形成する方法は特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。たとえば、前記ハードコート層の形成に用いた透明基材フィルムの表面を、予め、サンドブラストやエンボスロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理してフィルム表面に微細凹凸構造を付与する方法等により、ハードコート層を形成する材料そのものの表面を微細凹凸構造に形成する方法があげられる。また、ハードコート層上に別途ハードコート層を塗工付加し、当該樹脂皮膜層表面に、金型による転写方式等により微細凹凸構造を付与する方法があげられる。また、ハードコート層に、無機または有機の球形もしくは不定形のフィラーを分散含有させて微細凹凸構造を付与する方法などがあげられる。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上の方法を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を複合させた層として形成してもよい。   The method for forming the fine concavo-convex structure on the surface is not particularly limited, and an appropriate method can be adopted. For example, the surface of the transparent substrate film used for forming the hard coat layer is preliminarily roughened by an appropriate method such as sand blasting, embossing roll, chemical etching, etc., and a method for providing a fine uneven structure on the film surface The method of forming the surface of the material itself for forming the hard coat layer into a fine concavo-convex structure can be given. Further, there is a method in which a hard coat layer is separately applied on the hard coat layer and a fine concavo-convex structure is imparted to the surface of the resin film layer by a transfer method using a mold or the like. Further, a method of imparting a fine concavo-convex structure by dispersing an inorganic or organic spherical or amorphous filler in the hard coat layer can be used. These fine concavo-convex structure forming methods may be formed as a layer in which two or more methods are combined to combine the fine concavo-convex structure surfaces in different states.

微細凹凸構造表面のハードコート層の形成方法としては、形成性等の観点より、無機または有機の球形もしくは不定形のフィラーを分散含有するハードコート層を設ける方法が好ましい。無機または有機の球形もしくは不定形のフィラーとしては、例えば、PMMA(ポリメチルメタクリレート)、ポリウレタン、ポリスチレン、メラミン樹脂等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子、ガラス、シリカ、アルミナ、酸化カルシウム、チタニア、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の無機系粒子や、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモンまたはこれらの複合物等の導電性無機系粒子などがあげられる。前記フィラーの平均粒子径(一次粒子、二次粒子のいずれも)は0.5〜10μm、さらには1〜5μmのものが好ましい。微粒子により微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は樹脂100重量部に対して、1〜30重量部程度とするのが好ましい。   As a method of forming the hard coat layer on the surface of the fine concavo-convex structure, a method of providing a hard coat layer containing an inorganic or organic spherical or amorphous filler in a dispersed manner is preferable from the viewpoint of formability. Examples of inorganic or organic spherical or amorphous fillers include crosslinked or uncrosslinked organic fine particles composed of various polymers such as PMMA (polymethyl methacrylate), polyurethane, polystyrene, melamine resin, glass, silica, alumina, and oxidation. Examples thereof include inorganic particles such as calcium, titania, zirconium oxide, and zinc oxide, and conductive inorganic particles such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, antimony oxide, and a composite thereof. The average particle diameter of the filler (both primary particles and secondary particles) is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. When the fine concavo-convex structure is formed with fine particles, the amount of fine particles used is preferably about 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin.

なお、ハードコート層(防眩層)の形成には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させることができる。ハードコート層(防眩層)の形成に当たり、チクソトロピー剤(0.1μm以下のシリカ、マイカ等)を含有させることにより、防眩層表面において、突出粒子により微細凹凸構造を容易に形成することができる。   In addition, in formation of a hard-coat layer (anti-glare layer), additives, such as a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent, can be contained. In forming a hard coat layer (antiglare layer), a thixotropic agent (silica, mica, etc. of 0.1 μm or less) can be included to easily form a fine relief structure with protruding particles on the surface of the antiglare layer. it can.

導電層またはハードコート層には反射防止層を形成することができる。反射防止層の形成法は、特に制限されないが、低屈折率材料を用いた湿式塗工法が、真空蒸着法等に比べて簡易な方法であり好ましい。反射防止層を形成する材料としては、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂系材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド系材料、テトラエトキシシラン、チタンテトラエトキシド等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル系材料等があげられる。また、それぞれの材料は、表面の防汚染性付与するためフッ素基含有化合物が用いられる。耐擦傷性の面からは、無機成分含有量が多い低屈折率層材料が優れる傾向にあり、特にゾル−ゲル系材料が好ましい。ゾル−ゲル系材料は部分縮合して用いることができる。   An antireflection layer can be formed on the conductive layer or the hard coat layer. The method for forming the antireflection layer is not particularly limited, but a wet coating method using a low refractive index material is preferable because it is a simpler method than a vacuum deposition method or the like. Examples of the material for forming the antireflection layer include resin materials such as ultraviolet curable acrylic resins, hybrid materials in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, tetraethoxysilane, titanium tetraethoxide, and the like. Examples include sol-gel materials using metal alkoxides. Each material uses a fluorine group-containing compound for imparting antifouling properties to the surface. From the viewpoint of scratch resistance, a low refractive index layer material having a high inorganic component content tends to be excellent, and a sol-gel material is particularly preferable. Sol-gel materials can be used after partial condensation.

たとえば、反射防止層形成材は、一般式(1):Si(OR)4(式中Rは、メチル基またはエチル基を示す)で表されるテトラアルコキシシランを主成分する加水分解性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合させたシロキサンオリゴマー(A)があげられる。 For example, the antireflection layer forming material is a hydrolyzable alkoxysilane having a tetraalkoxysilane as a main component represented by the general formula (1): Si (OR) 4 (wherein R represents a methyl group or an ethyl group). And siloxane oligomer (A) obtained by partially hydrolyzing and then polycondensing the polymer.

シロキサンオリゴマー(A)のエチレングリコール換算による数平均分子量は500〜10000であることが好ましい。シロキサンオリゴマー(A)の数平均分子量は500未満の場合には、溶液の塗工及び保存安定性が低下する傾向にあり、一方、数平均分子量が10000を超える場合には、硬化膜の耐擦傷性を十分に確保できない傾向にある。シロキサンオリゴマー(A)の数平均分子量は800〜9000であることがより好ましい。前記数平均分子量にすることによりハードコート層との密着性を向上させることができ、界面での剥離が生じにくくなる。   The number average molecular weight of the siloxane oligomer (A) in terms of ethylene glycol is preferably 500 to 10,000. When the number average molecular weight of the siloxane oligomer (A) is less than 500, the coating and storage stability of the solution tends to decrease. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 10,000, the cured film has scratch resistance. There is a tendency that sufficient sex cannot be secured. The number average molecular weight of the siloxane oligomer (A) is more preferably 800 to 9000. By setting the number average molecular weight, adhesion to the hard coat layer can be improved, and peeling at the interface is less likely to occur.

シロキサンオリゴマー(A)は、加水分解性アルコキシシランを大量のアルコール溶媒(たとえば、メタノール、エタノール等)に入れ、水と酸触媒(塩酸、硝酸など)の存在下、室温で数時間反応させ、部分的に加水分解後縮重合させることによって得られる。シロキサンオリゴマー(A)の重合度は加水分解性アルコキシシランと水の添加量によって制御できる。   The siloxane oligomer (A) is obtained by placing hydrolyzable alkoxysilane in a large amount of alcohol solvent (for example, methanol, ethanol, etc.) and reacting it for several hours at room temperature in the presence of water and an acid catalyst (hydrochloric acid, nitric acid, etc.). Thus, it is obtained by condensation polymerization after hydrolysis. The degree of polymerization of the siloxane oligomer (A) can be controlled by adding the hydrolyzable alkoxysilane and water.

加水分解性アルコキシシランは、一般式(1):Si(OR)4(式中Rは、メチル基またはエチル基を示す)で表されるテトラアルコキシシランを主成分とする。かかるテトラアルコキシシランは、テトラメトキシシランおよび/またはテトラエトキシシランであり、加水分解性アルコキシシランの、通常、80モル%以上とするのが好ましい。 The hydrolyzable alkoxysilane is mainly composed of a tetraalkoxysilane represented by the general formula (1): Si (OR) 4 (wherein R represents a methyl group or an ethyl group). Such tetraalkoxysilane is tetramethoxysilane and / or tetraethoxysilane, and is usually preferably 80 mol% or more of the hydrolyzable alkoxysilane.

前記テトラアルコキシシラン以外に用いられる、加水分解性アルコキシシランとしては、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等があげられる。   Examples of hydrolyzable alkoxysilanes used in addition to the tetraalkoxysilane include tetraalkoxysilanes such as tetrapropoxysilane and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, Propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, Dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecylto Methoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Examples include trimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane.

前記反射防止層形成材には、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤(B)を用いることができる。シランカップリング剤(B)はシロキサンオリゴマー(A)に配合して用いるのが好ましい。   As the antireflection layer forming material, a silane coupling agent (B) having a fluoroalkyl group can be used. The silane coupling agent (B) is preferably used by blending with the siloxane oligomer (A).

シランカップリング剤(B)としては、たとえば、一般式(2):CF3(CF2nCH2CH2−(NH)m−Si(OR23(式中、R2は、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、mは0または1、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記nが2〜6の化合物が好ましい。 As the silane coupling agent (B), for example, general formula (2): CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 — (NH) m —Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 is carbon A compound represented by formula 1-5, m is 0 or 1, and n is an integer of 0-12). Specifically, for example, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltri Examples thereof include ethoxysilane. Among these, the compound wherein n is 2 to 6 is preferable.

また、耐擦傷性を向上させるためにシランカップリング剤(B)の他に、ポリスチレン換算による数平均分子量が5000以上であって、フルオロアルキル構造及びポリシロキサン構造を有するフッ素化合物(C)があげられる。   In addition to the silane coupling agent (B), a fluorine compound (C) having a number average molecular weight in terms of polystyrene of 5000 or more and having a fluoroalkyl structure and a polysiloxane structure is included in order to improve the scratch resistance. It is done.

フッ素化合物(C)は、たとえば、ゾル−ゲル反応によって縮合可能なアルコキシシリル基を有するパーフルオロアルキルアルコキシシランと、一般式(1):Si(OR14(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基を示す)で表されるテトラアルコキシシランを主成分とする加水分解性アルコキシシランを、アルコール溶媒(たとえば、メタノール、エタノール等)中で有機酸(たとえばシュウ酸等)やエステル類の存在下で加熱し縮重合させることにより得られる。得られた化合物(C)中には、ポリシロキサン構造が導入されている。 The fluorine compound (C) includes, for example, a perfluoroalkylalkoxysilane having an alkoxysilyl group that can be condensed by a sol-gel reaction, and a general formula (1): Si (OR 1 ) 4 (wherein R 1 is the number of carbon atoms) A hydrolyzable alkoxysilane composed mainly of a tetraalkoxysilane represented by 1 to 5) in an alcohol solvent (for example, methanol, ethanol, etc.) or an organic acid (for example, oxalic acid) or an ester It is obtained by heating and polycondensation in the presence of a kind. In the obtained compound (C), a polysiloxane structure is introduced.

なお、これらの反応成分の比率は特に制限されないが、通常、パーフルオロアルキルアルコキシシラン1モルに対して、加水分解性アルコキシシラン1〜100モル程度、さらには2〜10モルとするのが好適である。   In addition, the ratio of these reaction components is not particularly limited, but usually it is preferably about 1 to 100 mol, more preferably 2 to 10 mol of hydrolyzable alkoxysilane with respect to 1 mol of perfluoroalkylalkoxysilane. is there.

パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式(2):CF3(CF2nCH2CH2Si(OR23(式中、R2は、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記nが2〜6の化合物が好ましい。 As perfluoroalkyl alkoxysilane, for example, general formula (2): CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OR 2 ) 3 (wherein R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) And n represents an integer of 0 to 12). Specifically, for example, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltri Examples thereof include ethoxysilane. Among these, the compound wherein n is 2 to 6 is preferable.

一般式(1):Si(OR14(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基を示す)で表されるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどがあげられる。これらのなかでもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが好ましい。 Tetraalkoxysilanes represented by the general formula (1): Si (OR 1 ) 4 (wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetrapropoxy. Examples thereof include silane and tetrabutoxysilane. Of these, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and the like are preferable.

シランカップリング剤(B)及びフッ素化合物(C)は、水酸基および/またはエポキシ基を有することが好ましい。該水酸基および/またはエポキシ基は、シロキサンオリゴマー(A)、シランカップリング剤(B)、又はフッ素化合物(C)のポリシロキサン構造と反応して、硬化膜の皮膜強度が強くなり、耐擦傷性をさらに向上させることができる。水酸基および/またはエポキシ基は、フルオロアルキル構造に導入されていいてもよく、ポリシロキサン構造に導入されていてもよい。水酸基および/またはエポキシ基はこれら官能基を有する化合物を共重合することにより導入できる。   The silane coupling agent (B) and the fluorine compound (C) preferably have a hydroxyl group and / or an epoxy group. The hydroxyl group and / or epoxy group reacts with the polysiloxane structure of the siloxane oligomer (A), the silane coupling agent (B), or the fluorine compound (C) to increase the film strength of the cured film, resulting in scratch resistance. Can be further improved. The hydroxyl group and / or epoxy group may be introduced into the fluoroalkyl structure or may be introduced into the polysiloxane structure. A hydroxyl group and / or an epoxy group can be introduced by copolymerizing a compound having these functional groups.

また反射防止層にはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セリア等をアルコール溶剤に分散したゾルなどを添加しても良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適宜に配合することができる。   Further, a sol in which silica, alumina, titania, zirconia, magnesium fluoride, ceria or the like is dispersed in an alcohol solvent may be added to the antireflection layer. In addition, additives such as metal salts and metal compounds can be appropriately blended.

反射防止層の屈折率は、1.35〜1.49、さらには1.37〜1.47であるのが好ましい。   The refractive index of the antireflection layer is preferably 1.35 to 1.49, more preferably 1.37 to 1.47.

反射防止層の形成法は、特に制限されず、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、ダイコータ法等の適宜な方式にて形成することができる。   The formation method of the antireflection layer is not particularly limited, and can be formed by an appropriate method such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, a dipping method, or a die coater method.

反射防止層の厚さは特に制限されず、通常、平均80〜150nm程度である。反射防止層の厚さは、利用する材料の屈折率および入射光の設定波長により、目標波長付近となるように決定される。   The thickness of the antireflection layer is not particularly limited, and is usually about 80 to 150 nm on average. The thickness of the antireflection layer is determined so as to be near the target wavelength depending on the refractive index of the material to be used and the set wavelength of the incident light.

前記導電性フィルムの導電層を形成していない側には、光学素子を接着することができる。光学素子としては、偏光子があげられる。偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、5〜80μm程度である。   An optical element can be bonded to the side of the conductive film where the conductive layer is not formed. Examples of the optical element include a polarizer. The polarizer is not particularly limited, and various types can be used. Examples of the polarizer include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol film, partially formalized polyvinyl alcohol film, and ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified film, and two colors such as iodine and dichroic dye. Examples thereof include polyene-based oriented films such as those obtained by adsorbing volatile substances and uniaxially stretched, polyvinyl alcohol dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products. Among these, a polarizer composed of a polyvinyl alcohol film and a dichroic material such as iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 μm.

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の3〜7倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。   A polarizer obtained by dyeing a polyvinyl alcohol film with iodine and uniaxially stretching it can be produced, for example, by dyeing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine and stretching it 3 to 7 times the original length. If necessary, it can be immersed in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide. Further, if necessary, the polyvinyl alcohol film may be immersed in water and washed before dyeing. In addition to washing the polyvinyl alcohol film surface with dirt and anti-blocking agents by washing the polyvinyl alcohol film with water, it also has the effect of preventing unevenness such as uneven coloring by swelling the polyvinyl alcohol film. is there. Stretching may be performed after dyeing with iodine, may be performed while dyeing, or may be dyed with iodine after stretching. The film can be stretched in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide or in a water bath.

前記偏光子は、通常、片側または両側に透明保護フィルムが設けられ偏光板として用いられる。透明保護フィルムは透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。透明保護フィルムとしては前記例示の透明基材フィルムと同様の材料のものが用いられる。前記透明保護フィルムは、表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを用いてもよい。透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮断性などに優れるものが好ましく用いられる。また透明保護フィルムは、位相差等の光学的異方性が少ないほど好ましい場合が多い。前記の透明保護フィルムを形成するポリマーとしてはトリアセチルセルロースが最適である。前記ハードコートフィルムを、偏光子 (偏光板)の片側または両側に設ける場合、ハードコートフィルムの透明基材フィルムは、偏光子の透明保護フィルムを兼ねることができる。透明保護フィルムの厚さは、特に制限されないが10〜300μm程度が一般的である。   The polarizer is usually used as a polarizing plate with a transparent protective film provided on one side or both sides. The transparent protective film is preferably excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropy and the like. As the transparent protective film, the same material as the transparent substrate film exemplified above is used. The transparent protective film may be a transparent protective film made of the same polymer material on the front and back, or may be a transparent protective film made of a different polymer material or the like. Those excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property and the like are preferably used. Further, the transparent protective film is often preferable as the optical anisotropy such as retardation is small. Triacetyl cellulose is optimal as the polymer for forming the transparent protective film. When the hard coat film is provided on one side or both sides of a polarizer (polarizing plate), the transparent base film of the hard coat film can also serve as a transparent protective film for the polarizer. The thickness of the transparent protective film is not particularly limited, but is generally about 10 to 300 μm.

ハードコートフィルムに偏光板を積層した反射防止偏光板は、ハードコートフィルムに透明保護フィルム、偏光子、透明保護フィルムを順次に積層したものでもよいし、ハードコートフィルムに偏光子、透明保護フィルムを順次に積層したものでもよい。   An anti-reflection polarizing plate in which a polarizing plate is laminated on a hard coat film may be a laminate of a hard protective film, a transparent protective film, a polarizer, and a transparent protective film, or a hard coat film with a polarizer and a transparent protective film. Those sequentially stacked may also be used.

その他、透明保護フィルムの偏光子を接着させない面は、ハードコート層やスティッキング防止や目的とした処理を施したものであってもよい。ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。なお、前記ハードコート層、スティッキング防止層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。   In addition, the surface of the transparent protective film on which the polarizer is not adhered may be a hard coat layer, a sticking prevention film or a treatment intended. The hard coat treatment is applied for the purpose of preventing scratches on the surface of the polarizing plate. For example, a transparent protective film with a cured film excellent in hardness, sliding properties, etc. by an appropriate ultraviolet curable resin such as acrylic or silicone is used. It can be formed by a method of adding to the surface of the film. Further, the anti-sticking treatment is performed for the purpose of preventing adhesion with an adjacent layer. The hard coat layer, the anti-sticking layer and the like can be provided on the transparent protective film itself, or can be provided separately from the transparent protective film as an optical layer.

また偏光板の層間へ、例えばハードコート層、プライマー層、接着剤層、粘着剤層、帯電防止層、導電層、ガスバリヤー層、水蒸気遮断層、水分遮断層等を挿入、または偏光板表面へ積層しても良い。また。偏光板の各層を作成する段階では、例えば、導電性粒子あるいは帯電防止剤、各種微粒子、可塑剤等を各層の形成材料に添加、混合等することにより改良を必要に応じておこなっても良い。   In addition, a hard coat layer, a primer layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an antistatic layer, a conductive layer, a gas barrier layer, a water vapor barrier layer, a moisture barrier layer, etc. are inserted between the layers of the polarizing plate, or to the surface of the polarizing plate. You may laminate. Also. In the stage of forming each layer of the polarizing plate, for example, conductive particles or antistatic agents, various fine particles, plasticizers, and the like may be added to the material for forming each layer, mixed, or the like, if necessary.

光学素子としては、実用に際して、前記偏光板に、他の光学素子(光学層)を積層した光学フィルムを用いることができる。その光学層については特に限定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板(1/2や1/4等の波長板を含む)、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層を1層または2層以上用いることができる。特に、偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。楕円偏光板、光学補償付き偏光板等では偏光板側にハードコートフィルム等が付与される。   As an optical element, in practical use, an optical film in which another optical element (optical layer) is laminated on the polarizing plate can be used. The optical layer is not particularly limited. For example, for forming a liquid crystal display device such as a reflection plate, a semi-transmission plate, a retardation plate (including wavelength plates such as 1/2 and 1/4), and a viewing angle compensation film. One or more optical layers that may be used can be used. In particular, a reflective polarizing plate or a semi-transmissive polarizing plate in which a polarizing plate is further laminated with a reflecting plate or a semi-transmissive reflecting plate, an elliptical polarizing plate or a circular polarizing plate in which a retardation plate is further laminated on a polarizing plate, a polarizing plate A wide viewing angle polarizing plate in which a viewing angle compensation film is further laminated on a plate, or a polarizing plate in which a brightness enhancement film is further laminated on a polarizing plate is preferable. In an elliptically polarizing plate, a polarizing plate with optical compensation, etc., a hard coat film or the like is provided on the polarizing plate side.

さらに必要に応じて、耐擦傷性、耐久性、耐候性、耐湿熱性、耐熱性、耐湿性、透湿性、帯電防止性、導電性、層間の密着性向上、機械的強度向上等の各種特性、機能等を付与するための処理、または機能層の挿入、積層等を行うこともできる。   If necessary, various properties such as scratch resistance, durability, weather resistance, heat and humidity resistance, heat resistance, moisture resistance, moisture permeability, antistatic properties, conductivity, interlayer adhesion, mechanical strength, Processing for imparting a function or the like, or insertion or lamination of a functional layer can also be performed.

反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側(表示側)からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ、前記透明保護フィルム等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。   A reflective polarizing plate is a polarizing plate provided with a reflective layer, and is used to form a liquid crystal display device or the like that reflects incident light from the viewing side (display side). Such a light source can be omitted, and the liquid crystal display device can be easily thinned. The reflective polarizing plate can be formed by an appropriate method such as a method in which a reflective layer made of metal or the like is provided on one surface of the polarizing plate via the transparent protective film or the like, if necessary.

反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。   Specific examples of the reflective polarizing plate include those in which a reflective layer is formed by attaching a foil or a vapor deposition film made of a reflective metal such as aluminum on one side of a transparent protective film matted as necessary.

反射板は前記偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。   The reflection plate can be used as a reflection sheet in which a reflection layer is provided on an appropriate film according to the transparent film instead of the method of directly applying to the transparent protective film of the polarizing plate. Since the reflective layer is usually made of metal, the usage form in which the reflective surface is covered with a transparent protective film, a polarizing plate or the like is used to prevent the reflectance from being lowered due to oxidation, and thus to maintain the initial reflectance for a long time. In addition, it is more preferable to avoid a separate attachment of the protective layer.

なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側(表示側)からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。   The semi-transmissive polarizing plate can be obtained by using a semi-transmissive reflective layer such as a half mirror that reflects and transmits light with the reflective layer. A transflective polarizing plate is usually provided on the back side of a liquid crystal cell, and displays an image by reflecting incident light from the viewing side (display side) when a liquid crystal display device is used in a relatively bright atmosphere. In a relatively dark atmosphere, a liquid crystal display device or the like that displays an image using a built-in light source such as a backlight built in the back side of the transflective polarizing plate can be formed. In other words, the transflective polarizing plate is useful for forming a liquid crystal display device of a type that can save energy of using a light source such as a backlight in a bright atmosphere and can be used with a built-in light source even in a relatively dark atmosphere. It is.

偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる1/4波長板(λ/4板とも言う)が用いられる。1/2波長板(λ/2板とも言う)は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。   An elliptically polarizing plate or a circularly polarizing plate in which a retardation plate is further laminated on a polarizing plate will be described. A phase difference plate or the like is used when changing linearly polarized light to elliptically polarized light or circularly polarized light, changing elliptically polarized light or circularly polarized light to linearly polarized light, or changing the polarization direction of linearly polarized light. In particular, a so-called quarter-wave plate (also referred to as a λ / 4 plate) is used as a retardation plate that changes linearly polarized light into circularly polarized light or changes circularly polarized light into linearly polarized light. A half-wave plate (also referred to as a λ / 2 plate) is usually used when changing the polarization direction of linearly polarized light.

楕円偏光板はスーパーツイストネマチック(STN)型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色(青又は黄)を補償(防止)して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償(防止)することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、2種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。   The elliptically polarizing plate is effectively used for black and white display without the above color by compensating (preventing) the coloration (blue or yellow) generated by the birefringence of the liquid crystal layer of the super twist nematic (STN) type liquid crystal display device. It is done. Further, the one in which the three-dimensional refractive index is controlled is preferable because it can compensate (prevent) coloring that occurs when the screen of the liquid crystal display device is viewed from an oblique direction. The circularly polarizing plate is effectively used, for example, when adjusting the color tone of an image of a reflective liquid crystal display device in which an image is displayed in color, and also has an antireflection function. Specific examples of the retardation plate include a birefringent film obtained by stretching a film made of an appropriate polymer such as polycarbonate, polyvinyl alcohol, polystyrene, polymethyl methacrylate, polypropylene, other polyolefins, polyarylate, and polyamide. And an alignment film of a liquid crystal polymer, and a liquid crystal polymer alignment layer supported by a film. The retardation plate may have an appropriate retardation according to the purpose of use, such as those for the purpose of compensating for various wavelength plates or birefringence of the liquid crystal layer, viewing angle, and the like. What laminated | stacked the phase difference plate and controlled optical characteristics, such as phase difference, etc. may be used.

また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、(反射型)偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。   The elliptical polarizing plate and the reflective elliptical polarizing plate are obtained by laminating a polarizing plate or a reflective polarizing plate and a retardation plate in an appropriate combination. Such an elliptically polarizing plate or the like can also be formed by sequentially laminating them sequentially in the manufacturing process of the liquid crystal display device so as to be a combination of a (reflection type) polarizing plate and a retardation plate. An optical film such as a polarizing plate has an advantage that it can improve the production efficiency of a liquid crystal display device and the like because of excellent quality stability and lamination workability.

視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は/及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。   The viewing angle compensation film is a film for widening the viewing angle so that an image can be seen relatively clearly even when the screen of the liquid crystal display device is viewed from a slightly oblique direction rather than perpendicular to the screen. As such a viewing angle compensation phase difference plate, for example, a retardation film, an alignment film such as a liquid crystal polymer, or an alignment layer such as a liquid crystal polymer supported on a transparent substrate is used. A normal retardation plate uses a birefringent polymer film uniaxially stretched in the plane direction, whereas a retardation plate used as a viewing angle compensation film stretches biaxially in the plane direction. Birefringent polymer film, biaxially stretched film such as polymer with birefringence with a controlled refractive index in the thickness direction that is uniaxially stretched in the plane direction and stretched in the thickness direction, etc. Used. Examples of the inclined alignment film include a film obtained by bonding a heat shrink film to a polymer film and stretching or / and shrinking the polymer film under the action of the contraction force by heating, and a film obtained by obliquely aligning a liquid crystal polymer. Can be mentioned. The raw material polymer for the phase difference plate is the same as the polymer described in the previous phase difference plate, preventing coloration due to a change in the viewing angle based on the phase difference by the liquid crystal cell and expanding the viewing angle for good visual recognition. An appropriate one for the purpose can be used.

また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。   Also, from the viewpoint of achieving a wide viewing angle with good visibility, an optically compensated phase difference in which a liquid crystal polymer alignment layer, in particular an optically anisotropic layer composed of a discotic liquid crystal polymer gradient alignment layer, is supported by a triacetylcellulose film. A plate can be preferably used.

偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ50%の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。   A polarizing plate obtained by bonding a polarizing plate and a brightness enhancement film is usually provided on the back side of a liquid crystal cell. The brightness enhancement film reflects a linearly polarized light with a predetermined polarization axis or a circularly polarized light in a predetermined direction when natural light is incident due to a backlight such as a liquid crystal display device or reflection from the back side, and transmits other light. In addition, a polarizing plate in which a brightness enhancement film is laminated with a polarizing plate allows light from a light source such as a backlight to enter to obtain transmitted light in a predetermined polarization state, and reflects light without transmitting the light other than the predetermined polarization state. The The light reflected on the surface of the brightness enhancement film is further inverted through a reflective layer or the like provided behind the brightness enhancement film and re-incident on the brightness enhancement film, and part or all of the light is transmitted as light having a predetermined polarization state. Luminance can be improved by increasing the amount of light transmitted through the enhancement film and increasing the amount of light that can be used for liquid crystal display image display or the like by supplying polarized light that is difficult to be absorbed by the polarizer. That is, when light is incident through the polarizer from the back side of the liquid crystal cell without using a brightness enhancement film, light having a polarization direction that does not coincide with the polarization axis of the polarizer is almost polarized. It is absorbed by the polarizer and does not pass through the polarizer. That is, although depending on the characteristics of the polarizer used, approximately 50% of the light is absorbed by the polarizer, and the amount of light that can be used for liquid crystal image display or the like is reduced accordingly, resulting in a dark image. The brightness enhancement film allows light having a polarization direction that is absorbed by the polarizer to be reflected once by the brightness enhancement film without being incident on the polarizer, and further inverted through a reflective layer provided on the rear side thereof. Repeatedly re-enter the brightness enhancement film, and the brightness enhancement film transmits only polarized light whose polarization direction is such that the polarization direction of light reflected and inverted between the two can pass through the polarizer. Therefore, light such as a backlight can be efficiently used for displaying an image on the liquid crystal display device, and the screen can be brightened.

輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。   A diffusion plate may be provided between the brightness enhancement film and the reflective layer. The polarized light reflected by the brightness enhancement film is directed to the reflective layer or the like, but the installed diffuser plate uniformly diffuses the light passing therethrough and simultaneously cancels the polarized state and becomes a non-polarized state. That is, the diffuser plate returns the polarized light to the original natural light state. The light in the non-polarized state, that is, the natural light state is directed toward the reflection layer and the like, reflected through the reflection layer and the like, and again passes through the diffusion plate and reenters the brightness enhancement film. Thus, while maintaining the brightness of the display screen by providing a diffuser plate that returns polarized light to the original natural light state between the brightness enhancement film and the reflective layer, etc., the brightness unevenness of the display screen is reduced at the same time, A uniform and bright screen can be provided. By providing such a diffuser plate, it is considered that the first incident light has a moderate increase in the number of repetitions of reflection, and in combination with the diffusion function of the diffuser plate, a uniform bright display screen can be provided.

前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。   The brightness enhancement film has a characteristic of transmitting linearly polarized light having a predetermined polarization axis and reflecting other light, such as a multilayer thin film of dielectric material or a multilayer laminate of thin film films having different refractive index anisotropies. Such as an alignment film of a cholesteric liquid crystal polymer or an alignment liquid crystal layer supported on a film substrate, which reflects either left-handed or right-handed circularly polarized light and transmits other light. Appropriate things, such as a thing, can be used.

従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として1/4波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。   Therefore, in the brightness enhancement film of the type that transmits linearly polarized light having the predetermined polarization axis as described above, the transmitted light is incident on the polarizing plate with the polarization axis aligned as it is, thereby efficiently transmitting while suppressing absorption loss due to the polarizing plate. Can be made. On the other hand, in a brightness enhancement film of a type that transmits circularly polarized light such as a cholesteric liquid crystal layer, it can be directly incident on a polarizer, but from the point of suppressing absorption loss, the circularly polarized light is linearly polarized through a retardation plate. It is preferable to make it enter into a polarizing plate. Note that circularly polarized light can be converted to linearly polarized light by using a quarter wave plate as the retardation plate.

可視光域等の広い波長範囲で1/4波長板として機能する位相差板は、例えば波長550nmの淡色光に対して1/4波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば1/2波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、1層又は2層以上の位相差層からなるものであってよい。   A retardation plate that functions as a quarter-wave plate in a wide wavelength range such as a visible light region exhibits, for example, a retardation layer that functions as a quarter-wave plate for light-color light having a wavelength of 550 nm and other retardation characteristics. It can be obtained by a method of superposing a retardation layer, for example, a retardation layer functioning as a half-wave plate. Therefore, the retardation plate disposed between the polarizing plate and the brightness enhancement film may be composed of one or more retardation layers.

なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして2層又は3層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。   In addition, the cholesteric liquid crystal layer can also be obtained by reflecting circularly polarized light in a wide wavelength range such as a visible light region by combining two or more layers having different reflection wavelengths and having an overlapping structure. Based on this, transmitted circularly polarized light in a wide wavelength range can be obtained.

また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と2層又は3層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。   Further, the polarizing plate may be formed by laminating a polarizing plate and two or three or more optical layers like the above-described polarization separation type polarizing plate. Therefore, a reflective elliptical polarizing plate or a semi-transmissive elliptical polarizing plate in which the above-mentioned reflective polarizing plate or transflective polarizing plate and a retardation plate are combined may be used.

前記光学素子へのハードコートフィルム等の積層、さらには偏光板への各種光学層の積層は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行うことができるが、これらを予め積層したのものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。   Lamination of a hard coat film or the like to the optical element, and further lamination of various optical layers to the polarizing plate can be performed by a method of sequentially laminating separately in the manufacturing process of a liquid crystal display device or the like. Those previously laminated are excellent in quality stability, assembly work, etc., and have the advantage of improving the manufacturing process of liquid crystal display devices and the like. For the lamination, an appropriate adhesive means such as an adhesive layer can be used. When adhering the polarizing plate and other optical films, their optical axes can be set at an appropriate arrangement angle in accordance with the target retardation characteristics.

前述した光学素子の少なくとも片面には、液晶セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。   An adhesive layer for adhering to other members such as a liquid crystal cell can be provided on at least one surface of the optical element described above. The pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. For example, an acrylic polymer, silicone-based polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, fluorine-based or rubber-based polymer is appropriately selected. Can be used. In particular, those having excellent optical transparency such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, exhibiting appropriate wettability, cohesiveness, and adhesive pressure-sensitive adhesive properties, and being excellent in weather resistance, heat resistance and the like can be preferably used.

また上記に加えて、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましい。   In addition to the above, in terms of prevention of foaming and peeling phenomena due to moisture absorption, deterioration of optical properties and liquid crystal cell warpage due to differences in thermal expansion, etc., as well as formability of liquid crystal display devices with high quality and excellent durability An adhesive layer having a low moisture absorption rate and excellent heat resistance is preferred.

粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層などであってもよい。   The adhesive layer is, for example, natural or synthetic resins, in particular, tackifier resins, fillers or pigments made of glass fibers, glass beads, metal powders, other inorganic powders, colorants, antioxidants, etc. It may contain an additive to be added to the adhesive layer. Moreover, the adhesion layer etc. which contain microparticles | fine-particles and show light diffusibility may be sufficient.

偏光板、光学フィルム等の光学素子への粘着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶剤にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた10〜40重量%程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で光学素子上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを光学素子上に移着する方式などがあげられる。粘着層は、各層で異なる組成又は種類等のものの重畳層として設けることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には1〜500μmであり、5〜200μmが好ましく、特に10〜100μmが好ましい。   Attachment of the adhesive layer to an optical element such as a polarizing plate or an optical film can be performed by an appropriate method. For example, a pressure sensitive adhesive solution of about 10 to 40% by weight in which a base polymer or a composition thereof is dissolved or dispersed in a solvent composed of an appropriate solvent alone or a mixture such as toluene and ethyl acetate is prepared. There is a method of attaching it directly on the optical element by an appropriate development method such as a casting method or a coating method, or a method of forming an adhesive layer on the separator according to the above and transferring it onto the optical element. can give. The pressure-sensitive adhesive layer can also be provided as an overlapping layer of different compositions or types in each layer. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately determined according to the purpose of use and adhesive force, and is generally 1 to 500 μm, preferably 5 to 200 μm, particularly preferably 10 to 100 μm.

粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。   On the exposed surface of the adhesive layer, a separator is temporarily attached and covered for the purpose of preventing contamination until it is put to practical use. Thereby, it can prevent contacting an adhesion layer in the usual handling state. As the separator, except for the above thickness conditions, for example, a suitable thin leaf body such as a plastic film, rubber sheet, paper, cloth, non-woven fabric, net, foam sheet, metal foil, laminate thereof, and the like, silicone type or Appropriate conventional ones such as those coated with an appropriate release agent such as long-chain alkyl, fluorine-based, or molybdenum sulfide can be used.

なお本発明において、上記した光学素子を形成する偏光子や透明保護フィルムや光学層等、また粘着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やべンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。   In the present invention, each layer such as a polarizer, a transparent protective film, an optical layer, or an adhesive layer that forms the optical element described above may be, for example, a salicylic acid ester compound, a benzophenol compound, a benzotriazole compound, or a cyanoacrylate. It may be a compound having an ultraviolet absorbing ability by a method such as a method of treating with an ultraviolet absorber such as a compound based on nickel or a nickel complex salt compound.

本発明のハードコートフィルム等を設けた光学素子は液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学素子、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学素子を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばTN型やSTN型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。   The optical element provided with the hard coat film of the present invention can be preferably used for forming various devices such as a liquid crystal display device. The liquid crystal display device can be formed according to the conventional method. That is, a liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling components such as a liquid crystal cell, an optical element, and an illumination system as necessary, and incorporating a drive circuit. There is no limitation in particular except for the point which uses an element, and it can be based on the past. As the liquid crystal cell, any type such as a TN type, an STN type, or a π type can be used.

液晶セルの片側又は両側に前記光学素子を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による光学素子は液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に光学素子を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に1層又は2層以上配置することができる。   An appropriate liquid crystal display device such as a liquid crystal display device in which the optical element is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell, or a backlight or a reflector used in an illumination system can be formed. In that case, the optical element according to the present invention can be installed on one side or both sides of the liquid crystal cell. When optical elements are provided on both sides, they may be the same or different. Further, when forming a liquid crystal display device, for example, a single layer or a suitable part such as a diffusion plate, an antiglare layer, an antireflection film, a protective plate, a prism array, a lens array sheet, a light diffusion plate, a backlight, Two or more layers can be arranged.

次いで有機エレクトロルミネセンス装置(有機EL表示装置)について説明する。一般に、有機EL表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体(有機エレクトロルミネセンス発光体)を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。   Next, an organic electroluminescence device (organic EL display device) will be described. Generally, in an organic EL display device, a transparent electrode, an organic light emitting layer, and a metal electrode are sequentially laminated on a transparent substrate to form a light emitter (organic electroluminescent light emitter). Here, the organic light emitting layer is a laminate of various organic thin films, for example, a laminate of a hole injection layer made of a triphenylamine derivative and the like and a light emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, Alternatively, a structure having various combinations such as a laminate of such a light emitting layer and an electron injection layer composed of a perylene derivative or the like, or a laminate of these hole injection layer, light emitting layer, and electron injection layer is known. It has been.

有機EL表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。   In organic EL display devices, holes and electrons are injected into the organic light-emitting layer by applying a voltage to the transparent electrode and the metal electrode, and the energy generated by recombination of these holes and electrons excites the phosphor material. Then, light is emitted on the principle that the excited fluorescent material emits light when returning to the ground state. The mechanism of recombination in the middle is the same as that of a general diode, and as can be predicted from this, the current and the emission intensity show strong nonlinearity with rectification with respect to the applied voltage.

有機EL表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ(ITO)などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Mg−Ag、Al−Liなどの金属電極を用いている。   In an organic EL display device, in order to extract light emitted from the organic light emitting layer, at least one of the electrodes must be transparent, and a transparent electrode usually formed of a transparent conductor such as indium tin oxide (ITO) is used as an anode. It is used as. On the other hand, in order to facilitate electron injection and increase luminous efficiency, it is important to use a material having a small work function for the cathode, and usually metal electrodes such as Mg—Ag and Al—Li are used.

このような構成の有機EL表示装置において、有機発光層は、厚さ10nm程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見える。   In the organic EL display device having such a configuration, the organic light emitting layer is formed of a very thin film having a thickness of about 10 nm. For this reason, the organic light emitting layer transmits light almost completely like the transparent electrode. As a result, light that is incident from the surface of the transparent substrate at the time of non-light emission, passes through the transparent electrode and the organic light emitting layer, and is reflected by the metal electrode is again emitted to the surface side of the transparent substrate. The display surface of the organic EL display device looks like a mirror surface.

電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機EL表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。   In an organic EL display device comprising an organic electroluminescent light emitting device comprising a transparent electrode on the surface side of an organic light emitting layer that emits light upon application of a voltage and a metal electrode on the back side of the organic light emitting layer, the surface of the transparent electrode While providing a polarizing plate on the side, a retardation plate can be provided between the transparent electrode and the polarizing plate.

位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を1/4波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ/4に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。   Since the retardation plate and the polarizing plate have a function of polarizing light incident from the outside and reflected by the metal electrode, there is an effect that the mirror surface of the metal electrode is not visually recognized by the polarization action. In particular, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded by configuring the retardation plate with a quarter-wave plate and adjusting the angle formed by the polarization direction of the polarizing plate and the retardation plate to π / 4. .

すなわち、この有機EL表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が1/4波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ/4のときには円偏光となる。   That is, only the linearly polarized light component of the external light incident on the organic EL display device is transmitted by the polarizing plate. This linearly polarized light becomes generally elliptically polarized light by the phase difference plate, but becomes circularly polarized light particularly when the phase difference plate is a quarter wavelength plate and the angle between the polarization direction of the polarizing plate and the phase difference plate is π / 4. .

この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。   This circularly polarized light is transmitted through the transparent substrate, the transparent electrode, and the organic thin film, is reflected by the metal electrode, is again transmitted through the organic thin film, the transparent electrode, and the transparent substrate, and becomes linearly polarized light again on the retardation plate. And since this linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of a polarizing plate, it cannot permeate | transmit a polarizing plate. As a result, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.

以下に実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定されるものではない。各例中、部および%は重量基準である。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In each example, parts and percentages are by weight.

実施例1
(透明基材フィルムの溶剤処理)
厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルムに、シクロへキサノンを#7のワイヤーバーで塗布した。塗布後に、ヘアードライヤーの冷風を中程度の強さでフィルムに当て、30秒間乾燥させた。
Example 1
(Solvent treatment of transparent substrate film)
Cyclohexanone was applied to a 80 μm thick triacetylcellulose film with a # 7 wire bar. After the application, the hair dryer was applied with cold air at a medium strength and dried for 30 seconds.

(導電層の塗設)
テトラアルコキシシラン(ポリシロキサン熱硬化性成分)5部および平均粒子径10〜60nmのアンチモンドープ酸化錫超微粒子95部を溶剤と混合して、固形分濃度1.5%の塗工液を調製した。溶剤は、シクロヘキサノン20%、メチルエチルケトン5%、メタノール10%、エタノール45%、プロピレングリコールモノメチルエーテル20%を含有するものを用いた。
(Coating of conductive layer)
5 parts of tetraalkoxysilane (polysiloxane thermosetting component) and 95 parts of antimony-doped tin oxide ultrafine particles having an average particle size of 10 to 60 nm were mixed with a solvent to prepare a coating liquid having a solid content concentration of 1.5%. . A solvent containing 20% cyclohexanone, 5% methyl ethyl ketone, 10% methanol, 45% ethanol, and 20% propylene glycol monomethyl ether was used.

上記溶剤処理を施した厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム上に、前記塗工液を#10のワイヤーバーにて塗工し、130℃環境下で2分間加熱硬化して、導電層(屈折率:1.59,膜厚86nm)を形成し、導電性フィルムを作製した。得られた導電層の表面抵抗値は1×1011Ω/□であった。 On the triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm subjected to the above solvent treatment, the coating solution is applied with a # 10 wire bar, and heated and cured in an environment of 130 ° C. for 2 minutes to obtain a conductive layer (refractive index). : 1.59, film thickness 86 nm) to form a conductive film. The surface resistance value of the obtained conductive layer was 1 × 10 11 Ω / □.

(ハードコートフィルムの作成)
上記導電性フィルムの導電層上に、表面が微細凹凸形状のハードコート層を設けたハードコートフィルムを作成した。ハードコート層の形成には、ZnO超微粒子(粒径0.01〜0.1μm)とバインダーとして紫外線硬化型アクリル樹脂を含む塗工液(固形分40重量%,ZnO/バインダー=42/58、重量比)を#8のワイヤーバーを用いて前記導電層上に塗布し、120℃で3分間乾燥後、UVランプにて紫外線を照射してハードコート層(屈折率:1.71,膜厚2.2μm)を形成した。
(Creation of hard coat film)
On the conductive layer of the conductive film, a hard coat film was prepared in which a hard coat layer having a surface with fine irregularities was provided. For the formation of the hard coat layer, a coating solution containing ZnO 2 ultrafine particles (particle size 0.01 to 0.1 μm) and an ultraviolet curable acrylic resin as a binder (solid content 40 wt%, ZnO 2 / binder = 42 / 58, weight ratio) was applied onto the conductive layer using a # 8 wire bar, dried at 120 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays with a UV lamp to form a hard coat layer (refractive index: 1.71, A film thickness of 2.2 μm) was formed.

比較例1
実施例1において、透明基材フィルムに溶剤処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして導電性フィルムを作製した。また実施例1と同様にしてハードコート層を形成した。
Comparative Example 1
In Example 1, a conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the solvent treatment was not performed on the transparent substrate film. A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1.

実施例および比較例で得られた、ハードコート層を形成した導電性フィルムについて以下の評価を行った。結果を表1に示す。   The following evaluation was performed about the electroconductive film which formed the hard-coat layer obtained in the Example and the comparative example. The results are shown in Table 1.

(密着性)
JIS K−5400記載の碁盤目剥離試験に従い、ハードコート層の表面に、1mm×1mmのクロスハッチを100ケ入れた後、セロハンテープで剥がしたときに剥離した個数xを、「x/100」で表した。
(Adhesion)
According to the cross-cut peel test described in JIS K-5400, 100 pieces of 1 mm × 1 mm cross hatches were put on the surface of the hard coat layer, and the number x peeled when peeled off with a cellophane tape was “x / 100”. Expressed in

評価は、加湿前と加湿後について行なった。加湿後は、条件1:40℃、92%RHで2時間加湿と、条件2:80℃、90%RHで2時間加湿、のそれぞれについて行なった。   Evaluation was performed before and after humidification. After humidification, each of conditions 1: humidified at 40 ° C. and 92% RH for 2 hours and conditions 2: humidified at 80 ° C. and 90% RH for 2 hours.

Figure 2005313027
表1から、実施例では耐熱・耐湿環境下においても密着性に優れていることが認められる。
Figure 2005313027
From Table 1, it is recognized that in the examples, the adhesiveness is excellent even in a heat and humidity resistant environment.

(反射防止フィルムの作成)
上記ハードコートフィルムのハードコート層上に、反射防止層を設けた反射防止フィルムを作成した。反射防止層の形成には、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物とシロキサンオリゴマーの混合物を用いた。これをスロットダイコート法によりコーティングし、120℃の環境下で3分間加熱硬化して、0.1μmの反射防止層を形成した。
(Creation of antireflection film)
An antireflection film having an antireflection layer provided on the hard coat layer of the hard coat film was prepared. For the formation of the antireflection layer, a mixture of a fluorine compound having a fluoroalkyl structure and a polysiloxane structure and a siloxane oligomer was used. This was coated by a slot die coating method and cured by heating in an environment of 120 ° C. for 3 minutes to form a 0.1 μm antireflection layer.

反射防止フィルムの反射防止層について、前記同様の密着性の評価を行った。いずれも良好な結果が得られた。   For the antireflection layer of the antireflection film, the same adhesion evaluation as described above was performed. In either case, good results were obtained.

Claims (12)

透明基材フィルムの少なくとも片面に、硬化型樹脂および導電性無機フィラーから形成される導電層を積層した導電性フィルムを製造するにあたり、
透明基材フィルムに、当該透明基材フィルムの材料を溶解しうる溶剤を塗布し、乾燥させた後、
透明基材フィルムの溶剤処理面に導電層を形成することを特徴とする導電性フィルムの製造方法。
In producing a conductive film in which a conductive layer formed of a curable resin and a conductive inorganic filler is laminated on at least one side of a transparent substrate film,
After applying a solvent capable of dissolving the material of the transparent substrate film to the transparent substrate film and drying,
A method for producing a conductive film, comprising forming a conductive layer on a solvent-treated surface of a transparent substrate film.
前記溶剤が、ケトン系溶剤であることを特徴とする請求項1記載の導電性フィルムの製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 1, wherein the solvent is a ketone solvent. ケトン系溶剤が、シクロヘキサノンおよび/またはシクロペンタノンであることを特徴とする請求項2記載の導電性フィルムの製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 2, wherein the ketone solvent is cyclohexanone and / or cyclopentanone. 導電層は、透明基材フィルムの溶剤処理面に、硬化型樹脂、導電性無機フィラーおよび溶剤を含有する塗工液を塗工し、乾燥硬化させて形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。   The conductive layer is formed by applying a coating liquid containing a curable resin, a conductive inorganic filler, and a solvent to the solvent-treated surface of the transparent base film, followed by drying and curing. 4. A method for producing a conductive film according to any one of 3 above. 硬化型樹脂が無機系熱硬化型樹脂であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 1, wherein the curable resin is an inorganic thermosetting resin. 透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 1, wherein the transparent substrate film is a triacetyl cellulose film. 請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法により得られた導電性フィルム。   The electroconductive film obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-6. 請求項7記載の導電性フィルムの導電層上にハードコート層が形成されていることを特徴とする導電性フィルム。   A conductive film, wherein a hard coat layer is formed on the conductive layer of the conductive film according to claim 7. ハードコート層表面が、凹凸形状になっていることを特徴とする請求項8記載の導電性フィルム。   The conductive film according to claim 8, wherein the surface of the hard coat layer has an uneven shape. 請求項7〜9のいずれかに記載の導電性フィルムの導電層上に反射防止層が形成されていることを特徴とする導電性フィルム。   An antireflection layer is formed on the conductive layer of the conductive film according to claim 7. 光学素子の片面又は両面に、請求項7〜10のいずれかに記載の導電性フィルムが設けられていることを特徴とする光学素子。   The optical element in which the electroconductive film in any one of Claims 7-10 is provided in the single side | surface or both surfaces of the optical element. 請求項7〜10のいずれかに記載の導電性フィルムまたは請求項11記載の光学素子を搭載した画像表示装置。
The image display apparatus carrying the electroconductive film in any one of Claims 7-10, or the optical element of Claim 11.
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