JP2005298287A - Method of manufacturing glass preform - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently obtain an optical fiber having a transmission loss reduced by suppressing the diffusion of impurities to a glass preform to become the optical fiber to the utmost. <P>SOLUTION: A porous glass preform 4a formed on a dummy rod 2 is heated to vitrified. The OH group contained in a layer of the depth of 0.5-3 mm from the surface of the dummy rod 2 is controlled to ≤150 ppm. A transition metal element contained in a layer of the depth of 0.5-3 mm from the surface of the dummy rod 2 is controlled to be ≤30 ppm. The surface of the dummy rode 2 is previously cleaned with a dry process heating source. The vitrification of the porous glass preform 4a is carried out so that the dummy rod 2 side comes lastly. In the vitrification of the porous glass preform 4a, an atmospheric gas is supplied from a side far from the dummy rod 2 and exhausted from a side near to the dummy rod 2. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ダミーロッドに燃焼用ガス及びガラス原料用ガスを吹き付けてガラス微粒子を堆積させ、その後、加熱してガラス化するガラス母材の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a glass base material in which a combustion gas and a glass raw material gas are sprayed onto a dummy rod to deposit glass fine particles, and then heated to vitrify.

一般に、コアとクラッドよりなる光ファイバは、光ファイバ用の多孔質ガラス層を加熱して透明化させてガラス母材とした後、線引きして製造される。多孔質ガラス層を製造する方法としては、例えばVAD法(Vapor phase Axial Deposition;気相軸付法)が挙げられる。このVAD法は、バーナから、燃焼用ガス及びガラス原料用ガスを吹き出し、燃焼用ガスの燃焼により生じる酸水素火炎中においてガラス原料を加水分解させて、ダミーロッドにガラス微粒子を堆積させるものである。   In general, an optical fiber composed of a core and a clad is manufactured by heating a porous glass layer for optical fiber to make it transparent to form a glass base material, and then drawing. Examples of a method for producing the porous glass layer include a VAD method (Vapor phase Axial Deposition). In this VAD method, combustion gas and glass raw material gas are blown out from a burner, the glass raw material is hydrolyzed in an oxyhydrogen flame generated by combustion of the combustion gas, and glass particles are deposited on the dummy rod. .

ここで、多孔質ガラス母材を加熱して焼結し、ガラス化する工程において、多孔質ガラスプリフォームを吊す治具に白金を使用することにより、治具からの不純物の汚染を抑える技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、堆積させるガラス微粒子と同組成あるいは同じ線膨張係数のガラス棒を用いることにより、多孔質ガラスプリフォームの焼結時に、コア部分の脱落やクラックの発生を抑制する技術が知られている(例えば、特許文献2参照)。
Here, in the process of heating and sintering the porous glass base material and vitrifying it, there is a technology for suppressing contamination of impurities from the jig by using platinum as the jig for hanging the porous glass preform. It is known (see, for example, Patent Document 1).
In addition, a technique is known in which the use of a glass rod having the same composition or the same linear expansion coefficient as the glass fine particles to be deposited suppresses the dropout of the core portion and the occurrence of cracks during the sintering of the porous glass preform ( For example, see Patent Document 2).

特開平6−298540号公報JP-A-6-298540 特開2000−7380号公報JP 2000-7380 A

ところで、低伝送損失の光ファイバを製造するためには、光の伝播するコアの純度を高くすることが重要である。特に、近年では、OH基による伝送損失の影響の大きい波長1.38μmにおける伝送損失を低く抑えることが望まれている。
ここで、ガラス母材の製造に用いられるダミーロッドは、光ファイバとなる部分ではないため、生産コスト低減のために、例えば、天然石英などの低コストな材質のものが用いられている。
しかしながら、ダミーロッドとして低コストな材質のものを用いると、多孔質ガラス層のガラス化時に、石英の吸収損失を増大させる重金属やOH基を含む化合物などの不純物がダミーロッドからガラス母材へ拡散し、光ファイバとした際に、ダミーロッド近傍におけるコアの伝送損失が高くなり、製品として用いることができなくなり、歩留まりが低下する要因となっていた。
Incidentally, in order to manufacture an optical fiber with low transmission loss, it is important to increase the purity of the core through which light propagates. In particular, in recent years, it has been desired to suppress transmission loss at a wavelength of 1.38 μm, which is greatly affected by transmission loss due to OH groups.
Here, since the dummy rod used for manufacturing the glass base material is not a portion that becomes an optical fiber, for example, a low-cost material such as natural quartz is used to reduce the production cost.
However, when a low cost material is used for the dummy rod, impurities such as heavy metals and compounds containing OH groups that diffuse the absorption loss of quartz diffuse into the glass base material when the porous glass layer is vitrified. However, when an optical fiber is used, the core transmission loss in the vicinity of the dummy rod becomes high, so that it cannot be used as a product, resulting in a decrease in yield.

この発明は、光ファイバとなるガラス母材への不純物の拡散を極力抑え、伝送損失が低減された光ファイバを効率良く得ることが可能なガラス母材の製造方法を提供することを目的としている。   An object of the present invention is to provide a glass base material manufacturing method capable of efficiently obtaining an optical fiber with reduced transmission loss by suppressing the diffusion of impurities into the glass base material to be an optical fiber. .

上記目的を達成するために、本発明に係るガラス母材の製造方法は、ダミーロッドに多孔質ガラス層を形成して、前記多孔質ガラス層を加熱して透明化処理を行うガラス母材の製造方法であって、
前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層は、OH基が150ppm以下であり、かつ添加材の総量が0.1重量%以下であることを特徴としている。
In order to achieve the above object, a method for producing a glass base material according to the present invention is a method for forming a glass base material by forming a porous glass layer on a dummy rod and heating the porous glass layer to perform a transparent treatment. A manufacturing method comprising:
The layer at a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod is characterized in that the OH group is 150 ppm or less and the total amount of additives is 0.1 wt% or less.

また、本発明に係る製造方法は、ガラスロッドの先端にダミーロッドを接続した出発ロッド上に多孔質ガラス層を形成して、前記多孔質ガラス層を加熱して透明化処理を行うガラス母材の製造方法であって、前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層は、OH基が150ppm以下であることを特徴としている。   In addition, the manufacturing method according to the present invention includes a glass base material in which a porous glass layer is formed on a starting rod in which a dummy rod is connected to a tip of a glass rod, and the porous glass layer is heated to be transparentized. The layer at a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod is characterized in that OH groups are 150 ppm or less.

本発明に係る製造方法は、前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層に含まれる遷移金属元素が30ppm以下であることが好ましい。
本発明に係る製造方法は、予め無水プロセス加熱源を用いて、前記ダミーロッドの表面を加熱して、不純物を減少させることが好ましい。
本発明に係る製造方法は、前記ダミーロッドは、合成石英製であることが好ましい。
In the manufacturing method according to the present invention, it is preferable that the transition metal element contained in a layer having a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod is 30 ppm or less.
In the manufacturing method according to the present invention, it is preferable to reduce impurities by heating the surface of the dummy rod in advance using an anhydrous process heat source.
In the manufacturing method according to the present invention, the dummy rod is preferably made of synthetic quartz.

本発明に係る製造方法は、前記多孔質ガラス層の透明化処理を、前記ダミーロッド側が最後になるように行うことが好ましい。
本発明に係る製造方法は、前記多孔質ガラス層の透明化処理において、雰囲気ガスを前記ダミーロッドの遠い側から供給し、前記ダミーロッドに近い側から排気することが好ましい。
In the manufacturing method according to the present invention, it is preferable that the transparent glass layer is subjected to the transparent treatment so that the dummy rod side comes last.
In the manufacturing method according to the present invention, it is preferable that the atmospheric gas is supplied from the far side of the dummy rod and exhausted from the side close to the dummy rod in the transparent treatment of the porous glass layer.

本発明のガラス母材の製造方法によれば、ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分に含まれるOH基を150ppm以下とすることにより、ダミーロッドに形成された多孔質ガラス層を加熱して透明化処理を行ってガラス母材を製造する際に、ダミーロッドからガラス母材へのOH基の拡散を極力抑えることができる。つまり、線引きして光ファイバとした際に、伝送損失が低減された光ファイバを効率良く得ることが可能なガラス母材を製造することができる。   According to the method for producing a glass base material of the present invention, the porous glass formed in the dummy rod is obtained by setting the OH group contained in the portion having a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod to 150 ppm or less. When a glass base material is manufactured by heating a layer and performing a transparent treatment, diffusion of OH groups from the dummy rod to the glass base material can be suppressed as much as possible. That is, it is possible to manufacture a glass base material capable of efficiently obtaining an optical fiber with reduced transmission loss when drawn into an optical fiber.

以下、本発明に係る製造方法の実施形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明に係る製造方法の実施形態を説明する概略構成図である。なお、本実施形態例では、多孔質ガラス層を形成する方法として、VAD法を例にとって説明する。
VAD法によって多孔質ガラス層を製造するには、図に示すように、容器1内にてシード棒3の下端に、連結部材3aを介してダミーロッド2を連結させて垂直に配置する。そして、このダミーロッド2を軸回転させながら引き上げ、ダミーロッド2の下端部分にガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラス層4を形成して、多孔質ガラス層4を有する多孔質ガラス母材4aを形成する。
Embodiments of a manufacturing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of a manufacturing method according to the present invention. In this embodiment, a VAD method will be described as an example of a method for forming a porous glass layer.
In order to manufacture a porous glass layer by the VAD method, as shown in the figure, the dummy rod 2 is connected to the lower end of the seed rod 3 in the container 1 via the connecting member 3a and arranged vertically. Then, the dummy rod 2 is lifted while rotating the shaft, glass fine particles are deposited on the lower end portion of the dummy rod 2 to form the porous glass layer 4, and the porous glass base material 4a having the porous glass layer 4 is formed. Form.

ダミーロッド2に多孔質ガラス層4を形成する際、コア用バーナ5及びクラッド用バーナ6をダミーロッド2に対して下方から斜め上方へ向けて固定配置し、コア用バーナ5及びクラッド用バーナ6からガラス微粒子をダミーロッド2に吹き付けて堆積させ、光ファイバのコアとなる部分と、クラッドの一部(第1クラッド)となる部分とを同時合成する。
コア用バーナ5には、ガラス原料用ガスである四塩化ケイ素(SiCl)及び四塩化ゲルマニウム(GeCl)とともに燃焼用ガスである水素(H)及び酸素(O)が供給される。また、クラッド用バーナ6には、ガラス原料用ガスである四塩化ケイ素(SiCl)とともに燃焼用ガスである水素(H)及び酸素(O)が供給される。
そして、これらコア用バーナ5及びクラッド用バーナ6は、それぞれのバーナの先端部から燃焼用ガス及びガラス原料用ガスを吹き出し、燃焼用ガスの燃焼により生じる酸水素火炎中においてガラス原料を加水分解して、ダミーロッド2にガラス微粒子を付着させ堆積させる。
When the porous glass layer 4 is formed on the dummy rod 2, the core burner 5 and the cladding burner 6 are fixedly disposed to the dummy rod 2 from below to obliquely upward, and the core burner 5 and the cladding burner 6 are arranged. Then, glass fine particles are sprayed and deposited on the dummy rod 2 to simultaneously synthesize a portion to be the core of the optical fiber and a portion to be a part of the clad (first clad).
The core burner 5 is supplied with hydrogen (H 2 ) and oxygen (O 2 ) as combustion gases together with silicon tetrachloride (SiCl 4 ) and germanium tetrachloride (GeCl 4 ) as glass raw material gases. The cladding burner 6 is supplied with hydrogen (H 2 ) and oxygen (O 2 ) as combustion gases together with silicon tetrachloride (SiCl 4 ) as a glass raw material gas.
The core burner 5 and the cladding burner 6 blow out the combustion gas and the glass raw material gas from the tip of each burner, and hydrolyze the glass raw material in the oxyhydrogen flame generated by the combustion of the combustion gas. Then, glass fine particles are adhered and deposited on the dummy rod 2.

ダミーロッド2は、その表面から0.5〜3mmの深さの部分の層(以下、この部分を「表層部分」と称する。)のOH基の含有量(重量濃度)が150ppm以下の石英棒を使用する。このようなダミーロッド2としては、天然石英でも合成石英でもよく、市販品を使用することもできる。
ダミーロッド2の表層部分に含まれるOH基を150ppm以下とすることにより、多孔質ガラス母材4aを加熱、透明化処理して、ガラス母材を製造する(後述する)際に、ダミーロッド2からガラス母材へのOH基の拡散を極力抑えることができる
The dummy rod 2 is a quartz rod having a OH group content (weight concentration) of 150 ppm or less in a layer at a depth of 0.5 to 3 mm from the surface (hereinafter, this portion is referred to as a “surface layer portion”). Is used. As such a dummy rod 2, natural quartz or synthetic quartz may be used, and a commercially available product may be used.
By making the OH group contained in the surface layer portion of the dummy rod 2 150 ppm or less, the porous glass base material 4a is heated and transparentized to produce a glass base material (described later). Can suppress the diffusion of OH groups from glass to glass base as much as possible

なお、表面から0.5mm未満の深さの部分については、OH基の含有量は特に限定されない。この表面から0.5mm未満の深さの部分は、外気からOH基が侵入しやすい部分であるが、後述する表面研磨等の手段により容易に除去できるためである。また、表面から3mm以上の深さの部分のOH基含有量については、特に限定されず、ダミーロッド2の表層部分のOH基含有量と同じであっても異なっていてもよい。   In addition, about the part of the depth below 0.5 mm from the surface, content of OH group is not specifically limited. This is because a portion having a depth of less than 0.5 mm from the surface is a portion where OH groups easily enter from the outside air, but can be easily removed by means such as surface polishing described later. Further, the OH group content in the portion having a depth of 3 mm or more from the surface is not particularly limited, and may be the same as or different from the OH group content in the surface layer portion of the dummy rod 2.

ダミーロッド2の表層部分におけるOH基の含有量は、0〜30ppmとするのが好ましく、さらに0〜10ppmとするのが好ましい。なお、ダミーロッド2のOH基の含有量は、例えばダミーロッド2の赤外線吸収スペクトルを測定することにより得られる。
このように、OH基の含有量が少ないダミーロッド2を使用することによって、後述する透明化処理を行う際にダミーロッド2からガラス母材へOH基が混入することを抑制できる。
The OH group content in the surface layer portion of the dummy rod 2 is preferably 0 to 30 ppm, more preferably 0 to 10 ppm. The OH group content of the dummy rod 2 can be obtained, for example, by measuring the infrared absorption spectrum of the dummy rod 2.
Thus, by using the dummy rod 2 with a low OH group content, it is possible to prevent OH groups from being mixed into the glass base material from the dummy rod 2 when performing a transparentization process to be described later.

また、ダミーロッド2の表層部分に含まれる添加材の総量は、0.1重量%以下である。勿論、表層部分に限定されず、ダミーロッド2全体に含まれる添加材の総量が、0.1重量%以下であっても良い。
本発明において、「添加材」は、意図的に添加したか否かを問わず、ダミーロッド2が合成石英である場合には、例えば、フッ素、塩素、窒素等のダミーロッド2の合成中に添加される添加物や混入物等であり、ダミーロッド2が天然石英である場合には、例えば、石英に天然に含まれる不純物等である。これらの物質は、伝送損失に対する影響が少ないと考えられる物質であり、添加材には「遷移金属元素」等の伝送損失増加となる原因物質を含まない。
Moreover, the total amount of the additive contained in the surface layer portion of the dummy rod 2 is 0.1% by weight or less. Of course, it is not limited to a surface layer part, The total amount of the additive contained in the whole dummy rod 2 may be 0.1 weight% or less.
In the present invention, regardless of whether or not the “additive” is intentionally added, when the dummy rod 2 is synthetic quartz, for example, during the synthesis of the dummy rod 2 such as fluorine, chlorine, or nitrogen In the case where the dummy rod 2 is natural quartz, for example, impurities or the like naturally contained in quartz. These substances are substances that are considered to have little influence on transmission loss, and the additive does not include causative substances that increase transmission loss such as “transition metal elements”.

また、ダミーロッド2は、表層部分に含まれる遷移金属元素が30ppm以下であることが好ましく、さらに0〜5ppmであるのが好ましい。ダミーロッド2の表層部分に含まれる遷移金属元素を30ppm以下とすることにより、ダミーロッド2から遷移金属元素の拡散も極力抑えることができ、これにより、さらに伝送損失が低減された光ファイバを効率良く得ることが可能なガラス母材を製造することができる。
さらに、ダミーロッド2は、表層部分に含まれる軽金属元素が50ppm以下とすることが好ましく、さらに20ppm以下とするのが好ましい。
なお、ダミーロッド2に含まれる軽金属元素及び遷移金属元素の含有量については、例えばダミーロッド2を元素分析することにより測定することができる。
Moreover, it is preferable that the transition metal element contained in the surface layer part of the dummy rod 2 is 30 ppm or less, and it is more preferable that it is 0-5 ppm. By setting the transition metal element contained in the surface layer portion of the dummy rod 2 to 30 ppm or less, the diffusion of the transition metal element from the dummy rod 2 can be suppressed as much as possible, and thereby an optical fiber with further reduced transmission loss can be efficiently used. A glass base material that can be obtained well can be manufactured.
Further, the dummy rod 2 preferably has a light metal element contained in the surface layer portion of 50 ppm or less, and more preferably 20 ppm or less.
In addition, about content of the light metal element and transition metal element which are contained in the dummy rod 2, it can measure by conducting elemental analysis of the dummy rod 2, for example.

また、ダミーロッド2は、その表面を予め研磨して清浄化しておくことが好ましい。この表面研磨の方法を図2に示す。図2に示すように、ダミーロッド2(図1)となるダミー材2aの両端を一対のチャック11aにより把持し、さらにチャック11aを一対の支持部11に支持させた状態にして、ダミー材2aを軸線を中心として回転させ、その下方に設置したバーナ12からダミー材2aに向けて火炎を放射する。そして、バーナ12を長手方向に沿って移動させながら、バーナ12からの火炎によってダミー材2aを火炎研磨する。
このようにダミー材2aを火炎研磨することにより、ダミー材2aの表面(表面から約0.5mmの部分を含む。)の不純物を減少させて、清浄化を行うことができる。このように火炎研磨したダミー材2aを適当な長さに切断してダミーロッド2として用いることができる。
The dummy rod 2 is preferably cleaned by polishing its surface in advance. This surface polishing method is shown in FIG. As shown in FIG. 2, both ends of the dummy material 2a serving as the dummy rod 2 (FIG. 1) are held by the pair of chucks 11a, and the chuck 11a is supported by the pair of support portions 11 so that the dummy material 2a. Is rotated about the axis, and a flame is radiated from the burner 12 installed below the axis toward the dummy material 2a. And the dummy material 2a is flame-polished by the flame from the burner 12, moving the burner 12 along a longitudinal direction.
By performing the flame polishing of the dummy material 2a in this manner, impurities on the surface of the dummy material 2a (including a portion of about 0.5 mm from the surface) can be reduced and cleaning can be performed. The dummy material 2a thus flame-polished can be cut into an appropriate length and used as the dummy rod 2.

この火炎研磨に用いる加熱源であるバーナ12としては、レーザ、プラズマ火炎バーナ等の無水プロセス加熱源を使用するのが好ましい。このような加熱源を用いると、火炎中に空気が混入しないため、ダミー材2a表面で火炎研磨によるOH基の生成が起こりにくい。よって、遷移金属元素等の不純物を除去できるとともに、火炎研磨時におけるダミー材2aへのOH基の生成を防止でき、ダミー材2aを高純度に維持することができる。   As the burner 12 which is a heat source used for this flame polishing, it is preferable to use an anhydrous process heat source such as a laser or a plasma flame burner. When such a heat source is used, air is not mixed into the flame, and therefore, generation of OH groups by flame polishing is unlikely to occur on the surface of the dummy material 2a. Therefore, impurities such as transition metal elements can be removed, OH groups can be prevented from being generated in the dummy material 2a during flame polishing, and the dummy material 2a can be maintained with high purity.

上記のようにして、ダミーロッド2にガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラス母材4aを形成したら、この多孔質ガラス母材4aを加熱して透明化処理を行い、ガラス母材を形成する。図3に多孔質ガラス母材4aからガラス母材4bを形成する方法を示す。
図3に示すように、まず、ダミーロッド2を連結棒23に連結して、多孔質ガラス母材4aを抵抗ヒータ21を用いた加熱炉22内に吊下げる。加熱炉22内には、例えば塩素を有する脱水ガスを含む雰囲気ガスを供給する。
この雰囲気ガス中において、多孔質ガラス母材4aをゆっくりと下方へ移動させながら約1200℃で加熱し、多孔質ガラス母材4aを脱水するとともにOH基を除去する。その後、多孔質ガラス母材4aを約1550℃で加熱し、多孔質ガラス母材4aを透明化処理して光ファイバのコアとなる部分と第1クラッドとなる部分とを有するガラス母材4bとする。
As described above, when the glass fine particles are deposited on the dummy rod 2 to form the porous glass base material 4a, the porous glass base material 4a is heated and subjected to a transparent treatment to form a glass base material. FIG. 3 shows a method of forming the glass base material 4b from the porous glass base material 4a.
As shown in FIG. 3, first, the dummy rod 2 is connected to the connecting rod 23, and the porous glass base material 4 a is suspended in the heating furnace 22 using the resistance heater 21. For example, an atmospheric gas containing a dehydrating gas containing chlorine is supplied into the heating furnace 22.
In this atmospheric gas, the porous glass base material 4a is heated at about 1200 ° C. while slowly moving downward to dehydrate the porous glass base material 4a and remove OH groups. Thereafter, the porous glass base material 4a is heated at about 1550 ° C., and the porous glass base material 4a is subjected to a transparent treatment so that a glass base material 4b having a portion that becomes the core of the optical fiber and a portion that becomes the first cladding; To do.

ここで、上記のように加熱して透明化処理する際には、ダミーロッド2側が最後に加熱されるように行うことが望ましい。すなわち、抵抗ヒータ21による加熱を、多孔質ガラス母材4bの下端側から上端側(すなわち、ダミーロッド2と反対側からダミーロッド2側)へ向かって行うことが望ましい。この方向で透明化処理を行うと、ダミーロッド2付近のガラス微粒子は、多孔質ガラス母材4bの透明化処理の終了間際に加熱されるので、ダミーロッド2からの遷移金属元素やOH基等の不純物の拡散を抑えることができる。また、ダミーロッド2に僅かに含まれる不純物が多孔質ガラス母材4a(特にコア部分)に混入した場合にも、ガラス母材4bの下端側に向かって不純物が拡散することを防止できる。   Here, when the transparent treatment is performed by heating as described above, it is desirable that the dummy rod 2 side be heated last. That is, it is desirable that heating by the resistance heater 21 is performed from the lower end side of the porous glass base material 4b toward the upper end side (that is, from the side opposite to the dummy rod 2 to the dummy rod 2 side). When the transparent treatment is performed in this direction, the glass fine particles in the vicinity of the dummy rod 2 are heated at the end of the transparent treatment of the porous glass base material 4b. The diffusion of impurities can be suppressed. Further, even when impurities slightly contained in the dummy rod 2 are mixed into the porous glass base material 4a (particularly the core portion), it is possible to prevent the impurities from diffusing toward the lower end side of the glass base material 4b.

また、雰囲気ガスは、加熱炉22の下方(すなわち、ダミーロッド2から遠い側)から供給し、加熱炉22の上方(すなわち、ダミーロッド2に近い側)から排気することが好ましい。このような方向で雰囲気ガスを供給することにより、多孔質ガラス母材4aを加熱した際、ガラス母材4b中にOH基が拡散することを防止できる。   The atmospheric gas is preferably supplied from below the heating furnace 22 (that is, the side far from the dummy rod 2) and exhausted from above the heating furnace 22 (that is, the side close to the dummy rod 2). By supplying the atmospheric gas in such a direction, when the porous glass base material 4a is heated, OH groups can be prevented from diffusing into the glass base material 4b.

透明化処理を行ったガラス母材4bをさらに延伸して、細長いガラスロッドを形成する(図示せず)。延伸したガラスロッドを数本のガラスロッドに切断し、各ガラスロッドの外周にさらに多孔質ガラス層を堆積させて、光ファイバとしての特性を満足するために必要な厚みのクラッド(第2クラッド)となる部分を形成する。この工程をジャケット付けという。   The transparent glass base material 4b is further stretched to form an elongated glass rod (not shown). The stretched glass rod is cut into several glass rods, and a porous glass layer is further deposited on the outer periphery of each glass rod to provide a clad having a thickness necessary for satisfying the characteristics as an optical fiber (second clad). The part which becomes becomes. This process is called jacketing.

図4(A)は、ジャケット付け工程の一例を示している。図4(A)に示すように、ガラス母材4b(図3)から製造したガラスロッド4cの先端にダミーロッド2bを接続し、ガラスロッド4cの他方端には別のダミーロッド2cを接続した出発ロッド42を用意し、この出発ロッド42を連結棒25に連結して垂直に配置する。バーナ24を反応容器26の下方でかつ斜め上方へ向けて設置し、バーナ24により出発ロッド42上端側から徐々に多孔質ガラス層41を堆積させる。このようにして、第2クラッドとなる部分を有する多孔質ガラス母材4dを形成する。   FIG. 4A shows an example of a jacketing process. As shown in FIG. 4A, a dummy rod 2b is connected to the tip of the glass rod 4c manufactured from the glass base material 4b (FIG. 3), and another dummy rod 2c is connected to the other end of the glass rod 4c. A starting rod 42 is prepared, and this starting rod 42 is connected to the connecting rod 25 and arranged vertically. The burner 24 is installed below the reaction vessel 26 and obliquely upward, and the porous glass layer 41 is gradually deposited from the upper end side of the starting rod 42 by the burner 24. In this way, the porous glass base material 4d having a portion to be the second cladding is formed.

第2クラッドとなる部分を合成する方法としては、図5に示す多層付け法でもよい。図5に示す方法では、出発ロッド42の長手方向に対してバーナ24を略垂直に配置する。出発ロッド42の長手方向へバーナ24を相対的に往復移動させて、出発ロッド42の外周に多孔質ガラス層41を多層に付着させ、第2クラッドとなる部分を有する多孔質ガラス母材4dを形成する。   As a method of synthesizing the portion to be the second cladding, the multilayer attaching method shown in FIG. 5 may be used. In the method shown in FIG. 5, the burner 24 is arranged substantially perpendicular to the longitudinal direction of the starting rod 42. The burner 24 is relatively reciprocated in the longitudinal direction of the starting rod 42, the porous glass layer 41 is adhered to the outer periphery of the starting rod 42 in multiple layers, and the porous glass base material 4d having a portion that becomes the second cladding is formed. Form.

なお、図4及び図5に示す方法において用いられるダミーロッド2b,2cは、上記で説明したダミーロッド2a(図1)と同様に、ダミーロッド2b,2cの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層(表層部分)は、OH基が150ppm以下である。ダミーロッド2b,2cの表層部分に含まれるOH基を150ppm以下とすることにより、後述する多孔質ガラス母材4dの焼結時において、ダミーロッド2b,2cからOH基を有する化合物がガラス母材に拡散するのを抑制できる。   The dummy rods 2b and 2c used in the method shown in FIG. 4 and FIG. 5 have a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rods 2b and 2c, similarly to the dummy rod 2a (FIG. 1) described above. The layer of this portion (surface layer portion) has an OH group of 150 ppm or less. By setting the OH group contained in the surface layer portion of the dummy rods 2b and 2c to 150 ppm or less, the compound having the OH group from the dummy rods 2b and 2c is converted into the glass base material when the porous glass base material 4d described later is sintered. Can be prevented from diffusing.

上記のようにしてジャケット付けを行った後、再び、図6に示すように、加熱炉22において第2クラッドとなる部分を有する多孔質ガラス母材4dを加熱、透明化処理することにより、光ファイバとした際にコアとなる部分及びクラッドとなる部分を有するガラス母材4eとする。
なお、この透明化処理の場合も、多孔質ガラス母材4dの下端側から上端側に向かって抵抗ヒータ21によって加熱することが望ましい。また、雰囲気ガスは、加熱炉22の下方から供給し、加熱炉22の上方から排気することが望ましい。
さらに、このように透明化処理したガラス母材4eを延伸して引き伸ばし、これを線引炉にて線引きすることにより、コアとクラッドを有する光ファイバを製造することができる。
After performing the jacketing as described above, as shown in FIG. 6 again, the porous glass base material 4d having a portion to become the second cladding in the heating furnace 22 is heated and transparentized to obtain a light A glass base material 4e having a core portion and a clad portion when a fiber is formed.
In the case of this clearing treatment, it is preferable to heat the porous glass base material 4d from the lower end side toward the upper end side by the resistance heater 21. Further, it is desirable that the atmospheric gas is supplied from below the heating furnace 22 and exhausted from above the heating furnace 22.
Furthermore, an optical fiber having a core and a clad can be manufactured by stretching and stretching the glass base material 4e thus transparentized and drawing it in a drawing furnace.

以上、説明したように、本実施形態に係るガラス母材の製造方法によれば、ダミーロッド2,2b,2cの表層部分に含まれるOH基を150ppm以下とするので、ダミーロッド2,2b,2cを用いて多孔質ガラス母材を形成してガラス母材4bを製造する際に、ダミーロッド2,2b,2cからガラス母材へのOH基の拡散を極力抑えることができる。つまり、ガラス母材を線引きして光ファイバとした際に、伝送損失が低減された光ファイバを効率良く得ることが可能なガラス母材を製造することができる。   As described above, according to the method for manufacturing a glass base material according to the present embodiment, the OH group contained in the surface layer portion of the dummy rods 2, 2b, 2c is 150 ppm or less, so the dummy rods 2, 2b, When the glass base material 4b is manufactured by forming a porous glass base material using 2c, diffusion of OH groups from the dummy rods 2, 2b, 2c to the glass base material can be suppressed as much as possible. That is, when a glass base material is drawn into an optical fiber, a glass base material capable of efficiently obtaining an optical fiber with reduced transmission loss can be manufactured.

なお、ダミーロッド2(図1)としては、例えば、天然石英からなるガラスロッドの表面におけるOH基及び遷移金属元素を除去して用いても良いが、光ファイバとして用いられないガラス母材の一部分を、新たなガラス母材の製造時のダミーロッド2として再利用しても良い。
ダミーロッド2として再利用できるガラス母材の一部分としては、例えば、図4(A)で点線で囲まれた多孔質ガラス母材4dの上端部16を、透明化処理して延伸したもの等を利用できる。多孔質ガラス母材4dの上端部16は、図4(B)の拡大図に示すように、ダミーロッド2の外周に堆積した多孔質ガラス層41の上端部分と、ダミーロッド2bに連結しているガラスロッド4cの上端部分とから構成され、通常光ファイバ製品として用いられない部分である。多孔質ガラス母材4dを延伸した後、図4(C)のように細長くなった上端部16aをガラス母材から切り出し、さらに適宜サイズ加工する等してダミーロッド2として用いることができる。
The dummy rod 2 (FIG. 1) may be used by removing OH groups and transition metal elements on the surface of a glass rod made of natural quartz, for example, but a part of a glass base material that is not used as an optical fiber. May be reused as the dummy rod 2 at the time of manufacturing a new glass base material.
As a part of the glass base material that can be reused as the dummy rod 2, for example, an upper end portion 16 of the porous glass base material 4d surrounded by a dotted line in FIG. Available. As shown in the enlarged view of FIG. 4B, the upper end portion 16 of the porous glass base material 4d is connected to the upper end portion of the porous glass layer 41 deposited on the outer periphery of the dummy rod 2 and the dummy rod 2b. It is a part which is comprised from the upper end part of the glass rod 4c which is, and is not normally used as an optical fiber product. After the porous glass base material 4d is stretched, the elongated upper end portion 16a as shown in FIG. 4C can be cut out from the glass base material and further sized so that it can be used as the dummy rod 2.

ガラス母材として合成された合成石英は、高純度であり、含有するOH基及び遷移金属元素の含有量(重量濃度)も極めて低いので、このように光ファイバの製造後に不要となったガラス母材の端部を用いることにより、新たに製造するガラス母材への不純物の拡散を抑えることができ、しかも、不要部分として処分されていたガラス母材の端部の再利用を図ることができる。これにより、品質向上とともに経済的にも有利である。   Synthetic quartz synthesized as a glass base material has a high purity, and the content (weight concentration) of OH groups and transition metal elements contained is extremely low. By using the end of the material, it is possible to suppress the diffusion of impurities into the newly manufactured glass base material, and it is possible to reuse the end portion of the glass base material that has been disposed as an unnecessary part. . This is advantageous not only in terms of quality improvement but also economically.

また、上記実施形態においては、ファイバのコアとなる部分及びクラッドとなる部分の一部を同時合成して多孔質ガラス母材4aを形成する例(図1)について説明したが、本発明の製造方法はこれに限定されない。すなわち、本発明の製造方法は、コアとなる部分のみを有する多孔質ガラス母材を形成した後、加熱・透明化処理して延伸し、クラッドとなる部分のジャケット付けを一度に行う形態であってもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the part (FIG. 1) which synthesize | combines simultaneously the part which becomes a core of a fiber, and a part of the part which becomes a clad was demonstrated (FIG. 1), manufacture of this invention was demonstrated. The method is not limited to this. That is, the production method of the present invention is a form in which after forming a porous glass base material having only a core portion, the substrate is stretched by heating / transparency treatment, and the cladding portion is jacketed at a time. May be.

下記の実施例1、2及び比較例の条件にてガラス母材を製造し、それぞれのガラス母材から光ファイバを線引きして伝送損失を測定した。
(実施例1)
不純物の含有量が軽金属元素15ppm、遷移金属元素2.8ppm、OH基10ppmの石英棒(GE社製)をダミーロッドとして用い、このダミーロッドを予め酸水素火炎を用いて火炎研磨して清浄化した。なお、実施例1で用いたダミーロッドに含まれる添加材の総量は0.1重量%以下であった。
このダミーロッドに、VAD法によりコアとクラッドとなる部分のガラス微粒子を同時に堆積させ、多孔質ガラス母材を形成した。その後、加熱炉にて約1200℃で脱水、OH基の除去をし、約1550℃で加熱し透明化処理を行った。このようにして得られたガラス母材を延伸してジャケット付けを行い、さらにその外周にクラッドとなる部分を合成し、再び加熱炉で透明化処理を行った。
Glass base materials were manufactured under the conditions of Examples 1 and 2 and Comparative Examples below, and optical losses were drawn from the respective glass base materials to measure transmission loss.
(Example 1)
A quartz rod (made by GE) with a light metal element content of 15 ppm, a transition metal element of 2.8 ppm, and an OH group content of 10 ppm is used as a dummy rod. did. The total amount of additive contained in the dummy rod used in Example 1 was 0.1% by weight or less.
On this dummy rod, glass fine particles of the core and the clad were simultaneously deposited by the VAD method to form a porous glass base material. Thereafter, dehydration was performed at about 1200 ° C. in the heating furnace, OH groups were removed, and heating was performed at about 1550 ° C. to perform a transparent treatment. The glass base material obtained in this way was stretched and jacketed, and a portion to be a clad was synthesized on the outer periphery thereof, and a transparent treatment was again performed in a heating furnace.

(実施例2)
ダミーロッドとして、ガラス母材の上端部の不要部分(図4(A)に示す点線で囲まれた部分)を棒状に形成したものを再利用した。このダミーロッドは、市販の石英棒の表面に合成石英が形成されたものであり、表面部分の不純物の含有量は、軽金属元素0ppm、遷移金属元素0.1ppm以下、OH基1ppm以下であった。このダミーロッドを予めレーザによって火炎研磨して清浄化した。なお、実施例2で用いたダミーロッドに含まれる添加材の総量は0.1重量%以下であった。
このダミーロッドに、VAD法によりコアとクラッドとなる部分のガラス微粒子堆積体を同時に形成し、その後、加熱炉にて約1200℃にて脱水、OH基の除去をし、約1550℃で透明化処理した。このようにして得られたガラス母材を延伸し、さらにその外周にクラッドとなる部分を合成し、再び加熱炉で透明化処理を行った。
(Example 2)
As the dummy rod, an unnecessary portion (portion surrounded by a dotted line shown in FIG. 4A) of the upper end portion of the glass base material formed into a rod shape was reused. This dummy rod has a synthetic quartz formed on the surface of a commercially available quartz rod, and the content of impurities on the surface portion was 0 ppm for light metal elements, 0.1 ppm or less for transition metal elements, and 1 ppm or less for OH groups. . This dummy rod was previously cleaned by flame polishing with a laser. The total amount of additive contained in the dummy rod used in Example 2 was 0.1% by weight or less.
On this dummy rod, a glass particle deposit in the core and clad is formed at the same time by the VAD method, then dehydrated at about 1200 ° C in a heating furnace, OH group removed, and transparentized at about 1550 ° C. Processed. The glass base material obtained in this way was stretched, and a portion to be a clad was synthesized on the outer periphery thereof, and a transparent treatment was again performed in a heating furnace.

(比較例1)
不純物の含有量が遷移金属元素40ppm、OH基200ppmの市販の石英棒をダミーロッドとして用い、このダミーロッドを予め酸水素火炎によって火炎研磨して清浄化した。このダミーロッドに、VAD法によりコアとクラッドとなる部分のガラス微粒子堆積体を同時に形成し、その後、加熱炉にて約1200℃にて脱水、OH基の除去をし、約1550℃で透明化処理する。このようにして得られたガラス母材を延伸し、さらにその外周にクラッドとなる部分を合成し、再び加熱炉で透明化処理を行った。
(Comparative Example 1)
A commercially available quartz rod having an impurity content of 40 ppm and a transition metal element of 40 ppm and OH group of 200 ppm was used as a dummy rod, and this dummy rod was previously cleaned by flame polishing with an oxyhydrogen flame. On this dummy rod, a glass particle deposit in the core and clad is formed at the same time by the VAD method, then dehydrated at about 1200 ° C in a heating furnace, OH group removed, and transparentized at about 1550 ° C. To process. The glass base material obtained in this manner was stretched, and a portion to be a clad was synthesized on the outer periphery thereof, and a transparent treatment was again performed in a heating furnace.

上記実施例1、実施例2及び比較例1にて得られたガラス母材を、それぞれ線引きして光ファイバとし、損失波長特性測定装置(PK社製)でその光ファイバの伝送損失を測定した。なお、伝送損失の測定波長としては、遷移金属元素の含有により伝送損失の影響を受けやすい波長1.30μm及びOH基の含有により伝送損失の影響を受けやすい波長1.38μmとした。その結果を図7〜9のグラフに示す。図7〜9において、縦軸は測定した伝送損失量を示し、横軸はダミーロッド側の端部を基準としたファイバ長を示している。   The glass base materials obtained in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 were each drawn to form an optical fiber, and the transmission loss of the optical fiber was measured with a loss wavelength characteristic measuring device (manufactured by PK). . The measurement wavelength of the transmission loss was 1.30 μm, which is easily affected by the transmission loss due to the inclusion of the transition metal element, and 1.38 μm, which is easily affected by the transmission loss due to the inclusion of the OH group. The results are shown in the graphs of FIGS. 7 to 9, the vertical axis represents the measured transmission loss amount, and the horizontal axis represents the fiber length based on the end on the dummy rod side.

(実施例1の結果)
図7(a)、(b)に示すように、実施例1では、いずれの波長においても、ダミーロッドから約300km程度離れた箇所から、低い伝送損失(波長1.30μmでは約0.35dB/km以下、波長1.38μmでは約0.30dB/km以下。実施例2及び比較例1でも同様。)の光ファイバが得られた。
(実施例2の結果)
図8(a)、(b)に示すように、実施例2では、いずれの波長においても、ダミーロッドから約70km程度離れた箇所から、低い伝送損失の光ファイバが得られた。
(比較例の結果)
図9(a)、(b)に示すように、比較例では、いずれの波長においても、ダミーロッドから約450km程度まで離れないと低い伝送損失の光ファイバが得られなかった。
(Result of Example 1)
As shown in FIGS. 7A and 7B, in Example 1, at any wavelength, a low transmission loss (about 0.35 dB / at a wavelength of 1.30 μm) from a location about 300 km away from the dummy rod. km or less, and about 0.30 dB / km or less at a wavelength of 1.38 μm. The same applies to Example 2 and Comparative Example 1.).
(Results of Example 2)
As shown in FIGS. 8A and 8B, in Example 2, an optical fiber having a low transmission loss was obtained from a position about 70 km away from the dummy rod at any wavelength.
(Result of comparative example)
As shown in FIGS. 9A and 9B, in the comparative example, an optical fiber having a low transmission loss was not obtained at any wavelength unless the distance from the dummy rod was about 450 km.

このように、比較例では、線引きした光ファイバのかなりの部分にて伝送損失が高く、製品として使用することができず、歩留まりが低下してしまうのに対して、実施例1、2では、伝送損失が極力低減され、歩留まりの低下を抑制できることがわかった。   Thus, in the comparative example, transmission loss is high in a considerable portion of the drawn optical fiber, and cannot be used as a product, and the yield decreases. It was found that the transmission loss was reduced as much as possible and the yield reduction could be suppressed.

本発明のガラス母材の製造方法を説明する概略構成図である。It is a schematic block diagram explaining the manufacturing method of the glass base material of this invention. ダミーロッドへの火炎研磨を説明する概略側面図及び断面図である。It is the schematic side view and sectional drawing explaining the flame grinding | polishing to a dummy rod. 多孔質ガラス層を加熱・透明化処理してガラス母材を製造する方法を説明する概略構成図である。It is a schematic block diagram explaining the method to heat and clarify a porous glass layer and to manufacture a glass base material. VAD法によりジャケット付けを行う方法を説明する概略構成図である。It is a schematic block diagram explaining the method of jacketing by VAD method. 多層付け法によりジャケット付けを行う方法を説明する概略構成図である。It is a schematic block diagram explaining the method of performing jacket attachment by the multilayer attachment method. 多孔質ガラス層を加熱・透明化処理してガラス母材を製造する方法を説明する概略構成図である。It is a schematic block diagram explaining the method to heat and clarify a porous glass layer and to manufacture a glass base material. ガラス母材の製造方法の実施例1の結果を説明するグラフ図である。It is a graph explaining the result of Example 1 of the manufacturing method of a glass base material. ガラス母材の製造方法の実施例2の結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the result of Example 2 of the manufacturing method of a glass base material. ガラス母材の製造方法の比較例1の結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the result of the comparative example 1 of the manufacturing method of a glass base material.

符号の説明Explanation of symbols

2,2b,2c ダミーロッド
4,41 多孔質ガラス層
4b ガラス母材
4c ガラスロッド
42 出発ロッド
12 バーナ(無水プロセス加熱源)
2, 2b, 2c Dummy rod 4, 41 Porous glass layer 4b Glass base material 4c Glass rod 42 Starting rod 12 Burner (anhydrous process heating source)

Claims (7)

ダミーロッドに多孔質ガラス層を形成して、前記多孔質ガラス層を加熱して透明化処理を行うガラス母材の製造方法であって、
前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層は、OH基が150ppm以下であり、かつ添加材の総量が0.1重量%以下であることを特徴とするガラス母材の製造方法。
A method for producing a glass base material, wherein a porous glass layer is formed on a dummy rod, and the porous glass layer is heated and subjected to a transparent treatment,
The glass base material, wherein the layer at a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod has an OH group of 150 ppm or less and a total amount of additives of 0.1 wt% or less. Manufacturing method.
ガラスロッドの先端にダミーロッドを接続した出発ロッド上に多孔質ガラス層を形成して、前記多孔質ガラス層を加熱して透明化処理を行うガラス母材の製造方法であって、
前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層は、OH基が150ppm以下であることを特徴とするガラス母材の製造方法。
Forming a porous glass layer on a starting rod in which a dummy rod is connected to the tip of the glass rod, and heating the porous glass layer to carry out a transparent treatment;
The method for producing a glass base material, wherein the layer at a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod has an OH group of 150 ppm or less.
前記ダミーロッドの表面から0.5〜3mmの深さの部分の層に含まれる遷移金属元素が30ppm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス母材の製造方法。 The method for producing a glass base material according to claim 1 or 2, wherein a transition metal element contained in a layer having a depth of 0.5 to 3 mm from the surface of the dummy rod is 30 ppm or less. 予め無水プロセス加熱源を用いて、前記ダミーロッドの表面を加熱して、不純物を減少させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス母材の製造方法。 The method for producing a glass base material according to any one of claims 1 to 3, wherein impurities are reduced by heating the surface of the dummy rod in advance using an anhydrous process heat source. 前記ダミーロッドは、合成石英製であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラス母材の製造方法。 The method for producing a glass base material according to claim 1, wherein the dummy rod is made of synthetic quartz. 前記多孔質ガラス層の透明化処理を、前記ダミーロッド側が最後に加熱されるように行うことを特徴とする請求項1,3〜5のいずれか1項に記載のガラス母材の製造方法。 The method for producing a glass base material according to any one of claims 1 to 3, wherein the transparent glass layer is transparentized so that the dummy rod side is heated last. 前記多孔質ガラス層の透明化処理において、雰囲気ガスを前記ダミーロッドの遠い側から供給し、前記ダミーロッドに近い側から排気することを特徴とする請求項1,3〜6のいずれか1項に記載のガラス母材の製造方法。 7. The method according to claim 1, wherein an atmosphere gas is supplied from a side far from the dummy rod and exhausted from a side near the dummy rod in the transparent treatment of the porous glass layer. The manufacturing method of the glass base material as described in 2.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009000621A1 (en) * 2007-06-25 2008-12-31 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing a cylinder of quartz glass using a holding device and appropriate holding device for performing the method
CN101687688B (en) * 2007-06-25 2012-11-07 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 Method for producing a cylinder of quartz glass using a holding device and appropriate holding device for performing the method
US8484997B2 (en) 2007-06-25 2013-07-16 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing a cylinder of quartz glass using a holding device and appropriate holding device for performing the method

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