JP2005294755A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device capable of fully protecting a semiconductor chip laid on a wiring substrate and increasing a part mounting area on the wiring substrate. <P>SOLUTION: A wiring substrate 12 is provided with a semiconductor chip 11. The substrate has a pad electrically connected with the semiconductor chip 11. With a mold resin 13, the semiconductor chip 11 on the wiring substrate 12 is sealed. The resin is in a state in which a portion of the side surface thereof coincides with the side surface of the wiring substrate 12 and the other portion of the side surface thereof is formed inside the side surface of the wiring substrate 12. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、半導体チップが基板上に搭載されてなる半導体装置に関し、例えば半導体メモリカードに使用されるものである。   The present invention relates to a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a substrate, and is used, for example, in a semiconductor memory card.

近年、カード用ケースに内蔵された半導体メモリ、例えば不揮発性メモリを利用して、情報を記録する記憶装置の1つとして半導体メモリカード(以下、メモリカードと記す)が注目されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, a semiconductor memory card (hereinafter referred to as a memory card) has attracted attention as one of storage devices that record information using a semiconductor memory built in a card case, for example, a nonvolatile memory (for example, Patent Document 1).

これらメモリカードには、半導体チップを搭載した配線基板(以下、半導体装置)がカード用ケースに内蔵された構造を有するものがある。この構造に用いられる配線基板では、通常、配線基板の中央にモールド樹脂が形成されている。図4に、従来の半導体装置の外形を示す。図4(a)は半導体装置の上面図、図4(b)は横から見た半導体装置の側面図、図4(c)は下から見た半導体装置の側面図である。   Some of these memory cards have a structure in which a wiring board (hereinafter referred to as a semiconductor device) on which a semiconductor chip is mounted is built in a card case. In a wiring board used for this structure, a mold resin is usually formed at the center of the wiring board. FIG. 4 shows the external shape of a conventional semiconductor device. 4A is a top view of the semiconductor device, FIG. 4B is a side view of the semiconductor device viewed from the side, and FIG. 4C is a side view of the semiconductor device viewed from the bottom.

図4(a)〜図4(c)に示すように、半導体装置100は、配線基板(インターポーザ)101とこの配線基板の中央に形成されたモールド樹脂102から構成されている。モールド樹脂102内の配線基板101上には半導体チップ(図示しない)が載置されている。また、配線基板101には、方向識別用の切り欠き部101Rが形成されている。   As shown in FIGS. 4A to 4C, the semiconductor device 100 includes a wiring board (interposer) 101 and a mold resin 102 formed at the center of the wiring board. A semiconductor chip (not shown) is placed on the wiring substrate 101 in the mold resin 102. Further, the wiring board 101 is formed with a notch 101R for direction identification.

半導体装置100の製造工程におけるフレーム基板のレイアウトを図5に示す。半導体装置100の製造工程では、図5に示すように、フレーム基板103に複数(ここでは8個)の半導体装置100が配置される。個々の半導体装置100は、4つのサポート部104によって支えられ、それ以外の周囲はスリット105になっている。また、半導体装置100を支える1つのサポート部上には、モールド樹脂102を成形するときに用いられた樹脂注入ゲート106が形成されている。   A layout of the frame substrate in the manufacturing process of the semiconductor device 100 is shown in FIG. In the manufacturing process of the semiconductor device 100, as shown in FIG. 5, a plurality (eight in this case) of semiconductor devices 100 are arranged on the frame substrate 103. Each semiconductor device 100 is supported by four support portions 104, and the other periphery is a slit 105. A resin injection gate 106 used when molding the mold resin 102 is formed on one support portion that supports the semiconductor device 100.

しかしながら、図4(a)に示したように、モールド樹脂102が配線基板101の中央のみに形成された半導体装置では、半導体チップを十分に保護することができないという問題や、配線基板101への部品搭載面積が小さいという問題が生じる場合がある。
特開2003−108967号公報
However, as shown in FIG. 4A, in the semiconductor device in which the mold resin 102 is formed only in the center of the wiring substrate 101, there is a problem that the semiconductor chip cannot be sufficiently protected, There may be a problem that the component mounting area is small.
JP 2003-108967 A

この発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、配線基板上に載置された半導体チップを十分に保護することができ、さらに配線基板上への部品搭載面積を増大できる半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor device capable of sufficiently protecting a semiconductor chip mounted on a wiring board and further increasing the component mounting area on the wiring board. The purpose is to do.

この発明の一実施形態によれば、半導体チップと、前記半導体チップが載置され、前記半導体チップと電気的に接続されたパッドを有する配線基板と、前記配線基板上の前記半導体チップを封止し、その側面の一部分が前記配線基板の側面と一致すると共にその側面の他の部分が前記配線基板の側面より内側に形成されたモールド樹脂とを具備する半導体装置が提供される。   According to an embodiment of the present invention, a semiconductor chip, a wiring board on which the semiconductor chip is mounted and having a pad electrically connected to the semiconductor chip, and the semiconductor chip on the wiring board are sealed Then, a semiconductor device is provided that includes a mold resin in which a part of the side surface coincides with the side surface of the wiring board and the other part of the side surface is formed inside the side surface of the wiring board.

この発明によれば、配線基板上に載置された半導体チップを十分に保護することができ、さらに配線基板上への部品搭載面積を増大することができる半導体装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device that can sufficiently protect a semiconductor chip mounted on a wiring board and can further increase a component mounting area on the wiring board.

以下、図面を参照してこの発明の実施形態について説明する。説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.

図1に、この発明の実施形態の半導体装置の外形を示す。図1(a)は半導体装置の上面図、図1(b)は横から見た半導体装置の側面図、図1(c)は下から見た半導体装置の側面図である。   FIG. 1 shows an outline of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 1A is a top view of the semiconductor device, FIG. 1B is a side view of the semiconductor device viewed from the side, and FIG. 1C is a side view of the semiconductor device viewed from the bottom.

図1(a)〜図1(c)に示すように、半導体装置10は、半導体メモリ(例えば、不揮発性メモリ)を含む半導体チップ11、配線基板(インターポーザ)12、及びモールド樹脂13から構成される。1つ(または複数)の半導体チップ11が配線基板12の一方の面上に載置されている。配線基板12は、半導体チップ11と電気的に接続されたパッドを有している。さらに、配線基板12には、方向識別用の切り欠き部12Rが形成されており、図1(a)に示す上面図において、半導体装置10は矩形と異なる形状(矩形から隣接する2隅部がカットされた形状)を有している。モールド樹脂13は、半導体チップ11が載置された配線基板12上に形成され、半導体チップ11を封止して保護する。   As shown in FIGS. 1A to 1C, the semiconductor device 10 includes a semiconductor chip 11 including a semiconductor memory (for example, a nonvolatile memory), a wiring substrate (interposer) 12, and a mold resin 13. The One (or a plurality) of semiconductor chips 11 are placed on one surface of the wiring board 12. The wiring board 12 has pads that are electrically connected to the semiconductor chip 11. Further, the wiring substrate 12 has a notch 12R for direction identification. In the top view shown in FIG. 1A, the semiconductor device 10 has a shape different from a rectangle (two corners adjacent to the rectangle are Cut shape). The mold resin 13 is formed on the wiring substrate 12 on which the semiconductor chip 11 is placed, and seals and protects the semiconductor chip 11.

図1(b)すように、半導体装置10の対向する2つの辺において、モールド樹脂13の側面は配線基板12の側面と一致している。言い換えると、モールド樹脂13の側面と配線基板12の側面とが、対向する1組の辺で面一になっている。一方、半導体装置10のその他の辺において、モールド樹脂13の側面は配線基板12の側面より内側に配置されている。前述のように、モールド樹脂13と配線基板12との側面を一致させるには、モールド樹脂と配線基板とを一度に切断するのがよい。   As shown in FIG. 1B, the side surface of the mold resin 13 coincides with the side surface of the wiring substrate 12 in two opposing sides of the semiconductor device 10. In other words, the side surface of the mold resin 13 and the side surface of the wiring substrate 12 are flush with each other in a pair of opposing sides. On the other hand, on the other side of the semiconductor device 10, the side surface of the mold resin 13 is disposed more inside than the side surface of the wiring substrate 12. As described above, in order to make the side surfaces of the mold resin 13 and the wiring substrate 12 coincide with each other, it is preferable to cut the mold resin and the wiring substrate at a time.

また、配線基板12上には、メッキリード14が形成されている。メッキリード14は、配線基板12上の配線から引き出されており、配線基板12上のパッドまたは端子に電解金メッキを施すために使用される。メッキリード14が引き出される配線基板12上の配線は、半導体チップ11と電気的に接続されるパッドに接続された配線を含む。メッキリード14は、切り欠き部12Rを避けて配置されている。言い換えると、メッキリード14は、切り欠き部12Rにて切断されることなく、切り欠き部12R以外の基板外縁まで引き出されている。   A plating lead 14 is formed on the wiring board 12. The plating lead 14 is drawn from the wiring on the wiring board 12 and is used for performing electrolytic gold plating on a pad or a terminal on the wiring board 12. The wiring on the wiring board 12 from which the plating lead 14 is drawn out includes wiring connected to a pad electrically connected to the semiconductor chip 11. The plating lead 14 is disposed so as to avoid the notch 12R. In other words, the plating lead 14 is pulled out to the outer edge of the substrate other than the notch 12R without being cut at the notch 12R.

前記構成を持つ半導体装置では、半導体装置10の対向する1組の辺において、モールド樹脂13の端部側面が配線基板12の端部側面に一致するように形成されているため、モールド樹脂13が配線基板12を覆う領域が大きくなり、半導体チップ11の保護機能を向上させることができ、さらに半導体チップなどの部品を搭載可能な配線基板12上の面積を増大させることができる。なお、図1に示した半導体装置は、カード用ケースに設けられた基板収納凹部に組み込まれてメモリカードが構成される。   In the semiconductor device having the above-described configuration, the end surface of the mold resin 13 is formed so as to coincide with the end surface of the wiring substrate 12 in a pair of opposing sides of the semiconductor device 10. The area covering the wiring substrate 12 is increased, the protection function of the semiconductor chip 11 can be improved, and the area on the wiring substrate 12 on which components such as the semiconductor chip can be mounted can be increased. The semiconductor device shown in FIG. 1 is incorporated into a substrate housing recess provided in a card case to constitute a memory card.

図2は、前記実施形態の半導体装置の製造工程におけるフレーム基板のレイアウトを示す図である。1つのフレーム基板21から12個の半導体装置が得られる例である。フレーム基板21には、行方向に4個、列方向に3個、計12個の配線基板12が配列されている。切り欠き部12Rは、あらかじめフレーム基板21に基板スリット(穴)22を空けておくことで形成する。   FIG. 2 is a view showing a layout of the frame substrate in the manufacturing process of the semiconductor device of the embodiment. In this example, 12 semiconductor devices are obtained from one frame substrate 21. A total of twelve wiring boards 12 are arranged on the frame board 21, four in the row direction and three in the column direction. The notch 12R is formed by previously making a substrate slit (hole) 22 in the frame substrate 21.

配線基板12上に形成された配線からはメッキリード14が引き出されている。メッキリード14は、配線基板12上の前記配線に接続されたパッドまたは端子に電解金メッキを施すために用いられる。メッキリード14は、基板スリット22(切り欠き部12R)を避けて配置されている。さらに、メッキリード14は、12個の配線基板12を取り巻くように形成されたメッキリード配線23を介して、導通検査パッド24に接続されている。   A plating lead 14 is drawn out from the wiring formed on the wiring board 12. The plating lead 14 is used for performing electrolytic gold plating on a pad or a terminal connected to the wiring on the wiring board 12. The plating lead 14 is disposed avoiding the substrate slit 22 (notch portion 12R). Further, the plating lead 14 is connected to the continuity test pad 24 through the plating lead wiring 23 formed so as to surround the twelve wiring boards 12.

このような構成により、図2に示すように、フレーム基板21の状態において、全てのメッキリード14を導通検査パッド24に接続する。これにより、半導体チップ11のパッドと配線基板12のパッドをワイヤーボンディングで接続した際、これらパッド間の導通性を確認することができ、ワイヤーボンディングの接続不良を検出できる。この結果、例えば、複数の半導体チップを含むマルチチップパッケージの製造工程において、ワイヤーボンディングの接続不良を検出できずに不良品に別の半導体チップを搭載するなど、不良を検出できないまま次工程に進めることがある。このような場合の歩留まりロスを低減することができる。なお、図5に示した従来例では、サポート部104を除いてフレーム基板103にスリット105が形成されているので、メッキリードを設けてもフレーム基板の状態で、全てのメッキリードを導通検査パッドに接続することはできない。   With this configuration, as shown in FIG. 2, all the plating leads 14 are connected to the continuity test pad 24 in the state of the frame substrate 21. Thereby, when the pads of the semiconductor chip 11 and the pads of the wiring substrate 12 are connected by wire bonding, the conductivity between these pads can be confirmed, and a connection failure in wire bonding can be detected. As a result, for example, in a manufacturing process of a multi-chip package including a plurality of semiconductor chips, it is possible to proceed to the next process without detecting a defect, such as mounting another semiconductor chip on a defective product without detecting a defective bonding of wire bonding. Sometimes. Yield loss in such a case can be reduced. In the conventional example shown in FIG. 5, since the slit 105 is formed in the frame substrate 103 except for the support portion 104, all the plating leads are connected to the continuity test pad in the state of the frame substrate even if the plating leads are provided. Can not be connected to.

図2に示したフレーム基板21に、モールド樹脂を形成した状態を図3に示す。なお、メッキリード14及び基板スリット22は省略している。列方向に配列された3個の配線基板12上に、モールド樹脂13が連続的に成形されている。モールド樹脂13の先端には、モールド樹脂13を成形するときに用いられた樹脂注入ゲート13Aが形成されている。このように、モールド樹脂13を金型で成形した後、カットライン25をブレード装置により切断する。これにより、12個の半導体装置10が形成される。   FIG. 3 shows a state in which the mold resin is formed on the frame substrate 21 shown in FIG. The plating lead 14 and the substrate slit 22 are omitted. Mold resin 13 is continuously formed on three wiring boards 12 arranged in the column direction. A resin injection gate 13 </ b> A used when the mold resin 13 is molded is formed at the tip of the mold resin 13. In this way, after the mold resin 13 is molded with a mold, the cut line 25 is cut by the blade device. Thereby, twelve semiconductor devices 10 are formed.

以下に、前記実施形態の半導体装置の製造方法を示す。   A method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment will be described below.

まず、配線基板12上に半導体チップ11を載置する。続いて、半導体チップ11上のパッドと配線基板12上のパッドとの間をワイヤーボンディングにより接続する。次に、導通検査パッド24を用いて、半導体チップ11上のパッドと配線基板12上のパッドとが電気的に接続されたか否かを検査する。これらパッド間が導通していることを確認した後、図3に示すように、配線基板12上にモールド樹脂13を成形する。その後、フレーム基板21上のカットライン25をブレード装置により切断する。以上により、半導体装置10が製造される。   First, the semiconductor chip 11 is placed on the wiring board 12. Subsequently, the pads on the semiconductor chip 11 and the pads on the wiring substrate 12 are connected by wire bonding. Next, using the continuity test pad 24, it is inspected whether the pad on the semiconductor chip 11 and the pad on the wiring substrate 12 are electrically connected. After confirming that the pads are conducting, a mold resin 13 is formed on the wiring board 12 as shown in FIG. Thereafter, the cut line 25 on the frame substrate 21 is cut by a blade device. Thus, the semiconductor device 10 is manufactured.

図5に示した従来例のように、配線基板の中央だけにモールド樹脂を形成する場合、製造工程においてフレーム基板に複数の半導体装置を配置するにあたり、個々の半導体装置間の距離を大きくする必要がある。このため、製造効率が悪くコスト面で不利となるという問題が生じていた。この実施形態では、対向する1組の辺において、モールド樹脂13の側面位置と配線基板12の側面位置とを一致させているので、個々の半導体装置間の距離を大きくする必要はなく、距離を空けずに半導体装置を配置することができる。これにより、製造効率が向上し、製品コストも低下させることができる。すなわち、従来例では、モールド金型間のスペースが必要になるため、1つのフレーム基板から8個しか半導体装置が得られなかったが、この実施形態では図3に示すように、列方向のモールド金型間のスペースが不要であるため、1つのフレーム基板から12個の半導体装置が得られる。したがって、1つのフレーム基板当たりの取り数が増加し、図5に示す従来例よりも製造効率を向上でき、製品コストも低下させることができる。   When the molding resin is formed only at the center of the wiring substrate as in the conventional example shown in FIG. 5, it is necessary to increase the distance between the individual semiconductor devices when arranging a plurality of semiconductor devices on the frame substrate in the manufacturing process. There is. For this reason, the problem that manufacturing efficiency was bad and it became disadvantageous on the cost side had arisen. In this embodiment, since the side surface position of the mold resin 13 and the side surface position of the wiring board 12 are made to coincide with each other in a pair of opposing sides, it is not necessary to increase the distance between individual semiconductor devices. A semiconductor device can be placed without leaving any space. Thereby, manufacturing efficiency can be improved and product cost can be reduced. That is, in the conventional example, since a space between mold dies is required, only eight semiconductor devices can be obtained from one frame substrate. In this embodiment, as shown in FIG. Since no space between the molds is required, 12 semiconductor devices can be obtained from one frame substrate. Therefore, the number of frames per frame substrate is increased, the manufacturing efficiency can be improved as compared with the conventional example shown in FIG. 5, and the product cost can be reduced.

また、従来例のように、配線基板の中央だけにモールド樹脂を形成した半導体装置では、フレーム基板においてワイヤーボンディングの電気検査(パスボンディング検査)が行えず、特に複数の半導体チップを含むマルチチップパッケージにおいて歩留まり低下するという問題が生じていた。この実施形態では、全てのメッキリードを導通検査パッドに接続できるので、パスボンディング検査を行うことができ、マルチチップパッケージにおける歩留まり低下を抑制することができる。   In addition, as in the conventional example, in a semiconductor device in which a mold resin is formed only in the center of the wiring substrate, the wire substrate cannot be subjected to electrical inspection (pass bonding inspection) on the frame substrate, and particularly a multi-chip package including a plurality of semiconductor chips. In this case, there was a problem that the yield decreased. In this embodiment, since all the plating leads can be connected to the continuity inspection pad, a pass bonding inspection can be performed, and a decrease in yield in the multichip package can be suppressed.

なお、前述した実施形態は、例えばSD(Secure Digital)カード、ミニSD(Secure Digital)カード、マルチメディアカード、またはXDカードなどに適用することができる。   The embodiment described above can be applied to, for example, an SD (Secure Digital) card, a mini SD (Secure Digital) card, a multimedia card, or an XD card.

また、前述した各実施形態はそれぞれ、単独で実施できるばかりでなく、適宜組み合わせて実施することも可能である。さらに、前述した各実施形態には種々の段階の発明が含まれており、各実施形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。   In addition, each of the above-described embodiments can be implemented not only independently but also in an appropriate combination. Furthermore, the above-described embodiments include inventions at various stages, and the inventions at various stages can be extracted by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiments.

(a)はこの発明の第1の実施形態の半導体装置の上面図、(b)は横から見た半導体装置の側面図、(c)は下から見た半導体装置の側面図である。(A) is a top view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, (b) is a side view of the semiconductor device viewed from the side, and (c) is a side view of the semiconductor device viewed from below. 前記実施形態の半導体装置の製造工程におけるフレーム基板のレイアウトを示す図である。It is a figure which shows the layout of the frame board | substrate in the manufacturing process of the semiconductor device of the said embodiment. 前記実施形態の半導体装置の製造工程におけるモールド樹脂形成後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after mold resin formation in the manufacturing process of the semiconductor device of the said embodiment. (a)は従来の半導体装置の上面図、(b)は横から見た半導体装置の側面図、(c)は下から見た半導体装置の側面図である。(A) is a top view of a conventional semiconductor device, (b) is a side view of the semiconductor device viewed from the side, and (c) is a side view of the semiconductor device viewed from below. 従来の半導体装置の製造工程におけるモールド樹脂形成後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after mold resin formation in the manufacturing process of the conventional semiconductor device.

符号の説明Explanation of symbols

11…半導体チップ、12…配線基板、12R…切り欠き部、13…モールド樹脂、14…メッキリード。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Semiconductor chip, 12 ... Wiring board, 12R ... Notch part, 13 ... Mold resin, 14 ... Plating lead.

Claims (5)

半導体チップと、
前記半導体チップが載置され、前記半導体チップと電気的に接続されたパッドを有する配線基板と、
前記配線基板上の前記半導体チップを封止し、その側面の一部分が前記配線基板の側面と一致すると共にその側面の他の部分が前記配線基板の側面より内側に形成されたモールド樹脂と、
を具備することを特徴とする半導体装置。
A semiconductor chip;
A wiring board having a pad on which the semiconductor chip is mounted and electrically connected to the semiconductor chip;
Sealing the semiconductor chip on the wiring substrate, a part of the side surface thereof coincides with the side surface of the wiring substrate and the other part of the side surface is formed inside the side surface of the wiring substrate; and
A semiconductor device comprising:
半導体チップと、
前記半導体チップが載置され、前記半導体チップと電気的に接続されたパッドを有する配線基板と、
前記半導体チップ上及び前記配線基板上に形成され、対向する2つの辺においてその側面が前記配線基板の側面と一致すると共にその他の辺においてその側面が前記配線基板の側面より内側に配置されたモールド樹脂と、
を具備することを特徴とする半導体装置。
A semiconductor chip;
A wiring board having a pad on which the semiconductor chip is mounted and electrically connected to the semiconductor chip;
A mold formed on the semiconductor chip and on the wiring substrate, the side surfaces of the two opposing sides coincide with the side surfaces of the wiring substrate, and the other side surfaces of the mold are disposed on the inner side of the side surfaces of the wiring substrate. Resin,
A semiconductor device comprising:
前記モールド樹脂の側面が前記配線基板の側面より内側に形成され露出された前記配線基板には切り欠き部が形成され、前記配線基板が有する前記パッドに接続されたリードは前記切り欠き部にて切断されることなく、前記切り欠き部を除く基板外縁に引き出されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   A cutout portion is formed in the exposed wiring board where the side surface of the mold resin is formed inside the side surface of the wiring board, and the lead connected to the pad of the wiring board is at the cutout portion. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is pulled out to an outer edge of the substrate excluding the notched portion without being cut. 前記パッドに接続された前記リードは、前記パッドに電解金メッキを施すためのメッキリードであることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the lead connected to the pad is a plating lead for applying electrolytic gold plating to the pad. 前記半導体チップは不揮発性メモリを含んでいることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1つに記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor chip includes a nonvolatile memory.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007172473A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Disco Abrasive Syst Ltd Method for producing memory card
JP2007179176A (en) * 2005-12-27 2007-07-12 Disco Abrasive Syst Ltd Wiring board and manufacturing method for memory card

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