JP2005294453A - Magnetic detection element - Google Patents

Magnetic detection element Download PDF

Info

Publication number
JP2005294453A
JP2005294453A JP2004105988A JP2004105988A JP2005294453A JP 2005294453 A JP2005294453 A JP 2005294453A JP 2004105988 A JP2004105988 A JP 2004105988A JP 2004105988 A JP2004105988 A JP 2004105988A JP 2005294453 A JP2005294453 A JP 2005294453A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
layer
magnetic layer
nonmagnetic
pinned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004105988A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4506242B2 (en
Inventor
Kazumi Matsuzaka
和美 松坂
Eiji Umetsu
英治 梅津
Naoya Hasegawa
直也 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP2004105988A priority Critical patent/JP4506242B2/en
Publication of JP2005294453A publication Critical patent/JP2005294453A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4506242B2 publication Critical patent/JP4506242B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic detection element having a self-stationary type of lamination ferry stationary layer, wherein the material of a non-magnetic film formed on an opposing side to a side where a non-magnetic material layer of the lamination ferry stationary layer is formed, and the material of a ferromagnetic layer constituting the lamination ferry stationary layer are suitably selected, thereby firmly fixing the magnetization of the lamination ferry stationary layer. <P>SOLUTION: The first magnetic layer 23a of a stationary magnetic layer 23 is formed on a non-magnetic metal layer 22. The non-magnetic metal layer 22 is composed of an X-Mn alloy (wherein X is the element of a kind or two kinds or more of any one of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni and Fe). The first magnetic layer 23a contains Co and Fe as a main body, and further a rare-earth element or a noble metal element is added thereto. A strain occurs in a crystal structure of the first magnetic layer 23a by this lamination structure, thereby enabling a magnetic strain constant λ to be increased, and the magnetic detection element having a large magnetic elastic effect can be provided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フリー磁性層、非磁性材料層、固定磁性層を有する磁気検出素子に係り、特に固定磁性層自体の一軸異方性によって固定磁性層の磁化を固定する磁気検出素子に関する。   The present invention relates to a magnetic detection element having a free magnetic layer, a nonmagnetic material layer, and a fixed magnetic layer, and more particularly to a magnetic detection element that fixes the magnetization of a fixed magnetic layer by uniaxial anisotropy of the fixed magnetic layer itself.

磁気記録再生装置に搭載されている磁気へッドの現在の主流は、巨大磁気抵抗(GMR)効果を応用したスピンバルブ型磁気検出素子を用いたものである。   The current mainstream of the magnetic head mounted on the magnetic recording / reproducing apparatus uses a spin-valve type magnetic detection element to which a giant magnetoresistance (GMR) effect is applied.

スピンバルブ型磁気検出素子は、固定磁性層と呼ばれる強磁性膜とフリー磁性層と呼ばれる強磁性軟磁性膜が、非磁性材料層と呼ばれる非磁性膜を介して積層されたものである。   A spin-valve type magnetic sensing element is formed by laminating a ferromagnetic film called a pinned magnetic layer and a ferromagnetic soft magnetic film called a free magnetic layer via a nonmagnetic film called a nonmagnetic material layer.

フリー磁性層の磁化は、硬磁性体からなるハードバイアス層などからの縦バイアス磁界によって一方向に揃えられる。そして記録媒体からの外部磁界に対し、フリー磁性層の磁化が感度良く変動する。一方、前記固定磁性層の磁化は、前記フリー磁性層の磁化方向と交叉する方向に固定されている。   The magnetization of the free magnetic layer is aligned in one direction by a longitudinal bias magnetic field from a hard bias layer made of a hard magnetic material. The magnetization of the free magnetic layer fluctuates with high sensitivity to an external magnetic field from the recording medium. On the other hand, the magnetization of the pinned magnetic layer is pinned in a direction crossing the magnetization direction of the free magnetic layer.

フリー磁性層の磁化方向の変動と、固定磁性層の固定磁化方向との関係で電気抵抗が変化し、この電気抵抗値の変化に基づく電圧変化または電流変化により、記録媒体からの洩れ磁界が検出される。   The electrical resistance changes depending on the relationship between the change in the magnetization direction of the free magnetic layer and the fixed magnetization direction of the fixed magnetic layer, and the leakage magnetic field from the recording medium is detected by the voltage change or current change based on the change in the electrical resistance value. Is done.

従来、前記固定磁性層を、PtMnなどの反強磁性材料からなる反強磁性層に重ねて形成し、前記固定磁性層と前記反強磁性層との間に一方向の交換結合磁界を発生させることによって,前記固定磁性層の磁化を固定させていた。   Conventionally, the pinned magnetic layer is formed to overlap an antiferromagnetic layer made of an antiferromagnetic material such as PtMn, and a unidirectional exchange coupling magnetic field is generated between the pinned magnetic layer and the antiferromagnetic layer. As a result, the magnetization of the pinned magnetic layer is fixed.

しかし、前記反強磁性層と前記固定磁性層の界面に充分な大きさの交換結合磁界を発生させるためには、前記反強磁性層の膜厚を200Å程度にする必要があった。   However, in order to generate a sufficiently large exchange coupling magnetic field at the interface between the antiferromagnetic layer and the pinned magnetic layer, the thickness of the antiferromagnetic layer has to be about 200 mm.

磁気検出素子を構成する積層体の中に存在する、膜厚の大きい反強磁性層は、センス電流の分流損失の主な原因となる。記録媒体の高記録密度化に対応するためには、磁気検出素子の出力を向上させることが必要であるが、上述したセンス電流の分流損失は磁気検出素子の出力向上の妨げになる。   An antiferromagnetic layer having a large film thickness present in the laminated body constituting the magnetic detection element is a main cause of a sense current shunt loss. In order to cope with an increase in recording density of the recording medium, it is necessary to improve the output of the magnetic detection element. However, the above-described shunt loss of the sense current hinders improvement of the output of the magnetic detection element.

また、磁気検出素子の上下には、検出対象の記録信号を効率的に読み取るために、軟磁性材料からなるシールド層が設けられる。記録媒体の高線記録密度化に対応するためには、上下のシールド層間距離を短くする必要がある。膜厚の大きな前記反強磁性層は、上下のシールド層間距離を短くするときの妨げにもなっていた。   In addition, shield layers made of a soft magnetic material are provided above and below the magnetic detection element in order to efficiently read a recording signal to be detected. In order to cope with the higher linear recording density of the recording medium, it is necessary to shorten the distance between the upper and lower shield layers. The antiferromagnetic layer having a large thickness has also hindered shortening the distance between the upper and lower shield layers.

そこで反強磁性層を省略し、固定磁性層自体の一軸異方性によって固定磁性層の磁化を固定する磁気検出素子が提案された。   Therefore, a magnetic sensing element has been proposed in which the antiferromagnetic layer is omitted and the magnetization of the pinned magnetic layer is pinned by uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer itself.

下記に本願出願前の特許文献を示す。
特開平8−7235号公報 特開2000−113418号公報
The patent documents before filing this application are shown below.
JP-A-8-7235 JP 2000-113418 A

特許文献1に記載されている磁気検出素子は、タンタル(Ta)からなるバッファ層62を下地として、その上に、ピン止め強磁性層70が積層されたものである。ピン止め強磁性層70は、第1のコバルト(Co)フィルム72と第2のコバルト(Co)フィルム74が、ルテニウム(Ru)フィルム73を介して積層されたものである。第1のコバルト(Co)フィルム72と第2のコバルト(Co)フィルム74は各々の異方性磁界によって磁化が固定されている。第1のコバルト(Co)フィルム72と第2のコバルト(Co)フィルム74は反強磁性結合しており、互いに反平行方向に磁化されている。   The magnetic detection element described in Patent Document 1 is obtained by stacking a pinned ferromagnetic layer 70 on a buffer layer 62 made of tantalum (Ta). The pinned ferromagnetic layer 70 is formed by laminating a first cobalt (Co) film 72 and a second cobalt (Co) film 74 via a ruthenium (Ru) film 73. Magnetization of the first cobalt (Co) film 72 and the second cobalt (Co) film 74 is fixed by respective anisotropic magnetic fields. The first cobalt (Co) film 72 and the second cobalt (Co) film 74 are antiferromagnetically coupled and are magnetized in antiparallel directions.

しかし、特許文献1に記載されている磁気検出素子のように、タンタルからなるバッファ層上にCoフィルムを積層する構成では、ピン止め強磁性層70の磁化方向を適切に固定できないことがわかった。このことは、特許文献2においても指摘されている。   However, it was found that the magnetization direction of the pinned ferromagnetic layer 70 cannot be fixed appropriately in the configuration in which the Co film is laminated on the buffer layer made of tantalum as in the magnetic detection element described in Patent Document 1. . This is also pointed out in Patent Document 2.

特許文献2に記載の磁気検出素子は、特許文献1の問題を解決することを目的として発明されたものである。この磁気検出素子では、積層フェリ固定層の強磁性膜をCoFeまたはCoFeNiによって形成することによって誘導磁気異方性を向上させている。   The magnetic detection element described in Patent Document 2 was invented for the purpose of solving the problem of Patent Document 1. In this magnetic sensing element, the induced magnetic anisotropy is improved by forming the ferromagnetic film of the laminated ferrimagnetic fixed layer of CoFe or CoFeNi.

自己固定式の固定磁性層の磁化を固定するために、重要な要素の一つは固定磁性層の磁気弾性エネルギーに由来する一軸異方性である。特に固定磁性層の磁歪を最適化することが重要である。   In order to fix the magnetization of the self-fixed pinned magnetic layer, one of the important factors is uniaxial anisotropy derived from the magnetoelastic energy of the pinned magnetic layer. In particular, it is important to optimize the magnetostriction of the pinned magnetic layer.

前記固定磁性層の磁歪を大きくできれば、例えば静電気放電(ESD)による過渡電流が流れたときでも、磁化反転を起こしにくい磁気検出素子を提供できる。   If the magnetostriction of the pinned magnetic layer can be increased, it is possible to provide a magnetic detection element that is unlikely to cause magnetization reversal even when a transient current due to electrostatic discharge (ESD) flows, for example.

しかし、特許文献2には、固定磁性層の磁歪を最適化する機構に関する考察がなく、固定磁性層の磁歪を最適化するための具体的構成に関する記載はなされていない。   However, Patent Document 2 does not discuss a mechanism for optimizing the magnetostriction of the pinned magnetic layer, and does not describe a specific configuration for optimizing the magnetostriction of the pinned magnetic layer.

そこで本発明は、上記従来の課題を解決するためのものであり、自己固定式の積層フェリ固定層を有する磁気検出素子において、積層フェリ固定層の磁歪を制御する機構を明らかにし、該磁歪を適切に制御するために、前記積層フェリ固定層の非磁性材料層が形成された側と反対側に形成される非磁性膜の材質と、積層フェリ固定層を構成する強磁性層の材質を適切に選択することで、前記積層フェリ固定層の磁化を強固に固定することが出来る磁気検出素子を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention is to solve the above-described conventional problems, and in a magnetic detection element having a self-fixing type laminated ferrimagnetic pinned layer, a mechanism for controlling the magnetostriction of the laminated ferrimagnetic pinned layer is clarified, and the magnetostriction is determined. In order to control appropriately, the material of the non-magnetic film formed on the side opposite to the side on which the non-magnetic material layer of the laminated ferri pinned layer is formed, and the material of the ferromagnetic layer constituting the laminated ferri pinned layer are appropriately selected. It is an object of the present invention to provide a magnetic detecting element capable of firmly fixing the magnetization of the laminated ferrimagnetic pinned layer.

本発明は、固定磁性層とフリー磁性層が非磁性材料層を介して積層されている磁気検出素子において、
前記固定磁性層は、複数の磁性層が非磁性中間層を介して積層されたものであって、前記複数の磁性層のうち前記非磁性材料層から最も離れた位置に形成されている第1磁性層の前記非磁性材料層が設けられている側と反対側にX―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)合金からなる非磁性金属層が形成され、
前記第1磁性層はCoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素が添加されてなり、
前記非磁性金属層内の結晶と前記第1磁性層内の結晶の少なくとも一部は、エピタキシャルまたはヘテロエピタキシャルな状態であり、
前記固定磁性層の記録媒体との対向面側の端面が開放されていることを特徴とするものである。
The present invention provides a magnetic sensing element in which a pinned magnetic layer and a free magnetic layer are laminated via a nonmagnetic material layer.
The pinned magnetic layer includes a plurality of magnetic layers stacked via a nonmagnetic intermediate layer, and is formed at a position farthest from the nonmagnetic material layer among the plurality of magnetic layers. X-Mn (where X is one or more of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, Fe) on the opposite side of the magnetic layer to the side on which the nonmagnetic material layer is provided A non-magnetic metal layer made of an alloy is formed,
The first magnetic layer is mainly composed of Co and Fe, and further added with a rare earth element or a noble metal element,
At least part of the crystals in the nonmagnetic metal layer and the crystals in the first magnetic layer are in an epitaxial or heteroepitaxial state,
The end surface of the fixed magnetic layer facing the recording medium is open.

本発明は、固定磁性層自体の一軸異方性によって固定磁性層の磁化が固定される、いわゆる自己固定式の磁気検出素子である。   The present invention is a so-called self-fixed magnetic detection element in which the magnetization of the pinned magnetic layer is pinned by uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer itself.

従って、膜厚200Åの厚い反強磁性層を有する磁気検出素子に比べて分流損失を少なくできるので、磁気検出素子の磁界検出出力を20〜30%向上させることができる。また、磁気検出素子の上下に設けられるシールド層間の距離も短くなるので、記録媒体のさらなる高線記録密度化に対応することもできる。   Therefore, since the shunt loss can be reduced as compared with the magnetic detection element having a thick antiferromagnetic layer having a thickness of 200 mm, the magnetic field detection output of the magnetic detection element can be improved by 20 to 30%. In addition, since the distance between the shield layers provided above and below the magnetic detection element is shortened, it is possible to cope with further increase in the recording density of the recording medium.

強磁性体膜の磁気異方性磁界を決める要素には、結晶磁気異方性、誘導磁気異方性、及び磁気弾性効果がある。このうち、結晶磁気異方性は保磁力を大きくすることで大きくすることが出来る。一方、誘導磁気異方性は成膜時または熱処理時に一方向の磁場を与えることによって一軸性を帯び、磁気弾性効果は一軸性の応力を加えることによって一軸性を帯びる。   Factors that determine the magnetic anisotropy field of the ferromagnetic film include crystal magnetic anisotropy, induced magnetic anisotropy, and magnetoelastic effect. Among these, the magnetocrystalline anisotropy can be increased by increasing the coercive force. On the other hand, the induced magnetic anisotropy is uniaxial by applying a unidirectional magnetic field during film formation or heat treatment, and the magnetoelastic effect is uniaxial by applying uniaxial stress.

本発明は、固定磁性層の磁化を固定する一軸異方性を決める、誘導磁気異方性と磁気弾性効果のうち、磁気弾性効果に着目してなされたものである。   The present invention has been made by paying attention to the magnetoelastic effect among the induced magnetic anisotropy and the magnetoelastic effect that determine the uniaxial anisotropy for fixing the magnetization of the fixed magnetic layer.

磁気弾性効果は、磁気弾性エネルギーに支配される。磁気弾性エネルギーは、固定磁性層にかかる応力と固定磁性層の磁歪定数によって規定される。   The magnetoelastic effect is dominated by magnetoelastic energy. The magnetoelastic energy is defined by the stress applied to the pinned magnetic layer and the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer.

本発明では、前記固定磁性層の記録媒体との対向面側の端面が開放されているので、応力の対称性がくずれて、前記固定磁性層には、素子高さ方向(ハイト方向;前記対向面に対する法線方向)に引張り応力が働く。本発明では、固定磁性層の磁歪定数を大きくすることによって磁気弾性エネルギーを大きくし、これによって、固定磁性層の一軸異方性を大きくするものである。固定磁性層の一軸異方性が大きくなると、固定磁性層の磁化は一定の方向に強固に固定され、磁気検出素子の出力が大きくなりかつ出力の安定性や対称性も向上する。   In the present invention, since the end surface of the fixed magnetic layer facing the recording medium is open, stress symmetry is broken, and the fixed magnetic layer has an element height direction (height direction; Tensile stress acts in the direction normal to the surface. In the present invention, the magnetoelastic energy is increased by increasing the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer, thereby increasing the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer. When the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer is increased, the magnetization of the pinned magnetic layer is firmly fixed in a fixed direction, the output of the magnetic detection element is increased, and the stability and symmetry of the output are also improved.

本発明では、まず前記固定磁性層をシンセティックフェリピンド構造(以下、積層フェリ固定層と呼ぶ場合がある)にし、前記積層フェリ固定層を構成する複数の磁性層のうち、非磁性材料層から最も離れた位置に形成されている第1磁性層の前記非磁性材料層が設けられている側と反対側に、X―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)合金からなる非磁性金属層を形成する。   In the present invention, first, the pinned magnetic layer has a synthetic ferri-pinned structure (hereinafter sometimes referred to as a laminated ferri-pinned layer), and among the plurality of magnetic layers constituting the laminated ferri-pinned layer, the nonmagnetic material layer is the most. X-Mn (where X is Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Ru, Os, Ni) on the opposite side of the first magnetic layer formed at a distance from the side where the nonmagnetic material layer is provided. A nonmagnetic metal layer made of an alloy (which is one or more elements of Fe, Fe) is formed.

前記非磁性金属層の格子定数は、前記第1磁性層の格子定数よりも大きいが、前記非磁性金属層内の結晶と前記第1磁性層内の結晶の少なくとも一部は、エピタキシャルまたはヘテロエピタキシャルな状態で成長しているため、前記第1磁性層の界面付近では結晶構造に歪みが生じ、その結果、前記第1磁性層の磁歪定数を大きく出来る。   The lattice constant of the nonmagnetic metal layer is larger than the lattice constant of the first magnetic layer, but at least part of the crystals in the nonmagnetic metal layer and the crystals in the first magnetic layer are epitaxial or heteroepitaxial. Therefore, the crystal structure is distorted near the interface of the first magnetic layer. As a result, the magnetostriction constant of the first magnetic layer can be increased.

本発明では、上記した非磁性金属層の材質のみならず第1磁性層の材質も改良する。
前記第1磁性層として必要な要素は、正の磁歪定数を有していること、積層フェリ固定層を構成する強磁性層間に作用するRKKY相互作用が強く働くこと、磁気検出素子の結晶配向性を崩さないこと、であると考えられる。
In the present invention, not only the material of the nonmagnetic metal layer but also the material of the first magnetic layer are improved.
The elements necessary for the first magnetic layer have a positive magnetostriction constant, a strong RKKY interaction acting between the ferromagnetic layers constituting the laminated ferrimagnetic fixed layer, and the crystal orientation of the magnetic sensing element It is thought that it is not breaking down.

正磁歪が必要な理由は、上記したように前記固定磁性層には、素子高さ方向(ハイト方向;前記対向面に対する法線方向)に引張り応力が働くので、磁歪を正にして前記固定磁性層の磁化方向をハイト方向に適切に向けるためである。   The reason why the positive magnetostriction is necessary is that, as described above, tensile stress acts on the pinned magnetic layer in the element height direction (height direction; normal direction to the facing surface). This is because the magnetization direction of the layer is appropriately oriented in the height direction.

RKKY相互作用は、積層フェリ固定層を構成する強磁性層間の反強磁性的な結合を強めるために大きくすることが必要である。RKKY相互作用が弱まれば、外部磁界等によって前記強磁性層の磁化が容易に回転するなどしGMR特性に悪影響を及ぼす。   The RKKY interaction needs to be increased in order to strengthen the antiferromagnetic coupling between the ferromagnetic layers constituting the laminated ferri pinned layer. If the RKKY interaction is weakened, the magnetization of the ferromagnetic layer is easily rotated by an external magnetic field or the like, which adversely affects the GMR characteristics.

磁気検出素子の高結晶配向性は、GMR特性に重要な要素であり、結晶配向性が崩れると(結晶配向性が低くなると)、抵抗変化率(ΔR/R)の低下等を招くため、第1磁性層の材質を改良することで結晶配向性が崩れてしまうことは好ましくない。   The high crystal orientation of the magnetic sensing element is an important factor for GMR characteristics. If the crystal orientation is lost (lower crystal orientation), the rate of change in resistance (ΔR / R) is reduced. It is not preferable that the crystal orientation is broken by improving the material of one magnetic layer.

本発明では、上記の条件を踏まえながら、第1磁性層の格子定数が、従来、第1磁性層として一般的に使用されているCoFe合金やCoよりも大きくなる磁性材料を選択する。   In the present invention, a magnetic material in which the lattice constant of the first magnetic layer is larger than that of a CoFe alloy or Co that has been generally used as the first magnetic layer in the past is selected in consideration of the above conditions.

すなわち本発明では前記第1磁性層を、CoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素を添加した磁性材料で形成する。この磁性材料は従来、第1磁性層として一般的に使用されていたCoFe合金やCo等に比べて格子定数が大きく、この結果、前記非磁性金属層との間でエピタキシャルまたはヘテロエピタキシャル成長が促進されやすく、この結果、第1磁性層の結晶構造はより効果的に歪み、従来に比べて第1磁性層の磁歪定数λsをさらに大きくすることが出来る。   That is, in the present invention, the first magnetic layer is formed of a magnetic material mainly composed of Co and Fe and further added with a rare earth element or a noble metal element. This magnetic material has a larger lattice constant than the CoFe alloy and Co that are conventionally used as the first magnetic layer, and as a result, epitaxial or heteroepitaxial growth is promoted with the nonmagnetic metal layer. As a result, the crystal structure of the first magnetic layer is more effectively distorted, and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer can be further increased as compared with the conventional case.

本発明では、前記希土類元素は、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなることが好ましい。   In the present invention, the rare earth element is preferably selected from at least one of Tb, Sm, Pr, Y, Ce, Nd, Gd, Dy, Ho, Er, and Yb.

かかる場合、前記第1磁性層は、(CoFe1−x100−yで表わされる磁性材料で形成され、元素Mは、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比yは、0.3at%以上で5at%以下であることが好ましい。 In such a case, the first magnetic layer, (Co x Fe 1-x ) formed of a magnetic material represented by 100-y M y, element M, Tb, Sm, Pr, Y , Ce, Nd, Gd, It is preferable that at least one kind is selected from Dy, Ho, Er, and Yb, and the composition ratio y is 0.3 at% or more and 5 at% or less.

後述する実験結果によれば、前記組成比yを上記範囲内にすることで、元素Mを添加しない磁性材料に比べて、第1磁性層の磁歪定数λsを大きく出来ることがわかった。   According to the experimental results described later, it was found that by setting the composition ratio y within the above range, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer can be increased as compared with the magnetic material to which the element M is not added.

また本発明では、前記貴金属元素は、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなることが好ましい。   In the present invention, the noble metal element is preferably selected from at least one of Pt, Rh, Ir, and Re.

かかる場合、前記第1磁性層は、(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成され、元素Nは、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比zは、5at%以上で20at%以下であることが好ましい。後述する実験結果によれば、前記組成比zを上記範囲内にすることで、元素Nを添加しない磁性材料に比べて、第1磁性層の磁歪定数λsを大きく出来ることがわかった。 In such a case, the first magnetic layer, (Co x Fe 1-x ) formed of a magnetic material represented by 100-z N z, the element N is, Pt, Rh, Ir, at least one from among Re The composition ratio z is preferably 5 at% or more and 20 at% or less. According to the experimental results described later, it was found that by setting the composition ratio z within the above range, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer can be increased as compared with a magnetic material to which no element N is added.

また、原子比率xは、1あるいは0.4〜0.6の範囲内であることが好ましい。
さらに、前記第1磁性層の膜厚は、12〜19Åの範囲内であることが好ましい。
The atomic ratio x is preferably 1 or in the range of 0.4 to 0.6.
Furthermore, the film thickness of the first magnetic layer is preferably within a range of 12 to 19 mm.

また本発明では、前記第1磁性層は少なくとも2層以上の積層構造からなり、前記非磁性金属層に最も近い位置に形成された磁性層が、CoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素が添加されてなる磁性材料で形成されている形態であってもよく、かかる場合、第1磁性層を構成する磁性層のうち、前記非磁性中間層に接する磁性層がCoFe合金あるいはCoで形成されることが好ましい。これにより前記第1磁性層の磁歪定数λsを従来に比べて適切に大きく出来ると共に、従来と同程度にRKKY相互作用が強く働き、積層フェリ固定層を構成する複数の磁性層を互いに反平行状態に強固に磁化固定できる。   In the present invention, the first magnetic layer has a laminated structure of at least two layers, and the magnetic layer formed closest to the nonmagnetic metal layer is mainly composed of Co and Fe, and further includes rare earth elements or The magnetic layer may be formed of a magnetic material to which a noble metal element is added. In such a case, among the magnetic layers constituting the first magnetic layer, the magnetic layer in contact with the nonmagnetic intermediate layer is a CoFe alloy or Co. Is preferably formed. As a result, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer can be appropriately increased as compared with the conventional one, and the RKKY interaction works as strongly as the conventional one, so that the plurality of magnetic layers constituting the laminated ferri pinned layer are antiparallel to each other. Can be strongly magnetized.

また本発明では、前記非磁性金属層は前記第1磁性層の界面に接して形成されていることが好ましい。これによって、より効果的に、前記第1磁性層の界面付近での結晶構造に歪みを生じさせ、前記第1磁性層の磁歪定数λsを大きくすることが出来る。   In the present invention, it is preferable that the nonmagnetic metal layer is formed in contact with the interface of the first magnetic layer. As a result, the crystal structure near the interface of the first magnetic layer can be more effectively distorted, and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer can be increased.

また本発明では、前記非磁性金属層は、前記固定磁性層の第1磁性層側の界面付近あるいは全領域において面心立方格子(fcc)構造をとり、前記界面と平行な方向に、{111}面として表される等価な結晶面が優先配向していることが好ましい。これにより磁気検出素子の結晶配向性を良好に出来、GMR特性の向上を図ることが出来る。   In the present invention, the nonmagnetic metal layer has a face-centered cubic lattice (fcc) structure near or in the entire region of the pinned magnetic layer on the first magnetic layer side, and in a direction parallel to the interface, {111 } It is preferable that the equivalent crystal plane expressed as a plane is preferentially oriented. Thereby, the crystal orientation of the magnetic detection element can be improved, and the GMR characteristics can be improved.

また本発明では、前記非磁性金属層の膜厚は、5Å以上50Å以下であることが好ましい。   In the present invention, the nonmagnetic metal layer preferably has a thickness of 5 to 50 mm.

また前記X―Mn合金(ただしXは、Pt,Pd,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量は、45原子%以上99原子%以下であることが好ましい。   The content of the X element in the X—Mn alloy (where X is one or more of Pt, Pd, Os, Ni, and Fe) is 45 atomic% to 99 atomic%. Is preferred.

また前記X―Mn合金(ただしXは、Ir,Rh,Ruのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量は、17原子%以上99原子%以下であることが好ましい。   Further, the content of the X element in the X—Mn alloy (where X is one or more of Ir, Rh, and Ru) is preferably from 17 atomic% to 99 atomic%.

さらに、Ir―Mn合金中のIrの含有量は、20原子%以上99原子%以下であることが好ましい。
これにより第1磁性層の磁歪をより適切に大きくすることが出来る。
Furthermore, the content of Ir in the Ir—Mn alloy is preferably 20 atomic% or more and 99 atomic% or less.
Thereby, the magnetostriction of the first magnetic layer can be increased more appropriately.

また本発明では、前記固定磁性層の第1磁性層は、前記非磁性金属層側の界面付近あるいは全領域において面心立方格子(fcc)構造又は体心立方格子(bcc)構造をとり、前記界面と平行な方向に、{111}面又は{110}面として表される等価な結晶面が優先配向していることが好ましい。これにより磁気検出素子の結晶配向性を良好に出来、GMR特性の向上を図ることが出来る。   In the present invention, the first magnetic layer of the pinned magnetic layer has a face-centered cubic lattice (fcc) structure or a body-centered cubic lattice (bcc) structure in the vicinity of the interface on the nonmagnetic metal layer side or in the entire region. It is preferable that an equivalent crystal plane represented as {111} plane or {110} plane is preferentially oriented in a direction parallel to the interface. Thereby, the crystal orientation of the magnetic detection element can be improved, and the GMR characteristics can be improved.

また本発明では、下からフリー磁性層、非磁性材料層、固定磁性層の順に積層されていることが好ましい。これにより、磁気検出素子の結晶配向性は従来と同様に良好になり、抵抗変化率(ΔR/R)を従来と同程度得ることが可能になる。   In the present invention, the free magnetic layer, the nonmagnetic material layer, and the pinned magnetic layer are preferably laminated in this order from the bottom. As a result, the crystal orientation of the magnetic detection element is improved as in the conventional case, and the resistance change rate (ΔR / R) can be obtained to the same extent as in the conventional case.

本発明では、自己固定式の固定磁性層を有する磁気検出素子において、固定磁性層の磁歪を制御する機構を明らかにし、前記固定磁性層に接する非磁性金属層の材質と第1磁性層の材質とを適切に選択することによって、該磁歪を適切に制御して、固定磁性層の磁化を強固に固定することのできる磁気検出素子を提供できる。   In the present invention, in a magnetic sensing element having a self-fixed pinned magnetic layer, a mechanism for controlling the magnetostriction of the pinned magnetic layer is clarified, and the material of the nonmagnetic metal layer in contact with the pinned magnetic layer and the material of the first magnetic layer are clarified. By appropriately selecting the above, it is possible to provide a magnetic detection element capable of appropriately controlling the magnetostriction and firmly fixing the magnetization of the fixed magnetic layer.

具体的には、前記固定磁性層を、複数の磁性層が非磁性中間層を介して積層されたものとし、前記複数の磁性層のうち非磁性材料層から最も離れた位置に形成されている第1の磁性層の前記非磁性材料層が設けられている側と反対側にX―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)合金からなる前記非磁性金属層を形成する。   Specifically, the pinned magnetic layer is formed by laminating a plurality of magnetic layers via a nonmagnetic intermediate layer, and is formed at a position farthest from the nonmagnetic material layer among the plurality of magnetic layers. X—Mn (where X is any one of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, Fe) on the opposite side of the first magnetic layer to the side on which the nonmagnetic material layer is provided, The nonmagnetic metal layer made of an alloy (which is two or more elements) is formed.

さらに本発明では、前記第1磁性層をCoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素を添加した磁性材料で形成する。これにより第1磁性層の格子定数を、従来のように第1磁性層をCoFeやCoで形成していた場合よよりも広げることが出来る。   In the present invention, the first magnetic layer is formed of a magnetic material mainly composed of Co and Fe, and further added with a rare earth element or a noble metal element. As a result, the lattice constant of the first magnetic layer can be increased as compared with the conventional case where the first magnetic layer is formed of CoFe or Co.

この結果、前記非磁性金属層と第1磁性層との積層構造では、互いの結晶どうしがエピタキシャルあるいはヘテロエピタキシャルに成長しやすく、前記非磁性金属層の界面付近での結晶構造を適切に歪ませることができ、前記第1磁性層の磁歪定数λを効果的に大きくさせることができる。前記固定磁性層の磁歪定数を大きく出来ることで磁気弾性エネルギーは大きくなり、固定磁性層の一軸異方性を大きくできる。   As a result, in the laminated structure of the nonmagnetic metal layer and the first magnetic layer, the crystals are easily grown epitaxially or heteroepitaxially, and the crystal structure near the interface of the nonmagnetic metal layer is appropriately distorted. The magnetostriction constant λ of the first magnetic layer can be effectively increased. The magnetoelastic energy can be increased by increasing the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer, and the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer can be increased.

固定磁性層の一軸異方性が大きくなると、固定磁性層の磁化は一定の方向に強固に固定され、磁気検出素子の出力が大きくなりかつ出力の安定性や対称性も向上する。   When the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer is increased, the magnetization of the pinned magnetic layer is firmly fixed in a fixed direction, the output of the magnetic detection element is increased, and the stability and symmetry of the output are also improved.

図1は、本発明の第1の実施の形態の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the magnetic detection element according to the first embodiment of the present invention as viewed from the side facing the recording medium.

図1に示される磁気検出素子では、アルミナなどの絶縁性材料からなる下部ギャップ層20上に多層膜T1が形成されている。   In the magnetic detection element shown in FIG. 1, a multilayer film T1 is formed on a lower gap layer 20 made of an insulating material such as alumina.

図1に示す実施形態では、多層膜T1は、下からシードレイヤ21、非磁性金属層22、固定磁性層23、非磁性材料層24、フリー磁性層25及び保護層26の順に積層されたものである。   In the embodiment shown in FIG. 1, the multilayer film T1 is formed by laminating a seed layer 21, a nonmagnetic metal layer 22, a pinned magnetic layer 23, a nonmagnetic material layer 24, a free magnetic layer 25, and a protective layer 26 in this order from the bottom. It is.

シードレイヤ21は、NiFe合金、NiFeCr合金あるいはCr,Taなどで形成されている。シードレイヤ21は、例えば(Ni0.8Fe0.260at%Cr40at%の膜厚35Å〜60Åで形成される。 The seed layer 21 is made of NiFe alloy, NiFeCr alloy, Cr, Ta, or the like. Seed layer 21 is formed of, for example, (Ni 0.8 Fe 0.2) 60at% Cr 40at% of thickness 35A~60A.

シードレイヤ21があると、非磁性金属層22の{111}配向が良好になる。
非磁性金属層22については、後述する。
When the seed layer 21 is present, the {111} orientation of the nonmagnetic metal layer 22 is improved.
The nonmagnetic metal layer 22 will be described later.

固定磁性層23は、第1磁性層23aと第2磁性層23cが非磁性中間層23bを介して積層された人工フェリ構造を有している。固定磁性層23は、固定磁性層23自体の一軸異方性によって磁化が、ハイト方向(図示Y方向)と平行な方向に固定されている。   The pinned magnetic layer 23 has an artificial ferri structure in which a first magnetic layer 23a and a second magnetic layer 23c are laminated via a nonmagnetic intermediate layer 23b. The magnetization of the pinned magnetic layer 23 is pinned in a direction parallel to the height direction (Y direction in the drawing) by the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer 23 itself.

非磁性材料層24は、固定磁性層23とフリー磁性層25との磁気的な結合を防止する層であり、Cu,Cr,Au,Agなど導電性を有する非磁性材料により形成されることが好ましい。特にCuによって形成されることが好ましい。非磁性材料層の膜厚は17Å〜30Åである。   The nonmagnetic material layer 24 is a layer that prevents magnetic coupling between the pinned magnetic layer 23 and the free magnetic layer 25, and may be formed of a nonmagnetic material having conductivity such as Cu, Cr, Au, or Ag. preferable. In particular, it is preferably formed of Cu. The film thickness of the nonmagnetic material layer is 17 to 30 mm.

フリー磁性層25は、NiFe合金やCoFe合金等の磁性材料で形成される。図1に示す実施形態では特にフリー磁性層25がNiFe合金で形成されるとき、フリー磁性層25と非磁性材料層24との間にCoやCoFeなどからなる拡散防止層(図示しない)が形成されていることが好ましい。フリー磁性層25の膜厚は20Å〜60Åである。また、フリー磁性層25は、複数の磁性層が非磁性中間層を介して積層された人工フェリ構造であってもよい。   The free magnetic layer 25 is formed of a magnetic material such as a NiFe alloy or a CoFe alloy. In the embodiment shown in FIG. 1, a diffusion prevention layer (not shown) made of Co, CoFe, or the like is formed between the free magnetic layer 25 and the nonmagnetic material layer 24 particularly when the free magnetic layer 25 is formed of a NiFe alloy. It is preferable that The film thickness of the free magnetic layer 25 is 20 to 60 mm. The free magnetic layer 25 may have an artificial ferri structure in which a plurality of magnetic layers are stacked with a nonmagnetic intermediate layer interposed therebetween.

保護層26はTaなどからなり、多層膜T1の酸化の進行を抑える。保護層26の膜厚は10Å〜50Åである。   The protective layer 26 is made of Ta or the like and suppresses the progress of oxidation of the multilayer film T1. The thickness of the protective layer 26 is 10 to 50 mm.

図1に示す実施形態では、シードレイヤ21から保護層26までの多層膜T1の両側にはバイアス下地層27、ハードバイアス層28及び電極層29が形成されている。ハードバイアス層28からの縦バイアス磁界によってフリー磁性層25の磁化はトラック幅方向(図示X方向)に揃えられる。   In the embodiment shown in FIG. 1, a bias underlayer 27, a hard bias layer 28, and an electrode layer 29 are formed on both sides of the multilayer film T1 from the seed layer 21 to the protective layer 26. The magnetization of the free magnetic layer 25 is aligned in the track width direction (X direction in the drawing) by the longitudinal bias magnetic field from the hard bias layer 28.

バイアス下地層27,27はCr,W,Tiで、ハードバイアス層28,28は例えばCo−Pt(コバルト−白金)合金やCo−Cr−Pt(コバルト−クロム−白金)合金などで形成されており、電極層29,29は、Cr,Ta,Rh,AuやW(タングステン)などで形成されている。   The bias underlayers 27, 27 are made of Cr, W, Ti, and the hard bias layers 28, 28 are made of, for example, a Co—Pt (cobalt-platinum) alloy or a Co—Cr—Pt (cobalt-chromium-platinum) alloy. The electrode layers 29 and 29 are made of Cr, Ta, Rh, Au, W (tungsten), or the like.

バイアス下地層27,27の膜厚は20Å〜100Å、ハードバイアス層28,28の膜厚は100Å〜400Å、電極層29,29の膜厚は400Å〜1500Åである。   The thickness of the bias underlayers 27 and 27 is 20 to 100 mm, the thickness of the hard bias layers 28 and 28 is 100 to 400 mm, and the thickness of the electrode layers 29 and 29 is 400 to 1500 mm.

電極層29,29、及び保護層26上には、アルミナなどの絶縁性材料からなる上部ギャップ層30が積層される。なお、図示はしないが、下部ギャップ層20の下には下部シールド層が設けられ、上部ギャップ層上には上部シールド層が設けられる。下部シールド層及び上部シールド層はNiFeなどの軟磁性材料によって形成される。上部ギャップ層及び下部ギャップ層の膜厚は50Å〜300Åである。   An upper gap layer 30 made of an insulating material such as alumina is laminated on the electrode layers 29 and 29 and the protective layer 26. Although not shown, a lower shield layer is provided below the lower gap layer 20, and an upper shield layer is provided on the upper gap layer. The lower shield layer and the upper shield layer are formed of a soft magnetic material such as NiFe. The film thickness of the upper gap layer and the lower gap layer is 50 to 300 mm.

フリー磁性層25の磁化は、ハードバイアス層28,28からの縦バイアス磁界によってトラック幅方向(図示X方向)に揃えられる。そして記録媒体からの信号磁界(外部磁界)に対し、フリー磁性層25の磁化が感度良く変動する。一方、固定磁性層23の磁化は、ハイト方向(図示Y方向)と平行な方向に固定されている。   The magnetization of the free magnetic layer 25 is aligned in the track width direction (X direction in the drawing) by the longitudinal bias magnetic field from the hard bias layers 28 and 28. The magnetization of the free magnetic layer 25 fluctuates with high sensitivity to the signal magnetic field (external magnetic field) from the recording medium. On the other hand, the magnetization of the pinned magnetic layer 23 is pinned in a direction parallel to the height direction (Y direction in the drawing).

フリー磁性層25の磁化方向の変動と、固定磁性層23の固定磁化方向(特に第2磁性層23cの固定磁化方向)との関係で電気抵抗が変化し、この電気抵抗値の変化に基づく電圧変化または電流変化により、記録媒体からの洩れ磁界が検出される。   The electrical resistance changes depending on the relationship between the change in the magnetization direction of the free magnetic layer 25 and the fixed magnetization direction of the fixed magnetic layer 23 (particularly the fixed magnetization direction of the second magnetic layer 23c), and a voltage based on the change in the electrical resistance value. The leakage magnetic field from the recording medium is detected by the change or the current change.

本実施の形態の特徴部分について述べる。
図1に示される磁気検出素子の固定磁性層23は、第1磁性層23aと第2磁性層23cが非磁性中間層23bを介して積層された人工フェリ構造を有している。第1磁性層23aの磁化と第2磁性層23cの磁化は、非磁性中間層23bを介したRKKY相互作用によって互いに反平行方向に向けられている。
Features of this embodiment will be described.
The pinned magnetic layer 23 of the magnetic detection element shown in FIG. 1 has an artificial ferri structure in which a first magnetic layer 23a and a second magnetic layer 23c are stacked with a nonmagnetic intermediate layer 23b interposed therebetween. The magnetization of the first magnetic layer 23a and the magnetization of the second magnetic layer 23c are directed in antiparallel directions by the RKKY interaction via the nonmagnetic intermediate layer 23b.

本発明は、前記第1磁性層23aと非磁性金属層22の材質等を適正化することで、前記第1磁性層23aの磁歪定数λsを従来よりも大きくしている。まず非磁性金属層22について説明する。   In the present invention, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a is made larger than before by optimizing the material of the first magnetic layer 23a and the nonmagnetic metal layer 22 and the like. First, the nonmagnetic metal layer 22 will be described.

第1磁性層23aは、第2磁性層23cより非磁性材料層24から離れた位置に形成されており、非磁性金属層22に接している。   The first magnetic layer 23 a is formed at a position farther from the nonmagnetic material layer 24 than the second magnetic layer 23 c and is in contact with the nonmagnetic metal layer 22.

非磁性金属層22は、X―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)合金によって形成されている。
非磁性金属層22の膜厚は、5Å以上50Å以下であることが好ましい。
The nonmagnetic metal layer 22 is formed of an alloy of X—Mn (where X is one or more elements of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, and Fe). .
The film thickness of the nonmagnetic metal layer 22 is preferably 5 mm or more and 50 mm or less.

X―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)からなる非磁性金属層22の膜厚がこの範囲内であると、非磁性金属層22の結晶構造は、成膜時の状態である面心立方格子(fcc)構造を維持しつづける。なお、非磁性金属層22の膜厚が、50Åより大きくなると、250℃以上の熱が加わったときに、非磁性金属層22の結晶構造がCuAuI型の規則型の面心正方格子(fct)構造に構造変態するので好ましくない。ただし、非磁性金属層22の膜厚が、50Åより大きくても、250℃以上の熱が加わらなければ、非磁性金属層の結晶構造は、成膜時の状態である面心立方格子(fcc)構造を維持しつづける。   The film thickness of the nonmagnetic metal layer 22 made of X—Mn (where X is one or more of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, and Fe) is in this range. If it is inside, the crystal structure of the nonmagnetic metal layer 22 continues to maintain the face-centered cubic lattice (fcc) structure that is the state at the time of film formation. When the film thickness of the nonmagnetic metal layer 22 is larger than 50 mm, the crystal structure of the nonmagnetic metal layer 22 is CuAuI type regular face centered square lattice (fct) when heat of 250 ° C. or more is applied. This is not preferable because the structure is transformed into a structure. However, even if the film thickness of the nonmagnetic metal layer 22 is greater than 50 mm, the crystal structure of the nonmagnetic metal layer is the face-centered cubic lattice (fcc ) Continue to maintain the structure.

なおCuAuI型の規則相への変態は、その過程で、原子の再配列が起こり第1磁性層23aとの界面での整合関係が崩れるので磁歪増強の観点からは好ましくないが、一部のみが規則相へ変態するのであれば、磁歪の低下は少なく、なお且つ反強磁性による第1磁性層23aの保磁力増大効果も付加されるので、一部のみ規則化されてもよい。   The transformation to the CuAuI type ordered phase is not preferable from the viewpoint of magnetostriction enhancement, because atomic rearrangement occurs in the process and the matching relationship at the interface with the first magnetic layer 23a is lost. If the transformation to the ordered phase is performed, the magnetostriction is hardly lowered, and the effect of increasing the coercive force of the first magnetic layer 23a due to antiferromagnetism is also added, so that only a part of it may be ordered.

X―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)からなる非磁性金属層22が面心立方格子(fcc)構造の結晶構造を有するとき、この非磁性金属層22と第1磁性層23aとの界面には交換結合磁界は発生しないか、または極めて弱く、交換結合磁界によって第1磁性層23aの磁化方向を固定することはできない。   A nonmagnetic metal layer 22 made of X—Mn (where X is one or more of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, Fe) is a face-centered cubic lattice ( fcc) When having a crystal structure, an exchange coupling magnetic field is not generated or very weak at the interface between the nonmagnetic metal layer 22 and the first magnetic layer 23a, and the magnetization of the first magnetic layer 23a is caused by the exchange coupling magnetic field. The direction cannot be fixed.

また前記非磁性金属層22は室温以下では反強磁性となるが、その大部分が室温よりも低いブロッキング温度(T)を有しているため、室温では大部分が非磁性であるが、一部に室温よりも高いブロッキング温度を有する反強磁性相があってもよい。 The nonmagnetic metal layer 22 is antiferromagnetic at room temperature or lower, but most of the nonmagnetic metal layer 22 has a blocking temperature (T B ) lower than room temperature. Some may have an antiferromagnetic phase having a blocking temperature higher than room temperature.

図1に示す実施形態では、固定磁性層23の磁化を固定する一軸異方性を決める、誘導磁気異方性と磁気弾性効果のうち、磁気弾性効果を主に利用している。   In the embodiment shown in FIG. 1, the magnetoelastic effect is mainly used among the induced magnetic anisotropy and the magnetoelastic effect that determine the uniaxial anisotropy for fixing the magnetization of the fixed magnetic layer 23.

磁気弾性効果は、磁気弾性エネルギーに支配される。磁気弾性エネルギーは、固定磁性層23にかかる応力σと固定磁性層23の磁歪定数λによって規定される。   The magnetoelastic effect is dominated by magnetoelastic energy. The magnetoelastic energy is defined by the stress σ applied to the pinned magnetic layer 23 and the magnetostriction constant λ of the pinned magnetic layer 23.

図2は、図1に示された磁気検出素子を図示上側(図示Z方向と反対方向)からみた平面図である。磁気検出素子の多層膜T1は一対のバイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28及び電極層29,29の間に形成されている。なお、バイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28は、電極層29,29の下に設けられているので、図2には図示されていない。多層膜T1と、バイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28及び電極層29,29の周囲は、斜線で示される絶縁材料層31によって埋められている。   FIG. 2 is a plan view of the magnetic detection element shown in FIG. 1 as viewed from the upper side (the direction opposite to the Z direction in the drawing). The multilayer film T1 of the magnetic detection element is formed between a pair of bias base layers 27 and 27, hard bias layers 28 and 28, and electrode layers 29 and 29. The bias base layers 27 and 27 and the hard bias layers 28 and 28 are not shown in FIG. 2 because they are provided under the electrode layers 29 and 29. The multilayer film T1, the bias base layers 27 and 27, the hard bias layers 28 and 28, and the electrode layers 29 and 29 are filled with an insulating material layer 31 indicated by hatching.

また、多層膜T1、バイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28、及び電極層29,29の記録媒体との対向面側の端面Fは露出しているか、またはダイヤモンドライクカーボン(DLC)などからなる膜厚20Å〜50Å薄い保護層で覆われているだけであり、開放端となっている。   Further, the end face F of the multilayer film T1, the bias underlayers 27 and 27, the hard bias layers 28 and 28, and the electrode layers 29 and 29 on the side facing the recording medium is exposed or diamond-like carbon (DLC). It is only covered with a thin protective layer having a thickness of 20 to 50 mm, and is an open end.

従って、もともと2次元的に等方的であった下部ギャップ層20及び上部ギャップ層30からの応力が端面Fで開放された結果、対称性がくずれて、多層膜T1には、ハイト方向(図示Y方向)に平行な方向に、引っ張り応力が加えられている。また、バイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28、及び電極層29,29の積層膜が圧縮性の内部応力を有している場合には、電極層などが面内方向に延びようとするため、多層膜T1には、トラック幅方向に(図示X方向に)平行な方向及び反平行な方向に圧縮応力を加えられている。   Therefore, as a result of the stress from the lower gap layer 20 and the upper gap layer 30 that was originally two-dimensional isotropic being released at the end face F, the symmetry is broken, and the multilayer film T1 has a height direction (not shown). A tensile stress is applied in a direction parallel to the (Y direction). Further, when the laminated film of the bias underlayers 27 and 27, the hard bias layers 28 and 28, and the electrode layers 29 and 29 has compressive internal stress, the electrode layer and the like may extend in the in-plane direction. Therefore, a compressive stress is applied to the multilayer film T1 in a direction parallel to the track width direction (X direction in the drawing) and in an antiparallel direction.

すなわち、記録媒体との対向面側の端面Fが開放されている固定磁性層23には、ハイト方向の引張り応力とトラック幅方向の圧縮応力が加えられる。そして、第1磁性層23aは、磁歪定数が正の値である磁性材料によって形成されているので、磁気弾性効果によって、第1磁性層23aの磁化容易軸は磁気検出素子の奥側(ハイト方向;図示Y方向)に平行方向となり、第1磁性層23aの磁化方向がハイト方向と平行方向または反平行方向に固定される。第2磁性層23cの磁化は、非磁性中間層23bを介したRKKY相互作用によって第1磁性層23aの磁化方向と反平行方向を向いた状態で固定される。   That is, tensile stress in the height direction and compressive stress in the track width direction are applied to the pinned magnetic layer 23 whose end face F on the side facing the recording medium is open. Since the first magnetic layer 23a is made of a magnetic material having a positive magnetostriction constant, the easy axis of magnetization of the first magnetic layer 23a is located on the back side (height direction) of the magnetic detection element due to the magnetoelastic effect. The direction of magnetization of the first magnetic layer 23a is fixed in the direction parallel to the height direction or in the antiparallel direction. The magnetization of the second magnetic layer 23c is fixed in a state in which the magnetization direction of the second magnetic layer 23c is antiparallel to the magnetization direction of the first magnetic layer 23a by the RKKY interaction via the nonmagnetic intermediate layer 23b.

本発明では、固定磁性層23の磁歪定数を大きくすることによって磁気弾性エネルギーを大きくし、これによって、固定磁性層23の一軸異方性を大きくするものである。固定磁性層23の一軸異方性が大きくなると、固定磁性層23の磁化は一定の方向に強固に固定され、磁気検出素子の出力が大きくなりかつ出力の安定性や対称性も向上する。また例えば、静電気放電(ESD)による過渡電流が流れたときでも、磁化反転を起こしにくい磁気検出素子を提供できる。   In the present invention, the magnetoelastic energy is increased by increasing the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer 23, thereby increasing the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer 23. When the uniaxial anisotropy of the pinned magnetic layer 23 increases, the magnetization of the pinned magnetic layer 23 is firmly fixed in a certain direction, the output of the magnetic detection element increases, and the stability and symmetry of the output also improve. Further, for example, it is possible to provide a magnetic detection element that hardly causes magnetization reversal even when a transient current due to electrostatic discharge (ESD) flows.

本発明では、第1の特徴点として、固定磁性層23を構成する第1磁性層23aと接する非磁性金属層22の材質等を上記のように適正化し、第1磁性層23aの結晶構造に歪みを生じさせて第1磁性層23aの磁歪定数λを大きくさせている。   In the present invention, as a first feature point, the material of the nonmagnetic metal layer 22 in contact with the first magnetic layer 23a constituting the pinned magnetic layer 23 is optimized as described above, so that the crystal structure of the first magnetic layer 23a is obtained. Distortion is caused to increase the magnetostriction constant λ of the first magnetic layer 23a.

第1磁性層23aを構成する原子と非磁性金属層22を構成する原子は、互いに重なりあいやすい状態であり、非磁性金属層22内の結晶と固定磁性層23内の結晶の少なくとも一部はエピタキシャルあるいはヘテロエピタキシャルな状態になっている。   The atoms constituting the first magnetic layer 23a and the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 are likely to overlap each other, and at least some of the crystals in the nonmagnetic metal layer 22 and the crystals in the pinned magnetic layer 23 are It is in an epitaxial or heteroepitaxial state.

非磁性金属層22を構成する原子と第1磁性層23aの原子とを重なり合わせつつ、結晶構造に歪みを生じさせ、第1磁性層23aの磁歪を大きくするために、非磁性金属層22の材料である前記X―Mn合金中のX元素の含有量を調節することが好ましい。   In order to increase the magnetostriction of the first magnetic layer 23a in order to cause distortion in the crystal structure while overlapping the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 and the atoms of the first magnetic layer 23a, It is preferable to adjust the content of the X element in the X—Mn alloy as the material.

例えば、前記X―Mn合金(ただしXは、Pt,Pd,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量を、51原子%以上にすると、非磁性金属層22に重なる第1磁性層23aの磁歪が急激に増加する。また、前記X―Mn合金(ただしXは、Pt,Pd,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量が、45原子%以上99原子%以下であると、前記第1磁性層の磁歪が大きな値をとる。さらに前記X―Mn合金(ただしXは、Pt,Pd,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量が、55原子%以上99原子%以下であると、前記第1磁性層の磁歪が大きな値をとりつつ安定する。   For example, when the content of the X element in the X—Mn alloy (where X is one or more of Pt, Pd, Os, Ni, Fe) is 51 atomic% or more, the nonmagnetic metal The magnetostriction of the first magnetic layer 23a overlapping the layer 22 increases rapidly. In addition, the content of the X element in the X—Mn alloy (where X is one or more of Pt, Pd, Os, Ni, and Fe) is 45 atomic% to 99 atomic%. And the magnetostriction of the first magnetic layer takes a large value. Furthermore, the content of the X element in the X—Mn alloy (where X is one or more of Pt, Pd, Os, Ni, and Fe) is 55 atomic% or more and 99 atomic% or less. The magnetostriction of the first magnetic layer is stabilized while taking a large value.

また本発明では、前記X―Mn合金(ただしXは、Ir,Rh,Ruのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量は、17原子%以上99原子%以下であることが好ましい。   In the present invention, the X element content in the X—Mn alloy (where X is one or more of Ir, Rh, and Ru) is 17 atomic% or more and 99 atomic% or less. Is preferred.

さらに、Ir―Mn合金中のIrの含有量は、20原子%以上99原子%以下であることが好ましい。
これにより第1磁性層23aの磁歪をより適切に大きくすることが出来る。
Furthermore, the content of Ir in the Ir—Mn alloy is preferably 20 atomic% or more and 99 atomic% or less.
Thereby, the magnetostriction of the first magnetic layer 23a can be increased more appropriately.

本発明の第2の特徴として、前記第1磁性層23aを、CoとFeを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素を添加した磁性材料で形成する。   As a second feature of the present invention, the first magnetic layer 23a is formed of a magnetic material mainly composed of Co and Fe and further added with a rare earth element or a noble metal element.

前記第1磁性層23aとして使用される材質には、正磁歪であること、第2磁性層23cとの間で生じるRKKY相互作用が大きくなり第1磁性層23aと第2磁性層23cとを適切に反平行に磁化固定できること、多層膜T1の結晶配向性を良好に維持できること、が必要である。   The material used for the first magnetic layer 23a is positive magnetostriction, and the RKKY interaction generated with the second magnetic layer 23c is increased, so that the first magnetic layer 23a and the second magnetic layer 23c are appropriately selected. It is necessary that the magnetization can be fixed in anti-parallel to that, and that the crystal orientation of the multilayer film T1 can be maintained well.

従来から第1磁性層23aとして一般的に使用されているCoFe合金やCoは上記の要件を満たすものであるが、上記の要件を満たし、なおかつ、第1磁性層23aの磁歪定数λsを、CoFe合金やCoを使用した場合に比べて大きく出来る材質として、本発明では、CoとFeを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素を添加した磁性材料を提供する。   CoFe alloys and Co that have been generally used as the first magnetic layer 23a hitherto satisfy the above requirements, but satisfy the above requirements, and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a is set to CoFe. As a material that can be made larger than when an alloy or Co is used, the present invention provides a magnetic material mainly composed of Co and Fe, and further added with a rare earth element or a noble metal element.

本発明では、前記希土類元素は、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなることが好ましい。かかる場合、前記第1磁性層23aは、(CoFe1−x100−yで表わされる磁性材料で形成され、元素Mは、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比yは、0.3at%以上で5at%以下であることが好ましい。 In the present invention, the rare earth element is preferably selected from at least one of Tb, Sm, Pr, Y, Ce, Nd, Gd, Dy, Ho, Er, and Yb. In such a case, the first magnetic layer 23a is, (Co x Fe 1-x ) formed of a magnetic material represented by 100-y M y, element M, Tb, Sm, Pr, Y , Ce, Nd, Gd , Dy, Ho, Er, Yb are selected, and the composition ratio y is preferably 0.3 at% or more and 5 at% or less.

後述する実験結果によれば、前記元素Mの組成比yを0.3at%〜5at%の範囲内にすることで、前記第1磁性層23aの磁歪増強効果が適切に得られた。本発明では、前記元素Mの組成比を4at%以下にすることで、前記元素Mを添加しない場合の磁性材料の磁歪定数に比べて確実に高い値の磁歪定数を得ることが出来た。   According to the experimental results described later, the magnetostriction enhancing effect of the first magnetic layer 23a was appropriately obtained by setting the composition ratio y of the element M in the range of 0.3 at% to 5 at%. In the present invention, by setting the composition ratio of the element M to 4 at% or less, it was possible to reliably obtain a magnetostriction constant having a higher value than the magnetostriction constant of the magnetic material when the element M was not added.

また本発明では、前記貴金属元素は、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなることが好ましい。またかかる場合、前記第1磁性層23aは、(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成され、元素Nは、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比zは、5at%以上で20at%以下であることが好ましい。 In the present invention, the noble metal element is preferably selected from at least one of Pt, Rh, Ir, and Re. In this case, the first magnetic layer 23a is formed of a magnetic material represented by (Co x Fe 1-x ) 100-z N z , and the element N is at least one of Pt, Rh, Ir, and Re. The type is selected, and the composition ratio z is preferably 5 at% or more and 20 at% or less.

後述する実験結果によれば、前記元素Nの組成比zを5at%〜20at%の範囲内にすることで、前記第1磁性層23aの磁歪増強効果が適切に得られた。本発明では、前記元素Nの組成比を16at%以下にすることで、前記元素Nを添加しない場合の磁性材料の磁歪定数に比べて確実に高い値の磁歪定数を得ることが出来た。   According to the experimental results described later, the magnetostriction enhancing effect of the first magnetic layer 23a was appropriately obtained by setting the composition ratio z of the element N in the range of 5 at% to 20 at%. In the present invention, by setting the composition ratio of the element N to 16 at% or less, a magnetostriction constant having a value higher than the magnetostriction constant of the magnetic material when the element N is not added can be surely obtained.

また、元素NのPtを選択したCoFe−PtあるいはCo−Ptでは、Ptの組成比を10at%以上にすれば第1磁性層23aの保磁力増強効果が顕著に現れた。   Further, in CoFe—Pt or Co—Pt in which Pt of the element N is selected, the coercive force enhancement effect of the first magnetic layer 23a appears significantly when the composition ratio of Pt is 10 at% or more.

また元素NにIrを選択した場合には、元素Nを添加しないCoFeやCoに比べて非常に高い磁歪定数が得られ、しかも保磁力Hcも安定して高い値を得ることが出来た。   When Ir was selected as the element N, a very high magnetostriction constant was obtained as compared with CoFe and Co to which the element N was not added, and the coercive force Hc was stably obtained at a high value.

また本発明では、原子比率xは、1あるいは0.4〜0.6の範囲内であることが好ましい。これにより前記第1磁性層23aの保磁力Hcを増大させることができる。また、前記第2磁性層23cとの間で発生するRKKY相互作用も大きくでき、前記第1磁性層23aと第2磁性層23cとを適切に反平行状態に磁化固定することが出来る。また前記第1磁性層23aの結晶配向性も良好に出来る。本発明では、前記第1磁性層23aは、前記非磁性金属層側の界面付近あるいは全領域において面心立方格子(fcc)構造又は体心立方格子(bcc)構造をとり、前記界面と平行な方向に、{111}面又は{110}面として表される等価な結晶面が優先配向していることが好ましい。   In the present invention, the atomic ratio x is preferably 1 or in the range of 0.4 to 0.6. Accordingly, the coercive force Hc of the first magnetic layer 23a can be increased. Further, the RKKY interaction generated with the second magnetic layer 23c can be increased, and the first magnetic layer 23a and the second magnetic layer 23c can be appropriately pinned in an antiparallel state. Also, the crystal orientation of the first magnetic layer 23a can be improved. In the present invention, the first magnetic layer 23a has a face-centered cubic lattice (fcc) structure or a body-centered cubic lattice (bcc) structure in the vicinity of the interface on the nonmagnetic metal layer side or in the entire region, and is parallel to the interface. It is preferable that an equivalent crystal plane represented as {111} plane or {110} plane is preferentially oriented in the direction.

また本発明では、前記第1磁性層23aの膜厚は、12〜19Åの範囲内であることが好ましい。前記第1磁性層23aの膜厚が大きすぎると、第1磁性層23aに生じる歪みが小さくなり、磁歪定数λ及び一軸異方性も小さくなってしまう。   In the present invention, the thickness of the first magnetic layer 23a is preferably in the range of 12 to 19 mm. If the film thickness of the first magnetic layer 23a is too large, the strain generated in the first magnetic layer 23a is reduced, and the magnetostriction constant λ and uniaxial anisotropy are also reduced.

また前記固定磁性層23を構成する第1磁性層23aと第2磁性層23cとの単位面積当たりの合成磁気モーメント(Net Mst)は、0.07(memu/cm)={0.32π(T・nm)}〜0.13(memu/cm)={0.52(T・nm)}の範囲内であることが好ましい。これにより従来、第1磁性層23aをCoあるいはCoFe合金等で形成した場合と同程度の抵抗変化率(ΔR/R)を得ることが可能である。 The combined magnetic moment (Net Mst) per unit area of the first magnetic layer 23a and the second magnetic layer 23c constituting the pinned magnetic layer 23 is 0.07 (memu / cm 2 ) = {0.32π ( T · nm)} to 0.13 (memu / cm 2 ) = {0.52 (T · nm)}. As a result, it is possible to obtain a resistance change rate (ΔR / R) comparable to that in the case where the first magnetic layer 23a is conventionally formed of Co or a CoFe alloy.

前記第1磁性層23aを上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成すると、前記第1磁性層23aの磁歪定数λsを、CoFe合金やCoの場合に比べて大きくできるのは、(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料が、CoFe合金やCoに比べて大きい格子定数を有しているからであると考えられる。 When forming the first magnetic layer 23a of a magnetic material represented by the above (Co x Fe 1-x) 100-y M y, or (Co x Fe 1-x) 100-z N z, wherein the first magnetic the magnetostriction constant λs layer 23a, can be larger than that of CoFe alloy or Co are, (Co x Fe 1-x ) 100-y M y, or (Co x Fe 1-x) 100-z N z This is probably because the magnetic material represented by the formula has a larger lattice constant than the CoFe alloy and Co.

本実施の形態の磁気検出素子では、図3に模式的に示すように、非磁性金属層22を構成する原子と第1磁性層23aの原子とが重なり合いつつも、界面付近で結晶構造に歪みが生じている状態になる。   In the magnetic sensing element of the present embodiment, as schematically shown in FIG. 3, the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 and the atoms of the first magnetic layer 23a overlap, but the crystal structure is distorted near the interface. Will occur.

図3において符号N1は第1磁性層23aの{111}面内の最近接原子間距離を示しており、符号N2は非磁性金属層22の{111}面内の最近接原子間距離を示している。N1及びN2は、非磁性金属層22と第1磁性層23aの界面から離れた歪みの影響の少ないところで測定する。図3に示すように、第1磁性層23aの{111}面内の最近接原子間距離N1は非磁性金属層22の{111}面内の最近接原子間距離N2に比べて小さい。   In FIG. 3, the symbol N1 indicates the nearest interatomic distance in the {111} plane of the first magnetic layer 23a, and the symbol N2 indicates the nearest interatomic distance in the {111} plane of the nonmagnetic metal layer 22. ing. N1 and N2 are measured where there is little influence of strain away from the interface between the nonmagnetic metal layer 22 and the first magnetic layer 23a. As shown in FIG. 3, the closest interatomic distance N1 in the {111} plane of the first magnetic layer 23a is smaller than the closest interatomic distance N2 in the {111} plane of the nonmagnetic metal layer 22.

上記のように、第1磁性層23aの結晶構造に歪みが生じると、第1磁性層23aの磁歪定数λを大きくすることができるので、大きな磁気弾性効果を発揮することができる。   As described above, when distortion occurs in the crystal structure of the first magnetic layer 23a, the magnetostriction constant λ of the first magnetic layer 23a can be increased, so that a large magnetoelastic effect can be exhibited.

上記したように、前記第1磁性層23aを(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成すると、格子定数をCoFe合金やCoに比べて大きく出来るから、第1磁性層23aの{111}面内の最近接原子間距離N1は、第1磁性層23aをCoFe合金やCoで形成した場合に比べて広がる。 As described above, the first magnetic layer 23a (Co x Fe 1-x ) 100-y M y, or when (Co x Fe 1-x) 100-z N to a magnetic material represented by z, the grating Since the constant can be made larger than that of CoFe alloy or Co, the nearest interatomic distance N1 in the {111} plane of the first magnetic layer 23a is larger than when the first magnetic layer 23a is made of CoFe alloy or Co. spread.

この結果、前記第1磁性層23aと非磁性金属層22との界面では、前記第1磁性層23aを構成する原子と非磁性金属層22を構成する原子どうしが重なり合いやすくなり、効果的に前記第1磁性層23aの界面付近での結晶構造に大きな歪みを生じさせることが出来、前記第1磁性層23aの磁歪定数λsを大きく出来る。   As a result, at the interface between the first magnetic layer 23a and the nonmagnetic metal layer 22, the atoms constituting the first magnetic layer 23a and the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 are likely to overlap each other effectively. A large strain can be generated in the crystal structure near the interface of the first magnetic layer 23a, and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a can be increased.

一方、第1磁性層23aをCoFe合金やCoで形成した場合には、前記第1磁性層23aと非磁性金属層22との界面での原子間の重なり合いが少なくなり、この結果、有効に前記第1磁性層23aの界面付近での結晶構造に歪みを持たせることができず、前記第1磁性層23aの磁歪定数λsは、前記第1磁性層23aを上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成した場合に比べて小さくなりやすい。 On the other hand, when the first magnetic layer 23a is formed of a CoFe alloy or Co, the overlap between atoms at the interface between the first magnetic layer 23a and the nonmagnetic metal layer 22 is reduced. The crystal structure in the vicinity of the interface of the first magnetic layer 23a cannot be strained, and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a is the same as that described above for the first magnetic layer 23a (Co x Fe 1-x ) 100-y M y, or (tends to be smaller as compared with the case of forming a magnetic material represented by Co x Fe 1-x) 100 -z N z.

なお、本発明では、第1磁性層23aと非磁性金属層22の界面付近で、第1磁性層23aを構成する原子と、非磁性金属層22を構成する原子の大部分が互いに重なり合う整合状態になっていればよい。例えば、図3に模式的に示すように、一部に、第1磁性層23aを構成する原子と、非磁性金属層22を構成する原子が重なり合わない領域があってもよい。   In the present invention, in the vicinity of the interface between the first magnetic layer 23 a and the nonmagnetic metal layer 22, the atoms constituting the first magnetic layer 23 a and the majority of the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 overlap each other. It only has to be. For example, as schematically shown in FIG. 3, there may be a region where atoms constituting the first magnetic layer 23 a and atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 do not overlap.

本発明では、非磁性金属層22と第1磁性層23aのミスマッチ値は0.1以上で0.2以下であることが好ましい。ここで「ミスマッチ値」とは、非磁性金属層22の{111}面内の最近接原子間距離と、固定磁性層23の第1磁性層23aの{111}面内の最近接原子間距離との差を、第1磁性層23aの{111}面内の最近接原子間距離で割った値である。   In the present invention, the mismatch value between the nonmagnetic metal layer 22 and the first magnetic layer 23a is preferably 0.1 or more and 0.2 or less. Here, the “mismatch value” refers to the closest interatomic distance in the {111} plane of the nonmagnetic metal layer 22 and the closest interatomic distance in the {111} plane of the first magnetic layer 23a of the pinned magnetic layer 23. Is divided by the distance between the nearest atoms in the {111} plane of the first magnetic layer 23a.

なお上記では、前記第1磁性層23aの結晶構造が、fcc構造を有することが好ましいと説明したが、前記第1磁性層23aは体心立方格子(bcc)構造をとり、界面と平行な方向に、{110}面として表される等価な結晶面が優先配向しているものであってもよい。   Although it has been described above that the crystal structure of the first magnetic layer 23a preferably has an fcc structure, the first magnetic layer 23a has a body-centered cubic (bcc) structure and is parallel to the interface. In addition, an equivalent crystal plane represented as a {110} plane may be preferentially oriented.

上述したように、非磁性金属層22は、fcc構造をとり、界面と平行な方向に{111}面として表される等価な結晶面が優先配向しているものである。   As described above, the nonmagnetic metal layer 22 has an fcc structure, and an equivalent crystal plane represented as a {111} plane is preferentially oriented in a direction parallel to the interface.

bcc構造を有する結晶の{110}面として表される等価な結晶面の原子配列とfcc構造を有する結晶の{111}面として表される等価な結晶面の原子配列は類似しており、bcc構造を有する結晶とfcc構造を有する結晶の少なくとも一部を、各々の原子が重なり合った整合状態、いわゆるヘテロエピタキシャルな状態にすることができる。   The atomic arrangement of the equivalent crystal plane represented as the {110} plane of the crystal having the bcc structure is similar to the atomic arrangement of the equivalent crystal plane represented as the {111} plane of the crystal having the fcc structure, and bcc At least part of the crystal having the structure and the crystal having the fcc structure can be brought into a matching state in which the atoms overlap each other, that is, a so-called heteroepitaxial state.

また、第2磁性層23cの材料には、bcc構造をとるCoFe(m≧20at%,l+m=100at%)、fcc構造をとるCoまたはCoFe(o≦20at%,n+o=100at%)のどちらを用いてもよい。 The material of the second magnetic layer 23c includes Co l Fe m having a bcc structure (m ≧ 20 at%, l + m = 100 at%), Co having a fcc structure or Co n Fe o (o ≦ 20 at%, n + o = Either 100 at%) may be used.

第2磁性層23cの材料に、bcc構造をとるCoFe(m≧20at%,l+m=100at%)を用いると、正磁歪を大きくすることができる。bcc構造をとるCoFe(o≧20,n+o=100)は、保磁力が大きく、固定磁性層23の磁化固定を強固にすることができる。また、非磁性中間層23bを介した第1磁性層23aと第2磁性層23c間のRKKY相互作用が強くなる。 When Co 1 Fe m (m ≧ 20 at%, l + m = 100 at%) having a bcc structure is used as the material of the second magnetic layer 23c, the positive magnetostriction can be increased. Co n Fe o (o ≧ 20, n + o = 100) having a bcc structure has a large coercive force and can strengthen the magnetization pinning of the pinned magnetic layer 23. Further, the RKKY interaction between the first magnetic layer 23a and the second magnetic layer 23c via the nonmagnetic intermediate layer 23b is strengthened.

一方、第2磁性層23cは、非磁性材料層24に接しており、磁気抵抗効果に大きな影響を及ぼす層なので、fcc構造をとるCoまたはCoFe(m≦20,l+m=100)を用いて形成すると磁気抵抗効果の劣化が少ない。 On the other hand, the second magnetic layer 23c is in contact with the nonmagnetic material layer 24 and has a great influence on the magnetoresistive effect. Therefore, Co or Co l Fe m (m ≦ 20, l + m = 100) having an fcc structure is used. When formed, there is little deterioration of the magnetoresistive effect.

図4は、固定磁性層23の他の様態を示す部分断面図である。
図4に示されるように、固定磁性層23を構成する第1磁性層23aは2層構造で形成され、非磁性金属層22側に非磁性金属層側磁性層23a1が設けられ、非磁性中間層23b側に非磁性中間層側磁性層23a2が形成されている。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing another aspect of the pinned magnetic layer 23.
As shown in FIG. 4, the first magnetic layer 23a constituting the pinned magnetic layer 23 is formed in a two-layer structure, the nonmagnetic metal layer side magnetic layer 23a1 is provided on the nonmagnetic metal layer 22 side, and the nonmagnetic intermediate layer 23a1 is provided. A nonmagnetic intermediate layer-side magnetic layer 23a2 is formed on the layer 23b side.

この実施形態では、前記非磁性金属層側磁性層23a1は、上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成されていることが好ましい。これにより前記第1磁性層23aの磁歪定数λsを大きくすることが出来る。 In this embodiment, the non-magnetic metal layer-side magnetic layer 23a1, the magnetic represented by the above (Co x Fe 1-x) 100-y M y, or (Co x Fe 1-x) 100-z N z It is preferable that it is made of a material. As a result, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a can be increased.

一方、前記非磁性中間層側磁性層23a2は、CoFe合金あるいはCoで形成されることが好ましい。前記非磁性中間層側磁性層23a2をCo、あるいはCoFe100−w(ただし組成比wは40〜60at%)で形成することにより、非磁性中間層23bを介した第1磁性層23aと第2磁性層23c間のRKKY相互作用を強く出来る。この結果、GMR特性を向上させることが出来る。 On the other hand, the nonmagnetic intermediate layer-side magnetic layer 23a2 is preferably formed of a CoFe alloy or Co. The nonmagnetic intermediate layer-side magnetic layer 23a2 is formed of Co or Co w Fe 100-w (wherein the composition ratio w is 40 to 60 at%), whereby the first magnetic layer 23a via the nonmagnetic intermediate layer 23b and The RKKY interaction between the second magnetic layers 23c can be strengthened. As a result, GMR characteristics can be improved.

なお第1磁性層23aは3層以上の積層構造であってもよいが、かかる場合でも前記非磁性金属層22に接する磁性層が、上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成され、さらに非磁性中間層23bに接する磁性層が、Co、あるいはCoFe100−w(ただし組成比wは40〜60at%)で形成されることが好ましい。 The first magnetic layer 23a may have a laminated structure of three or more layers. Even in such a case, the magnetic layer in contact with the nonmagnetic metal layer 22 is (Co x Fe 1-x ) 100- y My Or a magnetic layer formed of a magnetic material represented by (Co x Fe 1-x ) 100-z N z and further in contact with the nonmagnetic intermediate layer 23b is made of Co or Co w Fe 100-w (where the composition ratio w Is preferably formed at 40 to 60 at%).

図5は、本発明の第2の実施の形態の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the magnetic detection element according to the second embodiment of the present invention as viewed from the side facing the recording medium.

図5に示された磁気検出素子は、図1に示された磁気検出素子に類似しており、多層膜T1の代わりに、多層膜T2が形成されている点で図1に示された磁気検出素子と異なっている。多層膜T2は、下から順にシードレイヤ21、フリー磁性層25、非磁性材料層24、第2磁性層23c、非磁性中間層23b、第1磁性層23aからなる固定磁性層23、非磁性金属層22、及び保護層26が積層されたものである。すなわち、多層膜T2は、多層膜T1の各層の積層順序を逆にしたものである。   The magnetic detection element shown in FIG. 5 is similar to the magnetic detection element shown in FIG. 1, and is different from the magnetic detection element shown in FIG. 1 in that a multilayer film T2 is formed instead of the multilayer film T1. It is different from the detection element. The multilayer film T2 includes, in order from the bottom, the seed layer 21, the free magnetic layer 25, the nonmagnetic material layer 24, the second magnetic layer 23c, the nonmagnetic intermediate layer 23b, the fixed magnetic layer 23 including the first magnetic layer 23a, and a nonmagnetic metal. The layer 22 and the protective layer 26 are laminated. That is, the multilayer film T2 is obtained by reversing the stacking order of the layers of the multilayer film T1.

本実施の形態の磁気検出素子でも、固定磁性層23の第1磁性層23aが非磁性金属層22に接している。   Also in the magnetic detection element of the present embodiment, the first magnetic layer 23 a of the pinned magnetic layer 23 is in contact with the nonmagnetic metal layer 22.

本実施の形態でも、非磁性金属層22の結晶構造は、成膜時の状態である面心立方格子(fcc)構造を維持しつづける。   Also in this embodiment, the crystal structure of the nonmagnetic metal layer 22 continues to maintain the face-centered cubic lattice (fcc) structure that is the state at the time of film formation.

また前記第1磁性層23aは、上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成されている。 The first magnetic layer 23a is formed of a magnetic material represented by the above (Co x Fe 1-x) 100-y M y, or (Co x Fe 1-x) 100-z N z.

図5に示す実施形態でも図3で説明したのと同様の現象が生じている。すなわち非磁性金属層22を構成する原子と、固定磁性層23の第1磁性層23aを構成する原子とは互いに重なりつつも、前記第1磁性層23aの界面で歪みを生じながら、非磁性金属層22内の結晶と第1磁性層23a内の結晶の少なくとも一部がエピタキシャルな、あるいはヘテロエピタキシャルな状態になっている。この結果、前記第1磁性層23aの磁歪定数λsを効果的に大きくすることが出来る。   In the embodiment shown in FIG. 5, the same phenomenon as described in FIG. 3 occurs. That is, the atoms constituting the nonmagnetic metal layer 22 and the atoms constituting the first magnetic layer 23a of the pinned magnetic layer 23 are overlapped with each other but are distorted at the interface of the first magnetic layer 23a. At least part of the crystals in the layer 22 and the crystals in the first magnetic layer 23a are in an epitaxial or heteroepitaxial state. As a result, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer 23a can be effectively increased.

また図5に示す実施形態のように、下からフリー磁性層25、非磁性材料層24及び固定磁性層23の順に積層された構成では、前記多層膜T2の結晶配向性を良好に維持しやすい。高配向性は磁気検出素子では高い抵抗変化率(ΔR/R)を確保する上で重要な要素である。   Further, as in the embodiment shown in FIG. 5, in the configuration in which the free magnetic layer 25, the nonmagnetic material layer 24, and the pinned magnetic layer 23 are sequentially laminated from the bottom, the crystal orientation of the multilayer film T2 can be easily maintained. . High orientation is an important factor in securing a high rate of change in resistance (ΔR / R) in the magnetic sensing element.

図1の構成では、フリー磁性層25の下に多数の層が積層されており、例えばこれら全ての層は{111}面として表される等価な結晶面、あるいは{111}面と類似する結晶面(例えば{110}面)が優先配向するものであればよいが、これらの層のうちのいずれかが結晶配向性を乱す低配向性のものであると、フリー磁性層25の結晶配向性も劣化し、その結果、抵抗変化率(ΔR/R)は低下してしまう。   In the configuration of FIG. 1, a large number of layers are stacked below the free magnetic layer 25. For example, all of these layers are equivalent crystal planes represented as {111} planes or crystals similar to {111} planes. The plane (for example, the {110} plane) is only required to be preferentially oriented, but if any of these layers has a low orientation that disturbs the crystal orientation, the crystal orientation of the free magnetic layer 25 As a result, the rate of change in resistance (ΔR / R) decreases.

一方、図5の構成であると、磁気抵抗効果に寄与するフリー磁性層25及び第2磁性層23cは、多層膜T2の下方側に形成されるので、上記のような結晶配向性の劣化は、図1の形態に比べて小さくなり、その結果、図1の形態に比べて抵抗変化率(ΔR/R)を向上させやすい構造となっている。   On the other hand, in the configuration of FIG. 5, the free magnetic layer 25 and the second magnetic layer 23c that contribute to the magnetoresistive effect are formed below the multilayer film T2. 1 is smaller than that of FIG. 1, and as a result, the resistance change rate (ΔR / R) is easily improved as compared with the embodiment of FIG.

特に本発明では第1磁性層23aに、希土類元素あるいは貴金属元素を添加するが、これら元素の添加は添加しない場合に比べて結晶配向性を劣化させやすい傾向にある。このため図5のように、第1磁性層23aよりも下側に第2磁性層23c、及びフリー磁性層25が設けられる構成であることが好ましい。   In particular, in the present invention, rare earth elements or noble metal elements are added to the first magnetic layer 23a, but the crystal orientation tends to be deteriorated as compared with the case where these elements are not added. Therefore, as shown in FIG. 5, it is preferable that the second magnetic layer 23c and the free magnetic layer 25 are provided below the first magnetic layer 23a.

図6は、本発明の第3の実施の形態の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the magnetic detection element according to the third embodiment of the present invention as viewed from the side facing the recording medium.

図6は図1と類似する多層膜T3を有しており、図1と異なって前記固定磁性層23と非磁性金属層22との間には前記固定磁性層23の保磁力Hcを増大させるための非磁性層32が形成されている。前記非磁性層32は前記固定磁性層23に接して形成されていることが好ましい。前記非磁性層32は前記固定磁性層23の保磁力Hcを増大させるために設けられた層である。前記非磁性層32と固定磁性層23とが接して形成されていることで、前記固定磁性層23の保磁力Hcをより効果的に増大させることが出来る。   6 has a multilayer film T3 similar to FIG. 1, and unlike FIG. 1, the coercive force Hc of the pinned magnetic layer 23 is increased between the pinned magnetic layer 23 and the nonmagnetic metal layer 22. FIG. A nonmagnetic layer 32 is formed. The nonmagnetic layer 32 is preferably formed in contact with the pinned magnetic layer 23. The nonmagnetic layer 32 is a layer provided to increase the coercive force Hc of the pinned magnetic layer 23. By forming the nonmagnetic layer 32 and the pinned magnetic layer 23 in contact with each other, the coercive force Hc of the pinned magnetic layer 23 can be increased more effectively.

前記非磁性層32は、具体的にはCuあるいは、(NiuFe1−u100−vCr(ただし、uは原子比率で0〜1、vは18〜50at%、あるいは90〜100at%である)で形成される。前記(NiFe1−u100−vCrのu及びvの組成範囲は非磁性としての性質を帯びる範囲である。 The nonmagnetic layer 32 is specifically Cu or, (Ni u Fe 1-u ) 100-v Cr v ( however, u is 0-1 in atomic ratio, v is 18~50At%, or 90~100at %). The composition range of u and v of the (Ni u Fe 1-u ) 100-v Cr v is a range having non-magnetic properties.

なおより好ましくは前記uは、0.7〜1の範囲内で、vは22〜45at%の範囲内である。この範囲内であると前記固定磁性層23の保磁力Hcをより効果的に増大させることが出来る。
また前記非磁性層32の膜厚は、3Å以上で10Å以下であることが好ましい。
Even more preferably, u is in the range of 0.7 to 1, and v is in the range of 22 to 45 at%. Within this range, the coercive force Hc of the pinned magnetic layer 23 can be increased more effectively.
The thickness of the nonmagnetic layer 32 is preferably 3 mm or more and 10 mm or less.

図6の実施形態では、非磁性金属層22/非磁性層32/固定磁性層23の順に積層された構成であり、これにより、前記固定磁性層23の磁歪定数のみらず保磁力Hcをも大きく出来る。前記固定磁性層23の下に直接、非磁性金属層22が設けられていないので、図3で説明した第1磁性層23aの界面での結晶構造の歪みは小さくなり、図1の形態に比べて固定磁性層23の磁歪定数λsを大きくすることができないと予測されるが、図6の構成では、前記固定磁性層23を構成する第1磁性層23aに、上記した(CoFe1−x100−y、あるいは(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料を使用しているので、前記第1磁性層23aにCoやCoFe合金を使用した場合に比べて第1磁性層23aの磁歪定数を大きくできるし、さらに前記第1磁性層23aの保磁力Hcも大きくできるため、磁気検出素子の製造過程における過度なストレスや、メディア上に前記磁気検出素子が浮上している最中に、前記磁気検出素子が前記メディア上の突起等に衝突するなどして過度なストレス(メカニカルストレス)が加わっても、前記固定磁性層23の磁化反転を適切に抑制できる。 In the embodiment shown in FIG. 6, the nonmagnetic metal layer 22 / nonmagnetic layer 32 / pinned magnetic layer 23 are stacked in this order, so that not only the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer 23 but also the coercive force Hc is obtained. Can be bigger. Since the nonmagnetic metal layer 22 is not provided directly under the pinned magnetic layer 23, the distortion of the crystal structure at the interface of the first magnetic layer 23a described with reference to FIG. Thus, it is predicted that the magnetostriction constant λs of the pinned magnetic layer 23 cannot be increased. However, in the configuration of FIG. 6, the above-described (Co x Fe 1− because using x) 100-y M y, or (Co x Fe 1-x) magnetic material represented by 100-z N z, in the case of using Co or CoFe alloy in said first magnetic layer 23a In comparison, the magnetostriction constant of the first magnetic layer 23a can be increased, and the coercive force Hc of the first magnetic layer 23a can also be increased. Even when an excessive stress (mechanical stress) is applied, for example, when the magnetic detection element collides with a protrusion on the medium while it is floating, the magnetization reversal of the pinned magnetic layer 23 can be appropriately suppressed. .

図1,図5及び図6の構成において、固定磁性層23の磁気弾性効果に基づく異方性を大きくするためには、多層膜T1,T2,T3に対して、バイアス下地層27,27、ハードバイアス層28,28、及び電極層29,29からトラック幅方向に(図示X方向)に平行な方向及び反平行な方向に加わる圧縮応力を大きくすることが好ましい。   1, 5 and 6, in order to increase the anisotropy based on the magnetoelastic effect of the pinned magnetic layer 23, the bias underlayers 27, 27, It is preferable to increase the compressive stress applied from the hard bias layers 28 and 28 and the electrode layers 29 and 29 in the direction parallel to the track width direction (the X direction in the drawing) and the antiparallel direction.

例えば、電極層29,29がCr(クロム)、α−Ta、またはRhで形成され、しかも電極層29,29の結晶格子面の膜面平行方向の面間隔がCrの場合で0.2044nm以上(bcc構造の{110}面間隔)、α−Taの場合で0.2337nm以上(bcc構造の{110}面間隔)、Rhの場合で0.2200nm以上(fcc構造の{111}面間隔)であると、多層膜T1,T2,T3に加わる圧縮応力を大きくすることができる。このとき、図2に示される矢印方向、すなわち電極層29,29の外側方向に向けて、電極層29,29が延伸し、多層膜T1,T2,T3に対し、トラック幅方向に(図示X方向)に平行な方向及び反平行な方向に圧縮応力が加えられる。   For example, when the electrode layers 29 and 29 are made of Cr (chromium), α-Ta, or Rh, and the plane spacing in the film plane parallel direction of the crystal lattice plane of the electrode layers 29 and 29 is Cr, 0.2044 nm or more. (Bcc structure {110} face spacing), α-Ta, 0.2337 nm or more (bcc structure {110} face spacing), Rh, 0.2200 nm or more (fcc structure {111} face spacing) If so, the compressive stress applied to the multilayer films T1, T2 and T3 can be increased. At this time, the electrode layers 29, 29 extend in the direction of the arrow shown in FIG. 2, that is, toward the outer side of the electrode layers 29, 29, and in the track width direction (shown as X in the figure) with respect to the multilayer films T1, T2, T3. Compressive stress is applied in a direction parallel to (direction) and in an antiparallel direction.

電極層29,29の結晶格子面の膜面平行方向の面間隔は、X線回折や電子線回折によって測定することができる。なお、バルク状態のCr,α−Ta、またはRhは、結晶格子面の膜面平行方向の面間隔がCrの場合で0.2040nm(bcc構造の{110}面間隔)、α−Taの場合で0.2332nm(bcc構造の{110}面間隔)、Rhの場合で0.2196nm(fcc構造の{111}面間隔)であり、前記面間隔がこの値以上になると電極層29,29が多層膜T1,T2,T3に対し圧縮応力を与えるように作用する。   The interplanar spacing of the crystal lattice planes of the electrode layers 29 and 29 can be measured by X-ray diffraction or electron beam diffraction. In addition, Cr, α-Ta, or Rh in the bulk state is 0.2040 nm (a {110} plane spacing of the bcc structure) when the plane spacing of the crystal lattice plane in the film plane direction is Cr, and α-Ta. 0.2332 nm (buck structure {110} face spacing), and Rh is 0.2196 nm (fcc structure {111} face spacing). When the face spacing exceeds this value, the electrode layers 29 and 29 It acts to give a compressive stress to the multilayer films T1, T2, and T3.

電極層29,29をCrによって形成したときと、Auのような軟い金属材料によって形成したときとでは、前記圧縮応力に以下のような違いが生じる。   When the electrode layers 29 and 29 are made of Cr and when they are made of a soft metal material such as Au, the following differences occur in the compressive stress.

例えば、下から順に、バイアス下地層:Cr(50Å)/ハードバイアス層:CoPt(200Å)/中間層:Ta(50Å)/電極層:Au(800Å)/保護層:Ta(50Å)が積層された膜が生じさせる圧縮応力は、280MPaである。   For example, in order from the bottom, a bias underlayer: Cr (50Å) / hard bias layer: CoPt (200Å) / intermediate layer: Ta (50Å) / electrode layer: Au (800Å) / protective layer: Ta (50Å) are laminated. The compressive stress generated by the film is 280 MPa.

これに対し、下から順に、バイアス下地層:Cr(50Å)/ハードバイアス層:CoPt(200Å)/中間層:Ta(50Å)/電極層:Cr(1400Å)/保護層:Ta(50Å)が積層された膜が生じさせる圧縮応力は、670MPaである。   On the other hand, in order from the bottom, bias underlayer: Cr (50Å) / hard bias layer: CoPt (200Å) / intermediate layer: Ta (50Å) / electrode layer: Cr (1400Å) / protective layer: Ta (50Å) The compressive stress generated by the laminated film is 670 MPa.

なお、中間層Ta(50Å)と保護層Ta(50Å)は図1,T5,図6には示されていないが、それぞれ、電極層の結晶配向性を整える層と酸化防止層として機能する。   The intermediate layer Ta (50Å) and the protective layer Ta (50Å) are not shown in FIGS. 1, T5, and 6, but function as a layer for adjusting the crystal orientation of the electrode layer and an antioxidant layer, respectively.

なお、電極層29,29をスパッタ成膜するときには、イオンビームスパッタ法を用い、スパッタ装置内のAr,Xe,Krなどの圧力を5×10−3〜1×10−1(Pa)と小さくする。スパッタ装置内のAr,Xe,Krなどの圧力が小さいと、電極層を形成するCr,Ta,Rh原子がAr原子に衝突する確率が減少するので、Crなどの原子は高いエネルギーを保持したまま堆積していく。既に成膜されているCrなどの膜に、ターゲットから飛来したなどのCr原子が大きなエネルギーをもって衝突して埋め込まれていくと、電極層29,29が外側方向に向けて延伸する。 When the electrode layers 29 and 29 are formed by sputtering, ion beam sputtering is used, and the pressure of Ar, Xe, Kr, etc. in the sputtering apparatus is as small as 5 × 10 −3 to 1 × 10 −1 (Pa). To do. When the pressure of Ar, Xe, Kr, etc. in the sputtering apparatus is small, the probability that Cr, Ta, Rh atoms forming the electrode layer collide with Ar atoms decreases, so that atoms such as Cr retain high energy. Accumulate. When Cr atoms, such as flying from the target, collide with large energy and are embedded in a film such as Cr that has already been formed, the electrode layers 29 and 29 extend outward.

固定磁性層23のトラック幅方向の両端部はハードバイアス層28,28が発生する縦バイアス磁界によって磁化方向が傾きやすくなっている。しかし、固定磁性層23のトラック幅方向の両端部には大きな圧縮応力が加わる。従って、固定磁性層23のトラック幅方向の両端部は、磁気弾性効果による異方性が大きくなり、磁化方向が一方向に強く固定される。   The magnetization direction of both ends of the pinned magnetic layer 23 in the track width direction is easily inclined by the longitudinal bias magnetic field generated by the hard bias layers 28 and 28. However, a large compressive stress is applied to both ends of the pinned magnetic layer 23 in the track width direction. Therefore, both ends of the pinned magnetic layer 23 in the track width direction have a large anisotropy due to the magnetoelastic effect, and the magnetization direction is strongly fixed in one direction.

本発明は、固定磁性層23の両側からの圧縮応力と磁歪との関係に基づく一軸異方性によって、固定磁性層23の磁化方向を固定するものであり、固定磁性層にかかる圧縮応力は固定磁性層23の光学的トラック幅方向の両端部で強く、中央部で弱い。従って、固定磁性層23の光学的トラック幅方向の幅寸法が大きいと、固定磁性層23の中央部付近の磁化方向固定力が小さくなる。従って、固定磁性層23の光学的トラック幅寸法W1は、0.15μm以下であることが好ましい。   The present invention fixes the magnetization direction of the pinned magnetic layer 23 by uniaxial anisotropy based on the relationship between the compressive stress and magnetostriction from both sides of the pinned magnetic layer 23, and the compressive stress applied to the pinned magnetic layer is fixed. Strong at both ends of the magnetic layer 23 in the optical track width direction and weak at the center. Therefore, when the width dimension of the pinned magnetic layer 23 in the optical track width direction is large, the magnetization direction pinning force near the center of the pinned magnetic layer 23 is reduced. Therefore, the optical track width dimension W1 of the pinned magnetic layer 23 is preferably 0.15 μm or less.

なお、フリー磁性層25の磁歪は負磁歪にすることが好ましい。上記したように、磁気検出素子の多層膜T1,T2,T3には、両側から圧縮応力が加わっているので、負磁歪のフリー磁性層25は磁気弾性効果によって、トラック幅方向(図示X方向)に平行または反平行方向が磁化容易軸になりやすくなる。   The magnetostriction of the free magnetic layer 25 is preferably negative magnetostriction. As described above, since the multilayer films T1, T2, and T3 of the magnetic detection element are subjected to compressive stress from both sides, the free magnetic layer 25 having negative magnetostriction has a track width direction (X direction in the drawing) due to the magnetoelastic effect. The direction parallel or antiparallel to the axis tends to be the easy axis of magnetization.

フリー磁性層25のトラック幅方向の両端部は反磁界によって磁化が不安定になりやすい。しかし、フリー磁性層25のトラック幅方向の両端部は、ハードバイアス層28,28に近く、大きな圧縮応力が加わる。従って、フリー磁性層25のトラック幅方向の両端部は、磁気弾性効果による異方性が大きくなり、磁化方向が安定化する。   The magnetization at both ends of the free magnetic layer 25 in the track width direction tends to be unstable due to the demagnetizing field. However, both ends of the free magnetic layer 25 in the track width direction are close to the hard bias layers 28 and 28, and a large compressive stress is applied. Accordingly, both ends of the free magnetic layer 25 in the track width direction are more anisotropic due to the magnetoelastic effect, and the magnetization direction is stabilized.

従って、ハードバイアス層28,28の膜厚を小さくして、縦バイアス磁界を小さくしてもフリー磁性層25を安定した単磁区状態にすることができる。ハードバイアス層28,28の膜厚を小さくして、縦バイアス磁界を小さくできると、固定磁性層23のハイト方向への磁化固定状態を安定化できる。   Therefore, the free magnetic layer 25 can be brought into a stable single domain state even if the film thickness of the hard bias layers 28 is reduced and the longitudinal bias magnetic field is reduced. If the thickness of the hard bias layers 28 and 28 is reduced to reduce the longitudinal bias magnetic field, the fixed magnetization state in the height direction of the fixed magnetic layer 23 can be stabilized.

なお、フリー磁性層25の中央部付近の圧縮応力は、両端部の圧縮応力よりも小さいので、磁界検出感度の低下を抑えることができる。   Since the compressive stress near the center of the free magnetic layer 25 is smaller than the compressive stress at both ends, it is possible to suppress a decrease in magnetic field detection sensitivity.

フリー磁性層25の磁歪定数λは、−8×10−6≦λ≦−0.5×10−6の範囲であることが好ましい。また、ハードバイアス層28,28の膜厚tは100Å≦t≦200Åであることが好ましい。フリー磁性層25の磁歪λが小さすぎると、あるいはハードバイアス層28,28の膜厚tが厚すぎると磁気検出素子の再生感度が低下する。一方、フリー磁性層25の磁歪λが大きすぎると、あるいはハードバイアス層28,28の膜厚tが薄すぎると磁気検出素子の再生波形に乱れが生じやすい。 The magnetostriction constant λ of the free magnetic layer 25 is preferably in the range of −8 × 10 −6 ≦ λ ≦ −0.5 × 10 −6 . The film thickness t of the hard bias layers 28, 28 is preferably 100Å ≦ t ≦ 200Å. If the magnetostriction λ of the free magnetic layer 25 is too small, or if the film thickness t of the hard bias layers 28 and 28 is too thick, the reproduction sensitivity of the magnetic detection element decreases. On the other hand, if the magnetostriction λ of the free magnetic layer 25 is too large, or if the film thickness t of the hard bias layers 28 and 28 is too thin, the reproduction waveform of the magnetic detection element is likely to be disturbed.

図1、図5,図6に示された本実施の形態の磁気検出素子は、スパッタ法又は蒸着法による薄膜形成及びレジストフォトリゾグラフィーによるパターン形成によって製造される。スパッタ法及びレジストフォトリゾグラフィーは磁気検出素子を形成するときに、通常用いられる方法を使用する。   The magnetic sensing element of the present embodiment shown in FIGS. 1, 5, and 6 is manufactured by forming a thin film by sputtering or vapor deposition and patterning by resist photolithography. Sputtering and resist photolithography use methods that are usually used when forming a magnetic sensing element.

なお本実施の形態では、多層膜T1,T2,T3の両側部にハードバイアス層28,28と電極層29,29の積層体が形成され、この積層体によって多層膜T1,T2,T3に圧縮応力が加えられている。ただし、多層膜T1,T2,T3の両側部にはハードバイアス層28,28がなくてもよい。例えば、多層膜T1,T2,T3の両側部に、軟磁性材料層と反強磁性層の積層体が設けられていてもよいし、多層膜T1,T2,T3の両側部が絶縁層であってもよい。   In the present embodiment, a laminate of hard bias layers 28 and 28 and electrode layers 29 and 29 is formed on both sides of the multilayer films T1, T2 and T3, and the laminate is compressed into the multilayer films T1, T2 and T3. Stress is applied. However, the hard bias layers 28 may not be provided on both sides of the multilayer films T1, T2, and T3. For example, a laminate of a soft magnetic material layer and an antiferromagnetic layer may be provided on both sides of the multilayer films T1, T2, and T3, and both sides of the multilayer films T1, T2, and T3 are insulating layers. May be.

なお、本発明は、多層膜T1,T2,T3の膜厚垂直方向にセンス電流が流されるトンネル型磁気抵抗効果素子やCPP−GMR型磁気検出素子に用いてもよい。この場合、電極層は、多層膜T1,T2,T3の上下にそれぞれ形成されることになる。   The present invention may be used for a tunnel type magnetoresistive effect element or a CPP-GMR type magnetic sensing element in which a sense current flows in the direction perpendicular to the film thickness of the multilayer films T1, T2, T3. In this case, the electrode layers are respectively formed above and below the multilayer films T1, T2, and T3.

以上本発明をその好ましい実施例に関して述べたが、本発明の範囲から逸脱しない範囲で様々な変更を加えることができる。   Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments thereof, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

なお、上述した実施例はあくまでも例示であり、本発明の特許請求の範囲を限定するものではない。   The above-described embodiment is merely an example, and does not limit the scope of the claims of the present invention.

以下の膜構成からなる試料を形成した。
(膜構成)
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(30)/第1磁性層(50)/Ru(9.1)/Cu(65)/Ta(30)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
A sample having the following film configuration was formed.
(Membrane structure)
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (30) / first magnetic layer (50) / Ru (9.1) / Cu (65) / Ta (30)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

前記第1磁性層をTb−Co,Pr−Co及びSm−Coで形成した各試料を用い、Tb,Pr及びSmの組成比と前記第1磁性層の磁歪定数λsとの関係を調べた。磁歪定数λsは光てこ法によって測定した。その実験結果が図7である。   Using each sample in which the first magnetic layer was formed of Tb—Co, Pr—Co, and Sm—Co, the relationship between the composition ratio of Tb, Pr, and Sm and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer was examined. The magnetostriction constant λs was measured by an optical lever method. The experimental result is shown in FIG.

Tb−Co,Pr−Co及びSm−Coの全てにおいて、Tb,Pr及びSmの組成比が約1(at%)のとき、第1磁性層の磁歪定数λsは最大となった。前記Tb,Pr及びSmの組成比を1(at%)よりも大きくしていくと、徐々に第1磁性層の磁歪定数λsは小さくなっていき、前記Tb,Pr及びSmの組成比が5at%を越えると、第1磁性層の磁歪定数が50(ppm)を下回り、前記Tb,Pr及びSmを添加しない場合の磁性材料、すなわち第1磁性層としてCoを使用した場合の磁歪定数λsよりも小さい磁歪定数しか得られないことがわかった。第1磁性層としてCoを使用した場合の磁歪定数λsよりも確実に大きい磁歪定数を得るには、前記Tb,Pr及びSmの組成比を4at%以下にすることが好ましいこともわかった。   In all of Tb—Co, Pr—Co, and Sm—Co, the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer was maximized when the composition ratio of Tb, Pr, and Sm was about 1 (at%). As the composition ratio of Tb, Pr, and Sm is increased from 1 (at%), the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer gradually decreases, and the composition ratio of Tb, Pr, and Sm is 5 at. %, The magnetostriction constant of the first magnetic layer is less than 50 (ppm), and the magnetostriction constant λs when Co is used as the magnetic material when Tb, Pr and Sm are not added, that is, Co is used as the first magnetic layer. It was found that only a small magnetostriction constant can be obtained. It was also found that the composition ratio of Tb, Pr, and Sm is preferably 4 at% or less in order to obtain a magnetostriction constant that is surely larger than the magnetostriction constant λs when Co is used as the first magnetic layer.

また前記Tb,Pr及びSmの組成比を0.3at%以上にすれば、第1磁性層としてCoを使用した場合の磁歪定数λsよりも確実に大きい磁歪定数を得られることがわかった。   It was also found that when the composition ratio of Tb, Pr and Sm is 0.3 at% or more, a magnetostriction constant larger than the magnetostriction constant λs when Co is used as the first magnetic layer can be obtained.

次に、以下の膜構成からなる試料を形成した。
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(30)/第1磁性層/Ru(9.1)/第2磁性層;Co(20)/Cu(18)/フリー磁性層;[CoFe(10)/NiFe(28または32)]/Ta(30)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
Next, a sample having the following film configuration was formed.
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (30) / first magnetic layer / Ru (9.1) / second magnetic Layer: Co (20) / Cu (18) / free magnetic layer; [CoFe (10) / NiFe (28 or 32)] / Ta (30)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

Figure 2005294453
Figure 2005294453

表1に示すように前記第1磁性層(pin1)をTb−Co,Pr−Co,Sm−Co及びCoで形成し膜厚を種々変えた各試料を用い、スピンフロップ磁界(Hsf)と抵抗変化率(ΔR/R)との関係を調べた。   As shown in Table 1, spin flop magnetic field (Hsf) and resistance were measured using samples in which the first magnetic layer (pin1) was formed of Tb-Co, Pr-Co, Sm-Co, and Co and the film thickness was varied. The relationship with the rate of change (ΔR / R) was examined.

なお各試料における第1磁性層の組成比、及びフリー磁性層の膜厚は表1,図8に記載されている通りである。   The composition ratio of the first magnetic layer and the thickness of the free magnetic layer in each sample are as described in Table 1 and FIG.

ここでスピンフロップ磁界Hsfとは前記第1磁性層と第2磁性層との反平行の磁化状態が崩れるときの磁界の大きさを意味する。このスピンフロップ磁界が大きいほど前記第1磁性層と第2磁性層は反平行の磁化状態を適切に保つ。   Here, the spin flop magnetic field Hsf means the magnitude of the magnetic field when the antiparallel magnetization state of the first magnetic layer and the second magnetic layer collapses. The larger the spin flop magnetic field, the more appropriately the first magnetic layer and the second magnetic layer maintain an antiparallel magnetization state.

図8に示すように、前記第1磁性層をTb−Co,Pr−Co,Sm−Coで形成した各試料のスピンフロップ磁界(Hsf)は、前記第1磁性層をCoで形成した場合とさほど変らない値をとる。   As shown in FIG. 8, the spin flop magnetic field (Hsf) of each sample in which the first magnetic layer is formed of Tb—Co, Pr—Co, and Sm—Co is the same as the case where the first magnetic layer is formed of Co. Takes a value that does not change much.

しかし抵抗変化率(ΔR/R)は、前記第1磁性層をCoで形成した方が、前記第1磁性層をTb−Co,Pr−Co,Sm−Coで形成した場合よりも大きくなることがわかった。   However, the rate of change in resistance (ΔR / R) is larger when the first magnetic layer is made of Co than when the first magnetic layer is made of Tb—Co, Pr—Co, or Sm—Co. I understood.

ただし、前記第1磁性層をTb−Co,Pr−Co,Sm−Coで形成した各試料においてスピンフロップ磁界(Hsf)を大きくしていけば、ΔR/Rも上昇する傾向にあり、スピンフロップ磁界が2000(Oe)(=約15.8×10(A/m))以上であればΔR/Rを12%以上にでき、第1磁性層にCoを使用した試料のΔR/Rに近づけることが出来る。 However, if the spin flop magnetic field (Hsf) is increased in each sample in which the first magnetic layer is formed of Tb—Co, Pr—Co, and Sm—Co, ΔR / R tends to increase, and the spin flop increases. If the magnetic field is 2000 (Oe) (= about 15.8 × 10 4 (A / m)) or more, ΔR / R can be increased to 12% or more, and ΔR / R of the sample using Co for the first magnetic layer can be increased. You can get closer.

図7に示す実験結果から、第1磁性層に希土類元素を添加する場合、その添加量は0.3(at%)以上で5(at%)以下であることが好ましいことを導き出した。   From the experimental results shown in FIG. 7, when adding rare earth elements to the first magnetic layer, it was derived that the addition amount is preferably 0.3 (at%) or more and 5 (at%) or less.

次に、以下の膜構成からなる試料を形成した。
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(第1磁性層がIr−Co,Rh−Coのとき10Å、Pt−Coのとき30)/第1磁性層(Ir−Co,Rh−Coのとき50Å、Pt−CoのときPtの組成比の小さい方から20Å、22.4Å、24Å)/Ru(9.1)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
Next, a sample having the following film configuration was formed.
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (when the first magnetic layer is Ir—Co, Rh—Co, 10 μm, Pt— Co) 30) / first magnetic layer (50 と き for Ir-Co, Rh-Co, 20 Å, 22.4 Å, 24 か ら) from the smallest Pt composition ratio for Pt-Co) / Ru (9.1)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

第1磁性層をIr−Co,Rh−Co及びPt−Coで形成した各試料を用い、Ir,Rh,Ptの組成比と第1磁性層の保磁力Hcとの関係を調べた。その実験結果が図9である。   Using each sample in which the first magnetic layer was formed of Ir—Co, Rh—Co, and Pt—Co, the relationship between the composition ratio of Ir, Rh, and Pt and the coercive force Hc of the first magnetic layer was examined. The experimental result is shown in FIG.

図9に示すように、第1磁性層にRh−Coを使用した場合には、第1磁性層にCoを使用した場合とさほど変らない保磁力Hcを示した。一方、第1磁性層にIr−Coを使用した場合には、第1磁性層にCoを使用した場合に比べて第1磁性層の保磁力Hcを大きくすることができた。   As shown in FIG. 9, when Rh—Co is used for the first magnetic layer, the coercive force Hc is not so different from that when Co is used for the first magnetic layer. On the other hand, when Ir—Co was used for the first magnetic layer, the coercive force Hc of the first magnetic layer could be increased compared to the case where Co was used for the first magnetic layer.

また前記第1磁性層にPt−Coを使用した場合には、第1磁性層にCoを使用した場合に比べて第1磁性層の保磁力Hcを大きくすることができ、特にPtの組成比を10at%以上にすると顕著に保磁力Hcの増強効果が得られた。   Further, when Pt—Co is used for the first magnetic layer, the coercive force Hc of the first magnetic layer can be increased compared to the case where Co is used for the first magnetic layer, and in particular, the composition ratio of Pt. When the content was 10 at% or more, the effect of enhancing the coercive force Hc was remarkably obtained.

図10は図9の実験に使用したのと同じ試料を用い、Ir,Rhの組成比と第1磁性層の磁歪定数との関係を測定したグラフである。磁歪定数は光てこ法によって測定した。   FIG. 10 is a graph obtained by measuring the relationship between the composition ratio of Ir and Rh and the magnetostriction constant of the first magnetic layer using the same sample as that used in the experiment of FIG. The magnetostriction constant was measured by the optical lever method.

図10に示すように、Ir及びRhの組成比を大きくしていくと6〜8(at%)程度までは第1磁性層の磁歪定数は上昇していき、Ir及びRhの組成比が約8(at%)以上に大きくなると前記第1磁性層の磁歪定数は徐々に低下していくことがわかった。   As shown in FIG. 10, when the composition ratio of Ir and Rh is increased, the magnetostriction constant of the first magnetic layer increases up to about 6 to 8 (at%), and the composition ratio of Ir and Rh is about It has been found that the magnetostriction constant of the first magnetic layer gradually decreases as it becomes larger than 8 (at%).

次に、以下の膜構成からなる試料を形成した。
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(30)/第1磁性層;Pt−Co(Ptが0at%のとき、20Å、Ptが10.7at%のとき22.4Å、Ptが16.7at%のとき24Å)/Ru(8.7)/第2磁性層;Co(40)/Cu(21)/Co90Fe10(14)/Ru(9)/Co90Fe10(14)/PtMn(140)/Ta(30)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
Next, a sample having the following film configuration was formed.
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (30) / first magnetic layer; Pt—Co (when Pt is 0 at%) , 20 Å, when Pt is 10.7at% 22.4Å, when Pt is 16.7at% 24Å) / Ru (8.7 ) / the second magnetic layer; Co (40) / Cu ( 21) / Co 90 Fe 10 (14) / Ru (9) / Co 90 Fe 10 (14) / PtMn (140) / Ta (30)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

上記試料を用い、第1磁性層を構成するPt−CoのPtの組成比を変化させた時の、第1磁性層/Ru/第2磁性層のシンセティックフェリピンド構造からなる固定磁性層の磁歪定数λsを求めた。なお磁歪定数はベンディング法によって測定した。ベンディング法とは、上記膜構成から成る試料を湾曲させて一軸性の歪みを与え、逆磁歪効果による一軸異方性の変化から磁歪定数を測定する方法である。実験結果は図11に示されている。   Magnetostriction of a pinned magnetic layer having a synthetic ferri-pinned structure of the first magnetic layer / Ru / second magnetic layer when the above-described sample is used and the composition ratio of Pt of Pt—Co constituting the first magnetic layer is changed. A constant λs was determined. The magnetostriction constant was measured by a bending method. The bending method is a method of measuring a magnetostriction constant from a change in uniaxial anisotropy due to an inverse magnetostriction effect by bending a sample having the above-described film configuration to give a uniaxial strain. The experimental results are shown in FIG.

図11に示すように、第1磁性層を構成するPt−CoのPtの組成比を約10at%程度まで大きくしていくと、それにつれて固定磁性層の磁歪定数λsも徐々に大きくなっていき、第1磁性層を構成するPt−CoのPtの組成比を約10at%より大きくしていくと、徐々に固定磁性層の磁歪定数λsが低下していった。   As shown in FIG. 11, as the Pt composition ratio of Pt—Co constituting the first magnetic layer is increased to about 10 at%, the magnetostriction constant λs of the pinned magnetic layer gradually increases accordingly. As the Pt composition ratio of Pt—Co constituting the first magnetic layer was increased from about 10 at%, the magnetostriction constant λs of the pinned magnetic layer gradually decreased.

図9ないし図11に示す実験結果から、第1磁性層に貴金属元素を添加する場合、その添加量は5(at%)以上で20(at%)以下であることが好ましいことを導き出した。前記添加量を5(at%)以上にすると磁歪定数と共に保磁力Hcも大きく出来る。一方、前記添加量を20(at%)よりも大きくしていくと、Ir,Rh,Ptを添加しない場合の磁性材料、すなわちCoを第1磁性層として使用した場合に比べて、磁歪定数λsが低くなりやすいので、前記添加量の上限を20(at%)に設定した。より好ましくは前記添加量の上限を16at%以下にすれば、確実に、Ir,Rh,Ptを添加しない場合の磁性材料を第1磁性層として使用した場合に比べて、磁歪定数λsを高く出来ることがわかった。   From the experimental results shown in FIGS. 9 to 11, it was derived that when the noble metal element is added to the first magnetic layer, the addition amount is preferably 5 (at%) or more and 20 (at%) or less. When the addition amount is 5 (at%) or more, the coercive force Hc can be increased together with the magnetostriction constant. On the other hand, when the addition amount is larger than 20 (at%), the magnetostriction constant λs is larger than that in the case where Ir, Rh, Pt is not added, that is, when Co is used as the first magnetic layer. Therefore, the upper limit of the addition amount was set to 20 (at%). More preferably, if the upper limit of the addition amount is 16 at% or less, the magnetostriction constant λs can be reliably increased as compared with the case where the magnetic material without adding Ir, Rh, Pt is used as the first magnetic layer. I understood it.

なお図9ないし図11に示す実験結果から、第1磁性層の磁歪定数を、貴金属元素を添加しない磁性材料(CoやCoFe)に比べて非常に大きい値に設定するには第1磁性層にIr−Coを用いることが好ましく、前記磁歪定数を貴金属元素の添加量にさほど左右されずに、貴金属元素を添加しない磁性材料(CoやCoFe)に比べて磁歪定数が大きく安定したものにするには、第1磁性層にPt−Coを使用することが好ましいことがわかった。   From the experimental results shown in FIG. 9 to FIG. 11, the magnetostriction constant of the first magnetic layer is set to a value much larger than that of the magnetic material (Co or CoFe) not added with the noble metal element. Ir—Co is preferably used, and the magnetostriction constant is not greatly affected by the amount of the noble metal element added, and the magnetostriction constant is made large and stable as compared with a magnetic material (Co or CoFe) to which no noble metal element is added. It was found that it is preferable to use Pt—Co for the first magnetic layer.

また第1磁性層にIr−CoあるいはPt−Coを使用すれば第1磁性層の保磁力も適切に向上させることが出来ることがわかった。   It has also been found that if Ir—Co or Pt—Co is used for the first magnetic layer, the coercivity of the first magnetic layer can be improved appropriately.

次に、以下の膜構成からなる試料を形成した。
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(10)/第1磁性層/Ru(9.1)/第2磁性層;Co(20)/Cu(18)/フリー磁性層;[CoFe(10)/NiFe(32)]/Ta(30)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
Next, a sample having the following film configuration was formed.
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (10) / first magnetic layer / Ru (9.1) / second magnetic Layer: Co (20) / Cu (18) / free magnetic layer; [CoFe (10) / NiFe (32)] / Ta (30)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

Figure 2005294453
Figure 2005294453

実験では表2に示す第1磁性層(pin1)の膜厚を変化させて第1磁性層と第2磁性層の単位面積当たりの合成磁気モーメント(net−Ms・t)を変化させていき、net−Ms・tと抵抗変化率(ΔR/R)との関係を調べた。なお各試料における第1磁性層の材質及び組成比は表2,図12に示した通りである。   In the experiment, the composite magnetic moment (net-Ms · t) per unit area of the first magnetic layer and the second magnetic layer was changed by changing the film thickness of the first magnetic layer (pin1) shown in Table 2. The relationship between net-Ms · t and the rate of resistance change (ΔR / R) was examined. The material and composition ratio of the first magnetic layer in each sample are as shown in Table 2 and FIG.

図12に示すように、net−Ms・tが大きくなっていくと、それにつれてΔR/Rも大きくなっていくことがわかった。   As shown in FIG. 12, it was found that as net-Ms · t increases, ΔR / R increases accordingly.

図12に示すように、第1磁性層にRh−Coを使用した場合には、第1磁性層にCoを使用した場合に比べて、同じnet−Ms・tが得られてもΔR/Rは小さくなる傾向にあるが、第1磁性層にIr−Coを使用した場合には、第1磁性層にCoを使用した場合に比べて、同じnet−Ms・tが得られた場合に、同程度かあるいは高いΔR/Rが得られることがわかった。   As shown in FIG. 12, when Rh—Co is used for the first magnetic layer, ΔR / R is obtained even when the same net-Ms · t is obtained as compared with the case where Co is used for the first magnetic layer. However, when Ir-Co is used for the first magnetic layer, when the same net-Ms · t is obtained as compared with the case where Co is used for the first magnetic layer, It was found that the same or high ΔR / R can be obtained.

このためΔR/Rの向上の観点からは第1磁性層にIr−Coを用いることが好ましいことがわかった。また第1磁性層にRh−Coを使用した場合でもnet−Ms・tが、0.07(memu/cm)(=0.28π(T・nm))以上得られれば、第1磁性層にCoを用いnet−Ms・tが、0.05(memu/cm)(=0.20π(T・nm))の時のΔR/Rと同程度のΔR/Rが得られることがわかった。 For this reason, it was found that it is preferable to use Ir—Co for the first magnetic layer from the viewpoint of improving ΔR / R. Even when Rh—Co is used for the first magnetic layer, if the net-Ms · t is 0.07 (memu / cm 2 ) (= 0.28π (T · nm)) or more, the first magnetic layer It can be seen that ΔR / R comparable to ΔR / R when net-Ms · t is 0.05 (memu / cm 2 ) (= 0.20π (T · nm)) using Co for It was.

次に以下に示す膜構成からなる試料を形成した。
(膜構成)
シード層;(Ni0.8Fe0.260Cr40(52)/非磁性金属層;Pt50at%Mn50at%(30)/第1磁性層;CoFe(15〜20)/Ru(8.7)/Cu(85)/Ta(30)
なお括弧書きは膜厚を示し単位はÅである。
Next, a sample having the following film configuration was formed.
(Membrane structure)
Seed layer; (Ni 0.8 Fe 0.2 ) 60 Cr 40 (52) / nonmagnetic metal layer; Pt 50 at% Mn 50 at% (30) / first magnetic layer; CoFe (15-20) / Ru (8 .7) / Cu (85) / Ta (30)
The brackets indicate the film thickness and the unit is 単 位.

図13は第1磁性層を構成するCoFe合金の組成比を変化させ、その時の第1磁性層の保磁力との関係を、図14は第1磁性層を構成するCoFe合金の組成比を変化させ、その時の第1磁性層の磁歪定数との関係を測定したグラフである。なお各図において、PtMnから成る非磁性金属層を設けない比較例(図面にはPtMn下地なしと記載)もグラフ上に載せた。   FIG. 13 shows the relationship between the composition ratio of the CoFe alloy constituting the first magnetic layer and the coercivity of the first magnetic layer at that time, and FIG. 14 shows the composition ratio of the CoFe alloy constituting the first magnetic layer. It is the graph which measured the relationship with the magnetostriction constant of the 1st magnetic layer at that time. In addition, in each figure, the comparative example (it describes with no PtMn base | substrate in a drawing) which does not provide the nonmagnetic metal layer which consists of PtMn was also put on the graph.

図13に示すように、PtMnから成る非磁性金属層を設けた実施例では、PtMnから成る非磁性金属層を設けない比較例よりも第1磁性層の保磁力Hcが低下する傾向が見られた。   As shown in FIG. 13, in the example in which the nonmagnetic metal layer made of PtMn was provided, the coercive force Hc of the first magnetic layer tended to be lower than in the comparative example in which the nonmagnetic metal layer made of PtMn was not provided. It was.

本発明では、次の図14の磁歪定数の増大を主目的としているが、第1磁性層の保磁力の大きさも磁化固定には重要なファクターであるので前記保磁力が大きくなる組成比を選ぶことが好ましい。   In the present invention, the main purpose is to increase the magnetostriction constant of FIG. 14 as follows. However, since the coercive force of the first magnetic layer is also an important factor for fixing the magnetization, the composition ratio that increases the coercive force is selected. It is preferable.

図13ではCoの組成比を40at%〜60at%の範囲内を選択すれば、比較的高い保磁力を得ることが可能であることがわかった。   In FIG. 13, it was found that a relatively high coercive force can be obtained if the Co composition ratio is selected within the range of 40 at% to 60 at%.

図14に示すように、PtMnから成る非磁性金属層を設けた実施例では、PtMnから成る非磁性金属層を設けない比較例よりも第1磁性層の磁歪定数λsを大きく出来ることがわかった。   As shown in FIG. 14, in the example in which the nonmagnetic metal layer made of PtMn was provided, it was found that the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer could be made larger than the comparative example in which the nonmagnetic metal layer made of PtMn was not provided. .

図14に示すように、Coの組成比を40at%〜60at%の範囲内を選択すれば、第1磁性層の磁歪定数を安定して高い値に設定できることがわかった。またCoの組成比を100at%にした場合には、第1磁性層の磁歪定数を非常に高い値に設定できることがわかった。   As shown in FIG. 14, it was found that the magnetostriction constant of the first magnetic layer can be stably set to a high value if the Co composition ratio is selected within the range of 40 at% to 60 at%. It was also found that when the Co composition ratio was 100 at%, the magnetostriction constant of the first magnetic layer could be set to a very high value.

図13及び図14に示す実験結果から、第1磁性層を(CoFe1−x100−y(ただし元素Mは希土類元素)、あるいは(CoFe1−x100−z(ただし元素Nはき金属元素)で表わされる磁性材料で形成する場合、CoとFeの原子比率xを0.4〜0.6あるいは1に設定することが磁歪定数を大きくし、また安定した保磁力を得られる観点から好ましいことを導き出した。 From the experimental results shown in FIG. 13 and FIG. 14, the first magnetic layer is (Co x Fe 1-x ) 100- y My (where element M is a rare earth element), or (Co x Fe 1-x ) 100-z. In the case of forming with a magnetic material represented by N z (however, the element N metal element), setting the atomic ratio x between Co and Fe to 0.4 to 0.6 or 1 increases the magnetostriction constant, and From the viewpoint of obtaining a stable coercive force, it was derived that was preferable.

本発明の第1実施形態の磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た断面図、Sectional drawing which looked at the structure of the magnetic detection element of 1st Embodiment of this invention from the opposing surface side with a recording medium, 図1に示された磁気検出素子の平面図、FIG. 1 is a plan view of the magnetic detection element shown in FIG. 非磁性金属層と固定磁性層が整合しつつ、歪みが生じている状態を示す模式図、A schematic diagram showing a state in which a nonmagnetic metal layer and a pinned magnetic layer are aligned and strain is generated, 本発明の磁気検出素子の図1とは異なる固定磁性層付近の部分断面図、The fragmentary sectional view of the vicinity of the pinned magnetic layer different from FIG. 1 of the magnetic sensing element of the present invention, 本発明の第2実施形態の磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た断面図、Sectional drawing which looked at the structure of the magnetic detection element of 2nd Embodiment of this invention from the opposing surface side with a recording medium, 本発明の第3実施形態の磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た断面図、Sectional drawing which looked at the structure of the magnetic detection element of 3rd Embodiment of this invention from the opposing surface side with a recording medium, 第1磁性層をTb−Co,Pr−CoあるいはSm−Coで形成し、Tb,Pr,Smの組成比と第1磁性層の磁歪定数との関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the composition ratio of Tb, Pr, Sm and the magnetostriction constant of the first magnetic layer, wherein the first magnetic layer is made of Tb—Co, Pr—Co or Sm—Co; 第1磁性層をTb−Co,Pr−Co,Sm−CoあるいはCoで形成した場合の、スピンフロップ磁界(Hsf)と抵抗変化率(ΔR/R)との関係を示すグラフ、A graph showing a relationship between a spin flop magnetic field (Hsf) and a resistance change rate (ΔR / R) when the first magnetic layer is formed of Tb—Co, Pr—Co, Sm—Co or Co; 第1磁性層をIr−Co,Rh−CoあるいはPt−Coで形成し、Ir,Rh,Ptの組成比と第1磁性層の保磁力との関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the composition ratio of Ir, Rh, and Pt and the coercivity of the first magnetic layer, wherein the first magnetic layer is made of Ir—Co, Rh—Co, or Pt—Co; 第1磁性層をIr−Co,Rh−Coで形成し、Ir,Rhの組成比と第1磁性層の磁歪定数との関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the composition ratio of Ir and Rh and the magnetostriction constant of the first magnetic layer, wherein the first magnetic layer is made of Ir—Co and Rh—Co; 第1磁性層をPt−Coで形成し、Ptの組成比と積層フェリピンド構造の固定磁性層の磁歪定数との関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the composition ratio of Pt and the magnetostriction constant of the pinned magnetic layer having a laminated ferri-pinned structure, in which the first magnetic layer is made of Pt—Co; 第1磁性層をIr−Co,Rh−Co,あるいはCoで形成した場合の、積層フェリピンド構造のnet−Ms・tと抵抗変化率(ΔR/R)との関係を示すグラフ、A graph showing a relationship between net-Ms · t of a laminated ferri-pinned structure and a rate of change in resistance (ΔR / R) when the first magnetic layer is made of Ir—Co, Rh—Co, or Co; 第1磁性層をCoFeで形成し、PtMn下地がある場合(実施例)とPtMn下地が無い場合(比較例)における、Coの組成比と第1磁性層の保磁力Hcとの関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the Co composition ratio and the coercive force Hc of the first magnetic layer when the first magnetic layer is made of CoFe and there is a PtMn underlayer (Example) and when there is no PtMn underlayer (Comparative Example) , 第1磁性層をCoFeで形成し、PtMn下地がある場合(実施例)とPtMn下地が無い場合(比較例)における、Coの組成比と第1磁性層の磁歪定数λsとの関係を示すグラフ、A graph showing the relationship between the composition ratio of Co and the magnetostriction constant λs of the first magnetic layer when the first magnetic layer is made of CoFe and there is a PtMn underlayer (Example) and when there is no PtMn underlayer (Comparative Example) ,

符号の説明Explanation of symbols

20 下部ギャップ層
21 シードレイヤ
22 非磁性金属層
23 固定磁性層
23a 第1磁性層
23b 非磁性中間層
23c 第2磁性層
24 非磁性材料層
25 フリー磁性層
26 保護層
27 バイアス下地層
28 ハードバイアス層
29 電極層
30 上部ギャップ層
32 非磁性層
20 lower gap layer 21 seed layer 22 nonmagnetic metal layer 23 pinned magnetic layer 23a first magnetic layer 23b nonmagnetic intermediate layer 23c second magnetic layer 24 nonmagnetic material layer 25 free magnetic layer 26 protective layer 27 bias underlayer 28 hard bias Layer 29 Electrode layer 30 Upper gap layer 32 Nonmagnetic layer

Claims (17)

固定磁性層とフリー磁性層が非磁性材料層を介して積層されている磁気検出素子において、
前記固定磁性層は、複数の磁性層が非磁性中間層を介して積層されたものであって、前記複数の磁性層のうち前記非磁性材料層から最も離れた位置に形成されている第1磁性層の前記非磁性材料層が設けられている側と反対側にX―Mn(ただしXは、Pt,Pd,Ir,Rh,Ru,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上の元素である)合金からなる非磁性金属層が形成され、
前記第1磁性層はCoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素が添加されてなり、
前記非磁性金属層内の結晶と前記第1磁性層内の結晶の少なくとも一部は、エピタキシャルまたはヘテロエピタキシャルな状態であり、
前記固定磁性層の記録媒体との対向面側の端面が開放されていることを特徴とする磁気検出素子。
In a magnetic sensing element in which a pinned magnetic layer and a free magnetic layer are laminated via a nonmagnetic material layer,
The pinned magnetic layer includes a plurality of magnetic layers stacked via a nonmagnetic intermediate layer, and is formed at a position farthest from the nonmagnetic material layer among the plurality of magnetic layers. X-Mn (where X is one or more of Pt, Pd, Ir, Rh, Ru, Os, Ni, Fe) on the opposite side of the magnetic layer to the side on which the nonmagnetic material layer is provided A non-magnetic metal layer made of an alloy is formed,
The first magnetic layer is mainly composed of Co and Fe, and further added with a rare earth element or a noble metal element,
At least part of the crystals in the nonmagnetic metal layer and the crystals in the first magnetic layer are in an epitaxial or heteroepitaxial state,
An end face of the fixed magnetic layer facing the recording medium is open.
前記希土類元素は、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなる請求項1記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 1, wherein the rare earth element is selected from at least one of Tb, Sm, Pr, Y, Ce, Nd, Gd, Dy, Ho, Er, and Yb. 前記第1磁性層は、(CoFe1−x100−yで表わされる磁性材料で形成され、元素Mは、Tb,Sm,Pr,Y,Ce,Nd,Gd,Dy,Ho,Er,Ybの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比yは、0.3at%以上で5at%以下である請求項2記載の磁気検出素子。 Said first magnetic layer, (Co x Fe 1-x ) formed of a magnetic material represented by 100-y M y, element M, Tb, Sm, Pr, Y , Ce, Nd, Gd, Dy, Ho 3. The magnetic detection element according to claim 2, wherein at least one kind is selected from among Er, Er, and Yb, and the composition ratio y is 0.3 at% or more and 5 at% or less. 前記貴金属元素は、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなる請求項1記載の磁気検出素子。   The magnetic sensing element according to claim 1, wherein at least one of the noble metal elements is selected from Pt, Rh, Ir, and Re. 前記第1磁性層は、(CoFe1−x100−zで表わされる磁性材料で形成され、元素Nは、Pt,Rh,Ir,Reの中から少なくとも1種類が選択されてなり、組成比zは、5at%以上で20at%以下である請求項4記載の磁気検出素子。 Said first magnetic layer, (Co x Fe 1-x ) formed of a magnetic material represented by 100-z N z, the element N is, Pt, Rh, Ir, at least one from among Re is selected The magnetic detection element according to claim 4, wherein the composition ratio z is 5 at% or more and 20 at% or less. 原子比率xは、1あるいは0.4〜0.6の範囲内である請求項3または5に記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 3 or 5, wherein the atomic ratio x is 1 or within a range of 0.4 to 0.6. 前記第1磁性層の膜厚は、12〜19Åの範囲内である請求項1ないし6のいずれかに記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 1, wherein the first magnetic layer has a thickness in a range of 12 to 19 mm. 前記第1磁性層は少なくとも2層以上の積層構造からなり、前記非磁性金属層に最も近い位置に形成された磁性層が、CoとFeとを主体とし、さらに希土類元素あるいは貴金属元素が添加されてなる磁性材料で形成されている請求項1ないし7のいずれかに記載の磁気検出素子。   The first magnetic layer has a laminated structure of at least two layers, and the magnetic layer formed closest to the nonmagnetic metal layer is mainly composed of Co and Fe, and further added with a rare earth element or a noble metal element. The magnetic detection element according to claim 1, wherein the magnetic detection element is formed of a magnetic material. 第1磁性層を構成する磁性層のうち、前記非磁性中間層に接する磁性層がCoFe合金あるいはCoで形成される請求項8記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 8, wherein a magnetic layer in contact with the nonmagnetic intermediate layer among the magnetic layers constituting the first magnetic layer is formed of a CoFe alloy or Co. 前記非磁性金属層は前記第1磁性層の界面に接して形成されている請求項1ないし9のいずれかに記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 1, wherein the nonmagnetic metal layer is formed in contact with an interface of the first magnetic layer. 前記非磁性金属層は、前記固定磁性層の第1磁性層側の界面付近あるいは全領域において面心立方格子(fcc)構造をとり、前記界面と平行な方向に、{111}面として表される等価な結晶面が優先配向している請求項1ないし10のいずれかに記載の磁気検出素子。   The nonmagnetic metal layer has a face-centered cubic lattice (fcc) structure in the vicinity of or in the entire region of the pinned magnetic layer on the first magnetic layer side, and is represented as a {111} plane in a direction parallel to the interface. The magnetic sensing element according to claim 1, wherein equivalent crystal planes are preferentially oriented. 前記非磁性金属層の膜厚は、5Å以上50Å以下である請求項1ないし11のいずれかに記載の磁気検出素子。   The magnetic sensing element according to claim 1, wherein the nonmagnetic metal layer has a thickness of 5 to 50 mm. 前記X―Mn合金(ただしXは、Pt,Pd,Os,Ni,Feのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量は、45原子%以上99原子%以下である請求項1ないし12のいずれかに記載の磁気検出素子。   The X element content in the X-Mn alloy (where X is one or more of Pt, Pd, Os, Ni, and Fe) is 45 atomic percent or more and 99 atomic percent or less. The magnetic detection element according to any one of 1 to 12. 前記X―Mn合金(ただしXは、Ir,Rh,Ruのいずれか1種または2種以上)中のX元素の含有量は、17原子%以上99原子%以下である請求項1ないし12のいずれかに記載の磁気検出素子。   13. The X element content in the X—Mn alloy (where X is one or more of Ir, Rh, and Ru) is 17 atomic% or more and 99 atomic% or less. Any one of the magnetic detection elements. Ir―Mn合金中のIrの含有量は、20原子%以上99原子%以下である請求項1ないし12のいずれかに記載の磁気検出素子。   The magnetic sensing element according to any one of claims 1 to 12, wherein the content of Ir in the Ir-Mn alloy is 20 atomic percent or more and 99 atomic percent or less. 前記固定磁性層の第1磁性層は、前記非磁性金属層側の界面付近あるいは全領域において面心立方格子(fcc)構造又は体心立方格子(bcc)構造をとり、前記界面と平行な方向に、{111}面又は{110}面として表される等価な結晶面が優先配向している請求項1ないし15のいずれかに記載の磁気検出素子。   The first magnetic layer of the pinned magnetic layer has a face-centered cubic lattice (fcc) structure or a body-centered cubic lattice (bcc) structure in the vicinity of the interface on the nonmagnetic metal layer side or in the entire region, and a direction parallel to the interface. The magnetic sensing element according to claim 1, wherein an equivalent crystal plane represented as a {111} plane or a {110} plane is preferentially oriented. 下からフリー磁性層、非磁性材料層、固定磁性層の順に積層されている請求項1ないし16のいずれかに記載の磁気検出素子。   The magnetic detection element according to claim 1, wherein a free magnetic layer, a nonmagnetic material layer, and a fixed magnetic layer are laminated in that order from the bottom.
JP2004105988A 2004-03-31 2004-03-31 Magnetic detection element Expired - Fee Related JP4506242B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004105988A JP4506242B2 (en) 2004-03-31 2004-03-31 Magnetic detection element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004105988A JP4506242B2 (en) 2004-03-31 2004-03-31 Magnetic detection element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005294453A true JP2005294453A (en) 2005-10-20
JP4506242B2 JP4506242B2 (en) 2010-07-21

Family

ID=35327066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004105988A Expired - Fee Related JP4506242B2 (en) 2004-03-31 2004-03-31 Magnetic detection element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4506242B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006202784A (en) * 2005-01-17 2006-08-03 Tdk Corp Magnetoresistive film, and magnetization control method of pinned layer
WO2008117354A1 (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujitsu Limited Magnetoresistance effect device and, equipped therewith, magnetic head, magnetic recording apparatus and magnetic memory unit
JP2009514211A (en) * 2005-10-28 2009-04-02 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション Tuned pinned layer for magnetic tunnel junction with multi-component free layer
US8203808B2 (en) 2006-10-30 2012-06-19 Tdk Corporation Magneto-resistance effect element including free layer having multilayer constitution including magnetic body mixed with element having 4F electrons

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000113418A (en) * 1998-10-01 2000-04-21 Hitachi Ltd Magneto-resistive head based on spin valve effect and magnetic recording and reproducing device using the same
JP2000173021A (en) * 1998-12-01 2000-06-23 Hitachi Ltd Magnetoresistance effect element
JP2001084756A (en) * 1999-09-17 2001-03-30 Sony Corp Magnetization driving method, magnetic functional element and magnetic device
JP2003332649A (en) * 2002-05-14 2003-11-21 Alps Electric Co Ltd Magnetic detecting element
JP2004282054A (en) * 2003-02-26 2004-10-07 Alps Electric Co Ltd Magnetism detection element

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000113418A (en) * 1998-10-01 2000-04-21 Hitachi Ltd Magneto-resistive head based on spin valve effect and magnetic recording and reproducing device using the same
JP2000173021A (en) * 1998-12-01 2000-06-23 Hitachi Ltd Magnetoresistance effect element
JP2001084756A (en) * 1999-09-17 2001-03-30 Sony Corp Magnetization driving method, magnetic functional element and magnetic device
JP2003332649A (en) * 2002-05-14 2003-11-21 Alps Electric Co Ltd Magnetic detecting element
JP2004282054A (en) * 2003-02-26 2004-10-07 Alps Electric Co Ltd Magnetism detection element

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006202784A (en) * 2005-01-17 2006-08-03 Tdk Corp Magnetoresistive film, and magnetization control method of pinned layer
JP2009514211A (en) * 2005-10-28 2009-04-02 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション Tuned pinned layer for magnetic tunnel junction with multi-component free layer
US8203808B2 (en) 2006-10-30 2012-06-19 Tdk Corporation Magneto-resistance effect element including free layer having multilayer constitution including magnetic body mixed with element having 4F electrons
WO2008117354A1 (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujitsu Limited Magnetoresistance effect device and, equipped therewith, magnetic head, magnetic recording apparatus and magnetic memory unit

Also Published As

Publication number Publication date
JP4506242B2 (en) 2010-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7554776B2 (en) CCP magnetic detecting element including a self-pinned CoFe layer
US7029771B2 (en) Magnetic sensor having free layer additionally provided with magnetic anisotropy by shape anisotropy
US7126797B2 (en) Spin valve magnetoresistive element having pinned magnetic layer composed of epitaxial laminated film having magnetic sublayers and nanomagnetic interlayer
JP3756758B2 (en) Exchange coupling film, magnetoresistive element using the exchange coupling film, and thin film magnetic head using the magnetoresistive element
US9269382B1 (en) Method and system for providing a read transducer having improved pinning of the pinned layer at higher recording densities
JP2005050842A (en) Exchange bonding film, its forming method and magnetic detection element employing it
US7045224B2 (en) Magnetic detecting element having antiferromagnetic film having predetermined space in track width direction and method for manufacturing the same
US20100247966A1 (en) Tunneling magneto-resistive spin valve sensor with novel composite free layer
JP2006005286A (en) Magnetic detecting element
US7515388B2 (en) Composite hard bias design with a soft magnetic underlayer for sensor applications
US7602590B2 (en) Tunneling magneto-resistive spin valve sensor with novel composite free layer
JP3756757B2 (en) Exchange coupling film, magnetoresistive element using the exchange coupling film, and thin film magnetic head using the magnetoresistive element
US7362546B2 (en) Spin-valve magnetoresistive element having fixed magnetic layer of epitaxal laminate including magnetic layer and nonmagnetic layer
JP2003152245A (en) Spin valve type magnetoresistive effect sensor element and manufacturing method therefor
US7312960B2 (en) Magnetic sensing element comprising a pinned magnetic layer, a free magnetic layer, and a nonmagnetic conductive layer disposed therebetween
JP4506242B2 (en) Magnetic detection element
US20040228044A1 (en) Spin-valve magnetoresistive element having fixed magnetic layer of epitaxial laminate including magnetic layer and non-magnetic layer
US6496337B1 (en) Copper alloy GMR recording head
JP3071781B2 (en) Exchange coupling film, magnetoresistive element using the exchange coupling film, and thin-film magnetic head using the magnetoresistive element
JP2004282054A (en) Magnetism detection element
JP2006005282A (en) Magnetic detecting element
JPH07182629A (en) Magnetic sensor
JP2002299723A (en) Magnetoresistance effect element and thin-film magnetic head using the same
JP3255901B2 (en) Method for producing exchange coupling membrane
JP2006005278A (en) Magnetic detecting element

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060216

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080111

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090805

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090811

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091006

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100419

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees