JP2005291757A - Residual chlorine sensor, residual chlorine meter using it and residual chlorine sensor manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、残留塩素センサ、これを用いた残留塩素計および残留塩素センサの製造方法に関する。 The present invention relates to a residual chlorine sensor, a residual chlorine meter using the same, and a method for manufacturing a residual chlorine sensor.
水道水などの上水や工業排水、プール、公衆入浴敷設などで使用される水には、次亜塩素酸ソーダなどが投入されて、殺菌消毒が行なわれている。しかしながら、次亜塩素酸ソーダが過度に使用されると、残留塩素の量が増え、発ガン性のトリハロメタンを発生させるので、この残留塩素の量を監視することが必要となる。 Water used in tap water and other industrial water, industrial wastewater, swimming pools, public baths, etc., is sterilized by sodium hypochlorite. However, excessive use of sodium hypochlorite increases the amount of residual chlorine and generates carcinogenic trihalomethane, so it is necessary to monitor the amount of residual chlorine.
残留塩素を測定する方法としては、残留塩素がオルトトリジンの塩酸溶液と反応して生じる色の変化を目視にて確認するオルトトリジン法や、残留塩素がジエチル−p−フェニレンジアミン(DPD)と反応して生じる色の変化を確認するDPD法などがあるが、何れも試薬を用いる必要があるので、ランニングコストがかかるだけでなく、連続測定では、試薬を秤量し、一定量添加させる手段が必要となり、装置化が困難であった。 As a method for measuring residual chlorine, the orthotolidine method for visually confirming the color change caused by the reaction of residual chlorine with a hydrochloric acid solution of orthotolidine, or the residual chlorine reacts with diethyl-p-phenylenediamine (DPD). There is a DPD method for confirming the color change that occurs, but since it is necessary to use a reagent for each, not only the running cost is required, but in continuous measurement, a means for weighing the reagent and adding a certain amount is required, Deviceization was difficult.
そこで、被検液に対して電極を浸漬させて電極間を流れる電流を測定することにより、残留塩素濃度を測定するポーラログラフ式の残留塩素計が使用されるに至っている。このポーラログラフ式の残留塩素計は、被検液に金または白金からなるカソード電極(作用極)と、銀に塩化銀の薄膜を形成してなるアノード電極(対極)を浸漬し両電極間に電圧を印加することにより、アノード電極側およびカソード電極側において以下の式に示す電極反応を生じさせるものであり、このときに流れる電流の大きさを用いて残留塩素濃度を測定するものである。
2Ag→2Ag+ +2e-
HClO+H+ +2e- →H2 O+Cl- または
Cl2 +2e- →2Cl- (酸性下)
ClO- +2H+ +2e- →H2 O+Cl- (アルカリ下)
Therefore, a polarographic residual chlorine meter that measures the residual chlorine concentration by immersing the electrodes in the test solution and measuring the current flowing between the electrodes has come to be used. This polarographic residual chlorine meter has a cathode electrode (working electrode) made of gold or platinum in the test solution and an anode electrode (counter electrode) formed by forming a silver chloride thin film on silver. Is applied to cause an electrode reaction represented by the following expression on the anode electrode side and the cathode electrode side, and the residual chlorine concentration is measured using the magnitude of the current flowing at this time.
2Ag → 2Ag + + 2e −
HClO + H + + 2e − → H 2 O + Cl − or
Cl 2 + 2e − → 2Cl − (under acidity)
ClO − + 2H + + 2e − → H 2 O + Cl − (under alkali)
なお、ポーラログラフ式の残留塩素計においては、アノード電極はカソード電極に比べて数十倍大きい表面積を有する必要がある。そこで、従来よりアノード電極として例えば直径0.3mm程度の細い銀線を螺旋状に巻き付けた後に、この銀線に電解処理などで塩化銀をメッキコーティングすることが行われている。
ところが、前記電気メッキ法によって塩化銀を銀線にコーティングする場合には、塩化銀が絶縁体に近い抵抗率を有しているので、薄い塩化銀が形成された状態でメッキコーティングが終了し、塩化銀を厚くコーティングすることができないという問題があった。また、アノード極側の塩化銀は残留塩素の濃度を測定するときに徐々に微量溶解(溶出)するので塩化銀の層が薄ければ薄いほど、電極の寿命が短いという問題があった。さらに、塩化銀の層が極めて薄いので、コーティング層が搬送時や使用時に外部との衝突などによってすぐに剥げる可能性があり、銀線が露出すると局部電解(電池)反応により、更に銀塩化銀電極の溶解が促進されるという問題があった。 However, when silver chloride is coated on the silver wire by the electroplating method, since the silver chloride has a resistivity close to that of the insulator, the plating coating is completed with the thin silver chloride formed, There was a problem that silver chloride could not be coated thickly. Further, since silver chloride on the anode side gradually dissolves (elutes) when measuring the concentration of residual chlorine, there is a problem that the thinner the silver chloride layer, the shorter the life of the electrode. Furthermore, since the silver chloride layer is extremely thin, the coating layer may be peeled off immediately by collision with the outside during transportation or use, and when silver wire is exposed, it is further exposed to silver electrochloride by a local electrolysis (battery) reaction. There was a problem that dissolution of the electrode was promoted.
加えて、塩化銀は感光体であるから、光(特に紫外線)の影響を受けやすく、室内の蛍光灯からの紫外線にも若干応答し、その起電力が変動することがあった。また、屋外で使用する場合には太陽光に含まれる紫外光によって、測定値が顕著に変化する可能性があった。とりわけ、屋外で使用する場合には、メンテナンス時に紫外光の影響が大きく現れる可能性があった。 In addition, since silver chloride is a photoreceptor, it is easily affected by light (particularly ultraviolet rays), and responds slightly to ultraviolet rays from indoor fluorescent lamps, and its electromotive force may fluctuate. In addition, when used outdoors, the measurement value may change significantly due to ultraviolet light contained in sunlight. In particular, when used outdoors, the influence of ultraviolet light may appear greatly during maintenance.
特許文献1には、白金をアノード電極、銀をカソード電極とする酵素電極用の銀電極において、銀粉末と、塩化銀と硫化銀からなる混合物と、エポキシ樹脂とを混合攪拌し、加圧成形した構成が示されている。しかしながら、このような構成では銀粉末の大きさ(粒径)を一定にしたり、この銀粉末をエポキシ樹脂に均一に分布させることは難しいので、カソード電極の性能を安定させることが難しかった。
In
本発明は上述の事柄を考慮に入れてなされたものであって、その目的は、塩化銀の溶出によって電極寿命が短くなったり、衝突によって塩化銀が簡単に剥げることがなく、電極を高寿命化させることができる残留塩素センサ、これを用いた残留塩素計および残留塩素センサの製造方法を提供することである。 The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters. The purpose of the present invention is to prevent the electrode life from being shortened by elution of silver chloride or to prevent the silver chloride from peeling off easily by collision. The present invention provides a residual chlorine sensor, a residual chlorine meter using the same, and a method for manufacturing a residual chlorine sensor.
上記目的を達成するために、請求項1に記載の残留塩素センサは、アノード電極とカソード電極とを有し、酸化還元反応によって両電極間に流れる電流を測定することにより溶液中の残留塩素を測定する残留塩素センサであって、電極本体の表面に硫化銀と塩化銀の共融塩からなるコーティング層が形成されてなるアノード電極を有することを特徴としている。
In order to achieve the above object, a residual chlorine sensor according to
前記共融塩に含まれる硫化銀の重量が5〜30%であってもよい(請求項2)。 The silver sulfide contained in the eutectic salt may have a weight of 5 to 30% (Claim 2).
前記電極本体の形状がほぼ筒状であってもよい(請求項3)。 The shape of the electrode body may be substantially cylindrical.
前記コーティング層の表面に粗面処理を施してあってもよい(請求項4)。 The surface of the coating layer may be roughened (Claim 4).
請求項5に記載の残留塩素計は、請求項1〜4の何れかに記載の残留塩素センサと、この残留塩素センサのアノード電極とカソード電極の間に流れる電流の大きさから残留塩素を求める演算処理部と、残留塩素の測定結果を出力する結果出力部とを有することを特徴としている。
The residual chlorine meter according to claim 5 obtains residual chlorine from the residual chlorine sensor according to any one of
請求項6に記載の残留塩素センサの製造方法は、塩化銀に重量で5〜30%の硫化銀を混合し、この混合物を融解させた共融塩に電極本体を浸漬させて引き上げることにより、電極本体の表面を硫化銀と塩化銀の共融塩によってコーティングすることを特徴としている。 The method for producing a residual chlorine sensor according to claim 6 is obtained by mixing 5-30% by weight of silver sulfide with silver chloride, immersing the electrode body in a eutectic salt obtained by melting the mixture, and pulling it up. The surface of the electrode body is coated with a eutectic salt of silver sulfide and silver chloride.
請求項1に記載の残留塩素センサでは、抵抗率を適切に設定し、硫化銀と塩化銀の共融塩によるコーティング層の膜厚を十分に厚く形成することができるので、塩化銀の溶解による残留塩素センサの短寿命化を抑えることができる。つまり、残留塩素センサの劣化を防止して、長期間に渡って良好な測定を行なうことが可能となる。また、測定時や搬送時にコーティング層を何かに衝突させることがあったとしても塩化銀のコーティング層が簡単に剥がれ落ちることがない。すなわち、取扱が容易で常に安定した測定を行なうことができる残留塩素センサを提供することができる。
In the residual chlorine sensor according to
なお、電極本体を構成する金属は共融塩との融合性を良くして、電極電位を安定化させるためには、銀であることが好ましい。また、電極本体と共融塩との接合面における接合性を良好なものとするためには、電極本体の共融塩との接合面が粗面処理されていることが好ましい。 The metal constituting the electrode body is preferably silver in order to improve the fusion with the eutectic salt and stabilize the electrode potential. Moreover, in order to make the joining property in the joint surface of an electrode main body and eutectic salt favorable, it is preferable that the joint surface with the eutectic salt of an electrode main body is roughened.
加えて、前記共融塩に含まれる硫化銀の重量が5〜30%である場合(請求項2)には、共融塩に含まれる重量5%以上の硫化銀が紫外光を効果的に吸収することができるので、この残留塩素センサに紫外線が当たることがあっても、これによって塩化銀が電極反応を起こすことはなく、安定した測定を行なうことができる。また、硫化銀の重量が30%以下であるから、半導電性を有する硫化銀によって残留塩素センサの抵抗率が落ちることを防止できる。なお、前記共融塩に含まれる硫化銀の重量は好ましくは10〜20%であり、最適は16%前後である。また、上記混合比で混合された硫化銀と塩化銀の共融塩は、5Ωm程度の良好な抵抗率を得ることができる。 In addition, when the weight of the silver sulfide contained in the eutectic salt is 5 to 30% (Claim 2), the silver sulfide having a weight of 5% or more contained in the eutectic salt effectively absorbs ultraviolet light. Since it can absorb, even if the residual chlorine sensor is exposed to ultraviolet rays, silver chloride does not cause an electrode reaction, and stable measurement can be performed. Moreover, since the weight of silver sulfide is 30% or less, it is possible to prevent the resistivity of the residual chlorine sensor from being lowered by the semiconductive silver sulfide. The weight of silver sulfide contained in the eutectic salt is preferably 10 to 20%, and optimally around 16%. Further, the eutectic salt of silver sulfide and silver chloride mixed at the above mixing ratio can obtain a good resistivity of about 5 Ωm.
前記電極本体の形状がほぼ筒状である場合(請求項3)には、電極本体の表面に十分な表面積を得ることができると共に、加工が容易である。つまり、従来のアノード電極のように螺旋状に巻き付けた状態の細い銀線では、硫化銀と塩化銀の共融塩の溶解物に浸漬するなどの加工が困難となるが、電極本体の形状が筒状であれば共融塩の溶解物から熱を受けてもその形状は容易に歪むことがない。 When the shape of the electrode body is substantially cylindrical (Claim 3), a sufficient surface area can be obtained on the surface of the electrode body, and processing is easy. In other words, the thin silver wire wound in a spiral manner as in the conventional anode electrode, it is difficult to process such as immersing in the melted eutectic salt of silver sulfide and silver chloride, but the shape of the electrode body is If it is cylindrical, even if it receives heat from the melted eutectic salt, its shape does not easily distort.
前記コーティング層の表面に粗面処理を施してある場合(請求項4)には、残留塩素センサと被検液との接触面積を大きくすることができるので、カソードに対し十分な還元反応を与えることができる。 When the surface of the coating layer is roughened (Claim 4), the contact area between the residual chlorine sensor and the test solution can be increased, so that a sufficient reduction reaction is given to the cathode. be able to.
請求項5に記載の残留塩素計は、請求項1〜4の何れかに記載の残留塩素センサを用いたことにより、電極の寿命を長くすることができるので、この残留塩素センサを長期間にわたってメンテナンスフリーとすることができる。また、この残留塩素センサのコーティング層が厚く、簡単に剥がれることがないので取り扱いが容易となる。
Since the residual chlorine meter according to claim 5 can extend the life of the electrode by using the residual chlorine sensor according to any one of
請求項6に記載の残留塩素センサの製造方法によれば、電極本体にコーティングする共融塩の層の厚みを自在に設定することができる。すなわち、このコーティング層の厚みは融解させた共融塩の温度と、電極本体を融解させた共融塩に浸漬させる時間と、融解させた共融塩から電極本体を引き上げる速度、および、電極本体を共融塩に浸漬する回数によって自在に設定することができる。とりわけ、電極本体に共融塩のコーティング層を厚く形成することにより、寿命が長く耐久性に優れた残留塩素センサを製造することができる。 According to the method for manufacturing the residual chlorine sensor according to the sixth aspect, the thickness of the eutectic salt layer coated on the electrode body can be freely set. That is, the thickness of this coating layer is the temperature of the melted eutectic salt, the time for which the electrode body is immersed in the melted eutectic salt, the speed at which the electrode body is pulled up from the melted eutectic salt, and the electrode body Can be freely set according to the number of times of immersion in the eutectic salt. In particular, by forming a thick eutectic salt coating layer on the electrode body, a residual chlorine sensor having a long life and excellent durability can be produced.
また、硫化銀の混合を塩化銀に対し5〜30%前後にすれば、共融塩の融点の上昇を抑えることができ、電極本体に対する共融塩のコーティング加工が容易となる。なお、共融塩に含まれる硫化銀の重量は16%前後が最適である。さらに、硫化銀が光を吸収する性質を有しているので、塩化銀に外部からの光が当たるなどして起電力が変動することがなく、その測定値が安定する。加えて、ほぼ絶縁性の塩化銀に対して半導体の硫化銀を重量で5〜30%混合させてある共融塩は適度な抵抗率(約5Ωm)を有し、この共融塩の膜厚を十分に厚く形成しても測定に必要な電流を流すことができるので、正確な測定を行なうことができる。 Further, if the mixture of silver sulfide is about 5 to 30% with respect to silver chloride, an increase in the melting point of the eutectic salt can be suppressed, and coating processing of the eutectic salt on the electrode body becomes easy. The optimum weight of silver sulfide contained in the eutectic salt is about 16%. Furthermore, since silver sulfide has the property of absorbing light, the electromotive force does not fluctuate due to external light hitting silver chloride and the measured value is stabilized. In addition, a eutectic salt in which 5 to 30% by weight of semiconductor silver sulfide is mixed with substantially insulative silver chloride has an appropriate resistivity (about 5 Ωm). Even if it is formed to be sufficiently thick, a current necessary for measurement can be passed, so that accurate measurement can be performed.
なお、電極本体の表面を粗面処理した後に、この粗面処理した面に対して共融塩を付着させることにより、電極本体と共融塩との融合性をよくすることが可能であり、電極本体の表面に形成された共融塩の表面を粗面処理することにより、アノード電極の表面積を大きくすることができる。 In addition, it is possible to improve the fusion between the electrode body and the eutectic salt by attaching the eutectic salt to the roughened surface after the surface of the electrode body is roughened. By roughening the surface of the eutectic salt formed on the surface of the electrode body, the surface area of the anode electrode can be increased.
図1,2は本発明の第1実施例を説明する図であって、図1は第1実施例の残留塩素センサ1と、この残留塩素センサ1を用いた残留塩素計2の構成を示す図、図2は残留塩素センサ1の構成を説明する図である。
FIGS. 1 and 2 are views for explaining a first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a configuration of a
図1に示す全体図において、3は残留塩素計本体、4はこの残留塩素計本体3の表示部、5は操作部、6はこの残留塩素計本体3に残留塩素センサ1を着脱自在に接続するためのコネクタである。一方、残留塩素センサ1はセンサ本体7と、前記コネクタ6に接続可能に構成されたコネクタ8を有する信号線9と、これらのコネクタ6,8および信号線9を介して残留塩素計本体3に接続されるアノード電極10と、カソード電極11とを有する。また、3aは両電極10,11間に流れる電流の大きさから残留塩素を求める演算処理部であり、前記表示部4は残留塩素の測定結果を出力する結果出力部の一例である。なお、残留塩素の結果は本例に示したような表示による出力だけでなく、測定結果を印字したり、データとして上位の情報処理装置に出力するものであってもよい。
1, 3 is a residual chlorine meter main body, 4 is a display unit of the residual chlorine meter
図2に示す要部拡大図において、センサ本体7は二点鎖線に示すように、例えば先端部7aにおいて細く基端部7bにおいて太くなるように複数段の同芯円状の筒体12〜15を連結したような外形を有する形状の合成樹脂からなる筒体である。また、センサ本体7の先端部7aには筒体12の先端に金からなる電極チップ16を突出させるように固定し、この電極チップ16を水密に保持する。17は電極チップ16に電気的に接続されたリード線であり、18はこのリード線17と電極チップ16の接続部である。つまり、本実施例のカソード電極11は例えばこれらの電極チップ16,リード線17および接続部18からなる。
In the enlarged view of the main part shown in FIG. 2, the
一方、アノード電極10は、略円筒状の銀からなる電極本体19と、この電極本体19の表面を被覆するコーティング層20と、電極本体19に電気的に接続されたリード線21と、その接続部22とを有する。このアノード電極10は筒体13の外周面と面一であると共に外部からの水がセンサ本体7内に入り込まないように水密に取り付けられている。また、前記コーティング層20は後述する手順により硫化銀と塩化銀の共融塩を付着後に凝固させたものであり、その外側の表面(接液部分)20aの面積は前記電極チップ16の外側表面の接液部分16aに比べて数十倍大きくなるように構成してある。
On the other hand, the
本実施例のアノード電極10には、電極本体19の上端部にコーティング層20を付けない電極露出部分19aが形成されており、この電極露出部分19aが筒体14によって外部から水密に(電気的に遮断されるように)取り付けられ、前記リード線21の接続部22は電極露出部分19aに形成されている。なお、リード線17,21は信号線9として外部から遮断された状態で、また、互いに電気的に接触しないように絶縁被服された状態で残留塩素計本体3側に接続される。
In the
したがって、本実施例の残留塩素センサ1を飲料水などの被検液に浸漬することにより、両電極10,11の接液部分20a,16aを被検液に接触させることができ、これらの接液部分20a,16a間に流れた電流を残留塩素計本体3側にて測定することができ、これによって残留塩素濃度を測定することができる。
Therefore, by immersing the
図3は前記残留塩素センサ1のアノード電極10の製造方法を説明する図である。図3において、30は電気炉であり、31はこの電気炉30のヒータ、32はるつぼ、33はこのるつぼ32内に投入した硫化銀と塩化銀の共融塩である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method of manufacturing the
前記塩化銀と硫化銀の混合比は重量で95:5〜70:30の間であることが好ましい。すなわち、硫化銀の混合比が重量で5%以下であると、混合物の色が薄くなりすぎて紫外線を十分に吸収することができないので、紫外線が当たったときに塩化銀に電極反応が生じる可能性があるので好ましくない。逆に、基本的に半導体の硫化銀の混合比が重量で30%以上であると、これによって形成されるコーティング層20の抵抗値が下がり過ぎるので残留塩素濃度を適切に測定することができないので好ましくない。
The mixing ratio of silver chloride and silver sulfide is preferably between 95: 5 and 70:30 by weight. That is, when the mixing ratio of silver sulfide is 5% or less by weight, the color of the mixture becomes too thin to absorb ultraviolet rays sufficiently, so that an electrode reaction may occur in silver chloride when exposed to ultraviolet rays. This is not preferable because of its properties. On the contrary, if the mixing ratio of silver sulfide of the semiconductor is basically 30% or more by weight, the resistance value of the
なお、塩化銀と硫化銀の混合比はより好ましくは重量で90:10〜80:20の間であり、これによって硫化銀による紫外線の吸収を十分に行ってコーティング層20には適度な抵抗率を得ることができ、残留塩素センサの電極として良好である。また、塩化銀と硫化銀の最適の混合比は重量で84:16前後であり、この共融塩によって形成されるコーティング層20は抵抗率が約5Ωmとなる。
The mixing ratio of silver chloride and silver sulfide is more preferably between 90:10 and 80:20 by weight, so that the ultraviolet rays are sufficiently absorbed by the silver sulfide and the
以下の例ではこの最適条件において塩化銀と硫化銀を混合する例を示す。すなわち、塩化銀を84重量%および硫化銀16重量%を別々に秤量し、攪拌混合させて混合物を生成する。そして、この混合物をるつぼ32に投入し、るつぼ32をヒータ31によって加熱して、その温度を例えば495℃に加熱するように温度調節する。
The following example shows an example of mixing silver chloride and silver sulfide under this optimum condition. That is, 84% by weight of silver chloride and 16% by weight of silver sulfide are separately weighed and mixed by stirring to form a mixture. Then, this mixture is put into the
共融塩33が完全に溶解し、その表面に不純物が残る場合には、これをガラス棒などを用いて取り除く。これによって溶解した共融塩33(溶解塩)が完成する。
If the
一方、銀からなる円筒状の電極本体19の表面19bには、サンドブラスト処理などの粗面処理を施して、その表面積を大きくしてある。次いで、この電極本体19を溶解塩33中に浸漬する(ディップする)ことにより、この電極本体19の表面19bに共融塩33によるディップコーティングを施して、前記コーティング層20を形成することができる。
On the other hand, the
このとき、電極本体19の表面19bに粗面処理が施されているので、電極本体19と共融塩33の接触面における融合を強固に行なうことができる。また、電極本体19の上端部は溶解塩33中に浸漬させないことにより、電極露出部分19aを形成することができる。
At this time, the
前記ディップコーティングにおいて、共融塩33の温度はその粘度に関係するものとなり、この温度を融点以上でかつ低く設定することにより、厚いコーティング層20を形成することが可能である。また、電極本体19を共融塩33に複数回浸漬させるなど、時間や回数を制御することにより、コーティング層20の厚みを任意に設定することも可能である。
In the dip coating, the temperature of the
なお、電極本体19を共融塩33に初回浸漬させるときには比較的長い時間浸漬させて、電極本体19とコーティング層20との接合部を強固に融着することが好ましい。加えて、電極本体19を構成する金属は基本的には何でもよいが、共融塩33との融着を確実に行い、臨界面における界面電位の発生を抑制するためには、銀であるのが好ましい。
In addition, when the electrode
コーティング層20のディップコーティングが終了すると、このコーティング層20の表面をサンドブラスト処理などによって粗面処理することにより、接液部分20aの面積を広くすることができる。
When the dip coating of the
図4,5は前記残留塩素センサの変形例を示す図である。図4に示す残留塩素センサ1’が、図1〜3に示す残留塩素センサ1と異なる点は、アノード電極10’を構成する電極本体40が例えば直径0.3mm程度の細い銀線を螺旋状に巻き付けたものである点である。また、この電極本体40の表面には硫化銀と塩化銀の共融塩を付着後に凝固させたコーティング層41が形成されている。
4 and 5 are diagrams showing modifications of the residual chlorine sensor. The difference between the
前記電極本体40はコーティング層41を形成した後に、筒体13に対して螺旋状に巻き付けることにより、全体的にほぼ円筒状の外形を形成するものである。また、本例のようにアノード電極10’を細い銀線の巻き付けによって形成することにより、コーティング層41の接液部分41aに多数の凹凸を形成することができ、これによって接液部分41aの表面積を広くすることができる。なお、42はアノード電極10’の接液部分41aと筒体13,14の間における液体の浸入を阻止するための樹脂モールドである。
The
なお、本実施例では電極本体40の銀線露出部分40aに対してリード線20を接続する接続部22を構成する例を示しているが、本発明はこの構成を限定するものではなく、電極本体40である銀線をそのまま延長してリード線20として用いてもよいことはいうまでもない。
In addition, although the present Example shows the example which comprises the
図5は前記アノード電極10’の製造方法に関係する図であって、図5を用いて説明する残留塩素センサ1’の製造方法は図3を用いて説明した残留塩素センサ1の製造方法とほぼ同じであるが、溶解させた共融塩33に浸漬する電極本体40の形状が糸状の銀線である点において異なっている。なお、本例の電極本体40もその表面40bをサンドブラスト処理などによって粗面処理することにより、電極本体40に対する共融塩の融着をより確実なものとすることが可能である。同様に、形成されたコーティング層41の接液部分41aにも粗面処理が施されていることにより、接液部分41aと測定対象の被検液との接合をより確実に行なって、正確な測定を行なうことができる。
FIG. 5 is a diagram related to the method of manufacturing the
加えて、上述した各例では、ポーラログラフ式の残留塩素センサを示して本発明を説明したが、本発明の残留塩素センサとしてはガルバニ電池法によるものでも構わない。また、残留塩素計2の一例として残留塩素センサ1,1’をハンディータイプの残留塩素計本体3に接続する例を示しているが、本発明は残留塩素計本体3の構成が上述したものであることに限定されるものではない。すなわち、本発明の残留塩素センサ1,1’を被検液の残留塩素を測定する据え置き型の分析装置に組み込まれるものであってもよい。とりわけ、水道水(上水)などを被検液とする場合には、水の残留塩素濃度のみならず、濁度、色度、pHさらには導電率などをそれぞれ測定するセンサを並べて配置し、各センサからの出力を用いて水の総合管理(評価)を行なう上水モニタシステムとしての水質分析装置を構成することも考えられるが、このような総合的な水質分析装置も本発明に係る残留塩素計2の一つである。
In addition, in each of the examples described above, the present invention has been described by showing a polarographic residual chlorine sensor. However, the residual chlorine sensor of the present invention may be based on a galvanic cell method. Moreover, although the example which connects the
1,1’ 残留塩素センサ
2 残留塩素計
3a 演算処理部
4 結果出力部(表示部)
10,10’ アノード電極
11 カソード電極
19,40 電極本体
19b,40b 電極本体の表面
20,41 コーティング層
20a,41a 接液部分(コーティング層の表面)
33 共融塩
1,1 'Residual chlorine sensor 2 Residual chlorine meter 3a Arithmetic processing part 4 Result output part (display part)
10, 10 '
33 Eutectic salt
Claims (6)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009156836A (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-16 | Horiba Ltd | Comparison electrode |
KR102447389B1 (en) * | 2021-11-25 | 2022-09-27 | 대윤계기산업 주식회사 | Water quality measurement system and method for water distribution networks |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57161542A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-05 | Shimadzu Corp | Ion selective electrode |
JP2000131276A (en) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Masaaki Amano | Potable type residual chlorine meter |
JP2000298110A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-24 | Toa Electronics Ltd | Oxidation-reduction current measuring device |
JP2002181779A (en) * | 2000-10-03 | 2002-06-26 | Fdk Corp | Residual chlorine sensor and its manufacturing method |
JP2003083928A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Horiba Ltd | Comparison electrode |
JP2003090816A (en) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Horiba Ltd | Composite electrode for measuring ion concentration |
JP2003139740A (en) * | 2001-11-01 | 2003-05-14 | Dkk Toa Corp | Oxidation-reduction current measuring instrument of vibration type |
-
2004
- 2004-03-31 JP JP2004103517A patent/JP2005291757A/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57161542A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-05 | Shimadzu Corp | Ion selective electrode |
JP2000131276A (en) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Masaaki Amano | Potable type residual chlorine meter |
JP2000298110A (en) * | 1999-02-08 | 2000-10-24 | Toa Electronics Ltd | Oxidation-reduction current measuring device |
JP2002181779A (en) * | 2000-10-03 | 2002-06-26 | Fdk Corp | Residual chlorine sensor and its manufacturing method |
JP2003083928A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Horiba Ltd | Comparison electrode |
JP2003090816A (en) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Horiba Ltd | Composite electrode for measuring ion concentration |
JP2003139740A (en) * | 2001-11-01 | 2003-05-14 | Dkk Toa Corp | Oxidation-reduction current measuring instrument of vibration type |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009156836A (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-16 | Horiba Ltd | Comparison electrode |
KR102447389B1 (en) * | 2021-11-25 | 2022-09-27 | 대윤계기산업 주식회사 | Water quality measurement system and method for water distribution networks |
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