JP2005290133A - Ultraviolet curable low refractive index material composition and antireflection film - Google Patents

Ultraviolet curable low refractive index material composition and antireflection film Download PDF

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Takahiro Kawai
高弘 川合
Mitsunobu Doimoto
光伸 土居本
Hiromi Shimomura
宏臣 下村
Tetsuya Yamamura
哲也 山村
Takayoshi Tanabe
隆喜 田辺
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Abstract

【課題】 低照射光量でも硬化性が良好で、硬化させたときに耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、かつ、硬化膜が実質的に透明で色調に優れた紫外線硬化型低屈折率材組成物及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物及び/又は少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物と、波長365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm以上であって、かつ、波長405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下の光重合開始剤とを含み、光重合開始剤の含有量が、組成物全量を100重量%としたとき、0.01〜15重量%である紫外線硬化型低屈折率材組成物。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a UV curable low refractive index which has good curability even when irradiated with a low amount of light, has excellent scratch resistance, coating property and durability when cured, and has a cured film substantially transparent and excellent in color tone. An index material composition and an antireflection film are provided.
SOLUTION: An ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer, a polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups and / or at least one (meth) acryloyl group. A fluorine-containing (meth) acrylate compound to be contained, an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm of 5 × 10 2 ml / g · cm or more, and an extinction coefficient at a wavelength of 405 nm of 1 × 10 2 ml / g · cm or less; An ultraviolet curable low refractive index material composition comprising a photopolymerization initiator, wherein the content of the photopolymerization initiator is 0.01 to 15% by weight when the total amount of the composition is 100% by weight.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、紫外線硬化型低屈折率材組成物及び反射防止膜に関する。より詳細には、低照射光量でも硬化性が良好で、硬化させたときに、耐擦傷性、塗工性、及び耐久性に優れた硬化物が得られる紫外線硬化型低屈折率材組成物、及びそのような硬化物からなる低屈折率層を含む反射防止膜に関する。   The present invention relates to an ultraviolet curable low refractive index material composition and an antireflection film. More specifically, the curability is good even at a low irradiation light amount, and when cured, an ultraviolet curable low refractive index material composition capable of obtaining a cured product excellent in scratch resistance, coating property, and durability, And an antireflection film including a low refractive index layer made of such a cured product.

液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プラズマディスプレー等の各種表示パネルにおいて、外光の映りを防止し、画質を向上させるために、低屈折率性、耐擦傷性、塗工性、及び耐久性に優れた硬化物からなる低屈折率層を含む反射防止膜が求められている。
このような反射防止膜は、低屈折率層用材料、例えば、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、光重合開始剤を含む硬化性組成物の硬化物から構成されている。
従来の光重合開始剤としては、例えば、IRGACURE184(商品名、チバガイギー製)等のごとき、波長365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm未満のものが用いられてきた。
しかし、このような開始剤は、低照射光量(例えば、200mJ程度)の場合に硬化が不十分となる問題を有している。
In various display panels such as liquid crystal display panels, cold cathode ray tube panels, plasma displays, etc., in order to prevent reflection of external light and improve image quality, it has low refractive index, scratch resistance, coatability, and durability. There is a need for an antireflection film including a low refractive index layer made of an excellent cured product.
Such an antireflection film is composed of a material for a low refractive index layer, for example, a cured product of a curable composition containing an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer and a photopolymerization initiator.
As a conventional photopolymerization initiator, one having an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm of less than 5 × 10 2 ml / g · cm such as IRGACURE 184 (trade name, manufactured by Ciba Geigy) has been used.
However, such an initiator has a problem that the curing becomes insufficient when the irradiation light quantity is low (for example, about 200 mJ).

従って、本発明は、低照射光量でも硬化性が良好で、硬化させたときに耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、かつ、硬化膜が実質的に透明で色調に優れた紫外線硬化型低屈折率材組成物及び反射防止膜を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention is excellent in curability even with a low irradiation light quantity, excellent in scratch resistance, coating property and durability when cured, and UV cured with a cured film substantially transparent and excellent in color tone. An object of the present invention is to provide a low refractive index material composition and an antireflection film.

本発明によれば、以下の紫外線硬化型低屈折率材組成物等が提供される。
1.エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、
少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物及び/又は少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物と、
波長365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm以上であって、かつ、波長405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下の光重合開始剤と
を含み、前記光重合開始剤の含有量が、組成物全量を100重量%としたとき、0.01〜15重量%である紫外線硬化型低屈折率材組成物。
2.前記(メタ)アクリロイル基の総濃度が、1.9mmol/g以上である1に記載の紫外線硬化型低屈折率材組成物。
3.1又は2に記載の紫外線硬化型低屈折率材組成物を硬化させた硬化物からなる低屈折率層を含む反射防止膜。
According to the present invention, the following ultraviolet curable low refractive index material composition and the like are provided.
1. An ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer,
A polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups and / or a fluorine-containing (meth) acrylate compound containing at least one (meth) acryloyl group;
A photopolymerization initiator having an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm of 5 × 10 2 ml / g · cm or more and an extinction coefficient at a wavelength of 405 nm of 1 × 10 2 ml / g · cm or less. An ultraviolet curable low refractive index material composition in which the content of the initiator is 0.01 to 15% by weight when the total amount of the composition is 100% by weight.
2. 2. The ultraviolet curable low refractive index material composition according to 1, wherein the total concentration of the (meth) acryloyl group is 1.9 mmol / g or more.
3. An antireflection film comprising a low refractive index layer made of a cured product obtained by curing the ultraviolet curable low refractive index material composition described in 3.1 or 2.

本発明の紫外線硬化型低屈折率材組成物は、低照射光量でも硬化性が良好であり、その硬化膜は、実質的に透明で色調に優れ、その反射防止膜によれば、優れた耐擦傷性、塗工性、及び耐久性が得られる。本発明の組成物は、紫外線硬化速度が従来のものよりも向上している。   The ultraviolet curable low refractive index material composition of the present invention has good curability even with a low irradiation light amount, and the cured film is substantially transparent and excellent in color tone. Abrasion property, coating property, and durability can be obtained. The composition of the present invention has a higher ultraviolet curing rate than the conventional one.

本発明の紫外線硬化型低屈折率材組成物、及び反射防止膜の実施形態について、以下説明する。   Embodiments of the ultraviolet curable low refractive index material composition and antireflection film of the present invention will be described below.

本発明の紫外線硬化型低屈折率材組成物は、下記の(イ)〜(ハ)成分を含む。
(イ)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
(ロ)少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物、及び/又は、少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物
(ハ)波長365nmにおける吸光係数が5.0×10ml/g・cm以上であって、かつ、波長405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下の光重合開始剤
The ultraviolet curable low refractive index material composition of the present invention includes the following components (A) to (C).
(I) Ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer (b) Polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups and / or at least one (meth) acryloyl Fluorine-containing (meth) acrylate compound containing a group (c) The extinction coefficient at a wavelength of 365 nm is 5.0 × 10 2 ml / g · cm or more, and the extinction coefficient at a wavelength of 405 nm is 1 × 10 2 ml / g / cm or less photopolymerization initiator

本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、好ましくは、1個のイソシアネート基と、少なくとも1個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とをイソシアネート基/水酸基のモル比が1.1〜1.9の割合で反応させて得られる。
このようなモル比で反応させることにより、すべての水酸基をイソシアネート基と反応させたエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を得ることができる。その結果、耐ガーゼ摩耗性等の耐擦傷性及び耐アルカリ性等の耐久性が高まる。
The ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer used in the present invention preferably comprises a compound containing one isocyanate group, at least one ethylenically unsaturated group, and a hydroxyl group-containing fluoropolymer. It is obtained by reacting at a ratio of isocyanate group / hydroxyl group of 1.1 to 1.9.
By reacting at such a molar ratio, an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-containing polymer in which all hydroxyl groups are reacted with isocyanate groups can be obtained. As a result, scratch resistance such as gauze wear resistance and durability such as alkali resistance are enhanced.

1個のイソシアネート基と、少なくとも1個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物としては、分子内に、1個のイソシアネート基と、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含有している化合物であれば特に制限されるものではない。
尚、イソシアネート基を2個以上含有すると、水酸基含有含フッ素重合体と反応させる際にゲル化を起こす可能性がある。
また、上記エチレン性不飽和基として、本発明の組成物をより容易に硬化させることができることから、(メタ)アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。
エチレン性不飽和基を(メタ)アクリロイル基とすることにより、紫外線により発生したラジカルによる重合反応によってエチレン性不飽和基含有フッ素重合体を重合させ、塗膜を硬化することができる。
このような化合物としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネートの一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートを用いることにより、低屈折率を維持しつつ、エチレン性不飽和基を導入することができる。
The compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group is a compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. If it is, it will not be restrict | limited in particular.
In addition, when two or more isocyanate groups are contained, there is a possibility of causing gelation when reacting with a hydroxyl group-containing fluoropolymer.
Moreover, since the composition of this invention can be hardened more easily as said ethylenically unsaturated group, the compound which has a (meth) acryloyl group is more preferable.
By making the ethylenically unsaturated group a (meth) acryloyl group, the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer can be polymerized by a polymerization reaction by radicals generated by ultraviolet rays, and the coating film can be cured.
As such a compound, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxypropyl isocyanate may be used singly or in combination of two or more.
By using 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, an ethylenically unsaturated group can be introduced while maintaining a low refractive index.

尚、このような化合物は、ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて合成することもできる。
この場合、ジイソシアネートの例としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、2,5(又は6)−ビス(イソシアネートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの中では、2,4−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネアート)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサンが特に好ましい。
Such a compound can also be synthesized by reacting diisocyanate and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
In this case, examples of the diisocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m- Phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1, 6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanate ethyl) Malate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, tetramethylxylylene diisocyanate, 2,5 (or 6 ) -Bis (isocyanatomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, or a combination of two or more thereof.
Among these, 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylenebis (4-cyclohexylisocyanate), and 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane are particularly preferable.

また、水酸基含有(メタ)アクリレートの例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸EO変性ジ(メタ)アクリレート等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの中では、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが特に好ましい。
尚、水酸基含有多官能(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、大阪有機化学(株)製 商品名 HEA、日本化薬(株)製 商品名 KAYARAD DPHA、PET−30、東亞合成(株)製 商品名 アロニックス M−215、M−233、M−305、M−400等として入手することができる。
Examples of hydroxyl group-containing (meth) acrylates include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone (meth) acrylate, polypropylene glycol (meta ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate, isocyanuric acid EO-modified di (meth) acrylate, or a combination of two or more Is mentioned.
Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate are particularly preferable.
In addition, as a commercial item of a hydroxyl-containing polyfunctional (meth) acrylate, for example, Osaka Organic Chemical Co., Ltd. product name HEA, Nippon Kayaku Co., Ltd. product name KAYARAD DPHA, PET-30, Toagosei Co., Ltd. Product name Aronix M-215, M-233, M-305, M-400 and the like can be obtained.

ジイソシアネート及び水酸基含有多官能(メタ)アクリレートから合成する場合には、ジイソシアネート1モルに対し、水酸基含有多官能(メタ)アクリレートの添加量を1〜1.2モルとするのが好ましい。   When synthesizing from diisocyanate and a hydroxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate, the amount of the hydroxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate added is preferably 1 to 1.2 mol with respect to 1 mol of diisocyanate.

このような化合物の合成方法としては、ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括で仕込んで反応させる方法、水酸基含有(メタ)アクリレート中にジイソシアネートを滴下して反応させる方法等を挙げることができる。   Examples of a method for synthesizing such a compound include a method in which diisocyanate and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged together and a reaction, a method in which diisocyanate is dropped into a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and a reaction method.

本発明で用いる水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、下記構造単位(a)を含む。
(a)下記一般式(1)で表される構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(1)中、Rはフッ素原子、フルオロアルキル基、又は−ORで表される基(Rはアルキル基、又はフルオロアルキル基を示す)を示す] The hydroxyl group-containing fluoropolymer used in the present invention preferably contains the following structural unit (a).
(A) A structural unit represented by the following general formula (1).
Figure 2005290133
[In General Formula (1), R 1 represents a fluorine atom, a fluoroalkyl group, or a group represented by —OR 2 (R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group)]

上記一般式(1)において、R及びRのフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数1〜6のフルオロアルキル基が挙げられる。また、Rのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the fluoroalkyl group of R 1 and R 2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, and a perfluorocyclohexyl group. And a C1-C6 fluoroalkyl group. The alkyl group R 2, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a cyclohexyl group.

構造単位(a)は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような含フッ素ビニル単量体としては、少なくとも1個の重合性不飽和二重結合と、少なくとも1個のフッ素原子とを有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン等のフルオロレフィン類;アルキルパーフルオロビニルエーテル又はアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類;パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)、パーフルオロ(イソブチルビニルエーテル)等のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類;パーフルオロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)等のパーフルオロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの中でも、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)又はパーフルオロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)がより好ましく、これらを組み合わせて用いることがさらに好ましい。
The structural unit (a) can be introduced by using a fluorine-containing vinyl monomer as a polymerization component. Such a fluorine-containing vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a compound having at least one polymerizable unsaturated double bond and at least one fluorine atom. Examples of this include fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene and 3,3,3-trifluoropropylene; alkyl perfluorovinyl ethers or alkoxyalkyl perfluorovinyl ethers; perfluoro (methyl vinyl ether), perfluorovinyl ethers; Perfluoro (alkyl vinyl ethers) such as fluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether); perfluoro (alkoxyalkyl) such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether) Vinyl ethers) may be used singly or in combination of two or more.
Among these, hexafluoropropylene and perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) are more preferable, and it is more preferable to use these in combination.

尚、構造単位(a)の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、20〜70モル%である。この理由は、含有率が20モル%未満になると、本願が意図するところの光学的にフッ素含有材料の特徴である、低屈折率の発現が困難となる場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性、透明性、又は基材への密着性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(a)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、25〜65モル%とするのがより好ましく、30〜60モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, the content rate of a structural unit (a) is 20-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. The reason for this is that when the content is less than 20 mol%, it is sometimes difficult to develop a low refractive index, which is the characteristic of the optically fluorine-containing material intended by the present application. This is because when the ratio exceeds 70 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in an organic solvent, transparency, or adhesion to a substrate may be lowered.
For these reasons, the content of the structural unit (a) is more preferably 25 to 65 mol%, and more preferably 30 to 60 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、下記構造単位(b)を含む。
(b)下記一般式(2)で表される構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を、Rはアルキル基、−(CH−OR若しくは−OCORで表される基(Rはアルキル基、又はグリシジル基を、xは0又は1の数を示す)、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基を示す] The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably contains the following structural unit (b).
(B) A structural unit represented by the following general formula (2).
Figure 2005290133
[In General Formula (2), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an alkyl group, a group represented by — (CH 2 ) x —OR 5 or —OCOR 5 (R 5 represents an alkyl group, or A glycidyl group, x represents a number of 0 or 1), a carboxyl group, or an alkoxycarbonyl group]

一般式(2)において、R又はRのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。 In the general formula (2), examples of the alkyl group represented by R 4 or R 5 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and a lauryl group. Examples of the carbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

構造単位(b)は、上述の置換基を有するビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このようなビニル単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類;エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−(n−プロポキシ)エチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。   The structural unit (b) can be introduced by using the above-mentioned vinyl monomer having a substituent as a polymerization component. Examples of such vinyl monomers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n -Alkyl vinyl ethers or cycloalkyl vinyl ethers such as octyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether; allyl ethers such as ethyl allyl ether, butyl allyl ether; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, pivalin Carboxylic acid vinyl ester such as vinyl acid vinyl, vinyl caproate, vinyl vinyl versatate, vinyl stearate Tellurium; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- ( (Meth) acrylic acid esters such as n-propoxy) ethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and other unsaturated carboxylic acids, etc. The combination of is mentioned.

尚、構造単位(b)の含有率は、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、10〜70モル%である。この理由は、含有率が10モル%未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(b)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、20〜60モル%とするのがより好ましく、30〜60モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, the content rate of a structural unit (b) is 10-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. This is because if the content is less than 10 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the organic solvent may be reduced. On the other hand, if the content exceeds 70 mol%, the hydroxyl group This is because optical properties such as transparency and low reflectivity of the fluorinated polymer may be deteriorated.
For such reasons, the content of the structural unit (b) is more preferably 20 to 60 mol%, and more preferably 30 to 60 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、下記構造単位(c)を含む。
(c)下記一般式(3)で表される構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(3)中、Rは水素原子、又はメチル基を、Rは水素原子、又はヒドロキシアルキル基を、vは0又は1の数を示す] The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably contains the following structural unit (c).
(C) A structural unit represented by the following general formula (3).
Figure 2005290133
[In General Formula (3), R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 7 represents a hydrogen atom or a hydroxyalkyl group, and v represents a number of 0 or 1]

一般式(3)において、Rのヒドロキシアルキル基としては、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル基、6−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。 In the general formula (3), as the hydroxyalkyl group of R 7 , 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 5-hydroxypentyl Group, 6-hydroxyhexyl group.

構造単位(c)は、水酸基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような水酸基含有ビニル単量体の例としては、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、5−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、6−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類、2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類、アリルアルコール等が挙げられる。
また、水酸基含有ビニル単量体としては、上記以外にも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等を用いることができる。
The structural unit (c) can be introduced by using a hydroxyl group-containing vinyl monomer as a polymerization component. Examples of such hydroxyl group-containing vinyl monomers include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 5-hydroxypentyl vinyl ether, Examples include hydroxyl group-containing vinyl ethers such as 6-hydroxyhexyl vinyl ether, hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether, allyl alcohol, and the like.
Moreover, as a hydroxyl-containing vinyl monomer, in addition to the above, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone (meth) acrylate, polypropylene Glycol (meth) acrylate or the like can be used.

尚、構造単位(c)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、5〜70モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が5モル%未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が70モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性、及び低反射率性等の光学特性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(c)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、5〜40モル%とするのがより好ましく、5〜30モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (c) shall be 5-70 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. This is because if the content is less than 5 mol%, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the organic solvent may be reduced. On the other hand, if the content exceeds 70 mol%, the hydroxyl group This is because optical properties such as transparency and low reflectivity of the fluorinated polymer may be deteriorated.
For such reasons, the content of the structural unit (c) is more preferably 5 to 40 mol%, and more preferably 5 to 30 mol%, based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer. Is more preferable.

また、水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位(d)を含んで構成することも好ましい。
(d)下記一般式(4)で表される構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(4)中、R及びRは、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はアリール基を示す]
構造単位(d)を含むことにより、耐擦傷性が向上する。
以下、構造単位(d)について説明する。 Further, the hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably further comprises the following structural unit (d).
(D) A structural unit represented by the following general formula (4).
Figure 2005290133
[In General Formula (4), R 8 and R 9 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or an aryl group]
By including the structural unit (d), the scratch resistance is improved.
Hereinafter, the structural unit (d) will be described.

一般式(4)において、R又はRのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数1〜4のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。 In the general formula (4), the alkyl group of R 8 or R 9 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and the halogenated alkyl group is a trifluoromethyl group, Examples of the fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a fluoroethyl group, a perfluoropropyl group, and a perfluorobutyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group, a benzyl group, and a naphthyl group.

構造単位(d)は、前記一般式(4)で表されるポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物を用いることにより導入することができる。このようなアゾ基含有ポリシロキサン化合物の例としては、下記一般式(5)で表される化合物が挙げられる。   The structural unit (d) can be introduced by using an azo group-containing polysiloxane compound having a polysiloxane segment represented by the general formula (4). Examples of such azo group-containing polysiloxane compounds include compounds represented by the following general formula (5).

Figure 2005290133
[一般式(5)中、R10〜R13は水素原子、アルキル基、又はシアノ基を示し、R14〜R17は水素原子又はアルキル基を示し、p、qは1〜6の数、s、tは0〜6の数、yは1〜200の数、zは1〜20の数である。]
Figure 2005290133
[In General Formula (5), R 10 to R 13 represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a cyano group, R 14 to R 17 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and p and q are numbers of 1 to 6, s and t are numbers from 0 to 6, y is a number from 1 to 200, and z is a number from 1 to 20. ]

一般式(5)で表される化合物を用いた場合には、構造単位(d)は、下記構造単位(e)の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。
(e)下記一般式(6)で表わされる構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(6)中、R10〜R13、R14〜R17、p、q、s、t、yは、上記一般式(5)と同じである] When the compound represented by the general formula (5) is used, the structural unit (d) is included in the hydroxyl group-containing fluoropolymer as a part of the following structural unit (e).
(E) A structural unit represented by the following general formula (6).
Figure 2005290133
[In General Formula (6), R 10 to R 13 , R 14 to R 17 , p, q, s, t, and y are the same as those in General Formula (5) above]

一般式(5)において、R10〜R13のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ、R14〜R17のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が挙げられる。 In the general formula (5), examples of the alkyl group represented by R 10 to R 13 include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, and a cyclohexyl group, and R 14 to R Examples of the 17 alkyl group include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

本発明において、上記一般式(5)で表されるアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、下記一般式(7)で表される化合物が特に好ましい。

Figure 2005290133
[一般式(7)中、y及びzは、上記一般式(5)と同じである。] In the present invention, the azo group-containing polysiloxane compound represented by the general formula (5) is particularly preferably a compound represented by the following general formula (7).
Figure 2005290133
[In general formula (7), y and z are the same as the said general formula (5). ]

尚、構造単位(d)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、0.1〜10モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が0.1モル%未満になると、硬化後の塗膜の表面滑り性が低下し、塗膜の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が10モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性に劣り、コート材として使用する際に、塗布時にハジキ等が発生し易くなる場合があるためである。
また、このような理由により、構造単位(d)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、0.1〜5モル%とするのがより好ましく、0.1〜3モル%とするのがさらに好ましい。同じ理由により、構造単位(e)の含有率は、その中に含まれる構造単位(d)の含有率を上記範囲にするよう決定することが望ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (d) shall be 0.1-10 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. The reason for this is that when the content is less than 0.1 mol%, the surface slipperiness of the cured coating film is lowered, and the scratch resistance of the coating film may be lowered. If the amount exceeds 10 mol%, the transparency of the hydroxyl group-containing fluoropolymer is inferior, and when used as a coating material, repelling and the like are likely to occur during coating.
For these reasons, the content of the structural unit (d) is more preferably 0.1 to 5 mol% with respect to the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer, More preferably, it is mol%. For the same reason, the content of the structural unit (e) is desirably determined so that the content of the structural unit (d) contained therein is in the above range.

また、水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位(f)を含んで構成することも好ましい。
(f)下記一般式(8)で表される構造単位。

Figure 2005290133
[一般式(6)中、R18は乳化作用を有する基を示す]
構造単位(f)を含むことにより、塗工性が向上する。
以下、構造単位(f)について説明する。 Further, the hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably further comprises the following structural unit (f).
(F) A structural unit represented by the following general formula (8).
Figure 2005290133
[In General Formula (6), R 18 represents a group having an emulsifying action]
By including the structural unit (f), the coating property is improved.
Hereinafter, the structural unit (f) will be described.

一般式(8)において、R18の乳化作用を有する基としては、疎水性基及び親水性基の双方を有し、かつ、親水性基がポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル構造である基が好ましい。 In the general formula (8), the group having an emulsifying action of R 18 is a group having both a hydrophobic group and a hydrophilic group, and the hydrophilic group having a polyether structure such as polyethylene oxide and polypropylene oxide. Is preferred.

このような乳化作用を有する基の例としては下記一般式(9)で表される基が挙げられる。

Figure 2005290133
[一般式(9)中、nは1〜20の数、mは0〜4の数、uは3〜50の数を示す] Examples of the group having such an emulsifying action include a group represented by the following general formula (9).
Figure 2005290133
[In General Formula (9), n is a number from 1 to 20, m is a number from 0 to 4, and u is a number from 3 to 50]

構造単位(f)は、反応性乳化剤を重合成分として用いることにより導入することができる。このような反応性乳化剤としては、下記一般式(10)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2005290133
[一般式(10)中、n、m、及びuは、上記一般式(9)と同様である] The structural unit (f) can be introduced by using a reactive emulsifier as a polymerization component. Examples of such reactive emulsifiers include compounds represented by the following general formula (10).
Figure 2005290133
[In general formula (10), n, m, and u are the same as those in general formula (9) above]

尚、構造単位(f)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、0.1〜5モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が0.1モル%以上になると、水酸基含有含フッ素重合体の溶剤への溶解性が向上し、一方、含有率が5モル%以内であれば、組成物の粘着性が過度に増加せず、取り扱いが容易になり、コート材等に用いても耐湿性が低下しないためである。
また、このような理由により、構造単位(f)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量に対して、0.1〜3モル%とするのがより好ましく、0.2〜3モル%とするのがさらに好ましい。
In addition, it is preferable that the content rate of a structural unit (f) shall be 0.1-5 mol% when the whole quantity of a hydroxyl-containing fluoropolymer is 100 mol%. The reason for this is that when the content is 0.1 mol% or more, the solubility of the hydroxyl group-containing fluoropolymer in the solvent is improved. On the other hand, if the content is within 5 mol%, the tackiness of the composition is improved. Is not excessively increased, handling becomes easy, and moisture resistance does not decrease even when used as a coating material.
For such reasons, the content of the structural unit (f) is more preferably 0.1 to 3 mol% based on the total amount of the hydroxyl group-containing fluoropolymer, and 0.2 to 3 More preferably, it is mol%.

水酸基含有含フッ素重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下「GPC」という。)で、テトラヒドロフラン(以下「THF」という。)を溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が5,000〜500,000であることが好ましい。この理由は、数平均分子量が5,000未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の機械的強度が低下する場合があるためであり、一方、数平均分子量が500,000を超えると、組成物の粘度が高くなり、薄膜コーティングが困難となる場合がるためである。
また、このような理由により、水酸基含有含フッ素重合体のポリスチレン換算数平均分子量を10,000〜300,000とするのがより好ましく、10,000〜100,000とするのがさらに好ましい。
The hydroxyl group-containing fluoropolymer has a number average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as “GPC”) using tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”) as a solvent. It is preferable that The reason for this is that when the number average molecular weight is less than 5,000, the mechanical strength of the hydroxyl group-containing fluoropolymer may be reduced. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 500,000, the composition This is because the viscosity of the film becomes high and thin film coating may be difficult.
For these reasons, the number average molecular weight in terms of polystyrene of the hydroxyl group-containing fluoropolymer is more preferably 10,000 to 300,000, and even more preferably 10,000 to 100,000.

本発明で用いるエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、上述した、1個のイソシアネート基と、少なくとも1個のエチレン性不飽和基とを含有する化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とを、好ましくは、イソシアネート基/水酸基のモル比が1.1〜1.9の割合で反応させて得られる。この理由は、モル比が1.1未満になると耐擦傷性及び耐久性が低下する場合があるためであり、一方、モル比が1.9を超えると、組成物の塗膜のアルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。
また、このような理由により、イソシアネート基/水酸基のモル比を、1.1〜1.5とするのが好ましく、1.2〜1.5とするのがより好ましい。
The ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer used in the present invention comprises the above-described compound containing one isocyanate group and at least one ethylenically unsaturated group, and a hydroxyl group-containing fluoropolymer. Preferably, it is obtained by reacting at a ratio of 1.1 to 1.9 in the molar ratio of isocyanate group / hydroxyl group. The reason for this is that if the molar ratio is less than 1.1, the scratch resistance and durability may be reduced. On the other hand, if the molar ratio exceeds 1.9, the coating film of the composition is immersed in an alkaline aqueous solution. This is because the subsequent scratch resistance may decrease.
For this reason, the molar ratio of isocyanate group / hydroxyl group is preferably 1.1 to 1.5, and more preferably 1.2 to 1.5.

(イ)成分の含有量については、特に制限されるものではないが、通常、組成物全量を100重量%としたとき、3〜95重量%である。この理由は、添加量が3重量%未満となると、組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためであり、一方、添加量が95重量%を超えると、組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためである。
また、このような理由から、(イ)成分の添加量を5〜90重量%とするのがより好ましく、10〜80重量%とするのがさらに好ましい。
The content of the component (a) is not particularly limited, but is usually 3 to 95% by weight when the total amount of the composition is 100% by weight. The reason for this is that when the addition amount is less than 3% by weight, the refractive index of the cured coating film of the composition becomes high and a sufficient antireflection effect may not be obtained, while the addition amount is 95% by weight. This is because the scratch resistance of the cured coating film of the composition may not be obtained if it exceeds%.
For this reason, the amount of component (a) added is more preferably 5 to 90% by weight, and even more preferably 10 to 80% by weight.

本発明で用いる少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物は、組成物を硬化して得られる硬化物及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性を高めるために用いられる。   The polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups used in the present invention enhances the scratch resistance of a cured product obtained by curing the composition and an antireflection film using the cured product. Used for.

この化合物については、分子内に少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としては、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、「U−15HA」(商品名、新中村化学社製)等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
尚、これらのうち、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが特に好ましい。
The compound is not particularly limited as long as it is a compound containing at least two (meth) acryloyl groups in the molecule. Examples include dipentaerythritol tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpro Ntetora (meth) acrylate, "U-15HA" (trade name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) are exemplified alone or in combinations of two or more such.
Of these, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and Caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is particularly preferred.

本発明で用いる少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物は、組成物の屈折率を低下させるために用いられる。   The fluorine-containing (meth) acrylate compound containing at least one (meth) acryloyl group used in the present invention is used to lower the refractive index of the composition.

この化合物については、少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物であれば特に制限されるものではない。このような例として、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。   The compound is not particularly limited as long as it is a fluorine-containing (meth) acrylate compound containing at least one (meth) acryloyl group. As such an example, one kind of perfluorooctylethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, or a combination of two or more kinds can be given.

(ロ)成分の含有量については、特に制限されるものではないが、通常、組成物全量を100重量%としたとき、3〜95重量%である。この理由は、添加量が3重量%未満となると、組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が得られない場合があるためであり、一方、添加量が95重量%を超えると、組成物の硬化塗膜の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られない場合があるためである。
また、このような理由から、(ロ)成分の添加量を5〜90重量%とするのがより好ましく、10〜80重量%とするのがさらに好ましい。
さらに、本発明では、組成物中の(メタ)アクリロイル基総濃度を1.9mmol/g以上にすることが好ましく、2.0mmol/g以上にすることがより好ましい。
The content of the component (b) is not particularly limited, but is usually 3 to 95% by weight when the total amount of the composition is 100% by weight. This is because if the amount added is less than 3% by weight, the scratch resistance of the cured coating film of the composition may not be obtained. On the other hand, if the amount added exceeds 95% by weight, This is because the refractive index of the cured coating film becomes high and a sufficient antireflection effect may not be obtained.
For this reason, the amount of component (b) is more preferably 5 to 90% by weight, and even more preferably 10 to 80% by weight.
Furthermore, in the present invention, the total concentration of (meth) acryloyl groups in the composition is preferably 1.9 mmol / g or more, and more preferably 2.0 mmol / g or more.

本発明で用いる光重合開始剤は、紫外線照射線によって組成物を硬化させるために用いられる。具体的には、活性種として、ラジカルを発生する光ラジカル発生剤等が挙げられる。
本発明で用いる光重合開始剤は、365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm以上、好ましくは7×10ml/g・cm以上、より好ましくは1×10ml/g・cm以上である。
また、本発明で用いる光重合開始剤は、405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下、好ましくは5×10ml/g・cm以下、より好ましくは1×10ml/g・cm以下である。
このような吸光係数の光重合開始剤を用いれば、低照射光量(例えば、200mJ程度)でも、硬化性が良好となり、色調に優れた(色目がつかない)硬化物が得られる。
The photopolymerization initiator used in the present invention is used for curing the composition by ultraviolet irradiation. Specifically, examples of the active species include a photo radical generator that generates radicals.
The photopolymerization initiator used in the present invention has an extinction coefficient at 365 nm of 5 × 10 2 ml / g · cm or more, preferably 7 × 10 2 ml / g · cm or more, more preferably 1 × 10 3 ml / g · cm. cm or more.
The photopolymerization initiator used in the present invention has an extinction coefficient at 405 nm of 1 × 10 2 ml / g · cm or less, preferably 5 × 10 1 ml / g · cm or less, more preferably 1 × 10 1 ml / cm. g · cm or less.
By using a photopolymerization initiator having such an extinction coefficient, a cured product having good curability and color tone (not noticeable) can be obtained even with a low irradiation light amount (for example, about 200 mJ).

光ラジカル発生剤の例としては、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、イルガキュア1300(商品名、チバスペシャリティケミカルズ(株)製)等が好ましく、さらに好ましくは、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド等を挙げることができる。   Examples of the photoradical generator include 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, Irgacure 1300 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and more preferably 4-benzoyl-4′-methyl. Examples thereof include diphenyl sulfide.

(ハ)成分の含有量は、組成物全量を100重量%としたとき、0.01〜15重量%、好ましくは0.05〜15重量%、より好ましくは0.1〜15重量%である。含有量が0.01重量%未満では、硬化反応が不十分となり耐擦傷性が低下する場合がある。一方、15重量%を越えると、可塑剤として働き、耐擦傷性を損なう場合や、硬化膜に異物が発生して外観を損なう場合がある。
尚、本発明の組成物では、365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm以上、かつ、405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下の開始剤の含有量が上記範囲であれば、吸光係数が5×10ml/g・cm未満の開始剤(例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン等)と併用してもよい。
The content of component (c) is 0.01 to 15% by weight, preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, when the total amount of the composition is 100% by weight. . If the content is less than 0.01% by weight, the curing reaction may be insufficient and the scratch resistance may be reduced. On the other hand, if it exceeds 15% by weight, it may act as a plasticizer and impair the scratch resistance, or foreign matter may be generated in the cured film and the appearance may be impaired.
In the composition of the present invention, the content of the initiator having an extinction coefficient at 365 nm of 5 × 10 2 ml / g · cm or more and an extinction coefficient at 405 nm of 1 × 10 2 ml / g · cm or less is as described above. An initiator having an extinction coefficient of less than 5 × 10 2 ml / g · cm (eg, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, etc.) You may use together.

本発明の組成物では、熱により活性種を発生する化合物(以下「熱重合開始剤」という。)を光重合開始剤と共に用いてもよい。このような化合物としては、活性種として、ラジカルを発生する熱ラジカル発生剤等が挙げられる。   In the composition of the present invention, a compound that generates active species by heat (hereinafter referred to as “thermal polymerization initiator”) may be used together with a photopolymerization initiator. Examples of such compounds include thermal radical generators that generate radicals as active species.

熱ラジカル発生剤の例としては、ベンゾイルパーオキサイド、tert−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、tert−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキサイド、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。   Examples of thermal radical generators include benzoyl peroxide, tert-butyl-oxybenzoate, azobisisobutyronitrile, acetyl peroxide, lauryl peroxide, tert-butyl peracetate, cumyl peroxide, tert-butyl peroxide , Tert-butyl hydroperoxide, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), etc. The combination of the above can be mentioned.

熱重合開始剤の添加量についても特に制限されるものではないが、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体100重量部に対し、0.01〜20重量部とするのが好ましい。この理由は、添加量が0.01重量部未満となると、硬化反応が不十分となり耐擦傷性、アルカリ水溶液浸漬後の耐擦傷性が低下する場合があるためである。一方、光重合開始剤の添加量が20重量部を超えると、硬化物の屈折率が増加し反射防止効果が低下する場合があるためである。
また、このような理由から、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体100重量部に対し、熱重合開始剤の添加量を0.05〜15重量部とするのがより好ましく、0.1〜15重量部とするのがさらに好ましい。
The addition amount of the thermal polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer. The reason for this is that when the addition amount is less than 0.01 parts by weight, the curing reaction becomes insufficient, and the scratch resistance and the scratch resistance after immersion in an alkaline aqueous solution may decrease. On the other hand, when the addition amount of the photopolymerization initiator exceeds 20 parts by weight, the refractive index of the cured product increases and the antireflection effect may be lowered.
For these reasons, it is more preferable to add 0.05 to 15 parts by weight of the thermal polymerization initiator with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer, More preferably, it is 15 parts by weight.

また、組成物中には、さらに有機溶媒を添加することが好ましい。このように有機溶媒を添加することにより、薄膜の反射防止膜を均一に形成することができる。このような有機溶媒としては、メチルイソブチルケトン(以下「MIBK」という場合がある。)、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、t−ブタノール、イソプロパノール等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。   Further, it is preferable to add an organic solvent to the composition. Thus, by adding an organic solvent, a thin antireflection film can be formed uniformly. Examples of such an organic solvent include one kind of methyl isobutyl ketone (hereinafter sometimes referred to as “MIBK”), methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, t-butanol, and isopropanol, or a combination of two or more kinds.

有機溶媒の添加量についても特に制限されるものではないが、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体100重量部に対し、100〜100,000重量部とするのが好ましい。この理由は、添加量が100重量部未満となると、組成物の粘度調整が困難となる場合があるためであり、一方、添加量が100,000重量部を超えると、組成物の保存安定性が低下したり、あるいは粘度が低下しすぎて取り扱いが困難となる場合があるためである。   The addition amount of the organic solvent is not particularly limited, but is preferably 100 to 100,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer. This is because when the amount added is less than 100 parts by weight, it may be difficult to adjust the viscosity of the composition. On the other hand, when the amount added exceeds 100,000 parts by weight, the storage stability of the composition is increased. This is because there is a case where it is difficult to handle due to a decrease in viscosity or a decrease in viscosity.

本発明の組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、ラジカル性光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。   The composition of the present invention includes a radical photopolymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization initiator assistant, a leveling agent, a wettability improver, an interface within a range that does not impair the purpose and effect of the present invention It is also preferable to further contain additives such as an activator, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a silane coupling agent, an inorganic filler, a pigment, and a dye.

本発明の組成物は、上記(イ)〜(ハ)成分、又は必要に応じて有機溶剤、及び添加剤をそれぞれ添加して、室温又は加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサ、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。ただし、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解開始温度以下で行うことが好ましい。   The composition of the present invention can be prepared by adding the above components (a) to (c) or, if necessary, an organic solvent and an additive and mixing them at room temperature or under heating conditions. Specifically, it can be prepared using a mixer such as a mixer, a kneader, a ball mill, or a three roll. However, when mixing under heating conditions, it is preferable to carry out at or below the decomposition start temperature of the thermal polymerization initiator.

本発明の組成物の硬化条件についても特に制限されるものではないが、紫外線露光量を0.01〜10J/cmとするのが好ましい。
この理由は、露光量が0.01J/cm未満となると、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、露光量が10J/cmを超えると、硬化時間が過度に長くなる場合があるためである。
また、このような理由により、露光量を0.1〜5J/cmとするのがより好ましく、0.2〜3J/cmとするのがより好ましい。
The curing conditions of the composition of the present invention are not particularly limited, but it is preferable that the ultraviolet light exposure is 0.01 to 10 J / cm 2 .
The reason for this is that when the exposure amount is less than 0.01 J / cm 2 , curing failure may occur. On the other hand, when the exposure amount exceeds 10 J / cm 2 , the curing time may become excessively long. Because there is.
For such reasons, the exposure dose is more preferably 0.1 to 5 J / cm 2, and more preferably 0.2 to 3 J / cm 2 .

次に、本発明の反射防止膜について説明する。
本発明の反射防止膜は、上記組成物を硬化させた硬化物からなる低屈折率層を含む。さらに、本発明の反射防止膜は、低屈折率層の下に、高屈折率層、ハードコート層、及び基材を含むことができる。
図1に、かかる反射防止膜10を示す。図1に示すように、基材12の上に、ハードコート層14、高屈折率層16及び低屈折率層18が積層されている。
このとき、基材12の上に、ハードコート層14を設けずに、直接、高屈折率層16を形成してもよい。
また、高屈折率層16と低屈折率層18の間、又は高屈折率層16とハードコート層14の間に、さらに、中屈折率層(図示せず。)を設けてもよい。
Next, the antireflection film of the present invention will be described.
The antireflection film of the present invention includes a low refractive index layer made of a cured product obtained by curing the above composition. Furthermore, the antireflection film of the present invention can comprise a high refractive index layer, a hard coat layer, and a substrate under the low refractive index layer.
FIG. 1 shows such an antireflection film 10. As shown in FIG. 1, a hard coat layer 14, a high refractive index layer 16, and a low refractive index layer 18 are laminated on a substrate 12.
At this time, the high refractive index layer 16 may be formed directly on the substrate 12 without providing the hard coat layer 14.
Further, an intermediate refractive index layer (not shown) may be further provided between the high refractive index layer 16 and the low refractive index layer 18 or between the high refractive index layer 16 and the hard coat layer 14.

低屈折率層は、本発明の組成物を硬化して得られる硬化物から構成される。組成物の構成等については、上述の通りであるため、ここでの具体的な説明は省略するものとし、以下、低屈折率層の屈折率及び厚さについて説明する。   The low refractive index layer is composed of a cured product obtained by curing the composition of the present invention. Since the composition and the like of the composition are as described above, a specific description thereof will be omitted, and the refractive index and thickness of the low refractive index layer will be described below.

本発明の組成物を硬化して得られる硬化物の屈折率(Na−D線の屈折率、測定温度25℃)、即ち、低屈折率層の屈折率を1.45以下とすることが好ましい。この理由は、低屈折率層の屈折率が1.45を超えると、高屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。
従って、低屈折率層の屈折率を1.44以下とするのがより好ましく、1.43以下とするのがさらに好ましい。
尚、低屈折率層を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していればよく、従って、その他の低屈折率層は1.45を超えた値であってもよい。
The refractive index of the cured product obtained by curing the composition of the present invention (the refractive index of Na-D line, measurement temperature 25 ° C.), that is, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. . This is because when the refractive index of the low refractive index layer exceeds 1.45, the antireflection effect may be remarkably lowered when combined with the high refractive index layer.
Therefore, the refractive index of the low refractive index layer is more preferably 1.44 or less, and further preferably 1.43 or less.
In the case where a plurality of low refractive index layers are provided, it is sufficient that at least one of the low refractive index layers has a refractive index value within the above-mentioned range. Therefore, the other low refractive index layers exceed 1.45. It may be a value.

また、低屈折率層を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、高屈折率層との間の屈折率差を0.05以上の値とするのが好ましい。この理由は、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差が0.05未満の値となると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差を0.1〜0.5とするのがより好ましく、0.15〜0.5とするのがさらに好ましい。
Moreover, when providing a low refractive index layer, since the more excellent antireflection effect is acquired, it is preferable to make the refractive index difference between high refractive index layers into 0.05 or more values. The reason for this is that when the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer is less than 0.05, a synergistic effect in these antireflective film layers cannot be obtained. This is because there is a case in which the lowering may occur.
Therefore, the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer is more preferably 0.1 to 0.5, and still more preferably 0.15 to 0.5.

また、低屈折率層の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、50〜300nmであることが好ましい。この理由は、低屈折率層の厚さが50nm未満となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが300nmを超えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、低屈折率層の厚さを50〜250nmとするのがより好ましく、60〜200nmとするのがさらに好ましい。
尚、より高い反射防止性を得るために、低屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを50〜300nmとすればよい。
Moreover, although it does not restrict | limit especially also about the thickness of a low-refractive-index layer, For example, it is preferable that it is 50-300 nm. The reason for this is that when the thickness of the low refractive index layer is less than 50 nm, the adhesion to the high refractive index film as the base may be reduced. On the other hand, when the thickness exceeds 300 nm, optical interference occurs. This is because the antireflection effect may be reduced.
Therefore, the thickness of the low refractive index layer is more preferably 50 to 250 nm, and further preferably 60 to 200 nm.
In order to obtain higher antireflection properties, when a plurality of low refractive index layers are provided to form a multilayer structure, the total thickness may be set to 50 to 300 nm.

高屈折率層を形成するための硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、被膜形成成分として、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを含むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率層として、強固な薄膜を形成することができ、結果として、反射防止膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
しかしながら、通常、これらの樹脂単独での屈折率は1.45〜1.62であり、高い反射防止性能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することがより好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることができるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組成物が用いられる。
Although it does not restrict | limit especially as a curable composition for forming a high refractive index layer, As a film formation component, an epoxy resin, phenol resin, melamine resin, alkyd resin, cyanate resin It is preferable to include one kind alone or a combination of two or more kinds such as acrylic resin, polyester resin, urethane resin, and siloxane resin. With these resins, a strong thin film can be formed as the high refractive index layer, and as a result, the scratch resistance of the antireflection film can be remarkably improved.
However, the refractive index of these resins alone is usually 1.45 to 1.62, which may not be sufficient to obtain high antireflection performance. Therefore, it is more preferable to blend high refractive index inorganic particles, for example, metal oxide particles. Moreover, as a hardening form, although the curable composition which can be thermosetting, ultraviolet curing, and electron beam curing can be used, the ultraviolet curable composition with favorable productivity is used more suitably.

高屈折率層の厚さは特に制限されるものではないが、例えば、50〜30,000nmであることが好ましい。この理由は、高屈折率層の厚さが50nm未満となると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが30,000nmを超えると、光干渉が生じて逆に反射防止効果が低下する場合があるためである。
従って、高屈折率層の厚さを50〜1,000nmとするのがより好ましく、60〜500nmとするのがさらに好ましい。
また、より高い反射防止性を得るために、高屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを50〜30,000nmとすればよい。
尚、高屈折率層と基材との間にハードコート層を設ける場合には、高屈折率層の厚さを50〜300nmとすることができる。
The thickness of the high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 50 to 30,000 nm, for example. The reason for this is that when the thickness of the high refractive index layer is less than 50 nm, the antireflection effect and adhesion to the substrate may be reduced when combined with the low refractive index layer, while the thickness is If the thickness exceeds 30,000 nm, optical interference may occur, and the antireflection effect may be reduced.
Therefore, the thickness of the high refractive index layer is more preferably 50 to 1,000 nm, and further preferably 60 to 500 nm.
Further, in order to obtain higher antireflection properties, when a plurality of high refractive index layers are provided to form a multilayer structure, the total thickness may be set to 50 to 30,000 nm.
In addition, when providing a hard-coat layer between a high refractive index layer and a base material, the thickness of a high refractive index layer can be 50-300 nm.

本発明の反射防止膜に用いるハードコート層の構成材料については特に制限されるものでない。このような材料としては、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。   The constituent material of the hard coat layer used for the antireflection film of the present invention is not particularly limited. Examples of such a material include one kind of siloxane resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, or a combination of two or more kinds.

また、ハードコート層の厚さについても特に制限されるものではないが、1〜50μmとするのが好ましく、5〜10μmとするのがより好ましい。この理由は、ハードコート層の厚さが1μm未満となると、反射防止膜の基材に対する密着力を向上させることができない場合があるためであり、一方、厚さが50μmを超えると、均一に形成するのが困難となる場合があるためである。   Moreover, although it does not restrict | limit especially also about the thickness of a hard-coat layer, it is preferable to set it as 1-50 micrometers, and it is more preferable to set it as 5-10 micrometers. The reason for this is that when the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the adhesion of the antireflection film to the substrate may not be improved. On the other hand, when the thickness exceeds 50 μm, it is uniform. This is because it may be difficult to form.

本発明の反射防止膜に用いる基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂(TAC)等からなる基材を挙げることができる。これらの基材を含む反射防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。   Although the kind of base material used for the antireflection film of the present invention is not particularly limited, for example, a base material made of glass, polycarbonate resin, polyester resin, acrylic resin, triacetyl cellulose resin (TAC) or the like. Can be mentioned. By using an antireflection film containing these base materials, excellent reflection can be achieved in a wide range of application areas of antireflection films such as camera lens parts, television (CRT) screen display parts, and color filters in liquid crystal display devices. The prevention effect can be obtained.

以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described in detail below, but the scope of the present invention is not limited to the description of these examples.

製造例1
水酸基含有含フッ素重合体の合成
内容積2.0Lの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル400g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)(FPVE)76.3g、エチルビニルエーテル(EVE)48.2g、ヒドロキシエチルビニルエーテル(HEVE)25.2g、過酸化ラウロイル1.00g、上記一般式(8)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(VPS1001(商品名)、和光純薬工業(株)製)6.0g及びノニオン性反応性乳化剤(NE−30(商品名)、旭電化工業(株)製)20.0gを仕込み、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)100.0gを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が60℃に達した時点での圧力は5.3×10Paを示した。その後、70℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×10Paに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの水酸基含有含フッ素重合体を得た。使用した単量体と溶剤を表1に示す。
得られた水酸基含有含フッ素重合体に付き、GPCによるポリスチレン換算数平均分子量及びアリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量をそれぞれ測定した。また、H−NMR、13C−NMRの両NMR分析結果、元素分析結果及びフッ素含量から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表2に示す。
Production Example 1
Synthesis of Hydroxyl Group-Containing Fluoropolymer After a 2.0-liter stainless steel autoclave with a magnetic stirrer was sufficiently replaced with nitrogen gas, 400 g of ethyl acetate, 76.3 g of perfluoro (propyl vinyl ether) (FPVE), ethyl vinyl ether (EVE) ) 48.2 g, hydroxyethyl vinyl ether (HEVE) 25.2 g, lauroyl peroxide 1.00 g, azo group-containing polydimethylsiloxane represented by the above general formula (8) (VPS1001 (trade name), Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.0 g) and 20.0 g of a nonionic reactive emulsifier (NE-30 (trade name), manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) were charged, cooled to -50 ° C with dry ice-methanol, and again The oxygen in the system was removed with nitrogen gas.
Next, 100.0 g of hexafluoropropylene (HFP) was charged, and the temperature increase was started. The pressure when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.3 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued with stirring at 70 ° C. for 20 hours. When the pressure dropped to 1.7 × 10 5 Pa, the autoclave was cooled with water to stop the reaction. After reaching room temperature, unreacted monomers were released and the autoclave was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 26.4%. The obtained polymer solution was put into methanol to precipitate a polymer, washed with methanol, and vacuum dried at 50 ° C. to obtain 220 g of a hydroxyl group-containing fluoropolymer. Table 1 shows the monomers and solvents used.
Attached to the obtained hydroxyl group-containing fluoropolymer, the polystyrene-equivalent number average molecular weight by GPC and the fluorine content by the alizarin complexone method were measured. Further, 1 H-NMR, 13 C -NMR both results of NMR analysis, elemental analysis and fluorine content to determine the percentage of each monomer component constituting the hydroxyl group-containing fluoropolymer. The results are shown in Table 2.

尚、VPS1001は、数平均分子量が7〜9万、ポリシロキサン部分の分子量が約10,000の、上記一般式(8)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサンである。NE−30は、上記一般式(10)において、nが9、mが1、uが30であるノニオン性反応性乳化剤である。
さらに、表2において、単量体と構造単位との対応関係は以下の通りである。
単量体 構造単位
ヘキサフルオロプロピレン (a)
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル) (a)
エチルビニルエーテル (b)
ヒドロキシエチルビニルエーテル (c)
NE−30 (f)
ポリジメチルシロキサン骨格 (d)
VPS1001 is an azo group-containing polydimethylsiloxane represented by the above general formula (8) having a number average molecular weight of 70 to 90,000 and a polysiloxane portion having a molecular weight of about 10,000. NE-30 is a nonionic reactive emulsifier wherein n is 9, m is 1 and u is 30 in the general formula (10).
Furthermore, in Table 2, the correspondence between the monomer and the structural unit is as follows.
Monomer Structural unit Hexafluoropropylene (a)
Perfluoro (propyl vinyl ether) (a)
Ethyl vinyl ether (b)
Hydroxyethyl vinyl ether (c)
NE-30 (f)
Polydimethylsiloxane skeleton (d)

Figure 2005290133
Figure 2005290133

Figure 2005290133
Figure 2005290133

製造例2
ジルコニア含有ハードコート層用組成物の調製
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン7.8部、ジブチルスズジラウレート0.2部からなる溶液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6部を攪拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間攪拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリレート71.4部を30℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌することで有機化合物(S1)を得た。
次に、合成した有機化合物(S1)8.2部、トルエンジルコニアゾル(数平均粒子径0.01μm、ジルコニア濃度30%)91.8部、メチルエチルケトン41.2部、イオン交換水0.1部の混合液を、60℃、4時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル1.3部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで架橋性粒子分散液(分散液a)を得た。この分散液aをアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、25%であった。
乾燥空気気流下、紫外線を遮蔽した容器中において、製造した分散液aを312部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート12.0部、ペンタエリスリトールトリアクリレート9.0部、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン1.0部を50℃で2時間攪拌することで均一な溶液のハードコート層用組成物を得た。この組成物をアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、30%であった。
Production Example 2
Preparation of zirconia-containing hard coat layer composition In a dry air solution, a solution comprising 7.8 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2 parts of dibutyltin dilaurate is stirred at 50 ° C. with 20.6 parts of isophorone diisocyanate. After dropwise addition over 1 hour, the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours. 71.4 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise thereto at 30 ° C. over 1 hour, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours to obtain an organic compound (S1).
Next, 8.2 parts of the synthesized organic compound (S1), 91.8 parts of toluene zirconia sol (number average particle diameter 0.01 μm, zirconia concentration 30%), 41.2 parts of methyl ethyl ketone, 0.1 part of ion-exchanged water After the mixture was stirred at 60 ° C. for 4 hours, 1.3 parts of orthoformate methyl ester was added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain a crosslinkable particle dispersion (dispersion a). 2 g of this dispersion a was weighed on an aluminum dish, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and weighed to determine the solid content, which was 25%.
312 parts of the produced dispersion a, 12.0 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 9.0 parts of pentaerythritol triacrylate, 2-methyl-1- [4- A uniform solution hard coat layer composition was obtained by stirring 1.0 part of (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one at 50 ° C. for 2 hours. 2 g of this composition was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and weighed to determine the solid content, which was 30%.

製造例3
硬化性樹脂組成物塗工用基材の作製
片面易接着ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムA4100(東洋紡績(株)製、膜厚188μm)の易接着処理面に、製造例2で調製したジルコニア含有ハードコート層用組成物をワイヤーバーコータ(#7)を用いて塗工し、オーブン中、80℃で1分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、空気下、高圧水銀ランプを用いて、0.9mJ/cmの光照射条件で紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物塗工用基材を作製した。この基材上のハードコート層の膜厚を触針式表面形状測定器により測定したところ、3μmであった。
Production Example 3
Preparation of base material for coating curable resin composition Zirconia-containing hard material prepared in Production Example 2 on an easy-adhesion treated surface of single-sided easy-adhesive polyethylene terephthalate (PET) film A4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., film thickness 188 μm) The coating layer composition was applied using a wire bar coater (# 7) and dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute to form a coating film. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated under the light irradiation conditions of 0.9 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in the air to prepare a curable resin composition coating substrate. When the film thickness of the hard coat layer on this substrate was measured with a stylus type surface shape measuring instrument, it was 3 μm.

製造例4
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の合成
電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量1リットルのセパラブルフラスコに、製造例1で得られた水酸基含有含フッ素重合体を50.0g、重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチルメチルフェノール0.01g及びMIBK338gを仕込み、20℃で水酸基含有含フッ素重合体がMIBKに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。
次いで、この系に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを9.5gを添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート0.1gを添加して反応を開始し、系の温度を55〜65℃に保持し5時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体のMIBK溶液を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、150℃のホットプレート上で5分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、15.1%であった。使用した化合物、溶剤及び固形分含量を表3に示す。
Production Example 4
Synthesis of Ethylenically Unsaturated Group-Containing Fluoropolymer The hydroxyl group-containing fluoropolymer obtained in Production Example 1 was placed in a separable flask having a capacity of 1 liter equipped with a magnetic stirrer, a glass condenser, and a thermometer. 0 g, 0.01 g of 2,6-di-t-butylmethylphenol and 338 g of MIBK as a polymerization inhibitor were charged, and the hydroxyl group-containing fluoropolymer was dissolved in MIBK at 20 ° C. until the solution became transparent and uniform. Went.
Next, 9.5 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added to this system and stirred until the solution became homogeneous, then 0.1 g of dibutyltin dilaurate was added to start the reaction, and the temperature of the system was changed to 55. By maintaining the temperature at ˜65 ° C. and continuing stirring for 5 hours, a MIBK solution of an ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer was obtained. 2 g of this solution was weighed on an aluminum dish, dried on a hot plate at 150 ° C. for 5 minutes, and weighed to determine the solid content, which was 15.1%. The compounds used, solvent and solid content are shown in Table 3.

Figure 2005290133
Figure 2005290133

以下、本発明の組成物の調製例を実施例1〜3及び比較例1〜3に示す。
実施例1
表4に示すように、製造例4で合成したエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体90g、少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物(以下「多官能(メタ)アクリレート化合物」という。)としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬製)10g、光重合開始剤として4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド3g(カヤキュアBMS(商品名)、日本化薬製、組成物中の含有量2.9重量%)、MIBK2575gを、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、23℃にて1時間攪拌し均一な組成物を得た。また、製造例4と同様にして固形含有量を求めた。
Hereinafter, the preparation example of the composition of this invention is shown in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3.
Example 1
As shown in Table 4, 90 g of the ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer synthesized in Production Example 4, a polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups (hereinafter “polyfunctional”). 10 g of dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku), and 3 g of 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide (photocatalyst BMS (trade name), Nippon Kayaku) Manufactured, content 2.9 wt% in composition) and MIBK 2575 g were charged into a glass separable flask equipped with a stirrer and stirred at 23 ° C. for 1 hour to obtain a uniform composition. Further, the solid content was determined in the same manner as in Production Example 4.

Figure 2005290133
Figure 2005290133

実施例2〜3、比較例1〜3
表4に示すように、各成分を用いた以外は、実施例1と同様にして組成物を得た。
Examples 2-3 and Comparative Examples 1-3
As shown in Table 4, a composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each component was used.

(試験例)
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を硬化して得られる硬化物の耐擦傷性(硬化性)及び色調を下記に示す測定法により測定した。
(1)耐擦傷性
製造例3で作製した組成物塗工用基材上に、各組成物をワイヤーバーコータ(#3)を用いて塗工し、オーブン中、80℃で1分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、窒素下、高圧水銀ランプを用いて、200mJ/cmの光照射条件で紫外線を照射し、評価用試料を作製した。この硬化物層の膜厚を反射率測定により概算したところ約100nmであった。
(Test example)
The scratch resistance (curability) and color tone of the cured products obtained by curing the compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were measured by the following measurement methods.
(1) Scratch resistance Each composition was coated on the composition coating substrate prepared in Production Example 3 using a wire bar coater (# 3), and dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. A coating film was formed. Next, an ultraviolet ray was irradiated under a light irradiation condition of 200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp under nitrogen to prepare a sample for evaluation. When the film thickness of the cured product layer was estimated by reflectance measurement, it was about 100 nm.

作製した評価用試料の表面を、エタノールを染み込ませたセルロース製不織布(商品名ベンコット、旭化成工業(株))を用いて往復20回手で擦り、評価用試料表面の耐擦傷性を、以下の基準から目視にて評価した。結果を表4に示す。
○:評価用試料表面が無傷。
△:評価用試料表面に細かい傷がついている。
×:評価用試料表面に傷がついている。
The surface of the prepared sample for evaluation was rubbed with a cellulose nonwoven fabric soaked in ethanol (trade name Bencott, Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) 20 times by hand, and the scratch resistance of the surface of the sample for evaluation was determined as follows. Visual evaluation was performed from the reference. The results are shown in Table 4.
○: The sample surface for evaluation is intact.
(Triangle | delta): The fine scratch is attached to the sample surface for evaluation.
X: The surface of the sample for evaluation is scratched.

(2)色調
評価用試料表面の外観を、以下の基準から目視にて評価した。結果を表4に示す。
○:無色透明
×:黄色味を帯びている。
(2) Color tone The appearance of the evaluation sample surface was visually evaluated from the following criteria. The results are shown in Table 4.
○: colorless and transparent ×: yellowish.

本発明の組成物の硬化物は、液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プラズマディスプレー等の各種表示パネルの反射防止膜として有用である。   The cured product of the composition of the present invention is useful as an antireflection film for various display panels such as liquid crystal display panels, cold cathode ray tube panels, and plasma displays.

本発明の一実施形態による反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film by one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 反射防止膜
12 基材
16 高屈折率層
18 低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Antireflection film 12 Base material 16 High refractive index layer 18 Low refractive index layer

Claims (3)

エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体と、
少なくとも2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレート化合物及び/又は少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する含フッ素(メタ)アクリレート化合物と、
波長365nmにおける吸光係数が5×10ml/g・cm以上であって、かつ、波長405nmにおける吸光係数が1×10ml/g・cm以下の光重合開始剤と
を含み、前記光重合開始剤の含有量が、組成物全量を100重量%としたとき、0.01〜15重量%である紫外線硬化型低屈折率材組成物。
An ethylenically unsaturated group-containing fluoropolymer,
A polyfunctional (meth) acrylate compound containing at least two (meth) acryloyl groups and / or a fluorine-containing (meth) acrylate compound containing at least one (meth) acryloyl group;
A photopolymerization initiator having an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm of 5 × 10 2 ml / g · cm or more and an extinction coefficient at a wavelength of 405 nm of 1 × 10 2 ml / g · cm or less. An ultraviolet curable low refractive index material composition in which the content of the initiator is 0.01 to 15% by weight when the total amount of the composition is 100% by weight.
前記(メタ)アクリロイル基の総濃度が、1.9mmol/g以上である請求項1に記載の紫外線硬化型低屈折率材組成物。   The ultraviolet curable low refractive index material composition according to claim 1, wherein the total concentration of the (meth) acryloyl group is 1.9 mmol / g or more. 請求項1又は2に記載の紫外線硬化型低屈折率材組成物を硬化させた硬化物からなる低屈折率層を含む反射防止膜。   An antireflection film comprising a low refractive index layer made of a cured product obtained by curing the ultraviolet curable low refractive index material composition according to claim 1.
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