JP2005283137A - 放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置 - Google Patents

放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 放射線遮へい性およびメンテナンス性を向上できる放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置を提供する。
【解決手段】 放射性同位元素製造装置は、イオンビームを加速してターゲット13aに照射する線形加速器12、線形加速器12に同軸管15a、16aを介して高周波を供給する高周波電源15、16、ターゲット13aが収容されるターゲット遮へい体13、線形加速器12を覆う第1放射線遮へい体20、および第1放射線遮へい体20とターゲット遮へい体13との間において、線形加速器12のターゲット遮へい体13側を覆う移動可能な第2放射線遮へい体20を備えている。第1放射線遮へい体20は、線形加速器12に接続される同軸管16aの接続部12dを基点として、線形加速器12の軸方向で相反する方向に分割移動可能である。
【選択図】 図4

Description

本発明は、放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置に係り、特に、ポジトロン放射断層撮影(以下、PET(Positron Emission Tomography)と称する)検査に使用する、線形加速器を用いた放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置に関するものである。
近年、がん検診や脳疾患、心臓疾患の検査方法として、PET検査が注目を集めている。PET検査は、ポジトロン(陽電子)を放出する核種を標識として用いた放射性薬剤(PET薬剤と称する)を被検診者の体内に投与し、がんの患部に集積したPET薬剤、または脳や心臓の血管内を流動するPET薬剤に起因して体外に放出されるγ線を多数の放射線検出器で検出する検査である。それらの放射線検出器から出力されるγ線検出信号を基に得られる情報を用いて、被検診者の断層像が作成される。この断層像を用いてがん、血流等の診断を行う。PET検査では、CT(Computer Tomography、エックス線断層撮影)装置やMRI(Magnetic Resonance Imaging、核磁気共鳴映像)装置などの検査で見つけにくい、例えば、1cm以下のがんも発見できるほか、従来の検査よりも短時間で全身の検査が可能であるなど、患者の負担が少ない検査法として有用である。
このようなPET検査に用いられる放射性同位元素は、一般に半減期が短いことが知られている。放射性同位元素としては、半減期が約2分の酸素15(15O)や半減期が約2時間のフッ素18(18F)等がある。特に、18Fは、この種の核種としては半減期が比較的長くその利用価値が急速に高まっている。
18Fの製造は、一般に、高エネルギーの陽子(プロトン)を酸素18(18O)に照射し核反応を利用することにより行われる。18Oは、酸素16(16O)の同位体であり、天然にはわずか0.2%程度しか存在しないため、18Fの収率を上げるために18Oを濃縮することも考えられる。実際には18Fは、18Oを含んだ水(H2 18O)を封入した容器に10MeV程度に加速した陽子を照射して製造されている。従来、その製造には、主として、比較的大がかりな設備を必要とする加速器であるサイクロトロンが用いられていた。
また、ヘリウムイオンを線形加速器により照射して、放射性同位元素を得る技術も提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特表平4−504174号公報(第4頁、左上欄14行目〜第5頁、右下欄6行目)
前記従来の一般的な18Fの製造では、高エネルギーの陽子を酸素18(18O)に照射した際に、核反応により放射線(中性子線等)を発生するため、加速器等を含む放射性同位元素製造装置を格納する施設においては、放射線の遮へい対策が重要となる。これまで、放射線を遮へいする手段としては、加速器等が設置される部屋の周囲に施設建物(天井や床)と一体にコンクリートを基体とする分厚い壁(放射線遮へい壁)を設けて対処する方法が知られている。
しかしながら、放射線遮へい用の分厚い壁を設けるには、多大の時間と労力を要するとともに、建物の構造自体を強固に建造する必要があり、コストが嵩むという問題があった。また、そのようなことから、既存の施設においては、放射性同位元素製造装置の設置場所が制限されるという問題があった。
また、前記のように、放射性同位元素の半減期は比較的短いため、PET薬剤を合成してからPET検査を行うまでの工程が短時間で行われることが好ましく、そのような機能を有した医療施設が望まれていた。
本発明の目的は、放射線遮へい性およびメンテナンス性に優れ、設置する建物の低コスト化を図ることができる放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明の特徴は、イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器を第1放射線遮へい体で覆い、第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を、移動可能な第2放射線遮へい体で覆い、第1放射線遮へい体は、線形加速器の軸方向で、線形加速器に接続される高周波伝送路を基点として相反する方向に分割されて移動可能に構成されていることにある。第1および第2放射線遮へい体で線形加速器の外部に漏れる放射線を遮へいでき、放射線の遮へい性を向上できる。また、第1放射線遮へい体が、線形加速器の軸方向で、線形加速器に接続される高周波伝送路を基点として相反する方向に分割されて移動可能に構成されているので、線形加速器の非稼働時に、第1放射線遮へい体を分割移動させることにより、線形加速器へのアクセスが可能になるため、線形加速器のメンテナンス性が向上する。
好ましくは、第2放射線遮へい体は、線形加速器の軸心と交差する方向で相反する方向に移動可能な複数の第2放射線遮へい部によって構成されていることが望ましい。第2放射線遮へい体がこのように構成されることによって、第1放射線遮へい体の分割移動および線形加速器のメンテナンスがスムーズに行える。
さらに、好ましくは、第2放射線遮へい体が、第1放射線遮へい体の外側および内側のいずれかで、線形加速器の軸方向に移動可能に構成されるとよい。
好ましくは、放射性薬剤製造装置は、イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器を第1放射線遮へい体で覆い、第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を、移動可能な第2放射線遮へい体で覆い、第1放射線遮へい体が、線形加速器の軸方向で、線形加速器に接続される高周波伝送路を基点として相反する方向に分割されて移動可能に構成されている放射性同位元素製造装置と、ターゲット内で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を製造する放射性薬剤合成装置とを備えて構成することが望ましい。
本発明によれば、放射線遮へい性およびメンテナンス性を向上できる放射性同位元素製造装置および放射性薬剤製造装置が得られる。
次に、本発明の好適な実施形態である放射性薬剤製造装置について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下において、放射性薬剤製造装置の本実施形態に含まれる放射性同位元素製造装置を中心とした説明を行う。
図1、図2に示すように、本実施形態の放射性薬剤製造装置8は、放射性同位元素製造装置10、放射性薬剤合成装置32および薬剤分注装置33を備える。放射性同位元素製造装置10は、病院等の建屋T内の加速器室9内に設置される。放射性薬剤合成装置32および薬剤分注装置33は、建屋T内のホットラボ室30内に設置される。加速器室9は、その周囲すべてがコンクリートを基体とする放射線(中性子等)を遮へいする壁W1で構成されている。また、ホットラボ室30は、その周囲すべてが、主としてγ線を遮へいする壁W2で構成されている。図1においては、加速器室9およびホットラボ室30にそれぞれ設けられた出入りのための、扉の図示は省略されている。
放射性同位元素製造装置10は、イオン源11、高周波四重極型線形加速器(Radio Frequency Quadrupole、以下、RFQと称す)12a、ドリフトチューブ型線形加速器(Drift Tube Linac、以下、DTLと称す)12bおよびターゲット13aを有する。ターゲット13aはターゲット遮へい体13内に配置される。イオン源11、RFQ12a、DTL12bは、イオンビームの進行方向(イオン源11からターゲット遮へい体13に向かう方向)にこの順に直列に加速器室9内に設置されている。また、これら、RFQ12a、DTL12bの横には、それぞれに別々に高周波電力を供給するための高周波電源15、16が、RFQ12a、DTL12bと間隔を隔てて設置されている。イオン源11の横には、これらに電力を供給するための電源14が、イオン源11と間隔を隔てて設置されている。そして、DTL12bの周囲には、第1放射線遮へい体(以下、第1遮へい体と称する)20が設けられ、またDTL12bとターゲット遮へい体13との間には、図2に示すように、第2放射線遮へい体(以下、第2遮へい体と称する)25が設けられている。
イオン源11は、イオンとなる源物質(ここでは水素)をイオン化して陽イオンのイオンビームとして引き出す役割をなし、その周囲には、質量により所望のイオンのみを選択的に取り出す図示しないマグネットやイオンビームを整形する図示しない静電レンズ、さらにはイオンビーム発生部等が設けられている。イオン源11には、電源14から電源ケーブル14aを介して電力が供給される。なお、イオン源11には、熱陰極方式のデュオプラズマトロン型イオン源またはPIG型イオン源を使用することができる。また、超寿命で大電流を発生することのできるマイクロ波放電型イオン源を使用することもできる。
そして、このイオン源11の後段に、RFQ12aが設けられ、図示しないイオンビーム発生部から出射されたイオンビームがRFQ12aにより所定のエネルギーまで加速されるようになっている。
RFQ12aは、その内部の真空チャンバに波形状の四重極電極を備えている。また、その図示しないビーム入射部には、イオンビームを加速し易いように集群するバンチ部が形成されている。RFQ12aには、高周波電源15から同軸管15aを通じて所定周波数の高周波電力が供給され、これにより、イオンビームの進行方向と直角な方向に四重極電界が形成される。そして、ビーム入射部でバンチされたイオンビームが集束されながら加速されるようになっている。RFQ12aで加速されたイオンビームは、後段のDTL12bに入射されて、さらに加速される。
なお、ここで使用されるRFQ12aに代えて、六極以上の偶数の磁極を持つ多重電極型の高周波加速器を用いてもよく、これら以外の高周波加速器を用いることもできる。
DTL12bは、図2に示すように、その内部の中心に、複数個のドリフトチューブ17を軸方向に並べて配置している。ドリフトチューブ17内には、図示しない四極電磁石が組み込まれていて、イオンビームは、このドリフトチューブ17内を通過する際に、収束を受ける。イオンビームの加速は、このドリフトチューブ17間で行われる。
このようなRFQ12aおよびDTL12bは、組み合わされて、最終的に10MeV程度の高エネルギービームを生成する線形加速器12として機能する。DTL12bとターゲット遮へい体13との間には、電力の供給によりイオンビームの拡がりを制御するコイル部12cが設けられている。また、コイル部12cの下方には、図示しない計器類が配置されている。
なお、線形加速器12には、熱による容器や電極等の膨張収縮に起因する共振周波数のずれに対処するため、その共振周波数を調整する図示しないチューナを設けても良い。
ターゲット遮へい体13は、コンクリートを基体とした側壁および天井部を有している。ターゲット遮へい体13は加速器室9の床に固定される。18Oが収容されたターゲット13aがターゲット遮へい体13内に存在する。なお、18Oの濃縮法(精製法)としては、例えば、蒸留法、電解法、化学交換法などが採用される。また、濃縮係数が大きく、小型の装置により短時間で濃縮可能である、レーザー同位体濃縮法も用いることができる。ターゲット13aは、沸騰しないようにアルゴンガスで加圧されている。そして、後記するようにして生成された18Fを含む水は、アルゴンガスの加圧により、配管31を通じて、ホットラボ室30に供給される。
イオン源11は前記のように電源ケーブル14aによって通常の電源14に接続される。RFQ12aは同軸管15aによって高周波電源15に接続される。DTL12bは同軸管16aによって高周波電源16に接続される。電源14、および高周波電源15、16は、前記のようにイオン源11、RFQ12a、DTL12bの横に間隔を隔てて設置されており、また、電源ケーブル14a、および各同軸管15a,16aも図3(a)に示すように、アーチ状に上方に立ち上げられて設けられているので、これらと、イオン源11、RFQ12a、DTL12bとの間には、所定の通路が形成されている。この通路は、メンテナンス時のサービススペースとして使用することができる。なお、同軸管15a,16aの代わりに導波管を用いてもよい。同軸管および導波管は高周波伝送路である。
第1遮へい体20は、DTL12bを覆う状態に設けられており、分割された前放射線遮へい部(以下、前部と称する)21および後放射線遮へい部(以下、後部と称する)22を有する。前部21および後部22は、共に、対向する一対の側壁部、およびこれらの側壁部を連結する天井部を有する(図3(a),(b)参照)。DTL12bは、前部21および後部22の一対の側壁部間に配置されている。これら一対の側壁部の下端部には、複数の車輪Sが設けられる(図2参照)。これらの車輪Sは、加速器室9の床に設置された一対のレール(ガイド部材)R上に置かれている(図3(a),(b)参照)。前部21および後部22は、レールR上をDTL12bの軸方向に移動できる。具体的には、後部22は、DTL12bの接続部12d(図4(b))より上方に向かって立ち上がる同軸管16aの垂直部を基点にしてターゲット遮へい体13側に移動できる。前部21は、後部22の移動とは反対側、すなわち、その同軸管16aの垂直部を基点にしてRFQ12a側に移動できる。
第1遮へい体20は、前記したように、DTL12bの軸方向で相反する方向に移動可能な分割構造となっている。このため、線形加速器12の運転時には、前部21と後部22を接触させた、DTL12bからの放射線を遮へいする状態(図4(a)参照)、およびDTL12bのメンテナンス時には、前部21と後部22の間隔をあけた状態(図4(b))にすることができる。前部21と後部22との接触面には、同軸管16aの挿通孔を形成する凹部21aと凸部22aが設けられている。放射線遮へい時には、同軸管16aは前部21と後部22、具体的には凹部21aと凸部22aに挟まれる。なお、第1遮へい体20は、DTL12bの軸方向で相反する方向に移動可能な2つの第1放射線遮へい部(前部21および後部22)を含んでいるとも言える。
このような第1遮へい体20、具体的には、前部21および後部22は、例えば、ボロンを含んだポリエチレンで成形した板状体を何層にも重ね合わせて、分厚く形成されている。
図2に示すように、第2遮へい体25は、第1遮へい体20(後部22)とターゲット遮へい体13との間に配置され、DTL12bの後段側に設けたコイル部12cを覆うように一対の側壁部と天井部とを有している。本実施形態では、図4(b)に示すように、第1遮へい体20の後部22がターゲット遮へい体13に向かって移動されるとき、第2遮へい体25は、移動してきた後部22と干渉しない位置、すなわち、DTL12bの軸心と直交する方向に移動可能に構成されている。そのための構造として、第2遮へい体25は、逆L字形の左放射線遮へい部(以下、左部と称する)26、および左部26に嵌合する嵌合面を備えた右放射線遮へい部(以下、右部と称する)27を有する。左部26は、一つの側壁部と、この側壁部の上端部に設けられた天井部を有する。右部27は、左部26の側壁部と対向する一つの側壁部を有する。これら左部26と右部27とを左右方向(DTL12bの軸心と直交する方向)にガイドするレール28が、ターゲット遮へい体13の上面に設置された一対のステー29によって支持されている。なお、左部26および右部27は、コイル部12c(図2参照)のメンテナンス時においても、レール(ガイド部材)28に沿って左右に移動される。第2遮へい体25は、DTL12bの軸心と直交する方向(DTL12bの軸心と交差する方向)で相反する方向に移動可能な2つの第2放射線遮へい部(左部26および右部27)を含んでいるとも言える。
左部26および右部27は、第1遮へい体20と同様に、例えば、ボロンを含んだポリエチレンで成形した板状体を複数層重ね合わせて所望の形状に作成されている。第2遮へい体25は、左部26および右部27が嵌合した状態で、前記したように一対の側壁部が対向されて左部26の天井部が右部27の側壁部と接触するように形成している。このような第2遮へい体25は下方が開口して軽量化が図られている。なお、第2遮へい体25は、左部26の側壁部の下端部に水平部を設け、この水平部をコイル部12cの下方に位置させるように形成しても良い。
レール28は、左部26および右部27の重量に耐え得る強度を有している。レール28は、ステー29で支持されるだけでなく、図3(a)に示すように、一つの端部28aが壁W1に固定されている。また、レール28の他の端部28bは、床面に立設された図示しない支持部材によって支持されている。なお、端部28bも近接する壁W1に固定しても良い。
次に、以上のように構成された放射性同位元素製造装置10の動作を説明する。放射性同位元素製造装置10を作動させるにあたって、予め、第1,第2遮へい体25,25をそれぞれ閉じた状態にしておく。つまり、DTL12bが、図4(a)に示すように、前部21と後部22とを接触させた状態の第1遮へい体20によって覆われている。更に、コイル部12c(図2参照)は、図3(a)および図4(a)に示すように、左部26と右部27を接触させた状態の第2遮へい体2によって覆われている。また、事前に、ターゲット13aをターゲット遮へい体13内に収容しておく。
図示しない作動スイッチを操作すると、RFQ12a、DTL12bに対して、高周波電源15、16から所定の高周波電力がそれぞれ供給され、各RFQ12a、DTL12bに電界が形成される。その後、イオン源11に電源14から電源ケーブル14aを介して所定の電力を供給する。これにより、イオン源11のイオンビーム発生部(図示せず)から出射されたイオンビーム(陽子線)がRFQ12aによって所定のエネルギーまで加速される。加速されたイオンビームは、RFQ12aから出射されて後段のDTL12bに入射され、DTL12bでさらに加速される。
DTL12bで加速されたイオンビームは、コイル部12c内を通過してターゲット13a内の18O濃縮水に照射される。18Oへのイオンビームの照射によって、18Fが生成される。
18Fが生成される反応で中性子が等方向に発生する。このとき、その中性子の一部が、ターゲット遮へい体13内からイオンビーム経路を戻って、コイル部12c、DTL12b、さらにはRFQ12aを通過してイオン源11に達するという現象が生じる。その過程で、図2に示すように、主としてターゲット遮へい体13に近い位置にある、コイル部12cやDTL12bにおいては、イオンビーム入射路を斜めに進んできた中性子が向きを変えて四方に飛び散る現象が生じる。すなわち、コイル部12cでは、その中性子がコイル部12cに設けられたコイル等に衝突して種々の方向に飛び散る。DTL12bにおいては、前記の斜めに進んできた中性子が、密度の有る物体、例えば、ドリフトチューブ17に衝突して種々の方向に飛び散る。
このような現象が生じても、DTL12bが第1遮へい体20で覆われ、また、コイル部12cが第2遮へい体25で覆われているので、それらから外側に向かって飛び散った中性子は、第1遮へい体20および第2遮へい体25で良好に減衰され、遮へいされる。また、中性子が減衰する過程で放出されるγ線も、第1遮へい体20および第2遮へい体25で良好に減衰し、遮へいされる。
これにより、放射性同位元素製造装置10から加速器室9内に放出される中性子の量は、大幅に減少される。なお、イオンビーム経路を逆方向に直進して戻った中性子は、線形加速器12の軸心の延長線上に配置された放射線遮へい板18(図2参照)により減衰され、遮へいされる。
このように、第1遮へい体20および第2遮へい体25は、DTL12bおよびコイル部12cを覆って、中性子を良好に減衰させ、遮へいする役割を果たす。
放射性同位元素製造装置10の停止時などにおけるコイル部12cおよびDTL12b等のメンテナンス時においては、第1,第2遮へい体20,25を、前記したように分割して移動させることにより、コイル部12cやDTL12bを露出させた状態にすることができる。ここで、第1遮へい体20および第2遮へい体25の移動は、以下のように行う。図4(b)に示すように、まず、第2遮へい体25の左部26と右部27との嵌合を解除して、コイル部12cの位置で左部26および右部27を別々に左右に移動させる。その後、第1遮へい体20の前部21および後部22を、前記したように、前後に別々に移動させる。これにより、DTL12bを露出させた状態にすることができる。このとき、後部22のターゲット遮へい体13側への移動は、第2遮へい体25の左部26と右部27とを先に移動させてコイル部12cの部分を露出することによって可能になる。すなわち、後部22がコイル部12cの位置まで移動できる。このため、露出されたDTL12bの保守点検が容易に行える。コイル部12cの部分の保守点検は、後部22を同軸管16aの垂直部の位置まで移動させてコイル部12cを露出させて行う。コイル部12cの部分の保守点検は、後部22をターゲット遮へい体13側へ移動させる前に行うことも可能である。したがって、第1遮へい体20および第2遮へい体25の設置は、コイル部12cやDTL12bから放出された中性子等の放射線を効率よく減衰し、遮へいすることができ、かつコイル部12cおよびDTL12bのメンテナンスを容易に行えるという効果を得ることができる。
次に、ターゲット13a内の18Fを含有した18O濃縮水により、PET薬剤を生成する工程を図1を再び参照して説明する。
ターゲット13aには、配管31が接続されている。生成された18Fを含む水は、前記のように、高圧のアルゴンガスでターゲット13aを加圧することにより、配管31を通して、ホットラボ室30内の放射性薬剤合成装置32に送られる。加速器室9とホットラボ室30との間の壁W1は、コンクリートを基体とする放射線(中性子等)の吸収が可能な壁W1で構成されている。
ホットラボ室30には、配管31によって送られてきた18Fを含む水からPET薬剤を合成する放射性薬剤合成装置32と、PET薬剤を分注する薬剤分注装置33とがある。なお、ホットラボ室30には、図示しない給気ブロアや周知のHEPAフィルタ等が設けられ、このHEPAフィルタを介して内部に給気が送られるように構成されている。
放射性薬剤合成装置32は、18Fを含む水を基にPET薬剤を合成する。具体的には、放射性薬剤合成装置32は、18Fを含む濃縮水から18Fを抽出し、グルコースに18Fを標識してPET薬剤であるFDG(フルオロデオキシグルコース)を合成する。このようにして、PET薬剤が製造される。薬剤分注装置33は、合成されたPET薬剤を、被検診者の体重等に合わせて、必要量ごとに自動的に分注する。分注されたPET薬剤は容器内に入れられる。薬剤分注装置33は、この分注操作を自動的に行うものである。なお、18Fが抽出された残りの18O濃縮水は、非常に高価であるため、回収してターゲット13a内で再利用することが望ましい。
以上説明した本実施形態の放射性同位元素製造装置10によれば、イオンビームを加速してターゲット13aに照射するDTL12bを第1遮へい体20で覆うとともに、この第1遮へい体20とターゲット遮へい体13との間において、線形加速器12(DTL12b)のターゲット遮へい体13側に位置するコイル部12cを第2遮へい体25で覆う構造としたので、DTL12bおよびコイル部12cの外部に漏れる中性子を、これらの遮へい体で減衰させ、遮へいすることで、大幅に減らすことができる。
したがって、従来のような、遮へい用の分厚い壁を建屋に設ける必要が無くなり、建屋の構造自体を強固に建造する必要がなくなる。これにより、建屋の建設期間を短縮できるという優れた効果が得られる。
また、既存の施設、例えば、構造上、従来のような分厚い壁を設けることができないような設置場所においても、放射性同位元素製造装置10を設置することができるという利点が得られる。
また、第1遮へい体20および第2遮へい体25を移動可能に設置しているので、線形加速器12(DTL12b)およびコイル部12cの保守点検を簡単に行うことができる。すなわち、線形加速器12(DTL12b)およびコイル部12cのメンテナンス性が向上する。
具体的には、第1遮へい体20は、線形加速器12(DTL12b)に接続される同軸管16aの垂直部を基点として、DTL12bの軸方向に分割移動可能に設けられているので、非稼働時には、第1遮へい体20を前部21と後部22とに分割移動させて、DTL12bを露出させることができる。したがって、中性子等を減衰させ、遮へいできる構造であると同時に、メンテナンスの利便性が高い放射性同位元素製造装置10が得られる。さらに、第2遮へい体25を左右に分割して(左部26、右部27に分けて)移動させることができるので、第1遮へい体20の後部22をターゲット遮へい体13側に移動させることができ、DTL12bを露出させることができる。このため、DTL12bのメンテナンスを良好に行うことができる。
同軸管16aを基点にして第1遮へい体20が分けられていることも重要である。すなわち、同軸管16aよりもターゲット遮へい体13側に移動する後部22、および同軸管16aよりもRFQ12a側に移動する前部21によって第1遮へい体20を構成しているため、後部22および前部21の線形加速器12の軸方向への移動が可能になり、後部22および前部21によってDTL12bを覆うことによる放射線遮へい、および後部22および前部21を前記のそれぞれの方向への移動による、メンテナンスのためのDTL12bの露出が可能になる。仮に、後部22および前部21を一体にして第1遮へい体を構成したとすると、同軸管16aがその第1遮へい体を貫通するため、同軸管16aが邪魔になってその第1遮へい体を線形加速器12の軸方向に移動させることはできない。このため、メンテナンスのためのDTL12bの露出が不可能になる。これに対し、本実施形態では、後部22および前部21が同軸管16aを基点にして前記のように移動可能であるので、放射線の遮へいとメンテナンスとの両方を実現することができる。
第2遮へい体25の左部26および右部27を、第2遮へい体25の上方に配置したレール28に沿って左右に移動させるため、コイル部12cの側に計器類を配置することができる。換言すれば、コイル部12cの側に計器類が配置されていても、そのレール28により左部26および右部27を移動させることができ、コイル部12cを露出できる。
また、放射性同位元素製造装置10で製造された18Fを含む濃縮水を、隣接して設けられたホットラボ室30に配管31で供給し、放射性薬剤合成装置32でPET薬剤を合成するとともに、薬剤分注装置33で分注を行うことができる放射性同位元素製造装置としているので、18Fの製造からPET薬剤を合成するまでの工程を1つの施設内に構築することができ、PET薬剤合成後に、患者に投与するまでの時間をできるだけ少なくすることができる。これにより、PET薬剤を有効に使うことができる。つまり、18F薬剤を生成した後に減少する18F薬剤の量が格段に少なくなるという利点も得られる。
また、従来は減少を考慮して多めに作っていたが、多めに作る量を減らすことができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で適宜実施可能である。例えば、図5、図6(a)(b)に示すように、第2遮へい体40は、第1遮へい体20と同様に、一対の対向する側壁部、およびこれらの側壁部の上端部を連結する天井部によって構成してもよい。第2遮へい体40の対向する側壁部の内面間の長さは、第1遮へい体20の対向する側壁部の外面間の長さよりも大きくなっている。また、第2遮へい体40の天井部の下面の位置は、第1遮へい体20の天井部の上面の位置よりも高くなっている。第2遮へい体40の一対の側壁部の下端部にそれぞれ複数の車輪S1が設けられている。これにより、第2遮へい体40は、車輪S1を加速器室9の床面に設置した一対のレール(ガイド部材)R1上に置くことによって、線形加速器12の軸方向に移動可能である。これらのレールR1は、レールRの外側に位置しており、これにより、第2遮へい体40は、第1遮へい体20を跨ぐようにしてその軸方向に移動できる。
第1遮へい体20の後部22は、第1遮へい体20がターゲット遮へい体13に向かって移動されるとき、第2遮へい体40の内側に入り込む。このため、第1遮へい体20は、図6(a)に示すように、DTL12bを覆った状態、または、図6(b)に示すように、前部21と後部22を離してDTL12bを露出する状態にすることができる。また、第2遮へい体40を第1遮へい体20(後部22)側へ移動させることにより、コイル部12cを露出させることができる。これとは反対に、第2遮へい体40がターゲット遮へい体13に接触しているとき、コイル部12cは第2遮へい体40によって覆われる状態となる。このような、第1遮へい体20および第2遮へい体40の設置によっても、図1に示す実施形態のように、第1遮へい体20および第2遮へい体25を設置したときと同様に、DTL12bおよびコイル部12cから放出される中性子を遮へいすることができ、露出されたDTL12bおよびコイル部12cの保守点検(メンテナンス)を容易に行うことができる。
なお、第2遮へい体40を第1遮へい体20よりも小さくすることによって、第2遮へい体40を移動させて第1遮へい体20の内側に入り込ませるようにしても良い。また、前記の各実施形態では、第1遮へい体20によりDTL12bを覆うように構成したが、これに限られることはなく、RFQ12aを覆うように構成しても良いし、DTL12b、RFQ12aの両方あるいは、これらの一部分を覆うように構成しても良い。
一実施の形態に係る放射性薬剤製造装置の平面図である。 図1に示す放射性同位元素製造装置の側面図である。 (a)は第1,第2遮へい体を閉じた状態を示す正面図、(b)は第1,第2遮へい体を開いた状態を示す正面図である。 (a)は第1,第2遮へい体を閉じた状態を示す斜視図、(b)は第1,第2遮へい体を開いた状態を示す斜視図である。 放射性同位元素製造装置の他の実施例の側面図である。 (a)は図5に示す第1,第2遮へい体を閉じた状態を示す斜視図、(b)はそれらの第1,第2遮へい体を開いた状態を示す斜視図である。
符号の説明
8 放射性薬剤製造装置
9 加速器室
10 放射性同位元素製造装置
11 イオン源
12 線形加速器
12a RFQ
12b DTL
12c コイル部
12d 接続部
13 ターゲット遮へい体
13a ターゲット
14 電源
15〜16 高周波電源
14a〜16a 同軸管
17 ドリフトチューブ
20 第1放射線遮へい体
21 前放射線遮へい部
22 後放射線遮へい部
25 第2放射線遮へい体
26 左放射線遮へい部
27 右放射線遮へい部
30 ホットラボ室
31 配管
32 放射性薬剤合成装置
33 薬剤分注装置
T 建屋
W1 壁
W2 壁

Claims (11)

  1. イオンビームを出射するイオン源と、このイオン源から出射された前記イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器と、前記線形加速器に高周波伝送路を介して高周波を供給する高周波電源と、前記ターゲットが収容されるターゲット遮へい体と、前記線形加速器を覆う第1放射線遮へい体と、前記第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を覆い移動可能な第2放射線遮へい体とを備え、
    前記第1放射線遮へい体は、前記線形加速器の軸方向で、前記線形加速器に接続される前記高周波伝送路を基点として相反する方向に分割されて移動可能に構成されていることを特徴とする放射性同位元素製造装置。
  2. イオンビームを出射するイオン源と、このイオン源から出射された前記イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器と、前記線形加速器に高周波伝送路を介して高周波を供給する高周波電源と、前記ターゲットが収容されるターゲット遮へい体と、前記線形加速器を覆う第1放射線遮へい体と、前記第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を覆い移動可能な第2放射線遮へい体とを備え、
    前記第1放射線遮へい体は、前記線形加速器の軸方向で、前記線形加速器に接続される前記高周波伝送路を基点として相反する方向に移動可能な複数の第1放射線遮へい部によって構成されていることを特徴とする放射性同位元素製造装置。
  3. 前記第2放射線遮へい体は、前記線形加速器と前記ターゲット遮へい体との間に配置され、前記線形加速器から出射されて前記ターゲットに照射されるイオンビームの拡がりを制御するコイル部を覆っている請求項1または請求項2に記載の放射性同位元素製造装置。
  4. 前記第2放射線遮へい体は、前記線形加速器の軸心と交差する方向で相反する方向に分割されて移動可能に構成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の放射性同位元素製造装置。
  5. 前記第2放射線遮へい体は、前記線形加速器の軸心と交差する方向で相反する方向に移動可能な複数の第2放射線遮へい部によって構成されていることを特徴とする請求項2に記載の放射性同位元素製造装置。
  6. 前記複数の第1放射線遮へい部は、前記線形加速器が設置される床面に設置されたガイド部材上を移動することを特徴とする請求項2に記載の放射性同位元素製造装置。
  7. 前記複数の第2放射線遮へい部は、前記線形加速器よりも上方に設置されたガイド部材上を移動することを特徴とする請求項5に記載の放射性同位元素製造装置。
  8. 前記ガイド部材は前記ターゲット遮へい体に支持されていることを特徴とする請求項7に記載の放射性同位元素製造装置。
  9. イオンビームを出射するイオン源と、このイオン源から出射された前記イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器と、前記線形加速器に高周波伝送路を介して高周波を供給する高周波電源と、前記ターゲットが収容されるターゲット遮へい体と、前記線形加速器を覆う第1放射線遮へい体と、前記第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を覆い移動可能な第2放射線遮へい体とを備え、
    前記第1放射線遮へい体は、前記線形加速器の軸方向で、前記線形加速器に接続される前記高周波伝送路を基点として相反する方向に移動可能な複数の第1放射線遮へい部によって構成され、
    前記第2放射線遮へい体は、前記第1放射線遮へい体の外側および内側のいずれかで、前記線形加速器の軸方向に移動可能に構成されていることを特徴とする放射性同位元素製造装置。
  10. 前記第1放射線遮へい体は前記線形加速器が設置される床面に設置された第1ガイド部材上を移動し、前記第2放射線遮へい体は前記第1ガイド部材と並行に前記床面に設置された第2ガイド部材上を移動することを特徴とする請求項9に記載の放射性同位元素製造装置。
  11. イオンビームを出射するイオン源、このイオン源から出射された前記イオンビームを加速してターゲットに照射する線形加速器、前記線形加速器に高周波伝送路を介して高周波を供給する高周波電源、前記ターゲットが収容されるターゲット遮へい体、前記線形加速器を覆う第1放射線遮へい体、前記第1放射線遮へい体と前記ターゲット遮へい体との間の領域を覆い移動可能な第2放射線遮へい体を有し、前記第1放射線遮へい体が、前記線形加速器の軸方向で、前記線形加速器に接続される前記高周波伝送路を基点として相反する方向に分割されて移動可能に構成されている放射性同位元素製造装置と、
    前記ターゲット内で製造された放射性同位元素を用いて放射性薬剤を製造する放射性薬剤合成装置と、
    を備えたことを特徴とする放射性薬剤製造装置。
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