JP2005277151A - Cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被洗浄物の洗浄を行う洗浄装置に関し、特に、半導体ウエハ、ガラス基板等を収容保持するカセットのような高い清浄度が要求される被洗浄物の洗浄を行う場合に適した洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned, and particularly, a cleaning suitable for cleaning an object to be cleaned such as a cassette for housing and holding a semiconductor wafer, a glass substrate, etc. Relates to the device.
LSIや超LSI等のような半導体部品の製造工程においては、極微細なダスト(異物)の付着でも不良品の発生や歩留まりの低下に結びつくために、極度に清浄化されたクリーンルーム内で製造が行われる。当然ながら、この製造に用いる装置、部品類も高度な清浄度が要求される。例えば、製造対象となるウエハ、ガラス基板等を収納するカセット等も高い清浄度が要求され、これに応じて使用前に十分な洗浄が行われる。 In the manufacturing process of semiconductor parts such as LSI and VLSI, even if extremely fine dust (foreign matter) adheres, it leads to the generation of defective products and a decrease in yield, so manufacturing is performed in an extremely cleaned clean room. Done. Of course, the equipment and parts used in this production also require a high degree of cleanliness. For example, a cassette for storing wafers, glass substrates and the like to be manufactured is required to have high cleanliness, and accordingly, sufficient cleaning is performed before use.
図10は、複数のウエハWを収納保持するウエハカセット20の一例を示している。このカセット20は樹脂成形により作られており、保持溝21にウエハWを整列保持する。このカセット20は半導体製造工程等において用いられるため、カセット20自体も高度な清浄度が要求され、このようなカセット20を洗浄する洗浄装置が従来から種々実用に供されている(例えば、特許文献1参照)。
FIG. 10 shows an example of a
しかしながら、従来の洗浄装置においては、カセット20を搬送する搬送装置を搬送方向に沿って直線上に往復移動させるとともに、その搬送方向と直交する方向に洗浄液等の噴射ノズルを直線上に往復移動させて、カセット20に洗浄液等を吹き付けて洗浄を行っていたが、カセット20に付着した異物を効果的に洗浄するためには、このカセット20に対して洗浄液等を吹き付ける角度を変化させなければならないという課題があった。上述の様に、カセット20には保持溝21等が形成されているため、カセット20に対する洗浄液の噴射角度を変えることにより、各部に直角に洗浄液等を吹き付けることができ、効果的に異物を洗浄することができるからである。この課題は、カセット2に純水を吹き付けて洗浄液等を洗い流したり、空気(温風等)を吹き付けて乾燥させたりする場合にも同様である。
However, in the conventional cleaning device, the transport device that transports the
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、支持手段に取り付けられた被洗浄物を洗浄・水切り室等において往復動及び回転させて洗浄して乾燥させるように構成した洗浄装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and a cleaning apparatus configured to clean and dry an object to be cleaned attached to support means by reciprocating and rotating in a cleaning / draining chamber or the like. The purpose is to provide.
前記課題を解決するために、本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物(例えば、実施形態におけるカセット20)を設置する設置空間が形成された設置室、被洗浄物を洗浄及び水切りする洗浄・水切り空間が形成された洗浄・水切り室、被洗浄物を乾燥させる乾燥室、並びに、設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と隣接する機械室とを有し、設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と機械室との間の壁部にこの設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と機械室とを一体に繋ぐ連通孔(例えば、実施形態におけるホルダ移動開口11)が形成された筐体と、機械室から連通孔を通って設置空間、洗浄・水切り空間若しくは乾燥空間内に突出する軸部、機械室内に配設され軸部を連通孔に沿って移動させる第1駆動手段(例えば、実施形態における第1駆動部52)、機械室内に設置され軸部をこの軸部の軸方向回りに回転させる第2駆動手段(例えば、実施形態における第2駆動部53)、軸部の先端に取り付けられ設置空間、洗浄・水切り空間若しくは乾燥空間内に位置して被洗浄物を保持する保持部(例えば、実施形態におけるホルダ51)からなる支持手段(例えば、実施形態におけるカセット搬送機構50)と、洗浄・水切り室内に設けられ、被洗浄物に対して洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段(例えば、実施形態における洗浄液噴射用ノズル15)と、洗浄・水切り室内に設けられ、リンス液(純水)を噴射して被洗浄物に付着した洗浄液を洗い流すリンス液噴射手段(例えば、実施形態における純水噴射用ノズル16)と、洗浄・水切り室内に設けられ、噴射して被洗浄物に付着したリンス液を吹き飛ばす水切り手段(例えば、実施形態におけるエアナイフ17)と、
乾燥室内に設けられ、乾燥空間にある被洗浄物に対して温風を吹き付けて被洗浄物を乾燥させる乾燥手段(例えば、実施形態におけるホットエアナイフ14)とから構成される。
In order to solve the above-described problems, a cleaning apparatus according to the present invention includes an installation chamber in which an installation space in which an object to be cleaned (for example, the
It is provided with drying means (for example,
そして、洗浄・水切り室内において、被洗浄物を第1駆動手段で往復動させるとともに第2駆動手段で回転させることにより被洗浄物を洗浄液噴射手段及びリンス液噴射手段で洗浄した後に、水切り手段で水切りし、乾燥室内において、被洗浄物を第2駆動手段で回転させることにより被洗浄物を乾燥手段で乾燥させる。 Then, after the object to be cleaned is reciprocated by the first drive means and rotated by the second drive means in the cleaning / draining chamber, the object to be cleaned is cleaned by the cleaning liquid ejecting means and the rinse liquid ejecting means, and then the water draining means. Water is drained, and the object to be cleaned is rotated by the second driving means in the drying chamber to dry the object to be cleaned by the drying means.
なお、本発明に係る洗浄装置は、洗浄・水切り室及び乾燥室が隣接して形成され、隣接する洗浄・水切り空間及び乾燥空間を仕切るの壁に形成され、支持手段に支持された被洗浄物を隣接する空間の間で移動させる搬送開口(例えば、実施形態における第2搬送開口12)と、この搬送開口を塞ぎ、被洗浄物が移動するときだけ開放される開閉装置(例えば、実施形態における第2開閉装置13)とを有し、洗浄・水切り空間及び乾燥空間を分離するように構成することが好ましい。 In the cleaning apparatus according to the present invention, the cleaning / draining chamber and the drying chamber are formed adjacent to each other, and the object to be cleaned is formed on the wall separating the adjacent cleaning / draining space and the drying space and supported by the support means. A transfer opening (for example, the second transfer opening 12 in the embodiment) that opens and closes the transfer opening and is opened only when the object to be cleaned moves (for example, in the embodiment). And a second opening / closing device 13), which is preferably configured to separate the cleaning / draining space and the drying space.
さらに、本発明に係る洗浄装置は、支持手段が、軸部に対して保持部が着脱自在で、且つ、軸部から保持部が取り外された状態で、軸部の先端からリンス液を噴射可能に構成され、軸部の先端に洗浄ノズルを取り付けて、第1駆動手段で軸部を往復動させるとともに第2駆動手段で回転させてリンス液を噴射することにより、洗浄・水切り空間を形成する洗浄・水切り室内若しくは乾燥空間を形成する乾燥室内を洗浄するように構成することが好ましい。 Furthermore, in the cleaning apparatus according to the present invention, the support means can eject the rinse liquid from the tip of the shaft portion with the holding portion being detachable from the shaft portion and the holding portion being detached from the shaft portion. The cleaning nozzle is attached to the tip of the shaft portion, and the shaft portion is reciprocated by the first driving means and rotated by the second driving means to inject the rinsing liquid, thereby forming a cleaning / draining space. It is preferable that the cleaning / draining chamber or the drying chamber forming the drying space be cleaned.
本発明に係る洗浄装置を以上のように構成することにより、被洗浄物の洗浄・水切り及び乾燥において、噴射される洗浄液、リンス液及び水切り・乾燥のための空気に対して被洗浄物の多くの面を直角に配置することができ、洗浄及び乾燥を確実に行うことができる。また、支持手段の第1駆動手段及び第2駆動手段を設置室等とは分離された機械室内に配設することにより、これらの駆動手段の摩擦により発生する異物が設置室等に入り難くなり、これらの異物による被洗浄物の二次汚染を防止することができる。 By configuring the cleaning device according to the present invention as described above, in cleaning / draining and drying of an object to be cleaned, a large amount of the object to be cleaned with respect to the sprayed cleaning liquid, rinse liquid and air for draining / drying. These surfaces can be arranged at right angles, and cleaning and drying can be performed reliably. Further, by disposing the first drive means and the second drive means of the support means in a machine room separated from the installation chamber or the like, it is difficult for foreign matter generated due to friction of these drive means to enter the installation chamber or the like. Secondary contamination of the object to be cleaned by these foreign matters can be prevented.
また、洗浄・水切り室において洗浄のちに水切りを行うことにより、乾燥室内の湿度の上昇を抑えて確実に被洗浄物を乾燥させることができる。さらに、洗浄・水切り室及び乾燥室を繋ぐ搬送開口を開閉装置で塞いで分離することにより、洗浄・水切り空間内の水分が乾燥空間に入り込むことを防ぎ、乾燥空間の湿度の上昇を抑えて被洗浄物を乾燥させることができる。また、支持手段の軸部の先端からリンス液を噴射するように構成することにより、被洗浄物の洗浄と同様にこの軸部を往復動させるとともに回転させることにより、洗浄・水切り室内を洗浄することができ、本発明に係る洗浄装置における被洗浄物の洗浄の効果を向上させることができる。 In addition, by performing draining after cleaning in the cleaning / draining chamber, it is possible to reliably dry the object to be cleaned while suppressing an increase in humidity in the drying chamber. In addition, the transfer opening connecting the cleaning / draining chamber and the drying chamber is closed and separated by an opening / closing device to prevent moisture in the cleaning / draining space from entering the drying space and to prevent an increase in humidity in the drying space. The washed product can be dried. Further, by rinsing liquid from the tip of the shaft portion of the support means, the cleaning and draining chamber is cleaned by reciprocating and rotating the shaft portion in the same manner as cleaning of the object to be cleaned. The cleaning effect of the cleaning object in the cleaning apparatus according to the present invention can be improved.
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。まず、図1及び図2を用いて本発明に係る洗浄装置の構成について説明する。この洗浄装置1は、洗浄対象となるカセット20をこの洗浄装置1内において保持するホルダ51に取り付け及び取り外しを行う設置室3と、この設置室3の下方に配設され、カセット20の洗浄、水切り及び乾燥を行う洗浄作業部4と、設置室3及び洗浄作業部4の側部に並んで形成され、ホルダ51を設置室3から洗浄作業部4に移動させる駆動部等が収納された機構室5とを有する筐体2から構成される。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the configuration of the cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The cleaning apparatus 1 is provided with an
設置室3の前面側は開口しており、この開口に左右に外側に観音開きする2枚の搬入扉6,6が取り付けられている。この洗浄装置1で洗浄を行うカセット20は、この開口部から設置室3内の設置空間3aに位置するホルダ51に取り付けられ、また、洗浄後は取り出される。なお、以降の説明ではこの搬入扉6,6の開く方向を前方として説明する。
The front side of the
洗浄作業部4の内部には、内部に乾燥空間7aを形成する乾燥室7と内部に洗浄・水切り空間8aを形成する洗浄・水切り室8がこの順で上下に隣接して配設されており、乾燥室7の上端部は設置室3の下端部と連結している。この設置室3の下面と乾燥室7の上端面には設置空間3aと乾燥空間7aを連通する第1搬送開口9が形成されている。そしてこの第1搬送開口9を開閉するために図2に示すように上方に開く第1開閉装置10が配設されている。
Inside the cleaning work section 4, a
設置室3、乾燥室7及び洗浄・水切り室8と機械室5とが隣接する壁部の前後方向略中央部には上下に延びて、設置空間3a、乾燥空間7a及び洗浄・水切り空間8aと機械室4内とを連通するホルダ移動開口11が形成されている。
The
機械室5には、設置空間3aに位置するホルダ51を上述のホルダ移動開口11に沿って上下に移動させるカセット搬送機構50の駆動部が配設されており、第1駆動部52と、この第1駆動部52からホルダ移動開口11を通って第1駆動部52の駆動方向と直交する方向(洗浄装置1における左右方向)に延び、設置空間3aにおいて先端にホルダ51が取り付けられた軸部54と、この軸部54をその軸回りに回転させる第2駆動部53とから構成される。このため、ホルダ51及びこのホルダ51に取り付けられたカセット20は、第1駆動部52により配設空間3a、乾燥空間7a及び洗浄・水切り空間8a内を移動可能であり、また、第1駆動部52で移動された位置で、このカセット20は第2駆動部53により回転可能である。
The
ここで、ホルダ51について図3を用いて説明する。ホルダ51は平面視において上下に貫通する開口部51fが形成された略矩形状の枠体51aと、この枠体51aの側部に取り付けられて、枠体51aと軸部54を繋ぐ支持部材51bと、枠体51aの上面側部に対向するように配設され、この枠体51aに載置されたカセット20を挟持して保持する保持部材51c,51dとから構成される。一方の保持部材51dには弾性部材51eが他方の保持部材51cに向くように配設されており、カセット20のウエハ挿入口の一端をこの弾性部材51eに押しつけて、他端を保持部材51cに合わせると、弾性部材51eによりウエハ挿入口の他端が保持部材51cに付勢してこのカセット20が保持される。
Here, the
なお、枠体51aを支持部材51bに接続されたアウタホルダとこのアウタフォルダに着脱可能で開口部51fが形成されたインナフォルダとから構成し、インナフォルダに上述の保持部材51c,51dを設けることもできる。このような構成によると、サイズの異なるカセット20に対応した保持部材51c,51dの取り付け間隔を有するインナフォルダを用意し、洗浄するカセット20のサイズに応じて適切なインナフォルダを選択してアウタフォルダにとりつけることにより、本実施例に係る洗浄装置1で、異なるサイズのカセット20の洗浄を行うことができる。
The
また、このホルダ51は、図4に示すように、軸部54を第1駆動部52に固定されホルダ移動開口11を通って設置空間3aに突出する基端部54aと、この基端部54aに対して回転可能に構成され、第2駆動部53により回転され、先端に支持部材51bが取り付けられる先端部54bとから構成し、基端部54aの外周面にホルダ移動開口11を挟んで上下に延びる2枚の遮蔽板55,56を設けるように構成することもできる。後述するように、カセット20の洗浄作業においては、洗浄液や純水がカセット20に吹き付けられるため、遮蔽板55、56により、洗浄液や純水がホルダ移動開口11を通って機械室4内に入るのを防止することができる。
In addition, as shown in FIG. 4, the
次に、図5及び図6を用いて洗浄作業部4内に配設される乾燥室7及び洗浄・水切り室8について詳細に説明する。乾燥室7と洗浄・水切り室8は上下に隣接しており、隣接する壁部には上下に貫通して乾燥空間7aと洗浄・水切り空間8aを連通する第2搬送開口12が形成されている。そしてこの第2搬送開口12を開閉するために、図6に示すように下方に観音開きで開閉する第2開閉装置13,13が配設されている。
Next, the drying
乾燥室7内の前後両側部にはホルダ51に保持されて第1駆動部52により乾燥空間7aに移動されたカセット20に温風を吹き付けるホットエアナイフ14が配設されている。このホットエアナイフ14の側面には、図7に示すように多数の小孔14aが左右方向に並んで形成されており、ホットエアナイフ14の内部14cに配設された電気ヒータ14bにより、この内部14cに送り込んだ空気の温度を上げ、小孔14aから温風をカセット20に吹き付けるように構成されている
洗浄・水切り室8内の前側部には上下に並んで前後方向に延びる洗浄液噴射用ノズル15と純水噴射用ノズル16が配設されている。この洗浄液噴射用ノズル15及び純水噴射用ノズル16には、図8に示すように、左右方向に延びる側面に沿って複数の噴射ノズル15a(16a)が取り付けられており、内部に洗浄液若しくは純水を送り込んでこの噴射ノズル15a(16a)から噴射することにより、第1駆動部52により洗浄・水切り空間8aに移動されたカセット20に吹き付けるように構成されている。なお、この噴射ノズル15a(16a)は、洗浄液による洗浄及び純水による洗浄液の洗い流しを効果的に行うために、洗浄液若しくは純水が上下に扇形に広がって噴射されるように形成されている。
A cleaning
一方、洗浄・水切り室8内の後側部には前後方向に延びる水切り用のエアナイフ17が配設されている。このエアナイフ17の左右に延びる側面には、図8に示すように複数の小孔17aが形成されている。そのため、このエアナイフ17内に空気を送り込んで小孔17aから噴射することにより、カセット20に残った水分を吹き飛ばすことができる。なお、このエアナイフ17から噴射される空気は、水分を吹き飛ばして水切りするために高圧(高速)となるように設定されている。また、
On the other hand, an
なお、乾燥室7及び洗浄・水切り室8には、図5及び図6等に示すように、前後の側面に形成された排気口に繋がる排気管19a,19bが形成されており、ホットエアナイフ14若しくはエアナイフ17から噴射される空気が、この排気管19a,19bにより外部に排出されるように構成されている。
In the drying
洗浄・水切り室8の底面8bは前方から後方に向かって下方に傾斜するように形成されており、洗浄・水切り室8の後下端面には、洗浄に使われた洗浄液や純水が落下してこの底面8bに溜まった廃液を外部に排出する排出口18が形成されている。このとき、図6に示すように、排出口18が形成された側面にエアナイフ17を配設することにより、エアナイフ17から噴射された空気が対向する側面に当たって一部が下方に流れて底面8bに沿って流れるため、底面8bに落下した水分がこの空気の流れに押されて排出口18から排出されやすくなる。
The
この洗浄装置1において、カセット搬送機構50の上述のホルダ51は軸部54から取り外すことが可能なように構成されている。例えば、図9に示すように、基端部54aから先端部54bが取り外すことができる。そして、この軸部54(基端部54a)の内部には流路57が形成され、この軸部54(基端部54a)の先端部から純水を噴射可能に構成されている。そのため、ホルダ51の代わりに洗浄ノズル58を取り付けて、この洗浄ノズル58から純水を噴射させて、第1駆動部52及び第2駆動手段53で洗浄ノズル58を上下に往復動させるとともに回転させて乾燥室7や洗浄・水切り室8の内壁に純水を吹き付けて、これらに付着した異物や洗浄液等を洗浄することができる。この洗浄ノズル58は上述の純水噴射用ノズル16と同様に扇形に純水が噴射するように構成することができる。
In the cleaning device 1, the above-described
それでは、以上のように構成された洗浄装置1を用いて、カセット20を洗浄する方法について説明する。上述のように、設置室3の搬入扉6,6を開けて設置空間3aに位置するホルダ51にカセット20を取り付ける。なお、図2に示す通り、ホルダ51が設置空間3a内に位置する場合は、第1開閉装置10は上方に開いた状態となっている。そして、搬入扉6,6を閉めた後に、洗浄装置1が有する図示しない洗浄開始ボタンを操作してカセット20の洗浄を開始すると、第1駆動部52によりホルダ51が下方に移動し、第1搬送開口9を通って乾燥空間7aに入り、第1開閉装置10が閉じられる。さらに、第1駆動部52によりホルダ51が下方に移動すると、第2開閉装置13,13が開き、第2搬送開口12を通ってホルダ51は洗浄・水切り空間8aに入り、第2開閉装置13,13が閉じられる。
Now, a method for cleaning the
洗浄・水切り空間8aにカセット20が入ると、洗浄液噴射用ノズル15から洗浄液が噴射され、ホルダ51に保持されたカセット20に洗浄液が吹き付けられる。このとき、所定の手順に従って、第1駆動部52によりこの洗浄・水切り空間8a内でホルダ51が上下に往復動され、合わせて、第2駆動部53によりホルダ51が回転される。そのため、カセット20の外周面23、内周面22及び内周面22に形成された保持溝21の各部に洗浄液が吹き付けられ、付着した異物が洗い流される。なお、上述のようにホルダ51の枠体51aには開口51fが形成されているため、この開口51fを通って、カセット20の内周面22等にも洗浄液を吹き付けることができる。
When the
このように、所定の時間、洗浄液噴射用ノズル15から洗浄液を噴射してカセット20の洗浄を行うと、洗浄液の噴射は停止し、次に、純水噴射用ノズル16から純水が噴射され、カセット20に吹き付けられる。このときも、所定の手順に従って、第1駆動部52によりこの洗浄・水切り空間8a内でホルダ51が上下に往復動され、合わせて、第2駆動部53によりホルダ51が回転される。そのため、カセット20に付着した洗浄液を純水により効率良く洗い流すことができる。
As described above, when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning
そして、所定の時間、純水噴射用ノズル16から純水を噴射してカセット20に付着した洗浄液を洗い流すと、次に、エアナイフ17から高圧の空気が噴射されてカセット20に付着している水分を吹き飛ばす水切りが行われる。このときも、上述と同様に、所定の手順に従って、第1駆動部52によりこの洗浄・水切り空間8a内でホルダ51が上下に往復動され、合わせて、第2駆動部53によりホルダ51が回転され、カセット20の各部に付着した水分が効率良くに吹き飛ばされる。
When pure water is jetted from the pure
以上のように、洗浄・水切り空間8aにおいてカセット20の洗浄及び水切りが完了すると、第2開閉装置13,13が開き、第1駆動部52によりホルダ51が上方へ移動され、第2搬送開口12を通って、乾燥空間7aに移動し、第2開閉装置13,13が閉じられる。そして、乾燥空間7aの略中央部で、第2駆動部53によりホルダ51が回転され、ホットエアナイフ14から吹き付けられる温風によりカセット20に付着した水分が蒸発させられて乾燥される。所定時間、温風が吹き付けられて乾燥が完了すると、第1開閉装置10が上方に開かれ、第1搬送開口9を取って、第1駆動部52によりホルダ51が上方へ移動し、設置空間3aの所定の位置で停止する。そして、搬入扉6,6を開いて、ホルダ51から洗浄の完了したカセット20を取り出し、一連の洗浄作業が完了する。
As described above, when the cleaning and draining of the
上述の手順でカセット20の洗浄を行った後に、ホルダ51を軸部54(基端部54a)から取り外して、代わりに洗浄ノズル58を取り付け、本実施例に係る洗浄装置1が有するセルフクリーンボタンを操作することにより、乾燥室7や洗浄・水切り室8を純水で洗浄することとができる。これにより、これらに付着した異物や洗浄液でその後に洗浄するカセット20を汚染することを防止することができる。
After cleaning the
なお、本実施例に係る洗浄装置1においては、排出口18から排出される洗浄に使われた洗浄液や純水の廃液中に含まれる異物(コンタミネーション)の個数を計測することにより、カセット20の洗浄の効果、すなわち、カセット20の清浄度を測定するように構成されている。
In the cleaning apparatus 1 according to the present embodiment, the
本実施例に係る洗浄装置1を以上のように構成することにより、洗浄・水切り空間8a内で、第1駆動部52及び第2駆動部53によりホルダ51(カセット20)を上下に往復動させるとともに回転させることにより、カセット20の各部に洗浄液や純水を吹き付けることができ、また、多くの部分に直角に洗浄液や純水を吹き付けることができるため、カセット20に付着した異物、及び、洗浄に使用した洗浄液を確実に取り除くことができる。同様に、乾燥空間7aでホルダ51(カセット20)を回転させることにより、効率よくカセット20を乾燥させることができる。このとき、洗浄・水切り空間8aにおいて、エアナイフ17でカセット20の水切りをしておくことにより、乾燥空間7aの湿度上昇を抑え、カセット20を効率よく乾燥させることができる。さらに、乾燥空間7aと洗浄・水切り空間8aを第2開閉装置13で分離することにより、カセット20の洗浄後の洗浄・水切り空間8aの水分が乾燥空間7aに入り込むことを防止することができるため、乾燥空間7aの湿度が上昇することを防止し、カセット20を効率よく乾燥させることができる。
By configuring the cleaning apparatus 1 according to the present embodiment as described above, the holder 51 (cassette 20) is reciprocated up and down by the
また、カセット搬送機構50のうち、第1駆動部52及び第2駆動部53を、設置室3、乾燥室7及び洗浄・水切り室8から隔離した機械室4内に配設することにより、この第1及び第2駆動部52,53が駆動するときに摩擦により発生する異物がカセット20に付着する虞が無くなるため、これらの駆動部52,53によるカセット20の2次汚染を防止することができる。このとき、機械室4には内部の空気を排出する図示しない排気管が接続されており、上述の乾燥室7及び洗浄・水切り室8に繋がる排気管19a,19bと繋がっている。そのため、乾燥室7若しくは洗浄・水切り室8においてホットエアナイフ14若しくはエアナイフ17を使用したときは、乾燥空間7a若しくは洗浄・水切り空間8bから排出された排気管19a,19bの空気の流れにより機械室4内は負圧となり、機械室4内にある異物は外部に排出される。またホットエアナイフ14若しくはエアナイフ17から噴射される空気のため、乾燥室7若しくは洗浄・水切り室8内の圧力の方が機械室4内の圧力よりも高くなるため、ホルダ移動開口11を通って機械室4に空気は流れ、機械室4内の異物は乾燥室7若しくは洗浄・水切り室8に流れ込むことはない。
Further, in the
なお、以上の実施例においては設置室3、乾燥室7及び洗浄・水切り室8を上下に並んで構成した場合について説明したが、本発明がこの構成に限定されることはなく、左右に並んで構成することも可能である。
In the above embodiment, the case where the
1 洗浄装置
2 筐体
3 設置室
3a 設置空間
5 機械室
7 乾燥室
7a 乾燥空間
8 洗浄・水切り室
8a 洗浄・水切り空間
11 ホルダ移動開口
12 第2搬送開口(搬送開口)
13 第2開閉装置(開閉装置)
14 ホットエアナイフ(乾燥手段)
15 洗浄液噴射用ノズル(洗浄液噴射手段)
16 純水噴射用ノズル(リンス液噴射手段)
17 エアナイフ(水切り手段)
20 ウエハカセット(被洗浄物)
50 カセット搬送機構(支持手段)
51 ホルダ(保持部)
52 第1駆動部(第1駆動手段)
53 第2駆動部(第2駆動手段)
54 軸部
58 洗浄ノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
13 Second switchgear (switchgear)
14 Hot air knife (drying means)
15 Nozzle for cleaning liquid injection (cleaning liquid injection means)
16 Nozzle for pure water injection (rinse liquid injection means)
17 Air knife (draining means)
20 Wafer cassette (object to be cleaned)
50 cassette transport mechanism (support means)
51 Holder (holding part)
52 1st drive part (1st drive means)
53 2nd drive part (2nd drive means)
54
Claims (3)
前記機械室から前記連通孔を通って前記設置室、前記洗浄・水切り室若しくは前記乾燥室内に突出する軸部、前記機械室内に配設され前記軸部を前記連通孔に沿って移動させる第1駆動手段、前記機械室内に配設され前記軸部を前記軸方向回りに回転させる第2駆動手段、及び、前記軸部の先端に取り付けられ前記設置室、前記洗浄・水切り室若しくは前記乾燥室内に位置して前記被洗浄物を保持する保持部からなる支持手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対して洗浄液を噴射して洗浄する洗浄液噴射手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対してリンス液を噴射して前記被洗浄物に付着した前記洗浄液を洗い流すリンス液噴射手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対して空気を噴射して前記被洗浄物に付着した前記リンス液を吹き飛ばす水切り手段と、
前記乾燥室内に設けられ、前記被洗浄物に対して温風を吹き付けて前記被洗浄物を乾燥させる乾燥手段とを有し、
前記洗浄・水切り室内において、前記被洗浄物を前記第1駆動手段で往復動させるとともに前記第2駆動手段で回転させることにより前記被洗浄物を前記洗浄液噴射手段及び前記リンス液噴射手段で洗浄した後に、前記水切り手段で水切りし、
前記乾燥室内において、前記被洗浄物を前記第2駆動手段で回転させることにより前記被洗浄物を前記乾燥手段で乾燥させることを特徴とする洗浄装置。 An installation room in which an installation space for installing the object to be cleaned is formed, a cleaning / draining room in which a cleaning / draining space for cleaning and draining the object to be cleaned is formed, and a drying space for drying the object to be cleaned is formed. A drying chamber, and a machine room adjacent to the installation chamber, the cleaning / draining chamber, and the drying chamber, and a wall portion between the installation chamber, the cleaning / draining chamber, and the drying chamber and the machine chamber A housing formed with a communication hole integrally connecting the installation chamber, the cleaning / draining chamber, and the drying chamber and the machine chamber;
A shaft portion protruding from the machine room through the communication hole into the installation chamber, the cleaning / draining chamber or the drying chamber, and a first shaft disposed in the machine chamber and moving the shaft portion along the communication hole. A driving means, a second driving means disposed in the machine chamber for rotating the shaft portion around the axial direction, and a mounting device, a washing / draining chamber or a drying chamber attached to a tip of the shaft portion; A support means comprising a holding part positioned and holding the object to be cleaned;
A cleaning liquid spraying means provided in the cleaning / draining chamber and spraying cleaning liquid onto the object to be cleaned;
Rinsing liquid ejecting means provided in the cleaning / draining chamber, spraying a rinsing liquid onto the object to be cleaned to wash away the cleaning liquid adhering to the object to be cleaned,
A draining means provided in the cleaning / draining chamber, for spraying air to the object to be cleaned and blowing off the rinse liquid adhering to the object to be cleaned;
A drying means provided in the drying chamber, for drying the object to be cleaned by blowing warm air on the object to be cleaned;
In the cleaning / draining chamber, the object to be cleaned is reciprocated by the first driving means and rotated by the second driving means to clean the object to be cleaned by the cleaning liquid ejecting means and the rinse liquid ejecting means. Later, drain with the draining means,
A cleaning apparatus, wherein the object to be cleaned is dried by the drying means by rotating the object to be cleaned by the second driving means in the drying chamber.
隣接する前記洗浄・水切り空間及び前記乾燥空間を仕切る壁に形成され、前記支持手段に支持された前記被洗浄物を隣接する前記空間の間で移動させる搬送開口と、
前記搬送開口を塞ぎ、前記被洗浄物が移動するときだけ開放される開閉装置とを有し、
前記洗浄・水切り空間及び前記乾燥空間を分離するように構成されたことを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。 The washing / draining chamber and the drying chamber are formed adjacent to each other,
A transport opening that is formed in a wall partitioning the adjacent cleaning / draining space and the drying space and moves the object to be cleaned supported by the support means between the adjacent spaces;
An opening / closing device that closes the transfer opening and is opened only when the object to be cleaned moves;
The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning apparatus is configured to separate the cleaning / draining space and the drying space.
前記軸部の先端に洗浄ノズルを取り付けて、前記第1駆動手段で前記軸部を往復動させるとともに前記第2駆動手段で回転させて前記リンス液を噴射することにより、前記洗浄・水切り空間を形成する前記洗浄・水切り室内若しくは前記乾燥空間を形成する前記乾燥室内を洗浄するように構成されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の洗浄装置。 The support means is configured to be capable of ejecting a rinsing liquid from the tip of the shaft portion in a state where the holding portion is detachable with respect to the shaft portion and the holding portion is detached from the shaft portion,
A cleaning nozzle is attached to the tip of the shaft portion, the shaft portion is reciprocated by the first driving means, and rotated by the second driving means to inject the rinse liquid, whereby the cleaning / draining space is formed. The cleaning apparatus according to claim 1 or 2, wherein the cleaning / draining chamber to be formed or the drying chamber to form the drying space is cleaned.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007275771A (en) * | 2006-04-06 | 2007-10-25 | Honda Motor Co Ltd | Method for draining rod-like workpiece and apparatus therefor |
CN110335839A (en) * | 2019-07-05 | 2019-10-15 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 | A kind of film magazine cleaning device and method |
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- 2004-03-25 JP JP2004089200A patent/JP2005277151A/en active Pending
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