JP2005267794A - Nonvolatile semiconductor memory and semiconductor system lsi provided with same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は不揮発性半導体記憶装置に関し、特にロジック回路製造プロセスにて製造される不揮発性メモリを有する不揮発性半導体記憶装置の構成、及びそのような不揮発性半導体記憶装置を含む半導体システムLSIの構成に関する。 The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device having a nonvolatile memory manufactured by a logic circuit manufacturing process, and a configuration of a semiconductor system LSI including such a nonvolatile semiconductor memory device. .
近年、不揮発性メモリは、様々な半導体システムにおいて利用されており、この不揮発性メモリとロジックLSIとを同一の半導体基板上に混載することができれば、製造プロセスのコストの低減や小型化を図ることができるため、先端のロジック回路製造プロセスで不揮発メモリを搭載する要望が高まっている。 In recent years, non-volatile memories have been used in various semiconductor systems. If this non-volatile memory and logic LSI can be mixedly mounted on the same semiconductor substrate, manufacturing process costs can be reduced and the size can be reduced. Therefore, there is an increasing demand for mounting a non-volatile memory in the leading-edge logic circuit manufacturing process.
前記の課題を解決する手段として、従来、ロジック回路製造プロセスで簡単に製造できる不揮発性メモリが提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、この不揮発性メモリを含んだ半導体システムLSIにおける冗長技術も提案されている(例えば、非特許文献1参照)。
しかしながら、上述したようなロジック回路製造プロセスで製造できる不揮発性メモリに関し、メモリセルの構成やデバイス構造ついては既述の特許文献等に開示されているが、不揮発性メモリセルを有する半導体記憶装置のコアとしての構成や、そのような不揮発性半導体記憶装置をアプリケーションに適用した半導体システムLSIの構成については、従来、開示がない。 However, regarding the nonvolatile memory that can be manufactured by the above-described logic circuit manufacturing process, the configuration of the memory cell and the device structure are disclosed in the above-mentioned patent documents and the like, but the core of the semiconductor memory device having the nonvolatile memory cell is disclosed. Conventionally, there is no disclosure regarding the configuration of the semiconductor system LSI and the configuration of a semiconductor system LSI in which such a nonvolatile semiconductor memory device is applied to an application.
本発明はこのような状況からなされたものであり、特に、アナログトリミング機能やメモリ冗長機能を備えた半導体装置においては、その機能の実現のためにヒューズ素子が多用されているが、製造プロセスの微細化に伴い、ヒューズの形成が一層困難になっており、代替技術の開発が急務となっている点に着目し、そのようなヒューズの代替技術などとして前記不揮発性メモリセルを有する半導体記憶装置を使用することとする。 The present invention has been made from such a situation. In particular, in a semiconductor device having an analog trimming function and a memory redundancy function, a fuse element is frequently used to realize the function. Focusing on the fact that the formation of fuses has become more difficult with miniaturization, and the development of alternative technologies is urgently needed, and a semiconductor memory device having the nonvolatile memory cell as such an alternative technology of fuses Will be used.
すなわち、本発明の目的は、特にヒューズの代替技術などとして好適なように、ロジック回路製造プロセスにて製造できる不揮発メモリを有する半導体記憶装置の構成、及びそのような不揮発性半導体記憶装置を含む半導体システムLSIを提案することにある。 That is, an object of the present invention is to provide a configuration of a semiconductor memory device having a non-volatile memory that can be manufactured by a logic circuit manufacturing process, and a semiconductor including such a non-volatile semiconductor memory device. It is to propose a system LSI.
以上の目的を達成するため、請求項1記載の発明の不揮発性半導体記憶装置は、シリアル入力データ端子及びシリアル出力データ端子と、n(nは2以上の整数)ビットのパラレル出力データ端子と、n個の不揮発性メモリセルと、外部から書き込みデータを前記シリアル入力データ端子を介して前記n個の不揮発性メモリセルに書き込む書き込み手段と、前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを前記シリアル出力データ端子及びパラレル出力データ端子を介して外部に読み出す読み出し手段と、前記書き込み手段及び読み出し手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a nonvolatile semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a serial input data terminal, a serial output data terminal, a parallel output data terminal of n (n is an integer of 2 or more) bits, n nonvolatile memory cells, writing means for writing write data from the outside to the n nonvolatile memory cells via the serial input data terminal, and read data from the n nonvolatile memory cells It is characterized by comprising reading means for reading out via a serial output data terminal and a parallel output data terminal, and control means for controlling the writing means and reading means.
請求項2記載の発明は、前記請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記制御手段は、1ショットのパルス信号を受け、前記パルス信号に基づいて、前記前記不揮発性メモリセルからの読み出しデータを外部に読み出すように前記読み出し手段を制御することを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect, the control unit receives a one-shot pulse signal, and reads from the nonvolatile memory cell based on the pulse signal. The reading means is controlled to read data to the outside.
請求項3記載の発明は、前記請求項1又は2記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記読み出し手段は、n個のラッチ回路を含み、データ読み出し期間に前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを前記n個のラッチ回路にラッチし、このラッチしたn個の読み出しデータをパラレル出力データ端子をして外部に常時出力することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the first or second aspect, the reading unit includes n latch circuits, and the n-th non-volatile memory cells receive data during a data read period. The read data is latched in the n latch circuits, and the latched n read data are always output to the outside through parallel output data terminals.
請求項4記載の発明は、前記請求項3記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記読み出し手段は、前記データ読み出し期間中は前記n個のラッチ回路にラッチしたn個の読み出しデータを内容とし、前記データ読み出し期間以外はHi−Z状態となる第2の出力信号を出力することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the third aspect, the read means includes n read data latched in the n latch circuits during the data read period. A second output signal that is in a Hi-Z state is output during a period other than the data reading period.
請求項5記載の発明は、前記請求項4記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記読み出し手段は、共通のクロック信号が入力されるn個のフリップフロップ回路から構成されるシフトレジスタを含み、前記n個のフリップフロップ回路は、前記n個のラッチ回路からの前記第2の出力信号を受けると共に、前段のフリップフロップ回路からの出力信号を受け、前記各フリップフロップ回路は、データ読み出し期間中は前記第2の出力信号をラッチし、データ読み出し期間以外は前記データ読み出し期間中にラッチした第2の出力信号を前記クロック信号に基づいて次段のフリップフロップ回路に出力し、最終段のフリップフロップ回路から前記シリアル出力データ端子を介して前記第2の出力信号が出力されることを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the fourth aspect, the reading unit includes a shift register including n flip-flop circuits to which a common clock signal is input. The n flip-flop circuits receive the second output signal from the n latch circuits and the output signal from the preceding flip-flop circuit, and each flip-flop circuit receives the output signal during the data read period. The second output signal is latched, and the second output signal latched during the data read period other than the data read period is output to the flip-flop circuit of the next stage based on the clock signal, and the flip-flop of the final stage is output. The second output signal is output from the circuit via the serial output data terminal.
請求項6記載の発明は、前記請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記書き込み手段は、共通のクロック信号が入力されるn個のフリップフロップ回路から構成されるシフトレジスタを含み、前記n個のフリップフロップ回路のうち最初段のフリップフロップ回路は、前記シリアル入力データ端子を介して書き込みデータを受け、前記最初段を除くフリップフロップ回路は、各々、前記クロック信号に基づいて前段のフリップフロップ回路からの書き込みデータを受け、前記n個のフリップフロップ回路の書き込み信号は、前記n個の不揮発性メモリセルに入力されることを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect, the writing unit includes a shift register including n flip-flop circuits to which a common clock signal is input. Of the n flip-flop circuits, the first flip-flop circuit receives write data via the serial input data terminal, and each of the flip-flop circuits excluding the first flip-flop circuit is a previous flip-flop based on the clock signal. A write signal from the n-type flip-flop circuit is received, and a write signal from the n number of flip-flop circuits is input to the n number of nonvolatile memory cells.
請求項7記載の発明は、前記請求項6記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記書き込み手段に含まれるシフトレジスタは、前記請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置に含まれるシフトレジスタと兼用されることを特徴とする。 According to a seventh aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the sixth aspect, the shift register included in the writing unit is also used as the shift register included in the nonvolatile semiconductor memory device according to the fifth aspect. It is characterized by that.
請求項8記載の発明は、前記請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置において、テストモード用シリアル入力データ及びテストモードイネーブル信号を受けて複数種類のテストモード信号を発生するテストモード設定手段を備えることを特徴とする。 According to an eighth aspect of the present invention, the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect further comprises test mode setting means for receiving a test mode serial input data and a test mode enable signal and generating a plurality of types of test mode signals. It is characterized by that.
請求項9記載の発明は、前記請求項8記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記テストモード設定手段は、共通のクロック信号が入力される複数個のフリップフロップ回路が直列に接続されたシフトレジスタと、前記フリップフロップ回路の個数と同数の論理演算回路とを備え、前記各フリップフロップ回路には、前記テストモード用シリアル入力データが順次設定され、前記各論理演算回路には、対応する前記フリップフロップ回路の出力信号と前記テストモードイネーブル信号とが入力され、前記各論理演算回路の出力の組合せがテストモード信号となることを特徴とする。 According to a ninth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the eighth aspect, the test mode setting means includes a shift register in which a plurality of flip-flop circuits to which a common clock signal is input are connected in series. And the same number of logic operation circuits as the number of the flip-flop circuits, the test mode serial input data is sequentially set in each of the flip-flop circuits, and each of the logic operation circuits has the corresponding flip-flop. The output signal of the logic circuit and the test mode enable signal are inputted, and the combination of the outputs of the logic operation circuits becomes the test mode signal.
請求項10記載の発明は、前記請求項9記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記テストモード設定手段からのテストモード信号をデコードするデコード回路が備えられることを特徴とする。 According to a tenth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the ninth aspect, a decode circuit for decoding a test mode signal from the test mode setting means is provided.
請求項11記載の発明は、前記請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記n個の不揮発性メモリセルは、ロジック回路製造プロセスにて形成されることを特徴とする。 According to an eleventh aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect, the n non-volatile memory cells are formed by a logic circuit manufacturing process.
請求項12記載の発明は、前記請求項11記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記n個の不揮発性メモリセルは、2種類の膜厚のゲート酸化膜を形成する2種のロジック回路製造プロセスのうち、膜厚の厚いゲート酸化膜を形成するロジック回路製造プロセスにて形成されることを特徴とする。 According to a twelfth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the eleventh aspect, two types of logic circuit manufacturing processes in which the n non-volatile memory cells form two types of gate oxide films. Among them, it is formed by a logic circuit manufacturing process for forming a thick gate oxide film.
請求項13記載の発明は、前記請求項11記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記n個の不揮発性メモリセル、前記書き込み手段、前記読み出し手段、及び前記制御手段を構成する全てのトランジスタは、そのゲート酸化膜の膜厚が同一の膜厚で形成されていることを特徴とする。 According to a thirteenth aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the eleventh aspect, all the transistors constituting the n non-volatile memory cells, the write unit, the read unit, and the control unit are The gate oxide film is formed with the same film thickness.
請求項14記載の発明の半導体システムLSIは、前記請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置と、複数ビットのパラレル入力データ端子を有する機能ブロックとを有し、前記不揮発性半導体記憶装置のパラレル出力データ端子は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子に接続されることを特徴とする。 A semiconductor system LSI according to a fourteenth aspect includes the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect and a functional block having a parallel input data terminal of a plurality of bits, and a parallel output of the nonvolatile semiconductor memory device The data terminal is connected to a parallel input data terminal of the functional block.
請求項15記載の発明は、前記請求項14記載の半導体システムLSIにおいて、前記不揮発性半導体記憶装置は、複数個備えられ、前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のうち最初段の不揮発性半導体記憶装置には、前記シリアル入力データ端子を介して外部から書き込みデータが入力され、前記最初段を除く不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル入力データ端子が前段の不揮発性半導体記憶装置のシリアル出力データ端子に接続されて鎖状に配置され、最終段の不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル出力データ端子から読み出しデータが外部出力されることを特徴とする。 According to a fifteenth aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to the fourteenth aspect, a plurality of the nonvolatile semiconductor memory devices are provided, and the first nonvolatile semiconductor memory among the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices. Write data is input to the device from the outside via the serial input data terminal, and the nonvolatile semiconductor memory device except the first stage has a serial output data terminal of the nonvolatile semiconductor memory device of the preceding stage. The nonvolatile semiconductor memory device in the last stage is connected to the serial output data terminal, and read data is externally output from its serial output data terminal.
請求項16記載の発明の半導体システムLSIは、前記請求項8記載の不揮発性半導体記憶装置と、複数ビットのパラレル入力データ端子を有する機能ブロックとを有し、前記不揮発性半導体記憶装置のパラレル出力データ端子は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子に接続されることを特徴とする。 A semiconductor system LSI according to a sixteenth aspect of the invention includes the nonvolatile semiconductor memory device according to the eighth aspect, and a functional block having a plurality of bits of parallel input data terminals, and the parallel output of the nonvolatile semiconductor memory device The data terminal is connected to a parallel input data terminal of the functional block.
請求項17記載の発明は、前記請求項16記載の半導体システムLSIにおいて、前記不揮発性半導体記憶装置は、前記シリアル入力データ端子に入力される書き込みデータがテストモード用シリアル入力データとして前記テストモード設定手段に入力されることを特徴とする。 According to a seventeenth aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to the sixteenth aspect, the nonvolatile semiconductor memory device has the test mode setting as write data input to the serial input data terminal as serial input data for test mode. It is input to the means.
請求項18記載の発明は、前記請求項16記載の半導体システムLSIにおいて、前記不揮発性半導体記憶装置は、複数個備えられ、前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のうち最初段の不揮発性半導体記憶装置には、前記シリアル入力データ端子を介して外部から書き込みデータが入力され、前記最初段を除く不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル入力データ端子が前段の不揮発性半導体記憶装置のシリアル出力データ端子に接続されて鎖状に配置され、最終段の不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル出力データ端子から読み出しデータが外部出力され、前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のテストモード設定手段には、各々、前記テストモード用シリアル入力データ及びテストモードイネーブル信号が直接に入力されることを特徴とする。 According to an eighteenth aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to the sixteenth aspect, a plurality of the nonvolatile semiconductor memory devices are provided, and the first nonvolatile semiconductor memory device among the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices. Write data is input to the device from the outside via the serial input data terminal, and the nonvolatile semiconductor memory device except the first stage has a serial output data terminal of the nonvolatile semiconductor memory device of the preceding stage. The nonvolatile semiconductor memory device in the final stage is connected to the serial output data terminal, and the read data is externally output from the serial output data terminal, and the test mode setting means of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices includes: Each of the test mode serial input data and the test mode enable signal is directly input. And butterflies.
請求項19記載の発明は、前記請求項14〜18のうち何れか1つに記載の半導体システムLSIにおいて、前記機能ブロックは、冗長機能を有することを特徴とする。 According to a nineteenth aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to any one of the fourteenth to eighteenth aspects, the functional block has a redundant function.
請求項20記載の発明は、前記請求項14〜18のうち何れか1つに記載の半導体システムLSIにおいて、前記機能ブロックは、アナログトリミング機能を有することを特徴とする。 According to a twentieth aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to any one of the fourteenth to eighteenth aspects, the functional block has an analog trimming function.
請求項21記載の発明は、前記請求項14〜19のうち何れか1つに記載の半導体システムLSIにおいて、前記機能ブロックには、半導体システムLSIのパワーオンシーケンス中に前記機能ブロックを初期化するための1ショットのリセットパルス信号が入力され、前記リセットパルス信号は、前記不揮発性半導体記憶装置に入力されて、このリセットパルス信号に基づいて、前記読み出し手段が前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを外部に読み出すことを特徴とする。 According to a twenty-first aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to any one of the fourteenth to nineteenth aspects, the function block is initialized during a power-on sequence of the semiconductor system LSI. A one-shot reset pulse signal is input to the non-volatile semiconductor memory device, and based on the reset pulse signal, the reading means reads from the n non-volatile memory cells. The readout data is read out to the outside.
請求項22記載の発明は、前記請求項15又は18記載の半導体システムLSIにおいて、前記複数個の不揮発性半導体記憶装置の個数は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子の総数に応じて決定されることを特徴とする。 According to a twenty-second aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to the fifteenth or eighteenth aspect, the number of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices is determined according to the total number of parallel input data terminals of the functional block. It is characterized by that.
請求項23記載の発明は、前記請求項22記載の半導体システムLSIにおいて、前記複数個の不揮発性半導体記憶装置は、全て、同一個数のパラレル入力データ端子数を有する同一構成の不揮発性半導体記憶装置であることを特徴とする。 According to a twenty-third aspect of the present invention, in the semiconductor system LSI according to the twenty-second aspect, the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices all have the same number of parallel input data terminals and the same configuration. It is characterized by being.
以上により、請求項1〜23記載の発明では、n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータは、読み出し手段により、パラレル出力データ端子を介して外部に読み出されて、例えば冗長機能を有する機能ブロックに入力されるので、n個の不揮発性メモリセルを従来のヒューズ素子の代替技術として使用できる。しかも、n個の不揮発性メモリセルへのデータの書き込みや、その書き込みデータのチェックは、さほど速い動作速度が必要でないところ、書き込みデータは1つのシリアル入力データ端子を介してn個の不揮発性メモリセルに書き込まれる一方、n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータは、読み出し手段により、1つのシリアル出力データ端子を介して外部に読み出される。従って、これらの書き込みデータや読み出しデータ用のnビットのパラレル入力端子及びパラレル出力端子が不要であるので、必要とする端子数を有効に削減できる。
As described above, in the invention described in
また、1ショットのパルス信号で読み出し動作が行われるので、読み出し時の消費電流が削減されると共に、不揮発性メモリセルには読み出し時以外はストレスがかからないので、不揮発性メモリセルのストレスが抑制されて、信頼性の向上が図られる。 In addition, since a read operation is performed with a one-shot pulse signal, current consumption during reading is reduced, and stress is not applied to the nonvolatile memory cells except during reading, so stress on the nonvolatile memory cells is suppressed. Thus, the reliability is improved.
更に、シフトレジスタを用いて書き込みデータの設定や読み出しデータのチェックが行われるので、不揮発性メモリセルへの一括同時書き込みが行えると共に、デコード用信号端子やデコード回路などが不要となり、端子数の削減、小サイズ化が図られる。 In addition, since write data is set and read data is checked using a shift register, simultaneous writing to the nonvolatile memory cells can be performed simultaneously, and there is no need for a decoding signal terminal or a decoding circuit, reducing the number of terminals. The size can be reduced.
加えて、ラッチ回路及びシフトレジスタを設けることにより、データ破壊を招くことなく、読み出しデータのチェックを行うことができる。 In addition, by providing the latch circuit and the shift register, it is possible to check the read data without causing data destruction.
以上により、冗長機能やアナログトリミング機能などを有する機能ブロックを備えたシステムLSIにおいては、ヒューズ素子として代替可能な不揮発性半導体記憶装置をロジック回路製造プロセスで提供できるので、製造プロセスコストの低減を図ることができる。また、トリミング工程やトリマー装置が不要になるので、テストコストが低減される。更に、従来、フューズ素子の上方には配線層のレイアウト制約があったが、不揮発性半導体記憶装置で代替するので、この制約も解消される。 As described above, in a system LSI having a functional block having a redundancy function, an analog trimming function, and the like, a nonvolatile semiconductor memory device that can be replaced as a fuse element can be provided in the logic circuit manufacturing process, thereby reducing the manufacturing process cost. be able to. Further, since a trimming process and a trimmer device are not required, the test cost is reduced. Further, conventionally, there has been a layout restriction of the wiring layer above the fuse element, but this restriction is also eliminated since it is replaced by a nonvolatile semiconductor memory device.
以上説明したように、請求項1〜23記載の発明によれば、ロジック回路製造プロセスで製造できる不揮発性メモリセルを有する不揮発性半導体記憶装置として、パラレル出力データ端子と共に、書き込みデータ用及び読み出しデータのチェック用としてシリアル入力データ端子及びシリアル出力データ端子を設けたので、端子数を削減できる。
As described above, according to the invention described in
しかも、このような不揮発性半導体記憶装置をヒューズ素子の代替技術として、、例えば冗長機能やアナログトリミング機能などを有する機能ブロックを備えた半導体システムLSIに備えるので、有用である。 In addition, such a nonvolatile semiconductor memory device is useful as an alternative technique for a fuse element, for example, in a semiconductor system LSI including a functional block having a redundancy function, an analog trimming function, and the like.
以下、本発明の各実施の形態の不揮発性半導体記憶装置を図1ないし図14に基づいて説明する。 The nonvolatile semiconductor memory device according to each embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1である不揮発性半導体記憶装置のブロック図を示す。
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory device according to
図1において、1は不揮発性半導体記憶装置の全体を示し、2は不揮発性メモリセルを含むビットセル、3はラッチ回路、4はシフトレジスタ、5は制御回路(制御手段)、6はビットセル2を制御する制御信号、7はラッチ回路3を制御する制御信号、8はシフトレジスタ4を制御する制御信号である。SCLKはクロック信号、WTは書き込み動作指定信号、RDは読み出し動作指定信号(1ショットのパルス信号)、SDINは1個のシリアル入力データ端子に入力されるシリアル入力データ信号、SDOUTは1個のシリアル出力データ端子から出力されるシリアル出力データ信号、DOUT<n:0>は(n+1)ビットのパラレル出力データ端子から出力されるパラレル出力データ信号である。
In FIG. 1,
前記ビットセル2は、制御信号6に基づいて読み出しデータRDEN<n:0>を出力し、ラッチ回路(読み出し手段)3は制御信号7に基づいて読み出しデータRDEN<n:0>をラッチして、2つの出力信号LATX<n:0>、DOUT<n:0>を出力し、シフトレジスタ(読み出し手段)4はシリアル入力データ信号SDINとラッチ回路3からの出力信号LATX<n:0>とを入力とし、不揮発性メモリセルを含むビットセル2への書き込みデータQ<n:0>を出力すると共に、制御信号8に基づいてシリアル出力データ信号SDOUTを出力し、制御回路5はクロック信号SCLK、書き込み動作指定信号WT、読み出し動作指定信号RDを入力として制御信号6、7、8を出力する。
The
図2は、図1に示したビットセル2の任意のnビット目の回路例を示す。同図において、11はPMOSトランジスタ、12及び14はNMOSトランジスタ、13はPMOSトランジスタとNMOSトランジスタとから構成され共通のフローティングゲートを有する不揮発性メモリセルである。また、15は増幅器として機能するOR回路、16はAND回路である。更に、Vddは電源、Vssはグランド、SLは不揮発性半導体記憶装置の動作モード(書き込み動作/読み出し動作)に応じて所定の電圧レベルに設定されるソースライン、IRDX、IE、ICG及びIWTは図1の制御回路5にて動作モードに応じて発生する制御信号であり、RDEN<n>はビットセル2の出力信号、Q<n>は図1におけるシフトレジスタ4の出力信号である。
FIG. 2 shows a circuit example of an arbitrary n-th bit of the
図2のビットセル2において、電源VddとソースラインSLとの間には、信号IRDXをゲート入力とするPMOSトランジスタ11と、信号IEをゲート入力とするNMOSトランジスタ12と、信号ICGをコントロールゲートとする不揮発性メモリセル13とが配置される。PMOSトランジスタ11のドレインN1とグランドVssとの間にはNMOSトランジスタ14が配置され、このNMOSトランジスタ14のゲートには、信号IWTとシフトレジスタ4の出力信号Q<n>とを入力とするAND回路16の出力信号WD<n>が入力され、OR回路15のゲートには、信号IRDXと信号N1(NMOSトランジスタ12のドレイン電位)が入力されて、ビットセル2からの読み出しデータRDEN<n>を出力する構成である。
In the
前記の構成は、前記非特許文献1のFig.5に示されるビットセルの構成において、増幅器として機能する2段のインバータ回路がOR回路15で構成される点と、AND回路16が追加されている点が異なっているが、OR回路15については、読み出し動作期間以外(信号IRDXが“1”)にゲートノードN1がフローティングになることによってインバータ回路内に発生する貫通電流を回避するためである。また、AND回路16については、不揮発性メモリセル13への書き込みデータが“0”の場合と“1”の場合での回路動作を容易に理解できるようにするために付加したものである。
In the above configuration, in the bit cell configuration shown in FIG. 5 of
図3は、図1に示した不揮発性半導体記憶装置において、制御回路5を除くブロックについて、任意の2ビット(nビット目及びn−1ビット目)の回路構成例を示す。
FIG. 3 shows an example of a circuit configuration of arbitrary 2 bits (the nth bit and the (n−1) th bit) in the block excluding the
同図において、21、22、26及び27はPMOSトランジスタとNMOSトランジスタとから構成されるCMOSスイッチ回路、23、24、25、28、29、30及び31はインバータ回路である。ラッチ回路3においては、CMOSスイッチ回路21にはビットセル2からの読み出しデータRDENが入力され、その出力はインバータ回路23に入力され、インバータ回路23の出力はCMOSスイッチ回路22に入力されると共に、インバータ回路24、25に入力される。CMOSスイッチ回路22はラッチした読み出しデータLATXを出力し、インバータ回路25は外部に出力信号DOUTを出力する。ここで、インバータ回路24はその出力がインバータ回路23のゲートに接続されてラッチ回路を構成するため、その駆動能力はインバータ回路23の駆動能力より低く設定してある。CMOSスイッチ回路21、22のNMOSトランジスタのゲートには、信号IRDが入力され、PMOSトランジスタのゲートにはその信号IRDの反転信号IRDXが入力される。
In the figure,
また、図3において、シフトレジスタ4は、n+1個の同一構成のフリップフロップ回路4<n>〜4(0)を有する。1個のフリップフロップ回路4<n>を例示してその内部構成を説明すると、CMOSスイッチ回路26に前段のフリップフロップ回路の出力Qが入力され、その出力がインバータ回路29に入力される。インバータ回路29の出力はCMOSスイッチ回路27とインバータ回路28とに入力され、CMOSスイッチ回路27の出力はインバータ回路31に入力され、インバータ回路31の出力はインバータ回路30に入力されると共に、ビットセル2及び次段のフリップフロップ回路に入力されている。ここで、インバータ回路28、30は、その出力が各々インバータ回路29、30のゲートに接続されてラッチ回路を構成するため、その駆動能力はインバータ回路29、30の駆動能力よりも低く設定される。CMOSスイッチ回路26のPMOSトランジスタとCMOSスイッチ回路27のNMOSトランジスタとの両ゲートには、制御回路5で生成されるクロック信号ISCKが入力され、CMOSスイッチ回路26のNMOSトランジスタとCMOSスイッチ回路27のPMOSトランジスタの両ゲートには、前記クロック信号ISCKの反転信号ISCKXが入力される。
In FIG. 3, the
以上のように構成された不揮発性半導体記憶装置における書き込み動作及び読み出し動作について、以下、タイミングチャートを用いて説明する。 A write operation and a read operation in the nonvolatile semiconductor memory device configured as described above will be described below with reference to timing charts.
図4は、一例として、8ビットの不揮発性メモリセルを有する半導体記憶装置において、各々のビットセル<7:0>に“01010101”のデータを書き込む場合のタイミングチャートを示す。 FIG. 4 shows, as an example, a timing chart in the case where data “01010101” is written in each bit cell <7: 0> in a semiconductor memory device having 8-bit nonvolatile memory cells.
同図において、SDINはシリアル入力データ、SCLKはクロック信号、ISCKは前記クロック信号SCLKに基づいて制御回路5にて内部生成される内部クロック信号、Q<n>はシフトレジスタ4における(n+1)ビット目の出力データ信号、WTは書き込み動作指定信号、IWTは前記書き込み動作指定信号WTに基づいて内部生成される内部書き込み動作指定信号、IEはNMOSトランジスタ12の制御信号、ICGは不揮発性メモリセル13のコントロールゲート信号、WD<7:0>は、前記内部書き込み動作指定信号IWTとシフトレジスタ4の出力信号(書き込みデータ)Q<7:0>とを入力とするAND回路16の出力であって、NMOSトランジスタ14に入力される。
In the figure, SDIN is serial input data, SCLK is a clock signal, ISCK is an internal clock signal generated internally by the
クロック信号SCLKに基づいて内部クロック信号ISCKが発生され、この内部クロック信号ISCKに対してセットアップ時間及びホールド時間を確保できるタイミングでシリアル入力データSDINを入力する。尚、この時、フリップフロップ回路の出力Q<7:0>は全て“0”状態にあるとする。シフトレジスタ(書き込み手段)4において、先ず、1ビット目のシリアル入力データSDIN(“1”)を内部クロック信号ISCKでラッチして、初段のフリップフロップ回路の出力Q<7>は“0”から“1”となる。次に、2ビット目のシリアル入力データSDIN(“0”)を内部クロック信号ISCKでラッチすると、シフトレジスタの出力信号Q<7>は“1”から“0”となると共に、2段目のフリップフロップ回路の出力Q<6>は前記出力信号Q<7>の“1”が内部クロック信号ISCKでシフトされて、“0”から“1”になる。以下、同様に、シリアル入力データSDINをクロック信号SCLKでラッチして、8個のクロック信号SCLKの後に、シフトレジスタ4には、“01010101”がラッチされ、書き込みデータの設定は完了する。
An internal clock signal ISCK is generated based on the clock signal SCLK, and serial input data SDIN is input to the internal clock signal ISCK at a timing that can secure a setup time and a hold time. At this time, it is assumed that the outputs Q <7: 0> of the flip-flop circuits are all in the “0” state. In the shift register (writing means) 4, first, the serial input data SDIN (“1”) of the first bit is latched by the internal clock signal ISCK, and the output Q <7> of the first flip-flop circuit starts from “0”. “1”. Next, when the second bit serial input data SDIN (“0”) is latched by the internal clock signal ISCK, the output signal Q <7> of the shift register is changed from “1” to “0” and the second stage The output Q <6> of the flip-flop circuit is changed from “0” to “1” by shifting “1” of the output signal Q <7> by the internal clock signal ISCK. Similarly, the serial input data SDIN is latched by the clock signal SCLK, and “01010101” is latched in the
その後、書き込み動作指定信号WTを“1”とすることにより、内部書き込み動作指定信号IWTとその他の制御信号IE、ICGが“1”となり、8ビットのビットセル2のNMOSトランジスタ14のゲート信号WD<7:0>は“01010101”となる。ここで、“1”データ書き込み、すなわちNMOSトランジスタ14のゲート信号WDが“1”のビットセル2においては、NMOSトランジスタ12、14と不揮発性メモリセル13とがオンとなり、ソースラインSLとグランドVSSとの間に高電圧を印加して電流を流すことにより発生するホットエレクトロンを不揮発性メモリセル13のフローティングゲートにトラップすることにより、不揮発性メモリセル13を構成するNMOSトランジスタの閾値は高くなる。
Thereafter, by setting the write operation designation signal WT to “1”, the internal write operation designation signal IWT and the other control signals IE and ICG become “1”, and the gate signal WD <of the
一方、“0”データ書き込み、すなわち、NMOSトランジスタ14のゲート信号WDが“0”のビットセル2においては、NMOSトランジスタ12と不揮発性メモリセル13とがオンとなるが、NMOSトランジスタ14はオフとなるため、ソースラインSLとグランドVSS間には高電圧を印加しても電流は流れないため、不揮発性メモリセル13を構成するNMOSトランジスタの閾値は変わらない。このように、不揮発性メモリセル13の閾値を変えることによって、データ“0”、“1”の書き込みが行われる。
On the other hand, in the
図5に、図4に示した書き込みデータ“01010101”を読み出すタイミングチャートを示す。 FIG. 5 shows a timing chart for reading the write data “01010101” shown in FIG.
同図において、RDは1ショットパルスの読み出し動作指定信号、IRDは前記読み出し動作指定信号RDに基づいて内部生成される内部読み出し動作指定信号、IRDXは前記内部読み出し動作指定信号IRDの反転信号、IEはNMOSトランジスタ12の制御信号、ICGは不揮発性メモリセル13のコントロールゲート信号、RDEN<7:0>はビットセル2の出力信号、LATX<7:0>はラッチ回路3から出力される第2の出力信号、DOUT<7:0>はラッチ回路3からの出力信号であって、外部出力される8ビットのパラレル出力データである。更に、SCLKはクロック信号、ISCKはクロック信号SCLKに基づいて内部生成される内部クロック信号、SDOUTはシフトレジスタ4を構成する初段のフリップフロップ回路からクロック信号に基づいて出力されるシリアル出力データである。
In the figure, RD is a one-shot pulse read operation designation signal, IRD is an internal read operation designation signal generated internally based on the read operation designation signal RD, IRDX is an inverted signal of the internal read operation designation signal IRD, IE Is a control signal of the
図5において、読み出し動作指定信号RDが“0”から“1”になると、内部読み出し動作指定信号IRDは“0”から“1”となり、同様に、制御信号IE及びコントロールゲート信号ICGも“0”から“1”となり、反転内部読み出し動作指定信号IRDXは“1”から“0”となる。すなわち、図2において電源VddとソースラインSL間に配置されるPMOSトランジスタ11及びNMOSトランジスタ12はオン状態となる。
In FIG. 5, when the read operation designation signal RD is changed from “0” to “1”, the internal read operation designation signal IRD is changed from “0” to “1”. Similarly, the control signal IE and the control gate signal ICG are also “0”. From “1” to “1”, and the inverted internal read operation designating signal IRDX is changed from “1” to “0”. That is, in FIG. 2, the
ここで、“0”データが書き込まれているメモリセル2においては、フローティングゲートに電子がトラップされていないため、不揮発性メモリセル13を構成するNMOSトランジスタの閾値は低く、電源VddとソースラインSL間には電流が流れる。読み出しサイクル期間以外は反転内部読み出し動作指定信号IRDXが“1”のため、OR回路15の一方の入力にその“1”が入力されるので、OR回路15の出力は“1”状態にあるが、“0”データを読み出すサイクルにおいては、ノード信号N1がOR回路15の閾値よりも低くなると、読み出しデータRDENは“1”から“0”となる。一方、“1”データが書き込まれているメモリセル2においては、フローティングゲートに電子がトラップされて、NMOSトランジスタの閾値は高いため、電源VddとソースラインSL間には電流は流れず、OR回路15の出力である読み出しデータRDENは“1”のままである。
Here, in the
ラッチ回路3の出力LATX<7:0>は、読み出しサイクル期間以外は、CMOSスイッチ回路21、22がオフ状態にあるため、Hi−Z状態にあるが、読み出しサイクル期間は前記CMOSスイッチ回路21、22がオン状態になるので、RDEN<7:0>の状態(“10101010”)を受けて、“01010101”となる。また、シリアル出力データDOUT<7:0>は、読み出しサイクル期間以外はCMOSスイッチ回路21、22がオフ状態にあるので、“0”又は“1”の何れかがラッチされた状態にあるが、読み出しサイクル期間は前記CMOSスイッチ回路21、22がオン状態になるので、読み出しデータRDEN<7:0>(“01010101”)を受けて、“01010101”となる。この時、シリアル出力データSDOUTには、1ビット目のデータ“1”が出力される。ここで、読み出し動作指定信号RDが“1”から“0”となって読み出しサイクルが終了すると、反転内部読み出し動作指定信号IRDXは“0”から“1”となって、OR回路15からの読み出し信号RDENは全て“1”となり、パラレル出力データDOUTは読み出しサイクル期間中にラッチしたデータを常時出力する。
The outputs LATX <7: 0> of the
読み出しデータのチェックは、図5のタイミングチャートに示すように、外部からクロック信号SCLKを入力し、シフトレジスタ4を構成するフリップフロップ回路にラッチされたデータをシリアル出力データ端子SDOUTから読み出すことにより、容易に行うことができる。
As shown in the timing chart of FIG. 5, the read data is checked by inputting the clock signal SCLK from the outside and reading the data latched in the flip-flop circuit constituting the
以上のように、不揮発性メモリセル13からの読み出しデータをラッチするラッチ回路3を設け、メモリセル2からのデータ読み出し及びデータラッチを、1ショットのパルス信号である読み出し動作指定信号RDで行うことにより、不揮発性メモリセル13にかかるストレスは読み出し時のみに制限されるので、不揮発性メモリセル13のストレスを抑制でき、信頼性の高い不揮発性半導体記憶装置を実現することができる。
As described above, the
また、フリップフロップ回路からなるシフトレジスタ4を設け、シリアル入力データ端子から書き込みデータをシリアルに設定することにより、書き込みデータの一括同時書き込みを行うことができる。また、データ読み出しについても、フリップフロップ回路からなるシフトレジスタ4と1個のシリアル出力データ端子を設けることにより、出力端子数を増やすことなく、不揮発性メモリセル13からの読み出しデータのチェックを容易に行うことができる。更に、書き込みデータ用のシフトレジスタと読み出しデータ用のシフトレジスタとがシフトレジスタ4で共有されるので、回路の簡素化及びそれに伴うチップサイズ縮小を図ることができる。
Also, by providing the
更に、読み出しサイクル期間以外は、ラッチ回路3からシフトレジスタ4への出力(ラッチデータLATX<7:0>)は、Hi−Z状態にあるので、データ書き込み期間でのシフトレジスタ4のデータ書き込み動作に支障はない。しかも、ラッチ回路3からシフトレジスタ4へのラッチデータLATX<7:0>の入力を許可/禁止する切換回路を別途配置する必要がなく、構成を簡易にできる。
Further, since the output from the
尚、ビットセル2、ラッチ回路3、シフトレジスタ4の回路構成は、その機能が各々請求項に記載した内容に合致するものであれば、図示した回路構成に限定されない。
The circuit configurations of the
(実施の形態2)
図6に、図1に示した不揮発性半導体記憶装置を含む半導体システムLSIのブロック図を示す。
(Embodiment 2)
FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor system LSI including the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.
同図において、1は図1に示した不揮発性半導体記憶装置、41(m)、41(m−1)、41(0)は(m+1)個の冗長機能やアナログトリミング機能を備えた機能ブロックである。前記不揮発性半導体記憶装置1には、クロック信号SCLK、書き込み動作指定信号WT、シリアル入力データSDINが入力され、不揮発性半導体記憶装置1からはシリアル出力データSDOUTと(n+1)ビットのパラレル出力データ信号DOUT<n:0>とが出力される。前記不揮発性半導体記憶装置の読み出し動作指定信号端子には、半導体システムLSIのパワーオンリセットシーケンス期間中に機能ブロックの内部回路を初期化する1ショットのリセットパルス信号RSTが入力される。
In the figure,
ここで、不揮発性半導体記憶装置は、64ビットのパラレル出力データ端子を有し、機能ブロック41(0)、41(m−1)、41(m)は、各々、8ビット、16ビット、8ビットのパラレル入力データ端子を有する機能ブロックであって、機能ブロック全てのパラレル入力データビットが64ビットの場合を考える。不揮発性半導体記憶装置1のパラレル出力データDOUT<63:0>は、各々、対応する機能ブロックのパラレル入力データ入力端子に接続される構成である。
Here, the nonvolatile semiconductor memory device has a 64-bit parallel output data terminal, and the functional blocks 41 (0), 41 (m−1), and 41 (m) are 8 bits, 16 bits, and 8 bits, respectively. Consider a functional block having a bit parallel input data terminal, in which the parallel input data bits of all the functional blocks are 64 bits. Each of the parallel output data DOUT <63: 0> of the nonvolatile
図7は、不揮発性半導体記憶装置1を含む半導体システムLSIのタイミングチャートを示す。同図において、Vddは電源であり、RSTは半導体システムのパワーオンリセット期間中に機能ブロックを初期化するための1ショットのリセットパルス信号であり、DOUT<63:0>は前記不揮発性半導体記憶装置1から出力されるパラレル出力データである。
FIG. 7 shows a timing chart of the semiconductor system LSI including the nonvolatile
同図に示すように、パワーアップシーケンス中に電源Vddが“0”から“1”に立ち上がり、その後、1ショットのリセットパルス信号RSTが入力されると、不揮発性メモリセル13からデータが読み出され、パラレル出力データDOUT<63:0>が確定する。ここで、1ショットのリセットパルス信号RSTは、半導体システムLSIの通常使用タイミングに対して十分なタイミングマージンを持って入力されるので、冗長機能やアナログトリミング機能を有する機能ブロックにおけるパラレル出力データDOUT<63:0>に基づく内部制御は、半導体システムLSIの通常使用タイミング対して十分なタイミングマージンを持って完了する。
As shown in the figure, when the power supply Vdd rises from “0” to “1” during the power-up sequence and then a one-shot reset pulse signal RST is input, data is read from the
このように、従来、ヒューズ素子を用いて冗長機能やアナログトリミング機能を実現していた各種機能ブロックおいては、ヒューズ素子の検知ノードをパラレル入力データ端子として設け、パラレル出力データ端子を備えた不揮発性半導体記憶装置1と組み合わせることによって、ヒューズ素子の代替が可能となるので、前述したヒューズ素子が抱える課題を解決できる。更に、レイアウトの観点からは、ヒューズ素子が不要になることよって配線層の設計自由度が大幅に向上すると共に、この不揮発性半導体記憶装置1は、ヒューズ素子のように電源配線等の領域の側方に配置する必要がなくて、その電源配線等の領域に埋め込むことが可能であるので、面積的にも大きな効果を得ることができる。
As described above, in various functional blocks that have conventionally realized a redundancy function and an analog trimming function using a fuse element, a detection node of the fuse element is provided as a parallel input data terminal, and a nonvolatile memory having a parallel output data terminal is provided. Since the fuse element can be replaced by combining with the conductive
(実施の形態3)
図8は、前記図1に示した不揮発性半導体記憶装置を含む半導体システムLSIの実施の形態3を示す。
(Embodiment 3)
FIG. 8 shows a third embodiment of a semiconductor system LSI including the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.
同図において、51(l)、51(l−1)、51(0)は、(l+1)個の冗長機能やアナログトリミング機能を備えた機能ブロックであって、そのパラレル入力データ端子の総数は128ビットである。また、1A及び1Bは、各々、同一構成の2個の不揮発性半導体記憶装置であって、前記機能ブロックが有するパラレル入力データ端子の総数(128ビット)に対応するように、パラレル出力データ端子の総数が128ビット、即ち、各々が64ビットのパラレル出力データ端子を有する。
In the figure, 51 (l), 51 (l-1) and 51 (0) are functional blocks having (l + 1) redundant functions and analog trimming functions, and the total number of parallel input data terminals is as follows. 128 bits.
前記2つの不揮発性半導体記憶装置1A、1Bには、クロック信号SCLK、書き込み指定信号WTが各々接続され、シリアル入力データ信号SDINは不揮発性半導体記憶装置1Bのシリアルデータ入力端子に入力され、不揮発性半導体記憶装置1Bのシリアルデータ出力端子は不揮発性半導体記憶装置1Aのシリアルデータ出力端子に接続され、不揮発性半導体記憶装置1Aのシリアルデータ出力端子からシリアル出力データ信号SDOUTが出力され、不揮発性半導体記憶装置1A及び1Bからは、各々、64ビットのパラレル出力データDOUTA<63:0>、DOUTB<63:0>が出力され、これらのパラレル出力データは、対応する機能ブロックのパラレル入力データ端子に各々接続される。尚、不揮発性半導体記憶装置1A、1Bにおいて、その各読み出し動作指定信号端子には、半導体システムのパワーオンリセット期間中に各機能ブロックの内部回路を初期化する1ショットのリセットパルス信号RSTが機能ブロックと共通に入力される構成である。
A clock signal SCLK and a write designation signal WT are connected to the two nonvolatile
半導体システムLSIにおいて、各機能ブロックで必要となるパラレルデータ入力ビット数が更に増えた場合(例えば64→128ビットなどの場合)には、図6に示すように、1つの不揮発性半導体記憶装置1を配置して、そのビット数を増やすことにより対応は可能であるが、適用する半導体システムLSIにおいて、機能ブロックの数やその機能ブロックで必要とされるビット数は様々である。このため、ビット数を増やすことにより対応する場合には、半導体システムLSI毎にビット数の異なる不揮発性半導体記憶装置1を準備しなければならなくなり、設計工数が増加してしまうという問題が発生する。
In the semiconductor system LSI, when the number of parallel data input bits required in each functional block is further increased (for example, in the case of 64 → 128 bits), as shown in FIG. 6, one nonvolatile
そこで、本実施の形態に示すように、ビット数の異なる半導体システムLSIに適用する場合は、予め固定ビット数を有する不揮発性半導体記憶装置1A、1Bを設計しておき、この不揮発性半導体記憶装置を複数配置する手法を採用することにより、設計工数の増加を抑制することができる。尚、この場合、ビット数が固定されているので、未使用ビットが発生することが想定されるが、不揮発性半導体記憶装置の使用ビット数と各機能ブロックのパラレル入力ビット数との対応を明確にして適用すれば、問題はない。また、固定するビット数は、適用するアプリケーションのトレンドなどを十分調査、把握して、決定すれば良い。
Therefore, as shown in the present embodiment, when applied to a semiconductor system LSI having a different number of bits, the nonvolatile
(実施の形態4)
図9は、テストモード機能を備えた不揮発性半導体記憶装置のブロック図を示す。本実施の形態では、4種類のテストモード備えた不揮発性半導体記憶装置について説明する。
(Embodiment 4)
FIG. 9 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory device having a test mode function. In this embodiment, a nonvolatile semiconductor memory device having four types of test modes will be described.
図9において、9はテストモード設定用シフトレジスタ、TR<3:0>はテストモード設定用シフトレジスタ9の出力、すなわちテストモード信号である。TESTはテストモードイネーブル信号、TDINはテストモード設定用シリアルデータ入力信号、ITCKはテストモード用シフトレジスタの動作を制御するクロック信号である。尚、図1と同一の符号を付しているものは、同一ブロックであるので、その説明は省略する。テストモード設定用シフトレジスタ9には、テストモードイネーブル信号TEST、テストモード設定用シリアルデータ入力信号TDIN、テストモード設定用クロック信号ITCKが入力されて、4ビットのテストモード信号TR<3:0>を出力する構成である。
In FIG. 9, 9 is a test mode setting shift register, and TR <3: 0> is an output of the test mode setting
図10は、前記図9に示したテストモード設定用シフトレジスタ(テストモード設定手段)9の内部回路を示す。 FIG. 10 shows an internal circuit of the test mode setting shift register (test mode setting means) 9 shown in FIG.
同図において、71は4個のフリップフロップ回路であってシフトレジスタを構成する。72はAND回路より成る論理演算回路である。4個のフリップフロップ回路71を直列配置してシフトレジスタ9を構成し、4個のフリップフロップ回路71には、テストモード用クロック信号ITCKが共通に入力され、初段のフリップフロップ回路71にはテストモード設定用シリアルデータ入力信号TDINが入力され、その出力は次段のフリップフロップ回路71に入力されている。AND回路72は、フリップフロップ回路61に一対一に対応して設けられており、そのゲートにはテストモードイネーブル信号TESTが共通に入力されると共に、もう一方のゲートには対応するフリップフロップ回路71の出力が入力される構成である。
In the figure,
図11は、テストモード設定のタイミングチャートを示す。同図において、SDINはシリアル入力データ、TDINはテストモード用シリアル入力データ、RDは読み出し動作指定信号、WTは書き込み動作指定信号、SCLKはクロック信号、ITCKはテストモード設定用シフトレジスタのクロック信号、TQ<3:0>はシフトレジスタ9を構成するフリップフロップ回路71の出力である。また、TESTはテストモードイネーブル信号、TR<3:0>はAND回路72の出力である。
FIG. 11 is a timing chart for setting the test mode. In this figure, SDIN is serial input data, TDIN is test mode serial input data, RD is a read operation designation signal, WT is a write operation designation signal, SCLK is a clock signal, ITCK is a clock signal of a test mode setting shift register, TQ <3: 0> is an output of the flip-
読み出し動作指定信号RD及び書き込み動作指定信号WTが共に“1”の期間は、その制御により読み出し動作及び書き込み動作は行われず、クロック信号SCLKに基づいてテストモード用シフトレジスタ71のクロック信号ITCKがイネーブルとなり、このクロック信号ITCKに対してセットアップ時間及びホールド時間のマージンがあるタイミングでテストモード用シリアルデータTDINが入力される。ここで、テストモード設定用シリアルデータTDINとして“0010”を時分割入力すると、3発目のクロック信号ITCKにおいてフリップフロップ回路71の出力信号TQ<3>は“0”から“1”となり、4発目のクロック信号ITCKにおいてそのフリップフロップ回路71にラッチされていた信号Q<3>(“1”)が転送されて、次段のフリップフロップ回路71からの出力信号TQ<2>は“0”から“1”となって、シフトレジスタ9へのデータ設定が完了する。この後、テストモードイネーブル信号TESTを“0”から“1”とすることにより、テストモード制御信号TR<2>のみが“0”から“1”となって、4種類のうちの1つの所定のテストモードが有効となる。
When both the read operation designation signal RD and the write operation designation signal WT are “1”, the read operation and the write operation are not performed by the control, and the clock signal ITCK of the test
このように、複数個のフリップフロップ回路71からなるシフトレジスタ9に対してシリアルデータ入力端子からデータを設定する構成とすることにより、テストモードの設定を容易に行うことができる。尚、本実施の形態では、4種類のテストモードを4個のフリップフロップ回路71を用いて設定したが、2つのフリップフロップ回路と、前記フリップフロップ回路の出力を入力とするデコード回路(図示せず)とを用いて、テストモードの設定を行うことも可能である。
Thus, by setting the data from the serial data input terminal to the
尚、テストモード設定手段は、各請求項に記載した内容に合致するものであれば、図示した回路構成に限定されない。 The test mode setting means is not limited to the illustrated circuit configuration as long as it matches the contents described in each claim.
(実施の形態5)
図12及び図13にテストモード機能を有する不揮発性半導体記憶装置を用いた半導体システムLSIの実施の形態を示す。
(Embodiment 5)
12 and 13 show an embodiment of a semiconductor system LSI using a nonvolatile semiconductor memory device having a test mode function.
同図において、10は図1に示した不揮発性半導体記憶装置、TESTはテストモードイネーブル信号、TDINはテストモード設定用シリアルデータ入力信号である。尚、図12において図1と同一符号のものは、同一機能の信号及びブロックであるため、その説明は省略する。 In the figure, 10 is the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 1, TEST is a test mode enable signal, and TDIN is a test mode setting serial data input signal. In FIG. 12, the same reference numerals as those in FIG. 1 are signals and blocks having the same function, and a description thereof will be omitted.
不揮発性半導体記憶装置を1つだけ配置する場合には、不揮発性半導体記憶装置10のテストモード用シリアル入力データ端子には、図12に示すように、テストモード設定用シリアルデータ入力信号TDINをそのまま入力する構成にしても良いし、図13に示すように、シリアル入力データSDINをテストモード用シリアルデータとして入力する構成にしても良い。
When only one nonvolatile semiconductor memory device is provided, the test mode setting serial data input signal TDIN is directly applied to the test mode serial input data terminal of the nonvolatile
(実施の形態6)
図14は、テストモード機能を備えた複数の不揮発性半導体記憶装置を備えた半導体システムLSIの実施の形態を示す。
(Embodiment 6)
FIG. 14 shows an embodiment of a semiconductor system LSI including a plurality of nonvolatile semiconductor memory devices having a test mode function.
同図において、10A、10Bは同一構成の2個の不揮発性半導体記憶装置であり、64ビットのパラレル出力データ端子を有している。尚、図14は、図8において、2個の不揮発性半導体記憶装置1A、1Bを、テストモード機能を備えた不揮発性半導体記憶装置10A、10Bに置換したものであるので、重複する説明は省略する。
In the figure,
前記実施の形態5に示すように、不揮発性半導体記憶装置を1つ配置する場合には、不揮発性半導体記憶装置のシリアル入力データ端子とテストモード用シリアル入力データ端子とを接続してもテストモードの設定に支障はないが、不揮発性半導体記憶装置を複数配置する場合には、不揮発性半導体記憶装置10A、10Bのシリアル入力データ端子とテストモード用シリアル入力データ端子を接続してしまうと、鎖状に接続されるシリアルデータチェーンに書き込みデータ用シリアル入力データとテストモード用シリアル入力データが混在してしまう。このため、各々の不揮発性半導体記憶装置10A、10Bにおけるテストモードの設定が複雑化するという問題が生じる。
As shown in the fifth embodiment, when one nonvolatile semiconductor memory device is arranged, the test mode can be set even if the serial input data terminal and the test mode serial input data terminal of the nonvolatile semiconductor memory device are connected. However, when a plurality of nonvolatile semiconductor memory devices are arranged, if the serial input data terminals and the test mode serial input data terminals of the nonvolatile
そこで、本実施の形態のように不揮発性半導体記憶装置10A、10Bを複数配置する場合には、テストモード用シリアル入力データTDINは各々の不揮発性半導体記憶装置10A、10Bに直接に入力することにより、複数の不揮発性半導体記憶装置10A、10Bにおいて、テストモードの同時設定が可能となり、テストモード設定の複雑化を回避することができる。
Therefore, when a plurality of nonvolatile
ここで、不揮発性半導体記憶装置における各ブロックは、そのほとんどがロジック回路を構成するトランジスタと同じゲート酸化膜の薄いMOSトランジスタで形成されるが、不揮発性メモリセルを含めて、データの書き込み手段に含まれる一部のトランジスタには高電圧が印加されるため、そのゲート酸化膜は信頼性の観点からロジック回路製造プロセスで製造されるIOセルと同じ膜厚(ロジック回路を構成するトランジスタのゲート酸化膜の膜厚よりも厚い膜厚)で形成される。 Here, most of the blocks in the nonvolatile semiconductor memory device are formed by thin MOS transistors having the same gate oxide film as the transistors constituting the logic circuit. Since a high voltage is applied to some of the included transistors, the gate oxide film has the same thickness as that of the IO cell manufactured in the logic circuit manufacturing process from the viewpoint of reliability (the gate oxide of the transistors constituting the logic circuit). The film thickness is greater than the film thickness).
ところで、アプリケーションによっては、要求される速度や消費電力が異なるため、ロジック回路の製造プロセスには、そのニーズに応えるために、トランジスタのゲート膜厚や閾値などが異なる様々な種類のプロセスがある。このように様々なアプリケーションに不揮発性半導体記憶装置を適用する場合、デバイス定義やモデルパラメータが異なるために、ロジック回路製造プロセスが変わる毎に再設計が必要になる。本発明の実施の形態で示したように、冗長機能やアナログトリミング機能を有する機能ブロックのヒューズ素子の代替として不揮発性半導体記憶装置を適用する場合、高速動作は要求されないため、例えば、全てのMOSトランジスタをIOセルと同一の膜厚で形成すれば、ロジック回路製造プロセスが変わっても、再設計は不要である。しかしながら、このように全て厚膜のMOSトランジスタで設計してしまうと、デザインルールの影響でレイアウト面積が大きくなってしまう懸念もあるため、アプリケーションに要求される仕様や搭載ビット数などを考慮して、どのゲート膜厚で設計するか適切に判断する必要がある。 By the way, depending on the application, the required speed and power consumption are different, and therefore, there are various types of processes in the logic circuit manufacturing process in which the gate film thickness and threshold value of the transistor are different in order to meet the needs. When the nonvolatile semiconductor memory device is applied to various applications as described above, the device definition and model parameters are different, so that redesign is required every time the logic circuit manufacturing process changes. As shown in the embodiment of the present invention, when a nonvolatile semiconductor memory device is applied as a substitute for a functional block fuse element having a redundancy function or an analog trimming function, high-speed operation is not required. If the transistor is formed with the same thickness as the IO cell, redesign is not required even if the logic circuit manufacturing process changes. However, if all the MOS transistors are designed in this way, there is a concern that the layout area will increase due to the influence of the design rules. Therefore, considering the specifications required for the application and the number of installed bits, etc. Therefore, it is necessary to appropriately determine which gate film thickness to design.
以上説明したように、本発明は、ロジック回路製造プロセスで製造できる不揮発性メモリセルを有する不揮発性半導体記憶装置を、ヒューズ素子の代替技術とすることができるので、例えば冗長機能やアナログトリミング機能などを有する機能ブロックを備えた半導体システムLSIに適用して有用である。また、セキュアID等の用途にも応用できる。 As described above, according to the present invention, a nonvolatile semiconductor memory device having nonvolatile memory cells that can be manufactured by a logic circuit manufacturing process can be used as an alternative technology for a fuse element. The present invention is useful when applied to a semiconductor system LSI having a functional block having It can also be applied to uses such as secure ID.
1、1A、1B、10、10B 不揮発性半導体記憶装置
2 不揮発性メモリセルを含むビットセル
3 ラッチ回路(読み出し手段)
4 シフトレジスタ
(書き込み手段及び読み出し手段)
5 制御回路(制御手段)
9 テストモード設定用シフトレジスタ
11 PMOSトランジスタ
12、14 NMOSトランジスタ
13 不揮発性メモリセル
15 OR回路
16、70 AND回路(論理演算回路)
21、22、26、27 MOSスイッチ回路
23、24、28、29、30、31 インバータ回路
41(0)〜41(m)
51(0)〜51(l) 機能ブロック
71 フリップフロップ回路
72 AND回路(論理演算回路)
SDIN シリアル入力データ
SDOUT シリアル出力データ
DOUT<n:0> パラレル出力データ
RD 1ショットのパルス信号
LAT<n:0> ラッチ回路の第2の出力信号
TR<3:0> テストモード信号
1, 1A, 1B, 10, 10B Nonvolatile
4 Shift register
(Writing means and reading means)
5 Control circuit (control means)
9 Test mode setting
21, 22, 26, 27
51 (0) to 51 (l)
SDIN Serial input data SDOUT Serial output data DOUT <n: 0> Parallel
Claims (23)
n(nは2以上の整数)ビットのパラレル出力データ端子と、
n個の不揮発性メモリセルと、
外部から書き込みデータを前記シリアル入力データ端子を介して前記n個の不揮発性メモリセルに書き込む書き込み手段と、
前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを前記シリアル出力データ端子及びパラレル出力データ端子を介して外部に読み出す読み出し手段と、
前記書き込み手段及び読み出し手段を制御する制御手段とを備えた
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 A serial input data terminal and a serial output data terminal;
n (n is an integer of 2 or more) bits of parallel output data terminals;
n non-volatile memory cells;
Write means for writing write data from the outside to the n nonvolatile memory cells via the serial input data terminal;
Read means for reading out read data from the n non-volatile memory cells to the outside via the serial output data terminal and the parallel output data terminal;
A non-volatile semiconductor memory device comprising: a control unit that controls the writing unit and the reading unit.
前記制御手段は、
1ショットのパルス信号を受け、前記パルス信号に基づいて、前記前記不揮発性メモリセルからの読み出しデータを外部に読み出すように前記読み出し手段を制御する
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1,
The control means includes
A non-volatile semiconductor memory device, wherein the non-volatile semiconductor memory device receives a one-shot pulse signal and controls the read means to read out read data from the non-volatile memory cell based on the pulse signal.
前記読み出し手段は、
n個のラッチ回路を含み、データ読み出し期間に前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを前記n個のラッチ回路にラッチし、このラッチしたn個の読み出しデータをパラレル出力データ端子を介して外部に常時出力する
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1 or 2,
The reading means includes
n latch circuits, and in the data read period, the read data from the n nonvolatile memory cells are latched in the n latch circuits, and the latched n read data are passed through the parallel output data terminal. A non-volatile semiconductor memory device characterized by being constantly output to the outside.
前記読み出し手段は、
前記データ読み出し期間中は前記n個のラッチ回路にラッチしたn個の読み出しデータを内容とし、前記データ読み出し期間以外はHi−Z状態となる第2の出力信号を出力する
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 3,
The reading means includes
The nonvolatile memory is characterized in that n read data latched in the n latch circuits is contained during the data read period, and a second output signal that is in a Hi-Z state is output during the period other than the data read period. Semiconductor memory device.
前記読み出し手段は、
共通のクロック信号が入力されるn個のフリップフロップ回路から構成されるシフトレジスタを含み、
前記n個のフリップフロップ回路は、前記n個のラッチ回路からの前記第2の出力信号を受けると共に、前段のフリップフロップ回路からの出力信号を受け、
前記各フリップフロップ回路は、データ読み出し期間中は前記第2の出力信号をラッチし、データ読み出し期間以外は前記データ読み出し期間中にラッチした第2の出力信号を前記クロック信号に基づいて次段のフリップフロップ回路に出力し、
最終段のフリップフロップ回路から前記シリアル出力データ端子を介して前記第2の出力信号が出力される
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 4,
The reading means includes
Including a shift register composed of n flip-flop circuits to which a common clock signal is input;
The n flip-flop circuits receive the second output signal from the n latch circuits and the output signal from the previous flip-flop circuit,
Each of the flip-flop circuits latches the second output signal during the data read period, and the second output signal latched during the data read period other than the data read period is based on the clock signal. Output to flip-flop circuit,
The nonvolatile semiconductor memory device, wherein the second output signal is output from the flip-flop circuit at the final stage via the serial output data terminal.
前記書き込み手段は、
共通のクロック信号が入力されるn個のフリップフロップ回路から構成されるシフトレジスタを含み、
前記n個のフリップフロップ回路のうち最初段のフリップフロップ回路は、前記シリアル入力データ端子を介して書き込みデータを受け、
前記最初段を除くフリップフロップ回路は、各々、前記クロック信号に基づいて前段のフリップフロップ回路からの書き込みデータを受け、
前記n個のフリップフロップ回路の書き込み信号は、前記n個の不揮発性メモリセルに入力される
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1,
The writing means includes
Including a shift register composed of n flip-flop circuits to which a common clock signal is input;
The first flip-flop circuit among the n flip-flop circuits receives write data via the serial input data terminal,
Each of the flip-flop circuits excluding the first stage receives write data from the previous flip-flop circuit based on the clock signal,
The nonvolatile semiconductor memory device, wherein a write signal of the n flip-flop circuits is input to the n nonvolatile memory cells.
前記書き込み手段に含まれるシフトレジスタは、前記請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置に含まれるシフトレジスタと兼用される
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 6,
6. The nonvolatile semiconductor memory device, wherein the shift register included in the writing unit is also used as the shift register included in the nonvolatile semiconductor memory device according to claim 5.
テストモード用シリアル入力データ及びテストモードイネーブル信号を受けて複数種類のテストモード信号を発生するテストモード設定手段を備える
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1,
A non-volatile semiconductor memory device comprising test mode setting means for receiving a test mode serial input data and a test mode enable signal and generating a plurality of types of test mode signals.
前記テストモード設定手段は、
共通のクロック信号が入力される複数個のフリップフロップ回路が直列に接続されたシフトレジスタと、
前記フリップフロップ回路の個数と同数の論理演算回路とを備え、
前記各フリップフロップ回路には、前記テストモード用シリアル入力データが順次設定され、前記各論理演算回路には、対応する前記フリップフロップ回路の出力信号と前記テストモードイネーブル信号とが入力され、
前記各論理演算回路の出力の組合せがテストモード信号となる
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 9. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 8, wherein
The test mode setting means includes
A shift register in which a plurality of flip-flop circuits to which a common clock signal is input are connected in series;
The same number of logic operation circuits as the number of flip-flop circuits,
The test mode serial input data is sequentially set in each flip-flop circuit, and the output signal of the corresponding flip-flop circuit and the test mode enable signal are input to each logic operation circuit,
A combination of outputs of the logic operation circuits becomes a test mode signal.
前記テストモード設定手段からのテストモード信号をデコードするデコード回路が備えられる
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 9, wherein
A non-volatile semiconductor memory device comprising: a decode circuit for decoding a test mode signal from the test mode setting means.
前記n個の不揮発性メモリセルは、ロジック回路製造プロセスにて形成される
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1,
The n non-volatile memory cells are formed by a logic circuit manufacturing process.
前記n個の不揮発性メモリセルは、
2種類の膜厚のゲート酸化膜を形成する2種のロジック回路製造プロセスのうち、膜厚の厚いゲート酸化膜を形成するロジック回路製造プロセスにて形成される
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 11,
The n non-volatile memory cells are
Nonvolatile semiconductor memory characterized by being formed by a logic circuit manufacturing process for forming a thick gate oxide film, out of two types of logic circuit manufacturing processes for forming two types of gate oxide films. apparatus.
前記n個の不揮発性メモリセル、前記書き込み手段、前記読み出し手段、及び前記制御手段を構成する全てのトランジスタは、そのゲート酸化膜の膜厚が同一の膜厚で形成されている
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 11,
All the transistors constituting the n non-volatile memory cells, the writing unit, the reading unit, and the control unit are formed with the same gate oxide film thickness. A nonvolatile semiconductor memory device.
複数ビットのパラレル入力データ端子を有する機能ブロックとを有し、
前記不揮発性半導体記憶装置のパラレル出力データ端子は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子に接続される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1,
A functional block having a multi-bit parallel input data terminal,
A semiconductor system LSI, wherein a parallel output data terminal of the nonvolatile semiconductor memory device is connected to a parallel input data terminal of the functional block.
前記不揮発性半導体記憶装置は、複数個備えられ、
前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のうち最初段の不揮発性半導体記憶装置には、前記シリアル入力データ端子を介して外部から書き込みデータが入力され、
前記最初段を除く不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル入力データ端子が前段の不揮発性半導体記憶装置のシリアル出力データ端子に接続されて鎖状に配置され、
最終段の不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル出力データ端子から読み出しデータが外部出力される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The semiconductor system LSI according to claim 14, wherein
A plurality of the nonvolatile semiconductor memory devices are provided,
Of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices, the first stage nonvolatile semiconductor memory device is supplied with write data from the outside via the serial input data terminal,
The nonvolatile semiconductor memory device excluding the first stage is arranged in a chain with its serial input data terminal connected to the serial output data terminal of the previous stage nonvolatile semiconductor memory device,
A semiconductor system LSI characterized in that read data is externally output from the serial output data terminal of the final stage nonvolatile semiconductor memory device.
複数ビットのパラレル入力データ端子を有する機能ブロックとを有し、
前記不揮発性半導体記憶装置のパラレル出力データ端子は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子に接続される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 8,
A functional block having a multi-bit parallel input data terminal,
A semiconductor system LSI, wherein a parallel output data terminal of the nonvolatile semiconductor memory device is connected to a parallel input data terminal of the functional block.
前記不揮発性半導体記憶装置は、
前記シリアル入力データ端子に入力される書き込みデータがテストモード用シリアル入力データとして前記テストモード設定手段に入力される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The semiconductor system LSI according to claim 16, wherein
The nonvolatile semiconductor memory device is
Write data input to the serial input data terminal is input to the test mode setting means as test mode serial input data.
前記不揮発性半導体記憶装置は、複数個備えられ、
前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のうち最初段の不揮発性半導体記憶装置には、前記シリアル入力データ端子を介して外部から書き込みデータが入力され、
前記最初段を除く不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル入力データ端子が前段の不揮発性半導体記憶装置のシリアル出力データ端子に接続されて鎖状に配置され、
最終段の不揮発性半導体記憶装置は、そのシリアル出力データ端子から読み出しデータが外部出力され、
前記複数個の不揮発性半導体記憶装置のテストモード設定手段には、各々、前記テストモード用シリアル入力データ及びテストモードイネーブル信号が直接に入力される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The semiconductor system LSI according to claim 16, wherein
A plurality of the nonvolatile semiconductor memory devices are provided,
Of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices, the first stage nonvolatile semiconductor memory device receives write data from the outside via the serial input data terminal,
The nonvolatile semiconductor memory device excluding the first stage is arranged in a chain with its serial input data terminal connected to the serial output data terminal of the previous stage nonvolatile semiconductor memory device,
The nonvolatile semiconductor memory device at the final stage outputs read data externally from its serial output data terminal,
The semiconductor system LSI, wherein the test mode serial input data and the test mode enable signal are directly inputted to the test mode setting means of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices, respectively.
前記機能ブロックは、冗長機能を有する
ことを特徴とする半導体システムLSI。 In the semiconductor system LSI according to any one of claims 14 to 18,
The functional block has a redundant function. A semiconductor system LSI, wherein:
前記機能ブロックは、アナログトリミング機能を有する
ことを特徴とする半導体システムLSI。 In the semiconductor system LSI according to any one of claims 14 to 18,
The functional block has an analog trimming function. A semiconductor system LSI, wherein:
前記機能ブロックには、半導体システムLSIのパワーオンシーケンス中に前記機能ブロックを初期化するための1ショットのリセットパルス信号が入力され、
前記リセットパルス信号は、前記不揮発性半導体記憶装置に入力されて、このリセットパルス信号に基づいて、前記読み出し手段が前記n個の不揮発性メモリセルからの読み出しデータを外部に読み出す
ことを特徴とする半導体システムLSI。 In the semiconductor system LSI according to any one of claims 14 to 19,
The functional block receives a one-shot reset pulse signal for initializing the functional block during the power-on sequence of the semiconductor system LSI,
The reset pulse signal is input to the nonvolatile semiconductor memory device, and based on the reset pulse signal, the reading unit reads out read data from the n nonvolatile memory cells to the outside. Semiconductor system LSI.
前記複数個の不揮発性半導体記憶装置の個数は、前記機能ブロックのパラレル入力データ端子の総数に応じて決定される
ことを特徴とする半導体システムLSI。 In the semiconductor system LSI according to claim 15 or 18,
The number of the plurality of nonvolatile semiconductor memory devices is determined according to the total number of parallel input data terminals of the functional block.
前記複数個の不揮発性半導体記憶装置は、全て、同一個数のパラレル入力データ端子数を有する同一構成の不揮発性半導体記憶装置である
ことを特徴とする半導体システムLSI。 The semiconductor system LSI according to claim 22, wherein
The plurality of nonvolatile semiconductor memory devices are all the same configuration nonvolatile semiconductor memory device having the same number of parallel input data terminals.
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---|---|---|---|
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JP2010166255A (en) * | 2009-01-14 | 2010-07-29 | Rohm Co Ltd | Programmable logic device and signal processing circuit using the same |
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