JP2005266682A - Method of manufacturing electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an electro-optical device which has the display quality improved by making luminance of light emission uniform in each pixel and to provide an electronic apparatus provided with the electro-optical device manufactured by this method. <P>SOLUTION: A lyophilic member A is formed on each pixel electrode 10 on a substrate S (circuit formation layer Sb) provided with a display area having pixel electrodes 10 formed therein. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device and an electronic apparatus.

近年、小型化・薄型化の観点から、電気光学装置として液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス装置等が注目されている。特に、有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬディスプレイという）は、液晶装置に比べて高速応答化及び広視野角化が可能であるため、その開発が盛んに行われている。   In recent years, liquid crystal devices, organic electroluminescence devices, and the like have attracted attention as electro-optical devices from the viewpoint of miniaturization and thinning. In particular, an organic electroluminescence device (hereinafter referred to as an organic EL display) has been actively developed because it can achieve a higher response speed and a wider viewing angle than a liquid crystal device.

また、有機ＥＬディスプレイは、その表示領域上に、画素電極と、該画素電極に対向する対向電極と、画素電極と対向電極との間に形成される少なくとも発光層を備える電気光学層とを有した画素を複数備えている。   In addition, the organic EL display has a pixel electrode, a counter electrode facing the pixel electrode, and an electro-optic layer including at least a light emitting layer formed between the pixel electrode and the counter electrode on the display area. A plurality of such pixels are provided.

さて、このような構造を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法の一つに、電気光学層を構成する電気光学材料を所定の溶媒に溶解または分散した液滴状の溶液（インク滴）に形成し、そのインク滴をインクジェットヘッドから所定の画素電極上へ吐出するようにして製造するインクジェット法がある。   Now, in one method of manufacturing an organic EL display having such a structure, an electro-optical material constituting the electro-optical layer is formed into a droplet-like solution (ink droplet) dissolved or dispersed in a predetermined solvent, There is an inkjet method in which the ink droplets are manufactured by being ejected from an inkjet head onto a predetermined pixel electrode.

このインクジェット法では、フルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイを製造する場合、赤色用、緑色用または青色用の異なった種類の電気光学材料を使用して、対応する画素電極毎にその対応する色用のインク滴を吐出する。その際、吐出された各色用のインク滴が他の隣接する画素電極上に吐出された他の色用のインク滴と混じり合いを回避するために、画素電極を区画隔離する隔壁が形成されている。そして、各画素電極には親液化処理を、隔壁には撥液化処理を、それぞれ施すことで、吐出されたインク滴を画素電極に密着させるとともに、隣接する他の画素電極へ吐出されたインク滴との混じり合いを回避するようにしている（たとえば、特許文献１）。
特開２００３−２７２８７２号公報 In this inkjet method, when manufacturing an organic EL display capable of full color display, different types of electro-optic materials for red, green, or blue are used, and for each corresponding pixel electrode, the corresponding color Ink droplets are ejected. At that time, in order to avoid mixing the discharged ink droplets for each color with the other color ink droplets discharged onto other adjacent pixel electrodes, a partition wall for separating and separating the pixel electrodes is formed. Yes. Each pixel electrode is subjected to lyophilic treatment and the partition wall is subjected to lyophobic treatment so that the ejected ink droplets are brought into close contact with the pixel electrode and the ink droplets ejected to other adjacent pixel electrodes. (For example, patent document 1).
JP 2003-228772 A

しかしながら、上記インクジェット法による有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、隔壁を撥液化処理する際に画素電極も撥液化処理されてしまう。この結果、画素電極上表面が撥液化されてしまうため、吐出されたインク滴が所望の画素電極上に配置されても、その画素電極上全面に均一に濡れ広がらない。この結果、乾燥処理して形成される薄膜の膜厚が、各画素内においてばらついてしまう。すると、この膜厚のばらつきに起因して、各画素内における発光輝度が均一にならず、表示不良が発生してしまうという問題があった。   However, in the method for manufacturing an organic EL display using the inkjet method, the pixel electrode is also subjected to the liquid repellent treatment when the partition walls are subjected to the liquid repellent treatment. As a result, the surface on the pixel electrode is made liquid repellent, so that even if the ejected ink droplet is placed on the desired pixel electrode, the entire surface on the pixel electrode is not evenly spread. As a result, the film thickness of the thin film formed by the drying process varies within each pixel. Then, due to the variation in the film thickness, there is a problem that the light emission luminance in each pixel is not uniform and a display defect occurs.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、各画素内にて発光輝度が均一になることで表示品位が向上する電気光学装置の製造方法及びそのような製造方法にて製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electro-optical device in which display quality is improved by uniform emission luminance in each pixel, and such a manufacturing method. It is an object of the present invention to provide an electronic apparatus including the electro-optical device manufactured by the above method.

本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程と、前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程と、前記区画形成された各画素形成領域の前記画素電極上に電気光学層を形成する工程とを含む。   An electro-optical device manufacturing method according to the present invention includes a step of forming a lyophilic member on each pixel electrode on a substrate having a display region on which a plurality of pixel electrodes are formed, Forming a partition for partitioning the pixel formation region, and forming an electro-optic layer on the pixel electrode of each pixel formation region that is partitioned.

これによれば、画素電極上に親液性部材が形成されるので、画素電極上表面の濡れ性を向上させることができる。このことより、電気光学層を構成する材料を画素電極上に広がって形成されるので、各画素形成領域内に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。   According to this, since the lyophilic member is formed on the pixel electrode, the wettability of the surface on the pixel electrode can be improved. As a result, since the material constituting the electro-optic layer is formed so as to spread on the pixel electrode, variations in the film thickness of the electro-optic layer formed in each pixel formation region can be eliminated.

この電気光学装置の製造方法において、前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程は、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程の後に行うようにしてもよい。   In the method of manufacturing the electro-optical device, the step of forming a partition for partitioning a plurality of pixel formation regions on the display region excluding the region where the pixel electrodes are formed includes forming the plurality of pixel electrodes. It may be performed after the step of forming a lyophilic member on each of the pixel electrodes on the substrate having the display area.

これによれば、親液性部材を、例えば基板に対して全面に形成するようにすることによって、各画素電極上に形成される親液性部材の密度を均一にすることができる。
この電気光学装置の製造方法において、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程は、前記前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程の後に行うようにしてもよい。 According to this, the density of the lyophilic member formed on each pixel electrode can be made uniform by forming the lyophilic member over the entire surface of the substrate, for example.
In this method of manufacturing an electro-optical device, the step of forming a lyophilic member on each pixel electrode on a substrate having a display area on which the plurality of pixel electrodes are formed includes forming the pixel electrodes. You may make it carry out after the process of forming the partition for partition-forming a some pixel formation area on the said display area except an area | region.

これによれば、親液性部材を、隔壁を形成した後に画素電極上に形成することができる。隔壁により区画された膜形成領域に電気光学層を形成する液体材料を配置することにより電気光学層を形成する場合、隔壁材料はアクリル、ポリイミドなどの有機材料にて形成される。特にこのような場合、隔壁を形成した後親液性部材を形成するため、隔壁材料が親液性部材に接しないため、隔壁材料の残さによる液体材料の濡れ不良を防止できる。   According to this, the lyophilic member can be formed on the pixel electrode after forming the partition. When the electro-optic layer is formed by disposing a liquid material that forms the electro-optic layer in the film formation region partitioned by the partition, the partition material is formed of an organic material such as acrylic or polyimide. Particularly in such a case, since the lyophilic member is formed after the partition wall is formed, the partition material does not come into contact with the lyophilic member, so that wetting failure of the liquid material due to the remaining partition material can be prevented.

この電気光学装置の製造方法において、前記基板上全面にプラズマ処理及び撥液化処理を行う工程を含んでもよい。
これによれば、プラズマ処理を行うことで画素電極上に形成された親液性部材の親液性をさらに向上させるとともに画素電極の上面の改質処理を行うことができる。また、撥液化処理を行うことで隔壁を撥液化させることができる。この結果、目的の画素形成領域に電気光学層を構成する材料を配置させ、しかも、その画素形成領域の画素電極上に電気光学層を構成する材料を密着させることができる。 The method of manufacturing the electro-optical device may include a step of performing plasma treatment and liquid repellency treatment on the entire surface of the substrate.
According to this, it is possible to further improve the lyophilicity of the lyophilic member formed on the pixel electrode by performing the plasma treatment and to modify the upper surface of the pixel electrode. Further, the partition walls can be made liquid-repellent by performing the liquid-repellent treatment. As a result, the material constituting the electro-optic layer can be disposed in the target pixel formation region, and the material constituting the electro-optic layer can be adhered to the pixel electrode in the pixel formation region.

この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記各画素電極上全面に形成されていてもよい。
これによれば、画素電極上全面に親液性部材を形成したので、画素電極全面の濡れ性を均一に向上させることができる。このことより、電気光学層を構成する材料を画素電極全面に広がって形成させることができるので、各画素形成領域内に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。 In this electro-optical device manufacturing method, the lyophilic member may be formed on the entire surface of each pixel electrode.
According to this, since the lyophilic member is formed on the entire surface of the pixel electrode, the wettability of the entire surface of the pixel electrode can be improved uniformly. As a result, the material constituting the electro-optic layer can be formed over the entire surface of the pixel electrode, so that variations in the thickness of the electro-optic layer formed in each pixel formation region can be eliminated.

この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記画素電極上に点在して形成されてもよい。
これによれば、画素電極上に島状に親液性部材を形成したので、画素電極と電気光学層とが直接接する。従って、たとえ親液性部材が絶縁性材料であっても、画素電極と電気光学層との電気的接続を良好にすることができる。 In the electro-optical device manufacturing method, the lyophilic member may be formed on the pixel electrode.
According to this, since the lyophilic member is formed in an island shape on the pixel electrode, the pixel electrode and the electro-optic layer are in direct contact with each other. Therefore, even if the lyophilic member is an insulating material, the electrical connection between the pixel electrode and the electro-optical layer can be improved.

この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記画素電極上に格子状に形成されてもよい。
これによれば、画素電極上に格子状に親液性部材を形成したので、画素電極と電気光学層とが直接接する。従って、たとえ親液性部材が絶縁性材料であっても、画素電極と電気光学層との電気的接続を良好にすることができる。 In the electro-optical device manufacturing method, the lyophilic member may be formed in a lattice shape on the pixel electrode.
According to this, since the lyophilic member is formed in a lattice shape on the pixel electrode, the pixel electrode and the electro-optical layer are in direct contact with each other. Therefore, even if the lyophilic member is an insulating material, the electrical connection between the pixel electrode and the electro-optical layer can be improved.

この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材は、酸化珪素であってもよい。
これによれば、酸化珪素は、プラズマ処理を施すことによって容易にその濡れ性を向上させることができるので、前記画素電極が、たとえばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で構成されていたとしても、その上に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。 In this method of manufacturing an electro-optical device, the lyophilic member may be silicon oxide.
According to this, since the wettability of silicon oxide can be easily improved by performing plasma treatment, even if the pixel electrode is made of indium tin oxide (ITO), for example, Variations in the film thickness of the electro-optic layer formed thereon can be eliminated.

この製造方法において、前記酸化珪素は膜状であってその膜厚は、５ｎｍ以下であってもよい。
これによれば、酸化珪素の膜厚は５ｎｍ以下と非常に薄い。従って、画素電極と電気光学層とは実質的に電気的に接続される。 In this manufacturing method, the silicon oxide may be in the form of a film and the film thickness may be 5 nm or less.
According to this, the film thickness of silicon oxide is as very thin as 5 nm or less. Accordingly, the pixel electrode and the electro-optic layer are substantially electrically connected.

本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を具備した。
これによれば、各画素内にて発光輝度が均一になることで表示品位が向上した電子機器を提供することができる。 An electronic apparatus according to an aspect of the invention includes the electro-optical device manufactured by the electro-optical device manufacturing method described above.
According to this, it is possible to provide an electronic device with improved display quality because the light emission luminance is uniform in each pixel.

以下、本発明の電気光学装置を有機ＥＬディスプレイに適用した第１及び第２実施形態をそれぞれ図面に従って説明する。本発明の有機ＥＬディスプレイは、各画素を形成する正孔輸送層及び発光層といった電気光学層がインクジェット方式によって製造されたディスプレイである。ここで、インクジェット方式による製造方法とは、電気光学層を構成する有機化合物材料（たとえば、正孔輸送層材料／発光層材料）を所定の溶媒に溶解または分散させたインク滴をインクジェットヘッドから吐出させて画素電極上にパターニング塗布する方法をいう。尚、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
（第１実施形態）
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの上面図である。図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部ＤＳと、該ディスプレイ部ＤＳの下側（図１中反Ｙ矢印方向側）に接続されたフレキシブル回路基板ＦＣとから構成されている。図１に示すように、ディスプレイ部ＤＳは、その略中央に表示領域Ｒを、また、表示領域Ｒを囲む表示領域Ｒ以外の領域に非表示領域Ｑをそれぞれ備えている。 Hereinafter, first and second embodiments in which an electro-optical device of the present invention is applied to an organic EL display will be described with reference to the drawings. The organic EL display of the present invention is a display in which an electro-optical layer such as a hole transport layer and a light emitting layer forming each pixel is manufactured by an ink jet method. Here, the inkjet method is a method of discharging ink droplets in which an organic compound material (for example, hole transport layer material / light emitting layer material) constituting an electro-optic layer is dissolved or dispersed in a predetermined solvent from an inkjet head. The patterning is applied to the pixel electrode. In each of the drawings shown below, the scale of each layer and each member is different in order to make each layer and each member recognizable on the drawing.
(First embodiment)
FIG. 1 is a top view of the organic EL display of the present invention. As shown in FIG. 1, the organic EL display 1 includes a display unit DS and a flexible circuit board FC connected to the lower side of the display unit DS (on the side opposite to the Y arrow in FIG. 1). As shown in FIG. 1, the display unit DS includes a display area R in the approximate center thereof, and a non-display area Q in an area other than the display area R surrounding the display area R.

表示領域Ｒには、図１中Ｘ，Ｙ矢印方向にそれぞれ延設された隔壁Ｂが設けられ、その隔壁Ｂによって画素形成領域２が升目状に区画形成されている。各画素形成領域２は、１個の赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成される領域である。赤色用画素３Ｒからは赤色の光が、緑色用画素３Ｇからは緑色の光が、青色用画素３Ｂからは青色の光がそれぞれ出射される。   In the display region R, partition walls B extending in the directions of arrows X and Y in FIG. 1 are provided, and the pixel formation region 2 is partitioned and formed by the partition walls B. Each pixel formation region 2 is a region where one red, green, or blue pixel 3R, 3G, 3B is formed. Red light is emitted from the red pixel 3R, green light is emitted from the green pixel 3G, and blue light is emitted from the blue pixel 3B.

表示領域Ｒには、１行当りｍ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがｎ行、また、１列当りｎ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがｍ列形成されている。そして、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｘ矢印方向（行方向）に沿って赤色用画素３Ｒ→緑色用画素３Ｇ→青色用画素３Ｂ→赤色用画素３Ｒ→…の順に繰り返して配置されている。また、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｙ矢印方向（列方向）に沿って同色の画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが配置されている。   In the display area R, m red, green and blue pixels 3R, 3G and 3B per row are n rows, and n red, green and blue pixels 3R, 3G and 3B are m per column. A line is formed. The red, green, and blue pixels 3R, 3G, and 3B are respectively arranged along the X arrow direction (row direction) in FIG. 1 in the red pixel 3R → the green pixel 3G → the blue pixel 3B → the red pixel 3R → It is arranged repeatedly in the order of…. The red, green, and blue pixels 3R, 3G, and 3B have the same color pixels 3R, 3G, and 3B along the Y arrow direction (column direction) in FIG.

また、図１中Ｘ矢印方向に互いに並んだ赤色用画素３Ｒ、緑色用画素３Ｇ及び青色用画素３Ｂで１組の画素３を形成している。
非表示領域Ｑには、表示領域Ｒを挟むようにして一対の走査線駆動回路４が形成されている。各走査線駆動回路４は、図示しない走査線を介して１行の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，
３Ｂ群毎に接続されている。そして、各走査線駆動回路４は、ｎ行ある各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ群を１行毎に順次選択する走査信号を出力するための回路である。 In addition, a set of pixels 3 is formed by the red pixel 3R, the green pixel 3G, and the blue pixel 3B arranged in the X arrow direction in FIG.
In the non-display area Q, a pair of scanning line driving circuits 4 is formed so as to sandwich the display area R. Each scanning line driving circuit 4 is connected to each row of color pixels 3R, 3G,.
Each 3B group is connected. Each scanning line driving circuit 4 is a circuit for outputting a scanning signal for sequentially selecting each of the n color pixels 3R, 3G, and 3B for each row.

また、非表示領域Ｑ上であって、表示領域Ｒの上側（図１中Ｙ矢印方向側）には検査回路５が形成されている。検査回路５は、各赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと図示しない信号線を介して接続されている。そして、検査回路５は、有機ＥＬディスプレイ１を出荷される前に駆動され、各赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが正常に駆動するか否かを検査するための回路である。   In addition, an inspection circuit 5 is formed on the non-display area Q and above the display area R (Y arrow direction side in FIG. 1). The inspection circuit 5 is connected to the red, green, and blue pixels 3R, 3G, and 3B via signal lines (not shown). The inspection circuit 5 is driven before the organic EL display 1 is shipped, and is a circuit for inspecting whether each of the red, green, or blue pixels 3R, 3G, 3B is normally driven.

一方、フレキシブル回路基板ＦＣ上にはデータ線駆動回路６と制御回路７とが形成されている。データ線駆動回路６は、図示しないデータ線を介して１列の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ毎に接続されている。そして、データ線駆動回路６は、前記走査線駆動回路４によって選択された各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂに対応するデータ信号を出力するための回路である。このデータ信号は輝度情報がプログラムされた信号であって、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの発光輝度を決定する。   On the other hand, a data line driving circuit 6 and a control circuit 7 are formed on the flexible circuit board FC. The data line driving circuit 6 is connected to each color pixel 3R, 3G, 3B in one column via a data line (not shown). The data line driving circuit 6 is a circuit for outputting data signals corresponding to the respective color pixels 3R, 3G, and 3B selected by the scanning line driving circuit 4. This data signal is a signal in which luminance information is programmed, and determines the emission luminance of the red, green, and blue pixels 3R, 3G, and 3B.

制御回路７は、各走査線駆動回路４及びデータ線駆動回路６に図示しない制御線を介して接続され、各駆動回路４，６の駆動を制御するための各種制御信号を生成し、その生成した制御信号を各駆動回路４，６にそれぞれ出力するための回路である。   The control circuit 7 is connected to each scanning line driving circuit 4 and the data line driving circuit 6 through a control line (not shown), generates various control signals for controlling the driving of the driving circuits 4 and 6, and generates the control signals. This is a circuit for outputting the control signal to the drive circuits 4 and 6, respectively.

そして、前記制御回路７から出力される各種制御信号によって走査線駆動回路４が前記走査信号を出力するとともに、前記走査信号のタイミングでデータ線駆動回路６からデータ信号が出力される。このような構成により、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、出力されたデータ信号に応じた輝度で各色の光を出射し、その結果、表示領域Ｒ上に所望の画像が表示される。   Then, the scanning line driving circuit 4 outputs the scanning signal according to various control signals output from the control circuit 7, and the data line driving circuit 6 outputs a data signal at the timing of the scanning signal. With such a configuration, the red, green, and blue pixels 3R, 3G, and 3B emit light of each color with luminance according to the output data signal, and as a result, a desired image is displayed on the display region R. Is done.

図２は、ディスプレイ部ＤＳの図１中ａ−ａ線での断面図である。ディスプレイ部ＤＳは、光透過性を有するガラスや高分子フィルムで構成された基板Ｓを備えている。基板Ｓ上には、回路形成層Ｓｂが形成されている。回路形成層Ｓｂには、前記データ線駆動回路６（図１参照）からのデータ信号に応じた駆動電流を制御する薄膜トランジスタＴＦＴといった各種回路素子が形成されている。また、回路形成層Ｓｂには、前記走査線駆動回路４または検査回路５を構成する回路素子の一部または全部が形成されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the display unit DS taken along line aa in FIG. The display unit DS includes a substrate S made of light-transmitting glass or polymer film. On the substrate S, a circuit forming layer Sb is formed. In the circuit formation layer Sb, various circuit elements such as a thin film transistor TFT for controlling a drive current according to a data signal from the data line drive circuit 6 (see FIG. 1) are formed. In the circuit forming layer Sb, part or all of the circuit elements constituting the scanning line driving circuit 4 or the inspection circuit 5 are formed.

回路形成層Ｓｂ上の略中央には前記表示領域Ｒが形成されている。表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には、それぞれが略矩形状を成した複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素電極１０が配置されている。   The display region R is formed substantially at the center on the circuit formation layer Sb. On the circuit formation layer Sb in the display region R, a plurality (3m × 3n in this embodiment) of pixel electrodes 10 each having a substantially rectangular shape are arranged.

画素電極１０は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料で構成されている。各画素電極１０は、コンタクトホールＨを介して対応する薄膜トランジスタＴＦＴに電気的に接続されている。そして、画素電極１０には、薄膜トランジスタＴＦＴから供給される前記駆動電流の電流密度に応じたキャリアが供給される。   The pixel electrode 10 is made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium oxide / zinc oxide based amorphous. Each pixel electrode 10 is electrically connected to a corresponding thin film transistor TFT via a contact hole H. Then, carriers corresponding to the current density of the drive current supplied from the thin film transistor TFT are supplied to the pixel electrode 10.

また、前記表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素形成領域２を区画形成するための前記隔壁Ｂが形成されている。隔壁Ｂは、有機絶縁材料からなり、有機絶縁膜としては、その目的を達するものであればいかなる材料から構成されたものであってもかまわないが、製造工程の簡便性から感光性を有する材料が好ましい。たとえば、ポジ型のパターニングを与える有機絶縁材料としては、フェノール樹脂・ポリアクリル・ポリアミド樹脂・ポリアミック酸などのアルカリ可溶性の高分子誘導体にナフトキノンジアジドなどの感光性化合物を添加し、露光・アルカリ現像により
ポジパターンを得られるような材料が挙げられる。ネガ型のパターニングを与える有機絶縁膜としては化学線の照射により現像液への溶解速度が遅くなる感光性組成物、たとえば化学線照射により架橋する官能基を有する感光性組成物が挙げられる。化学線照射により架橋するたとえばエポキシ基を有する化合物を含有する感光性組成物、等の材料が挙げられる。そして、隔壁Ｂは、その全体若しくは表面上が撥液化されている。 In addition, on the circuit formation layer Sb in the display region R, the partition walls B for partitioning and forming a plurality (3m × 3n in this embodiment) of pixel formation regions 2 are formed. The partition wall B is made of an organic insulating material, and the organic insulating film may be composed of any material as long as it achieves its purpose. However, the material having photosensitivity from the simplicity of the manufacturing process. Is preferred. For example, as an organic insulating material that gives positive patterning, a photosensitive compound such as naphthoquinonediazide is added to an alkali-soluble polymer derivative such as phenol resin, polyacrylic resin, polyamide resin, or polyamic acid, and exposure and alkali development are used. Examples thereof include materials that can obtain a positive pattern. Examples of the organic insulating film that gives negative patterning include a photosensitive composition whose dissolution rate in a developer is slowed by irradiation with actinic radiation, for example, a photosensitive composition having a functional group that is cross-linked by irradiation with actinic radiation. Examples thereof include materials such as a photosensitive composition containing a compound having an epoxy group that is crosslinked by irradiation with actinic radiation. The whole or the surface of the partition wall B is liquid repellent.

前記区画形成された各画素形成領域２内の前記画素電極１０上には正孔輸送層１１、及び赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂからなる電気光学層１３が配置されている。正孔輸送層１１、及び赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、それぞれ前記回路形成層Ｓｂ側（基板Ｓ側）から図２中Ｚ矢印方向に沿って正孔輸送層１１、赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの順に積層されている。そして、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ1においては、この各層１１，１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ
がインクジェット法にて形成される層である。 A hole transport layer 11 and an electro-optic layer 13 composed of red, green, or blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B are disposed on the pixel electrode 10 in each of the pixel formation regions 2 that are partitioned. . The hole transport layer 11 and the red, green, or blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B are respectively formed from the circuit formation layer Sb side (substrate S side) along the Z arrow direction in FIG. The red, green or blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B are laminated in this order. And in the organic EL display 1 of this embodiment, each of these layers 11, 12R, 12G, 12B.
Is a layer formed by an inkjet method.

正孔輸送層１１は、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体といった有機材料で構成されている。正孔輸送層１１は、対応する画素電極１０から供給されるキャリアを該画素電極１０の上層に形成された赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂへ効率良く注入させるための層である。   The hole transport layer 11 is made of an organic material such as a polythiophene derivative, a polypyrrole derivative, or a doped body thereof. The hole transport layer 11 is a layer for efficiently injecting carriers supplied from the corresponding pixel electrode 10 into the red, green, or blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B formed in the upper layer of the pixel electrode 10. is there.

赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、それぞれ有機材料で構成されている。詳しくは、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の有機物発光材料で構成されている。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルイオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポリアルキルチオフェン（ＰＡＴ）や、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適である。   The red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B are each made of an organic material. Specifically, the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B are made of a known organic light emitting material that can emit fluorescence or phosphorescence. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), polythiophene derivative, polydialkyl Polysilanes such as fluorene (PDAF), polyfluorene benzothiadiazole (PFBT), polyalkylthiophene (PAT), and polymethylphenylsilane (PMPS) are suitable.

また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いてもよい。   In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. For example, a low molecular material such as the like may be doped.

そして、赤色用発光層１２Ｒは赤色の光を、緑色用発光層１２Ｇは緑色の光を、青色用発光層１２Ｂは青色の光をそれぞれ対応する正孔輸送層１１から注入されたキャリア密度に応じた輝度で出射する。出射された各色の光は、前記回路形成層Ｓｂ及び基板Ｓを介して外部へ出射される。   The red light emitting layer 12R emits red light, the green light emitting layer 12G emits green light, and the blue light emitting layer 12B emits blue light according to the carrier density injected from the corresponding hole transport layer 11. Output with high brightness. The emitted light of each color is emitted to the outside through the circuit forming layer Sb and the substrate S.

また、電気光学層１３を介して前記各画素電極１０と対向する位置には、各画素電極１０の対向電極としての陰極１４が形成されている。陰極１４は、隔壁Ｂ上を渡って非表示領域Ｑの回路形成層Ｓｂ上に至るまで形成されている。   In addition, a cathode 14 as a counter electrode of each pixel electrode 10 is formed at a position facing each pixel electrode 10 through the electro-optic layer 13. The cathode 14 is formed so as to cross over the partition wall B and reach the circuit forming layer Sb in the non-display area Q.

陰極１４は、１層からなる金属層であっても２層あるいは３層からなる金属層であってもよい。具体的には、陰極１４は、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）などの単体材料や、マグネシウム（Ｍｇ）−アルミニウム（Ａｌ）（Ｍｇ：Ａｌ＝１０：１）合金で構成されている。また、酸化リチウムＬｉ２Ｏ／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化マグネシウム（Ｍｇ）／アルミニウム（Ａｌ）といった積層膜が好適である。 The cathode 14 may be a metal layer composed of one layer, or a metal layer composed of two layers or three layers. Specifically, the cathode 14 is made of a single material such as aluminum (Al), magnesium (Mg), lithium (Li), calcium (Ca), or magnesium (Mg) -aluminum (Al) (Mg: Al = 10: 1) It is comprised with the alloy. In addition, a laminated film of lithium oxide Li 2 O / aluminum (Al), lithium fluoride (LiF) / aluminum (Al), magnesium fluoride (Mg) / aluminum (Al) is preferable.

このようにして、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成
された正孔輸送層１１及び赤色用発光層１２Ｒで赤色用画素３Ｒが構成されている。また、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された正孔輸送層１１及び緑色用発光層１２Ｇで緑色用画素３Ｇが構成されている。同様に、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された正孔輸送層１１及び青色用発光層１２Ｂで青色用画素３Ｂが構成されている。 Thus, the red pixel 3R is constituted by the pixel electrode 10, the cathode 14, the hole transport layer 11 and the red light emitting layer 12R formed between the pixel electrode 10 and the cathode 14. In addition, a green pixel 3G is constituted by the pixel electrode 10, the cathode 14, the hole transport layer 11 and the green light emitting layer 12G formed between the pixel electrode 10 and the cathode 14. Similarly, the blue pixel 3 </ b> B is configured by the pixel electrode 10, the cathode 14, the hole transport layer 11 and the blue light emitting layer 12 </ b> B formed between the pixel electrode 10 and the cathode 14.

また、前記回路形成層Ｓｂの外周縁部には陰極１４全面を覆うように、乾燥した空間Ｆを介して、エポキシ樹脂よりなる封止部材ＦＢが接着されている。
このように、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の前記各画素電極１０上には、親液性部材Ａが配置されている。具体的には、本実施形態においては、各画素電極１０と正孔輸送層１１との間に親液性を有する島状の親液性部材Ａが形成されている。 A sealing member FB made of an epoxy resin is bonded to the outer peripheral edge of the circuit forming layer Sb through a dry space F so as to cover the entire surface of the cathode 14.
As described above, the lyophilic member A is disposed on each pixel electrode 10 on the substrate S (circuit formation layer Sb) including the display region R on which the pixel electrode 10 is formed. Specifically, in this embodiment, an island-like lyophilic member A having lyophilicity is formed between each pixel electrode 10 and the hole transport layer 11.

次に、本発明の特徴である親液性部材Ａについてその詳細を図３に従って説明する。図３（ａ）は、図２において、ディスプレイ部ＤＳを封止部材ＦＢ側から反Ｚ矢印方向へ、その封止部材ＦＢ、陰極１４、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ、及び、正孔輸送層１１を透視した場合の平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中のｂ−ｂ線での要部断面図である。   Next, details of the lyophilic member A, which is a feature of the present invention, will be described with reference to FIG. FIG. 3A shows the display portion DS in the anti-Z arrow direction from the sealing member FB side in FIG. 2, the sealing member FB, the cathode 14, and the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B. FIG. 3B is a plan view when the hole transport layer 11 is seen through, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line bb in FIG.

図３（ａ），（ｂ）に示すように、親液性部材Ａは、各画素電極１０上、及び各画素電極１０間に形成される回路形成層Ｓｂ上に渡って一定の密度で点在している。つまり、本実施形態においては、基板Ｓ上全面に対して親液性部材Ａが形成されている。親液性部材Ａは、たとえば、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった親液性を有する材料で構成されている。 As shown in FIGS. 3A and 3B, the lyophilic member A is dotted at a constant density over each pixel electrode 10 and over the circuit formation layer Sb formed between the pixel electrodes 10. Exist. That is, in this embodiment, the lyophilic member A is formed on the entire surface of the substrate S. The lyophilic member A is made of a lyophilic material such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ).

親液性部材Ａは、インクジェット法によって前記正孔輸送層１１を形成する際の、正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴を、画素電極１０上に引き寄せる機能を有する。そして、図３（ｂ）に示すように、前記正孔輸送層１１は、画素電極１０上の全面に渡って形成されている。また、前記正孔輸送層１１は、その膜厚が画素電極１０上の全面に渡って均一になるように形成されている。   When the hole transport layer 11 is formed by the ink jet method, the lyophilic member A is a droplet-like ink droplet in which the hole transport layer material constituting the hole transport layer 11 is dissolved or dispersed. 10 has a function of pulling up. As shown in FIG. 3B, the hole transport layer 11 is formed over the entire surface of the pixel electrode 10. The hole transport layer 11 is formed so that the film thickness is uniform over the entire surface of the pixel electrode 10.

また、正孔輸送層１１の膜厚は、画素電極１０上全面に渡って均一であるので、その正孔輸送層１１の上面、即ち、正孔輸送層１１と該正孔輸送層１１上に積層される各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとの界面の平坦度が高い。そして、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのそれぞれの膜厚は各画素形成領域２内にて均一に形成されている。従って、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になる。   Further, since the film thickness of the hole transport layer 11 is uniform over the entire surface of the pixel electrode 10, the hole transport layer 11 is formed on the upper surface of the hole transport layer 11, that is, on the hole transport layer 11 and the hole transport layer 11. The flatness of the interface with the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color to be stacked is high. The film thicknesses of the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color are uniformly formed in each pixel formation region 2. Therefore, the luminance of the light of each color emitted from the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color is uniform without being biased in each pixel formation region 2.

また、親液性部材Ａを構成する酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）は、光透過性の有する絶縁性材料である。従って、本実施形態のように、各画素電極１０間にまたがるように各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上にも親液性部材Ａが形成された構造を成す有機ＥＬディスプレイ１においては、画素電極１０に供給されたキャリアが、回路形成層Ｓｂ上に形成された親液性部材Ａを介して隣接する画素電極１０に供給されることはない。 In addition, silicon oxide (SiO 2 ) and titanium oxide (TiO 2 ) constituting the lyophilic member A are light-transmitting insulating materials. Therefore, as in the present embodiment, in the organic EL display 1 having a structure in which the lyophilic member A is also formed on the circuit forming layer Sb located between the pixel electrodes 10 so as to extend between the pixel electrodes 10. The carrier supplied to the pixel electrode 10 is not supplied to the adjacent pixel electrode 10 via the lyophilic member A formed on the circuit formation layer Sb.

また、親液性部材Ａは、前記したように、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった光透過性を有する材料で構成されている。このことから、たとえ、その親液性部材Ａの密度が高くても、各発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光は親液性部材Ａによって減衰されない。この結果、各画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ親液性部材Ａを形成してもその開口率が低下することなく前記データ信号に応じた所望の輝
度で対応する色の光が出射される。 Further, as described above, the lyophilic member A is composed of a light-transmitting material such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ). From this, even if the density of the lyophilic member A is high, the light of each color emitted from each light emitting layer 12R, 12G, 12B is not attenuated by the lyophilic member A. As a result, each of the pixels 3R, 3G, and 3B emits light of a corresponding color with a desired luminance corresponding to the data signal without decreasing the aperture ratio even when the lyophilic member A is formed. .

さらに、図３（ａ）に示すように、本実施形態の親液性部材Ａは島状の形態を成しており、各親液性部材Ａの面積は、画素電極１０の表面積よりも小さい。従って、画素電極１０上には親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成される。そして、この領域Ｗには前記正孔輸送層１１が直接画素電極１０の表面上に接して形成される。従って、画素電極１０と正孔輸送層１１とは電気的に接続される。このため、画素電極１０に供給されたキャリアはその画素電極１０上に形成された正孔輸送層１１へ確実に注入される。   Further, as shown in FIG. 3A, the lyophilic member A of the present embodiment has an island shape, and the area of each lyophilic member A is smaller than the surface area of the pixel electrode 10. . Accordingly, a region W where the lyophilic member A is not formed is formed on the pixel electrode 10. In this region W, the hole transport layer 11 is formed directly on the surface of the pixel electrode 10. Therefore, the pixel electrode 10 and the hole transport layer 11 are electrically connected. For this reason, the carrier supplied to the pixel electrode 10 is reliably injected into the hole transport layer 11 formed on the pixel electrode 10.

次に、前記のような構成を成した有機ＥＬディスプレイ１の製造方法の一例を図４〜図7に従って説明する。図４〜図7は、それぞれ有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明するための、表示領域Ｒにおけるディスプレイ部ＤＳの断面図である。   Next, an example of a method for manufacturing the organic EL display 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 4 to 7 are cross-sectional views of the display unit DS in the display region R for explaining a method of manufacturing the organic EL display 1.

まず、図４（ａ）に示すように、光透過性を有するガラスや高分子フィルムで構成された基板Ｓ上に、公知の方法を用いて薄膜トランジスタＴＦＴ等といった各種回路素子を形成し、続いて、その各種回路素子上にさらに光透過性を有する酸化珪素（ＳｉＯ２）等からなる層間絶縁膜１５を成膜する。その後、先に形成した薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインに至るまで開口するコンタクトホールＨを形成して前記回路形成層Ｓｂを形成する。続いて、層間絶縁膜１５上の表示領域Ｒ（図２参照）であって、先に形成されたコンタクトホールＨと、その下側（反Ｚ矢印方向側）に薄膜トランジスタＴＦＴが形成されていない領域とを含む位置に略矩形状の画素電極１０を形成する。各画素電極１０は、前記したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料を、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いてパターニングして形成する。このとき、画素電極１０の一部がコンタクトホールＨ内を埋め込むようにして形成することで、画素電極１０が薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインに電気的に接続される。 First, as shown in FIG. 4A, various circuit elements such as thin film transistors TFT are formed on a substrate S made of light-transmitting glass or polymer film by using a known method. On the various circuit elements, an interlayer insulating film 15 made of silicon oxide (SiO 2 ) having optical transparency is further formed. Thereafter, a contact hole H that opens to the source or drain of the previously formed thin film transistor TFT is formed to form the circuit forming layer Sb. Subsequently, the display region R on the interlayer insulating film 15 (see FIG. 2), which is the region where the thin film transistor TFT is not formed on the contact hole H formed earlier and the lower side (on the side opposite to the Z arrow). A substantially rectangular pixel electrode 10 is formed at a position including Each pixel electrode 10 is formed by patterning the above-described transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium oxide / zinc oxide based amorphous using a chemical vapor deposition method (CVD method), for example. At this time, the pixel electrode 10 is electrically connected to the source or drain of the thin film transistor TFT by forming a part of the pixel electrode 10 so as to fill the contact hole H.

次に、図４（ｂ）に示すように、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の各画素電極１０上に親液性部材Ａを形成する。即ち、画素電極１０及び各画素電極１０間に露出した回路形成層Ｓｂ上の全面に渡って親液性部材Ａを形成する。言い換えると、本実施形態においては、基板Ｓ上全面に対して親液性部材Ａを形成する。親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されている場合においては、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて形成する。また、親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成されている場合においては、原料としてＴＥＯＳ（ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌｏｒｔｈｏｓｉｌｉｃａｔｅ）を用いて形成する。この結果、親液性部材Ａは画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一になるように形成される。また、親液性部材Ａの図４中Ｚ矢印方向への高さ（膜厚）ｈが、例えば５ｎｍ以下となるように形成することで親液性部材Ａは島状の形態を成し、画素電極１０及び各画素電極１０間に露出した回路形成層Ｓｂ上の全面に渡って点在するように形成される。 Next, as shown in FIG. 4B, the lyophilic member A is formed on each pixel electrode 10 on the substrate S (circuit formation layer Sb) including the display region R on which the pixel electrode 10 is formed. . That is, the lyophilic member A is formed over the entire surface of the pixel electrode 10 and the circuit forming layer Sb exposed between the pixel electrodes 10. In other words, in this embodiment, the lyophilic member A is formed on the entire surface of the substrate S. In the case where the lyophilic member A is composed of an inorganic material such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ), the lyophilic member A is formed using, for example, a chemical vapor deposition method (CVD method). Further, when the lyophilic member A is composed of silicon oxide (SiO 2 ), it is formed using TEOS (tetraethylorthosilicate) as a raw material. As a result, the lyophilic member A is formed so that its density is uniform over the entire surface of the pixel electrode 10. Further, by forming the lyophilic member A so that the height (film thickness) h in the direction of the arrow Z in FIG. 4 is, for example, 5 nm or less, the lyophilic member A has an island shape, The pixel electrodes 10 and the circuit forming layer Sb exposed between the pixel electrodes 10 are formed so as to be scattered over the entire surface.

次に、図５（ａ）に示すように、前記表示領域Ｒ上に画素形成領域２を区画形成するための前記隔壁Ｂを形成する。即ち、各画素電極１０間の回路形成層Ｓｂ上に形成された親液性部材Ａ上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、露光、現像により例えば２μｍの隔壁Ｂを形成する。このとき、隔壁Ｂを、その一部が画素電極１０の周囲に乗り上げるようにして形成する。このようにして、隔壁Ｂの横側壁Ｂｓ及び画素電極１０で構成される凹状の前記画素形成領域２が区画形成される。   Next, as shown in FIG. 5A, the partition wall B for partitioning the pixel formation region 2 is formed on the display region R. That is, a photosensitive polyimide resin is applied on the lyophilic member A formed on the circuit formation layer Sb between the pixel electrodes 10, and a partition wall B of 2 μm, for example, is formed by exposure and development. At this time, the partition wall B is formed so that a part thereof runs around the pixel electrode 10. In this way, the concave pixel formation region 2 constituted by the lateral side wall Bs of the partition wall B and the pixel electrode 10 is partitioned.

続いて、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行う。酸素プラズマ処理を行うことで画素電極１０上に形成された親液性部材Ａの親液性をさらに向上させる。また、各画素電極１０の上面の改質処理を行うことができる。その後
、前記基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上全面、即ち、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上を撥液化処理する。本実施形態の撥液化処理は、フッ素系ガス（たとえば、ＣＦ4）によるプラズマ処理によって行う。この際、たとえば、 ＣＦ4ガス流量１００ｍｌ
／ｍｉｎ、ヘリウムガス流量１０ｌ／ｍｉｎ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓの往復で行う
。 Subsequently, oxygen plasma treatment is performed on the pixel electrode 10 and the lyophilic member A in each pixel formation region 2. By performing the oxygen plasma treatment, the lyophilicity of the lyophilic member A formed on the pixel electrode 10 is further improved. In addition, the upper surface of each pixel electrode 10 can be modified. Thereafter, the entire surface of the substrate S (circuit forming layer Sb), that is, the surfaces of the partition walls B, the pixel electrodes 10 and the lyophilic member A is subjected to a liquid repellent treatment. The lyophobic treatment of this embodiment is performed by plasma treatment with a fluorine-based gas (for example, CF 4 ). At this time, for example, CF 4 gas flow rate 100 ml
/ Min, helium gas flow rate 10 l / min, and table transfer speed 3 mm / s.

この結果、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂ表面が撥液化される。このとき、画素形成領域２内の画素電極１０の表面及び親液性部材Ａの表面も撥液化されるが、親液性部材Ａは画素電極１０に比べて撥液化されにくく親液性が保持される。   As a result, the surface of the partition wall B including the lateral side wall Bs is made liquid repellent. At this time, the surface of the pixel electrode 10 and the surface of the lyophilic member A in the pixel formation region 2 are also lyophobic, but the lyophilic member A is less liable to be lyophobic than the pixel electrode 10 and maintains lyophilicity. Is done.

次に、図５（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって前記区画形成された各画素形成領域２の前記画素電極１０上に正孔輸送層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴Ｉ１を第１のインクジェットヘッドから吐出させて、その画素電極１０上に配置する。このとき、各画素形成領域２内では、その画素電極１０上に親液性部材Ａが形成されているので、吐出されたインク滴Ｉ１が親液性部材Ａに引き寄せられる。このとき、親液性部材Ａは、画素形成領域２内の画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一に形成されるので、画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がる。   Next, as shown in FIG. 5 (b), an ink droplet I1 in which a hole transport layer material is dissolved or dispersed in a solvent on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2 that is partitioned and formed by an ink jet method. The ink is ejected from the first inkjet head and disposed on the pixel electrode 10. At this time, since the lyophilic member A is formed on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2, the ejected ink droplet I1 is attracted to the lyophilic member A. At this time, since the density of the lyophilic member A is uniformly formed over the entire surface of the pixel electrode 10 in the pixel formation region 2, the ink droplet I1 disposed on the pixel electrode 10 Spreads evenly over the entire upper surface.

一方、各画素形成領域２内では、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているので前記インク滴Ｉ１は、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。   On the other hand, in each pixel formation region 2, the entire surface of the partition wall B including the lateral side wall Bs is subjected to liquid repellency treatment, so that the ink droplet I 1 flows into another adjacent pixel formation region 2 through the partition wall B. Instead, they are arranged in a predetermined pixel formation region 2.

その後、各画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１を乾燥させる。この乾燥は、真空及びまたは熱処理あるいは窒素ガスフローにより行われ、その結果、インク滴Ｉ１から溶媒が除去される。例えば、本実施形態においては、真空中（１ｔｏｒｒ（１３３．３Ｐａ））、室温、２０分という条件で溶媒を除去する。このとき、各画素電極１０上全面に均一にインク滴Ｉ１が濡れ広がっているので、乾燥処理後の各画素電極１０上には、図６（ａ）に示すように、前記正孔輸送層材料で構成された正孔輸送層１１が画素電極１０上全面に渡って形成される。また、形成される正孔輸送層１１の膜厚は均一なものとなるので、同正孔輸送層１１上の表面の平坦度は高い。   Thereafter, the ink droplet I1 disposed on each pixel electrode 10 is dried. This drying is performed by vacuum and / or heat treatment or nitrogen gas flow. As a result, the solvent is removed from the ink droplet I1. For example, in the present embodiment, the solvent is removed in vacuum (1 torr (133.3 Pa)) at room temperature for 20 minutes. At this time, since the ink droplets I1 are uniformly spread over the entire surface of each pixel electrode 10, the hole transport layer material is formed on each pixel electrode 10 after the drying process, as shown in FIG. Is formed over the entire surface of the pixel electrode 10. Moreover, since the film thickness of the formed hole transport layer 11 becomes uniform, the flatness of the surface on the hole transport layer 11 is high.

また、本実施形態においては、親液性部材Ａ間の画素電極１０上には正孔輸送層１１が直接接するようにして形成される。
次に、図６（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって赤色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴ＩＲを赤色用のインクジェットヘッドから対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。同様に、緑色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴を緑色用のインクジェットヘッドから対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。また、同様に、青色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴ＩＢを青色用のインクジェットヘッドから、対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。 In the present embodiment, the hole transport layer 11 is formed on the pixel electrode 10 between the lyophilic members A so as to be in direct contact therewith.
Next, as shown in FIG. 6B, the ink droplet IR in which the red light emitting layer material is dissolved or dispersed by the ink jet method is transferred from the red ink jet head to the corresponding hole in the predetermined pixel formation region 2. Discharge to the transport layer 11. Similarly, an ink droplet in which a green light emitting layer material is dissolved or dispersed in a solvent is discharged from the green ink jet head to the corresponding hole transport layer 11 in the pixel formation region 2. Similarly, an ink droplet IB in which a blue light emitting layer material is dissolved or dispersed in a solvent is discharged from the blue ink jet head to the hole transport layer 11 in the corresponding predetermined pixel formation region 2.

このとき、前記と同様に、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているのでインクジェットヘッドから吐出された前記各色のインク滴ＩＲ，ＩＢは、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。   At this time, as described above, the entire surface of the partition wall B including the lateral side wall Bs is subjected to the liquid repellent treatment, so that the ink droplets IR and IB discharged from the inkjet head are adjacent to each other through the partition wall B. It is arranged in a predetermined pixel formation region 2 without flowing into the pixel formation region 2.

その後、前記各色のインク滴ＩＲ，ＩＢを乾燥させる。この乾燥は、前記と同様に、真空及びまたは熱処理あるいは窒素ガスフローにより行われ、その結果、各色のインク滴ＩＲ，ＩＢから溶媒が除去される。この結果、各画素電極１０上に形成された正孔輸送層１
１上に赤、緑及び青色用発光層材料で構成される赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが定着される（図７（ａ）参照）。 Thereafter, the ink droplets IR and IB of the respective colors are dried. As described above, this drying is performed by vacuum and / or heat treatment or nitrogen gas flow. As a result, the solvent is removed from the ink droplets IR and IB of each color. As a result, the hole transport layer 1 formed on each pixel electrode 10
The red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B composed of the red, green, and blue light emitting layer materials are fixed on the substrate 1 (see FIG. 7A).

このとき、前記正孔輸送層１１上の表面の平坦度は高いので、該正孔輸送層１１上に形成される各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚は均一となる。
続いて、図7（ｂ）に示すように、隔壁Ｂ及び赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ
，１２Ｂ上全面に渡って陰極１４として、２ｎｍのＬｉＦ層、２０ｎｍのＣａ層及び２００ｎｍのＡｌ層を、例えば真空加熱蒸着で積層形成する。陰極１４は、非表示領域Ｑ（図２参照）の回路形成層Ｓｂ上にも形成される。
＊図２などで、陰極１４はバンクあるいは発光層などの形状に沿った形状にして下さい。（場合により、今後の出願に影響する虞があるため。）
その後、乾燥した空間Ｆを介して、最後にエポキシ樹脂で構成された封止部材ＦＢにより封止を行う。これにより、ディスプレイ部ＤＳが製造される。最後に、そのディスプレイ部Ｄと、別途作製されたデータ線駆動回路６及び制御回路７を備えたフレキシブル回路基板ＦＣとを接続して、有機ＥＬディスプレイ１を製造する。 At this time, since the flatness of the surface on the hole transport layer 11 is high, the film thicknesses of the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for red, green, and blue formed on the hole transport layer 11 are uniform. Become.
Subsequently, as shown in FIG. 7B, the partition wall B and the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G.
, 12B, a 2 nm LiF layer, a 20 nm Ca layer, and a 200 nm Al layer are stacked as the cathode 14 by, for example, vacuum heating deposition. The cathode 14 is also formed on the circuit formation layer Sb in the non-display area Q (see FIG. 2).
* In Fig. 2, etc., the cathode 14 should be shaped according to the shape of the bank or light emitting layer. (Some cases may affect future applications.)
Thereafter, sealing is performed with a sealing member FB made of epoxy resin through the dried space F. Thereby, the display part DS is manufactured. Finally, the display unit D is connected to the flexible circuit board FC including the data line driving circuit 6 and the control circuit 7 which are separately manufactured, and the organic EL display 1 is manufactured.

こうして、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１を製造することができた。   Thus, the organic EL display 1 in which the hole transport layer 11 formed in each pixel formation region 2 and each of the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B did not vary in thickness could be manufactured. .

尚、特許請求の範囲に記載の電気光学装置は、本実施形態においては、有機ＥＬディスプレイ１に対応している。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の各画素電極１０上に親液性部材Ａを形成した。従って、画素電極１０上表面の親液性を向上させることができる。この結果、正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴Ｉ１が、画素電極１０上全面に渡って均一に濡れ広がるので、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１は、その上面の平坦度が高くなる。従って、正孔輸送層１１上に形成される赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、その膜厚のバラツキが無く、均一となる。この結果、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になるので、表示品位を向上させることができる。
（２）本実施形態によれば、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行った。この結果、画素電極１０表面及び親液性部材Ａ表面を洗浄・活性化するとともに親液化することができる。この結果、各画素形成領域２の画素電極１０上に正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料を密着させることができる。
（３）本実施形態によれば、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上をプラズマ処理及び撥液化処理した。従って、正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴Ｉ１または各色用のインク滴ＩＲ，ＩＢは、それぞれ隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ吐出されたインク滴との混じり合いを回避するようにしている。
（４）本実施形態によれば、親液性部材Ａは、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されているので酸素プラズマ処理を施すことによって容易にその親液性を向上させることができる。従って、画素電極１０が、たとえばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で構成されていたとしても、その上に形成される正孔輸送層１１や各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのそれぞれの膜厚のバラツキを無くすことができる。（５）本実施形態によれば、親液性部材Ａは、その高さが５ｎｍ以下となるように形成したので、親液性部材Ａは島状の形態となる。この結果、画素電極１０上には親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成されるので、この領域Ｗを介して正孔輸送層１１が直接画素電極１０の表面上に接して形成される。従って、画素電極１０に供給されたキャリアはその画素電極１０上に形成された正孔輸送層１１へ確実に注入される。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図８〜図１０に従って説明する。この第２実施形態の有機ＥＬディスプレイは、親液性部材Ａの形成位置及びその製造方法が上記第１実施形態に記載の有機ＥＬディスプレイと異なっている。また、同じ構成部材については符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。 The electro-optical device described in the claims corresponds to the organic EL display 1 in the present embodiment.
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the lyophilic member A is formed on each pixel electrode 10 on the substrate S (circuit formation layer Sb) provided with the display region R on which the pixel electrode 10 is formed. Therefore, the lyophilicity of the upper surface of the pixel electrode 10 can be improved. As a result, the droplet-shaped ink droplet I1 in which the hole transport layer material is dissolved or dispersed spreads uniformly over the entire surface of the pixel electrode 10, and thus the hole transport layer formed in each pixel formation region 2 No. 11, the flatness of the upper surface becomes high. Therefore, the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B formed on the hole transport layer 11 are uniform with no variation in film thickness. As a result, the luminance of the light of each color emitted from the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color becomes uniform without being biased in each pixel formation region 2, so that the display quality can be improved.
(2) According to this embodiment, the oxygen plasma treatment was performed on the pixel electrode 10 and the lyophilic member A in each pixel formation region 2. As a result, the surface of the pixel electrode 10 and the surface of the lyophilic member A can be cleaned and activated and lyophilic. As a result, the hole transport layer material constituting the hole transport layer 11 can be adhered to the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2.
(3) According to this embodiment, plasma treatment and lyophobic treatment were performed on the surfaces of the partition walls B, the pixel electrodes 10 and the lyophilic member A. Therefore, the droplet-shaped ink droplet I1 in which the hole transport layer material is dissolved or dispersed or the ink droplets IR and IB for each color are respectively ejected to the other adjacent pixel formation region 2 via the partition wall B. I try to avoid mixing with.
(4) According to the present embodiment, since the lyophilic member A is composed of an inorganic material such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ), its parent can be easily obtained by performing oxygen plasma treatment. Liquidity can be improved. Accordingly, even if the pixel electrode 10 is made of, for example, indium tin oxide (ITO), the film thicknesses of the hole transport layer 11 and the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color formed on the pixel electrode 10 are made. Variations can be eliminated. (5) According to this embodiment, since the lyophilic member A is formed so that the height thereof is 5 nm or less, the lyophilic member A has an island shape. As a result, a region W where the lyophilic member A is not formed is formed on the pixel electrode 10, so that the hole transport layer 11 is formed in direct contact with the surface of the pixel electrode 10 through this region W. . Therefore, the carriers supplied to the pixel electrode 10 are reliably injected into the hole transport layer 11 formed on the pixel electrode 10.
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The organic EL display of the second embodiment is different from the organic EL display described in the first embodiment in the formation position of the lyophilic member A and the manufacturing method thereof. Further, the same constituent members are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図８（ａ）は、本実施形態のディスプレイ部ＤＳをその各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ、及び、陰極１４を透視した場合の平面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）中のｃ−ｃ線での断面図である。   FIG. 8A is a plan view of the display unit DS of this embodiment when the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B and the cathode 14 are seen through, and FIG. These are sectional drawings in the cc line in Drawing 8 (a).

図３（ａ），（ｂ）に示すように、本実施形態の親液性部材Ａは、各画素形成領域２内の画素電極１０上にのみ形成され、画素形成領域２外の他の領域（たとえば、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域）には、親液性部材Ａは形成されていない。   As shown in FIGS. 3A and 3B, the lyophilic member A of this embodiment is formed only on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2, and other regions outside the pixel formation region 2. The lyophilic member A is not formed in (for example, the region on the circuit formation layer Sb located between the pixel electrodes 10).

従って、インクジェット法によって前記正孔輸送層１１を形成する際の、正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴を、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がらせることができる。この結果、上記第１実施形態と同様に、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１ａを実現することができる。   Accordingly, when forming the hole transport layer 11 by the ink jet method, droplet-like ink droplets in which the hole transport layer material constituting the hole transport layer 11 is dissolved or dispersed are uniformly formed on the entire surface of the pixel electrode 10. Can be spread and wet. As a result, as in the first embodiment, the hole transport layer 11 formed in each pixel formation region 2 and the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B have no variation in film thickness. The EL display 1a can be realized.

また、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域には、親液性部材Ａは形成されていないので、画素電極１０に供給されたキャリアが、隣接する画素電極１０に供給されることはない。従って、親液性部材Ａを構成する材料は絶縁性材料である必要はなく、導電性材料で構成されていてもよいので、その分、親液性部材Ａを構成する材料選択の範囲が広がる。   In addition, since the lyophilic member A is not formed in the region on the circuit formation layer Sb located between the pixel electrodes 10, the carrier supplied to the pixel electrode 10 is supplied to the adjacent pixel electrode 10. Never happen. Therefore, the material constituting the lyophilic member A does not have to be an insulating material, and may be made of a conductive material, and accordingly, the range of selection of the material constituting the lyophilic member A is expanded. .

次に、前記のような構成を成した第２実施形態の有機ＥＬディスプレイ１ａの製造方法の一例を図９及び図１０に従って説明する。図９及び図１０は、それぞれ有機ＥＬディスプレイ１ａの製造方法を説明するための、第２実施形態のディスプレイ部ＤＳの要部断面図である。   Next, an example of a method for manufacturing the organic EL display 1a according to the second embodiment having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 9 and 10 are cross-sectional views of the main part of the display unit DS of the second embodiment for explaining the method of manufacturing the organic EL display 1a.

まず、図９（ａ）に示すように、上記第１実施形態と同様にして、層間絶縁膜１５上の表示領域Ｒ（図２参照）であって、先に形成されたコンタクトホールＨと、その下側（反Ｚ矢印方向側）に薄膜トランジスタＴＦＴが形成されていない領域とを含む位置に略矩形状の画素電極１０を形成する。   First, as shown in FIG. 9A, in the same manner as in the first embodiment, in the display region R (see FIG. 2) on the interlayer insulating film 15, the contact hole H previously formed, A substantially rectangular pixel electrode 10 is formed at a position including a region where the thin film transistor TFT is not formed below (on the side opposite to the Z arrow).

次に、図９（ｂ）に示すように、前記画素電極１０が形成された領域を除く前記表示領域Ｒ上に画素形成領域２を区画形成するための、有機絶縁材料で構成された前記隔壁Ｂを形成する。即ち、各画素電極１０間の回路形成層Ｓｂ上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、露光、現像により例えば２μｍの隔壁Ｂを形成する。このとき、隔壁Ｂを、その一部が画素電極１０の周囲に乗り上げるようにして形成する。このようにして、隔壁Ｂの横側壁Ｂｓ及び画素電極１０で構成される凹状の前記画素形成領域２が区画形成される。   Next, as shown in FIG. 9B, the partition wall made of an organic insulating material for partitioning and forming the pixel formation region 2 on the display region R excluding the region where the pixel electrode 10 is formed. B is formed. That is, a photosensitive polyimide resin is applied on the circuit formation layer Sb between the pixel electrodes 10, and a partition wall B of 2 μm, for example, is formed by exposure and development. At this time, the partition wall B is formed so that a part thereof runs around the pixel electrode 10. In this way, the concave pixel formation region 2 constituted by the lateral side wall Bs of the partition wall B and the pixel electrode 10 is partitioned.

続いて、図１０（ａ）に示すように、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの表面上にマスクＭを形成して、各画素形成領域２内の画素電極１０のみを露出させる。そして、この状態で露出された画素電極１０上に親液性部材Ａを形成する。親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されている場合においては、上記第１実施形態と同様に、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて形成する。このとき、親液性部材Ａは画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一になるように形成される。また、親液性部材Ａの図１０中Ｚ矢印方向への高さ（膜厚）が、例えば５ｎｍ以下となるよう
に形成することで画素電極１０上全面に島状の親液性部材Ａが点在するようにして形成される。また、この親液性部材Ａは、隔壁Ｂに接触しない。 Subsequently, as shown in FIG. 10A, a mask M is formed on the surface of the partition wall B including the lateral side wall Bs, and only the pixel electrodes 10 in each pixel formation region 2 are exposed. Then, the lyophilic member A is formed on the pixel electrode 10 exposed in this state. In the case where the lyophilic member A is composed of an inorganic material such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ), for example, the chemical vapor deposition method (CVD method) as in the first embodiment. It forms using. At this time, the lyophilic member A is formed so as to have a uniform density over the entire surface of the pixel electrode 10. Further, the island-like lyophilic member A is formed on the entire surface of the pixel electrode 10 by forming the lyophilic member A so that the height (film thickness) in the direction of the arrow Z in FIG. It is formed so as to be scattered. Further, the lyophilic member A does not contact the partition wall B.

その後、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行い、続いて、前記基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上全面、即ち、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上をプラズマ処理及び撥液化処理する。   Thereafter, the oxygen plasma treatment is performed on the pixel electrode 10 and the lyophilic member A in each pixel formation region 2, and subsequently, the entire surface of the substrate S (circuit formation layer Sb), that is, the partition wall B, the pixel electrode 10, and the parent electrode. Plasma treatment and liquid repellency treatment are performed on each surface of the liquid member A.

次に、図１０（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって前記区画形成された各画素形成領域２の前記画素電極１０上に正孔輸送層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴Ｉ１を第１のインクジェットヘッドから吐出させて、その画素電極１０上に配置する。このとき、各画素形成領域２内では、その画素電極１０上に親液性部材Ａが形成されているので、吐出されたインク滴Ｉ１が親液性部材Ａに引き寄せられる。このとき、親液性部材Ａは、画素形成領域２内の画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一に形成されるので、画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がる。   Next, as shown in FIG. 10B, an ink droplet I1 in which a hole transport layer material is dissolved or dispersed in a solvent on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2 that is partitioned and formed by an inkjet method. The ink is ejected from the first inkjet head and disposed on the pixel electrode 10. At this time, since the lyophilic member A is formed on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2, the ejected ink droplet I1 is attracted to the lyophilic member A. At this time, since the density of the lyophilic member A is uniformly formed over the entire surface of the pixel electrode 10 in the pixel formation region 2, the ink droplet I1 disposed on the pixel electrode 10 Spreads evenly over the entire upper surface.

一方、各画素形成領域２内では、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているので前記インク滴Ｉ１は、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。その後、乾燥させ溶媒を除去することで、画素電極１０上に正孔輸送層１１を形成する。画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がっているので、正孔輸送層１１の膜厚は均一になる。   On the other hand, in each pixel formation region 2, the entire surface of the partition wall B including the lateral side wall Bs is subjected to liquid repellency treatment, so that the ink droplet I 1 flows into another adjacent pixel formation region 2 through the partition wall B. Instead, they are arranged in a predetermined pixel formation region 2. Thereafter, the hole transport layer 11 is formed on the pixel electrode 10 by drying and removing the solvent. Since the ink droplet I1 disposed on the pixel electrode 10 spreads uniformly on the entire surface of the pixel electrode 10, the film thickness of the hole transport layer 11 becomes uniform.

その後は、上記第１実施形態と同様にして、正孔輸送層１１上にインクジェット法によって各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを形成し、続いて、陰極１４及び封止部材ＦＢを形成する。   Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the light emitting layers 12R, 12G, and 12B for each color are formed on the hole transport layer 11 by the ink jet method, and then the cathode 14 and the sealing member FB are formed.

こうして、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１ａを製造することができた。   In this way, it was possible to manufacture an organic EL display 1a in which the hole transport layer 11 formed in each pixel formation region 2 and the red, green, and blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B did not vary in film thickness. .

尚、特許請求の範囲に記載の電気光学装置は、本実施形態においては、有機ＥＬディスプレイ１ａに対応している。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、隔壁Ｂを形成した後に、同隔壁Ｂ上にマスクＭを形成して、画素電極１０上にのみ親液性部材Ａを形成した。従って、隔壁Ｂが親液性部材Ａに接触しないため、隔壁Ｂを構成する有機絶縁材料の残さによる各種インク滴Ｉ１，ＩＲ，ＩＢの濡れ不良を防止できる。
（２）本実施形態によれば、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域には、親液性部材Ａは形成されていないので、画素電極１０に供給されたキャリアが、隣接する画素電極１０に供給されることはない。従って、親液性部材Ａを構成する材料は絶縁性材料である必要はなく、導電性材料で構成されていてもよいので、その分、親液性部材Ａを構成する材料選択の範囲が広がる。
（第３実施形態）
次に、各第１及び第２実施形態で説明した有機ＥＬディスプレイ１，１ａの電子機器の適用について図１１に従って説明する。 Note that the electro-optical device described in the claims corresponds to the organic EL display 1a in the present embodiment.
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to this embodiment, after the partition wall B is formed, the mask M is formed on the partition wall B, and the lyophilic member A is formed only on the pixel electrode 10. Therefore, since the partition wall B does not contact the lyophilic member A, it is possible to prevent poor wetting of the various ink droplets I1, IR, IB due to the residue of the organic insulating material constituting the partition wall B.
(2) According to the present embodiment, since the lyophilic member A is not formed in the region on the circuit formation layer Sb located between the pixel electrodes 10, the carrier supplied to the pixel electrode 10 is It is not supplied to the adjacent pixel electrode 10. Therefore, the material constituting the lyophilic member A does not have to be an insulating material, and may be made of a conductive material, and accordingly, the range of selection of the material constituting the lyophilic member A is expanded. .
(Third embodiment)
Next, application of the electronic devices of the organic EL displays 1 and 1a described in the first and second embodiments will be described with reference to FIG.

図１１は、電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。図１１において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１，１ａを用いた表示ユニット６４と、複数の操作ボタン６１とを備えている。この場合でも、有機Ｅ
Ｌディスプレイ１，１ａを用いた表示ユニット６４は、出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になることでその表示品位が向上する。 FIG. 11 is a perspective configuration diagram of a mobile phone showing an example applied to a display unit of a mobile phone as an example of an electronic device. In FIG. 11, the mobile phone 60 includes a display unit 64 using the organic EL displays 1 and 1a and a plurality of operation buttons 61. Even in this case, organic E
In the display unit 64 using the L displays 1 and 1a, the luminance of the emitted light of each color becomes uniform without being biased in each pixel formation region 2, so that the display quality is improved.

尚、発明の実施形態は、上記各実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記第１及び第２実施形態では、親液性部材Ａは、島状の形態を成していたが、そうではなく、親液性を有するものであれば、他の形態を成していてもよい。たとえば、図１２に示すように、格子状を成す形態であってもよい。この場合、各画素形成領域２内（赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）内の画素電極１０上には、親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成されるので、親液性部材Ａ上に形成される正孔輸送層１１が画素電極１０に直接接するので、画素電極１０に供給されたキャリアが正孔輸送層１１に確実に供給される。 In addition, embodiment of invention is not limited to said each embodiment, You may implement as follows.
In the first and second embodiments described above, the lyophilic member A has an island shape, but if it has lyophilicity, it has another form. May be. For example, as shown in FIG. 12, it may have a lattice shape. In this case, a region W in which the lyophilic member A is not formed is formed on the pixel electrode 10 in each pixel formation region 2 (red, green, and blue pixels 3R, 3G, 3B). Since the hole transport layer 11 formed on the conductive member A is in direct contact with the pixel electrode 10, the carrier supplied to the pixel electrode 10 is reliably supplied to the hole transport layer 11.

○上記第１及び第２実施形態では、親液性部材Ａは、島状の形態を成していたが、そうではなく、その膜厚が薄い親液性を有する膜状の形態を成していてもよい。この場合、図１３に示すように、画素電極１０上全面に親液性部材Ａが形成されるが、その膜厚が、例えば、膜厚５ｎｍ以下であれば、画素電極１０と正孔輸送層１１とは実質的に電気的に接続されるので、画素電極１０に供給されたキャリアが正孔輸送層１１に注入可能となる。   In the first and second embodiments, the lyophilic member A has an island-like form, but is not so, and has a thin lyophilic film-like form. It may be. In this case, as shown in FIG. 13, the lyophilic member A is formed on the entire surface of the pixel electrode 10. If the film thickness is, for example, 5 nm or less, the pixel electrode 10 and the hole transport layer are formed. 11 is substantially electrically connected, so that the carrier supplied to the pixel electrode 10 can be injected into the hole transport layer 11.

○上記第１及び第２実施形態では、電気光学層１３は、正孔輸送層１１と赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂで構成されていたが、これに限定されるものではなく、例えば、正孔輸送層１１、及び、赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂに加えて、正孔注入層、電子輸送層または電子注入層で構成されていてもよい。   In the first and second embodiments, the electro-optic layer 13 is composed of the hole transport layer 11 and the red, green, or blue light emitting layers 12R, 12G, and 12B. However, the present invention is not limited to this. For example, in addition to the hole transport layer 11 and the red, green, or blue light-emitting layers 12R, 12G, and 12B, the hole transport layer 11 may be composed of a hole injection layer, an electron transport layer, or an electron injection layer.

○上記各実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１，１ａに適応したが、これ限定されるものではなく、インクジェット方式を用いて製造されるディスプレイであればどのようなものに適応してもよい。   In each of the above embodiments, the electro-optical device is applied to the organic EL display 1 or 1a. However, the electro-optical device is not limited to this, and any display that is manufactured using an ink jet method may be used. Also good.

本発明のインクジェット法によって製造された有機ＥＬディスプレイの上面図である。It is a top view of the organic electroluminescent display manufactured by the inkjet method of this invention. ディスプレイ部の断面図である。It is sectional drawing of a display part. （ａ）は、第１実施形態のディスプレイ部の平面図であり、（ｂ）は、その要部断面図である。(A) is a top view of the display part of 1st Embodiment, (b) is the principal part sectional drawing. （ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。(A) And (b) is a figure for demonstrating an example of the manufacturing method of the organic electroluminescent display of 1st Embodiment, respectively. 同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。Similarly, (a) and (b) are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing an organic EL display. 同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。Similarly, (a) and (b) are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing an organic EL display. 同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。Similarly, (a) and (b) are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing an organic EL display. （ａ）は、第２実施形態のディスプレイ部の平面図であり、（ｂ）は、その要部断面図である。(A) is a top view of the display part of 2nd Embodiment, (b) is the principal part sectional drawing. （ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第２実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。(A) And (b) is a figure for demonstrating an example of the manufacturing method of the organic electroluminescent display of 2nd Embodiment, respectively. （ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第２実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。(A) And (b) is a figure for demonstrating an example of the manufacturing method of the organic electroluminescent display of 2nd Embodiment, respectively. 電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。It is a perspective view of a cellular phone showing an example applied to a display unit of a cellular phone as an example of an electronic device. 別例の有機ＥＬディスプレイのディスプレイ部の平面図である。It is a top view of the display part of the organic EL display of another example. 同じく、別例の有機ＥＬディスプレイのディスプレイ部の平面図である。Similarly, it is a top view of the display part of the organic EL display of another example.

符号の説明Explanation of symbols

Ａ…親液性部材、Ｂ…隔壁、Ｒ…表示領域、Ｓ…基板、１，１ａ…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１０…画素電極、１３…電気光学層、６０…電子機器としての携帯電話。   A ... lyophilic member, B ... partition, R ... display area, S ... substrate, 1, 1a ... organic EL display as electro-optical device, 10 ... pixel electrode, 13 ... electro-optical layer, 60 ... as electronic equipment mobile phone.

Claims (10)

電気光学装置の製造方法において、
複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程と、
前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程と、
前記区画形成された各画素形成領域の前記画素電極上に電気光学層を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 In the method of manufacturing the electro-optical device,
Forming a lyophilic member on each of the pixel electrodes on a substrate having a display area in which a plurality of pixel electrodes are formed;
Forming a partition for partitioning a plurality of pixel formation regions on the display region;
And a step of forming an electro-optic layer on the pixel electrode in each pixel-formed region formed in the partition. 請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程は、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程の後に行うようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The step of forming a partition for partitioning a plurality of pixel formation regions on the display region excluding the region where the pixel electrodes are formed is performed on a substrate including the display region where the plurality of pixel electrodes are formed. A method of manufacturing an electro-optical device, which is performed after the step of forming a lyophilic member on each pixel electrode. 請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程は、前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程の後に行うようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The step of forming a lyophilic member on each pixel electrode on a substrate having a display area on which the plurality of pixel electrodes are formed includes a plurality of areas on the display area excluding the area on which the pixel electrodes are formed. A method for manufacturing an electro-optical device, which is performed after a step of forming a partition for partitioning a pixel formation region. 請求項１乃至３のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記基板上全面にプラズマ処理及び撥液化処理を行う工程を含んだことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method of manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 1 to 3,
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: performing plasma treatment and liquid repellency treatment on the entire surface of the substrate. 請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記各画素電極上全面に形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
An electro-optical device manufacturing method, wherein the lyophilic member is formed on the entire surface of each pixel electrode. 請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記画素電極上に点在して形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the lyophilic member is formed on the pixel electrode. 請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記画素電極上に格子状に形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the lyophilic member is formed in a lattice shape on the pixel electrode. 請求項１乃至７のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材は、酸化珪素であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method for manufacturing an electro-optical device, wherein the lyophilic member is silicon oxide. 請求項８に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記酸化珪素は膜状であってその膜厚は、５ｎｍ以下であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 8.
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the silicon oxide is in a film form and has a film thickness of 5 nm or less. 請求項１乃至９のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optical device manufactured using the method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1.
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