JP2005265557A - X線検出器 - Google Patents
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Abstract
【課題】X線利用効率を向上できるX線検出器を提供する。
【解決手段】一般医療用途のX線条件においてX線利用効率を向上させるためには、シンチレータ層のX線発光蛍光体の元素中の最も重量のある元素のK吸収端を50keV以下にする。原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)までの少なくとも一種と、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一種とを含むX線発光蛍光体をシンチレータ層に用いる。一般医療用途においてシンチレータ層でのX線吸収率が向上し、X線透過率が減少する。
【選択図】図1
【解決手段】一般医療用途のX線条件においてX線利用効率を向上させるためには、シンチレータ層のX線発光蛍光体の元素中の最も重量のある元素のK吸収端を50keV以下にする。原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)までの少なくとも一種と、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一種とを含むX線発光蛍光体をシンチレータ層に用いる。一般医療用途においてシンチレータ層でのX線吸収率が向上し、X線透過率が減少する。
【選択図】図1
Description
本発明は、光電変換素子にシンチレータ層が設けられたX線検出器に関する。
従来、この種のX線検出器としては、X線をシンチレータ層にて光に変換し、この光を光電変換素子にて電気信号に変換している。なお、このシンチレータ層は、フォトダイオード上に接触させて形成されている。より詳細には、シンチレータ層にてX線を受けて一旦可視光に変換してから、この可視光をアモルファスシリコン(a−Si)フォトダイオードあるいは結晶シリコン(Si)フォトダイオードなどの半導体素子や、CMOSセンサやCCDなどの結晶性半導体素子にて形成された光電変換素子で信号電荷に変換する。この後、この信号電荷を、この光電変換素子に電気的に接続されたスイッチ素子を介して電荷蓄積用キャパシタに導く。
ここで、このシンチレータ層の材料としては、一般的にヨウ化セシウム(CsI)蒸着膜、あるいは硫酸化ガドリニウム(Gd2O2S:GOS)などの蛍光体粒子をバインダ樹脂で結着させた増感紙が用いられる(例えば、特許文献1参照。)が、この増感紙は安価に製造できる。そして、この増感紙の使用用途としては、胸部あるいは一般撮影用や、マンモグラフィに代表される医療診断から食品検査や検査用の工業用途まで幅広い。
さらに、X線検出器に入射されるX線の照射条件、すなわちX線エネルギに対する強度分布は、使用用途によって大きく異なる。例えば、胸部あるいは一般撮影などの一般医療用途では、図7に示すように、X線検出器に入射されるX線強度分布が、X線エネルギ50keVをピークとし、30keV以上70keV以下の範囲のX線エネルギを有するX線が使用され、観測部位によってはX線エネルギのピークを40keV以上60keV以下の範囲まで変化する。また、マンモグラフィ用途として使用されるX線の強度分布は、X線エネルギ約20keVにピークを有し、工業用途、すなわち工業検査に使用されるX線強度分布としては、X線エネルギ100keV以上にピークを有する。
一方、シンチレータ層に用いられる材料を選定する際の指標の一つとしては、X線吸収率がある。すなわち、このX線吸収率が高い材料ほどX線利用効率が向上し、患者の被爆線量を低減できる。また、シンチレータ層を透過したX線は、このシンチレータ層の下部に設けられた薄膜トランジスタ(TFT)などのスイッチング素子や光電変換素子の特性を劣化させてしまう。したがって、それぞれの用途によって使用されるX線条件で、このX線条件でのX線吸収率が高い材料を使用することが望ましい。なお、医療診断に使用されるX線条件としては、一般医療用途のX線条件がほとんどである。
特公平1−44747号公報(第2−6頁、第1図および第2図)
上述したように、上記X線検出器のシンチレータ層の材料としては、ヨウ化セシウムや硫酸化ガドリニウムにバインダ樹脂を混ぜた膜が使用されている。ここで、硫酸化ガドリニウムにバインダ樹脂を混ぜた膜をシンチレータ層の材料とした場合には、真空装置を使用せずに済むため、ヨウ化セシウムにバインダ樹脂を混ぜた膜をシンチレータ層の材料とした場合に比べ、安価に製造できる。
ところが、硫酸化ガドリニウムのK吸収端は50.2keVであるので、X線エネルギ40keV以上50keV以下の範囲でのX線吸収量が非常に低い。すなわち、硫酸化ガドリニウムの50keVでの半価層が290μmであるのに対し、ヨウ化セシウムの50keVでの半価層が120μmであるため、非常にX線吸収率が低い。したがって、一般医療用用途として使用されるX線条件においては、X線透過率が高いため、X線利用効率が低いという問題を有している。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、X線利用効率が向上するX線検出器を提供することを目的とする。
本発明は、光電変換素子と、この光電変換素子に設けられ入射するX線を可視光に変換するシンチレータ層とを具備し、入射するX線強度分布がX線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で用いるX線検出器であって、前記シンチレータ層は、原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)までの少なくとも一つと、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つとを含む蛍光体を備えたものである。
そして、光電変換素子に設けられ入射するX線を可視光に変換するシンチレータ層の蛍光体が、原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユーロピウム(Eu)までの少なくとも一つと、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つとを含む。この結果、入射するX線強度分布がX線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で用いる際に、シンチレータ層のX線透過率が低下するので、X線利用効率を向上できる。
本発明によれば、シンチレータ層の蛍光体が、原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユーロピウム(Eu)までの少なくとも一つと、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つとを含むので、光電変換素子に入射するX線強度分布がX線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で用いる際に、シンチレータ層のX線透過率を低下できるから、X線利用効率を向上できる。
以下、本発明のX線検出器の一実施の形態の構成を図1ないし図7を参照して説明する。
図2および図3において、1はX線検出器で、このX線検出器1は、放射線であるX線画像を検出するX線平面センサであり、一般医療用途として用いられる。また、このX線検出器1は、このX線検出器1に入射されるX線強度分布が、X線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で撮影および透視が可能である。
そして、このX線検出器1は、図2に示すように、光電変換基板2を備えている。この光電変換基板2は、透光性を有する絶縁基板であるガラス基板3を有している。このガラス基板3の一主面である表面上には、光センサとして機能する略矩形状の複数の光電変換部4がマトリクス状に形成されている。そして、ガラス基板3の表面には、各光電変換部4によって、それぞれが同じ構造の複数の画素5が設けられている。これら各画素5は、図2における横方向である行方向、および図2における縦方向である列方向のそれぞれにおいて所定のピッチPで二次元的に配列されて形成されている。
そして、これら各画素5は、入射した光を信号電荷に変換する略L字平板状の光電変換素子としてのフォトダイオード6を備えている。これら各フォトダイオード6は、画素単位、すなわちガラス基板3の表面における各画素5の中央部にそれぞれ設けられている。さらに、これらフォトダイオード6のそれぞれには、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT)7が電気的に接続されている。これら各薄膜トランジスタ7は、結晶性を有する半導体材料である非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)にて少なくとも一部が構成されている。さらに、これら各薄膜トランジスタ7は、フォトダイオード6への光の入射にて発生した電荷を蓄積および放出させる。また、これら各薄膜トランジスタ7は、各画素5のそれぞれに設けられている。
また、これら各画素5には、フォトダイオード6にて変換した信号電荷を蓄積する電荷蓄積部としての矩形平板上の蓄積キャパシタ8が設けられている。これら蓄積キャパシタ8は、フォトダイオード6の下に対向して設けられている。ここで、薄膜トランジスタ7は、ゲート電極11、ソース電極12およびドレイン電極13のそれぞれを有している。このドレイン電極13は、フォトダイオード6および蓄積キャパシタ8のそれぞれに電気的に接続されている。
さらに、ガラス基板3の表面における行方向に沿った一側縁には、各薄膜トランジスタ7の動作状態、例えば各薄膜トランジスタ7のオンおよびオフを制御する細長矩形平板状のドライバ回路である制御回路14が実装されている。この制御回路14は、ガラス基板3の表面における列方向に沿った長手方向を有しており、このガラス基板3の表面の一側縁に沿って設けられている。また、この制御回路14は、各光電変換部4の外部に設けられている。
そして、この制御回路14には、複数の制御ライン15の一端が電気的に接続されている。これら各制御ライン15は、ガラス基板3の行方向に沿って配線されており、このガラス基板3上の各画素5間に設けられている。さらに、これら各制御ライン15は、同じの行の各画素5を構成する薄膜トランジスタ7のゲート電極11のそれぞれに電気的に接続されている。
また、ガラス基板3の表面には、このガラス基板3の列方向に沿った複数のデータライン16が配線されている。これら各データライン16は、ガラス基板3上の各画素5間に設けられている。そして、これら各データライン16は、同じ列の画素5を構成する薄膜トランジスタ7のソース電極12のそれぞれに電気的に接続されている。また、これら各データライン16の一端には、これら各データライン16に対応して配設された電荷増幅器17に電気的に接続されている。
そして、この電荷増幅器17は、ガラス基板3の表面における列方向の一端縁に実装されており、このガラス基板3上の各画素5の外部に設けられている。さらに、この電荷増幅器17は、例えば図示しない演算増幅器にて構成されており、一対の入力端子21,22と出力端子23とを備えている。そして、これら一対の入力端子21,22の一方である負極側の入力端子21のそれぞれは、データライン16の一端に電気的に接続されている。また、これら一対の入力端子21,22の他方である正極側の入力端子22のそれぞれは接地されている。そして、負極側の入力端子21と出力端子23との間には、コンデンサ24の直列回路が並列に接続されて、このコンデンサ24にて積分機能を有するように構成されている。さらに、これら負極側の入力端子21と出力端子23との間には、スイッチ25の直列回路が並列に接続されている。このスイッチ25は、コンデンサ24に対して並列に接続されており、このスイッチ25を閉じてコンデンサ24に残った電荷が放電できるように構成されている。
さらに、各電荷増幅器17それぞれの出力端子23は、細長矩形平板状の並列/直列変換器26に電気的に接続されている。この並列/直列変換器26は、この並列/直列変換器26に対して各電荷増幅器17から並列に入力する複数の電気信号を直列信号に変換する。また、この並列/直列変換器26は、ガラス基板3上の列方向における一端縁に設けられており、このガラス基板3の行方向に沿った長手方向を有している。さらに、この並列/直列変換器26は、ガラス基板3の各画素5の外部に設けられている。
また、この並列/直列変換器26は、アナログ信号をデジタル信号に変換する細長矩形平板状のアナログ−デジタル変換器27に電気的に接続されている。このアナログ−デジタル変換器27は、ガラス基板3の行方向に沿った他側縁に設けられており、このガラス基板3上の各画素5の外部に設けられている。また、このアナログ−デジタル変換器27は、ガラス基板3の列方向における一端縁に沿って設けられており、このガラス基板3の列方向に沿った長手方向を有している。
一方、図3に示すように、ガラス基板3の表面上の各画素5には、薄膜トランジスタ7および蓄積キャパシタ8のそれぞれが形成されている。ここで、これら各薄膜トランジスタ7は、ガラス基板3上に形成された島状のゲート電極11をそれぞれ備えている。そして、これらゲート電極11を含むガラス基板3上には、絶縁膜31が積層されて形成されている。この絶縁膜31は、各ゲート電極11を覆っている。
また、この絶縁膜31上には、島状の複数の半絶縁膜32が積層されて形成されている。これら各半絶縁膜32は、各ゲート電極11に対向して配設されて、これら各ゲート電極11を覆っている。すなわち、これら各半絶縁膜32は、各ゲート電極11上に絶縁膜31を介して設けられている。さらに、この半絶縁膜32を含む絶縁膜31上には、ソース電極12およびドレイン電極13のそれぞれが形成されている。これらソース電極12およびドレイン電極13は、互いに絶縁されており、電気的に接続されていない。また、これらソース電極12およびドレイン電極13は、ゲート電極11上の両側に設けられており、これらソース電極12およびドレイン電極13それぞれの一端部が半絶縁膜32上に積層されている。
そして、各薄膜トランジスタ7のゲート電極11は、図2に示すように、同じ行に位置する他の薄膜トランジスタ7のゲート電極11とともに共通の制御ライン15に電気的に接続されている。さらに、これら各薄膜トランジスタ7のソース電極12は、同じ列に位置する他の薄膜トランジスタ7のソース電極12とともに共通のデータライン16に電気的に接続されている。
一方、蓄積キャパシタ8は、ガラス基板3上に形成された島状の下部電極33を備えている。この下部電極33を含むガラス基板3上には絶縁膜31が積層されて形成されている。この絶縁膜31は、各薄膜トランジスタ7のゲート電極11上から各下部電極33上まで延長している。さらに、この絶縁膜31上には、島状の上部電極34が積層されて形成されている。この上部電極34は、下部電極33に対向して配設されており、これら各下部電極33を覆っている。すなわち、これら各上部電極34は、各下部電極33上に絶縁膜31を介して設けられている。そして、この上部電極34を含む絶縁膜31上にはドレイン電極13が積層されて形成されている。このドレイン電極13は、他端部が上部電極34上に積層しており、この上部電極34に対して電気的に接続されている。
さらに、各薄膜トランジスタ7の半絶縁膜32、ソース電極12およびドレイン電極13と、各蓄積キャパシタ8の上部電極34とのそれぞれを含む絶縁膜31上には、絶縁層35が積層されて形成されている。この絶縁層35上には、フォトダイオード6が形成されている。このフォトダイオード6は、アモルファスシリコンにて構成されたPNダイオードやPINダイオードなどにて形成されている。
また、絶縁層35の一部には、薄膜トランジスタ7のドレイン電極13に連通したコンタクトホールとしてのスルーホール36が開口形成されている。このスルーホール36を含む絶縁層35上には、フォトダイオード6の下方に位置する第1電極41が積層されて形成されている。したがって、この第1電極41は、スルーホール36を介して薄膜トランジスタ7のドレイン電極13に電気的に接続されている。なお、この薄膜トランジスタ7は、フォトダイオード6の下層に設けられている。
さらに、この第1電極41上には、フォトダイオード6が積層されて形成されており、このフォトダイオード6上には、第2電極42が積層されて形成されている。そして、この第2電極42は、例えばスパッタリング法にてITO(indium-tin oxide)透明導電膜の成膜にて形成されている。よって、これら第1電極41と第2電極42との間は、バイアス電極が印加されるように構成されている。
また、この第2電極42上には、入射するX線を可視光に変換して変化させるシンチレータ層43が積層されている。このシンチレータ層43を構成する材料としては、希土類元素中の原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)の少なくとも1つである一種の元素と、元素周期律表の6B族に属する元素、すなわち酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つである一種の元素とを含むX線発光蛍光体を備えている。
言い換えると、このシンチレータ層43は、X線発光蛍光体として、例えば硫酸化ランタン(La2O2S):テルビウム(Tb)の粉末を樹脂バインダと有機溶剤とを用いて塗液とし、この塗液をディスペンサやインクジェット、スプレなどを用いてシンチレータ含有塗膜層を第1電極41上に形成した後、乾燥工程を通して有機溶剤を除去して固化させて形成されている。よって、このシンチレータ層43は、膜の剥離やクラックなどを生じない良好なものである。ここで、このシンチレータ層43は、このシンチレータ層43の厚さである膜厚t(mm)と、このシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度F(%)との関係が、第1式として、(t×F)≧0.05となるように構成されている。
さらに、このシンチレータ層43は、フォトダイオード6上に設けられ、このフォトダイオード6の周縁を周方向の全域に亘って覆っている。言い換えると、このシンチレータ層43は、フォトダイオード6を周縁して設けられている。そして、このシンチレータ層43には、フォトダイオード6が形成された領域であるエリアに干渉しないように、断面凹溝状の溝部44が形成されている。この溝部44は、ガラス基板3上の各画素5のそれぞれを画素単位に領域を分離する境界に沿って形成されている。すなわち、この溝部44は、フォトダイオード6の周縁から所定距離離間させた位置に設けられており、このフォトダイオード6の全周に亘って形成されている。
したがって、この溝部44をシンチレータ層43に形成したことにより、このシンチレータ層43が各画素5の画素単位に分離されるので、図3に示すように、このシンチレータ層43内で発生した光Lの横方向への散乱や拡散の抑制が可能となる。ここで、この溝部44によって、シンチレータ層43を各画素5に合わせて完全に分離させてもよいが、このシンチレータ層43を完全には分離せず、各溝部44の底部にわずかなシンチレータ層43を残して、隣接する画素5同士のシンチレータ層43を連結させた構成とすることもできる。
そして、このシンチレータ層43の溝部44内には、光反射材として高屈折特性を有する粒子、例えば二酸化チタン(TiO2)や、X線発光蛍光体粒子、例えば硫酸化ガドリニウム(Gd2O2S):テルビウム(Tb)が充填されて隔壁部としての隔壁45が形成されている。さらに、これらシンチレータ層43および隔壁45上には、光反射膜46が積層されて形成されている。ここで、この光反射膜46を構成する材料は、二酸化チタンあるいは硫酸バリウム(BaSO4)などの粒子をバインダ樹脂に混合させた膜や、アルミニウム(Al)または銀(Ag)などの金属膜である。
次に、上記一実施の形態の作用について説明する。
まず、X線検出器1のシンチレータ層43の重要な特性の一つとしてはX線利用効率がある。このX線利用効率は、シンチレータ層43を介してX線を検知する間接方式の場合、このシンチレータ層43を構成するX線発光蛍光体の特性に依存する。また、このX線発光蛍光体のX線利用効率Iは理論的に、第2式として、I=X線発光蛍光体のX線吸収率×X線発光蛍光体の発光効率(%)で表すことができる。このX線発光蛍光体のX線利用効率とは、シンチレータ層43に入射するX線の線量うち、どの程度の線量のX線がX線発光蛍光体の発光に起因するかを表すものである。
したがって、上記第2式により、X線発光蛍光体の発光効率にほとんど差がなければ、X線発光蛍光体のX線利用効率Iは、このX線発光蛍光体のX線吸収率に依存する。例えば、硫酸化ランタン(La2O2S)にて構成したX線発光蛍光体の発光効率は、12%前後であり、従来の硫酸化ガドリニウム(Gd2O2S)にて構成したX線発光蛍光体の発光効率は、10%〜13%程度であるため、これらX線発光蛍光体における発光効率はほぼ同等である。
このため、一般医療用途として使用されるX線照射条件においてX線利用効率を向上させるためには、このX線照射条件においてX線吸収率の高い材料を使用する必要がある。
一方、X線発光蛍光体のX線吸収率は、このX線発光蛍光体を構成する元素のK吸収端に依存する。上述のように安価に製造できる希土類系のX線発光蛍光体にバインダ樹脂を混ぜた膜をシンチレータ層43として使用した場合には、この希土類系のX線発光蛍光体において最も重量のある元素が希土類となる。すなわち、図4に示すように、希土類系の元素においては、原子番号が大きいものほど、K吸収端が高エネルギ側へシフトしている。
よって、胸部および一般撮影に代表される一般医療用途で使用されるX線条件は、X線エネルギのピークが50keVであるため、K吸収端としては50keV以下の材料が望ましい。したがって、図4に示すように、原子番号が63であるユウロピウム(Eu)以下の原子番号の元素を含んだ材料が適しており、K吸収端が低い材料、すなわち原子番号が小さい元素ほどX線発光蛍光体の材料として望ましい。
さらに、図1に示すように、希土類の代表的な元素であるランタン(La)、ガドリニウム(Gd)、ルテチウム(Lu)のX線吸収量とX線エネルギとの関係は、例えばランタンの場合にはK吸収端が38.9keVであるから、一般医療用途に使用されるX線照射条件であるX線エネルギ、すなわち40keV以上60keVにおいてX線吸収量が高くなっている。これに対し、ルテチウムの場合には、K吸収端が63.3keVであるから、X線エネルギが40keV以上60keV以下の範囲では、X線吸収量が低い。
したがって、一般医療用途で使用されるX線照射条件としは、原子番号57のランタンから原子番号63のユウロピウムまでの中の希土類元素の少なくとも1種を使用したX線発光蛍光体を使用することによって、従来のガドリニウム(Gd)系のX線発光蛍光体よりもX線吸収率が高いシンチレータ層43を得ることができる。例えば、原子番号57のランタンを使用した硫酸化ランタンにて構成されたX線発光蛍光体の場合には、半価層が約100μmとなり、ヨウ化セシウム(CsI)にて構成されたX線発光蛍光体よりもX線吸収率が高くなる。
また、このX線吸収率は、シンチレータ層43の膜厚にも依存する。硫酸化ガドリニウムにて構成されたX線発光蛍光体と硫酸化ランタンにて構成したX線発光蛍光体とを用いて、X線吸収率とシンチレータ層43の膜厚との関係を測定したところ、図5に示すように、これらシンチレータ層43の膜厚の増加に伴ってX線吸収率が向上した。ところが、図6に示すように、これらシンチレータ層43の厚膜化に伴って解像度特性、すなわちCTF特性が劣化してしまう。
そこで、シンチレータ層43にてフォトダイオード6の周縁を覆うように、このシンチレータ層43に隔壁45を形成することによって、この隔壁45による導光路効果により、図3に示すように、シンチレータ層43内で発光した光が散乱することなく隔壁45にて反射されてフォトダイオード6へと到達する。したがって、シンチレータ層43に隔壁45を設けることにより、このシンチレータ層43を厚膜化させても、従来と同等の解像度特性を得ることができる。
さらに、X線発光蛍光体の体積密度をパラメータとしつつ、硫酸化ランタンにて構成されたX線発光蛍光体の膜厚とX線吸収率との関係を測定したところ、図5に示すように、シンチレータ層43の膜厚が厚くなり、X線発光蛍光体の体積密度が高密度化するほど、X線発光蛍光体のX線吸収率が高吸収率となり大きくなる。すなわち、X線発光蛍光体のX線吸収率は、シンチレータ層43内のX線発光蛍光体の量に依存しており、このシンチレータ層43の膜厚tと、このシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度Fとの積に依存する。
ここで、従来のX線検出器に使用されている硫酸化ガドリニウムにて構成されたX線発光蛍光体の増感紙(商品名:HG−H2,富士写真フィルム株式会社製)の膜厚は、0.2mmであり、この増感紙におけるX線発光蛍光体の体積密度は、球の最密充填密度である74%が最大となる。また、この増感紙のX線エネルギ50keVでのX線吸収率は、図5に示すように、30%程度であった。
この結果、X線検出器1のシンチレータ層43の膜厚t(mm)と、このシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度F(%)との積(t×F)が、第1式である(t×F)≧0.005の関係式を満たすことにより、従来の硫酸化ガドリニウムにて構成されたX線発光蛍光体の増感紙以上のX線吸収率を得ることができる。例えば、図5に示すように、シンチレータ層43の膜厚が110μmで、このシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度が50%である場合には、上記関係式を満たし、X線吸収率が30%以上となる。さらに、シンチレータ層43の膜厚が180μmで、このシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度が30%である場合にも、上記関係式を満たし、X線吸収率が30%以上となる。
上述したように、上記一実施の形態によれば、一般医療用途として使用されるX線条件においてX線検出器1のX線利用効率を向上させるためには、このX線検出器1のシンチレータ層43を構成するX線発光蛍光体の元素中最も重量のある元素のK吸収端を50keV以下にしなければならない。また、このX線発光蛍光体を構成する材料としては、シンチレータ層43を安価に製造できるものが望ましい。
そこで、このシンチレータ層43を構成する材料として、希土類元素中の原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)の少なくとも1つである一種の元素と、元素周期律表の6B族に属する元素、すなわち酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つである一種の元素とを含むX線発光蛍光体を用いる。
この結果、従来の硫酸化ガドリニウムにて構成されたX線発光蛍光体を用いたシンチレータ層よりも、X線検出器1のシンチレータ層43でのX線吸収率が向上し、X線透過率が減少する。したがって、このシンチレータ層43でのX線透過率が低減することにより、このシンチレータ層43下のフォトダイオード6、薄膜トランジスタ7および蓄積キャパシタ8に入射するX線を低減できるから、これらフォトダイオード6、薄膜トランジスタ7および蓄積キャパシタ8それぞれの特性の劣化を抑制できる。特に、工業用に比較して医療用の低エネルギのX線を用いるX線検出器1の場合には、フォトダイオード6、薄膜トランジスタ7および蓄積キャパシタ8でのX線の吸収係数が大きいから、シンチレータ層43を透過するX線の量を抑えることによる効果が大きい。
すなわち、入射するX線強度分布がX線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で撮影および透視する一般医療用途のX線検出器1においては、シンチレータ層43のX線透過率を効率良く低下できる。したがって、一般医療用途に使用されるX線検出器1でのX線条件におけるX線利用効率を効率良く向上できる。
また、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7が、アモルファスシリコンなどの非晶質半導体の半導体材料で構成されている場合には、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7をX線が透過することにより、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7を構成する半導体中の材料特性として欠陥準位などが形成されやすくなる。このため、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7の特性変化を招くおそれがある。ところが、シシンチレータ層43でのX線透過率を低減させたことにより、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7に入射するX線量が低減するから、これらフォトダイオード6や薄膜トランジスタ7にX線が透過することによる特性変化を防止できる。
さらに、将来的に使用される可能性が強い多結晶半等体であるポリシリコン(P−Si)薄膜トランジスタや、現在でも実用化されているCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサあるいはCCD(Charge Coupled Diode)などの結晶性半導体を用いたX線検出器1に対しては、非晶質半導体を用いたX線検出器1に比べ、X線による半導体中の欠陥生成などの影響が大きく、これら半導体の特性変化が低寿命に繋がる。したがって、X線検出器1のシシンチレータ層43でのX線透過率を低減させたことにより、これら結晶性半導体あるいは多結晶半導体にX線が透過することによる特性変化を防止できるから、これら結晶性半導体あるいは多結晶半導体の寿命をより長くできる。
なお、上記一実施の形態では、X線検出器1のフォトダイオード6および薄膜トランジスタ7それぞれの全体を非晶質半導体にて構成したが、これらフォトダイオード6および薄膜トランジスタ7の少なくとも一方の少なくとも一部を、非晶質半導体や結晶性半導体、多結晶半導体にて構成してもよい。
次に、本発明の実施例について説明する。
まず、従来例として、一般的なX線検出器のシンチレータ層として使用される増感紙、すなわち平均粒径が10μmの硫酸化ガドリニウム(Gd2O2S):テルビウム(Tb)にて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚200μm、X線発光蛍光体の体積密度74%、画素分離なしの増感紙を作成した。
次いで、実施例1−1として、平均粒径が10μmの硫酸化ランタン(La2O2S):テルビウム(Tb)にて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚が200μm、X線発光蛍光体の体積密度74%、画素分離なしの増感紙を作成した。
さらに、実施例1−2として、平均粒径が10μmの硫酸化ランタン:テルビウムにて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚200μm、X線発光蛍光体の体積密度74%、画素分離ありの増感紙を作成した。なお、この増感紙のシンチレータ層43には、二酸化チタン粒子にて構成された20μmの幅の隔壁45が150μmのピッチで格子状に形成されて、この隔壁45により各画素5が分離されている。
また、実施例2−1として、平均粒径が10μmの硫酸化ランタン:テルビウムにて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚が600μm、X線発光蛍光体の体積密度74%および画素分離なしの増感紙を作成した。すなわち、この増感紙は、X線吸収率をさらに向上させるためにシンチレータ層43の膜厚を200μmから600μmに厚膜化したものである。
次いで、実施例2−2として、平均粒径が10μmの硫酸化ランタン:テルビウムにて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚が600μm、X線発光蛍光体の体積密度74%、画素分離ありの増感紙を作成した。なお、この増感紙のシンチレータ層43には、二酸化チタン粒子にて構成された20μmの幅の隔壁45が150μmのピッチで格子状に形成されて、この隔壁45により各画素5が分離されている。
さらに、実施例3として、平均粒径が10μmの硫酸化ランタン:テルビウムにて構成されたX線発光蛍光体の粒子を樹脂で結着させて、膜厚が100μm、X線発光蛍光体の体積密度50%および画素分離なしの増感紙を作成した。
そして、これら従来例および各実施例として作成した増感紙それぞれのX線吸収率特性および解像度特性として2lp/mmのCTF特性について測定した。このとき、この測定に使用したX線照射条件としては、管電圧を70kVpとし、厚さ20mmのアルミニウム(Al)フィルタを挿入した。すなわち、このX線照射条件は、一般医療用途のX線照射条件と同等であり、図7に示すように、主に40keV以上60keV以下のX線エネルギの分布を有する。
この結果、図8に示すように、従来例として作成した増感紙のX線吸収率は50%であった。これは、X線照射条件を50keVとしたわけではなく、図7に示すように、主に40keV以上60keV以下のX線エネルギ分布を有するX線照射条件としたからである。
次に、この従来例として作成した増感紙と実施例1−1として作成した増感紙とを比較する。これら増感紙の差はX線発光蛍光体のみ異なるだけであり、他の条件は同じである。したがって、このX線発光蛍光体を従来のK吸収端が50.2keVである硫酸化ガドリニウムにて構成した場合に比べ、このX線発光蛍光体をK吸収端が38.9keVである硫酸化ランタンにて構成した場合には、X線吸収率が75%となり、このX線吸収率が1.5倍向上し、X線透過率が低減した。
さらに、実施例1−2として作成した増感紙は、実施例1−1として作成した増感紙に比べ、図8に示すように、2lp/mmでのCTF特性が約20%ほど向上した。
次いで、実施例2−1として作成した増感紙は、実施例1−1として作成した増感紙に比べ、図8に示すように、X線吸収率が約15%ほど向上し、従来例として作成した増感紙に比べ、X線吸収率が約40%ほど向上した。したがって、実施例2−1として作成した増感紙は、実施例1−1および従来例として作成した増感紙のそれぞれに比べ、X線透過率も低減する。ところが、シンチレータ層43を厚膜化したことに伴い、このシンチレータ層43による解像度特性が劣化するから、2lp/mmでのCTF特性は、従来例として作成した増感紙に比べ、約半分である20%まで低下した。
また、実施例2−2として作成した増感紙は、図8に示すように、実施例2−1で低下した解像度特性が、画素5毎の導光路効果によって改善され、2lp/mmでのCTF特性が、従来例として作成した増感紙とほぼ同等の42%と向上した。
ここで、実施例1−1ないし実施例2−2として作成した増感紙のそれぞれは、シンチレータ層43の膜厚t(mm)とシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度F(%)との関係が(t×F)≧0.05であるため、従来例として作成した増感紙よりも高いX線吸収率を得ることができる。
ところが、実施例3として作成した増感紙のように、シンチレータ層43の膜厚t(mm)とシンチレータ層43内のX線発光蛍光体の体積密度F(%)とが(t×F)≧0.05の関係を満たさない増感紙である場合には、図8に示すように、X線吸収率が25%となり、従来例として作成した増感紙よりもX線吸収率が低下し、X線透過率が増加してしまう。
1 X線検出器
5 画素
6 光電変換素子としてのフォトダイオード
7 スイッチング素子としての薄膜トランジスタ
43 シンチレータ層
44 溝部
45 隔壁部としての隔壁
5 画素
6 光電変換素子としてのフォトダイオード
7 スイッチング素子としての薄膜トランジスタ
43 シンチレータ層
44 溝部
45 隔壁部としての隔壁
Claims (7)
- 光電変換素子と、
この光電変換素子に設けられ入射するX線を可視光に変換するシンチレータ層とを具備し、
入射するX線強度分布がX線エネルギ40keV以上60keVの範囲でピークを持つX線照射条件で用いるX線検出器であって、
前記シンチレータ層は、原子番号57のランタン(La)から原子番号63のユウロピウム(Eu)までの少なくとも一つと、酸素(O)、硫黄(S)、セレン(Se)およびテルル(Te)の少なくとも一つとを含む蛍光体を備えた
ことを特徴としたX線検出器。 - 光電変換素子にて発生した電荷を蓄積および放出するスイッチング素子を具備した
ことを特徴とした請求項1記載のX線検出器。 - 光電変換素子およびスイッチング素子の少なくとも一方の少なくとも一部は、半導体にて形成されている
ことを特徴とした請求項2記載のX線検出器。 - 光電変換素子およびスイッチング素子の少なくとも一方の少なくとも一部は、結晶性を有する半導体にて形成されている
ことを特徴とした請求項2または3記載のX線検出器。 - シンチレータ層は、光電変換素子の周縁を覆って設けられ、
このシンチレータ層には、少なくとも前記光電変換素子にて構成される各画素を分離する溝部が形成されている
ことを特徴とした請求項1ないし4いずれか記載のX線検出器。 - このシンチレータ層の溝部には、各画素を分離する隔壁部が形成されている
ことを特徴とした請求項5記載のX線検出器。 - シンチレータ層の厚さt(mm)とこのシンチレータ層の蛍光体の体積密度F(%)との積(t×F)が、0.05以上である
ことを特徴とした請求項1ないし6いずれか記載のX線検出器。
Priority Applications (1)
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2004
- 2004-03-17 JP JP2004077223A patent/JP2005265557A/ja not_active Withdrawn
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