JP2005255521A - Glass composition for substrate - Google Patents

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JP2005255521A JP2005110732A JP2005110732A JP2005255521A JP 2005255521 A JP2005255521 A JP 2005255521A JP 2005110732 A JP2005110732 A JP 2005110732A JP 2005110732 A JP2005110732 A JP 2005110732A JP 2005255521 A JP2005255521 A JP 2005255521A
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Takashi Maeda
敬 前田
Hitoshi Onoda
仁 小野田
Yasumasa Nakao
泰昌 中尾
Sagal Jitendra
セーガル ジテンドラ
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glass composition for a lightweight scratch-resistant substrate. <P>SOLUTION: The glass composition comprises 59 to 72 wt.% SiO<SB>2</SB>, 1 to 15 wt.% Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 0.5 to 9 wt.% MgO, 0.5 to 11 wt.% CaO, 0 to 6 wt.% SrO, 0 to 5 wt.% BaO, 4 to 19 wt.% MgO+CaO+SrO+BaO, 0 to 9 wt.% Na<SB>2</SB>O, 4 to 21 wt.% K<SB>2</SB>O, 10 to 22 wt.% Na<SB>2</SB>O+K<SB>2</SB>O, and 0.5 to 10.5 wt.% ZrO<SB>2</SB>, provided that the difference between the SiO<SB>2</SB>content and the Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>content is 50 to 71%, and the specific gravity is less than 2.6. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フラットディスプレイパネル、特にプラズマディスプレイパネル(PDP)に用いる基板用ガラス組成物に関する。   The present invention relates to a glass composition for a substrate used for a flat display panel, particularly a plasma display panel (PDP).

PDPは一般的に、基板ガラス上に金属電極、絶縁ペースト、リブペースト等を550〜600℃程度の最高温度で焼成した後、対向板と周囲をフリットシールすることにより製造される。従来、このための基板ガラスとして建築用または自動車用として広く用いられるソーダ石灰ガラスが一般的に用いられてきた。   In general, a PDP is manufactured by firing a metal electrode, an insulating paste, a rib paste, or the like on a substrate glass at a maximum temperature of about 550 to 600 ° C., and then frit-sealing the counter plate and the periphery. Conventionally, soda lime glass widely used for building or automobiles has been generally used as the substrate glass for this purpose.

しかし、ソーダ石灰ガラスのガラス転移点は530〜560℃であるため、上記の最高温度で熱処理を受けると基板ガラスが変形または収縮し、寸法が著しく変化するため、対向板との電極位置合わせを精度良く実現することが難しいという課題があった。特に、生産性の高いベルト炉のような連続式の焼成炉を使用して製造する場合、焼成中にガラス板の先端と後端で温度差がつき、ガラス板が前後に非対称な寸法変化を起こすという問題があった。   However, since the glass transition point of soda lime glass is 530 to 560 ° C., when subjected to the heat treatment at the above maximum temperature, the substrate glass is deformed or contracted, and the dimensions change significantly. There was a problem that it was difficult to achieve with high accuracy. In particular, when manufacturing using a continuous firing furnace such as a belt furnace with high productivity, there is a temperature difference between the front and rear edges of the glass plate during firing, and the glass plate undergoes asymmetrical dimensional changes. There was a problem of waking up.

このガラス基板の熱変形または熱収縮の問題を解決するため、熱膨張係数がソーダ石灰ガラスと近く、ガラス転移点、歪点が高いガラスが知られている(特許文献1、2)。このようなガラスを用いると、連続式の焼成炉でPDP製造の熱処理を行っても、ソーダ石灰ガラスで問題となるような前後に非対称な寸法変化を起こしにくいため、高い精度でパネルを焼成できる。   In order to solve the problem of thermal deformation or thermal contraction of the glass substrate, a glass having a thermal expansion coefficient close to that of soda-lime glass and having a high glass transition point and strain point is known (Patent Documents 1 and 2). When such a glass is used, even if heat treatment for PDP production is performed in a continuous firing furnace, it is difficult to cause an asymmetrical dimensional change before and after that becomes a problem with soda-lime glass, so that the panel can be fired with high accuracy. .

特開平3−40933号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-40933 特開平7−257937号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-257937

しかし、近年のPDPの大型化により、製造工程でのハンドリングがますます困難になってきている。特に、大型基板は自重により大きな曲げ応力を受けることが多いため、わずかな傷の存在が、製造工程での割れにつながる。
また、すでに提案されている組成は、比重が大きく、部材の軽量化が困難であるという問題もある。
However, with the recent increase in size of PDPs, handling in the manufacturing process has become increasingly difficult. In particular, a large substrate often receives a large bending stress due to its own weight, so the presence of a slight scratch leads to a crack in the manufacturing process.
Moreover, the composition already proposed has a problem that the specific gravity is large and it is difficult to reduce the weight of the member.

さらに、PDPに要求される画面の解像度が高まるにつれ、ガラス基板に許容される寸法変化の最大値はますます厳しくなりつつあり、さらにガラス転移点が高いガラスが求められている。   Furthermore, as the screen resolution required for the PDP increases, the maximum value of the dimensional change allowed for the glass substrate is becoming stricter, and a glass having a higher glass transition point is required.

本発明の目的は上記欠点を解決し、高いガラス転移点を有し、かつ熱膨張係数がソーダ石灰ガラスと同等であるとともに、傷がつきにくく製造工程で割れにくい基板用ガラス組成物を提供することにある。   The object of the present invention is to provide a glass composition for a substrate that solves the above-mentioned drawbacks, has a high glass transition point, has a thermal expansion coefficient equivalent to that of soda-lime glass, and is hardly scratched or broken in the production process. There is.

本発明は、重量表示で、
SiO 59〜72%、
Al 1〜12%、
MgO 0.5〜 9%、
CaO 0.5〜11%、
SrO 0〜 %、
BaO 0〜 %、
MgO+CaO+SrO+BaO 17%、
Na〜 9%、
O 4〜16%、
NaO+KO 10〜17%、
ZrO 0.5〜%、
を含み、比重が2.6未満である基板用ガラス組成物である。
The present invention is a heavy amount display,
SiO 2 59~72%,
Al 2 O 3 1~ 12%,
MgO 0.5-9%,
CaO 0.5-11%,
SrO 0~ 4%,
BaO 0~ 2%,
MgO + CaO + SrO + BaO 8 ~ 17%,
Na 2 O 1 ~ 9%,
K 2 O 4~ 16%,
Na 2 O + K 2 O 10~ 17%,
ZrO 2 0.5~ 5%,
And a glass composition for a substrate having a specific gravity of less than 2.6.

本発明のガラスの組成について以下に説明する。
SiOはガラスの骨格をなす成分である。含有量が59重量%(以下%と表記する)未満では耐熱性が劣り、また傷つきやすくなる。好ましくは63%以上である。他方、72%超では熱膨張係数が小さくなりすぎる。好ましくは、70%以下である。
The composition of the glass of the present invention will be described below.
SiO 2 is a component forming a glass skeleton. When the content is less than 59% by weight (hereinafter referred to as “%”), the heat resistance is inferior and the film is easily damaged. Preferably it is 63% or more. On the other hand, if it exceeds 72%, the thermal expansion coefficient becomes too small. Preferably, it is 70% or less.

Alはガラス転移点を上げ、耐熱性を向上させるため1%以上添加される。2%以上含有することが好ましい。他方、12%超ではガラスの熔解性が低下する傾向がある。好ましくは9%以下である。 Al 2 O 3 is added in an amount of 1% or more in order to increase the glass transition point and improve the heat resistance . It is preferable to contain 2 % or more. On the other hand, if it exceeds 12 %, the meltability of the glass tends to decrease. Preferably it is 9 % or less.

MgOはガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進するため0.5%以上添加される。2%以上含有することが好ましい。他方、9%超では熱膨張係数が大きくなり、かつ傷つきやすくなる傾向がある。好ましくは、7%以下である。 MgO is added in an amount of 0.5% or more in order to lower the viscosity at the time of melting the glass and promote melting. It is preferable to contain 2% or more. On the other hand, if it exceeds 9%, the thermal expansion coefficient tends to be large, and it tends to be easily damaged . Good Mashiku is 7% or less.

CaOはガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進するため0.5%以上添加される。2%以上含有することが好ましい。他方、11%超では熱膨張係数が大きくなり、かつ傷つきやすくなる傾向がある。また、失透温度が上がる。好ましくは9%以下である。 CaO is added in an amount of 0.5% or more in order to lower the viscosity of the glass during melting and to promote melting. It is preferable to contain 2% or more. On the other hand, if it exceeds 11%, the thermal expansion coefficient tends to be large, and it tends to be easily damaged. Also, it is that the upper devitrification temperature. Preferably it is 9% or less.

SrOは必須成分ではないが、ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので添加できる。しかし、%超では傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは、2%以下である。 Although SrO is not an essential component, it can be added because it has the effect of lowering the viscosity during melting of glass and promoting melting. However, if it exceeds 4 %, it may be easily damaged. Preferably, it is 2 % or less.

BaOは必須成分ではないが、ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので添加できる。しかし、%超では傷つきやすくなるおそれがある。好ましくは2%である。 BaO is not an essential component, but it can be added because it has the effect of lowering the viscosity during melting of glass and promoting melting. However, if it exceeds 2 %, it may be easily damaged. Preferably it is 2%.

SrOとBaOの含有量は、ガラスが傷つきやすくなりすぎるのを抑制するため、合量で4%以下であることが好ましい。特に好ましくは3%以下である。   The SrO and BaO contents are preferably 4% or less in total in order to prevent the glass from being easily damaged. Particularly preferably, it is 3% or less.

MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量は、ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解しやすくするため合量で8%以上である。好ましくは10%以上である。他方、合量で17%超ではガラスが傷つきやすくなり、また失透温度が高くなる。好ましくは16%以下である。 The content of MgO, CaO, SrO and BaO is 8 % or more in total in order to lower the viscosity during melting of the glass and facilitate melting . Good Mashiku is 10% or more. On the other hand, if the total amount exceeds 17% , the glass tends to be damaged and the devitrification temperature becomes high . Good Mashiku is 16% or less.

NaOは必須ではないが、ガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する効果があるため含有できる。この場合は1%以上含有する。他方、9%超では熱膨張係数が大きくなりすぎ、また、化学的耐久性が低下し、電気抵抗が小さくなるおそれがある。好ましくは7%以下である。 Na 2 O is not essential, but can be contained because it has the effect of lowering the viscosity during melting of glass and promoting melting. In this case it is containing 1% or more. On the other hand, if it exceeds 9%, the thermal expansion coefficient becomes too large, the chemical durability is lowered, and the electric resistance may be reduced . Good Mashiku is hereinafter 7%.

Oはガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があり、4%以上含有される。9%以上含有することが好まし。他方、16%超では熱膨張係数が大きくなりすぎ、化学的耐久性が低下する。16%以下であることが好ましい。 K 2 O has an action of lowering the viscosity at the time of melting the glass and promoting the melting, and is contained at 4 % or more. It is not preferable to contain 9% or more. On the other hand, if it exceeds 16 %, the thermal expansion coefficient becomes too large and the chemical durability is lowered . It is preferably not more than 1 6%.

NaOとKOとの含有量はガラスの熔解時の粘性を下げ、熔解しやすくするため合量で10%以上である。好ましくは12%以上含有される。他方、合量で17%超では化学的耐久性が低下し、電気抵抗が小さくなるおそれが強い。好ましくは17%以下である。 The content of Na 2 O and K 2 O is 10% or more in total in order to lower the viscosity during melting of the glass and facilitate melting. Preferably it contains 12% or more. On the other hand, if the total amount exceeds 17 %, the chemical durability is lowered and the electric resistance is likely to be reduced . Good Mashiku is 17% or less.

ZrOはガラス転移点を上げ、また、ガラスの化学的耐久性を向上させる効果があるので、0.5%以上含有される。好ましくは2%以上含有される。一方、%超ではガラスが傷つきやすくなる。好ましくは5%以下である。 ZrO 2 has an effect of increasing the glass transition point and improving the chemical durability of the glass, so it is contained in an amount of 0.5% or more. Preferably it contains 2% or more. On the other hand, if it exceeds 5 %, the glass tends to be damaged . Good Mashiku is 5% or less.

本発明では、SiOの含有量とAlの含有量との差を好ましくは51〜71%にする。このようにして、傷がつきにくいガラスが得られている。一方、熔解をより容易にするためには上記の差を70%以下とすることが好ましい。 In the present invention, the difference between the content of SiO 2 and the content of Al 2 O 3 is preferably 51 to 71%. In this way, a glass that is not easily scratched is obtained . Hand, for easier melting is preferably 70% or less of the difference between the.

本発明によるガラスは上記成分以外にガラスの熔解性、清澄性、成形性を改善するため、As、Sb、P、F、Clを合量で2%以下添加できる In addition to the above components, the glass according to the present invention adds As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , P 2 O 5 , F, and Cl in a total amount of 2% or less in order to improve the meltability, clarity and formability of the glass. I can .

また、ガラスの化学的耐久性の向上のため、La、TiO、SnOを合量で5%以下添加できる。さらに、Fe、CoO、NiO、N等の着色剤を添加してガラスの色調を調整できる。この着色剤の含有量は合量で1%以下が好ましい。 Moreover, in order to improve the chemical durability of the glass, La 2 O 3 , TiO 2 and SnO 2 can be added in a total amount of 5% or less. Furthermore, the color tone of the glass can be adjusted by adding a colorant such as Fe 2 O 3 , CoO, NiO 2 , or N d 2 O 3 . The total content of the colorant is preferably 1% or less.

さらに、熔解性を向上するためにBを添加できる。ただし、過度の添加は、熱膨張係数を低下させるので1.5%未満とすることが好ましい Furthermore, B 2 O 3 can be added to improve the meltability. However, excessive addition reduces the thermal expansion coefficient, so it is preferable to make it less than 1.5% .

また、ZnOを熔解性改善のために添加してもよいが、5%以上添加すると、フロートバス内で還元されて欠点を生じるおそれがある。   In addition, ZnO may be added to improve the meltability, but if it is added in an amount of 5% or more, it may be reduced in the float bath to cause a defect.

さらに、LiOを熔解性改善のために添加してもよいが、3%以上添加するとガラス転移点が低くなるおそれがある。 Further, Li 2 O may be added to improve the meltability, but if added at 3% or more, the glass transition point may be lowered.

かくして得られる本発明のガラスは比重が2.6未満であり、より好ましくは2.55以下である。また、ガラス転移点は好ましくは600℃以上、より好ましくは、660℃以上である。また、本発明のガラスの熱膨張係数は好ましくは75×10−7〜95×10−7/℃の範囲、より好ましくは80×10−7〜90×10−7/℃の範囲にある。 The glass of the present invention thus obtained has a specific gravity of less than 2.6, more preferably 2.55 or less. The glass transition point is preferably 600 ° C. or higher, more preferably 660 ° C. or higher. The thermal expansion coefficient of the glass of the present invention is preferably in the range of 75 × 10 −7 to 95 × 10 −7 / ° C., more preferably in the range of 80 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C.

特に、本発明にかかるガラスは脆さ指標値が7400m−1/2以下であることが好ましく、より好ましくは、7300m−1/2以下である。
なお、本発明において、ガラスの脆さ指標値としてはローンらによって提案された脆さ指標値Bを使用する(B.R.Lawn and D.B.Marshall,J.Am.Ceram.Soc.,62[7−8]347−350(1979))。ここで、脆さ指標値Bは材料のビッカース硬さHと破壊靭性値Kから式(1)により定義される。
B=H/K (1)。
In particular, the glass according to the present invention preferably has a brittleness index value of 7400 m −1/2 or less, and more preferably 7300 m −1/2 or less.
In the present invention, the brittleness index value B proposed by Lawn et al. Is used as the brittleness index value of the glass (BR Lawn and DB Marshall, J. Am. Ceram. Soc., 62 [7-8] 347-350 (1979)). Here, fragility index value B is defined from Vickers hardness H V and fracture toughness value K C of the material by the equation (1).
B = H V / K C (1).

本発明で得られるガラスは、PDP用基板として好適である。その分光透過率は425〜475nm、510〜560nm、600〜650nmの範囲でそれぞれ85%以上となっていることが好ましい。これらの波長範囲での発光が効率的に表示に利用できるからである。   The glass obtained by the present invention is suitable as a substrate for PDP. The spectral transmittance is preferably 85% or more in the range of 425 to 475 nm, 510 to 560 nm, and 600 to 650 nm. This is because light emission in these wavelength ranges can be efficiently used for display.

本発明のガラス基板は、例えば次のような方法で製造できる。すなわち、通常使用される各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、1500〜1600℃に加熱して熔融する。この熔融ガラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断することによって、透明なガラス基板を得る。   The glass substrate of the present invention can be produced, for example, by the following method. That is, normally used raw materials for each component are blended so as to become target components, which are continuously charged into a melting furnace and heated to 1500 to 1600 ° C. for melting. The molten glass is formed into a predetermined plate thickness by a float method, and is cooled and then cut to obtain a transparent glass substrate.

表1〜表に本発明に関する実験例を示す。なお、例1〜例12は実施例であり、例13〜例17は比較例である。 Tables 1 to 3 show experimental examples related to the present invention. Examples 1 to 12 are examples, and examples 13 to 17 are comparative examples.

各成分の原料を目標組成になるように調合し、白金るつぼを用いて1550〜1650℃に加熱し4〜5時間かけて熔融した。熔解にあたっては、白金スターラを挿入し2時間撹拌してガラスの均質化を行った。   The raw material of each component was prepared so that it might become a target composition, it heated to 1550-1650 degreeC using the platinum crucible, and it melted | melted over 4 to 5 hours. In melting, a platinum stirrer was inserted and stirred for 2 hours to homogenize the glass.

以上のようにして得られたガラスの脆さ指標値、熱膨張係数、ガラス転移点、比重を以下に示す方法で測定し、表1〜表にガラス組成とともに示した The brittleness index value, thermal expansion coefficient, glass transition point, and specific gravity of the glass obtained as described above were measured by the methods shown below, and are shown in Tables 1 to 3 together with the glass composition .

比重:
泡を含まない約20gのガラス塊をアルキメデス法によって測定する。
specific gravity:
About 20 g of glass lump containing no foam is measured by the Archimedes method.

脆さ指標値(単位:m−1/2):
脆さの指標をガラスに適用する際の大きな問題は破壊靭性値Kが正確に評価しにくいことである。しかし、本出願人は、いくつかの手法を検討した結果、ビッカース圧子を押し込んだときにガラス表面に残る圧子の痕の大きさと痕の四隅から発生するクラックの長さとの関係から脆さを定量的に評価できることを見いだしている。その関係は式(2)により定義される。ここで、Pはビッカース圧子の押し込み荷重であり、a、cは、それぞれ、ビッカース圧痕の対角長および四隅から発生するクラックの長さ(圧子の痕を含む対称な2つのクラックの全長)である。各種ガラスの表面に打ち込んだビッカース圧痕の寸法と式(2)を用いて、脆さ指標値を評価する。
c/a=0.0056B2/31/6 (2)。
Brittleness index value (unit: m −1/2 ):
Major problem in applying an indication of brittleness in glass fracture toughness value K C is that difficult to evaluate accurately. However, as a result of studying several methods, the present applicant has quantified brittleness from the relationship between the size of the indenter mark remaining on the glass surface when the Vickers indenter is pushed in and the length of cracks generated from the four corners of the mark. Has been found that can be evaluated. The relationship is defined by equation (2). Here, P is the indentation load of the Vickers indenter, and a and c are the diagonal length of the Vickers indentation and the length of the crack generated from the four corners (the total length of two symmetrical cracks including the indenter trace), respectively. is there. The brittleness index value is evaluated by using the dimensions of Vickers indentation and formula (2) which are driven into the surfaces of various glasses.
c / a = 0.0056B 2/3 P 1/6 (2).

平均熱膨張係数(単位:×10−7/℃):
示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5℃/分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を測定する。測定はガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度(屈伏点)まで行い、50〜350℃の平均の線熱膨張係数を算出した。
Average coefficient of thermal expansion (unit: × 10 -7 / ° C):
A differential thermal dilatometer is used to measure the elongation of the glass when the temperature is raised from room temperature at a rate of 5 ° C./min using quartz glass as a reference sample. The measurement was performed up to a temperature (deflection point) at which the glass was softened and elongation was no longer observed, and an average linear thermal expansion coefficient of 50 to 350 ° C. was calculated.

ガラス転移点(単位:℃):
熱膨張曲線における屈曲点をガラス転移点とした。
Glass transition point (unit: ° C):
The bending point in the thermal expansion curve was taken as the glass transition point.

表より明らかなように、本発明によるガラス組成物の脆さ指標値は、7400m−1/2以下であり、傷がつきにくい。熱膨張係数は80×10−790×10−7/℃の範囲にあり、従来PDP用基板として用いられていたソーダライムガラスの熱膨張係数と同程度であるため、同種のフリット材料を使用できる。また、ガラス転移点は、いずれも600℃以上であり、大型PDPの製造において、ガラスが変形したり収縮したりする等の問題がない。比重は2.6未満であり、部材の軽量化が容易である。 As is apparent from the table, the brittleness index value of the glass composition according to the present invention is 7400 m −1/2 or less and is hardly scratched. The thermal expansion coefficient is in the range of 80 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C., which is similar to the thermal expansion coefficient of soda lime glass conventionally used as a substrate for PDP. Can be used. In addition, the glass transition point is 600 ° C. or higher, and there is no problem that the glass is deformed or contracted in the production of a large PDP. Specific gravity is less than 2.6, and the weight reduction of a member is easy.

一方、例1317は脆さ指標値が7400m−1/2を超えるので、傷がつきやすく、製造工程中での割れ確率が大きい。また、例1317の組成物は比重が2.6以上であるので、部材の軽量化が困難である。 On the other hand , Examples 13 to 17 have a brittleness index value exceeding 7400 m −1/2 , so that they are easily scratched and have a high probability of cracking during the manufacturing process. Moreover, since the compositions of Examples 13 to 17 have a specific gravity of 2.6 or more, it is difficult to reduce the weight of the member.

Figure 2005255521
Figure 2005255521

Figure 2005255521
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Figure 2005255521
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本発明によるガラスは、傷がつきにくく、耐熱性が高く、かつソーダ石灰ガラスと同等の熱膨張係数を有するので、PDP用基板等、かかる特性を要求する用途に好適である。また、比重が小さいので、部材の軽量化が容易である。   The glass according to the present invention is not easily scratched, has high heat resistance, and has a thermal expansion coefficient equivalent to that of soda lime glass, and thus is suitable for applications requiring such characteristics, such as a substrate for PDP. Further, since the specific gravity is small, it is easy to reduce the weight of the member.

Claims (8)

実質的に重量表示で、
SiO 59〜72%、
Al 1〜15%、
MgO 0.5〜 9%、
CaO 0.5〜11%、
SrO 0〜 6%、
BaO 0〜 5%、
MgO+CaO+SrO+BaO 4〜19%、
NaO 0〜 9%、
O 4〜21%、
NaO+KO 10〜22%、
ZrO 0.5〜10.5%、
からなり、SiOの含有割合とAlの含有割合との差が50〜71%であって、比重が2.6未満である基板用ガラス組成物。
In weight display,
SiO 2 59~72%,
Al 2 O 3 1-15%,
MgO 0.5-9%,
CaO 0.5-11%,
SrO 0-6%,
BaO 0-5%,
MgO + CaO + SrO + BaO 4-19%,
Na 2 O 0-9%,
K 2 O 4~21%,
Na 2 O + K 2 O 10-22%,
ZrO 2 0.5-10.5%,
From it, the difference between the content of the content of SiO 2 and Al 2 O 3 is a 50 to 71%, the glass composition for substrates having a specific gravity of less than 2.6.
ZrOの含有割合が5%以下である請求項1に記載の基板用ガラス組成物。 The glass composition for substrates according to claim 1, wherein the content ratio of ZrO 2 is 5% or less. 脆さ指標値が7400m−1/2以下である請求項1または2に記載の基板用ガラス組成物。 The glass composition for substrates according to claim 1 or 2, wherein the brittleness index value is 7400 m -1/2 or less. ガラス転移点が600℃以上である請求項1、2または3に記載の基板用ガラス組成物。   The glass composition for substrates according to claim 1, 2 or 3, wherein the glass transition point is 600 ° C or higher. 50〜350℃での平均熱膨張係数が75×10−7〜95×10−7/℃である請求項1、2、3または4に記載の基板用ガラス組成物。 The glass composition for substrates according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein an average thermal expansion coefficient at 50 to 350 ° C is 75 x 10 -7 to 95 x 10 -7 / ° C. 実質的に重量表示で、
SiO 59〜72%、
Al 2〜 9%、
MgO 0.5〜 9%、
CaO 0.5〜11%、
SrO 0〜 4%、
BaO 0〜 2%、
SrO+BaO 0〜 4%、
MgO+CaO+SrO+BaO 8〜17%、
NaO 0〜 7%、
O 9〜21%、
NaO+KO 10〜22%、
ZrO 2〜 5%、
からなる請求項1、2、3、4または5に記載の基板用ガラス組成物。
In weight display,
SiO 2 59~72%,
Al 2 O 3 2-9%,
MgO 0.5-9%,
CaO 0.5-11%,
SrO 0-4%,
BaO 0-2%,
SrO + BaO 0-4%,
MgO + CaO + SrO + BaO 8-17%,
Na 2 O 0-7%,
K 2 O 9-21%,
Na 2 O + K 2 O 10-22%,
ZrO 2 2-5%,
The glass composition for substrates according to claim 1, 2, 3, 4 or 5.
ガラス転移点が660℃以上である請求項6に記載の基板用ガラス組成物。   The glass composition for substrates according to claim 6, wherein the glass transition point is 660 ° C or higher. 請求項1、2、3、4、5、6または7に記載の基板用ガラス組成物からなる基板を有するプラズマディスプレイパネル。

The plasma display panel which has a board | substrate which consists of a glass composition for substrates of Claim 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7.

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