JP2005250173A - Laser irradiating method and laser irradiation apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レーザー照射方法及びレーザー照射装置に関する。さらに詳しくは、画像形成素子を介してレーザービームを被照射物に照射することにより被照射物上に所望の画像を得るためのレーザー照射方法及び照射装置に関する。 The present invention relates to a laser irradiation method and a laser irradiation apparatus. More specifically, the present invention relates to a laser irradiation method and an irradiation apparatus for obtaining a desired image on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element.
レーザー照射方法の従来例として、次の特許文献に記載のものが知られている。
同従来技術では、画像形成素子として、いずれも干渉縞を形成した位相ホログラムの透過シートが用いられていた。しかし、同透過シートはレーザーが透過する際に減衰するため、レーザーの利用効率が良くなかった。 In the prior art, a phase hologram transmission sheet in which interference fringes are formed is used as an image forming element. However, since the transmission sheet attenuates when the laser beam is transmitted, the laser utilization efficiency is not good.
かかる従来の実情に鑑みて、本発明は、レーザー光の利用効率の高いレーザー照射方法及びレーザー照射装置を提供することを目的とする。 In view of such a conventional situation, an object of the present invention is to provide a laser irradiation method and a laser irradiation apparatus with high utilization efficiency of laser light.
上記目的を達成するため、本発明に係るレーザー照射方法の特徴は、画像形成素子を介してレーザービームを被照射物に照射することにより被照射物上に所望の画像を得るための方法であって、
前記画像形成素子が複数の微細ミラーを少なくとも2方向に切り替えて2次元画像を形成することの可能な反射素子であることにある。
In order to achieve the above object, the laser irradiation method according to the present invention is characterized by a method for obtaining a desired image on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element. And
The image forming element is a reflective element capable of forming a two-dimensional image by switching a plurality of fine mirrors in at least two directions.
また、本発明の他の特徴は、画像形成素子を介してレーザービームを被照射物に照射することにより被照射物上に所望の画像を得るための方法であって、
前記画像形成素子が複数の微細ミラーを少なくとも2方向に配向して2次元画像を形成した反射素子であることにある。
Another feature of the present invention is a method for obtaining a desired image on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element,
The image forming element is a reflecting element in which a plurality of fine mirrors are oriented in at least two directions to form a two-dimensional image.
上記各特徴において、前記画像形成素子にホログラム画像を形成し、前記少なくとも2方向に振り分けられた少なくとも2系統のレーザービームに位相差を付与し、これらビームを干渉させて被照射物上に照射するとよい。 In each of the above features, when a hologram image is formed on the image forming element, a phase difference is imparted to at least two laser beams distributed in at least two directions, and these beams are interfered to irradiate an irradiated object Good.
また、階調度向上のために画像形成素子における少なくとも2カ所の異なる部分で反射させた少なくとも一対の2系統レーザービームを前記被照射物の同一箇所に照射してもよい。 Further, in order to improve the gradation, at least a pair of two-line laser beams reflected by at least two different portions of the image forming element may be irradiated to the same portion of the irradiation object.
前記画像形成素子が前記レーザービームを順次反射させて前記被照射物に導く第一、第二の反射素子であり、前記各反射素子に累積して所望の画像を被照射物に形成することの可能なホログラム画像をそれぞれ形成し、前記第一の反射素子により前記少なくとも2方向に振り分けられた少なくとも2系統のレーザービームに位相差を付与し、これらビームを第二の反射素子上で干渉させて被照射物上に照射してもよい。 The image forming element is a first and second reflecting element that sequentially reflects the laser beam and guides it to the irradiated object, and accumulates on each reflecting element to form a desired image on the irradiated object. Each possible hologram image is formed, a phase difference is given to at least two laser beams distributed in the at least two directions by the first reflecting element, and these beams are caused to interfere with each other on the second reflecting element. You may irradiate on a to-be-irradiated object.
一方、前記反射素子により反射し前記少なくとも2方向に振り分けられたレーザービームをそれぞれ元の光路に反射ミラーで戻りビームとして反射し、往路ビーム及び戻りビームの一方を他方とは異なる位相に回転素子で回転させ、レーザー光源と回転素子との間に設けた偏光分離素子により戻りビームを前記被照射物側に反射させてもよい。 On the other hand, the laser beam reflected by the reflecting element and distributed in the at least two directions is reflected to the original optical path as a return beam by the reflecting mirror, and one of the forward beam and the return beam is set to a phase different from the other by the rotating element. The return beam may be reflected toward the irradiated object by a polarization separation element provided between the laser light source and the rotation element.
前記少なくとも2方向に振り分けられた少なくとも2系統のレーザービームの偏光方向を偏光調整器により一致させることが望ましい。また、前記少なくとも2方向に振り分けられた少なくとも2系統のレーザービームの光路それぞれに前記反射素子の像の転送素子を介在させたことも望ましい。前記反射素子に形成された画像を縮小して前記被照射物に照射させる縮小手段を設けると、微細な加工が可能となる。必要に応じて、前記レーザービームの周波数を変調する変調手段を設け、さらに加工精度を向上させることができる。 It is desirable that the polarization directions of at least two systems of laser beams distributed in the at least two directions are matched by a polarization adjuster. It is also desirable that an image transfer element of the reflection element is interposed in each of the optical paths of at least two systems of laser beams distributed in at least two directions. If a reduction means for reducing the image formed on the reflective element and irradiating the irradiated object is provided, fine processing becomes possible. If necessary, a modulation means for modulating the frequency of the laser beam can be provided to further improve the processing accuracy.
前記レーザービームのフルエンスを調整するフルエンス調整素子を設け、前記被照射物の照射位置をレーザービームに対して相対的に移動させ、複数回に分けて照射を行ってもよい。これにより、複数部分の分割部分の露光やアブレーションの程度を一定にすることができる。また、各分割照射領域間で照射強度や露光回数・時間を変化させることにより、目的に応じて部分的な露光やアブレーションの程度を変化させることも可能となる。 A fluence adjusting element for adjusting the fluence of the laser beam may be provided, and the irradiation position of the irradiated object may be moved relative to the laser beam, and irradiation may be performed in a plurality of times. Thereby, the degree of exposure and ablation of the divided parts of the plurality of parts can be made constant. In addition, by changing the irradiation intensity, the number of exposures, and the time between the divided irradiation regions, it is possible to change the degree of partial exposure or ablation according to the purpose.
本発明は、例えば前記被照射物への照射によりアブレーション加工又は露光を行う用途に用いられる。 The present invention is used, for example, in applications in which ablation processing or exposure is performed by irradiating the irradiated object.
一方、画像形成素子を介してレーザービームを被照射物に照射することにより被照射物上に所望の画像を得るための上記いずれかに記載のレーザー照射方法に用いるレーザー照射装置の特徴は、複数の微細ミラーを少なくとも2方向に切り替えて2次元画像を形成することの可能な反射素子を備えたことにある。 On the other hand, the laser irradiation apparatus used in any of the above laser irradiation methods for obtaining a desired image on an irradiation object by irradiating the irradiation object with a laser beam through an image forming element has a plurality of features. And a reflective element capable of forming a two-dimensional image by switching the fine mirror in at least two directions.
上記本発明に係るレーザー照射方法及び照射装置の特徴によれば、レーザー入射光に画像情報を与えながら光の減衰を最小限に留め、加工のためのレーザー光の利用効率を向上させることが可能になった。特に、複数の微細ミラーを少なくとも2方向に切り替えて2次元画像を形成することの可能な反射素子を用いることで、被照射物上に様々な図柄又は形状の加工を施すことが可能となった。また、複数の微細ミラーを少なくとも2方向に配向して2次元画像を形成した反射素子、すなわち図柄の固定的な反射素子を用いることで、安価な量産加工が可能となった。 According to the features of the laser irradiation method and the irradiation apparatus according to the present invention, it is possible to minimize the attenuation of light while giving image information to the laser incident light, and to improve the utilization efficiency of the laser light for processing. Became. In particular, by using a reflective element that can form a two-dimensional image by switching a plurality of fine mirrors in at least two directions, various patterns or shapes can be processed on the irradiated object. . Further, by using a reflective element in which a plurality of fine mirrors are oriented in at least two directions to form a two-dimensional image, that is, a fixed reflective element having a design, inexpensive mass production processing is possible.
加えて、第一、第二の反射素子を設けることでより精度の高い最終画像を得ることができるようになった。また、反射素子により反射したレーザービームをそれぞれ元の光路に反射ミラーで戻りビームとして反射することで、光学系をコンパクトに構成することができる。さらに、画像形成素子の少なくとも2カ所の異なる部分で反射させた少なくとも一対の2系統レーザービームを前記被照射物の同一箇所に照射することで、解像度を向上させることができる。 In addition, by providing the first and second reflective elements, a final image with higher accuracy can be obtained. In addition, the optical system can be made compact by reflecting the laser beam reflected by the reflecting element to the original optical path as a return beam by the reflecting mirror. Furthermore, the resolution can be improved by irradiating at least one pair of two-system laser beams reflected by at least two different portions of the image forming element to the same portion of the object to be irradiated.
本発明の他の目的、構成及び効果については、以下の発明の実施の形態の項から明らかになるであろう。 Other objects, configurations, and effects of the present invention will become apparent from the following embodiments of the present invention.
以下、適宜添付図面を参照しながら、本発明をさらに詳しく説明する。まず、図1〜4を参照しながら、本発明の第一実施形態について説明する。本発明に係るレーザー照射装置1は、大略、レーザー光源2のレーザー光を画像形成素子3、第一光路要素4、第二光路要素5及び縮小レンズ7を介して被照射物100の表面に照射し、被照射物100をアブレーション加工又は露光させるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings as appropriate. First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The
本実施形態における画像形成素子3としては、DMD(デジタルミラーデバイス、商標名)という反射素子11を用いている。この反射素子11は、図2に示すように、平板状の基板11a上に紙面垂直方向に二次元的に広がるように複数の微細ミラー11bが配置され、駆動部11cをコンピュータ制御することにより基板11aの角度を変化させる。同図では、微細ミラー11bがそれぞれ符号A1,A2のような2状態に傾斜制御されることにより、往路ビームLfがそれぞれ第一、第二方向D1,D2の第一、第二往路ビームLf1,Lf2に振り分けられ、それぞれ第一、第二光路要素4,5で縮小レンズ7に導かれる。
As the
図3は二次元画像の入出力関係を示すブロック図であり、図4のホログラムへの変換と対象させて説明する。まず、原画像101はレンズ7’により画像形成素子3へフーリエ変換されて位相ホログラムとして転写され、さらに、画像形成素子3のホログラム画像がレンズ7’により基盤上に干渉しながら転写されて最終画像103が形成される。原画像101はレーザー2による像の転写を考慮すれば、次式Eで示される。ωは角速度、tは時間、kは時定数である。
FIG. 3 is a block diagram showing the input / output relationship of a two-dimensional image, and will be described with reference to the conversion to the hologram of FIG. First, the
E(y,z)=U(y,z)exp{i(ωt−kx)+φ(y,z)} (1) E (y, z) = U (y, z) exp {i (ωt−kx) + φ (y, z)} (1)
そして、原画像101はPC9の処理により次式でフーリエ変換Fされ、画像形成素子3すなわち反射素子11上にデジタル位相ホログラム像として次式Iにより二次元的に表示される。
Then, the
I(y,z)=1 (φ(y,z)=0のとき)
I(y,z)=−1 (φ(y,z)=πのとき) (2)
ここで、(2)式に含まれる位相φは次の通りとなる。
φ(y,z)=arg[F{E(y,z)}]
−π/2<φ(y,z)<π/2 のとき φ(y,z)=0
π/2<φ(y,z)<3π/2 のとき φ(y,z)=π
I (y, z) = 1 (when φ (y, z) = 0)
I (y, z) =-1 (when φ (y, z) = π) (2)
Here, the phase φ included in the equation (2) is as follows.
φ (y, z) = arg [F {E (y, z)}]
When −π / 2 <φ (y, z) <π / 2, φ (y, z) = 0
When π / 2 <φ (y, z) <3π / 2 φ (y, z) = π
そして、第一、第二光路要素4,5に振り分けられた位相ホログラム像は縮小レンズ7を介した被照射物100上への干渉合成により逆フーリエ変換F-1され、次式Eにより最終画像103が合成される。
The phase hologram image distributed to the first and second
E(y,z)=F-1{I(y,z)1/2} (3) E (y, z) = F −1 {I (y, z) 1/2 } (3)
なお、フーリエ変換画像102を逆フーリエ変換しただけでは元の波面を形成しないので、計算を繰り返して、最終画像103の生成精度を向上させればよい。以下の実施形態でも同様にフレネル変換により中間画像102を求め、さらに逆演算で最終画像103を求めても良いが、計算時間がかかることからホログラムを目的としたフーリエ変換の方が優れている。
In addition, since the original wavefront is not formed only by performing the inverse Fourier transform on the Fourier
光学系をさらに詳述すると、第一光路要素4は第一中継ミラー群14と反射素子11の反射像を転写するリレーレンズ13とを含み、第二光路要素5は第二中継ミラー群15とリレーレンズ13とを含んでいる。第二中継ミラー群15の15a,15bの間隔は一定である。これに対し、第一中継ミラー群14は14a及び14cと14bとの間隔を調整することで、第一往路ビームLf1及び第二往路ビームLf2間の位相差を調整する位相調整器6として機能する。
More specifically, the first
縮小レンズ7は第一、第二往路ビームLf1,Lf2により運ばれる像を縮小し、これら両系統のレーザー光が先の位相調整器6で適切な条件で干渉するように調整を行い、被照射物100に画像を写し込む。第一、第二往路ビームLf1,Lf2の一方には他方に偏光方向を一致させるための偏光調整器17を設けることが望ましい。また、加工精度に応じ、レーザー光源2の出力光の波長(周波数)を変調する変調手段16を介在させても良い。
The
ここで、レーザー光源2は、コーヒーレントな光の光源を意味し、例えばcwレーザー、パルスレーザー、He-Cdレーザー、Arレーザー、エキシマレーザー、YAGレーザー、フェムト秒レーザー、He−Neレーザー、色素レーザー、半導体レーザー等を用いることができる。ビームエキスパンダー10は、レーザー光を平行光のまま広げる拡大光学系であり、ケプラータイプのレンズセットやガリレオタイプのレンズセット、カセグレン鏡(鏡胴)を用いることができる。リレーレンズ13としては、像を転送するものであればよく、例えばプロジェクションレンズが用いられる。リレーレンズ13もケプラータイプやガリレオタイプが存在するが、装置をコンパクトにするには前者、高パワーの光を使用する場合は後者が適切である。位相調整器6は、光学距離に差を付けることにより位相差を生じさせるものであればよく、上述のごとき遅延ラインの他、バビネソレイユ板やプリズムセット、光学的に精度の出たガラス板等を用いることができる。偏光調整器17は、水平偏向と垂直偏向の屈折率の違いを利用して一方向の軸方向の位相をシフトすることによりビームの変更方向を一致させるものであり、波長板等が用いられる。
Here, the
使用に際しては、PC9に対し原画像101のデータを入力し、上記式(2)を用いてフーリエ変換画像102を生成する。このフーリエ変換画像102情報に基づいて反射素子11の駆動部11cを制御して微細ミラー11bの調整により反射素子11の表面にフーリエ変換画像102を描く。そして、第一、第二往路ビームLf1,Lf2に振り分けられた画像は、縮小レンズ7で被照射物100上に最終画像103として結像され、被照射物100表面への加工又は現像が行われる。
In use, the data of the
次に、本発明の他の実施形態について説明する。なお、以下の各実施形態では、上記実施形態と同様の構成要素には同様の符号を附してある。 Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same reference numerals are given to the same components as those in the above embodiment.
図5に示す第二実施形態では、画像形成素子3として対面的に配置された第一、第二反射素子21,22が用いられている。第一、第二反射素子21,22の間に配置される第一、第二光路要素4、5にはそれぞれ中継ミラー24を介して一対のリレーレンズ23,23が設けられ、第一光路要素4の第一往路ビームLf1中には上述の位相調整器6としてバビネソレイユ板25が配置されている。
In the second embodiment shown in FIG. 5, first and second
第一反射素子21に入射した往路ビームLfは第一、第二往路ビームLf1,Lf2に振り分けられ、さらに第二反射素子22で反射されて画像が合成され、縮小レンズ7を介して被照射物100表面に写像される。第一反射素子21に表示される中間画像102は、第一、第二光路要素4、5による画像合成と第二反射素子22上での画像合成とを経て原画像103になるように、第一、第二反射素子21,22の表示がPC9により演算される。
The outgoing beam Lf incident on the first reflecting
図6に示す第三実施形態では、振り分けられた第一、第二往路ビームLf1,Lf2が、第一、第二反射ミラー31,32により再び反射素子11に復路ビームLbとして180度反転されて復帰反射され、回転素子35を経て被照射物100に写像される点が異なる。第一、第二反射ミラー31,32のいずれか一方には鏡面垂直方向に鏡面位置を変更可能な位相調整器6が設けられる。例えば、ピエゾ素子により位置変更の微調整が可能なピストンミラーが第一、第二反射ミラー31,32のいずれか一方に採用される。この位相調整器6により片方のミラーの位置を調節することで、第一、第二往路ビームLf1,Lf2間に位相差を生じさせる。
In the third embodiment shown in FIG. 6, the distributed first and second forward beams Lf1 and Lf2 are again inverted 180 degrees as the return beam Lb by the first and second reflecting
ビームエキスパンダー10と反射素子11との間には順次偏光分離素子34,回転素子35が配置される。偏光分離素子34はs波・p波の違いにより偏光を分離する素子であり、往路ビームLfを透過させるようにレーザー光源2の出力と偏光方向を一致させてある。回転素子35は反射素子11に向かう往路ビームLfには偏光方向に変化を与えずに透過させるが、反射素子11から偏光分離素子34に戻ろうとする復路ビームLbは透過時に偏光面を回転させる。回転素子35には例えば磁場の向きによって定まる旋光方向に光の偏光を回転させることによって一方向の入射光のみに所定の偏光角(例えば6〜7度)を与えるファラデー回転素子が用いられる。回転素子35は復路ビームLbをそのまま透過させ、往路ビームLfのみの偏光方向を回転させるようにしてもよい。合成画像として反射された復路ビームLbは、往路ビームLfの方向に約45度傾けられた偏光分離素子34により90度反射され、縮小レンズ7を介して被照射物100上に転写される。
Between the
図7(a)は上記第一実施形態の図1におけるxy平面視でその一部を模式的に表したもので、反射素子11における1カ所の第一反射部11xから反射したレーザー光を被照射物100上に合成しているため、階調度が限られる。そこで、図7(b)の第四実施形態にみられるように、反射素子11における2カ所の第一反射部11x、第二反射部11yそれぞれで2方向に分離されたレーザー光を一対の光路要素群40,40でそれぞれ干渉合成し、さらに一対の合成ミラー41,41を用いて被照射物100上に合成転写することで、階調度を向上させることができる。すなわち、原画像に対し反射素子11上に形成するホログラム像は階調度の違いによって第一、第二反射部11x,11yのいずれに表示するのかが分離される。なお、反射素子11上の反射部は第一、第二反射部11x,11yの2カ所に限らず、3カ所以上設けてさらに階調度を向上させてもよい。反射部は同一の反射素子11上である必要はなく、複数個の反射素子11を設け階調度を向上させても良い。
FIG. 7A schematically shows a part of the first embodiment in the xy plan view in FIG. 1, and the laser beam reflected from one first reflecting
図8(a)、図9の第五実施形態では、微細ミラー11bが上述のPC9により3段階に傾斜制御されるように反射素子11が構成されている。図8では1つのxy平面において3段階に傾斜しているが、3段階の傾斜が3次元的に行われるように構成してもよい。符号D1〜D3の3方向に配分された反射素子11の反射光は第一、第二、第三光路要素4,5,8及び縮小レンズ7を介して被照射物100上に合成画像103を干渉合成させる。位相調整器6は第一、第二、第三光路要素4,5,8のいずれかの2つに設ければよい。本実施形態も第四実施形態と同様に合成画像103の階調度を向上させることができ、4方向以上に入射光を配分させるように構成してもよい。
In the fifth embodiment shown in FIGS. 8A and 9, the
上記各実施形態では画像形成素子3として微細ミラー11bが角度変更可能なDMDを用いた。しかし、図8(b)の第六実施形態に示すように、複数の微細ミラー51を二次元的に複数方向A1〜A3に配向させて反射方向D1〜D3を固定的に設定した固定反射ミラー50を画像形成素子3として用いても良い。
In each of the above embodiments, a DMD in which the angle of the
上記各実施形態において、照射領域が一回の固定した範囲よりも大きな場合は、被照射物の照射位置を光に対して相対的に移動させ、複数回に分けて照射を行うようにしてもよい。この場合、複数回に分けて照射される分割された照射領域間で光の照射される部分のフルエンスを調整する素子、例えば、可変NDフィルタやバリアブルアッティネーター等により照射強度を調節することで、露光やアブレーションの程度を一定にすることができる。また、各分割照射領域間で照射強度や露光回数・時間を変化させることにより、目的に応じて部分的な露光やアブレーションの程度を変化させることも可能である。フルエンス調整素子は、ビームが分かれていない部分、すなわち、レーザー光源2と画像形成素子3との間、例えば図1の符号16の位置等に設置することが望ましい。
In each of the above embodiments, when the irradiation area is larger than the fixed range of one time, the irradiation position of the irradiation object is moved relative to the light, and the irradiation is performed in a plurality of times. Good. In this case, by adjusting the irradiation intensity with an element that adjusts the fluence of the portion irradiated with light between the divided irradiation regions irradiated in multiple times, for example, a variable ND filter, a variable attenuator, etc. The degree of exposure and ablation can be made constant. In addition, by changing the irradiation intensity, the number of times of exposure, and the time between the divided irradiation regions, it is possible to change the degree of partial exposure or ablation according to the purpose. The fluence adjusting element is desirably installed in a portion where the beam is not separated, that is, between the
上記各実施形態では、ホログラム方式やフレネル方式により中間画像102と原画像101及び最終画像103との変換を行ったが、実現可能な他の変換方式を用いても良い。なお、上記各実施形態は相互に組み合わせて実施することが可能である。
In each of the above embodiments, the
本発明のレーザー照射方法及び照射装置は、レーザー光を利用したアブレーション加工又は露光用として利用することができる。 The laser irradiation method and irradiation apparatus of the present invention can be used for ablation processing or exposure using laser light.
1:レーザー照射装置、2:レーザー光源、3:画像形成素子、4:第一光路要素、5:第二光路要素、6:位相調整器、7:縮小レンズ(縮小手段)、7’:レンズ、8:第三光路要素、9:PC(パーソナルコンピューター)、10:ビームエキスパンダー、11:反射素子、11a:基板、11b:微細ミラー、11c:駆動部、11g:反射部、11x:第一反射部、11y:第二反射部、13:リレーレンズ(転送素子)、14:第一中継ミラー群、15:第二中継ミラー群、16:変調手段、17:偏光調整器、21:第一反射素子、22:第二反射素子、23:リレーレンズ(転送素子)、24:中継ミラー、25:バビネソレイユ板(位相調整器)、31:第一反射ミラー、32:第二反射ミラー、33:リレーレンズ、34:偏光分離素子、35:回転素子、40:光路要素群,41:合成ミラー、50:固定反射素子、51:微細ミラー、100:被照射物、原画像:101、フーリエ変換画像102、最終画像103、L:レーザービーム、Lf:往路ビーム、Lf1:第一往路ビーム、Lf2:第二往路ビーム、Lb:復路ビーム、D1:第一方向、D2:第二方向、D3:第三方向
1: laser irradiation device, 2: laser light source, 3: image forming element, 4: first optical path element, 5: second optical path element, 6: phase adjuster, 7: reduction lens (reduction means), 7 ′: lens 8: Third optical path element, 9: PC (personal computer), 10: Beam expander, 11: Reflective element, 11a: Substrate, 11b: Fine mirror, 11c: Drive unit, 11g: Reflector, 11x: First reflection Part, 11y: second reflection part, 13: relay lens (transfer element), 14: first relay mirror group, 15: second relay mirror group, 16: modulation means, 17: polarization adjuster, 21: first reflection Element: 22: Second reflection element, 23: Relay lens (transfer element), 24: Relay mirror, 25: Babynesoleil plate (phase adjuster), 31: First reflection mirror, 32: Second reflection mirror, 33: Relay lens, 34 : Polarization separating element, 35: Rotating element, 40: Optical path element group, 41: Synthetic mirror, 50: Fixed reflecting element, 51: Fine mirror, 100: Irradiated object, Original image: 101, Fourier transform image 102, Final image 103, L: Laser beam, Lf: Outbound beam, Lf1: First outbound beam, Lf2: Second outbound beam, Lb: Return beam, D1: First direction, D2: Second direction, D3: Third direction
Claims (13)
前記画像形成素子が複数の微細ミラーを少なくとも2方向に切り替えて2次元画像を形成することの可能な反射素子であることを特徴とするレーザー照射方法。 A laser irradiation method for obtaining a desired image on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element,
The laser irradiation method, wherein the image forming element is a reflective element capable of forming a two-dimensional image by switching a plurality of fine mirrors in at least two directions.
前記画像形成素子が複数の微細ミラーを少なくとも2方向に配向して2次元画像を形成した反射素子であることを特徴とするレーザー照射方法。 A laser irradiation method for obtaining a desired image on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element,
The laser irradiation method, wherein the image forming element is a reflective element in which a plurality of fine mirrors are oriented in at least two directions to form a two-dimensional image.
前記各反射素子に累積して所望の画像を被照射物に形成することの可能なホログラム画像をそれぞれ形成し、前記第一の反射素子により前記少なくとも2方向に振り分けられた少なくとも2系統のレーザービームに位相差を付与し、これらビームを第二の反射素子上で干渉させて被照射物上に照射することを特徴とする請求項1、2又は4のいずれかに記載のレーザー照射方法。 The image forming element is a first and second reflecting element that sequentially reflects the laser beam and guides it to the irradiated object,
Hologram images capable of being accumulated on the respective reflecting elements to form a desired image on an object to be irradiated are formed, and at least two systems of laser beams distributed in the at least two directions by the first reflecting element. 5. The laser irradiation method according to claim 1, wherein a phase difference is imparted to the first reflection element, and these beams are caused to interfere with each other on the second reflecting element to be irradiated onto the irradiated object.
The laser irradiation apparatus used in the laser irradiation method according to any one of claims 1 to 11, wherein a desired image is obtained on an irradiated object by irradiating the irradiated object with a laser beam through an image forming element. A laser irradiation apparatus comprising a reflective element capable of forming a two-dimensional image by switching a plurality of fine mirrors in at least two directions.
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JP2009021597A (en) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Samsung Electro Mech Co Ltd | Multi-beam laser apparatus |
JP2011204911A (en) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Japan Steel Works Ltd:The | Method for manufacturing anneal processed body and laser annealing apparatus |
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2004
- 2004-03-04 JP JP2004061239A patent/JP2005250173A/en active Pending
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