JP2005228522A

JP2005228522A - Slip ring device

Info

Publication number: JP2005228522A
Application number: JP2004033852A
Authority: JP
Inventors: Naoya Tanaka; 直也田中; Atsuyuki Miyoshi; 淳之三好; Jun Nakagawa; 潤中川; Shunichi Kawamura; 俊一川村
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2004-02-10
Filing date: 2004-02-10
Publication date: 2005-08-25
Anticipated expiration: 2024-02-10
Also published as: JP4476641B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slip ring device capable of suppressing increase of contact electric resistance in a contact part between a brush and a rotary ring even when friction powder, surface irregularity of the rotary ring or the like is present. <P>SOLUTION: This slip ring device is so structured that a plurality of flat-plate brushes 1 are each formed of a conductive member having flexibility, and arranged in a rotation axis direction of the rotary ring 3; and a brush holder 2 holds the plurality of flat-plate brushes 1 so that the plurality of flat-plate brushes 1 brings the rotary ring 3 into press contact therewith. Thereby, even if friction powder, surface irregularity of the rotary ring due to friction of the ring surface or the like is present, probability of ensuring conductivity is increased by bringing some of the flat-plate brushes 1 into contact with the rotary ring 3. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、例えば、人工衛星に搭載される回転体に取り付けられ、回転側と固定側の電気的結合に用いられるスリップリング装置に関するものである。 The present invention relates to a slip ring device that is attached to a rotating body mounted on an artificial satellite and used for electrical coupling between a rotating side and a fixed side, for example.

スリップリング装置は、回転軸と固定側の電気的結合に用いられるが、その基本的な構造は次の通りである。
まず、回転体の回転軸には、導電体材からなる回転リングと絶縁体とが交互に積み重ねられている。一方、回転体の固定側には、その回転軸からある距離をおいて、導電体材からなるブラシホルダーが回転軸方向に積層状に配置され、そのブラシホルダーによってブラシがリングに接触するように固定されている。 The slip ring device is used for electrical coupling between the rotating shaft and the fixed side, and its basic structure is as follows.
First, rotating rings and insulators made of a conductive material are alternately stacked on the rotating shaft of the rotating body. On the other hand, on the fixed side of the rotating body, a brush holder made of a conductive material is arranged in a layered manner in the direction of the rotating shaft at a distance from the rotating shaft so that the brush contacts the ring by the brush holder. It is fixed.

上記のようなスリップリング装置の場合、設置スペースを小さくするためには、一リング／ブラシ当たりの軸方向の幅寸法を小さくすることが望まれる。
しかし、軸方向の幅寸法を小さくすると、スリップリング装置の電気抵抗から発生する熱が問題になる。
即ち、スリップリング装置のブラシや回転リングには電気抵抗が存在し、また、そのブラシと回転リングの接触部にも電気抵抗が存在する。
これらの電気抵抗のうち、比較的サイズの小さいブラシの電気抵抗(以下、ブラシ抵抗という)と、そのブラシと回転リングの接触部における電気抵抗（以下、接触電気抵抗という）は、その回転リングの電気抵抗と比べて大きい。 In the case of the slip ring device as described above, in order to reduce the installation space, it is desired to reduce the axial width dimension per ring / brush.
However, when the axial width dimension is reduced, heat generated from the electrical resistance of the slip ring device becomes a problem.
That is, an electric resistance exists in the brush and the rotating ring of the slip ring device, and an electric resistance also exists in a contact portion between the brush and the rotating ring.
Of these electrical resistances, the electrical resistance of a relatively small brush (hereinafter referred to as brush resistance) and the electrical resistance at the contact portion between the brush and the rotating ring (hereinafter referred to as contact electrical resistance) Greater than electrical resistance.

このため、スリップリング装置に電流を流すと、電気抵抗が大きいブラシから発熱を生じ、また、ブラシとリングの接触部から発熱を生じる。このような発熱を生じると、ブラシが高温軟化して熱変形を生じるなどの問題が発生する。また、ブラシと回転リングの接触部の温度上昇により摩耗増大が生じるなどの問題が発生する。 For this reason, when an electric current is passed through the slip ring device, heat is generated from a brush having a large electric resistance, and heat is generated from a contact portion between the brush and the ring. When such heat generation occurs, problems such as thermal deformation of the brush due to softening at a high temperature occur. In addition, problems such as increased wear occur due to the temperature rise at the contact portion between the brush and the rotating ring.

従来のスリップリング装置は、上記のような問題を解決するため、回転リングに接触して摺動する摺動ブラシを断面矩形状の板で構成し、その摺動ブラシの幅を厚みより大きい形状にしている。
また、この摺動ブラシは、一つの回転リングに２つ設けられ、バネを介して回転リングに押さえ付けられている。
これにより、従来のスリップリング装置では、摺動ブラシの断面積が拡大されるため、ブラシ抵抗が低減している。また、摺動ブラシの厚みよりも幅を大きくしているため、回転リングの回転軸方向の幅を拡大することなく、回転リングを小型にすることが可能になっている（例えば、特許文献１参照）。 In order to solve the above-described problems, the conventional slip ring device has a sliding brush that contacts the rotating ring and slides with a plate having a rectangular cross section, and the width of the sliding brush is larger than the thickness. I have to.
Two sliding brushes are provided on one rotating ring, and are pressed against the rotating ring via a spring.
Thereby, in the conventional slip ring apparatus, since the cross-sectional area of a sliding brush is expanded, brush resistance is reducing. In addition, since the width is larger than the thickness of the sliding brush, it is possible to reduce the size of the rotating ring without increasing the width of the rotating ring in the rotation axis direction (for example, Patent Document 1). reference).

特開平８−１９１５５７号公報（第３頁から第４頁、図１）JP-A-8-191557 (pages 3 to 4, FIG. 1)

従来のスリップリング装置は以上のように構成されているので、回転リングの回転に伴って、摺動ブラシと回転リングの接触部における接触電気抵抗が増大して、大きな発熱を生じることがあるなどの課題があった。
即ち、摺動ブラシと回転リングが回転摺動することにより、両者から摩耗粉が発生し、この摩耗粉が摺動ブラシと回転リングの間に介在することがある。このような状況下では、回転リングが摺動ブラシから離れ、実質的な電気通路が摩耗粉部分となり、導電部面積が狭くなるため、接触電気抵抗の増加が発生する。また、上記の摩耗粉以外にも周囲の微小なコンタミや回転中にリング表面が磨耗することによって生じるリング表面の微小な凹凸の影響リング表面が磨耗することによる回転リングの表面凹凸などによっても上記と同様の理由により、接触電気抵抗の増大が発生する。 Since the conventional slip ring device is configured as described above, the contact electrical resistance at the contact portion between the sliding brush and the rotating ring increases with the rotation of the rotating ring, which may generate a large amount of heat. There was a problem.
That is, when the sliding brush and the rotating ring rotate and slide, wear powder is generated from both, and this wear powder may be interposed between the sliding brush and the rotating ring. Under such circumstances, the rotating ring is separated from the sliding brush, the substantial electric path becomes a worn powder portion, and the conductive portion area is reduced, so that an increase in contact electric resistance occurs. In addition to the above-mentioned wear powder, the influence of minute contamination on the ring surface caused by wear of the ring surface during rotation and the surface unevenness of the rotation ring caused by wear of the ring surface also cause the above For the same reason, an increase in contact electric resistance occurs.

この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、摩擦粉や回転リングの表面凹凸などが存在していても、ブラシと回転リングの接触部における接触電気抵抗の増大を抑制することができるスリップリング装置を得ることを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and suppresses an increase in the contact electric resistance at the contact portion between the brush and the rotating ring even when there is friction powder or surface irregularities of the rotating ring. An object of the present invention is to obtain a slip ring device that can be used.

この発明に係るスリップリング装置は、ブラシが可撓性のある導電部材で構成されるとともに、回転リングの回転軸方向に複数並べられ、複数のブラシが回転リングを圧接するようにブラシホルダーによって保持されているものである。 In the slip ring device according to the present invention, the brush is made of a flexible conductive member, and a plurality of brushes are arranged in the direction of the rotation axis of the rotating ring, and the plurality of brushes are held by the brush holder so as to press-contact the rotating ring. It is what has been.

この発明によれば、ブラシが可撓性のある導電部材で構成されるとともに、回転リングの回転軸方向に複数並べられ、複数のブラシが回転リングを圧接するように、ブラシホルダーが複数のブラシを保持するように構成したので、摩擦粉や回転リングの表面凹凸などが存在していても、ブラシと回転リングの接触部における回転中の接触電気抵抗の増大を抑制することができる効果がある。 According to this invention, the brush is made of a flexible conductive member, and a plurality of brush holders are arranged in the direction of the rotation axis of the rotating ring, and the plurality of brushes press-contact the rotating ring. Since there is friction powder, surface irregularities of the rotating ring, etc., there is an effect that it is possible to suppress an increase in contact electric resistance during rotation at the contact portion between the brush and the rotating ring. .

実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１によるスリップリング装置を示す斜視図であり、図において、断面形状が矩形で可撓性のある平板ブラシ１は回転リング３が回転しているとき、回転リング３との接触を維持して、回転リング３と電気的に結合するものであり、平板ブラシ１は回転リング３の回転軸ＡＡ’方向に互いに側面を接するように３枚並べられ、導電性部材からなるブラシホルダー２に保持されている。また、平板ブラシ１は自身が撓むことにより、回転リング３に対して所定の圧接力で接触するように固定されている。 Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing a slip ring device according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, a flexible flat brush 1 having a rectangular cross-sectional shape is rotated when a rotating ring 3 is rotating. 3 is maintained in contact with the rotating ring 3 and is electrically coupled to the rotating ring 3. The flat brush 1 is arranged in such a manner that three side surfaces are in contact with each other in the direction of the axis of rotation AA ′ of the rotating ring 3, and a conductive member. It is hold | maintained at the brush holder 2 which consists of. Moreover, the flat brush 1 is being fixed so that it may contact with the rotating ring 3 by predetermined | prescribed press-contact force by bending itself.

ブラシホルダー２は固定フレーム５に電気的に絶縁された状態で固定され、平板ブラシ１が回転リング３を圧接するように、平板ブラシ１を保持している。
回転リング３は導電性部材から構成されており、複数段の回転リング３を設けた場合に隣り合う回転リング３間の電気的絶縁を確保するため、回転軸ＡＡ’方向の両端面には絶縁スペーサ４が設けられている。
なお、ブラシホルダー２と回転リング３には導線（図示せず）が接続されており、それらの導線の片端は固定側、回転側の所定の電気接点に接続されている。 The brush holder 2 is fixed to the fixed frame 5 in an electrically insulated state, and holds the flat brush 1 so that the flat brush 1 presses against the rotating ring 3.
The rotating ring 3 is composed of a conductive member, and in order to ensure electrical insulation between adjacent rotating rings 3 when a plurality of rotating rings 3 are provided, both end surfaces in the direction of the rotation axis AA ′ are insulated. A spacer 4 is provided.
A conductive wire (not shown) is connected to the brush holder 2 and the rotating ring 3, and one end of the conductive wire is connected to a predetermined electrical contact on the fixed side and the rotating side.

次に動作について説明する。
まず、回転リング３は、図示していない外部機器の作用により、回転軸ＡＡ’周りに回転が与えられる。
この際、平板ブラシ１は、回転リング３を圧接するように、ブラシホルダー２によって保持されているので、回転リング３の回転時においても、回転リング３との接触を維持し、回転リング３との電気的な結合状態を継続する。 Next, the operation will be described.
First, the rotation ring 3 is rotated around the rotation axis AA ′ by the action of an external device (not shown).
At this time, since the flat brush 1 is held by the brush holder 2 so as to press-contact the rotating ring 3, even when the rotating ring 3 rotates, the contact with the rotating ring 3 is maintained. Continue the electrical coupling state.

ここで、平板ブラシ１は、電気伝導性が良好な部材を用いて構成される。例えば、銅やアルミ、あるいは、それらを基材とする合金、もしくは、金、銀、プラチナなどの貴金属を含む合金が部材として用いられる。
特に、Ｃｕ系合金のＢｅＣｕ（ベリリウム銅）は、種々の導電性材料のなかで、可撓性や耐食性、電気伝導度が良好であり、平板ブラシ１の適材である。さらに好ましくは、比較的安価な銅合金を母材とし、その表面に金メッキを施すようにする。金メッキを施すことにより、隣り合う平板ブラシ１同士の接触部の摩擦を低減するとともに、側面の固着を防止することができる。 Here, the flat brush 1 is comprised using a member with favorable electrical conductivity. For example, copper, aluminum, an alloy based on these, or an alloy containing a noble metal such as gold, silver, or platinum is used as the member.
In particular, Cu-based alloy BeCu (beryllium copper) is a suitable material for the flat brush 1 because of its good flexibility, corrosion resistance, and electrical conductivity among various conductive materials. More preferably, a relatively inexpensive copper alloy is used as a base material, and the surface thereof is plated with gold. By applying the gold plating, it is possible to reduce the friction at the contact portion between the adjacent flat brushes 1 and to prevent the side surfaces from sticking.

平板ブラシ１の長さｌ、１枚の幅ｗ、厚さｔは、次のようにして決定される。
まず、平板ブラシ１の長さｌは、ブラシホルダー２が回転リング３や絶縁スペーサ４などの周辺の構成部材に干渉しない位置に固定可能な長さを有するようにする。
平板ブラシ１の幅ｗは、回転リング３の幅Ｗの方向（回転軸ＡＡ’方向）に、少なくとも２枚以上並べることが可能な幅とする（図１の例では、３枚並べている）。望ましくは、５枚以上並べることが可能な幅ｗとする。具体的には、平板ブラシ１の幅ｗは０．２〜０．３ｍｍ程度が望ましい。 The length l, the width w, and the thickness t of the flat brush 1 are determined as follows.
First, the length 1 of the flat brush 1 is set such that the brush holder 2 can be fixed at a position where the brush holder 2 does not interfere with surrounding components such as the rotating ring 3 and the insulating spacer 4.
The width w of the flat brush 1 is a width that allows at least two sheets to be arranged in the direction of the width W of the rotating ring 3 (direction of the rotation axis AA ′) (in the example of FIG. 1, three sheets are arranged). Desirably, the width w is such that five or more sheets can be arranged. Specifically, the width w of the flat brush 1 is preferably about 0.2 to 0.3 mm.

平板ブラシ１の厚さｔは、所定のブラシ抵抗値が得られるように決定される。即ち、所望の平板ブラシ１の抵抗値がＲ１Ωである場合、平板ブラシ１の厚さｔは下記の式（１）から決められる。
ｔ＝Ｒ１／（ρ×ｎ×ｌ／ｗ）（１）
式（１）において、ρは平板ブラシ１の材質の比抵抗であり、ｎは並べられている平板ブラシ１の個数である。 The thickness t of the flat brush 1 is determined so as to obtain a predetermined brush resistance value. That is, when the desired resistance value of the flat brush 1 is R1Ω, the thickness t of the flat brush 1 is determined from the following equation (1).
t = R1 / (ρ × n × l / w) (1)
In equation (1), ρ is the specific resistance of the material of the flat brush 1, and n is the number of flat brushes 1 arranged.

次に、回転リング３は、平板ブラシ１を構成できる材質を用いて構成すればよい。特に、平板ブラシ１と回転リング３を相互に異なる部材で構成すれば、低温溶着や摩耗を防止することができる効果が得られる。
また、回転リング３における平板ブラシ１との接触部分には金メッキを施すようにしてもよい。その接触部分に金メッキを施すようにした場合、金の良好な導電性と耐食性を回転リング３の母材に付与することができる。
金メッキの厚さは、望ましくは３０μｍ以上とする。また、その表面の粗さはＲｍａｘ１μｍ以下が望ましい。
絶縁スペーサ４は、例えば、絶縁性と機械的強度の点からガラス繊維を含むエポキシ系樹脂やテフロン（登録商標）樹脂、あるいは、アルミナなどのセラミック系材料を用いて構成する。 Next, the rotating ring 3 may be formed using a material that can form the flat brush 1. In particular, if the flat brush 1 and the rotating ring 3 are composed of mutually different members, the effect of preventing low-temperature welding and wear can be obtained.
Further, the contact portion of the rotating ring 3 with the flat brush 1 may be plated with gold. When gold plating is applied to the contact portion, good conductivity and corrosion resistance of gold can be imparted to the base material of the rotating ring 3.
The thickness of the gold plating is desirably 30 μm or more. The surface roughness is preferably Rmax 1 μm or less.
The insulating spacer 4 is configured using, for example, an epoxy resin containing glass fiber, Teflon (registered trademark) resin, or a ceramic material such as alumina in terms of insulation and mechanical strength.

上記のような構成によれば、平板ブラシ１の断面形状が矩形であるため、平板ブラシ１の厚さｔを厚くすることにより、回転リング３の幅Ｗ内で、最も効率よく平板ブラシ１の断面積を稼げ、平板ブラシ１のブラシ抵抗を下げることができる。
また、平板ブラシ１を回転リング３の回転軸方向に複数並べたことにより、回転リング３が回転しているとき、平板ブラシ１と回転リング３の接触部に生じる接触電気抵抗(以下、ダイナミック抵抗という)を低減することが可能になる。 According to the above configuration, since the cross-sectional shape of the flat brush 1 is rectangular, by increasing the thickness t of the flat brush 1, the flat brush 1 can be most efficiently within the width W of the rotating ring 3. A cross-sectional area can be earned and the brush resistance of the flat brush 1 can be lowered.
Further, by arranging a plurality of flat brushes 1 in the direction of the rotation axis of the rotating ring 3, when the rotating ring 3 is rotating, contact electric resistance (hereinafter referred to as dynamic resistance) generated at the contact portion between the flat brush 1 and the rotating ring 3 is rotated. Can be reduced.

図２は平板ブラシ１が１枚だけ配置された場合のダイナミック抵抗の測定結果を示す説明図であり、図３は平板ブラシ１が５枚並べられた場合のダイナミック抵抗の測定結果を示す説明図である。
ただし、図２における平板ブラシ１の幅は１ｍｍであるのに対し、図３における平板ブラシ１の幅は０．２ｍｍであり、５枚分の平板ブラシ１の幅は１ｍｍである。
また、図２及び図３における平板ブラシ１は、それぞれ同等の回転リング３に対して同じ荷重で接触させられているものとする。
また、平板ブラシ１の材質はＢｅＣｕであり、回転リング３は金メッキが施された銅材からなるものとする。回転リング３の金メッキが施された面の粗さは、Ｒｍａｘ１μｍ以下としている。 FIG. 2 is an explanatory diagram showing the measurement result of dynamic resistance when only one flat brush 1 is arranged. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the measurement result of dynamic resistance when five flat brushes 1 are arranged. It is.
However, the width of the flat brush 1 in FIG. 2 is 1 mm, whereas the width of the flat brush 1 in FIG. 3 is 0.2 mm, and the width of the five flat brushes 1 is 1 mm.
Moreover, the flat brush 1 in FIG.2 and FIG.3 shall be contacted with the same load with respect to the equivalent rotating ring 3, respectively.
The flat brush 1 is made of BeCu, and the rotating ring 3 is made of a copper material plated with gold. The roughness of the surface of the rotating ring 3 on which gold plating is applied is Rmax 1 μm or less.

本構成では、回転リング３と平板ブラシ１の見かけの接触面積は同じである。したがって、理想的には、両者の接触電気抵抗は概ね同じ値となると考えられる。
しかし、回転リング３の回転時のダイナミック抵抗は、図２及び図３に示すように、平板ブラシ１が１枚だけ配置されている場合より、５枚の平板ブラシ１が並べられている場合の方が著しく小さい。 In this configuration, the apparent contact area between the rotating ring 3 and the flat brush 1 is the same. Therefore, ideally, it is considered that the contact electric resistances of both are substantially the same value.
However, as shown in FIGS. 2 and 3, the dynamic resistance during rotation of the rotating ring 3 is greater when the five flat brushes 1 are arranged than when only one flat brush 1 is arranged. Is significantly smaller.

ダイナミック抵抗の増大は、平板ブラシ１と回転リング３の接触部に摩耗粉や外部からコンタミなどが進入して介在し、平板ブラシ１と回転リング３の接触を妨げるため、導電部面積が減少することが一要因である。その他の要因として、回転リング３の摺動部表面の微小な凹凸により平板ブラシ１が振動し、回転リング３との十分な接触状態が一時的に確保できなくなるなどがある。 The increase in dynamic resistance is caused by abrasion powder or contamination entering from the outside into the contact portion between the flat brush 1 and the rotating ring 3 and interfering with the contact between the flat brush 1 and the rotating ring 3, thereby reducing the conductive portion area. That is one factor. Another factor is that the flat brush 1 vibrates due to minute irregularities on the surface of the sliding portion of the rotating ring 3 and a sufficient contact state with the rotating ring 3 cannot be temporarily secured.

複数の平板ブラシ１が並べられている場合、個々の平板ブラシ１が回転リング３への接触方向に対して、互いに独立して動くことができる。このため、複数の平板ブラシ１のうち、いくつかの平板ブラシ１に摩耗粉や突起が介在しても、残る平板ブラシ１が回転リング３との接触を維持する。
即ち、１枚の平板ブラシ１だけが配置されている場合より、複数の平板ブラシ１が並べられている場合の方が、平板ブラシ１と回転リング３の接触部が確保される確率が高くなる。
上記のような理由から、ダイナミック抵抗の増大を防止することができる。 When a plurality of flat brushes 1 are arranged, the individual flat brushes 1 can move independently of each other with respect to the direction of contact with the rotating ring 3. For this reason, the remaining flat brush 1 maintains contact with the rotating ring 3 even if wear powder or protrusions are interposed in some flat brushes 1 among the plurality of flat brushes 1.
That is, the probability that the contact portion between the flat brush 1 and the rotating ring 3 is ensured is higher when a plurality of flat brushes 1 are arranged than when only one flat brush 1 is arranged. .
For the reasons described above, an increase in dynamic resistance can be prevented.

以上で明らかなように、この実施の形態１によれば、平板ブラシ１が可撓性のある導電部材で構成されるとともに、回転リング３の回転軸方向に複数並べられ、複数の平板ブラシ１が回転リング３を圧接するように、ブラシホルダー２が複数の平板ブラシ１を保持するように構成したので、摩擦粉やリング表面が摩擦することによる回転リングの表面凹凸などが存在していても、いくつかの平板ブラシ１が回転リング３に接触することで導電を確保する確率が向上し、回転中のダイナミック抵抗の増大を抑制することができる効果を奏する。 As is apparent from the above, according to the first embodiment, the flat brush 1 is composed of a flexible conductive member, and a plurality of flat brushes 1 are arranged in the direction of the rotation axis of the rotating ring 3. Since the brush holder 2 is configured to hold the plurality of flat plate brushes 1 so that the rotary ring 3 is pressed against the rotary ring 3, even if there are surface irregularities of the rotary ring due to friction powder or friction of the ring surface, etc. The probability that several conductive brushes 1 are in contact with the rotating ring 3 to improve conductivity is improved, and an increase in dynamic resistance during rotation can be suppressed.

なお、１枚の平板ブラシ１を回転リング３の外周にわたって配置した場合にも同様の効果が得られるが、ブラシホルダー２の固定部数が多くなり、構造的に複雑となることが考えられる。
この実施の形態１では、平板ブラシ１が回転リング３の回転軸ＡＡ’方向に互いに側面を接するように３枚並べられているものについて示したが、３枚に限るものではなく、例えば、５枚以上並べるようにしてもよい。
また、この実施の形態１では、断面が矩形の平板ブラシとしたが、これに限らない。ブラシ抵抗値が所定の値を満たせば、断面が円形もしくは、楕円形でも良い。 The same effect can be obtained when one flat brush 1 is arranged over the outer periphery of the rotating ring 3, but the number of fixing parts of the brush holder 2 is increased and the structure is considered to be complicated.
In the first embodiment, the three flat brushes 1 are arranged so that the side surfaces thereof are in contact with each other in the direction of the rotation axis AA ′ of the rotating ring 3, but the number is not limited to three. You may make it arrange more than one sheet.
Moreover, in this Embodiment 1, although it was set as the flat brush with a rectangular cross section, it is not restricted to this. If the brush resistance value satisfies a predetermined value, the cross section may be circular or elliptical.

実施の形態２．
上記実施の形態１では、断面形状が矩形である平板ブラシ１が回転リング３の回転軸ＡＡ’方向に並べられているものについて示したが、図４から図６に示すように、断面形状が矩形であり、かつ、平面形状が櫛形である平板ブラシ１１，１２を回転リング３の回転軸ＡＡ’方向に並べるようにしてもよい。即ち、平板の一部にスリット１１ｂが施されて、櫛部１１ａが形成されている平板ブラシ１１と、平板の一部にスリット１２ｂが施されて、櫛部１２ａが形成されている平板ブラシ１２とを、櫛部１１ａ，１２ａが交互に入り込むように配置することにより、その櫛部１１ａ，１２ａをブラシとして使用するようにしてもよい。 Embodiment 2. FIG.
In Embodiment 1 described above, the flat brush 1 having a rectangular cross-sectional shape is shown as being arranged in the direction of the rotation axis AA ′ of the rotating ring 3, but the cross-sectional shape is as shown in FIGS. 4 to 6. Flat brushes 11 and 12 having a rectangular shape and a planar shape may be arranged in the direction of the rotation axis AA ′ of the rotating ring 3. That is, the flat plate brush 11 in which the slit 11b is formed in a part of the flat plate and the comb portion 11a is formed, and the flat brush 12 in which the slit 12b is formed in a part of the flat plate and the comb portion 12a is formed. The comb portions 11a and 12a may be used as a brush by arranging the comb portions 11a and 12a so as to alternately enter.

図４（ａ）は平板ブラシ１１，１２や回転リング３を上から見た平面図であり、図４（ｂ）は平板ブラシ１１，１２や回転リング３を横から見た断面図である。
また、図５は平板ブラシ１１の平面形状や側面形状を示す構成図であり、図６は平板ブラシ１２の平面形状や側面形状を示す構成図である。 4A is a plan view of the flat brushes 11 and 12 and the rotating ring 3 as viewed from above, and FIG. 4B is a cross-sectional view of the flat brushes 11 and 12 and the rotating ring 3 as viewed from the side.
FIG. 5 is a configuration diagram showing a planar shape and a side shape of the flat brush 11, and FIG. 6 is a configuration diagram showing a planar shape and a side shape of the flat brush 12.

平板ブラシ１１，１２は、図４から図６に示すように、平板ブラシ１１の櫛部１１ａが平板ブラシ１２のスリット１２ｂに入り込み、かつ、平板ブラシ１２の櫛部１２ａが平板ブラシ１１のスリット１１ｂに入り込むように配置するとともに、平板ブラシ１１，１２の櫛部１１ａ，１２ａが同一平面をなすように配置する。
この際、平板ブラシ１１，１２には屈曲部１１ｃ，１２ｃが設けられているので、平板ブラシ１１，１２は一つのブラシホルダー２に保持される。ブラシホルダー２の内部においては、平板ブラシ１１，１２は上下に積層されるように保持される。 As shown in FIGS. 4 to 6, the flat brushes 11 and 12 have the comb portion 11 a of the flat brush 11 that enters the slit 12 b of the flat brush 12, and the comb portion 12 a of the flat brush 12 enters the slit 11 b of the flat brush 11. The comb portions 11a and 12a of the flat brushes 11 and 12 are arranged in the same plane.
At this time, since the flat brushes 11 and 12 are provided with the bent portions 11 c and 12 c, the flat brushes 11 and 12 are held by one brush holder 2. Inside the brush holder 2, the flat brushes 11 and 12 are held so as to be stacked one above the other.

なお、図４の例では、平板ブラシ１１，１２のスリット１１ｂ，１２ｂは、ブラシホルダー２内に挿入される部分まで施されているが（ブラシホルダー２の外に出ている部分の平板ブラシ１１，１２の長さｌがスリット１１ｂ，１２ｂの長さＬ１と一致している）、これに限るものではなく、例えば、ブラシホルダー２内に挿入される手前の部分まで施されていてもよいし（ｌ＞Ｌ１）、ブラシホルダー２内に固定されている部分まで施されていてもよいし（ｌ＜Ｌ１）。また、スリット１１ｂ，１２ｂの長さもＬ１に限るものではない。
ただし、スリット１１ｂ，１２ｂの長さは、平板ブラシ１１，１２を回転リング３に所定の押付力で接触させたときに、スリット１１ｂ，１２ｂが設けられた長さ分のブラシ部のたわみが、望ましくは１ｍｍ以上となるように設定されるものである。 In the example of FIG. 4, the slits 11 b and 12 b of the flat brushes 11 and 12 are provided up to a portion to be inserted into the brush holder 2 (the flat brush 11 at a portion protruding out of the brush holder 2. , 12 is equal to the length L1 of the slits 11b, 12b), but is not limited to this. For example, it may be applied up to the front portion inserted into the brush holder 2. (L> L1) or a portion fixed in the brush holder 2 may be applied (l <L1). Further, the lengths of the slits 11b and 12b are not limited to L1.
However, the lengths of the slits 11b and 12b are such that when the flat brushes 11 and 12 are brought into contact with the rotating ring 3 with a predetermined pressing force, the deflection of the brush portion corresponding to the length of the slits 11b and 12b is provided. Desirably, it is set to be 1 mm or more.

以上で明らかなように、この実施の形態２によれば、断面形状が矩形であり、かつ、平面形状が櫛形である平板ブラシ１１，１２の櫛部１１ａ，１２ａが交互に入り込むように配置され、櫛部１１ａ，１２ａがブラシとして使用されるように構成したので、上記実施の形態１と同様の効果を奏する。また、上記実施の形態１のように、ブラシホルダー２が複数のブラシ１を別々に保持する必要はなく、ブラシホルダー２が複数の櫛部を有する平板ブラシ１１，１２を保持すればよく（図４の例では、上記実施の形態１のブラシ１に相当する櫛部１１ａ，１２ａが４つあるが、ブラシホルダー２は２つの平板を保持すれば足りる）、組み立てが容易になる効果を奏する。
図１に示すような平板ブラシ１の幅ｗが小さい場合に、その組み立て性が格段に容易になり、この効果が顕著になる。
また、平板ブラシ１１，１２は、一枚の板から加工されるため、回転リング３と接触する面を容易に揃えることができる効果も奏する。 As apparent from the above, according to the second embodiment, the comb portions 11a and 12a of the flat brushes 11 and 12 whose cross-sectional shape is rectangular and whose planar shape is a comb shape are arranged so as to alternately enter, Since the comb portions 11a and 12a are configured to be used as brushes, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, unlike the first embodiment, the brush holder 2 does not have to hold the plurality of brushes 1 separately, and the brush holder 2 may hold the flat brushes 11 and 12 having a plurality of comb portions (FIG. 4). In this example, there are four comb portions 11a and 12a corresponding to the brush 1 of the first embodiment, but it is sufficient that the brush holder 2 holds two flat plates).
When the width w of the flat brush 1 as shown in FIG. 1 is small, its assemblability becomes much easier, and this effect becomes remarkable.
Moreover, since the flat brushes 11 and 12 are processed from one board, the surface which contacts the rotation ring 3 can also be easily arranged.

実施の形態３．
上記実施の形態２では、平板ブラシ１１，１２に屈曲部１１ｃ，１２ｃを設けることにより、平板ブラシ１１，１２の櫛部１１ａ，１２ａの先端が同一方向を向くように配置して、一つのブラシホルダー２が平板ブラシ１１，１２を保持するものについて示したが、図７に示すように、平板ブラシ１１，１２の櫛部１１ａ，１２ａと同様の櫛部１３ａ，１４ａを有するが、屈曲部１１ｃ，１２ｃが設けられていない平板ブラシ１３，１４（平板ブラシ１３，１４の平面形状は平板ブラシ１１，１２と同じ）を互いに角度θをつけてブラシホルダー２に保持されるようにしてもよい。
図７（ａ）は平板ブラシ１３，１４や回転リング３を上から見た平面図であり、図７（ｂ）は平板ブラシ１３，１４や回転リング３を横から見た断面図である。 Embodiment 3 FIG.
In the second embodiment, the flat brushes 11 and 12 are provided with the bent portions 11c and 12c, so that the tips of the comb portions 11a and 12a of the flat brushes 11 and 12 are arranged in the same direction, so that one brush holder is provided. 2 has shown the thing which hold | maintains the flat brushes 11 and 12, but as shown in FIG. 7, it has the comb parts 13a and 14a similar to the comb parts 11a and 12a of the flat brushes 11 and 12, but the bending parts 11c and 12c have The flat brushes 13 and 14 that are not provided (the flat shape of the flat brushes 13 and 14 is the same as that of the flat brushes 11 and 12) may be held by the brush holder 2 with an angle θ.
7A is a plan view of the flat brushes 13 and 14 and the rotating ring 3 as viewed from above, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the flat brushes 13 and 14 and the rotating ring 3 as viewed from the side.

この実施の形態３によれば、上記実施の形態２と同様の効果を奏する他、上記実施の形態２のように、平板ブラシ１１，１２に屈曲部１１ｃ，１２ｃを設ける必要がないため、一枚の平らな板にスリットを施すだけで平板ブラシ１３，１４を形成することができ、加工が容易になる効果を奏する。 According to the third embodiment, in addition to the same effects as the second embodiment, it is not necessary to provide the bent portions 11c and 12c on the flat brushes 11 and 12 as in the second embodiment. The flat brushes 13 and 14 can be formed only by slitting a flat plate, and the processing is facilitated.

実施の形態４．
上記実施の形態２では、平板ブラシ１１，１２に屈曲部１１ｃ，１２ｃを設けることにより、平板ブラシ１１，１２の櫛部１１ａ，１２ａの先端が同一方向を向くように配置して、一つのブラシホルダー２が平板ブラシ１１，１２を保持するものについて示したが、図８に示すように、断面形状が矩形であり、かつ、平面形状が櫛形である平板ブラシ１５，１６の櫛部１５ａ，１６ａの先端が逆方向を向くように対向配置してもよい。 Embodiment 4 FIG.
In the second embodiment, the flat brushes 11 and 12 are provided with the bent portions 11c and 12c, so that the tips of the comb portions 11a and 12a of the flat brushes 11 and 12 are arranged in the same direction, so that one brush holder is provided. 2 shows the one holding the flat brushes 11 and 12, but as shown in FIG. 8, the tips of the comb portions 15a and 16a of the flat brushes 15 and 16 having a rectangular cross section and a comb shape in plan view. You may arrange so that may face the reverse direction.

即ち、平板の一部にスリット１５ｂが施されて、櫛部１５ａが形成されている平板ブラシ１５と、平板の一部にスリット１６ｂが施されて、櫛部１６ａが形成されている平板ブラシ１６とを用意し、平板ブラシ１５の櫛部１５ａの先端を図中左方向にして、平板ブラシ１５の櫛部１５ａを平板ブラシ１６のスリット１６ｂに入れ込み、かつ、平板ブラシ１６の櫛部１６ａの先端を図中右方向にして、平板ブラシ１６の櫛部１６ａを平板ブラシ１５のスリット１５ｂに入れ込むように配置することにより、その櫛部１５ａ，１６ａをブラシとして使用する。 That is, the flat plate brush 15 in which the slit 15b is formed in a part of the flat plate and the comb portion 15a is formed, and the flat brush 16 in which the slit 16b is formed in a part of the flat plate and the comb portion 16a is formed. Prepared, the tip of the comb portion 15a of the flat brush 15 is set to the left in the drawing, the comb portion 15a of the flat brush 15 is inserted into the slit 16b of the flat brush 16, and the tip of the comb portion 16a of the flat brush 16 is set to the right in the drawing. Then, by arranging the comb portion 16a of the flat brush 16 so as to be inserted into the slit 15b of the flat brush 15, the comb portions 15a and 16a are used as brushes.

図８（ａ）は平板ブラシ１５，１６や回転リング３を上から見た平面図であり、図８（ｂ）は平板ブラシ１５，１６や回転リング３を横から見た断面図である。
なお、平板ブラシ１５，１６には、櫛部１５ａ，１６ａが設けられていない側の端部が折り曲げられており（図８（ｂ）を参照）、一つのブラシホルダー２がその折り曲げ部１５ｃ，１６ｃを保持するようにしている。 8A is a plan view of the flat brushes 15 and 16 and the rotating ring 3 as viewed from above, and FIG. 8B is a cross-sectional view of the flat brushes 15 and 16 and the rotating ring 3 as viewed from the side.
The flat brushes 15 and 16 are bent at the ends where the comb portions 15a and 16a are not provided (see FIG. 8B), and one brush holder 2 has the bent portions 15c and 16c. To keep.

この実施の形態４によれば、上記実施の形態２と同様の効果を奏する他、平板ブラシ１５と平板ブラシ１６が互いに対向して配置されているため、回転リング３の回転方向が正転と逆転の２方向ある場合でも、ブラシの固定方向の影響が平均化され、安定した接触電気抵抗を得ることができる効果を奏する。 According to the fourth embodiment, in addition to the same effects as those of the second embodiment, since the flat brush 15 and the flat brush 16 are arranged to face each other, the rotation direction of the rotating ring 3 is normal rotation. Even when there are two directions of reverse rotation, the influence of the fixing direction of the brush is averaged, and there is an effect that a stable contact electric resistance can be obtained.

実施の形態５．
上記実施の形態１〜４では、複数の平板ブラシ１が回転リング３の回転軸ＡＡ’方向に並べられ、あるいは、複数の平板ブラシの櫛部を交互に入れ込むように配置されているものについて示したが、図９に示すように、平板ブラシ１、あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部を図中ＢＢ’方向に複数段積層するようにしてもよい。
図９（ａ）は平板ブラシ１や回転リング３を横から見た断面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）のＢＢ’断面図である。 Embodiment 5 FIG.
In the first to fourth embodiments, a plurality of flat brushes 1 are arranged in the direction of the rotation axis AA ′ of the rotating ring 3 or are arranged so as to alternately insert comb portions of the flat plate brushes. However, as shown in FIG. 9, the flat brush 1 or a comb portion corresponding to the flat brush 1 may be stacked in a plurality of stages in the BB ′ direction in the drawing.
9A is a cross-sectional view of the flat brush 1 and the rotating ring 3 as viewed from the side, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 9A.

図９の例では、平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）の上に、その平板ブラシ１と材質が同じであり、かつ、その平板ブラシ１と概ね等しい幅ｗと長さｌを有する補助平板ブラシ２１を重ねるようにしている。
例えば、平板ブラシ１の厚さがｔ１であって、補助平板ブラシ２１の厚さがｔ２であるとすると、その合計の厚さがｔ１＋ｔ２となるが、この際、平板ブラシ１及び補助平板ブラシ２１からなるブラシと、厚さがｔ１＋ｔ２の平板ブラシとを比較すると、平板ブラシ１及び補助平板ブラシ２１からなるブラシの方がたわみ剛性が低くなる。このとき、ブラシ抵抗は、ブラシの断面積が同じであることから概ね同一とすることができる。 In the example of FIG. 9, on the flat brush 1 (or a comb portion corresponding to the flat brush 1), the material is the same as that of the flat brush 1, and the width w and the length l are approximately equal to the flat brush 1. The auxiliary flat plate brush 21 having
For example, if the thickness of the flat brush 1 is t1 and the thickness of the auxiliary flat brush 21 is t2, the total thickness is t1 + t2. At this time, the flat brush 1 and the auxiliary flat brush 21 When the brush made of and the flat brush having a thickness of t1 + t2 are compared, the bending rigidity of the brush made of the flat brush 1 and the auxiliary flat brush 21 is lower. At this time, the brush resistance can be substantially the same because the cross-sectional area of the brush is the same.

したがって、平板ブラシ１及び補助平板ブラシ２１からなるブラシは、所望のブラシ接触力を得るためのブラシたわみ量に誤差や変動が生じても、ブラシの接触力に与える影響を少なくすることができる効果が得られる。即ち、組み立て時の接触力調整が容易となる効果が得られる。また、ブラシや回転リング３が摩耗し、ブラシたわみ量が減少することによるブラシ接触力の低下を少なくする効果が得られる。 Therefore, the brush composed of the flat brush 1 and the auxiliary flat brush 21 can reduce the influence on the contact force of the brush even if an error or fluctuation occurs in the amount of deflection of the brush for obtaining a desired brush contact force. Is obtained. That is, the effect that the contact force adjustment at the time of assembly becomes easy is obtained. Further, the brush and the rotating ring 3 are worn, and the effect of reducing the reduction in the brush contact force due to the reduction in the amount of brush deflection can be obtained.

なお、この実施の形態５では、平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）の上に、１枚だけ補助平板ブラシ２１を重ねるようにしているが、これに限るものではなく、２枚以上の補助平板ブラシ２１を重ねるようにしてもよい。 In the fifth embodiment, only one auxiliary flat brush 21 is stacked on the flat brush 1 (or a comb portion corresponding to the flat brush 1). However, the present invention is not limited to this. Two or more auxiliary flat brushes 21 may be stacked.

実施の形態６．
上記実施の形態５では、平板ブラシ１と材質が同じである補助平板ブラシ２１を重ねるものについて示したが、平板ブラシ１よりも電気導電性が高い材質からなる補助平板ブラシ２１を重ねるようにしてもよい。 Embodiment 6 FIG.
In the fifth embodiment, the auxiliary flat brush 21 made of the same material as the flat brush 1 is shown. However, the auxiliary flat brush 21 made of a material having higher electrical conductivity than the flat brush 1 is overlapped. Also good.

例えば、平板ブラシ１の材質がＢｅＣｕであるとき、ＢｅＣｕより電気導電性が高いＣｕ（銅）を用いて補助平板ブラシ２１を構成してもよい。
この実施の形態６によれば、平板ブラシ１と回転リング３との摩耗・摩擦特性を維持しつつ、ＢｅＣｕのみで構成した場合よりもブラシ抵抗を低くすることができる効果を奏する。 For example, when the material of the flat brush 1 is BeCu, the auxiliary flat brush 21 may be configured using Cu (copper) having higher electrical conductivity than BeCu.
According to the sixth embodiment, while maintaining the wear / friction characteristics of the flat brush 1 and the rotating ring 3, there is an effect that the brush resistance can be lowered as compared with the case of being composed only of BeCu.

実施の形態７．
上記実施の形態１〜６では、回転リング３と接触する側の平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）の面が一様に加工されているものについて示したが、図１０に示すように、回転リング３と接触する側の平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）の接触面１ａのエッジが面取りされているようにしてもよい。
即ち、平板ブラシ１の接触面１ａのエッジに曲率部１ｂを形成してもよい。
図１０は平板ブラシ１の断面形状を示す断面図である。 Embodiment 7 FIG.
In the said Embodiment 1-6, although shown about what the surface of the flat brush 1 (or the comb part equivalent to the flat brush 1) by the side which contacts the rotation ring 3 was processed uniformly, FIG. As shown, the edge of the contact surface 1a of the flat brush 1 (or the comb portion corresponding to the flat brush 1) on the side in contact with the rotating ring 3 may be chamfered.
That is, you may form the curvature part 1b in the edge of the contact surface 1a of the flat brush 1. FIG.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of the flat brush 1.

この実施の形態７によれば、回転リング３と断面矩形の平板ブラシ１が接触したとき、平板ブラシ１のエッジ部分に発生する接触面圧集中を緩和することができる。
即ち、平板ブラシ１における接触部の平板ブラシ幅方向の接触面圧分布を一様にすることができる。
これにより、平板ブラシ１の断面形状が矩形である場合に発生しやすいエッジ接触部における過度の摩耗を低減して、摩耗粉による接触電気抵抗変動を低減することができる効果を奏する。 According to the seventh embodiment, when the rotating ring 3 and the flat-plate brush 1 having a rectangular cross section come into contact with each other, the contact surface pressure concentration generated at the edge portion of the flat-plate brush 1 can be reduced.
That is, the contact surface pressure distribution in the flat brush width direction of the contact portion in the flat brush 1 can be made uniform.
Thereby, the excessive wear in the edge contact part which is easy to occur when the cross-sectional shape of the flat brush 1 is rectangular can be reduced, and the effect of reducing the contact electric resistance variation due to the wear powder can be achieved.

実施の形態８．
上記実施の形態１〜７では、複数の平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）が回転リング３の回転軸方向に並べられているものについて示したが、図１１に示すように、複数の平板ブラシ１（あるいは、平板ブラシ１に相当する櫛部）の組を回転リングの円周方向に複数配置するようにしてもよい。
図１１はこの発明の実施の形態８によるスリップリング装置を示す断面図である。 Embodiment 8 FIG.
In the said Embodiment 1-7, although it showed about what the some flat brush 1 (or the comb part equivalent to the flat brush 1) was arranged in the rotating shaft direction of the rotating ring 3, as shown in FIG. A plurality of sets of flat brushes 1 (or comb portions corresponding to the flat brush 1) may be arranged in the circumferential direction of the rotating ring.
FIG. 11 is a sectional view showing a slip ring device according to Embodiment 8 of the present invention.

図１１の例では、回転リング３の上部と接触する位置に平板ブラシ１の組を配置するとともに、回転リング３の下部と接触する位置に平板ブラシ１の組を配置しているものを示している。
また、図１１の例では、２組の平板ブラシ１とブラシホルダー２の位置関係は、回転リング３に対して、線対称の関係となるように配置している。
なお、すべての平板ブラシ１は、電気的に並列接続となるように図示せぬ導線により接続されている。 In the example of FIG. 11, a set of the flat brush 1 is arranged at a position in contact with the upper part of the rotating ring 3 and a set of the flat brush 1 is arranged at a position in contact with the lower part of the rotating ring 3. Yes.
Further, in the example of FIG. 11, the positional relationship between the two sets of the flat brush 1 and the brush holder 2 is arranged so as to have a line-symmetric relationship with respect to the rotating ring 3.
In addition, all the flat brushes 1 are connected by conducting wires (not shown) so as to be electrically connected in parallel.

以上で明らかなように、この実施の形態８によれば、２組の平板ブラシ１が一つの回転リング３に対して電気的に並列に接触しているため、接触電気抵抗とブラシの抵抗値が、上記実施の形態１〜７の略半分になる効果が得られる。
また、２組の平板ブラシ１が互いに線対称に配置されているため、回転リング３の回転方向が正転、逆転のいずれであっても、電気特性が平均化される効果が得られる。 As apparent from the above, according to the eighth embodiment, since the two sets of flat brushes 1 are in electrical contact with one rotating ring 3, the contact electric resistance and the resistance value of the brush However, the effect which becomes substantially half of the said Embodiment 1-7 is acquired.
Further, since the two sets of flat brushes 1 are arranged symmetrically with respect to each other, the effect of averaging the electrical characteristics can be obtained regardless of whether the rotation direction of the rotating ring 3 is normal rotation or reverse rotation.

なお、この実施の形態８では、２組の平板ブラシ１が一つの回転リング３に配置されているものについて示したが、３組以上の平板ブラシ１が一つの回転リング３に配置されていてもよく、同様の効果を奏することができる。 In the eighth embodiment, two sets of flat brushes 1 are arranged on one rotating ring 3, but three or more sets of flat brushes 1 are arranged on one rotating ring 3. The same effect can be achieved.

この発明の実施の形態１によるスリップリング装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the slip ring apparatus by Embodiment 1 of this invention. 平板ブラシが１枚だけ配置された場合のダイナミック抵抗の測定結果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the measurement result of the dynamic resistance when only one flat brush is arrange | positioned. 平板ブラシが５枚並べられた場合のダイナミック抵抗の測定結果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the measurement result of the dynamic resistance when five flat brushes are arranged. （ａ）は平板ブラシや回転リングを上から見た平面図である。（ｂ）は平板ブラシや回転リングを横から見た断面図である。(A) is the top view which looked at the flat brush and the rotation ring from the top. (B) is sectional drawing which looked at the flat brush and the rotation ring from the side. 平板ブラシの平面形状や側面形状を示す構成図である。It is a block diagram which shows the planar shape and side surface shape of a flat brush. 平板ブラシの平面形状や側面形状を示す構成図である。It is a block diagram which shows the planar shape and side surface shape of a flat brush. （ａ）は平板ブラシや回転リングを上から見た平面図である。（ｂ）は平板ブラシや回転リングを横から見た断面図である。(A) is the top view which looked at the flat brush and the rotation ring from the top. (B) is sectional drawing which looked at the flat brush and the rotation ring from the side. （ａ）は平板ブラシや回転リングを上から見た平面図である。（ｂ）は平板ブラシや回転リングを横から見た断面図である。(A) is the top view which looked at the flat brush and the rotation ring from the top. (B) is sectional drawing which looked at the flat brush and the rotation ring from the side. 平板ブラシや回転リングを横から見た断面図である。（ｂ）は（ａ）のＢＢ’断面図である。It is sectional drawing which looked at the flat brush and the rotation ring from the side. (B) is BB 'sectional drawing of (a). 平板ブラシの断面形状を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross-sectional shape of a flat brush. この発明の実施の形態８によるスリップリング装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the slip ring apparatus by Embodiment 8 of this invention.

Explanation of symbols

１平板ブラシ、１ａ接触面、１ｂ曲率部、２ブラシホルダー、３回転リング、４絶縁スペーサ、５固定フレーム、１１平板ブラシ、１１ａ櫛部、１１ｂスリット、１１ｃ屈曲部、１２平板ブラシ、１２ａ櫛部、１２ｂスリット、１２ｃ屈曲部、１３平板ブラシ、１３ａ櫛部、１４平板ブラシ、１４ａ櫛部、１５平板ブラシ、１５ａ櫛部、１５ｂスリット、１５ｃ折り曲げ部、１６平板ブラシ、１６ａ櫛部、１６ｂスリット、１６ｃ折り曲げ部、２１補助平板ブラシ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flat brush, 1a Contact surface, 1b Curvature part, 2 Brush holder, 3 Rotating ring, 4 Insulating spacer, 5 Fixed frame, 11 Flat brush, 11a Comb part, 11b Slit, 11c Bending part, 12 Flat brush, 12a Comb part, 12b Slit, 12c Bent, 13 Flat Brush, 13a Comb, 14 Flat Brush, 14a Comb, 15 Flat Brush, 15a Comb, 15b Slit, 15c Bent, 16 Flat Brush, 16a Comb, 16b Slit, 16c Bent, 21 Auxiliary A flat brush.

Claims

In a slip ring device, comprising: a rotating ring made of a conductive member; and a brush that is electrically connected to the rotating ring while maintaining contact with the rotating ring when the rotating ring is rotating. A plurality of brushes are arranged in the direction of the rotation axis of the rotating ring, and the plurality of brushes are held by a brush holder so as to press-contact the rotating ring. Slip ring device.

The slip ring device according to claim 1, wherein the brush is configured by using a flat plate having a rectangular cross section, and one surface of the flat plate is held by the brush holder so as to press-contact the rotating ring.

The slip ring according to claim 1, wherein a plurality of flat-plate comb portions having a rectangular cross-sectional shape and a planar shape are arranged so as to alternately enter, and the plurality of comb portions are used as a brush. apparatus.

The slip ring device according to claim 3, wherein tips of the plurality of flat comb portions are arranged so as to face the same direction.

4. The slip ring device according to claim 3, wherein the plurality of flat-plate comb portions are disposed so as to face each other in the opposite direction.

The slip ring device according to any one of claims 2 to 5, wherein a plurality of flat plates constituting the brush are laminated.

6. The auxiliary flat plate having higher conductivity than the flat plate is laminated on the surface of the flat plate constituting the brush that is not in contact with the rotating ring. 7. The slip ring device according to claim 1.

The slip ring device according to any one of claims 2 to 7, wherein an edge of a surface of the flat plate constituting the brush that is in contact with the rotating ring is chamfered.

The plurality of brush sets arranged in the direction of the rotation axis of the rotating ring are arranged in the circumferential direction of the rotating ring, and all the brushes are electrically connected in parallel. The slip ring device according to claim 8.