JP2005227223A - Chip substrate for inspection element and manufacturing method therefor - Google Patents

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JP2005227223A JP2004038583A JP2004038583A JP2005227223A JP 2005227223 A JP2005227223 A JP 2005227223A JP 2004038583 A JP2004038583 A JP 2004038583A JP 2004038583 A JP2004038583 A JP 2004038583A JP 2005227223 A JP2005227223 A JP 2005227223A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip substrate for an inspection element superior in the productivity of water, can be subjected to incineration treatment and capable of reducing the cost required in production and waste treatment, and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The chip substrate for the inspection element is a molded product, comprising a cycloolefin-based resin and has minute capillary flow channels or a recessed pattern on its surface. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、医療検査または食品検査などに用いられ、いわゆるバイオチップとして知られている検査素子用のチップ基板、およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、環状オレフィン系樹脂を用いて成形された微小なキャピラリー流路または凹パターンを有する検査素子用のチップ基板であって、環状オレフィン系樹脂を射出成形法あるいは溶融流延法により成形することにより製造され、キャピラリー流路やパターン形成の精密性や耐滅菌性に優れ、使用後には焼却処分可能な検査素子用のチップ基板に関する。   The present invention relates to a chip substrate for a test element known as a so-called biochip, which is used for medical tests or food tests, and more particularly, to a microfabricated mold using a cyclic olefin resin. A chip substrate for a test element having a simple capillary flow path or a concave pattern, which is manufactured by molding a cyclic olefin resin by an injection molding method or a melt casting method. The present invention relates to a chip substrate for an inspection element that has excellent sterilization resistance and can be incinerated after use.

医療や食品などの検査において、一枚の基板上に多数のDNAやたんぱく質などの生化学技術を応用し、一枚のチップ上で分析に必要な分離・抽出・反応・判定といった工程を行うことが可能な検査素子が、いわゆるバイオチップとして注目されている。これらの検査素子は、ミクロキャピラリーや凹地などを配置した基板が用いられている(例えば、特許文献1〜4)。
従来、これらの基板には、ガラスやシリコンといった素材が用いられ、上記のごときパターン形成はフォトレジスト技術などを応用したエッチングなどの技術が用いられている。
しかしながら、これらの素材から製造された基板は量産性に難があり、使用後に焼却処理できないため、製造や廃棄処理のためのコストが高くなり、上記のごとき検査素子の普及には問題があった。
特開2002-125654号公報 特開2002-131220号公報 特開2002-286643号公報 特開2003-021635号公報
In medical and food inspections, many chemical and biochemical techniques are applied on a single substrate, and the separation, extraction, reaction, and judgment processes necessary for analysis are performed on a single chip. Therefore, a test element capable of satisfying attention has been attracting attention as a so-called biochip. For these inspection elements, a substrate on which microcapillaries, depressions, etc. are arranged is used (for example, Patent Documents 1 to 4).
Conventionally, materials such as glass and silicon are used for these substrates, and techniques such as etching using a photoresist technique are used for pattern formation as described above.
However, substrates manufactured from these materials are difficult to mass-produce and cannot be incinerated after use, resulting in high costs for manufacturing and disposal, and there has been a problem with the widespread use of test elements as described above. .
JP 2002-125654 A JP 2002-131220 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-286643 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-021635

本発明は、量産性に優れ焼却処理が可能で、製造や廃棄処理のためのコストを低減できる検査素子用のチップ基板およびその製造方法を提供するものであり、詳しくは、耐熱性や成形加工性に優れた環状オレフィン系樹脂を用いた、従来と同等の耐殺菌性を有する検査素子用のチップ基板およびその製造方法を提供するものである。   The present invention provides a chip substrate for an inspection element that is excellent in mass productivity and can be incinerated, and can reduce costs for manufacturing and disposal, and a manufacturing method thereof. The present invention provides a chip substrate for a test element having a bactericidal resistance equivalent to the conventional one using a cyclic olefin resin having excellent properties and a method for producing the same.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を進めた結果、環状オレフィン系樹脂を用いて特定の射出成形法により成形すると、得られる成形品表面に微小なキャピラリー流路あるいは凹パターンを形成でき、係るキャピラリー流路あるいは凹パターンの転写性が極めて良好であるため、従来の検査素子用のチップ基板と比較しても遜色がなく、上記滅菌や放射線滅菌などの一般的な滅菌方法が適用可能で、さらに、樹脂製であるので焼却可能であることを見出して本発明の完成に至った。すなわち、微小なキャピラリー流路あるいは凹パターンを形成した金型を用い、キャビティーを減圧にする方法および射出圧縮成形法の少なくとも1つの方法を適用することで、量産性に優れた射出成形法により製造しても、金型のパターンを精密に転写でき得られる成形品が検査素子用のチップ基板として有用であることを見出して本発明の完成に至った。   As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have formed a minute capillary channel or a concave pattern on the surface of the obtained molded product when molded by a specific injection molding method using a cyclic olefin resin. It can be formed, and the transferability of the capillary flow path or the concave pattern is very good, so it is comparable to conventional chip substrates for test elements, and general sterilization methods such as sterilization and radiation sterilization are available. The present invention has been completed by finding that it can be applied and is incinerated because it is made of resin. In other words, by using at least one of a method for reducing the cavity pressure and an injection compression molding method using a mold having a minute capillary channel or a concave pattern, an injection molding method with excellent mass productivity. The present invention has been completed by finding that a molded product that can accurately transfer the pattern of a mold even after production is useful as a chip substrate for an inspection element.

本発明によれば、耐殺菌性やパターンの形成性に優れるとともに、表面加工性や接着性に優れた検査素子用のチップ基板を得ることが可能である。本発明の検査素子用のチップ基板は、食品や医療などの検査に用いるバイオセンサーや化学センサーとして好適である。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to obtain the chip | tip board | substrate for test | inspection elements which was excellent in sterilization resistance and the pattern formation property, and excellent in surface workability and adhesiveness. The chip substrate for a test element of the present invention is suitable as a biosensor or a chemical sensor used for food or medical tests.

本発明の検査素子用のチップ基板(以降、「チップ基板」という。)には、環状オレフィン系樹脂を使用するが、係る環状オレフィン系樹脂としては、次のような(共)重合体が挙げられる。
(1)下記一般式(I)で表される特定単量体の開環重合体。
(2)下記一般式(I)で表される特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体。
(3)上記(1)または(2)の開環(共)重合体の水素添加(共)重合体。
(4)上記(1)または(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体。
(5)下記一般式(I)で表される特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。
(6)下記一般式(I)で表される特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体およびその水素添加(共)重合体。
(7)下記一般式(I)で表される特定単量体とアクリレートとの交互共重合体。
A cyclic olefin resin is used for the chip substrate for the test element of the present invention (hereinafter referred to as “chip substrate”). Examples of the cyclic olefin resin include the following (co) polymers. It is done.
(1) A ring-opening polymer of a specific monomer represented by the following general formula (I).
(2) A ring-opening copolymer of a specific monomer represented by the following general formula (I) and a copolymerizable monomer.
(3) A hydrogenated (co) polymer of the ring-opening (co) polymer of (1) or (2) above.
(4) A (co) polymer obtained by cyclization of the ring-opening (co) polymer of the above (1) or (2) by Friedel-Craft reaction and then hydrogenation.
(5) A saturated copolymer of a specific monomer represented by the following general formula (I) and an unsaturated double bond-containing compound.
(6) Addition type (co) of one or more monomers selected from a specific monomer represented by the following general formula (I), a vinyl-based cyclic hydrocarbon-based monomer, and a cyclopentadiene-based monomer Polymers and their hydrogenated (co) polymers.
(7) An alternating copolymer of a specific monomer represented by the following general formula (I) and an acrylate.

〔式中、R1〜R4 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜30の炭化水素基、またはその他の1価の有機基であり、それぞれ同一または異なっていてもよい。R1とR2またはR3 とR4は、一体化して2価の炭化水素基を形成しても良く、R1またはR2とR3またはR4とは互いに結合して、単環または多環構造を形成してもよい。mは0または正の整数であり、pは0または正の整数である。〕 [In formula, R < 1 > -R < 4 > is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C30 hydrocarbon group, or another monovalent organic group, respectively, and may be same or different, respectively. R 1 and R 2 or R 3 and R 4 may be combined to form a divalent hydrocarbon group, and R 1 or R 2 and R 3 or R 4 are bonded to each other to form a single ring or A polycyclic structure may be formed. m is 0 or a positive integer, and p is 0 or a positive integer. ]

<特定単量体>
上記特定単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
トリシクロ[4.3.0.12,5 ]−8−デセン、
トリシクロ[4.4.0.12,5 ]−3−ウンデセン、
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン、
5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−シアノビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−エチリデンビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フェニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フェニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−ペンタフルオロエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリス(フルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラキス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロ−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロ−5−ペンタフルオロエチル−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5−ヘプタフルオロ−iso−プロピル−6−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−クロロ−5,6,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジクロロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ジフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラキス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロ−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメトキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロ−8−ペンタフルオロエチル−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8−ヘプタフルオロiso−プロピル−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−クロロ−8,9,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジクロロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン
などを挙げることができる。
これらは、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
<Specific monomer>
Specific examples of the specific monomer include the following compounds, but the present invention is not limited to these specific examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -8-decene,
Tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene,
Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
Pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] -4-pentadecene,
5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-phenyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-tris (fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrakis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluoro-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5-heptafluoro-iso-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-chloro-5,6,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-dichloro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-fluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-difluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-pentafluoroethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrakis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluoro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8-heptafluoroiso-propyl-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-chloro-8,9,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-dichloro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene.
These can be used alone or in combination of two or more.

特定単量体のうち好ましいのは、上記一般式(I)中、R1 およびR3が水素原子または炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基であり、R2 およびR4 が水素原子または一価の有機基であって、R2 およびR4の少なくとも一つは水素原子および炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、mは0〜3の整数、pは0〜3の整数であり、より好ましくはm+p=0〜4、さらに好ましくは0〜2、特に好ましくはm=1、p=0であるものである。m=1、p=0である特定単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。
上記特定単量体の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましい。
Among the specific monomers, in general formula (I), R 1 and R 3 are each a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms. R 2 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, and at least one of R 2 and R 4 represents a polar group having a polarity other than a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and m is 0 An integer of ˜3, p is an integer of 0 to 3, more preferably m + p = 0 to 4, more preferably 0 to 2, particularly preferably m = 1 and p = 0. The specific monomer in which m = 1 and p = 0 is preferable in that the cyclic olefin resin obtained has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.
Examples of the polar group of the specific monomer include a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group. These polar groups are connected via a linking group such as a methylene group. May be combined. In addition, a hydrocarbon group in which a divalent organic group having a polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, or an imino group is bonded as a linking group can also be exemplified. Among these, a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable.

さらに、R2 およびR4の少なくとも一つが式−(CH2nCOORで表される極性基である単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Rは炭素原子数1〜12、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、nは、通常、0〜5であるが、nの値が小さいものほど、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにnが0である特定単量体はその合成が容易である点で好ましい。 Furthermore, a monomer in which at least one of R 2 and R 4 is a polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR is obtained by using a cyclic olefin-based resin having a high glass transition temperature, a low hygroscopic property, and various materials. It is preferable at the point from which it has the outstanding adhesiveness. In the formula relating to the specific polar group, R is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2, and preferably an alkyl group. In addition, n is usually 0 to 5, but the smaller the value of n, the higher the glass transition temperature of the resulting cyclic olefin resin, which is preferable, and the specific monomer having n of 0 is It is preferable in that the synthesis is easy.

また、上記一般式(I)において、R1またはR3がアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、さらに好ましくは1〜2のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、特に、このアルキル基が上記の式−(CH2nCOORで表される特定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状オレフィン系樹脂の吸湿性を低くできる点で好ましい。 In the general formula (I), R 1 or R 3 is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, particularly a methyl group. In particular, it is preferable that the alkyl group is bonded to the same carbon atom as the carbon atom to which the specific polar group represented by the above formula — (CH 2 ) n COOR is bonded. This is preferable in that the hygroscopicity can be lowered.

<共重合性単量体>
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。
シクロオレフィンの炭素数としては、4〜20が好ましく、さらに好ましいのは5〜12である。これらは、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
特定単量体/共重合性単量体の好ましい使用範囲は、重量比で100/0〜50/50であり、さらに好ましくは100/0〜60/40である。
<Copolymerizable monomer>
Specific examples of the copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and dicyclopentadiene.
The number of carbon atoms of the cycloolefin is preferably 4-20, and more preferably 5-12. These can be used alone or in combination of two or more.
A preferred use range of the specific monomer / copolymerizable monomer is 100/0 to 50/50, more preferably 100/0 to 60/40, in weight ratio.

<開環重合触媒>
本発明において、(1)特定単量体の開環重合体、および(2)特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体を得るための開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われる。
このメタセシス触媒は、(a)W、MoおよびReの化合物から選ばれた少なくとも1種と、(b)デミングの周期律表IA族元素(例えばLi、Na、Kなど)、IIA族元素(例えば、Mg、Caなど)、IIB族元素(例えば、Zn、Cd、Hgなど)、IIIA族元素(例えば、B、Alなど)、IVA族元素(例えば、Si、Sn、Pbなど)、あるいはIVB族元素(例えば、Ti、Zrなど)の化合物であって、少なくとも1つの該元素−炭素結合あるいは該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも1種との組合せからなる触媒である。また、この場合に触媒の活性を高めるために、後述の(c)添加剤が添加されたものであってもよい。
<Ring-opening polymerization catalyst>
In the present invention, (1) a ring-opening polymer of a specific monomer, and (2) a ring-opening polymerization reaction for obtaining a ring-opening copolymer of a specific monomer and a copolymerizable monomer are metathesis It is carried out in the presence of a catalyst.
This metathesis catalyst comprises (a) at least one selected from W, Mo and Re compounds, (b) Deming periodic table group IA elements (for example, Li, Na, K, etc.), IIA group elements (for example, , Mg, Ca, etc.), Group IIB elements (eg, Zn, Cd, Hg, etc.), Group IIIA elements (eg, B, Al, etc.), Group IVA elements (eg, Si, Sn, Pb, etc.), or Group IVB A catalyst comprising a combination of at least one element selected from compounds having elements (for example, Ti, Zr, etc.) and having at least one element-carbon bond or the element-hydrogen bond. In this case, in order to increase the activity of the catalyst, an additive (c) described later may be added.

(a)成分として適当なW、MoあるいはReの化合物の代表例としては、WCl6 、MoCl6 、ReOCl3 などの特開平1−132626号公報第8頁左下欄第6行〜第8頁右上欄第17行に記載の化合物を挙げることができる。
(b)成分の具体例としては、n−C49Li、(C253 Al、(C252AlCl、(C251.5AlCl1.5、(C25)AlCl2、メチルアルモキサン、LiHなど特開平1−132626号公報第8頁右上欄第18行〜第8頁右下欄第3行に記載の化合物を挙げることができる。
添加剤である(c)成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができるが、さらに特開平1−132626号公報第8頁右下欄第16行〜第9頁左上欄第17行に示される化合物を使用することができる。
Representative examples of W, Mo or Re compounds suitable as component (a) include WCl 6 , MoCl 6 , ReOCl 3, etc. JP-A-1-132626, page 8, lower left column, line 6 to page 8, upper right page. The compounds described in column 17th line can be mentioned.
(B) Specific examples of the component, n-C 4 H 9 Li , (C 2 H 5) 3 Al, (C 2 H 5) 2 AlCl, (C 2 H 5) 1.5 AlCl 1.5, (C 2 H 5 ) AlCl 2 , methylalumoxane, LiH and the like can be mentioned compounds described in JP-A No. 1-132626, page 8, upper right column, line 18 to page 8, lower right column, line 3.
As typical examples of the component (c) which is an additive, alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be suitably used, but further, JP-A-1-132626, page 8, lower right column, The compounds shown in line 16 to page 9, upper left column, line 17 can be used.

メタセシス触媒の使用量としては、上記(a)成分と特定単量体とのモル比で「(a)成分:特定単量体」が、通常、1:500〜1:50,000となる範囲、好ましくは1:1,000〜1:10,000となる範囲とされる。
(a)成分と(b)成分との割合は、金属原子比で(a):(b)が1:1〜1:50、好ましくは1:2〜1:30の範囲とされる。
(a)成分と(c)成分との割合は、モル比で(c):(a)が0.005:1〜15:1、好ましくは0.05:1〜7:1の範囲とされる。
The amount of the metathesis catalyst used is a range in which “(a) component: specific monomer” is usually 1: 500 to 1: 50,000 in terms of the molar ratio of the component (a) to the specific monomer. The range is preferably 1: 1,000 to 1: 10,000.
The ratio of the component (a) to the component (b) is such that (a) :( b) is 1: 1 to 1:50, preferably 1: 2 to 1:30 in terms of metal atomic ratio.
The ratio of the component (a) to the component (c) is such that the molar ratio (c) :( a) is in the range of 0.005: 1 to 15: 1, preferably 0.05: 1 to 7: 1. The

<重合反応用溶媒>
開環重合反応において用いられる溶媒(分子量調節剤溶液を構成する溶媒、特定単量体および/またはメタセシス触媒の溶媒)としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素、クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどの、ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アリールなどの化合物、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類などを挙げることができ、これらは単独であるいは混合して用いることができる。これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。
溶媒の使用量としては、「溶媒:特定単量体(重量比)」が、通常、1:1〜10:1となる量とされ、好ましくは1:1〜5:1となる量とされる。
<Solvent for polymerization reaction>
Examples of the solvent used in the ring-opening polymerization reaction (solvent constituting the molecular weight modifier solution, solvent for the specific monomer and / or metathesis catalyst) include alkanes such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, Cycloalkanes such as cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin, norbornane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, chlorobutane, bromohexane, methylene chloride, dichloroethane, hexamethylene dibromide, chlorobenzene, Compounds such as halogenated alkanes and aryl halides such as chloroform and tetrachloroethylene, saturated carbohydrates such as ethyl acetate, n-butyl acetate, iso-butyl acetate, methyl propionate, and dimethoxyethane Esters, dibutyl ether, tetrahydrofuran, and the like can be illustrated ethers such as dimethoxyethane, they can be used singly or in combination. Of these, aromatic hydrocarbons are preferred.
As the amount of the solvent used, “solvent: specific monomer (weight ratio)” is usually in an amount of 1: 1 to 10: 1, preferably in an amount of 1: 1 to 5: 1. The

<分子量調節剤>
得られる開環(共)重合体の分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節する。
ここに、好適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレンを挙げることができ、これらのうち、1−ブテン、1−ヘキセンが特に好ましい。
これらの分子量調節剤は、単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。
分子量調節剤の使用量としては、開環重合反応に供される特定単量体1モルに対して0.005〜0.6モル、好ましくは0.02〜0.5モルとされる。
<Molecular weight regulator>
The molecular weight of the resulting ring-opening (co) polymer can be adjusted by the polymerization temperature, the type of catalyst, and the type of solvent. In the present invention, the molecular weight is adjusted by allowing the molecular weight regulator to coexist in the reaction system. To do.
Here, suitable molecular weight regulators include, for example, α-olefins such as ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and the like. Styrene can be mentioned, and among these, 1-butene and 1-hexene are particularly preferable.
These molecular weight regulators can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the molecular weight regulator used is 0.005 to 0.6 mol, preferably 0.02 to 0.5 mol, per 1 mol of the specific monomer subjected to the ring-opening polymerization reaction.

(2)開環共重合体を得るには、開環重合工程において、特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよいが、さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を2つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定単量体を開環重合させてもよい。   (2) In order to obtain a ring-opening copolymer, a specific monomer and a copolymerizable monomer may be subjected to ring-opening copolymerization in the ring-opening polymerization step, and further, polybutadiene, polyisoprene, etc. In the presence of unsaturated hydrocarbon polymers such as conjugated diene compounds, styrene-butadiene copolymers, ethylene-nonconjugated diene copolymers, polynorbornene and the like containing two or more carbon-carbon double bonds in the main chain. The specific monomer may be subjected to ring-opening polymerization.

以上のようにして得られる開環(共)重合体は、そのままでも用いられるが、これをさらに水素添加して得られた(3)水素添加(共)重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。
<水素添加触媒>
水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜300気圧、好ましくは3〜200気圧の水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で作用させることによって行われる。
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が挙げられる。
Although the ring-opening (co) polymer obtained as described above can be used as it is, (3) the hydrogenated (co) polymer obtained by further hydrogenation is a resin having high impact resistance. It is useful as a raw material.
<Hydrogenation catalyst>
In the hydrogenation reaction, a hydrogenation catalyst is added to a usual method, that is, a solution of a ring-opening polymer, and hydrogen gas at normal pressure to 300 atm, preferably 3 to 200 atm, is added thereto at 0 to 200 ° C., preferably 20 It is carried out by operating at ~ 180 ° C.
As a hydrogenation catalyst, what is used for the hydrogenation reaction of a normal olefinic compound can be used. Examples of the hydrogenation catalyst include heterogeneous catalysts and homogeneous catalysts.

不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。   Examples of the heterogeneous catalyst include a solid catalyst in which a noble metal catalyst material such as palladium, platinum, nickel, rhodium, and ruthenium is supported on a carrier such as carbon, silica, alumina, and titania. The homogeneous catalysts include nickel naphthenate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triethylaluminum, cobalt octenoate / n-butyllithium, titanocene dichloride / diethylaluminum monochloride, rhodium acetate, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium. Dichlorotris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, and the like. The form of the catalyst may be powder or granular.

これらの水素添加触媒は、開環(共)重合体:水素添加触媒(重量比)が、1:1×10-6〜1:2となる割合で使用される。
このように、水素添加することにより得られる水素添加(共)重合体は、優れた熱安定性を有するものとなり、成形加工時や製品としての使用時の加熱によっても、その特性が劣化することはない。ここに、水素添加率は、通常、50%以上、好ましく70%以上、さらに好ましくは90%以上である。
These hydrogenation catalysts are used in such a ratio that the ring-opening (co) polymer: hydrogenation catalyst (weight ratio) is 1: 1 × 10 −6 to 1: 2.
As described above, the hydrogenated (co) polymer obtained by hydrogenation has excellent thermal stability, and its characteristics deteriorate due to heating during molding and use as a product. There is no. Here, the hydrogenation rate is usually 50% or more, preferably 70% or more, and more preferably 90% or more.

また、水素添加(共)重合体の水素添加率は、500MHz、1H−NMRで測定した値が50%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは98%以上、最も好ましくは99%以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、本発明の波長板として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。
なお、本発明の環状オレフィン系樹脂として使用される水素添加(共)重合体は、該水素添加(共)重合体中に含まれるゲル含有量が5重量%以下であることが好ましく、さらに1重量%以下であることが特に好ましい。
The hydrogenation rate of the hydrogenated (co) polymer is 50% or more, preferably 90% or more, more preferably 98% or more, and most preferably 99% or more, as measured by 500 MHz and 1 H-NMR. is there. The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light, and when used as the wave plate of the present invention, stable characteristics can be obtained over a long period of time.
The hydrogenated (co) polymer used as the cyclic olefin resin of the present invention preferably has a gel content contained in the hydrogenated (co) polymer of 5% by weight or less. It is particularly preferable that the amount is not more than% by weight.

また、本発明の環状オレフィン系樹脂として、(4)上記(1)または(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した(共)重合体も使用できる。
<フリーデルクラフト反応による環化>
(1)または(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフト反応により環化する方法は特に限定されるものではないが、特開昭50−154399号公報に記載の酸性化合物を用いた公知の方法が採用できる。酸性化合物としては、具体的には、AlCl3、BF3、FeCl3、Al2O3、HCl、CH3ClCOOH、ゼオライト、活性白土などのルイス酸、ブレンステッド酸が用いられる。
環化された開環(共)重合体は、(1)または(2)の開環(共)重合体と同様に水素添加できる。
In addition, as the cyclic olefin-based resin of the present invention, (4) a (co) polymer obtained by cyclizing the ring-opened (co) polymer of the above (1) or (2) by a Friedel-Craft reaction and then hydrogenating it. Can be used.
<Cyclization by Friedel-Craft reaction>
The method for cyclizing the ring-opened (co) polymer of (1) or (2) by Friedel-Craft reaction is not particularly limited, but the acidic compound described in JP-A-50-154399 is used. Any known method can be employed. Specifically, Lewis acids such as AlCl 3, BF 3, FeCl 3, Al 2 O 3, HCl, CH 3 ClCOOH, zeolite, activated clay, and Bronsted acid are used as the acidic compound.
The cyclized ring-opening (co) polymer can be hydrogenated in the same manner as the ring-opening (co) polymer (1) or (2).

さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、(5)上記特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体も使用できる。
<不飽和二重結合含有化合物>
不飽和二重結合含有化合物としては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなど、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のオレフィン系化合物を挙げることができる。
特定単量体/不飽和二重結合含有化合物の好ましい使用範囲は、重量比で90/10〜40/60であり、さらに好ましくは85/15〜50/50である。
Furthermore, as the cyclic olefin resin of the present invention, (5) a saturated copolymer of the specific monomer and an unsaturated double bond-containing compound can also be used.
<Unsaturated double bond-containing compound>
As an unsaturated double bond containing compound, ethylene, propylene, butene etc., Preferably it is C2-C12, More preferably, C2-C8 olefin type compound can be mentioned.
The preferred use range of the specific monomer / unsaturated double bond-containing compound is 90/10 to 40/60, more preferably 85/15 to 50/50, in weight ratio.

本発明において、(5)特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体を得るには、通常の付加重合法を使用できる。
<付加重合触媒>
上記(5)飽和共重合体を合成するための触媒としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物およびバナジウム化合物から選ばれた少なくとも一種と、助触媒としての有機アルミニウム化合物とが用いられる。
ここで、チタン化合物としては、四塩化チタン、三塩化チタンなどを、またジルコニウム化合物としてはビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなどを挙げることができる。
In the present invention, in order to obtain a saturated copolymer of (5) a specific monomer and an unsaturated double bond-containing compound, a usual addition polymerization method can be used.
<Addition polymerization catalyst>
As the catalyst for synthesizing the (5) saturated copolymer, at least one selected from a titanium compound, a zirconium compound and a vanadium compound and an organoaluminum compound as a promoter are used.
Here, examples of the titanium compound include titanium tetrachloride and titanium trichloride, and examples of the zirconium compound include bis (cyclopentadienyl) zirconium chloride and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride.

さらに、バナジウム化合物としては、一般式
VO(OR)ab、またはV(OR)cd
〔ただし、Rは炭化水素基、Xはハロゲン原子であって、0≦a≦3、0≦b≦3、2≦(a+b)≦3、0≦c≦4、0≦d≦4、3≦(c+d)≦4である。〕
で表されるバナジウム化合物、あるいはこれらの電子供与付加物が用いられる。
上記電子供与体としては、アルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸または無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシランなどの含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナートなどの含窒素電子供与体などが挙げられる。
Furthermore, as a vanadium compound, general formula VO (OR) a X b or V (OR) c X d
[Wherein R is a hydrocarbon group, X is a halogen atom, and 0 ≦ a ≦ 3, 0 ≦ b ≦ 3, 2 ≦ (a + b) ≦ 3, 0 ≦ c ≦ 4, 0 ≦ d ≦ 4, 3, ≦ (c + d) ≦ 4. ]
Or an electron-donating adduct of these compounds.
Examples of the electron donor include alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, esters of organic acids or inorganic acids, ethers, acid amides, acid anhydrides, oxygen-containing electron donors such as alkoxysilanes, ammonia, amines, Examples thereof include nitrogen-containing electron donors such as nitrile and isocyanate.

さらに、助触媒としての有機アルミニウム化合物としては、少なくとも1つのアルミニウム−炭素結合あるいはアルミニウム−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも一種が用いられる。
上記において、例えばバナジウム化合物を用いる場合におけるバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物の比率は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比(Al/V)が2以上であり、好ましくは2〜50、特に好ましくは3〜20の範囲である。
Furthermore, as the organoaluminum compound as the promoter, at least one selected from those having at least one aluminum-carbon bond or aluminum-hydrogen bond is used.
In the above, for example, when the vanadium compound is used, the ratio of the vanadium compound to the organoaluminum compound is such that the ratio of aluminum atom to vanadium atom (Al / V) is 2 or more, preferably 2 to 50, particularly preferably 3 to 20. Range.

付加重合に使用される重合反応用溶媒は、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。また、得られる(5)飽和共重合体の分子量の調節は、通常、水素を用いて行われる。   As the solvent for the polymerization reaction used for the addition polymerization, the same solvent as that used for the ring-opening polymerization reaction can be used. Moreover, adjustment of the molecular weight of the (5) saturated copolymer obtained is normally performed using hydrogen.

さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、(6)上記特定単量体、およびビニル系環状炭化水素系単量体またはシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型共重合体およびその水素添加共重合体も使用できる。
<ビニル系環状炭化水素系単量体>
ビニル系環状炭化水素系単量体としては、例えば、4−ビニルシクロペンテン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロペンテンなどのビニルシクロペンテン系単量体、4−ビニルシクロペンタン、4−イソプロペニルシクロペンタンなどのビニルシクロペンタン系単量体などのビニル化5員環炭化水素系単量体、4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン系単量体、4−ビニルシクロヘキサン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体、スチレン、α―メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、4−フェニルスチレン、p−メトキシスチレンなどのスチレン系単量体、d−テルペン、1−テルペン、ジテルペン、d−リモネン、1−リモネン、ジペンテンなどのテルペン系単量体、4−ビニルシクロヘプテン、4−イソプロペニルシクロヘプテンなどのビニルシクロヘプテン系単量体、4−ビニルシクロヘプタン、4−イソプロペニルシクロヘプタンなどのビニルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。好ましくは、スチレン、α−メチルスチレンである。これらは、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
Furthermore, as the cyclic olefin resin of the present invention, (6) an addition type of one or more monomers selected from the above specific monomer and a vinyl cyclic hydrocarbon monomer or a cyclopentadiene monomer Copolymers and their hydrogenated copolymers can also be used.
<Vinyl cyclic hydrocarbon monomer>
Examples of the vinyl cyclic hydrocarbon monomer include vinyl cyclopentene monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene, 4-vinylcyclopentane, 4-isopropenylcyclopentane and the like. Vinylated 5-membered hydrocarbon monomers such as vinylcyclopentane monomers, 4-vinylcyclohexene, 4-isopropenylcyclohexene, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene, 2-methyl-4-vinyl Vinylcyclohexene monomers such as cyclohexene and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexene, vinylcyclohexane monomers such as 4-vinylcyclohexane and 2-methyl-4-isopropenylcyclohexane, styrene, α-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3- Styrenic monomers such as styrene styrene, 4-methylstyrene, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-phenylstyrene, p-methoxystyrene, d-terpene, 1-terpene, diterpene, d-limonene, 1- Terpene monomers such as limonene and dipentene, vinylcycloheptene monomers such as 4-vinylcycloheptene and 4-isopropenylcycloheptene, 4-vinylcycloheptane, 4-isopropenylcycloheptane, etc. And vinyl cycloheptane monomers. Styrene and α-methylstyrene are preferable. These can be used alone or in combination of two or more.

<シクロペンタジエン系単量体>
本発明の(6)付加型共重合体の単量体に使用されるシクロペンタジエン系単量体としては、例えばシクロペンタジエン、1−メチルシクロペンタジエン、2−メチルシクロペンタジエン、2−エチルシクロペンタジエン、5−メチルシクロペンタジエン、5,5−メチルシクロペンタジエンなどが挙げられる。好ましくはシクロペンタジエンである。これらは、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
<Cyclopentadiene monomer>
Examples of the cyclopentadiene monomer used as the monomer of the addition copolymer (6) of the present invention include, for example, cyclopentadiene, 1-methylcyclopentadiene, 2-methylcyclopentadiene, 2-ethylcyclopentadiene, Examples include 5-methylcyclopentadiene and 5,5-methylcyclopentadiene. Cyclopentadiene is preferred. These can be used alone or in combination of two or more.

上記特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる1種以上の単量体の付加型(共)重合体は、上記(5)特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体と同様の付加重合法で得ることができる。
また、上記付加型(共)重合体の水素添加(共)重合体は、上記(3)開環(共)重合体の水素添加(共)重合体と同様の水添法で得ることができる。
The addition type (co) polymer of at least one monomer selected from the above specific monomer, vinyl cyclic hydrocarbon monomer and cyclopentadiene monomer is the above (5) specific monomer. It can be obtained by the same addition polymerization method as the saturated copolymer of the unsaturated double bond-containing compound.
The hydrogenated (co) polymer of the addition type (co) polymer can be obtained by the same hydrogenation method as the hydrogenated (co) polymer of the above (3) ring-opening (co) polymer. .

さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、(7)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体も使用できる。
<アクリレート>
本発明の(7)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体の製造に用いられるアクリレートとしては、例えば、メチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどの炭素原子数1〜20の直鎖状、分岐状または環状アルキルアクリレート、グリシジルアクリレート、2−テトラヒドロフルフリルアクリレートなどの炭素原子数2〜20の複素環基含有アクリレート、ベンジルアクリレートなどの炭素原子数6〜20の芳香族環基含有アクリレート、イソボロニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなどの炭素数7〜30の多環構造を有するアクリレートが挙げられる。
Furthermore, as the cyclic olefin resin of the present invention, (7) an alternating copolymer of the specific monomer and acrylate can also be used.
<Acrylate>
Examples of the acrylate used in the production of the (7) alternating copolymer of the specific monomer and acrylate of the present invention include straight chain having 1 to 20 carbon atoms such as methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate and cyclohexyl acrylate. C2-C20 heterocyclic group-containing acrylates such as chain, branched or cyclic alkyl acrylates, glycidyl acrylates, 2-tetrahydrofurfuryl acrylates, and aromatic ring groups containing 6-20 carbons such as benzyl acrylates Examples thereof include acrylates having a polycyclic structure having 7 to 30 carbon atoms such as acrylate, isobornyl acrylate, and dicyclopentanyl acrylate.

本発明において、(7)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るためには、ルイス酸存在下、上記特定単量体とアクリレートとの合計を100モルとしたとき、通常、上記特定単量体が30〜70モル、アクリレートが70〜30モルの割合で、好ましくは上記特定単量体が40〜60モル、アクリレートが60〜40モル割合で、特に好ましくは上記特定単量体が45〜55モル、アクリレートが55〜45モルの割合でラジカル重合する。
(7)上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るために使用するルイス酸の量は、アクリレート100モルに対して0.001〜1モルとなる量とされる。また、公知のフリーラジカルを発生する有機過酸化物またはアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができ、重合反応温度は、通常、−20℃〜80℃、好ましくは5℃〜60℃である。また、重合反応用溶媒には、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。
なお、本発明でいう「交互共重合体」とは、上記特定単量体に由来する構造単位が隣接しない、すなわち、上記特定単量体に由来する構造単位の隣は必ずアクリレートに由来する構造単位である構造を有する共重合体のことを意味しており、アクリレート由来の構造単位どうしが隣接して存在する構造を否定するものではない。
In the present invention, (7) In order to obtain an alternating copolymer of the specific monomer and acrylate, when the total of the specific monomer and acrylate is 100 mol in the presence of Lewis acid, The specific monomer is 30 to 70 mol, the acrylate is 70 to 30 mol, preferably the specific monomer is 40 to 60 mol, and the acrylate is 60 to 40 mol, particularly preferably the specific monomer. The polymer is radically polymerized at a ratio of 45 to 55 mol and acrylate of 55 to 45 mol.
(7) The amount of Lewis acid used to obtain the alternating copolymer of the specific monomer and acrylate is 0.001 to 1 mol per 100 mol of acrylate. Also, known organic peroxides or azobis radical polymerization initiators that generate free radicals can be used, and the polymerization reaction temperature is usually -20 ° C to 80 ° C, preferably 5 ° C to 60 ° C. . Moreover, the same solvent as used for the ring-opening polymerization reaction can be used as the solvent for the polymerization reaction.
The “alternate copolymer” as used herein refers to a structure in which the structural unit derived from the specific monomer is not adjacent, that is, the structural unit derived from the acrylate is always adjacent to the structural unit derived from the specific monomer. It means a copolymer having a structure as a unit, and does not deny a structure in which structural units derived from acrylate are adjacent to each other.

本発明で用いられる環状オレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕inhで0.2〜5dl/g 、さらに好ましくは0.3〜3dl/g、特に好ましくは0.4〜1.5dl/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8,000〜100,000、さらに好ましくは10,000〜80,000、特に好ましくは12,000〜50,000であり、重量平均分子量(Mw)は20,000〜300,000、さらに好ましくは30,000〜250,000、特に好ましくは40,000〜200,000の範囲のものが好適である。
固有粘度〔η〕inh、数平均分子量および重量平均分子量が上記範囲にあることによって、環状オレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明のチップ基板として使用したときの成形加工性が良好となる。
The preferred molecular weight of the cyclic olefin resin used in the present invention is 0.2 to 5 dl / g, more preferably 0.3 to 3 dl / g, particularly preferably 0.4 to 1.5 dl in terms of intrinsic viscosity [η] inh. The polystyrene-reduced number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) is 8,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, and particularly preferably 12, The weight average molecular weight (Mw) is 20,000 to 300,000, more preferably 30,000 to 250,000, particularly preferably 40,000 to 200,000. It is.
The intrinsic viscosity [η] inh, number average molecular weight and weight average molecular weight are in the above ranges, so that the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cyclic olefin resin and the chip substrate of the present invention were used. The molding processability at the time becomes good.

本発明に用いられる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)としては、通常、130℃以上、好ましくは130〜350℃、さらに好ましくは130〜250℃、特に好ましくは140〜200℃である。Tgが130℃未満の場合は、基板の殺菌やコーティングなどの二次加工により変形するので好ましくない。一方、Tgが350℃を超えると、成形加工が困難になり、また成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性が高くなる。   The glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin resin used in the present invention is usually 130 ° C. or higher, preferably 130 to 350 ° C., more preferably 130 to 250 ° C., and particularly preferably 140 to 200 ° C. When Tg is less than 130 ° C., it is not preferable because it is deformed by secondary processing such as sterilization or coating of the substrate. On the other hand, when Tg exceeds 350 ° C., the molding process becomes difficult, and the possibility that the resin deteriorates due to heat during the molding process increases.

本発明に用いる環状オレフィン系樹脂は、チップ基板とした場合に、検査におけるエラーなどの原因となる異物が少なく、可能な限り存在しないことが好ましい。
かかる異物の含有量は、少なくとも50μm以上の異物が0個/10g、好ましくは30μm以上の異物が0個/10g、特に好ましくは20μm以上の異物が0個/10gであることが好ましい。
異物の量の測定は、樹脂をトルエン、シクロヘキサンなど本発明の環状オレフィン系樹脂の溶解性がある溶媒に溶解し、フィルターでろ過後、顕微鏡で観察することにより、大きさと個数とを計数することにより行われる。また、同様に樹脂の溶解性がある溶媒に樹脂を溶解させた試料を用いて光散乱を原理とする市販の微粒子カウンターを使用して計数することも可能である。
また、本発明に用いる環状オレフィン系樹脂と同材料からなる微粉体の含量も可能な限り抑えることが好ましい。この微粉体が多い場合も、検査におけるエラーとなるので好ましくない。
When the cyclic olefin-based resin used in the present invention is used as a chip substrate, it is preferable that there are few foreign substances that cause an error in inspection and the like is not present as much as possible.
The content of such foreign matter is preferably 0/10 g of foreign matters of at least 50 μm or more, preferably 0/10 g of foreign matters of 30 μm or more, particularly preferably 0/10 g of foreign matters of 20 μm or more.
The amount of foreign matter is measured by counting the size and number by dissolving the resin in a solvent having solubility of the cyclic olefin resin of the present invention such as toluene and cyclohexane, filtering through a filter, and observing with a microscope. Is done. Similarly, it is possible to count using a commercially available fine particle counter based on the principle of light scattering using a sample in which a resin is dissolved in a solvent having a resin solubility.
It is also preferable to suppress the content of fine powder made of the same material as the cyclic olefin resin used in the present invention as much as possible. A large amount of fine powder is not preferable because it causes an error in inspection.

環状オレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平9−221577号公報、特開平10−287732号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、あるいは公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合しても良い。   For the cyclic olefin-based resin, a specific hydrocarbon-based resin described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-221577 and 10-287732, or a known heat can be used without departing from the effect of the present invention. Plastic resins, thermoplastic elastomers, rubber polymers, organic fine particles, inorganic fine particles and the like may be blended.

本発明の環状オレフィン系樹脂には、公知の酸化防止剤、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−ジオキシ−3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン;紫外線吸収剤、例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、あるいはベンジルマロネート系化合物などを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。   The cyclic olefin resin of the present invention includes known antioxidants such as 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-tert-butyl- 5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane; UV absorbers such as 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy- It can be stabilized by adding 4-methoxybenzophenone or a benzyl malonate compound. Further, additives such as a lubricant can be added for the purpose of improving processability.

次に、本発明のチップ基板について説明する。
本発明のチップ基板は、検査のための混合、分離、抽出、ろ過、吸着、化学反応、生物反応、流動、貯蔵などを行うための微小なキャピラリーアレイやスポットを配列したマイクロアレイが、上記環状オレフィン系樹脂の成形品上に形成されたものであり、他の化学的、生物的素子や検査部品と組み合わせて検査素子となるものである。
Next, the chip substrate of the present invention will be described.
The chip substrate of the present invention includes a microcapillary array for performing mixing, separation, extraction, filtration, adsorption, chemical reaction, biological reaction, flow, storage, etc. for inspection, and the above-mentioned cyclic olefin. It is formed on a molded product of a resin, and becomes a test element in combination with other chemical and biological elements and test parts.

本発明のチップ基板がキャピラリーアレイ型の場合、基板上に複数の物理的あるいは化学的な単位操作を行うためのスポットとそれを結ぶキャピラリーから構成される。スポット部には検査を行うための、化学物質、酵素類、あるいはDNR,RNAやたんぱく質などの生体高分子などが固定化され、各種反応あるいは分離、抽出などが行われるようになっている。また、キャピラリー部にも、検査対象液体を移送する機能のほかに、分離、吸着、ろ過などの単位操作機能を付加させることもできる。
チップ基板の大きさは、通常、10〜200mmの矩形形状であり、幅10〜50mmであり、厚みは目的により適宜選択可能であるが、通常、0.5〜5mmの間から適宜選択される。
スポット部は、通常、円柱、直方体、球面体上の凹地形状であり、その形状は目的により適宜選択される。通常、その深さは、検査対象の貯槽を目的とした場合、0.001〜3mmであり、検査チップの厚みを超えない範囲で適宜選択され、円柱状の場合にはその寸法は、直径が0.1〜10mm、直方体形状の場合には、幅が0.1〜5mm、長さが0.5〜5mmである。また、各種単位操作を目的とした場合には、その深さは0.1〜100μmの範囲で適宜選択され、円柱状の場合にはその寸法は、直径が0.5〜5mm、直方体形状の場合には、幅が0.1〜5mm、長さが0.5〜5mmである。
キャピラリー部の形状は、矩形、半円柱形、V字形状など適宜選択でき、通常その深さは1〜300μm、幅は1〜300μmである。
When the chip substrate of the present invention is of a capillary array type, it is composed of a plurality of spots for performing physical or chemical unit operations on the substrate and capillaries connecting them. In the spot portion, chemical substances, enzymes, or biopolymers such as DNR, RNA and protein are immobilized for inspection, and various reactions, separation, extraction and the like are performed. In addition to the function of transferring the liquid to be inspected, unit operation functions such as separation, adsorption, and filtration can be added to the capillary section.
The size of the chip substrate is usually a rectangular shape of 10 to 200 mm, a width of 10 to 50 mm, and the thickness can be appropriately selected depending on the purpose, but is usually appropriately selected from 0.5 to 5 mm. .
The spot portion is usually a concave shape on a cylinder, a rectangular parallelepiped, or a spherical body, and the shape is appropriately selected depending on the purpose. In general, the depth is 0.001 to 3 mm for the purpose of a storage tank to be inspected, and is appropriately selected within a range not exceeding the thickness of the inspection chip. In the case of 0.1 to 10 mm and a rectangular parallelepiped shape, the width is 0.1 to 5 mm and the length is 0.5 to 5 mm. In addition, when various unit operations are intended, the depth is appropriately selected in the range of 0.1 to 100 μm, and in the case of a cylindrical shape, the dimensions are 0.5 to 5 mm in diameter and a rectangular parallelepiped shape. In some cases, the width is 0.1 to 5 mm and the length is 0.5 to 5 mm.
The shape of the capillary portion can be appropriately selected from a rectangular shape, a semi-cylindrical shape, a V-shape, and the depth is usually 1 to 300 μm and the width is 1 to 300 μm.

本発明のチップ基板がマイクロアレイ型の場合、複数の検査を1枚のチップ上で行うため、微小な検査用スポットが1枚のチップ基板上に配列された形状である。検査用スポットは、円柱形状、円球形状、砲弾形状、深さ方向へのキャピラリー形状、多角形柱形状、円錐形状、多角錐形状、円錐台形状、多角錐台形状など公知の形状を適宜選択することが可能である。また、検査用スポットには、化学物質や生化学高分子あるいは酵素類などを固定化するためのパターンが形成されていても良い。これらのスポットの開口部の直径あるいは1辺の長さは、10〜700μmであり深さは、1〜500μmの範囲で適宜目的に応じて選択される。   When the chip substrate of the present invention is a microarray type, a plurality of inspections are performed on a single chip, and therefore, the shape of minute inspection spots is arranged on a single chip substrate. As the inspection spot, a known shape such as a cylindrical shape, a spherical shape, a shell shape, a capillary shape in the depth direction, a polygonal column shape, a conical shape, a polygonal pyramid shape, a truncated cone shape, or a polygonal frustum shape is appropriately selected. Is possible. In addition, a pattern for immobilizing chemical substances, biochemical polymers, enzymes, or the like may be formed on the inspection spot. The diameter of the opening or the length of one side of these spots is 10 to 700 μm, and the depth is appropriately selected according to the purpose in the range of 1 to 500 μm.

上記のチップ基板は、微小なキャピラリー流路あるいは凹パターンを形成した金型を用い、キャビティーを減圧にする方法および射出圧縮成形法の少なくとも1つの方法を適用した射出成形法、あるいはキャビティーを減圧にする方法と射出圧縮成形方を組み合わせた方法により製造される。   The above chip substrate uses an injection molding method or a cavity in which at least one of a method of reducing the cavity and an injection compression molding method is used, using a mold having a minute capillary channel or a concave pattern. Manufactured by a method combining pressure reduction and injection compression molding.

金型キャビティー内を減圧にして成形する方法において、本発明で好ましい減圧度は、ゲージ圧で、−0.08MPa以下、さらに好ましくは−0.09Pa以下、特に好ましくは−0.1MPa以下である。ゲージ圧が−0.08MPaを超えると減圧度が不足し、本発明に記載の効果が得られないので好ましくない。
これらの減圧度を達成するためには、公知の方法の真空ポンプを使用することができ、キャビティー周囲やエジェクター機構部などにはOリングなど公知の方法のシール材を使用することが好ましく、成形品へ「コンタミ」などが生じない範囲で真空用のグリスなどを使用しても良い。また、減圧とするための吸引口は、金型内の任意の場所に設けることが可能であるが、通常、エジェクター機構部、スプルーおよびランナーの端部、入れ子構造部などに設けることが可能である。また、真空吸引シーケンスは、金型の開閉に併せて電磁バルブなどで制御しても良いし、常時運転としても良く、溶融樹脂充填時にキャビティー内が目的の減圧度となる方法なら特に制限されるものではない。
キャビティーを減圧にする成形方法においては、キャビティーが閉じ減圧になった状態で溶融樹脂を射出するため、通常、射出遅延時間を設定する。射出遅延時間は、使用する真空ポンプの能力とキャビティーサイズに依存するが、通常、0.5〜3秒程度である。
In the method of molding by reducing the pressure inside the mold cavity, the preferable degree of reduced pressure in the present invention is a gauge pressure of -0.08 MPa or less, more preferably -0.09 Pa or less, particularly preferably -0.1 MPa or less. is there. If the gauge pressure exceeds -0.08 MPa, the degree of reduced pressure is insufficient, and the effects described in the present invention cannot be obtained.
In order to achieve these pressure reduction degrees, it is possible to use a vacuum pump of a known method, it is preferable to use a known sealing material such as an O-ring around the cavity and the ejector mechanism, Vacuum grease or the like may be used as long as “contamination” does not occur in the molded product. In addition, the suction port for reducing the pressure can be provided at any location in the mold, but can usually be provided at the ejector mechanism, the end of the sprue and runner, the nested structure, etc. is there. In addition, the vacuum suction sequence may be controlled by an electromagnetic valve or the like in conjunction with the opening and closing of the mold, or may be always operated, and is particularly limited as long as it is a method in which the inside of the cavity has a desired degree of decompression when filled with molten resin. It is not something.
In the molding method in which the cavity is reduced in pressure, since the molten resin is injected in a state where the cavity is closed and the pressure is reduced, an injection delay time is usually set. The injection delay time depends on the capacity of the vacuum pump used and the cavity size, but is usually about 0.5 to 3 seconds.

また、射出圧縮成形を用いる場合には、溶融樹脂を射出する際に、キャビティー間隔を成形品の厚みの1.5〜20倍にしておき、そこに溶融樹脂を射出し、シリンダー側で測った樹脂の圧力を200〜2,000kgf/cm2の圧力に保ちつつ、金型内の製品面に圧縮をかけ、キャビティーの間隔を狭くする方法が用いられる。
また、金型のコアを可動な状態としておき、コアを成形品の厚みの1.1倍〜10倍にしておき、溶融樹脂を射出し、その射出開始あるいは射出終了後から、可動側コアを平均速度0.01mm/sec〜1mm/secの速度で圧縮する方法も適用可能である。
これらの射出圧縮方法は、公知の成形機を用いて行うことが可能である。
When injection compression molding is used, when injecting the molten resin, the cavity interval is set to 1.5 to 20 times the thickness of the molded product, and the molten resin is injected there and measured on the cylinder side. A method is used in which the product surface in the mold is compressed to narrow the gap between the cavities while maintaining the pressure of the resin at 200 to 2,000 kgf / cm 2 .
Also, keep the mold core in a movable state, leave the core 1.1 to 10 times the thickness of the molded product, inject the molten resin, and after the injection starts or ends, move the movable core to the average speed A method of compressing at a speed of 0.01 mm / sec to 1 mm / sec is also applicable.
These injection compression methods can be performed using a known molding machine.

本発明に用いる射出成形機は、公知の油圧駆動、電動モータ駆動、およびこれらのハイブリッド型の機構のものを用いることが可能であり、衛生性の観点からは電動モータ駆動であることが好ましい。
射出成形機の可塑化工程においては、インライン式、プリプラ式のものが使用可能である。インライン式の場合、圧縮比、長さ/直径の比、サブフライトの有無などのスクリュー形状は適宜選択可能であり、スクリュー表面は、クロム系、チタン系、窒化物系、炭素系などの公知のコーティングを施すことも可能である。また、計量や射出動作の安定性を目的にスクリューの回転や圧力制御などの機構を設けることも可能である。また、シリンダーおよび成形材料を貯蔵するホッパー部分を窒素などの不活性ガスでシールする方法や減圧にする方法なども、本発明の検査チップを安定的に得るという観点から好ましいものである。
射出成形機の型締め機構に関しては、直圧式、トグル式のいずれも用いることが可能である。また、型締め圧縮あるいはコア圧縮などの射出圧縮機構を用いることも可能であり、好ましいものである。
The injection molding machine used in the present invention may be a known hydraulic drive, electric motor drive, or a hybrid type of these, and is preferably an electric motor drive from the viewpoint of hygiene.
In the plasticizing process of the injection molding machine, an in-line type or a pre-plastic type can be used. In the case of the in-line type, the screw shape such as compression ratio, length / diameter ratio, presence / absence of subflight can be selected as appropriate, and the screw surface is well-known such as chromium-based, titanium-based, nitride-based, carbon-based, etc. It is also possible to apply a coating. It is also possible to provide mechanisms such as screw rotation and pressure control for the purpose of measuring and stability of injection operation. In addition, a method of sealing the cylinder and the hopper portion for storing the molding material with an inert gas such as nitrogen or a method of reducing the pressure is also preferable from the viewpoint of stably obtaining the inspection chip of the present invention.
As the mold clamping mechanism of the injection molding machine, either a direct pressure type or a toggle type can be used. It is also possible to use an injection compression mechanism such as mold clamping compression or core compression, which is preferable.

本発明のチップ基板を作成するための金型の材質や構造は公知のものを採用することが可能である。好ましい材質としては、通常の炭素鋼、ステンレス鋼、あるいはこれらをベースにした公知の合金類が用いられ、表面は焼き入れ処理あるいはクロム、チタン、ダイヤモンドなど公知のコーティング処理、あるいはニッケル系金属、銅合金などパターン加工のための金属メッキを施すことができる。
検査チップに形成されるパターンは、上記金属類あるいはメッキ面、あるいはスタンパーとして、その表面に直接、放電加工機、切削加工機といった、公知の加工機でパターンを形成しても良く、電鋳などの方法でパターンを形成しても良い。
Known materials and structures of the mold for producing the chip substrate of the present invention can be employed. As preferred materials, ordinary carbon steel, stainless steel, or known alloys based on these are used, and the surface is subjected to quenching treatment or known coating treatment such as chromium, titanium, diamond, nickel-based metal, copper Metal plating for pattern processing such as alloy can be applied.
The pattern formed on the inspection chip may be formed directly on the surface of the metal, plating surface, or stamper using a known processing machine such as an electric discharge machine or a cutting machine, such as electroforming. The pattern may be formed by this method.

チップ基板の成形条件は、特に限定されるものではないが、通常、シリンダー温度が260℃〜350℃、金型温度は、通常、環状オレフィン系熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg−1℃〜−40℃、好ましくはTg−5℃〜−25℃の範囲で成形することが好ましい。また、射出速度は、チップ基板の大きさや成形機のシリンダーサイズにより異なるが、例えば、シリンダー径が28mmの場合、通常、50mm/sec以上、好ましくは60〜150mm/secの高速で成形することが好ましく、保圧は成形品の形状が保持できる程度の最小圧・時間に調整してかけることが好ましい。
また、本発明に使用される環状オレフィン系熱可塑性樹脂は、予め乾燥して用いることが好ましい。通常の熱風乾燥あるいは除湿乾燥機を用いることもできるが、チップ基板の色相の観点から、減圧乾燥機あるいは窒素などの不活性ガスの循環による乾燥機を使用することが好ましい。
The molding conditions of the chip substrate are not particularly limited, but the cylinder temperature is usually 260 ° C. to 350 ° C., and the mold temperature is usually the glass transition temperature Tg-1 ° C. of the cyclic olefin thermoplastic resin to − It is preferable to mold at 40 ° C, preferably in the range of Tg-5 ° C to -25 ° C. The injection speed varies depending on the size of the chip substrate and the cylinder size of the molding machine. For example, when the cylinder diameter is 28 mm, the injection speed is usually 50 mm / sec or more, preferably 60 to 150 mm / sec. Preferably, the holding pressure is adjusted to a minimum pressure and time that can maintain the shape of the molded product.
Moreover, it is preferable to dry and use the cyclic olefin type thermoplastic resin used for this invention previously. A normal hot air dryer or a dehumidifier dryer can be used, but from the viewpoint of the hue of the chip substrate, it is preferable to use a vacuum dryer or a dryer by circulation of an inert gas such as nitrogen.

上記の方法で製造されたチップ基板は、さらに必要に応じて、親水性、疎水性、特定波長光線透過性、耐酸性、耐アルカリ性、ガスバリアー性、反射防止、ハードコート、光触媒性などの機能を持つ公知のコーティング加工を施すことが可能である。
コーティングは、真空蒸着法、スパッター法、化学蒸着法などの乾式コーティング法、あるいは、本発明の環状オレフィン系熱可塑性樹脂を不可溶な溶媒を用いた刷毛塗り、ロールコーティング、ディッピング、スピンコーティング、吹き付けなどの方法により塗布した後、目的により熱風、真空などの乾燥、熱や活性光線で硬化などを行う湿式コーティングなどの方法を採用することが可能である。
The chip substrate manufactured by the above method further has functions such as hydrophilicity, hydrophobicity, light transmittance at a specific wavelength, acid resistance, alkali resistance, gas barrier property, antireflection, hard coat, and photocatalytic property as necessary. It is possible to apply a known coating process having
For coating, dry coating methods such as vacuum deposition, sputtering, chemical vapor deposition, etc., or brush coating, roll coating, dipping, spin coating, spraying using a solvent insoluble in the cyclic olefin-based thermoplastic resin of the present invention. It is possible to employ a method such as wet coating in which the coating is performed by a method such as drying with hot air or vacuum, and curing with heat or actinic light depending on the purpose.

本発明のチップ基板は、医療や食品用途で採用されている方法で殺菌することが可能である。殺菌方法としては、高温蒸気によるオートクレーブ殺菌、γ線殺菌、電子線殺菌などの方法が用いることができる。
本発明の環状オレフィン系熱可塑性樹脂は、オートクレーブ殺菌では、熱による変形、高温水蒸気成分による樹脂の失透、ガンマ線や電子線の殺菌においては、熱による変形およびこれら活性光線による劣化変色が少なく、検査素子用のチップ基板として好適に用いることが可能である。
The chip substrate of the present invention can be sterilized by a method employed in medical or food applications. As the sterilization method, methods such as autoclave sterilization using high-temperature steam, γ-ray sterilization, and electron beam sterilization can be used.
The cyclic olefin-based thermoplastic resin of the present invention is less deformed by heat in autoclave sterilization, devitrification of the resin by high-temperature steam component, and less distorted and discolored by these active rays in sterilization of gamma rays and electron beams, It can be suitably used as a chip substrate for a test element.

本発明のチップ基板は、必要に応じて、核酸類や酵素類などによる修飾や反応薬品の塗布・固定化などの処理が施され、他の検査用冶具などと組み合わせて検査機器を構成することにより、医療検査や食品検査などに用いることが可能である。   The chip substrate of the present invention is subjected to treatment such as modification with nucleic acids or enzymes and application / immobilization of reactive chemicals as necessary, and constitutes inspection equipment in combination with other inspection jigs, etc. Therefore, it can be used for medical examinations and food inspections.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明がこれらによって制限されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
また、各種測定方法について以下に記す。
<固有粘度:ηinh
溶媒にクロロホルムを使用し、0.5g/dlの重合体濃度で30℃の条件下、ウベローデ粘度計にて測定した。
<分子量>
東ソー株式会社製HLC−8020ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、テトラヒドロフラン(THF)溶媒で測定し、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn)を求めた。なお、ここで、Mnはポリスチレン換算数平均分子量を表す。
<ガラス転移温度:Tg>
セイコーインスツルメンツ社製 DSC6200を用いて、昇温速度を毎分20℃、窒素気流下で測定を行った。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited by these examples. In the following, “part” means “part by weight”.
Various measurement methods are described below.
<Intrinsic viscosity: η inh >
Chloroform was used as a solvent, and measurement was carried out with an Ubbelohde viscometer at a polymer concentration of 0.5 g / dl at 30 ° C.
<Molecular weight>
The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) in terms of polystyrene were determined by measurement with a tetrahydrofuran (THF) solvent using HLC-8020 gel permeation chromatography (GPC) manufactured by Tosoh Corporation. Here, Mn represents a polystyrene-equivalent number average molecular weight.
<Glass transition temperature: Tg>
Using a DSC6200 manufactured by Seiko Instruments Inc., the temperature increase rate was measured at 20 ° C. per minute under a nitrogen stream.

<環状オレフィン系樹脂>
合成例1
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン(特定単量体)250部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)41部と、トルエン(開環重合反応用溶媒)750部とを窒素置換した反応容器内に仕込み、この溶液を60℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(1.5モル/l)0.62部と、t−ブタノール/メタノールで変性した六塩化タングズテン(t−ブタノール:メタノール:タングステン=0.35モル:0.3モル:1モル)のトルエン溶液(濃度0.05モル/l)3.7部とを添加し、この系を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。
この重合反応における重合転化率は97%であった。
このようにして得られた開環重合体溶液4,000部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、RuHCl(CO)[P(C6533 0.48部を添加し、水素ガス圧100kg/cm2 、反応温度165℃の条件下で3時間加熱攪拌することにより水素添加反応させた。
得られた反応溶液(水素添加重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧した。
次いで、多量のメタノール中に該反応溶液を注いで水素添加重合体を凝固・回収した。
その後、回収された水素添加重合体をトルエンに溶解して濃度20%の溶液を調製し、孔径1μmのフィルターで濾過した後、再度多量のメタノール中に注いで水素添加重合体を凝固・回収した。係る再溶解/析出・回収を3回繰り返し、最後に得られた水素添加重合体は、減圧下、100℃で12時間乾燥した。
このようにして得られた水素添加重合体(以下、「環状オレフィン系樹脂A」という。)の水素添加率を400MHzの1H−NMRで測定したところ、実質上100%であった。
環状オレフィン系樹脂Aのηinhは0.52、Mwは75,000、Mw/Mnは3.5、Tgは164℃であった。
<Cyclic olefin resin>
Synthesis example 1
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene (specific monomer) 250 parts, 1-hexene (molecular weight regulator) 41 parts, toluene (ring-opening polymerization solvent) 750 parts in a reaction vessel in which nitrogen was substituted The solution was heated to 60 ° C. Next, 0.62 parts of a toluene solution of triethylaluminum (1.5 mol / l) and tungsten hexachloride modified with t-butanol / methanol (t-butanol: methanol: tungsten = 0.20) were added to the solution in the reaction vessel. 37 parts of a toluene solution (concentration 0.05 mol / l) of 35 mol: 0.3 mol: 1 mol) was added, and this system was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours to cause a ring-opening polymerization reaction. Thus, a ring-opening polymer solution was obtained.
The polymerization conversion rate in this polymerization reaction was 97%.
The autoclave was charged with 4,000 parts of the ring-opening polymer solution thus obtained, and 0.48 part of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the ring-opening polymer solution. Then, the hydrogenation reaction was carried out by heating and stirring for 3 hours under the conditions of a hydrogen gas pressure of 100 kg / cm 2 and a reaction temperature of 165 ° C.
After cooling the obtained reaction solution (hydrogenated polymer solution), the hydrogen gas was released.
Subsequently, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to coagulate and collect the hydrogenated polymer.
Thereafter, the recovered hydrogenated polymer was dissolved in toluene to prepare a solution having a concentration of 20%, filtered through a filter having a pore size of 1 μm, and then poured into a large amount of methanol to coagulate and recover the hydrogenated polymer. . Such re-dissolution / precipitation / recovery was repeated three times, and the finally obtained hydrogenated polymer was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 12 hours.
The hydrogenation rate of the thus obtained hydrogenated polymer (hereinafter referred to as “cyclic olefin-based resin A”) was measured by 1 H-NMR at 400 MHz to be substantially 100%.
Η inh of the cyclic olefin resin A was 0.52, Mw was 75,000, Mw / Mn was 3.5, and Tg was 164 ° C.

合成例2
特定単量体として8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン 225部とビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン 25部とを使用し、1−ヘキセン(分子量調節剤)の添加量を43部としたこと以外は、合成例1と同様にして水素添加重合体を得た。得られた水素添加重合体(以下、「環状オレフィン系樹脂B」という。)の水素添加率は、実質上100%であった。
環状オレフィン系樹脂Bのηinhは0.50、Mwは62,000、Mw/Mnは3.5、Tgは141℃であった。
Synthesis example 2
As a specific monomer, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1, 10 ] -3-dodecene 225 parts and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene 25 parts, except that the amount of 1-hexene (molecular weight regulator) added was 43 parts Obtained a hydrogenated polymer in the same manner as in Synthesis Example 1. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated polymer (hereinafter referred to as “cyclic olefin resin B”) was substantially 100%.
Η inh of the cyclic olefin resin B was 0.50, Mw was 62,000, Mw / Mn was 3.5, and Tg was 141 ° C.

合成例3
特定単量体として8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン(特定単量体)250部、開環重合反応用溶媒としてシクロヘキサン 750部を使用したこと以外は、合成例1と同様にして水素添加重合体を得た。得られた水素添加重合体(以下、「環状オレフィン系樹脂C」という。)の水素添加率は、実質上100%であった。
環状オレフィン系樹脂Cのηinhは0.50、Mwは65,000、Mw/Mnは3.0、Tgは145℃であった。
Synthesis example 3
As a specific monomer, 8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 . A hydrogenated polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 250 parts of 1,7,10 ] -3-dodecene (specific monomer) and 750 parts of cyclohexane were used as a solvent for the ring-opening polymerization reaction. The hydrogenation rate of the resulting hydrogenated polymer (hereinafter referred to as “cyclic olefin resin C”) was substantially 100%.
Η inh of the cyclic olefin resin C was 0.50, Mw was 65,000, Mw / Mn was 3.0, and Tg was 145 ° C.

<接着剤>
反応容器に、蒸留水250部を仕込み、当該反応容器にアクリル酸ブチル 90部と、2−ヒドロキシエチルメタクリレート 8部と、ジビニルベンゼン 2部と、オレイン酸カリウム 0.1部とを添加した。これをポリテトラフルオロエチレン[米国デュポン社製、テフロン(登録商標)]製の攪拌羽根により、攪拌した。当該反応容器内を窒素置換した後、この系を50℃まで昇温し、過硫酸カリウム 0.2部を添加して重合を開始した。2時間経過後、過硫酸カリウム 0.1部をさらに添加し、この系を80℃まで昇温し、1時間にわたり重合反応を継続させて重合体分散液を得た。次いで、エバポレーターを用いて、固形分濃度が70%になるまでこの重合体分散液を濃縮することにより、アクリル酸エステル系重合体の水系分散体からなる接着剤を得た。
<Adhesive>
A reaction vessel was charged with 250 parts of distilled water, and 90 parts of butyl acrylate, 8 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 parts of divinylbenzene, and 0.1 part of potassium oleate were added to the reaction vessel. This was stirred with a stirring blade made of polytetrafluoroethylene [manufactured by DuPont, Teflon (registered trademark)]. After replacing the inside of the reaction vessel with nitrogen, the temperature of the system was raised to 50 ° C., and 0.2 part of potassium persulfate was added to initiate polymerization. After 2 hours, 0.1 part of potassium persulfate was further added, the system was heated to 80 ° C., and the polymerization reaction was continued for 1 hour to obtain a polymer dispersion. Subsequently, this polymer dispersion was concentrated using an evaporator until the solid content concentration reached 70%, thereby obtaining an adhesive composed of an aqueous dispersion of an acrylate ester polymer.

その他樹脂
メタクリル樹脂:比重=1.19、Tg=108℃、MFR(260℃、10kg)=154g/10分
ポリカーボネート樹脂:比重=1.20、Tg=146℃、MFR(260℃、10kg)=34g/10分
Other resins Methacrylic resin: specific gravity = 1.19, Tg = 108 ° C., MFR (260 ° C., 10 kg) = 154 g / 10 minutes Polycarbonate resin: specific gravity = 1.20, Tg = 146 ° C., MFR (260 ° C., 10 kg) = 34 g / 10 minutes

樹脂の調製法
凝固・回収された環状オレフィン系樹脂を、溶融押出機を用いて造粒してペレットを得た。得られたペレットは成形前に、A成分に関しては100℃×4hr、その他成分のメタクリル樹脂は80℃×4hr、ポリカーボネート樹脂は100℃×6hrの条件で真空乾燥を行い、気体成分が不透過なアルミ袋中へ保管した。
Preparation method of resin The solidified and recovered cyclic olefin-based resin was granulated using a melt extruder to obtain pellets. Prior to molding, the obtained pellets were vacuum-dried under the conditions of 100 ° C. × 4 hr for the A component, 80 ° C. × 4 hr for the methacrylic resin of the other component, and 100 ° C. × 6 hr for the polycarbonate resin, and the gas component was impermeable. Stored in an aluminum bag.

試験片の成形方法
射出成形方法−(1)
下記の試験で使用するサンプルを射出成形にて行った。なお、射出成形速度は、100mm/sec、シリンダー温度は、樹脂のTg+140〜160℃、金型温度は樹脂のTg−10〜−20℃である。
※成形機
住友重機社製 SG75M−S(シリンダー径28mm、型締め75ton)
Molding method of test piece
Injection molding method-(1)
Samples used in the following tests were injection molded. The injection molding speed is 100 mm / sec, the cylinder temperature is Tg + 140 to 160 ° C. of the resin, and the mold temperature is Tg−10 to −20 ° C. of the resin.
* SG75M-S (Cylinder diameter 28mm, Clamping 75ton) made by Sumitomo Heavy Industries

射出成形方法−(2):キャビティー減圧方法
キャビティー周囲に設けた10/1,000mmのクリアランスから減圧のための圧抜き孔を設け、外部より真空ポンプ[真空機工製社製G−50S(オイルロータリー真空ポンプ、吸引能50L/min)]を用いてキャビティを減圧にして射出成形を行った。射出開始時のキャビーティーの減圧度は、ゲージ圧で−0.08MPaであった。なお、射出成形速度は、100mm/sec、シリンダー温度は、樹脂のTg+140〜160℃、金型温度は樹脂のTg−10〜−20℃である。
※成形機
住友重機社製 SG75M−S(シリンダー径28mm、型締め75ton)
Injection molding method- (2): Cavity decompression method A pressure release hole for decompression is provided from a clearance of 10 / 1,000 mm provided around the cavity, and a vacuum pump [G-50S manufactured by Vacuum Kiko Co., Ltd. Using an oil rotary vacuum pump, suction capacity 50 L / min)], the cavity was decompressed to perform injection molding. The degree of decompression of the cabin tea at the start of injection was -0.08 MPa in terms of gauge pressure. The injection molding speed is 100 mm / sec, the cylinder temperature is Tg + 140 to 160 ° C. of the resin, and the mold temperature is Tg−10 to −20 ° C. of the resin.
* SG75M-S (Cylinder diameter: 28mm, mold clamping: 75ton) made by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

射出成形方法−(3):型締め圧縮成形
金型のキャビティーを5mmに広げた状態で、溶融樹脂を射出し、シリンダー側で測った樹脂圧を一定に保ちつつ、金型を3秒間押すことでキャビティーの間隔を1mmになるまで圧縮し、20秒間冷却後、金型を開き、成形品を得た。なお、射出成形速度は、100mm/sec、シリンダー温度は、樹脂のTg+140〜160℃、金型温度は樹脂のTg−10〜−20℃である。
※成形機
ソディック社製 TR80S2W(シリンダー径32mm、型締め100ton)
Injection molding method-(3): With the cavity of the mold-clamping compression mold expanded to 5 mm, the molten resin is injected and the mold is pressed for 3 seconds while keeping the resin pressure measured on the cylinder side constant. Thus, the cavity spacing was compressed to 1 mm, and after cooling for 20 seconds, the mold was opened to obtain a molded product. The injection molding speed is 100 mm / sec, the cylinder temperature is Tg + 140 to 160 ° C. of the resin, and the mold temperature is Tg−10 to −20 ° C. of the resin.
* TR80S2W molding machine manufactured by Sodick (cylinder diameter 32mm, mold clamping 100ton)

射出成形方法−(4):コア圧縮成形
金型の可動側コアを1.5mmに後退した状態で、溶融樹脂を射出し、充填完了時点より可動側コアを平均速度0.05mm/secで圧縮し、20秒間冷却後、金型を開き、成形品を得た。なお、射出成形速度は、100mm/sec、シリンダー温度は、樹脂のTg+140〜160℃、金型温度は樹脂のTg−10〜−20℃である。
※成形機
住友重機社製 SG75M−S(シリンダー径28mm、型締め75ton)
Injection molding method- (4): Molten resin is injected with the movable core of the core compression molding die retracted to 1.5 mm, and the movable core is compressed at an average speed of 0.05 mm / sec from the point of completion of filling. After cooling for 20 seconds, the mold was opened to obtain a molded product. The injection molding speed is 100 mm / sec, the cylinder temperature is Tg + 140 to 160 ° C. of the resin, and the mold temperature is Tg−10 to −20 ° C. of the resin.
* SG75M-S (Cylinder diameter: 28mm, mold clamping: 75ton) made by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

射出成形方法−(5):キャビティー減圧方法とコア圧縮成形の組み合わせ
金型の可動側コアを1.5mmに後退した状態で、キャビティー周囲に設けた10/1,000mmのクリアランスから減圧のための設けた圧抜き孔より真空ポンプ[真空機工製社製G−50S(オイルロータリー真空ポンプ、吸引能50L/min)]を用いてキャビティを減圧にした後、溶融樹脂を射出し、充填完了時点より可動側コアを平均速度0.05mm/secで圧縮し、20秒間冷却後、金型を開き、成形品を得た。
射出開始時のキャビーティーの減圧度は、ゲージ圧で−0.08MPaであった。なお、射出成形速度は、100mm/sec、シリンダー温度は、樹脂のTg+140〜160℃、金型温度は樹脂のTg−10〜−20℃である。
※成形機
住友重機社製 SG75M−S(シリンダー径28mm、型締め75ton)
Injection molding method- (5): Combination of cavity decompression method and core compression molding With the movable side core of the mold retracted to 1.5 mm, the pressure is reduced from the 10 / 1,000 mm clearance provided around the cavity. After the pressure of the cavity is reduced using a vacuum pump [G-50S manufactured by Vacuum Kiko Co., Ltd. (oil rotary vacuum pump, suction capacity: 50 L / min)] from the pressure release hole provided for injection, the molten resin is injected and filling is completed. From the time, the movable core was compressed at an average speed of 0.05 mm / sec, cooled for 20 seconds, and then the mold was opened to obtain a molded product.
The degree of decompression of the cabin tea at the start of injection was -0.08 MPa in terms of gauge pressure. The injection molding speed is 100 mm / sec, the cylinder temperature is Tg + 140 to 160 ° C. of the resin, and the mold temperature is Tg−10 to −20 ° C. of the resin.
* SG75M-S (Cylinder diameter: 28mm, mold clamping: 75ton) made by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

※成形品
成形品A:キャピラリーアレイ型形状
図1参照
成形品B:マイクロキャピラリー形状
図2参照
* Molded product Molded product A: Capillary array mold shape
See Fig. 1 Molded product B: Microcapillary shape
See Figure 2

検査用チップ基板として必要とされる性能は、下記の試験方法で評価した。
<耐殺菌性>
(1)高圧水蒸気殺菌
成形品と精製水を耐圧瓶へ封入し、オートクレーブ中で121℃×1時間の条件で殺菌処理を行い、殺菌処理後の試験片の観察を行った。
・形状変化
○−変形およびクラックの発生は見られない。
△−微小な変形あるいは微小なクラックの発生が見られる。
×−大きな変形あるいは顕著なクラックの発生が見られる。
・透明性変化
○−変化は見られない。
△−若干の曇りが見られる。
×−失透した。
(2)電子線殺菌
試験片に電子線を線量40kGy照射した後、試験片の観察を行った。
・形状
○−クラックの発生は見られない。
△−微小なクラックの発生が見られる。
×−顕著なクラックの発生が見られる。
・色相変化
○−可視光域における透過率の減少が5%未満。
△−可視光域における透過率の減少が5%〜10%
×−可視光域における透過率の減少が10%以上
The performance required as a chip substrate for inspection was evaluated by the following test method.
<Sterilization resistance>
(1) High-pressure steam sterilization The molded product and purified water were sealed in a pressure-resistant bottle, sterilized in an autoclave under conditions of 121 ° C. × 1 hour, and the specimen after sterilization was observed.
・ Shape change ○-Deformation and cracks are not observed.
Δ- Minute deformation or generation of minute cracks is observed.
X: Large deformation or significant cracking is observed.
・ Transparency change ○-No change is seen.
Δ-Some cloudiness is observed.
X—Devitrified.
(2) Electron beam sterilization After irradiating the test piece with an electron beam at a dose of 40 kGy, the test piece was observed.
・ Shape ○-No cracks are observed.
Δ-Generation of minute cracks.
X—Significant cracks are observed.
-Hue change ○-The decrease in transmittance in the visible light region is less than 5%.
△-5% to 10% decrease in transmittance in visible light region
×-10% or more decrease in transmittance in visible light region

<転写性>
・成形品A
成形品中の任意の10点の凹地に付きその形状をSEMにて観察した。良好なものを5、不良のものを1とする5段階評価を行った。
・成形品B
各キャピラリーおよびパターン部をSEMにて観察した。良好なものを5、不良のものを1とする5段階評価を行った。
<Transferability>
・ Molded product A
The shape was attached to any 10 depressions in the molded product, and the shape was observed with an SEM. A five-step evaluation was performed with 5 being good and 1 being bad.
・ Molded product B
Each capillary and the pattern part were observed with SEM. A five-step evaluation was performed with 5 being good and 1 being bad.

<表面加工性>
・コート方法(1)
試験片の形状を形成していない片面に、TiO2を100nm、蒸着法で製膜した。蒸着時の圧力は10-4Torrであった。
・コート方法(2)
試験片の形状を形成していない片面に、SiO2を100nm、蒸着法で製膜した。蒸着時の圧力は10-4Torrであった。
・コート方法(3)
試験片の形状を形成していない片面に、Auを100nm、蒸着法で製膜した。蒸着時の圧力は10-4Torrであった。
・コート方法(4)
フッ化ビニリデン70部、ヘキサフルオロプロピレン30部を共重合し、ポリスチレン換算数平均分子量4.5×104の重合体を得た。この重合体70部とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30部を溶剤であるメチルイソブチルケトン2,500部に加えて1時間攪拌混合し濃度4重量%の塗料を得た。この塗料をコート(1)と同一の試験片上にディッピングにて塗布したのち、60℃に加温して溶剤を充分に蒸発させ、これに電子線照射装置を用いて3Mradの線量となるように電子線を照射することにより硬化処理した
<Surface workability>
・ Coating method (1)
A film of TiO 2 having a thickness of 100 nm was formed by vapor deposition on one surface where the shape of the test piece was not formed. The pressure at the time of vapor deposition was 10 −4 Torr.
・ Coating method (2)
On one side where the shape of the test piece was not formed, SiO 2 was deposited to 100 nm by a vapor deposition method. The pressure at the time of vapor deposition was 10 −4 Torr.
・ Coating method (3)
On one side where the shape of the test piece was not formed, Au was formed into a film by 100 nm by a vapor deposition method. The pressure at the time of vapor deposition was 10 −4 Torr.
・ Coating method (4)
70 parts of vinylidene fluoride and 30 parts of hexafluoropropylene were copolymerized to obtain a polymer having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 4.5 × 10 4 . 70 parts of this polymer and 30 parts of dipentaerythritol hexaacrylate were added to 2,500 parts of methyl isobutyl ketone as a solvent and mixed by stirring for 1 hour to obtain a paint having a concentration of 4% by weight. After coating this paint on the same specimen as the coat (1) by dipping, the solvent is sufficiently evaporated by heating to 60 ° C., and the dose is 3 Mrad using an electron beam irradiation device. Cured by irradiating with electron beam

なお、膜の評価は下記のとおり行った。
(1)膜形成状態を観察した。
(2)100℃×1時間加熱後の膜密着状態を観察した。
評価法は膜表面をベンコットン(旭化成社製)で10回ふき取り、その表面状態を観察した。
○:膜の剥離が認められない。
△:小さなキズが目立つ。
×:膜が面状に剥がれる。
The film was evaluated as follows.
(1) The film formation state was observed.
(2) The film adhesion state after heating at 100 ° C. for 1 hour was observed.
In the evaluation method, the membrane surface was wiped 10 times with Ben Cotton (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), and the surface state was observed.
○: No peeling of the film is observed.
Δ: Small scratches are noticeable.
X: The film is peeled off in a planar shape.

<接着性>
下記の平板基材と検査チップ用基板を貼り合わせ、接着性の評価を行った。
・接着法
上記接着剤を、離型フィルム「バイナシート」(藤森工業社製)の表面に、バーコーターを用いて塗布し、厚さ6μmの塗膜を形成し、この塗膜を80℃で2分間乾燥することにより、転写フィルムを作製した。次いで、当該転写フィルムの乾燥塗膜を基板面のパターンを形成していない面に転写し、さらに目的の基材と貼り合わせた。
・基材
(1)ソーダガラス板
(2)SUS板
(3)合成例1で得られたポリマーを射出成形して得られた平板
・評価法
100℃とした乾燥機中に100時間放置し観察を行った。
○−変化なし
△−微小なはがれがある。
×−剥がれた
<Adhesiveness>
The following flat plate base material and a test chip substrate were bonded together to evaluate the adhesion.
-Adhesion method The above adhesive is applied to the surface of a release film "Bina sheet" (made by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) using a bar coater to form a 6 μm thick coating film. A transfer film was prepared by drying for a minute. Next, the dried coating film of the transfer film was transferred to the surface on which the pattern of the substrate surface was not formed, and further bonded to the target substrate.
-Substrate (1) Soda glass plate (2) SUS plate (3) Flat plate obtained by injection molding of the polymer obtained in Synthesis Example 1-Evaluation method Observed after standing in a dryer at 100 ° C for 100 hours Went.
○ -No change △ -Slight peeling.
×-peeled

表1に示すように、耐殺菌性および転写性の評価を行った。














As shown in Table 1, bactericidal resistance and transferability were evaluated.














実施例1〜17、比較例1〜10の比較により、本発明の検査チップ用基板は耐殺菌性および転写性に優れていることがわかる。   Comparison between Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 10 shows that the test chip substrate of the present invention is excellent in sterilization resistance and transferability.

表2〜5に示すように表面加工性、表6〜9に示すように接着性について、評価を行った。なお、成形品形状はAである。   The surface workability was evaluated as shown in Tables 2 to 5, and the adhesiveness was evaluated as shown in Tables 6 to 9. The shape of the molded product is A.


実施例18〜41と比較例11〜18、実施例42〜61と比較例19〜26との比較により、本発明の検査チップ用基板は表面加工性および接着性に優れていることがわかる。   From comparison between Examples 18 to 41 and Comparative Examples 11 to 18, and Examples 42 to 61 and Comparative Examples 19 to 26, it can be seen that the test chip substrate of the present invention is excellent in surface workability and adhesiveness.

本発明の検査素子用のチップ基板は、食品や医療などの検査に用いるバイオセンサーや化学センサーとして好適である。   The chip substrate for a test element of the present invention is suitable as a biosensor or a chemical sensor used for food or medical tests.

キャピラリーアレイ型形状を有する成形品Aの構成図であり、(a)は正面構成図、(b)は側面構成図である。It is a block diagram of the molded product A which has a capillary array type | mold shape, (a) is a front block diagram, (b) is a side block diagram. マイクロキャピラリー形状を有する成形品Bの構成図であり、(a)は正面構成図、(b)は各部位における側面構成図である。It is a block diagram of the molded product B which has a microcapillary shape, (a) is a front block diagram, (b) is a side block diagram in each site | part.

Claims (5)

環状オレフィン系樹脂からなる成形品であって、表面に微小なキャピラリー流路あるいは凹パターンを有する検査素子用のチップ基板。   A chip substrate for a test element, which is a molded product made of a cyclic olefin resin and has a fine capillary channel or a concave pattern on its surface. バイオチップ用である請求項1記載の検査素子用のチップ基板。   The chip substrate for a test element according to claim 1, which is for a biochip. バイオチップが医療検査または食品検査に用いられる請求項2記載の検査素子用のチップ基板。   The chip substrate for an inspection element according to claim 2, wherein the biochip is used for medical inspection or food inspection. キャピラリー流路あるいは凹パターンを有する金型を用いた射出成形法にて製造することを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の検査素子用のチップ基板の製造方法。   4. The method of manufacturing a chip substrate for a test element according to claim 1, wherein the chip substrate is manufactured by an injection molding method using a capillary channel or a mold having a concave pattern. キャビティーを減圧にして成形する方法および/または射出圧縮成形法により製造する請求項4に記載の検査素子用のチップ基板の製造方法。
The method for producing a chip substrate for a test element according to claim 4, wherein the cavity is formed under reduced pressure and / or produced by an injection compression molding method.
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