JP2005225965A - Resin composition - Google Patents

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Hirotaka Uosaki
浩隆 宇於崎
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Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition having excellent adhesion to lead frames and reliability of moisture resistance. <P>SOLUTION: This resin composition comprises a thermosetting resin, an inorganic filler and a release agent. The release agent is a polyolefin wax obtained by oxidizing a polyolefin manufactured by using a metallocene catalyst. Preferably, the thermosetting resin is an epoxy resin or a phenolic resin. The thermosetting resin composition contains the release agent in an amount of 0.03-1.00 wt.% of the total composition. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、リードフレームとの接着性及び耐湿信頼性に優れた樹脂組成物に関するものであり、特に半導体封止に適した射出成形可能な熱硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a resin composition excellent in adhesiveness to a lead frame and moisture resistance reliability, and particularly to an injection-moldable thermosetting resin composition suitable for semiconductor encapsulation.

トランジスター、コンデンサー、ダイオ―ド、IC、LSI等の半導体封止用樹脂組成物(以下、樹脂組成物という)としてはエポキシ樹脂組成物が主として採用され、その中で離型剤成分としては高分子脂肪酸、高分子脂肪酸エステル、その他高分子脂肪酸化合物が成形性、信頼性、量産性等の面から採用されている。しかし、昨今における電子機器の小型化、軽量化、低価格化の市場動向の中で、樹脂組成物には生産性を向上させるため成形時間の短縮と歩留まり向上が求められている。   An epoxy resin composition is mainly used as a semiconductor sealing resin composition (hereinafter referred to as a resin composition) for transistors, capacitors, diodes, ICs, LSIs, etc. Among them, a polymer is used as a release agent component. Fatty acids, polymer fatty acid esters, and other polymer fatty acid compounds are employed from the viewpoints of moldability, reliability, mass productivity, and the like. However, in recent market trends of downsizing, weight reduction, and price reduction of electronic devices, resin compositions are required to reduce molding time and yield in order to improve productivity.

成形時間を短縮するためには、一般的に硬化性の向上という手段がとられているが、その結果として増粘速度が大きくなり流動性が低下し、フレームと封止樹脂との濡れ性が低下するために密着性が低下し、結果として耐湿信頼性が低下してしまう。そこで、この対策として離型剤の添加量を増加してその滑剤効果により流動性を高めるという方法が採られているが、この場合、流動性の向上と共に半導体装置内部の密着性が低下して界面剥離が生じ耐湿信頼性が低下してしまい、すなわち硬化性の向上と離型剤の添加量の増加だけでは未だ十分な性能を発揮できていない。また離型剤として酸化ポリオレフィンワックスを使用することも知られているが、まだその上記諸性能において十分ではなかった。(特許文献1、2)
特開2003−213080号公報 特開2003−268204号公報
In order to shorten the molding time, generally a measure of improving curability is taken, but as a result, the speed of thickening increases, the fluidity decreases, and the wettability between the frame and the sealing resin increases. As a result, the adhesiveness is lowered, and as a result, the moisture resistance reliability is lowered. Therefore, as a countermeasure against this, a method of increasing the fluidity due to the lubricant effect by increasing the amount of the release agent added has been adopted, but in this case, the adhesion inside the semiconductor device decreases as the fluidity improves. Interfacial peeling occurs and the moisture resistance reliability decreases, that is, sufficient performance is not yet exhibited only by improving the curability and increasing the amount of release agent added. It is also known to use an oxidized polyolefin wax as a mold release agent, but it has not been sufficient in its various performances. (Patent Documents 1 and 2)
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-213080 JP 2003-268204 A

本発明者等は、各種の半導体装置への流動性、充填性、短時間成形性、金型離型性、リードフレームやチップとの接着性、耐湿信頼性を向上させることにつき種々の検討を行った結果、離型剤成分として、メタロセン系触媒を用いて製造したポリオレフィンを酸化して得られたポリオレフィンワックスを用いることにより、上記特性が大きく向上することを見出し、本発明を完成した。   The inventors have conducted various studies on improving fluidity, filling properties, short-time moldability, mold releasability, adhesion to lead frames and chips, and moisture resistance reliability to various semiconductor devices. As a result, the present inventors have found that the above characteristics are greatly improved by using a polyolefin wax obtained by oxidizing a polyolefin produced using a metallocene catalyst as a release agent component, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明は次の樹脂組成物に関する。
[1] 熱硬化性樹脂、無機質充填材および離型剤からなる樹脂組成物であって、離型剤がメタロセン系触媒を用いて製造したポリオレフィンを酸化して得られたポリオレフィンワックスであることを特徴とする樹脂組成物。
[2] 離型剤を全樹脂組成物中に0.03〜1.00重量%含む請求項1に記載の樹脂組成物。
[3] 樹脂組成物に硬化剤及び/又は硬化促進剤を含む請求項1に記載の樹脂組成物。
[4] 半導体封止用である請求項1〜4に記載の樹脂組成物
That is, the present invention relates to the following resin composition.
[1] A resin composition comprising a thermosetting resin, an inorganic filler, and a release agent, wherein the release agent is a polyolefin wax obtained by oxidizing a polyolefin produced using a metallocene catalyst. A resin composition characterized.
[2] The resin composition according to claim 1, comprising 0.03 to 1.00% by weight of a release agent in the total resin composition.
[3] The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition contains a curing agent and / or a curing accelerator.
[4] The resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is for semiconductor encapsulation.

本発明の樹脂組成物を用いることにより、優れたリードフレームとの接着性及び耐湿信頼性を有する半導体装置を得ることができる。また印刷性も改良される。   By using the resin composition of the present invention, a semiconductor device having excellent adhesion with a lead frame and moisture resistance reliability can be obtained. Printability is also improved.

以下に本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

<熱硬化性樹脂>
本発明に用いられる熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ユリア樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられ、本発明は特にこれらに限定されるものではないが、本発明では特にエポキシ樹脂とフェノール樹脂が好ましく用いられる。又、これらの熱硬化性樹脂は単独で用いられても、混合して用いられても問題ない。
<Thermosetting resin>
Examples of the thermosetting resin used in the present invention include an epoxy resin, a phenol resin, a diallyl phthalate resin, a urea resin, a polyester resin, and the like. Epoxy resins and phenol resins are preferably used. These thermosetting resins may be used alone or in combination.

本発明において用いられるエポキシ樹脂は、1分子中にエポキシ基を2個以上有するものであれば特に限定されることなく用いることができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂などを挙げる事ができる。なかでも電子部品の封止用としては、耐熱性、耐湿性の観点から、クレゾールノボラック型およびビフェニル型などのエポキシ当量300以下のエポキシ樹脂が好ましく用いられ、2種以上のエポキシ樹脂を併用する事もできる。本発明において熱硬化性樹脂の樹脂組成物全体中の配合量は、好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは5〜20重量%である。熱硬化性樹脂の割合が5〜30重量%の範囲にあると、成形性および密着性に優れ、かつ線膨張係数が小さくなるという利点がある。     The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, halogen An epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, etc. can be mentioned. Among them, for the sealing of electronic components, from the viewpoint of heat resistance and moisture resistance, epoxy resins having an epoxy equivalent of 300 or less such as cresol novolac type and biphenyl type are preferably used, and two or more types of epoxy resins are used in combination. You can also. In the present invention, the blending amount of the thermosetting resin in the entire resin composition is preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 5 to 20% by weight. When the ratio of the thermosetting resin is in the range of 5 to 30% by weight, there are advantages that the moldability and adhesion are excellent and the linear expansion coefficient is small.

<無機充填材>
本発明に用いられる無機質充填材としては、例えばタルク、フェライト、黒鉛、窒化珪素、マイカ、炭酸カルシウム、クレー、アルミナ、アルミナシリカ、破砕状シリカ、球状シリカ、ゼオライト、酸化亜鉛、カーボン、水酸化アルミニウム、アスベスト繊維、ガラス繊維、炭酸繊維、ガラスビーズ、シラスバルーン、シリカバルーンなどの粉末状、繊維状、バルーン状のものが挙げられるが、本発明では好ましくは平均粒径5〜50μm、最大粒径50〜200μmのシリカ粉末、窒化珪素粉末、ゼオライト粉末等が挙げられる。本発明では特に好ましくはシリカ粉末が用いられ、充填量の多い配合では、球状の溶融シリカを用いるのが一般的である。これらの無機質充填材は単独であっても、混合して用いられても差し支えない。配合される全無機質充填材の配合量は、優れた成形性と信頼性を得るという観点から全樹脂組成物中に60〜90重量%含有することが好ましい。
<Inorganic filler>
Examples of the inorganic filler used in the present invention include talc, ferrite, graphite, silicon nitride, mica, calcium carbonate, clay, alumina, alumina silica, crushed silica, spherical silica, zeolite, zinc oxide, carbon, and aluminum hydroxide. , Asbestos fibers, glass fibers, carbonate fibers, glass beads, shirasu balloons, silica balloons, and the like. Examples of powders, fibers, and balloons include those having an average particle diameter of 5 to 50 μm and a maximum particle diameter. Examples thereof include 50-200 μm silica powder, silicon nitride powder, zeolite powder and the like. In the present invention, silica powder is particularly preferably used, and spherical fused silica is generally used for a compound with a large filling amount. These inorganic fillers may be used alone or in combination. The blending amount of the total inorganic filler to be blended is preferably 60 to 90% by weight in the total resin composition from the viewpoint of obtaining excellent moldability and reliability.

<離型剤>
本発明に離型剤として用いられる酸化ポリオレフィンワックスはメタロセン系触媒を用いて製造したポリオレフィンを酸化して得られたポリオレフィンワックスである。より具体的にはメタロセン系触媒を用いて製造したポリエチレンまたはポリプロピレンを酸化して得られた酸化ポリプロピレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等が挙げられ、最も好ましくは酸化ポリエチレンワックスである。
<Release agent>
The oxidized polyolefin wax used as a release agent in the present invention is a polyolefin wax obtained by oxidizing a polyolefin produced using a metallocene catalyst. More specifically, examples thereof include oxidized polypropylene wax and oxidized polyethylene wax obtained by oxidizing polyethylene or polypropylene produced using a metallocene catalyst, and most preferably oxidized polyethylene wax.

酸化ポリオレフィンワックスの基礎となる、メタロセン系触媒を用いて製造したポリオレフィンとは、その重量平均分子量(Mw)が1,000〜40,000、好ましくは2,000〜20,000であり、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグライー)で測定した分子量分布(Mw/Mn)が1.5〜3.5、好ましくは1.6〜3.2、より好ましくは1.7〜2.9の範囲にある。   The polyolefin produced using the metallocene catalyst, which is the basis of the oxidized polyolefin wax, has a weight average molecular weight (Mw) of 1,000 to 40,000, preferably 2,000 to 20,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) measured by gel permeation chromatography is 1.5 to 3.5, preferably 1.6 to 3.2, and more preferably 1.7 to 2.9.

酸化ポリオレフィンワックスの基礎となるポリオレフィンがポリエチレンの場合、メタロセン触媒の存在下で得られるエチレンの単独重合体またはエチレンとα-オレフィンとの共重合体である。α-オレフィンとしては炭素数3〜10の1−アルケンで具体的にはプロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン等である。エチレンの単独重合体またはエチレンとα-オレフィンとの共重合体の場合、必要に応じて他のモノマーとして例えば、ジエン、トリエン等を含む場合もある。エチレンとα-オレフィンの共重合体の場合、エチレン単位の含有量が80〜99モル%、好ましくは90〜99モル%の範囲にあり、135℃デカリン中で測定した極限粘度[η]が0.03〜0.5dl/g、好ましくは0.03〜0.4dl/g、より好ましくは0.05〜0.3dl/gの範囲にある。酸化ポリエチレンワックスの基礎となる、メタロセン系触媒を用いて製造したポリエチレンの密度は0.850〜0.980g/cm3、好ましくは0.890〜0.970g/cm3、より好ましくは0.900〜0.950g/cm3である。 When the polyolefin used as the basis of the oxidized polyolefin wax is polyethylene, it is a homopolymer of ethylene or a copolymer of ethylene and α-olefin obtained in the presence of a metallocene catalyst. The α-olefin is a 1-alkene having 3 to 10 carbon atoms, specifically, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene and the like. In the case of an ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin, for example, a diene, a triene or the like may be contained as another monomer as required. In the case of a copolymer of ethylene and α-olefin, the ethylene unit content is in the range of 80 to 99 mol%, preferably 90 to 99 mol%, and the intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135 ° C. is 0. 0.03 to 0.5 dl / g, preferably 0.03 to 0.4 dl / g, more preferably 0.05 to 0.3 dl / g. The density of polyethylene produced using a metallocene catalyst, which is the basis of oxidized polyethylene wax, is 0.850 to 0.980 g / cm 3 , preferably 0.890 to 0.970 g / cm 3 , more preferably 0.900. ˜0.950 g / cm 3 .

酸化ポリオレフィンワックスの基礎となるポリオレフィンがポリエチレンの場合、ポリエチレンの製造には、周期表第4族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物および/またはイオン化イオン性化合物とからなる以下のようなメタロセン系触媒を用いて製造される。   When the polyolefin used as the basis of the oxidized polyolefin wax is polyethylene, the production of polyethylene includes the following metallocene compound of a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, an organoaluminum oxy compound and / or an ionized ionic compound: It is produced using such a metallocene catalyst.

(メタロセン化合物)
メタロセン系触媒を形成するメタロセン化合物は、周期表第4族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物であり、具体的な例としては下記一般式(1)で表される化合物が挙げられる。
(Metallocene compound)
The metallocene compound that forms the metallocene catalyst is a metallocene compound of a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, and specific examples include compounds represented by the following general formula (1).

1Lx …(1)
ここで、M1は周期表第4族から選ばれる遷移金属、xは遷移金属M1の原子価、Lは配位子である。
M 1 Lx (1)
Here, M 1 is a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, x is a valence of the transition metal M 1 , and L is a ligand.

1で示される遷移金属の例としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウムなどがある。Lは遷移金属M1に配位する配位子であって、そのうち少なくとも1個の配位子Lはシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であって、このシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は置換基を有していてもよい。 Examples of the transition metal represented by M 1 include zirconium, titanium, hafnium and the like. L is a ligand coordinated to the transition metal M 1, and at least one of the ligands L is a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, and the ligand having this cyclopentadienyl skeleton. The ligand may have a substituent.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子Lとしては、例えばシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、n−またはi−プロピルシクロペンタジエニル基、n−、i−、sec−またはt−ブチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタジエニル基、メチルベンジルシクロペンタジエニル基等のアルキルまたはシクロアルキル置換シクロペンタジエニル基;さらにインデニル基、4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基などが挙げられる。このシクロペンタジエニル骨格を有する配位子の水素は、ハロゲン原子またはトリアルキルシリル基などで置換されていてもよい。   Examples of the ligand L having a cyclopentadienyl skeleton include a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group, an ethylcyclopentadienyl group, an n- or i-propylcyclopentadienyl group, n-, alkyl such as i-, sec- or t-butylcyclopentadienyl group, dimethylcyclopentadienyl group, methylpropylcyclopentadienyl group, methylbutylcyclopentadienyl group, methylbenzylcyclopentadienyl group, An alkyl-substituted cyclopentadienyl group; and an indenyl group, 4,5,6,7-tetrahydroindenyl group, a fluorenyl group, and the like. The hydrogen of the ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be substituted with a halogen atom or a trialkylsilyl group.

上記のメタロセン化合物が、配位子Lとしてシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を2個以上有する場合には、そのうち2個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子同士が、エチレン、プロピレン等のアルキレン基;イソプロピリデン、ジフェニルメチレン等の置換アルキレン基;シリレン基またはジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、メチルフェニルシリレン基等の置換シリレン基などを介して結合されていてもよい。   When the above metallocene compound has two or more ligands having a cyclopentadienyl skeleton as the ligand L, the ligands having two cyclopentadienyl skeletons are ethylene, propylene. Or a substituted alkylene group such as isopropylidene or diphenylmethylene; or a substituted silylene group such as a silylene group or a dimethylsilylene group, a diphenylsilylene group, or a methylphenylsilylene group.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子(シクロペンタジエニル骨格を有しない配位子)Lとしては、炭素原子数1〜12の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、スルフォン酸含有基(−SO31)、ハロゲン原子または水素原子(ここで、R1はアルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基またはアルキル基で置換されたアリール基である。)などが挙げられる。 Examples of ligands other than ligands having a cyclopentadienyl skeleton (ligands having no cyclopentadienyl skeleton) L include hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups, aryloxy groups, sulfones. Acid-containing group (—SO 3 R 1 ), halogen atom or hydrogen atom (where R 1 is an alkyl group, an alkyl group substituted with a halogen atom, an aryl group, an aryl group substituted with a halogen atom, or an alkyl group) A substituted aryl group).

(メタロセン化合物の例−1)
上記一般式(1)で表されるメタロセン化合物が、例えば遷移金属の原子価が4である場合、より具体的には下記一般式(2)で表される。
(Example 1 of metallocene compound)
When the metallocene compound represented by the general formula (1) has a transition metal valence of 4, for example, it is more specifically represented by the following general formula (2).

2 k3 l4 m5 n1 …(2)
ここで、M1は周期表第4族から選ばれる遷移金属、R2はシクロペンタジエニル骨格を有する基(配位子)、R3、R4およびR5はそれぞれ独立にシクロペンタジエニル骨格を有するかまたは有しない基(配位子)である。kは1以上の整数であり、k+l+m+n=4である。
R 2 k R 3 l R 4 m R 5 n M 1 (2)
Here, M 1 is a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, R 2 is a group (ligand) having a cyclopentadienyl skeleton, and R 3 , R 4 and R 5 are each independently cyclopentadienyl. A group (ligand) having or not having a skeleton. k is an integer of 1 or more, and k + l + m + n = 4.

1がジルコニウムであり、かつシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を少なくとも2個含むメタロセン化合物の例を次に挙げる。 Examples of metallocene compounds in which M 1 is zirconium and contains at least two ligands having a cyclopentadienyl skeleton are given below.

ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなど。   Bis (cyclopentadienyl) zirconium monochloride monohydride, bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (1-methyl-3-butylcyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate), bis (1, 3-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and the like.

上記の化合物の中で、1,3−位置換シクロペンタジエニル基を1,2−位置換シクロペンタジエニル基に置き換えた化合物も用いることができる。   Among the above compounds, a compound in which the 1,3-position substituted cyclopentadienyl group is replaced with a 1,2-position substituted cyclopentadienyl group can also be used.

またメタロセン化合物の別の例としては、上記一般式(2)において、R2、R3、R4およびR5の少なくとも2個、例えばR2およびR3がシクロペンタジエニル骨格を有する基(配位子)であり、この少なくとも2個の基がアルキレン基、置換アルキレン基、シリレン基または置換シリレン基などを介して結合されているブリッジタイプのメタロセン化合物を使用することもできる。このときR4およびR5は、それぞれ独立に、前述したシクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子Lと同様である。 Another example of the metallocene compound is a group in which at least two of R 2 , R 3 , R 4 and R 5 , for example, R 2 and R 3 have a cyclopentadienyl skeleton in the general formula (2) ( A bridge type metallocene compound in which at least two groups are bonded via an alkylene group, a substituted alkylene group, a silylene group, a substituted silylene group, or the like. At this time, R 4 and R 5 are independently the same as the ligand L other than the ligand having the cyclopentadienyl skeleton described above.

このようなブリッジタイプのメタロセン化合物としては、エチレンビス(インデニル)ジメチルジルコニウム、エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル−フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリドなどが挙げられる。 酸化ポリオレフィンワックスの基礎となるポリオレフィンがポリプロピレンの場合、メタロセン触媒の存在下で得られるプロピレンの単独重合体またはプロピレンとエチレンまたはプロピレン以外の他のα-オレフィンとの共重合体である。α-オレフィンとしては炭素数4〜10の1−アルケンで具体的には1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン等である。メタロセン触媒の存在下で得られるプロピレンの単独重合体または共重合体はアイソタクチック構造またはシンジオタクチック構造を有する。メタロセン触媒の存在下で得られるプロピレンの単独重合体または共重合体アイソタクチック構造の場合、13C-NMRで測定したアイソタクチックペンタッドmmmmが通常90〜99%、好ましくは93〜99%である。プロピレンとエチレン若しくはプロピレン以外の他のα-オレフィンとの共重合体の場合、共重合体中のエチレンまたはプロピレン以外の他のα-オレフィンの含有量は通常1〜20モル%、好ましくは1〜10モル%である。アイソタクチック構造のプロピレンの単独重合体、またはプロピレンとエチレン若しくはプロピレン以外の他のα-オレフィンとの共重合体の製造に用いられるメタロセン触媒は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の周期律表第4〜6族遷移金属と、シクロペンタジエニル基あるいはシクロペンタジエニル誘導体基との錯体を使用した触媒である。メタロセン触媒において、シクロペンタジエニル誘導体基としては、ペンタメチルシクロペンタジエニル等のアルキル置換体基、あるいは2以上の置換基が結合して飽和もしくは不飽和の環状置換基を構成した基を使用することができ、代表的にはインデニル基、フルオレニル基、アズレニル基、あるいはこれらの部分水素添加物を挙げることができる。また、複数のシクロペンタジエニル基がアルキレン基、シリレン基、ゲルミレン基等で結合したものも好ましく用いられる。 Examples of such bridge-type metallocene compounds include ethylenebis (indenyl) dimethylzirconium, ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl-fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylsilylenebis (indenyl) zirconium dichloride, methyl Examples include phenylsilylene bis (indenyl) zirconium dichloride. When the polyolefin on which the oxidized polyolefin wax is based is polypropylene, it is a propylene homopolymer obtained in the presence of a metallocene catalyst or a copolymer of propylene and ethylene or an α-olefin other than propylene. The α-olefin is a 1-alkene having 4 to 10 carbon atoms, specifically 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene and the like. A homopolymer or copolymer of propylene obtained in the presence of a metallocene catalyst has an isotactic structure or a syndiotactic structure. In the case of a propylene homopolymer or copolymer isotactic structure obtained in the presence of a metallocene catalyst, the isotactic pentad mmmm measured by 13 C-NMR is usually 90 to 99%, preferably 93 to 99%. It is. In the case of a copolymer of propylene and ethylene or an α-olefin other than propylene, the content of the α-olefin other than ethylene or propylene in the copolymer is usually 1 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%. The metallocene catalyst used for the production of a homopolymer of propylene having an isotactic structure or a copolymer of propylene and ethylene or other α-olefin other than propylene is a periodic table of titanium, zirconium, hafnium, etc. It is a catalyst using a complex of a group -6 transition metal and a cyclopentadienyl group or a cyclopentadienyl derivative group. In the metallocene catalyst, as the cyclopentadienyl derivative group, an alkyl substituent such as pentamethylcyclopentadienyl or a group in which two or more substituents are combined to form a saturated or unsaturated cyclic substituent is used. Typically, an indenyl group, a fluorenyl group, an azulenyl group, or a partial hydrogenated product thereof can be given. Further, those in which a plurality of cyclopentadienyl groups are bonded by an alkylene group, a silylene group, a germylene group or the like are also preferably used.

メタロセン触媒の存在下で得られるプロピレンの単独重合体または共重合体がシンジオタクチック構造の場合、シンジオタクチックペンタッド分率は通常0.6以上である。シンジオタクチックペンタッド分率が0.6以上の結晶性ポリプロピレンは、135℃の1,2,4−トリクロロベンゼン溶液で測定した13C−NMRスペクトルにおいてテトラメチルシランを基準として約20.3ppmに観測されるピーク強度をプロピレン単位のメチル基に帰属されるピーク強度の総和で除した値であるシンジオタクチックペンタッド分率が0.6以上のポリプロピレンである。シンジオタクチック構造のポリプロピレンの製造方法としては非対称な配位子を有する遷移金属化合物とアルミノキサンからなる触媒を用いてプロピレンを重合する方法(特開平2−41303号公報やJ.Am.Chem.Soc.,1988,110,6255-6256)が知られている。   When the homopolymer or copolymer of propylene obtained in the presence of the metallocene catalyst has a syndiotactic structure, the syndiotactic pentad fraction is usually 0.6 or more. A crystalline polypropylene having a syndiotactic pentad fraction of 0.6 or more is observed at about 20.3 ppm in a 13 C-NMR spectrum measured with a 1,2,4-trichlorobenzene solution at 135 ° C. based on tetramethylsilane. This is a polypropylene having a syndiotactic pentad fraction of 0.6 or more, which is a value obtained by dividing the peak intensity divided by the sum of the peak intensity attributed to the methyl group of the propylene unit. As a method for producing a polypropylene having a syndiotactic structure, propylene is polymerized by using a catalyst comprising an asymmetric ligand and a transition metal compound having an asymmetric ligand (Japanese Patent Laid-Open No. 2-41303 and J. Am. Chem. Soc ., 1988, 110, 6255-6256) are known.

ポリオレフィンワックスの酸化は、上記ポリオレフィンワックスを溶融状態で攪拌下に酸素または酸素含有ガスと接触させることにより行うことができる。   The oxidation of the polyolefin wax can be performed by bringing the polyolefin wax into contact with oxygen or an oxygen-containing gas under stirring in a molten state.

混合物の溶融時の温度(反応温度)は通常、140〜180℃、好ましくは150〜170℃であることが望ましい。   The temperature at the time of melting of the mixture (reaction temperature) is usually 140 to 180 ° C, preferably 150 to 170 ° C.

反応温度が上記範囲内にあると、混合物が低粘度であるため、攪拌により酸素または酸素含有ガスと十分に接触させることができる。また、混合物の分子量の低下も少ない。   When the reaction temperature is within the above range, the mixture has a low viscosity, and can be sufficiently brought into contact with oxygen or an oxygen-containing gas by stirring. In addition, there is little decrease in the molecular weight of the mixture.

ポリオレフィンワックスを酸化する際には、ポリオレフィンワックスを溶融状態で攪拌下に酸素または酸素含有ガスと接触させて酸化反応を行うが、「酸素または酸素含有ガス」という語は、純酸素(通常の液体空気分留や水の電解によって得られる酸素であって、他成分を不純物程度含んでいても差し支えない)、純酸素と他のガスとの混合ガス(例えば空気)、およびオゾンを含んで用いられる。   When oxidizing a polyolefin wax, the polyolefin wax is brought into contact with oxygen or an oxygen-containing gas under stirring in a molten state to carry out an oxidation reaction. The term “oxygen or oxygen-containing gas” is pure oxygen (ordinary liquid) Oxygen obtained by air fractionation or water electrolysis, which may contain other components to the extent of impurities), mixed gas of pure oxygen and other gases (for example, air), and ozone. .

酸化は常圧または加圧下に行うことができ、加圧下に行う場合には、0.5〜0.8MPa、好ましくは0.55〜0.75MPaの圧力下に行うことが望ましい。   The oxidation can be carried out at normal pressure or under pressure, and when carried out under pressure, it is desirable to carry out under a pressure of 0.5 to 0.8 MPa, preferably 0.55 to 0.75 MPa.

酸化の圧力が上記範囲内にあると、原料ポリオレフィンワックスの酸化を効率よく行うことができる。   When the oxidation pressure is within the above range, the raw material polyolefin wax can be oxidized efficiently.

本発明では酸化剤として空気を用い、0.5〜0.8MPaの圧力下で酸化を行うことが好ましい。   In the present invention, it is preferable to oxidize using air as an oxidizing agent under a pressure of 0.5 to 0.8 MPa.

原料ポリオレフィンワックスと酸素または酸素含有ガスとの接触方法として具体的には、酸素または酸素含有ガスを反応器下部より連続的に供給して、ポリオレフィンワックスと接触させる方法が好ましい。またこの場合、酸素または酸素含有ガスは、原料混合物1kgに対して1分間当たり1.0〜8.0NL相当の酸素量となるように供給することが好ましい。   Specifically, a method of contacting the raw material polyolefin wax with oxygen or an oxygen-containing gas is preferably a method in which oxygen or an oxygen-containing gas is continuously supplied from the lower part of the reactor and brought into contact with the polyolefin wax. In this case, it is preferable to supply oxygen or an oxygen-containing gas so that the amount of oxygen is equivalent to 1.0 to 8.0 NL per minute with respect to 1 kg of the raw material mixture.

このようにして得られる変性(酸化)ポリオレフィンワックスの酸価(JIS K5902)は、好ましくは6〜30mgKOH/g、より好ましくは10〜20mgKOH/gである。酸化ポリオレフィンワックスの、GPCで測定したMnは通常200〜5,000、好ましくは500〜2,000、より好ましくは800〜1,800である。酸化ポリオレフィンワックスが酸化ポリエチレンワックスの場合、そのDSCで測定した融点は70〜120℃、好ましくは80〜110℃である。また酸化ポリエチレンワックスの溶融粘度は通常100〜1,000mPa・s、好ましくは200〜800mPa・sである。酸化ポリエチレンワックスの軟化点は通常80〜120℃、好ましくは90〜110℃である。酸化ポリエチレンワックスのの針入度は通常0.1〜10、好ましくは0.5〜5である。     The acid value (JIS K5902) of the modified (oxidized) polyolefin wax thus obtained is preferably 6 to 30 mgKOH / g, more preferably 10 to 20 mgKOH / g. Mn of the oxidized polyolefin wax measured by GPC is usually 200 to 5,000, preferably 500 to 2,000, more preferably 800 to 1,800. When the oxidized polyolefin wax is an oxidized polyethylene wax, the melting point measured by DSC is 70 to 120 ° C, preferably 80 to 110 ° C. The melt viscosity of the oxidized polyethylene wax is usually 100 to 1,000 mPa · s, preferably 200 to 800 mPa · s. The softening point of the oxidized polyethylene wax is usually 80 to 120 ° C, preferably 90 to 110 ° C. The penetration of oxidized polyethylene wax is usually 0.1 to 10, preferably 0.5 to 5.

ここに、酸価とは、試料1g当たりの中和に要する水酸化カリウムのmg数を指す。 これらの酸化ポリオレフィンワックスは、単独であっても複数種の酸化ポリオレフィンワックスの混合であっても、他の天然ワックスと混合して用いても差し支えない。   Here, the acid value indicates the number of mg of potassium hydroxide required for neutralization per 1 g of the sample. These oxidized polyolefin waxes may be used singly or as a mixture of a plurality of types of oxidized polyolefin waxes, or may be used in combination with other natural waxes.

離型剤の配合量は、全樹脂組成物中に好ましくは0.03〜1.0重量%、より好ましくは0.05〜0.8重量%である。離型剤の配合量が前記範囲内(全樹脂組成物中に0.03〜1.0重量%)にあると、トランスファー成形機や射出成形機シリンダー内における樹脂組成物の付着が少なく安定して成形が行え、また半導体封止半導体装置表面および半導体装置内部の各界面へのブリードが少なく、半導体装置内部の密着性、半田耐熱性耐湿信頼性に優れる。   The compounding amount of the release agent is preferably 0.03 to 1.0% by weight, more preferably 0.05 to 0.8% by weight in the total resin composition. If the compounding amount of the release agent is within the above range (0.03 to 1.0% by weight in the total resin composition), the adhesion of the resin composition in the transfer molding machine or injection molding machine cylinder is small and stable. In addition, there are few bleeds to the surface of the semiconductor-encapsulated semiconductor device and each interface inside the semiconductor device, and the semiconductor device has excellent adhesion, solder heat resistance, and moisture resistance reliability.

又、本発明に用いられる酸化ポリオレフィンワックスが酸化ポリエチレンワックスの場合、成形材料化する時、材料が十分に分散されるため混練り性がよく、また成形時においてフレームに対する密着性、耐湿信頼性が優れた性能を発揮する。それ故成形時においては滑剤効果が発揮され流動性、充填性、離型性、フレームに対する密着性、耐湿信頼性が向上する。   Further, when the oxidized polyolefin wax used in the present invention is an oxidized polyethylene wax, the material is sufficiently dispersed when it is made into a molding material, so that the kneadability is good, and the adhesion to the frame and the moisture resistance reliability at the time of molding are good. Excellent performance. Therefore, at the time of molding, a lubricant effect is exhibited, and fluidity, filling properties, mold release properties, adhesion to the frame, and moisture resistance reliability are improved.

本発明の樹脂組成物は、熱硬化性樹脂、無機質充填材及び離型剤を配合して得ることができるが、好ましくは硬化剤、硬化促進剤を加える。   Although the resin composition of this invention can be obtained by mix | blending a thermosetting resin, an inorganic filler, and a mold release agent, Preferably a hardening | curing agent and a hardening accelerator are added.

<硬化剤>
硬化剤としては、上記熱硬化性樹脂と硬化反応するものであれば特に制限なく用いることができ、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、イソシアネート樹脂などを用いることができ、特にフェノール樹脂が好ましい。フェノール樹脂としては例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、アラルキルフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂などが挙げられる。硬化剤の配合量は、熱硬化性樹脂100重量部に対して通常20〜60重量部、好ましくは40〜55重量部であり、化学当量比で表した場合は、耐湿性および機械的特性の観点からエポキシ樹脂に対する硬化剤の化学当量比が0.5〜1.5、とくに0.7〜1.3の範囲にあるのが好ましい。
<Curing agent>
Any curing agent can be used without particular limitation as long as it is capable of undergoing a curing reaction with the thermosetting resin, and a phenol resin, a melamine resin, an acrylic resin, an isocyanate resin, or the like can be used, and a phenol resin is particularly preferable. Examples of the phenol resin include a phenol novolac resin, a cresol novolac resin, an aralkyl phenol resin, and a terpene phenol resin. The compounding amount of the curing agent is usually 20 to 60 parts by weight, preferably 40 to 55 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin. When expressed in chemical equivalent ratio, the moisture resistance and mechanical properties are From the viewpoint, the chemical equivalent ratio of the curing agent to the epoxy resin is preferably in the range of 0.5 to 1.5, particularly 0.7 to 1.3.

<硬化促進剤>
本発明で用いられる硬化促進剤としては、エポキシ基とフェノール性水酸基との硬化反応を促進させるものであればよく、一般に封止材料に使用されているものを広く使用することができる。例えばトリブチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等のジアザビシクロアルケン及びその誘導体、ベンジルジメチルアミン等のアミン系化合物、テトラフェニルホスホニウム・テトラナフトイックアシッドボレート、トリフェニルホスフィン等の有機リン系化合物、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの硬化促進剤は単独で用いても2種類以上を併用してもよい。
<Curing accelerator>
As a hardening accelerator used by this invention, what is necessary is just to accelerate | stimulate the hardening reaction of an epoxy group and a phenolic hydroxyl group, and what is generally used for the sealing material can be used widely. For example, tributylamine, diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and derivatives thereof, amine compounds such as benzyldimethylamine, tetraphenylphosphonium tetranaphthoic acid borate, triphenyl Examples include organic phosphorus compounds such as phosphine, imidazole compounds such as 2-methylimidazole, and the like, but are not limited thereto. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

また本発明の樹脂組成物は、上記以外にも必要に応じて、シランカップリング剤、難燃剤、着色剤、低応力化剤等を配合しても差し支えない。これらの全材料を、加熱ニーダーや熱ロールにより加熱混練し、続いて冷却、粉砕することで目的とする樹脂組成物が得られる。   In addition to the above, the resin composition of the present invention may contain a silane coupling agent, a flame retardant, a colorant, a low stress agent, and the like as necessary. All these materials are heated and kneaded by a heating kneader or a heating roll, and then cooled and pulverized to obtain the intended resin composition.

[実施例]
以下、本発明の優れた効果を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[Example]
Hereinafter, the excellent effect of the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下の実施例においてワックスの物性は次のようにして測定した。
(溶融粘度)
ブルックフィールド粘度計を用いて140℃で測定した。
(極限粘度[η])
ASTM D1601に従って測定した。
(密度)
JIS K6760に従って測定した。
(軟化点)
JIS K2207に従って測定した。
(酸価)
JIS K5902に従って測定した。
(ハーゼン色数)
150℃での溶融色相をJIS K0071−1に従って測定した。
(針入度)
JIS K2207に従って測定した。
In the following examples, the physical properties of the wax were measured as follows.
(Melt viscosity)
Measurements were made at 140 ° C. using a Brookfield viscometer.
(Intrinsic viscosity [η])
Measured according to ASTM D1601.
(density)
It measured according to JIS K6760.
(Softening point)
It measured according to JIS K2207.
(Acid value)
It measured according to JIS K5902.
(Hazen color number)
The melt hue at 150 ° C. was measured according to JIS K0071-1.
(Penetration)
It measured according to JIS K2207.

[合成例1]
(ポリエチレンワックス(1)の合成)
メタロセン触媒を用いて、次のようにしてエチレン・プロピレン共重合体(ポリエチレンワックス(1))を合成した。
[Synthesis Example 1]
(Synthesis of polyethylene wax (1))
Using a metallocene catalyst, an ethylene / propylene copolymer (polyethylene wax (1)) was synthesized as follows.

十分に窒素置換した内容積2リットルのステンレス製オートクレーブにヘキサン 960mlおよびプロピレン 40mlを装入し、水素を0.08MPa(ゲージ圧)となるまで導入した。次いで系内の温度を150℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウム 0.3ミリモル、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート 0.004ミリモル、(t-ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)シランチタンジクロライド(シグマアルドリッチ社製)0.02ミリモルをエチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を2.9MPa(ゲージ圧)に保ち、150℃で20分間重合を行った。 960 ml of hexane and 40 ml of propylene were charged into a 2 liter stainless steel autoclave sufficiently purged with nitrogen, and hydrogen was introduced until the pressure reached 0.08 MPa (gauge pressure). Next, after raising the temperature in the system to 150 ° C., 0.3 mmol of triisobutylaluminum, 0.004 mmol of triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, (t-butylamido) dimethyl (tetramethyl-η 5) Polymerization was initiated by injecting 0.02 mmol of -cyclopentadienyl) silane titanium dichloride (Sigma-Aldrich) with ethylene. Thereafter, only ethylene was continuously supplied to keep the total pressure at 2.9 MPa (gauge pressure), and polymerization was carried out at 150 ° C. for 20 minutes.

少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンおよびプロピレンをパージした。得られたポリマー溶液を、100℃減圧下で一晩乾燥した。その結果、[η]が0.23dl/gであり、溶融粘度が720mPa・sであり、密度が932kg/m3であり、軟化点が112℃であり、プロピレン含量が5.3モル%であるメタロセン系ポリエチレンワックスを32.5g得た。 After the polymerization was stopped by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene and propylene were purged. The resulting polymer solution was dried overnight at 100 ° C. under reduced pressure. As a result, [η] is 0.23 dl / g, melt viscosity is 720 mPa · s, density is 932 kg / m 3 , softening point is 112 ° C., and propylene content is 5.3 mol%. 32.5 g of a metallocene polyethylene wax was obtained.

上記の合成作業を20回繰り返し、合成した20回分のメタロセン系ポリエチレンワックスを溶融混合した後、冷却しポリエチレンワックス(1)とした。   The above synthesis operation was repeated 20 times, and the synthesized 20 metallocene polyethylene waxes were melt mixed and then cooled to obtain polyethylene wax (1).

[合成例2]
(ポリエチレンワックス(2)の合成)
メタロセン触媒を用いて、次のようにしてエチレン・プロピレン共重合体(ポリエチレンワックス(2))を合成した。
[Synthesis Example 2]
(Synthesis of polyethylene wax (2))
Using a metallocene catalyst, an ethylene / propylene copolymer (polyethylene wax (2)) was synthesized as follows.

合成例1の合成において、ヘキサンを968mlおよびプロピレンを32mlとして装入した以外は合成例1と同様に合成を行った。その結果、[η]が0.23dl/gであり、密度が940kg/m3であり、溶融粘度が660mPa・sであり、軟化点が118℃であり、プロピレン含量が4.5モル%であるメタロセン系ポリエチレンワックスを43.2g得た。 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 968 ml of hexane and 32 ml of propylene were charged in the synthesis of Synthesis Example 1. As a result, [η] is 0.23 dl / g, the density is 940 kg / m 3 , the melt viscosity is 660 mPa · s, the softening point is 118 ° C., and the propylene content is 4.5 mol%. 43.2 g of a metallocene polyethylene wax was obtained.

上記の合成作業を15回繰り返し、合成した10回分のメタロセン系ポリエチレンワックスを溶融混合した後、冷却しポリエチレンワックス(2)とした。   The above synthesis operation was repeated 15 times, and the synthesized 10 metallocene polyethylene waxes were melt mixed and then cooled to obtain polyethylene wax (2).

[HW420P]
チーグラー系触媒で製造され、プロピレン含量が6.0モル%であり、極限粘度[η]が0.22dl/gであり、密度が930kg/m3であり、溶融粘度が710mPa・sであり、軟化点が117℃であるエチレン・プロピレン共重合体(三井化学製、HW420P)。
[HW420P]
Produced with a Ziegler-based catalyst, the propylene content is 6.0 mol%, the intrinsic viscosity [η] is 0.22 dl / g, the density is 930 kg / m 3 , the melt viscosity is 710 mPa · s, An ethylene / propylene copolymer having a softening point of 117 ° C. (Mitsui Chemicals, HW420P).

[酸化ポリエチレンワックス製造例1]
2Lのオートクレーブ(温度計、圧力計、撹拌機、ガス導入管、ガス排気管を備える)で酸化反応を実施した。500gのポリエチレンワックス(1)を溶融させ、内温が165℃に達した後、撹拌機を300min-1に設定し、1.2L/minで空気を溶融物中に導入した、このとき内圧は0.69MPaを示した。空気を導入しながら、反応温度を165℃、撹拌速度を300min-1、圧力を0.69MPaに維持し、6時間後に反応を終了した。得られた生成物は250mPa・sの溶融粘度、19.8KOHmg/gの酸価、150〜200ハーゼン色数を有していた。
[Production example 1 of oxidized polyethylene wax]
The oxidation reaction was carried out in a 2 L autoclave (equipped with a thermometer, pressure gauge, stirrer, gas introduction pipe, and gas exhaust pipe). After 500 g of polyethylene wax (1) was melted and the internal temperature reached 165 ° C., the stirrer was set to 300 min −1 and air was introduced into the melt at 1.2 L / min. 0.69 MPa was indicated. While introducing air, the reaction temperature was maintained at 165 ° C., the stirring speed was maintained at 300 min −1 , and the pressure was maintained at 0.69 MPa, and the reaction was terminated after 6 hours. The resulting product had a melt viscosity of 250 mPa · s, an acid value of 19.8 KOH mg / g, and a 150-200 Hazen color number.

[酸化ポリエチレンワックス製造例2]
ポリエチレンワックス(1)に代えてポリエチレンワックス(2)を使用したこと以外は実施例1と同様にして酸化反応を実施した。得られた生成物は300mPa・sの溶融粘度、18.7KOHmg/gの酸価、150〜200ハーゼン色数を有していた。
[Production example 2 of oxidized polyethylene wax]
The oxidation reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that polyethylene wax (2) was used instead of polyethylene wax (1). The resulting product had a melt viscosity of 300 mPa · s, an acid value of 18.7 KOH mg / g, and a 150-200 Hazen color number.

表1に示す重量割合で、全原料をヘンシェルミキサーにより混合した後、温度90℃でニーダ―、ロール等で加熱混練し、更に冷却後粉砕して、封止材料とした。この材料を用いて、スパイラルフロー、ゲル化時間、離型性、充填性、連続成形性について測定した。更に密着性、耐湿信頼性の評価を行った。サンプルの成形は全て射出成形で、金型温度180℃、注入時間10秒、硬化時間60秒にて実施した。後硬化は180℃で3時間実施した。   All the raw materials were mixed by a Henschel mixer in the weight ratio shown in Table 1, then heated and kneaded with a kneader, a roll or the like at a temperature of 90 ° C., and further cooled and pulverized to obtain a sealing material. Using this material, spiral flow, gelation time, releasability, filling property, and continuous moldability were measured. Further, adhesion and moisture resistance reliability were evaluated. Samples were all formed by injection molding at a mold temperature of 180 ° C., an injection time of 10 seconds, and a curing time of 60 seconds. Post-curing was performed at 180 ° C. for 3 hours.

下記の評価方法で評価した結果を表2に示す。   Table 2 shows the results of evaluation by the following evaluation methods.

<評価方法>
(i)スパイラルフロー
内部がスパイラル状になった金型を用い、トランスファー成形にて金型温度150℃、実効圧力70kgf/cm2にて成形し、約180秒間硬化した時の金型内で流動した長さ。
(ii)ゲル化時間
180℃の熱板上に樹脂を2g乗せ、スパチュラを用いて約25mm角の大きさに広げて熱板に擦りつけた後、樹脂が硬化して熱板より剥がれる時間。
(iii)連続成形性
連続して60pQFPパッケージ(パッケージサイズ12×18mm、厚み1.5mm、チップサイズ8×8mm、ゲートサイズ0.3×0.3mm)の射出成形を5時間以上行えるかどうかで判断し、5時間以上行える場合を○、5時間以上行えない場合を×で示した。
(iv)密着性
60pQFPパッケージ(同上)を成形後、121℃、100%RHの環境下で48時間放置した後に超音波探傷機でパッケージを観察して、内部剥離が生じたパッケージ数の全パッケージ数に対する割合。
(v)耐湿信頼性
60pQFPパッケージ(同上)を成形後、85℃、85%RHの環境下で24時間放置し、その後260℃の半田槽に10秒間浸漬した。次にこのパッケ―ジに125℃、2.3気圧のPCT処理を行い、不良率が50%となる迄の処理時間で表現した。
(vi)総合判定
上記(1)〜(5)を総合して評価し、射出成形半導体封止材料として好適なものを○、不適なものを×で示した。
<Evaluation method>
(I) Spiral flow Using a mold with a spiral inside, formed by transfer molding at a mold temperature of 150 ° C. and an effective pressure of 70 kgf / cm 2 , and flowing in the mold when cured for about 180 seconds. Length.
(Ii) Gelation time Time when 2 g of resin is placed on a hot plate at 180 ° C., spread to about 25 mm square using a spatula and rubbed against the hot plate, and then the resin is cured and peeled off from the hot plate.
(Iii) Continuous moldability Whether or not continuous injection molding of a 60pQFP package (package size 12 × 18 mm, thickness 1.5 mm, chip size 8 × 8 mm, gate size 0.3 × 0.3 mm) can be performed for 5 hours or more. Judgment was made, and a case where it could not be performed for 5 hours or more was indicated by x.
(Iv) After forming an adhesive 60pQFP package (same as above) and leaving it in an environment of 121 ° C. and 100% RH for 48 hours and then observing the package with an ultrasonic flaw detector, all the packages whose number of internal peeling occurred Percentage of numbers.
(V) Moisture resistance reliability After forming a 60pQFP package (same as above), it was left in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 24 hours, and then immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds. Next, this package was subjected to PCT treatment at 125 ° C. and 2.3 atm, and expressed as a treatment time until the defect rate reached 50%.
(Vi) Comprehensive judgment The above (1) to (5) were evaluated in a comprehensive manner, and those suitable as injection-molded semiconductor encapsulating materials were indicated by ◯ and those not suitable by x.

実施例1において、ワックスの種類と配合量を表1に示す量とした以外は、実施例1と同様に行った。結果を表2に示す。   In Example 1, it carried out like Example 1 except having made the kind and compounding quantity of a wax into the quantity shown in Table 1. The results are shown in Table 2.

実施例1において、ワックスの種類と配合量を表1に示す量とした以外は、実施例1と同様に行った。結果を表2に示す。   In Example 1, it carried out like Example 1 except having made the kind and compounding quantity of a wax into the quantity shown in Table 1. The results are shown in Table 2.

Figure 2005225965
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Figure 2005225965
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本発明の樹脂組成物を用いることにより、優れたリードフレームとの接着性及び耐湿信頼性を有する半導体装置を得ることができる。また印刷性も改良されるので、半導体封止剤として有用である。   By using the resin composition of the present invention, a semiconductor device having excellent adhesion with a lead frame and moisture resistance reliability can be obtained. Moreover, since the printability is also improved, it is useful as a semiconductor sealing agent.

Claims (4)

熱硬化性樹脂、無機質充填材および離型剤からなる樹脂組成物であって、離型剤がメタロセン系触媒を用いて製造したポリオレフィンを酸化して得られたポリオレフィンワックスであることを特徴とする樹脂組成物。 A resin composition comprising a thermosetting resin, an inorganic filler, and a release agent, wherein the release agent is a polyolefin wax obtained by oxidizing a polyolefin produced using a metallocene catalyst. Resin composition. 離型剤を全樹脂組成物中に0.03〜1.00重量%含む請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition of Claim 1 which contains a mold release agent 0.03-1.00weight% in all the resin compositions. 樹脂組成物に硬化剤及び/又は硬化促進剤を含む請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, comprising a curing agent and / or a curing accelerator in the resin composition. 半導体封止用である請求項1〜4に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, which is for semiconductor encapsulation.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010018668A (en) * 2008-07-09 2010-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition and electronic component apparatus using the same
WO2015001998A1 (en) * 2013-07-03 2015-01-08 住友ベークライト株式会社 Phenolic resin molding material

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