JP2005220335A - Resin composition and molded product using the same - Google Patents

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JP2005220335A JP2004128089A JP2004128089A JP2005220335A JP 2005220335 A JP2005220335 A JP 2005220335A JP 2004128089 A JP2004128089 A JP 2004128089A JP 2004128089 A JP2004128089 A JP 2004128089A JP 2005220335 A JP2005220335 A JP 2005220335A
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Sanehiro Shibuya
修弘 渋谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition which has little change in the outward appearance even when it is exposed to high temperatures for a long time, and besides, has good heat resistance and dimensional stability, and to provide a molded product obtained by using this resin composition. <P>SOLUTION: The resin composition comprises, on the basis of 100 pts.mass of the total amount of (A) a thermoplastic polyimide resin and (B) a polyarylketone resin, 5-50 pts.mass of (C) a filler which is surface-treated with an organic silicone compound expressed by the formula (1): R<SB>n</SB>SiX<SB>4-n</SB>(wherein, R is a 1-30C hydrocarbyl group which may contain an oxygen atom; X is one or more kinds of hydrolytic groups selected from a 1-6C alkoxy group, a halogen atom, acetoxy group and hydroxy group; and (n) is 1 or 2), having an absolute value of 10 or less in the yellowness difference according to JIS K 7105-1981 between before and after the treatment at 200°C for 350 hours, and the molded product is formed of this resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、高温における色相変化が少なく、耐熱性、寸法安定性が良好で、 プリント配線基板などのエレクトロニクス用部材等として好適に使用できる樹脂組成物及びこれを用いて得られるフィルムなどの成形体に関する。   The present invention is a resin composition that has little hue change at high temperature, good heat resistance and dimensional stability, and can be suitably used as a member for electronics such as a printed wiring board, and a molded article such as a film obtained using the resin composition About.

熱可塑性樹脂の中でも、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアリールケトン樹脂に代表されるガラス転移温度や融点が高い熱可塑性樹脂は、耐熱性、難燃性、耐薬品性などに優れているためため、航空機部品、電気・電子部品を中心に多く採用されている。なかでも、ポリアリールケトン樹脂は、原料価格が非常に高価な上、樹脂自体のガラス転移温度が約140〜170℃程度と比較的低いことから、耐熱性等の改良検討が種々行われてきた。その中でも良好な相溶性を示す系として、ポリエーテルイミド樹脂とのブレンドが注目されてきた。
このようなブレンドとして、結晶性ポリアリールケトン樹脂と非晶性ポリエーテルイミド樹脂との混合組成物が開示されている(例えば、特許文献1及び2参照)。また、これらの組成物が回路板基材に有用であることも開示されている(例えば、特許文献3参照)。さらに、 上記混合組成物を用いたプリント配線基板及びその製造方法が開示されている(例えば、特許文献4及び5参照)。
Among thermoplastic resins, thermoplastic resins with high glass transition temperature and melting point represented by polyetherimide resin and polyaryl ketone resin are superior in heat resistance, flame retardancy, chemical resistance, etc. It is widely used mainly for parts and electrical / electronic parts. Among them, the polyaryl ketone resin is very expensive, and the glass transition temperature of the resin itself is relatively low at about 140 to 170 ° C., so various studies for improving heat resistance and the like have been made. . Among them, a blend with a polyetherimide resin has attracted attention as a system exhibiting good compatibility.
As such a blend, a mixed composition of a crystalline polyaryl ketone resin and an amorphous polyetherimide resin is disclosed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). It is also disclosed that these compositions are useful for circuit board substrates (see, for example, Patent Document 3). Furthermore, the printed wiring board using the said mixed composition and its manufacturing method are disclosed (for example, refer patent document 4 and 5).

しかしながら、これらの樹脂混合組成物のみでは銅やアルミニウムなどの金属に比べて線膨張係数が大きく、これらの組成物からなるフィルムなどの成形体を貼り合せた場合、温度変化に応じて反りが生じるなどの問題があるので、寸法安定性向上のために充填材が添加されている。しかし、充填材を単独で添加すると、樹脂中への充填材の分散不良が起こり、このため外観不良や、引張り伸度や衝撃強度などの機械的物性に難点が生じる場合がある。この問題を解消するために、充填材に表面処理を施して樹脂に添加するなどの処置が採られている。しかしながら、表面処理された充填剤を含む組成物から得られる成形体が高温に長時間さらされると、使用する表面処理剤によっては色相変化が目立つ場合があった。
上記成形体が電子回路基板として使用される場合、色相変化すなわち外見変化が顕著であれば、電子回路基板としての性能に実質的に問題が無くとも使用者に不安を与えたり商品価値が減ずるなどの問題が生じる場合があり、その改良が必要となった。また、電子回路基材に使用される場合には、ハンダやベーキング処理などの高熱にさらされる機会が多く、高温に長時間さらされたときの外見変化が、性能変化に関連して問題視される懸念があり、外見変化を低減するための改良が待たれていた。エネルギー発生器機や自動車エンジンルーム内部品、宇宙、航空機などの用途でも同様である。しかし、 上記特許文献には、 上記外見変化の原因や改良方法に関して何ら技術的開示がなく、示唆する記載もなかった。
However, these resin mixed compositions alone have a larger coefficient of linear expansion than metals such as copper and aluminum, and when a molded body such as a film made of these compositions is bonded, warping occurs according to temperature changes. In order to improve dimensional stability, fillers are added. However, when the filler is added alone, the filler is poorly dispersed in the resin, which may cause problems in appearance and mechanical properties such as tensile elongation and impact strength. In order to solve this problem, the filler is subjected to a surface treatment and added to the resin. However, when a molded product obtained from a composition containing a surface-treated filler is exposed to a high temperature for a long time, the hue change may be noticeable depending on the surface treatment agent used.
When the molded body is used as an electronic circuit board, if the hue change, that is, the appearance change is significant, the user may be uneasy or the product value may be reduced even if the performance as an electronic circuit board is not substantially problematic. The problem may occur, and the improvement was necessary. In addition, when used in electronic circuit substrates, there are many opportunities to be exposed to high heat such as soldering and baking treatment, and appearance changes when exposed to high temperatures for a long time are regarded as problems related to performance changes. There was a concern, and an improvement to reduce the appearance change was awaited. The same applies to applications such as energy generators, automotive engine compartment parts, space, and aircraft. However, the above patent document has no technical disclosure or suggestion regarding the cause of the appearance change and the improvement method.

特開昭59−187054号公報JP 59-187054 A 特表昭61−500023号公報JP-T 61-500023 Publication 特開昭59−115353号公報JP 59-115353 A 特開2000−38464号公報JP 2000-38464 A 特開2002−144436号公報JP 2002-144436 A

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、長時間高温にさらされた場合でも外見変化、特に色相変化が少なく、耐熱性、寸法安定性も良好で、エレクトロニクス用部材等として好適な樹脂組成物及びこれを用いて得られる樹脂フィルムなどの成形体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a resin composition suitable for an electronic member or the like, having little change in appearance, especially hue change, good heat resistance and dimensional stability even when exposed to high temperature for a long time. It aims at providing molded objects, such as a thing and a resin film obtained using this.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、熱可塑性ポリイミド樹脂とポリアリールケトン樹脂との樹脂混合物に、特定の表面処理された充填材を組合せることにより、上記課題を解決することのできる樹脂組成物を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、(A)熱可塑性ポリイミド樹脂と(B)ポリアリールケトン樹脂の合計量100質量部に対して、(C)下記一般式(1)
n SiX4-n (1)
(式中、Rは、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の炭化水素基であり、Xは、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、アセトキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる1種以上の加水分解性基である。nは1又は2である。)
で表される有機珪素化合物により表面処理された充填材5〜50質量部を含み、200℃、350時間処理前後における、JIS K 7105−1981に規定される黄色度の差の絶対値が10以下であることを特徴とする樹脂組成物を提供するものである。また、本発明は、この樹脂組成物を成形してなる成形体を提供するものである。
As a result of intensive studies, the present inventors can solve the above problem by combining a specific surface-treated filler with a resin mixture of a thermoplastic polyimide resin and a polyaryl ketone resin. The present inventors have found a resin composition and have completed the present invention.
That is, the present invention relates to (C) the following general formula (1) with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A) thermoplastic polyimide resin and (B) polyarylketone resin.
R n SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and X is selected from an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, an acetoxy group and a hydroxyl group. One or more hydrolyzable groups, n is 1 or 2)
The absolute value of the difference in yellowness as defined in JIS K 7105-1981 before and after treatment at 200 ° C. for 350 hours, including 5 to 50 parts by mass of a filler surface-treated with an organosilicon compound represented by The present invention provides a resin composition characterized by the above. Moreover, this invention provides the molded object formed by shape | molding this resin composition.

本発明によれば、長時間高温にさらされた場合でも外見変化、特に色相変化が少なく、耐熱性、寸法安定性も良好で、エレクトロニクス用部材等として好適な樹脂組成物、及びこの樹脂組成物を用いた樹脂フィルムなどの成形体を提供することができる。   According to the present invention, even when exposed to a high temperature for a long time, there are few appearance changes, particularly hue changes, heat resistance and dimensional stability are good, and a resin composition suitable as an electronic member and the like, and this resin composition A molded body such as a resin film using can be provided.

本発明の樹脂組成物は、(A)熱可塑性ポリイミド樹脂と(B)ポリアリールケトン樹脂の合計量100質量部に対して、(C)下記一般式(1)
n SiX4-n (1)
(式中、Rは、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の炭化水素基であり、Xは、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、アセトキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる1種以上の加水分解性基である。nは1又は2である。)
で表される有機珪素化合物により表面処理された充填材5〜50質量部を含み、200℃、350時間処理前後における、JIS K 7105−1981に規定される黄色度の差の絶対値が10以下である樹脂組成物である。
The resin composition of the present invention comprises (C) the following general formula (1) with respect to 100 parts by mass of the total amount of (A) thermoplastic polyimide resin and (B) polyarylketone resin.
R n SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and X is selected from an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, an acetoxy group and a hydroxyl group. One or more hydrolyzable groups, n is 1 or 2)
The absolute value of the difference in yellowness as defined in JIS K 7105-1981 before and after treatment at 200 ° C. for 350 hours, including 5 to 50 parts by mass of a filler surface-treated with an organosilicon compound represented by It is the resin composition which is.

本発明の樹脂組成物における(A)成分の熱可塑性ポリイミド樹脂は、その構造単位に芳香核結合、エーテル結合及びイミド結合を含む熱可塑性樹脂であり、特に制限されるものでない。具体的には、 下記構造式(2)   The thermoplastic polyimide resin of component (A) in the resin composition of the present invention is a thermoplastic resin containing an aromatic nucleus bond, an ether bond and an imide bond in its structural unit, and is not particularly limited. Specifically, the following structural formula (2)

Figure 2005220335
Figure 2005220335

で表される繰り返し単位を有するポリエーテルイミド[ゼネラルエレクトリック社製の商品名「Ultem1000」(ガラス転移温度Tg:216℃)]、下記構造式(3) [Product name “Ultem1000” (glass transition temperature Tg: 216 ° C.) manufactured by General Electric Co., Ltd.] having the repeating unit represented by the following structural formula (3)

Figure 2005220335
Figure 2005220335

で表される繰り返し単位を有するポリエーテルイミド[ゼネラルエレクトリック社製の商品名「UltemCRS5001」(ガラス転移温度Tg:226℃)]が挙げられ、そのほかの具体例として、三井化学株式会社製の商品名「ニューオーラム」(ガラス転移温度Tg:258℃)などが挙げられる。これらのうちで、好ましくは非晶性のものであり、さらに好ましくは、上記構造式(2)又は(3)で表される繰り返し単位を有するポリエーテルイミドである。
ポリエーテルイミド樹脂の製造方法は特に限定されるものではないが、 通常、上記構造式(2)で表される繰り返し単位を有する非晶性ポリエーテルイミド樹脂は、4, 4´−[ イソプロピリデンビス(p−フェニレンオキシ)ジフタル酸二無水物とm−フェニレンジアミンとの重縮合物として、また上記構造式(3)で表される繰り返し単位を有する非晶性ポリエーテルイミド樹脂は、4, 4´−[ イソプロピリデンビス(p−フェニレンオキシ)ジフタル酸二無水物とp−フェニレンジアミンとの重縮合物として公知の方法によって合成される。
また、 本発明で用いるポリエーテルイミド樹脂は、本発明の主旨を超えない範囲でアミド基、エステル基、スルホニル基など共重合可能な他の単量体単位を含むものであってもかまわない。 なお、 ポリエーテルイミド樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
And a polyetherimide having a repeating unit represented by the formula [trade name “Ultem CRS 5001” (glass transition temperature Tg: 226 ° C.) manufactured by General Electric Co., Ltd.], and other specific examples are trade names of Mitsui Chemicals, Inc. “New Aurum” (glass transition temperature Tg: 258 ° C.) and the like. Of these, amorphous is preferable, and polyetherimide having a repeating unit represented by the structural formula (2) or (3) is more preferable.
The method for producing the polyetherimide resin is not particularly limited. Usually, the amorphous polyetherimide resin having the repeating unit represented by the structural formula (2) is 4,4 ′-[isopropylidene. As a polycondensate of bis (p-phenyleneoxy) diphthalic dianhydride and m-phenylenediamine, and an amorphous polyetherimide resin having a repeating unit represented by the structural formula (3), It is synthesized by a known method as a polycondensation product of 4 '-[isopropylidenebis (p-phenyleneoxy) diphthalic dianhydride and p-phenylenediamine.
Further, the polyetherimide resin used in the present invention may contain other copolymerizable monomer units such as an amide group, an ester group, and a sulfonyl group within the range not exceeding the gist of the present invention. In addition, polyetherimide resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(B)成分のポリアリールケトン樹脂は、その構造単位に芳香核結合、エーテル結合及びケトン結合を含む熱可塑性樹脂であり、その代表例としては、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン等があり、また、本発明の主旨を超えない範囲でビフェニル構造、スルホニル基や共重合可能な他の単量体単位を含むものであってもかまわない。 本発明においては、下記構造式(4)   The (A) component polyarylketone resin is a thermoplastic resin having an aromatic nucleus bond, an ether bond and a ketone bond in its structural unit, and representative examples thereof include polyetherketone, polyetheretherketone, polyetherketone. There may be a ketone or the like, and it may contain a biphenyl structure, a sulfonyl group or another copolymerizable monomer unit within the scope of the present invention. In the present invention, the following structural formula (4)

Figure 2005220335
Figure 2005220335

で表される繰り返し単位を有するポリエーテルエーテルケトンが好適に使用される。この繰り返し単位を有するポリエーテルエーテルケトンは、VICTREX社製の商品名「PEEK151G」、「PEEK381G」、「PEEK450G」などとして市販されている。なお、 ポリアリールケトン樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明の樹脂組成物を使用したフィルムをプリント配線基板などのエレクトロニクス用基板の基材として適用する場合には、 (B)成分のポリアリールケトン樹脂として結晶性を有するものが好ましく、さらに、結晶融解ピーク温度が260℃以上であるものが好ましい。 A polyether ether ketone having a repeating unit represented by the formula is preferably used. Polyether ether ketones having this repeating unit are commercially available as trade names “PEEK151G”, “PEEK381G”, “PEEK450G”, etc., manufactured by VICTREX. In addition, polyaryl ketone resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. When the film using the resin composition of the present invention is applied as a base material for an electronic substrate such as a printed wiring board, the polyaryl ketone resin as the component (B) is preferably one having crystallinity, Those having a melting peak temperature of 260 ° C. or higher are preferred.

本発明の樹脂組成物において、(A)成分の熱可塑性ポリイミド樹脂と(B)成分のポリアリールケトン樹脂(B)の混合質量比は、通常(A)/(B)=95〜5/5〜95程度である。本発明の樹脂組成物を使用したフィルムをプリント配線基板などのエレクトロニクス用基板の基材として適用する場合には、 (A)成分と(B)成分との混合質量比は、(A)/(B)=70〜30/30〜70であることが好ましい。
(A)成分が95質量比以下で、(B)成分が5質量比以上であると、(B)成分のポリアリールケトン樹脂が持つ、優れた耐熱性をや低い吸水特性を充分に発揮させることができる。また、(A)成分が5質量比以上で、(B)成分が95質量比以下であると、本発明の樹脂組成物からなるフィルムなどの成形体において、成形体と金属との接着性や、フィルム同士の熱融着などの加工性が良好である。
また、(B)成分として結晶性のポリアリールケトン樹脂を使用する場合、(A)成分が95質量比以下で、(B)成分が5質量比以上であると、樹脂組成物全体としての結晶性自体が高く、また結晶化速度も速く、はんだ耐熱性も良好である。また、同様の場合、(A)成分が5質量比以上で、(B)成分が95質量比以下であると、結晶性のポリアリールケトン樹脂の結晶化に伴う体積収縮(寸法変化)が大きくなることがないので、回路基板としての信頼性が得られる。これらのことから、(B)成分として結晶性のポリアリールケトン樹脂を含有する樹脂組成物をエレクトロニクス用基板の基材として用いる場合には、 (A)成分と(B)成分との混合質量比は、(A)/(B)=65〜35/35〜65とすることがことが好ましい。
In the resin composition of the present invention, the mixing mass ratio of the thermoplastic polyimide resin (A) and the polyaryl ketone resin (B) (B) is usually (A) / (B) = 95 to 5/5. About 95. When the film using the resin composition of the present invention is applied as a substrate of an electronic substrate such as a printed wiring board, the mixing mass ratio of the component (A) to the component (B) is (A) / ( B) = 70-30 / 30-70 is preferred.
When the component (A) is 95 mass ratio or less and the component (B) is 5 mass ratio or more, the polyaryl ketone resin of the component (B) sufficiently exhibits the excellent heat resistance and low water absorption characteristics. be able to. Further, when the component (A) is 5 mass ratio or more and the component (B) is 95 mass ratio or less, in a molded article such as a film made of the resin composition of the present invention, Workability such as heat-sealing between films is good.
Further, when a crystalline polyaryl ketone resin is used as the component (B), when the component (A) is 95 mass ratios or less and the component (B) is 5 mass ratios or more, crystals as the entire resin composition It has high properties, high crystallization speed, and good solder heat resistance. In the same case, when the component (A) is 5 mass ratio or more and the component (B) is 95 mass ratio or less, volume shrinkage (dimensional change) accompanying crystallization of the crystalline polyaryl ketone resin is large. Therefore, reliability as a circuit board can be obtained. Therefore, when a resin composition containing a crystalline polyaryl ketone resin as the component (B) is used as the base material of the substrate for electronics, the mixing mass ratio of the component (A) and the component (B) Is preferably (A) / (B) = 65 to 35/35 to 65.

本発明の樹脂組成物における(C)成分の表面処理された充填材(以下、充填剤(C)と略記する。)を構成する充填材としては、公知のものを使用することができ、例えば、クレー、ガラス、アルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、窒化珪素などの無機充填材、 ガラス繊維やアラミド繊維、炭素繊維などの繊維、無機鱗片状(板状)粉体、例えば、合成マイカ、天然マイカ、ベーマイト、タルク、セリサイト、イライト、カオリナイト、モンモリロナイト、バーミキュライト、スメクタイト、板状アルミナ、鱗片状チタン酸塩(例えば、鱗片状チタン酸マグネシウムカリウム、鱗片状チタン酸リチウムカリウム等)などが挙げられる。これらのなかで、合成マイカ、天然マイカ、タルク、セリサイト、イライト、カオリナイト、モンモリロナイト、バーミキュライト、スメクタイトなどの無機鱗片状(板状)粉体が好ましく、合成マイカ、天然マイカがより好ましい。これらの充填材は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
充填材(C)の形状としては、 板状が好ましく、平均粒径は0.01〜200μm程度、 好ましくは0.1〜20μm、より好ましくは1〜10μm、平均アスペクト比(粒径/厚み)は20〜30程度以上、 好ましくは50以上のものが好適に用いられる。ここで、表面処理される前の充填材と処理された後の充填材(C)の形状は、同じものとして取り扱う。
As the filler constituting the surface-treated filler (hereinafter abbreviated as filler (C)) of the component (C) in the resin composition of the present invention, known materials can be used, for example, Inorganic fillers such as clay, glass, alumina, silica, aluminum nitride, silicon nitride, fibers such as glass fibers, aramid fibers, carbon fibers, inorganic scale-like (plate-like) powders such as synthetic mica, natural mica, Examples include boehmite, talc, sericite, illite, kaolinite, montmorillonite, vermiculite, smectite, plate-like alumina, and flaky titanate (for example, flaky magnesium potassium titanate and flaky lithium potassium titanate). Among these, inorganic scale-like (plate-like) powders such as synthetic mica, natural mica, talc, sericite, illite, kaolinite, montmorillonite, vermiculite, and smectite are preferable, and synthetic mica and natural mica are more preferable. These fillers can be used alone or in combination of two or more.
The shape of the filler (C) is preferably a plate shape, and the average particle diameter is about 0.01 to 200 μm, preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and the average aspect ratio (particle diameter / thickness). Is preferably about 20 to 30 or more, preferably 50 or more. Here, the shape of the filler before the surface treatment and the shape of the filler (C) after the treatment are treated as the same.

本発明において、充填材(C)を構成する表面処理剤は、下記一般式(1)
n SiX4-n (1)
(式中、Rは、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の炭化水素基であり、Xは、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、アセトキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる1種以上の加水分解性基である。nは1又は2である。)
で表される有機珪素化合物である。上記一般式(1)においてnが2のとき、2個のRは互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数のXも互いに同一でも異なっていてもよい。
この有機珪素化合物としては、Rが炭素数1〜20の直鎖又は分岐状のアルキル基、Xが炭素数1〜6のアルコキシ基及び/又はヒドロキシル基であるものが好ましく、より好ましくは、Rが炭素数3〜10の直鎖アルキル基、Xが炭素数が1〜3のアルコキシ基、nが1のものである。
In the present invention, the surface treatment agent constituting the filler (C) is represented by the following general formula (1):
R n SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and X is selected from an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, an acetoxy group and a hydroxyl group. One or more hydrolyzable groups, n is 1 or 2)
It is an organosilicon compound represented by In the general formula (1), when n is 2, two Rs may be the same or different from each other. A plurality of Xs may be the same as or different from each other.
As this organosilicon compound, those in which R is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and X is an alkoxy group and / or hydroxyl group having 1 to 6 carbon atoms are preferred, and more preferably, R Is a linear alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, X is an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and n is 1.

上記有機珪素化合物の具体例として、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ(2−プロポキシ)シラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリ(sec−ブトキシ)シラン、メチルトリ(t−ブトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、ブチルトリ(2−プロポキシ)シラン、エチルトリブトキシシラン、エチルトリ(sec−ブトキシ)シラン、エチルトリ(t−ブトキシ)シラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリ(2−プロポキシ)シラン、プロピルトリブトキシシラン、プロピルトリ(sec−ブトキシ)シラン、プロピルトリ(t−ブトキシ)シラン、2−プロピルトリメトキシシラン、2−プロピルトリエトキシシラン、2−プロピルトリプロポキシシラン、2−プロピルトリ(2−プロポキシ)シラン、2−プロピルトリブトキシシラン、2−プロピルトリ(sec−ブトキシ)シラン、2−プロピルトリ(t−ブトキシ)シラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリ(2−プロポキシ)シラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリ(sec−ブトキシ)シラン、ブチルトリ(t−ブトキシ)シラン、sec−ブチルトリメトキシシラン、sec−ブチルトリエトキシシラン、sec−ブチルトリプロポキシシラン、sec−ブチルトリ(2−プロポキシ)シラン、sec−ブチルトリブトキシシラン、sec−ブチルトリ(t−ブトキシ)シシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ペンチルトリプロポキシシラン、ペンチルトリ(2−プロポキシ)シラン、ペンチルトリブトキシシラン、ペンチルトリ(sec−ブトキシ)シラン、ペンチルトリ(t−ブトキシ)シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、   Specific examples of the organosilicon compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri (2-propoxy) silane, methyltributoxysilane, methyltri (sec-butoxy) silane, methyltri (t-butoxy). ) Silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, butyltri (2-propoxy) silane, ethyltributoxysilane, ethyltri (sec-butoxy) silane, ethyltri (t-butoxy) silane, propyltrimethoxy Silane, propyltriethoxysilane, propyltripropoxysilane, propyltri (2-propoxy) silane, propyltributoxysilane, propyltri (sec-butoxy) silane, propyltri t-butoxy) silane, 2-propyltrimethoxysilane, 2-propyltriethoxysilane, 2-propyltripropoxysilane, 2-propyltri (2-propoxy) silane, 2-propyltributoxysilane, 2-propyltri ( sec-butoxy) silane, 2-propyltri (t-butoxy) silane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, butyltripropoxysilane, butyltri (2-propoxy) silane, butyltributoxysilane, butyltri (sec-butoxy) ) Silane, butyltri (t-butoxy) silane, sec-butyltrimethoxysilane, sec-butyltriethoxysilane, sec-butyltripropoxysilane, sec-butyltri (2-propoxy) silane, sec-butyltributoxy Silane, sec-butyltri (t-butoxy) sisilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, pentyltripropoxysilane, pentyltri (2-propoxy) silane, pentylriboxysilane, pentyltri (sec-butoxy) silane, pentyltri ( t-butoxy) silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, hexyltripropoxysilane,

ヘキシルトリ(2−プロポキシ)シラン、ヘキシルトリブトキシシラン、ヘキシルトリ(sec−ブトキシ)シラン、ヘキシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリプロポキシシラン、ヘプチルトリ(2−プロポキシ)シラン、ヘプチルトリブトキシシラン、ヘプチルトリ(t−ブトキシ)シラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、オクチルトリプロポキシシラン、オクチルトリ(2−プロポキシ)シラン、オクチルトリブトキシシラン、オクチルトリ(t−ブトキシ)シラン、2−エチルヘキシルトリメトキシシラン、2−エチルヘキシルトリエトキシシラン、2−エチルヘキシルトリプロポキシシラン、2−エチルヘキシルトリ(2−プロポキシ)シラン、2−エチルヘキシルトリブトキシシラン、2−エチルヘキシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、ノニルトリプロポキシシラン、ノニルトリ(2−プロポキシ)シラン、ノニルトリブトキシシラン、ノニルトリ(t−ブトキシ)シラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、デシルトリプロポキシシラン、デシルトリ(2−プロポキシ)シラン、デシルトリブトキシシラン、デシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、 Hexyltri (2-propoxy) silane, hexyltributoxysilane, hexyltri (sec-butoxy) silane, hexyltri (t-butoxy) silane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, heptyltripropoxysilane, heptyltri (2-propoxy) Silane, heptyl riboxysilane, heptyltri (t-butoxy) silane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, octyltripropoxysilane, octyltri (2-propoxy) silane, octyltributoxysilane, octyltri (t-butoxy) silane 2-ethylhexyltrimethoxysilane, 2-ethylhexyltriethoxysilane, 2-ethylhexyltripropoxysilane, 2-ethylhexyltri (2-pro Xy) silane, 2-ethylhexyl tributoxysilane, 2-ethylhexyltri (t-butoxy) silane, nonyltrimethoxysilane, nonyltriethoxysilane, nonyltripropoxysilane, nonyltri (2-propoxy) silane, nonyltributoxysilane, Nonyltri (t-butoxy) silane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, decyltripropoxysilane, decyltri (2-propoxy) silane, decyltributoxysilane, decyltri (t-butoxy) silane, undecyltrimethoxysilane, Undecyltriethoxysilane,

ウンデシルトリプロポキシシラン、ウンデシルトリ(2−プロポキシ)シラン、ウンデシルトリブトキシシラン、ウンデシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリプロポキシシラン、ドデシルトリ(2−プロポキシ)シラン、ドデシルトリブトキシシラン、ドデシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ヘキサデシルトリ(2−プロポキシ)シラン、ヘキサデシルトリブトキシシラン、ヘキサデシルトリ(t−ブトキシ)シラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリプロポキシシラン、オクタデシルトリ(2−プロポキシ)シラン、オクタデシルトリブトキシシラン、オクタデシルトリ(t−ブトキシ)シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジ(2−プロポキシ)シラン、ジメチルジブトキシシラン、ジメチルジ(t−ブトキシ)シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジ(2−プロポキシ)シラン、ジエチルジブトキシシラン、ジエチルジ(t−ブトキシ)シラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン、メチルエチルジ(2−プロポキシ)シラン、メチルエチルジブトキシシラン、メチルエチルジ(t−ブトキシ)シラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジペンチルジメトキシシラン、 Undecyltripropoxysilane, undecyltri (2-propoxy) silane, undecyltributoxysilane, undecyltri (t-butoxy) silane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, dodecyltripropoxysilane, dodecyltri (2-propoxy) silane , Dodecyltributoxysilane, dodecyltri (t-butoxy) silane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, hexadecyltripropoxysilane, hexadecyltri (2-propoxy) silane, hexadecyltributoxysilane, hexadecyl Tri (t-butoxy) silane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, octadecyltripropoxysilane, octadecyltri (2-propo Si) silane, octadecyltributoxysilane, octadecyltri (t-butoxy) silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldi (2-propoxy) silane, dimethyldibutoxysilane, dimethyldi (t-butoxy) ) Silane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldi (2-propoxy) silane, diethyldibutoxysilane, diethyldi (t-butoxy) silane, methylethyldimethoxysilane, methylethyldiethoxysilane, methyl Ethyldipropoxysilane, methylethyldi (2-propoxy) silane, methylethyldibutoxysilane, methylethyldi (t-butoxy) silane, dipropyldimethoxysilane, Propyl diethoxy silane, dibutyl dimethoxy silane, dibutyl silane, dipentyl dimethoxysilane,

ジペンチルジエトキシシラン、メチルヘキシルジメトキシシラン、メチルヘキシルジエトキシシラン、ブチルヘキシルトリメトキシシラン、ブチルヘキシルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−メトキシエチルトリメトキシシラン、2−メトキシエチルトリエトキシシラン、2−エトキシエチルトリメトキシシラン、2−エトキシエチルトリエトキシシラン、2−プロポキシエチルトリメトキシシラン、2−プロポキシエチルトリエトキシシラン、2−(2−プロポキシ)エチルトリメトキシシラン、2−(2−プロポキシ)エチルトリエトキシシラン、2−ブトキシエチルトリメトキシシラン、2−ブトキシエチルトリエトキシシラン、2−ヘキシルオキシエチルトリメトキシシラン、2−ヘキシルオキシエチルトリエトキシシラン、2−オクチルオキシエチルトリメトキシシラン、2−オクチルオキシエチルトリエトキシシラン、2−メトキシプロピルトリメトキシシラン、2−メトキシプロピルトリエトキシシラン、3−メトキシプロピルトリメトキシシラン、3−メトキシプロピルトリエトキシシラン、2−エトキシプロピルトリメトキシシラン、2−エトキシプロピルトリエトキシシラン、3−エトキシプロピルトリメトキシシラン、3−エトキシプロピルトリエトキシシラン、2−プロポキシプロピルトリメトキシシラン、2−プロポキシプロピルトリエトキシシラン、3−プロポキシプロピルトリメトキシシラン、3−プロポキシプロピルトリエトキシシラン、2−ブトキシプロピルトリメトキシシラン、2−ブトキシプロピルトリエトキシシラン、3−ブトキシプロピルトリメトキシシラン、3−ブトキシプロピルトリエトキシシラン、 Dipentyldiethoxysilane, methylhexyldimethoxysilane, methylhexyldiethoxysilane, butylhexyltrimethoxysilane, butylhexyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2-methoxyethyltrimethoxysilane, 2-methoxyethyltriethoxysilane, 2-ethoxyethyltrimethoxysilane, 2-ethoxyethyltriethoxysilane 2-propoxyethyltrimethoxysilane, 2-propoxyethyltriethoxysilane, 2- (2-propoxy) ethyltrimethoxysilane, 2- (2-propoxy) ethyltriethoxysilane 2-butoxyethyltrimethoxysilane, 2-butoxyethyltriethoxysilane, 2-hexyloxyethyltrimethoxysilane, 2-hexyloxyethyltriethoxysilane, 2-octyloxyethyltrimethoxysilane, 2-octyloxyethyl Triethoxysilane, 2-methoxypropyltrimethoxysilane, 2-methoxypropyltriethoxysilane, 3-methoxypropyltrimethoxysilane, 3-methoxypropyltriethoxysilane, 2-ethoxypropyltrimethoxysilane, 2-ethoxypropyltriethoxy Silane, 3-ethoxypropyltrimethoxysilane, 3-ethoxypropyltriethoxysilane, 2-propoxypropyltrimethoxysilane, 2-propoxypropyltriethoxysilane, 3- Ropo trimethoxysilane, 3-propoxy-propyl triethoxysilane, 2-butoxy silane, 2-butoxy-propyl triethoxysilane, 3-butoxy propyl trimethoxy silane, 3-butoxy-propyl triethoxysilane,

2−ヘキシルオキシプロピルトリメトキシシラン、2−ヘキシルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−ヘキシルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−ヘキシルオキシプロピルトリエトキシシラン、2−メトキシブチルトリメトキシシラン、2−メトキシブチルトリエトキシシラン、4−メトキシブチルトリメトキシシラン、3−メトキシブチルトリエトキシシラン、2−エトキシブチルトリメトキシシラン、2−エトキシブチルトリエトキシシラン、3−エトキシブチルトリメトキシシラン、4−エトキシブチルトリエトキシシラン、2−プロポキシブチルトリメトキシシラン、2−プロポキシブチルトリエトキシシラン、4−プロポキシブチルトリメトキシシラン、3−プロポキシブチルトリエトキシシラン、2−ブトキシブチルトリメトキシシラン、2−ブトキシブチルトリエトキシシラン、3−ブトキシブチルトリメトキシシラン、4−ブトキシブチルトリエトキシシラン、2−ヘキシルオキシブチルトリメトキシシラン、2−ヘキシルオキシブチルトリエトキシシラン、3−ヘキシルオキシブチルトリメトキシシラン、3−ヘキシルオキシブチルトリエトキシシラン、4−ヘキシルオキシブチルトリメトキシシラン、4−ヘキシルオキシブチルトリエトキシシラン、2−メトキシヘキシルトリメトキシシラン、2−メトキシヘキシルトリエトキシシラン、6−メトキシヘキシルトリメトキシシラン、6−メトキシヘキシルトリエトキシシラン、2−エトキシヘキシルトリメトキシシラン、5−エトキシヘキシルトリエトキシシラン、6−エトキシヘキシルトリメトキシシラン、6−エトキシヘキシルトリエトキシシラン、2−プロポキシヘキシルトリメトキシシラン、5−プロポキシヘキシルトリエトキシシラン、6−プロポキシヘキシルトリメトキシシラン、6−プロポキシヘキシルトリエトキシシラン、2−ブトキシヘキシルトリメトキシシラン、 2-hexyloxypropyltrimethoxysilane, 2-hexyloxypropyltriethoxysilane, 3-hexyloxypropyltrimethoxysilane, 3-hexyloxypropyltriethoxysilane, 2-methoxybutyltrimethoxysilane, 2-methoxybutyltriethoxysilane Silane, 4-methoxybutyltrimethoxysilane, 3-methoxybutyltriethoxysilane, 2-ethoxybutyltrimethoxysilane, 2-ethoxybutyltriethoxysilane, 3-ethoxybutyltrimethoxysilane, 4-ethoxybutyltriethoxysilane, 2-propoxybutyltrimethoxysilane, 2-propoxybutyltriethoxysilane, 4-propoxybutyltrimethoxysilane, 3-propoxybutyltriethoxysilane, 2-butoxybutyl Limethoxysilane, 2-butoxybutyltriethoxysilane, 3-butoxybutyltrimethoxysilane, 4-butoxybutyltriethoxysilane, 2-hexyloxybutyltrimethoxysilane, 2-hexyloxybutyltriethoxysilane, 3-hexyloxy Butyltrimethoxysilane, 3-hexyloxybutyltriethoxysilane, 4-hexyloxybutyltrimethoxysilane, 4-hexyloxybutyltriethoxysilane, 2-methoxyhexyltrimethoxysilane, 2-methoxyhexyltriethoxysilane, 6- Methoxyhexyltrimethoxysilane, 6-methoxyhexyltriethoxysilane, 2-ethoxyhexyltrimethoxysilane, 5-ethoxyhexyltriethoxysilane, 6-ethoxyhexyltrimeth Shishiran, 6-ethoxy-hexyl triethoxysilane, 2-propoxy-hexyl trimethoxy silane, 5-propoxy-hexyl triethoxysilane, 6-propoxy-hexyl trimethoxy silane, 6-propoxy-hexyl triethoxysilane, 2-butoxy-hexyl trimethoxy silane,

5−ブトキシヘキシルトリエトキシシラン、6−ブトキシヘキシルトリメトキシシラン、6−ブトキシヘキシルトリエトキシシラン、2−ヘキシルオキシヘキシルトリメトキシシラン、5−ヘキシルオキシヘキシルトリエトキシシラン、6−ヘキシルオキシヘキシルトリメトキシシラン、6−ヘキシルオキシヘキシルトリエトキシシラン、2−メトキシオクチルトリメトキシシラン、7−メトキシオクチルトリエトキシシラン、8−メトキシオクチルトリメトキシシラン、8−メトキシオクチルトリエトキシシラン、2−エトキシオクチルトリメトキシシラン、7−エトキシオクチルトリエトキシシラン、8−エトキシオクチルトリメトキシシラン、8−エトキシオクチルトリエトキシシラン、2−プロポキシオクチルトリメトキシシラン、2−プロポキシオクチルトリエトキシシラン、8−プロポキシオクチルトリメトキシシラン、8−プロポキシオクチルトリエトキシシラン、2−ブトキシオクチルトリメトキシシラン、7−ブトキシオクチルトリエトキシシラン、8−ブトキシオクチルトリメトキシシラン、8−ブトキシオクチルトリエトキシシラン、2−オクチルオキシオクチルトリメトキシシラン、7−オクチルオキシオクチルトリエトキシシラン、8−オクチルオキシオクチルトリメトキシシラン、8−オクチルオキシオクチルトリエトキシシラン、メチル−2−メトキシエチルジエトキシシラン、エチル−3−メトキシプロピルジメトキシシラン、メチル−4−プロポキシブチルジメトキシシラン、メチル−6−エトキシヘキシルトリエトキシシラン及びメチル−8−ブトキシオクチルジメトキシシランなどが挙げられる。
これらのうちで、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン及びデシルトリエトキシシランが好ましい。
5-butoxyhexyltriethoxysilane, 6-butoxyhexyltrimethoxysilane, 6-butoxyhexyltriethoxysilane, 2-hexyloxyhexyltrimethoxysilane, 5-hexyloxyhexyltriethoxysilane, 6-hexyloxyhexyltrimethoxysilane 6-hexyloxyhexyltriethoxysilane, 2-methoxyoctyltrimethoxysilane, 7-methoxyoctyltriethoxysilane, 8-methoxyoctyltrimethoxysilane, 8-methoxyoctyltriethoxysilane, 2-ethoxyoctyltrimethoxysilane, 7-ethoxyoctyltriethoxysilane, 8-ethoxyoctyltrimethoxysilane, 8-ethoxyoctyltriethoxysilane, 2-propoxyoctyltrimethoxysilane, -Propoxyoctyltriethoxysilane, 8-propoxyoctyltrimethoxysilane, 8-propoxyoctyltriethoxysilane, 2-butoxyoctyltrimethoxysilane, 7-butoxyoctyltriethoxysilane, 8-butoxyoctyltrimethoxysilane, 8-butoxy Octyltriethoxysilane, 2-octyloxyoctyltrimethoxysilane, 7-octyloxyoctyltriethoxysilane, 8-octyloxyoctyltrimethoxysilane, 8-octyloxyoctyltriethoxysilane, methyl-2-methoxyethyldiethoxysilane Ethyl-3-methoxypropyldimethoxysilane, methyl-4-propoxybutyldimethoxysilane, methyl-6-ethoxyhexyltriethoxysilane and methyl-8 Such as butoxy octyl dimethoxy silane.
Among these, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane and Decyltriethoxysilane is preferred.

なお、上記有機珪素化合物で充填材の表面処理を行なった場合に、充填材(C)の表面と熱可塑性樹脂[(A)成分及び(B)成分]との親和性が向上する理由は、上記有機珪素化合物の加水分解性基が加水分解によりヒドロキシル基を生成し、加熱により充填材表面のヒドロキシル基と脱水縮合反応を生起してアルキル基を有するシリル基が充填材表面に結合することによると推定される。
本発明で使用する充填材の表面処理剤(上記有機珪素化合物)は、充填材と樹脂の双方に反応して両者を結びつける、いわゆる「カップリング剤」としての作用は必要なく、充填材表面に付着、反応してその表面状態を樹脂に対して親和性を高めるように作用し、かつ、樹脂組成物ないし成形体として、高温下(例えば、200℃程度)で長時間熱処理にさらされても、その色相を顕著に変化させない効果が高い。また、いわゆるチタネートカップリング剤は、高温下、長時間の熱処理で、本発明に係る熱可塑性樹脂と充填材の組合せに対して、充分な効果を発揮しない。
表面処理剤の使用量は、充填材100質量部に対して、通常0.1〜8質量部程度、好ましくは0.5〜5質量部、より好ましくは1〜3質量部の範囲である。この使用量を0.1質量部以上とすることにより、充分な表面処理の効果が得られるため、樹脂組成物の機械的強度が充分となる。また、表面処理剤の使用量が5質量部を超えても表面処理の効果が向上するものでもないので、5質量部までで充分である。
The reason why the affinity between the surface of the filler (C) and the thermoplastic resin (component (A) and component (B)) is improved when the surface treatment of the filler is performed with the organosilicon compound is as follows. The hydrolyzable group of the organosilicon compound generates a hydroxyl group by hydrolysis and causes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group on the surface of the filler by heating to bond the silyl group having an alkyl group to the surface of the filler. It is estimated to be.
The filler surface treatment agent (the organosilicon compound) used in the present invention does not need to act as a so-called “coupling agent” that reacts with and combines both the filler and the resin. Even if it adheres and reacts to increase the affinity of the surface state to the resin and is exposed to a heat treatment for a long time at a high temperature (for example, about 200 ° C.) as a resin composition or molded article The effect of not significantly changing the hue is high. In addition, so-called titanate coupling agents do not exhibit a sufficient effect on the combination of the thermoplastic resin and the filler according to the present invention by a long-time heat treatment at a high temperature.
The usage-amount of a surface treating agent is about 0.1-8 mass parts normally with respect to 100 mass parts of fillers, Preferably it is 0.5-5 mass parts, More preferably, it is the range of 1-3 mass parts. When the amount used is 0.1 parts by mass or more, a sufficient surface treatment effect can be obtained, so that the mechanical strength of the resin composition becomes sufficient. Moreover, even if the usage-amount of a surface treating agent exceeds 5 mass parts, since the effect of surface treatment is not improved, up to 5 mass parts is enough.

表面処理の方法としては、既知の種々の方法が適用できる。例えば、表面処理剤を溶解させた溶媒中で、充填材と表面処理剤を接触させた後に溶媒を除去する湿式法、表面処理剤を溶解した溶液と充填材とを噴霧、撹拌等の方法により接触させて、充填材表面に表面処理剤をまぶした後、溶媒を除去する半湿式法、樹脂、充填材及び表面処理剤又は少量の溶媒に溶解させた表面処理剤を混合撹拌するインテグラルブレンド法などが挙げられる。これらの表面処理方法のうち、充填材表面に効率よく表面処理剤を付着させるという観点から、湿式法、半湿式法が好ましい。
溶媒中の表面処理剤(上記有機珪素化合物)の濃度は、0.1〜50質量%程度とすることができる。溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール、ヘキサン等の除去しやすいものが好ましい。この溶媒は、少量の水や、加水分解を促進する少量の酸成分を含むものであってもよい。
上記表面処理方法により、充填材と、溶媒で希釈した表面処理剤を接触混合した後、数時間から数日間空気中に放置し、空気中の水分と接触させて加水分解を起こさせるとともに、使用した溶媒を蒸発除去することが推奨される。
この蒸発除去の処理は、アルコキシシリル基の加水分解反応や生成したヒドロキシルシリル基を充填材表面のヒドロキシル基と脱水縮合反応させ、かつ、発生したアルコールや使用した溶媒除去のため、常圧下ないし減圧下に、通常、温度80〜150℃程度、好ましくは100〜130℃に行なう。処理時間は通常4〜200時間程度であり、好ましくは24〜100時間である。
Various known methods can be applied as the surface treatment method. For example, in a solvent in which a surface treatment agent is dissolved, a wet method in which the solvent is removed after contacting the filler and the surface treatment agent, a solution in which the surface treatment agent is dissolved and the filler are sprayed, stirred, or the like. Integral blend that mixes and stirs the surface treatment agent dissolved in a semi-wet method, resin, filler and surface treatment agent, or a small amount of solvent after removing the solvent after contacting the surface treatment agent with the contact. Law. Of these surface treatment methods, the wet method and the semi-wet method are preferable from the viewpoint of efficiently attaching the surface treatment agent to the filler surface.
The density | concentration of the surface treating agent (the said organosilicon compound) in a solvent can be about 0.1-50 mass%. As the solvent, for example, isopropyl alcohol, ethanol, methanol, hexane and the like that are easy to remove are preferable. This solvent may contain a small amount of water or a small amount of an acid component that promotes hydrolysis.
After mixing the filler and the surface treatment agent diluted with the solvent by the above surface treatment method, leave it in the air for several hours to several days, bring it into contact with moisture in the air and cause hydrolysis. It is recommended to evaporate the solvent removed.
This evaporation removal treatment is performed under normal pressure or reduced pressure by hydrolyzing alkoxysilyl groups or by dehydrating condensation of generated hydroxylsilyl groups with hydroxyl groups on the surface of the filler, and removing generated alcohol and used solvents. The temperature is usually about 80 to 150 ° C., preferably 100 to 130 ° C. The treatment time is usually about 4 to 200 hours, preferably 24 to 100 hours.

本発明の樹脂組成物に使用する充填材(C)の量は、上述した(A)成分の熱可塑ポリイミド樹脂と(B)成分のポリアリールケトン樹脂との合計量100質量部に対して5〜50質量部の範囲である。混合する充填材の量が50質量部以下であると、フィルムの可とう性、端裂抵抗値(JIS C2151の端裂抵抗試験準拠)が良好である。一方、 5質量部以上であると、線膨張係数の低減効果が充分なものとなるため、寸法安定性を向上させる効果が高くなる。このことから好適な充填材の混合量は、(A)成分と(B)成分の合計量100質量部に対して10〜40質量部であり、 さらにフィルムの寸法安定性と可とう性あるいは端裂抵抗値とのバランスを重視する場合には、 20〜35質量部の範囲で制御することが好ましい。   The amount of the filler (C) used in the resin composition of the present invention is 5 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the thermoplastic polyimide resin as the component (A) and the polyaryl ketone resin as the component (B). It is the range of -50 mass parts. When the amount of the filler to be mixed is 50 parts by mass or less, the flexibility of the film and the end tear resistance value (according to the end tear resistance test of JIS C2151) are good. On the other hand, if it is 5 parts by mass or more, the effect of reducing the linear expansion coefficient is sufficient, and the effect of improving the dimensional stability is enhanced. Therefore, the preferred mixing amount of the filler is 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B), and further the dimensional stability and flexibility or end of the film. When importance is attached to the balance with the fissure resistance value, it is preferably controlled in the range of 20 to 35 parts by mass.

本発明の樹脂組成物には、その性質を損なわない程度に、(A)成分及び(B)成分以外の樹脂や充填材(C)以外の各種添加剤、例えば、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、核剤、着色剤、滑剤、難燃剤等を適宜配合してもよい。また充填材(C)を含めた各種添加剤の混合方法は、公知の方法を用いることができる。混合の組合せの例として、
(I)(A)成分、(B)成分と(C)成分の3成分を同時に混合・分散させる方法、
(II)(A)成分と(B)成分をあらかじめ混合し、この混合物に(C)成分を混合・分散させる方法、
(III)(A)成分又は(B)成分に、充填材(C)成分をあらかじめ混合分散させて、(A)成分と(C)成分の混合物又は(B)成分と(C)成分の混合物を調製し、次いで(A)成分と(C)成分の混合物に(B)成分を混合するか、あるいは(B)成分と(C)成分の混合物に(A)成分を混合する方法
(IV)(A)成分及び(B)成分それぞれに(C)成分を混合分散させた混合物を調製し、これらの混合物を混合する方法[この場合、(A)成分に対する(C)成分の比率と(B)成分に対する(C)成分の比率は同じでも異なっていてもよい。]、
(V)複数種の(A)成分及び/又は複数種の(B)成分を使用する場合、これらのうちの少なくとも1種に、高濃度に(C)成分を混合分散させた混合物と、配合すべき他の(A)成分及び/又は(B)成分を混合するか、あるいは上記混合物と、配合すべき他の(A)成分及び/又は(B)成分に低濃度に(C)成分を混合分散させた混合物を混合分散させる方法、
などが挙げられる。
In the resin composition of the present invention, various additives other than the resin (A) and the component (B) and the filler (C), for example, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, etc. , Light stabilizers, nucleating agents, colorants, lubricants, flame retardants, and the like may be appropriately blended. Moreover, a well-known method can be used for the mixing method of various additives including a filler (C). As an example of a mixing combination,
(I) A method of mixing and dispersing the three components (A), (B) and (C) at the same time,
(II) A method in which the component (A) and the component (B) are mixed in advance, and the component (C) is mixed and dispersed in the mixture,
(III) The filler (C) component is mixed and dispersed in advance in the component (A) or the component (B), and the mixture of the component (A) and the component (C) or the mixture of the component (B) and the component (C). And then mixing the component (B) with the mixture of the components (A) and (C) or mixing the component (A) with the mixture of the components (B) and (C) (IV) A method in which (C) component is mixed and dispersed in each of (A) component and (B) component, and these mixtures are mixed [in this case, the ratio of (C) component to (A) component and (B The ratio of the component (C) to the component) may be the same or different. ],
(V) When using a plurality of types of (A) component and / or a plurality of types of (B) component, at least one of them is blended with a mixture in which component (C) is mixed and dispersed at a high concentration The other component (A) and / or the component (B) to be mixed are mixed, or the component (C) is mixed at a low concentration with the above mixture and the other component (A) and / or the component (B) to be blended. A method of mixing and dispersing the mixed and dispersed mixture;
Etc.

混合・分散の方法としては、例えば、(A)成分と(B)成分と(C)成分と所望により用いられる各種添加剤をそれぞれ別々に単軸溶融混練機や二軸溶融混練機に供給して混合することもでき、複数の供給部を有する溶融混練機を用いて各成分を逐次的に溶融混練機に供給することもできる。また、あらかじめヘンシェルミキサー、スーパーミキサー、リボンブレンダー、タンブラーなどの混合機を利用して、それらを予備混合した後、溶融混練機に供給して(A)成分や(B)成分のガラス転移温度ないしは融点以上、具体的には340〜430℃の温度で溶融混練することもできる。また、目的により、水性媒体や有機溶媒に分散せしめて湿式法により混合することも可能である。さらに、充填材(C)や各種添加剤を、(A)成分及び/又は(B)成分をベース樹脂として高濃度(代表的な含有量としては10〜60質量%程度)に混合したマスターバッチを別途作製しておき、これを使用する樹脂に濃度を調整して混合し、ニーダーや押出機等を用いて機械的にブレンドする方法などが挙げられる。上記混合方法の中では、マスターバッチを作製し、混合する方法が分散性や作業性の点から好ましい。
混合された樹脂組成物は、ストランドないしはシート状に押し出され、カッティングされてペレット、顆粒、粉体等の成形加工に適した形態で得られる。
As a method of mixing / dispersing, for example, (A) component, (B) component, (C) component and various additives used as required are separately supplied to a uniaxial melt kneader or a biaxial melt kneader. Each component can be sequentially supplied to the melt-kneader using a melt-kneader having a plurality of supply units. In addition, using a mixer such as a Henschel mixer, a super mixer, a ribbon blender, or a tumbler in advance, after premixing them, the mixture is supplied to a melt kneader and the glass transition temperature of component (A) or component (B) or It can also be melt kneaded at a temperature of the melting point or higher, specifically at a temperature of 340 to 430 ° C. Further, depending on the purpose, it can be dispersed in an aqueous medium or an organic solvent and mixed by a wet method. Furthermore, a master batch in which filler (C) and various additives are mixed at a high concentration (typically about 10 to 60% by mass) with component (A) and / or component (B) as a base resin. May be prepared separately, the concentration of the resin used may be adjusted and mixed, and mechanically blended using a kneader or an extruder. Among the mixing methods, a method of preparing and mixing a master batch is preferable from the viewpoint of dispersibility and workability.
The mixed resin composition is extruded in the form of a strand or sheet and cut to obtain a form suitable for molding processing of pellets, granules, powders, and the like.

本発明の樹脂組成物は、射出成形法、押出成形法、圧縮成形法等の成形法により所望の成形体に成形することができる。なかでも、フィルム、シート等の形態に押し出すことに適している。また、溶融混練機の後段にTダイを用いる押し出しキャストやカレンダー成形機、パイプ等種々の形態の成形装置を付設して、溶融混練に引き続いて直接に成形体とすることもできる。
成形体のうちのフィルムの製膜方法としては、公知の方法、例えばTダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法等を採用することができ、特に限定されるものではないが、フィルムの製膜性や安定生産性等の面から、Tダイを用いる押出キャスト法が好ましい。Tダイを用いる押出キャスト法での成形温度は、組成物の流動特性や製膜性等によって適宜調整されるが、概ね流出開始温度、ガラス転移温度ないしは融点以上、具体的には430℃以下、好ましくは340℃〜400℃である。また、本発明のフィルムの厚みは、特に制限されるものではないが、 通常10〜800μm程度である。
本発明のフィルムの表面にはハンドリング性の改良等のために、エンボス加工やコロナ処理等を適宜施してもかまわない。また、上述したフィルムの少なくとも片面に接着層を介して、あるいは接着層を介することなく、金属体を加熱、 加圧により熱融着させて金属積層体とすることもでき、さらに、エッチング処理、メッキ処理などにより、フィルム表面に回路を形成し、さらに積層することもできる。
The resin composition of the present invention can be molded into a desired molded body by a molding method such as an injection molding method, an extrusion molding method, or a compression molding method. Especially, it is suitable for extruding into forms, such as a film and a sheet | seat. Further, a molding device of various forms such as an extrusion cast using a T die, a calender molding machine, a pipe or the like can be attached to the subsequent stage of the melt-kneading machine to directly form a molded body following the melt-kneading.
As a film forming method of the molded body, a known method, for example, an extrusion casting method using a T-die or a calendering method can be adopted, and the film forming property of the film is not particularly limited. From the standpoint of stability and productivity, an extrusion casting method using a T die is preferred. The molding temperature in the extrusion casting method using a T-die is appropriately adjusted depending on the flow characteristics and film-forming properties of the composition, but is generally about the outflow start temperature, the glass transition temperature or the melting point or higher, specifically 430 ° C. or lower, Preferably it is 340 to 400 degreeC. The thickness of the film of the present invention is not particularly limited, but is usually about 10 to 800 μm.
The surface of the film of the present invention may be appropriately subjected to embossing, corona treatment or the like in order to improve handling properties. In addition, the metal laminate can be heat-fused by heating and pressurizing the metal body through an adhesive layer on at least one surface of the above-described film or without an adhesive layer, and further, an etching treatment, A circuit can be formed on the film surface by plating or the like, and further laminated.

本発明の成形体が、(A)成分の熱可塑性ポリイミド及び/又は(B)成分のポリアリールケトン樹脂として結晶性を有するものを含む樹脂組成物からなるものである場合、成形体を結晶化させることにより、耐熱性、寸法安定性を向上させることができる。しかし、通常の溶融と冷却過程を伴う成形加工においては、成形加工中に充分に結晶化させることが困難である場合があり、耐熱性や寸法安定性の向上のために本発明の樹脂組成物あるいは成形体を、ガラス転移温度以上、結晶融解温度以下の範囲で適宜選択される温度にて結晶化処理することが必要となる。
ここで結晶化処理の方式や時間は、特に限定されるものではないが、 例えば、押出キャスト時に結晶化させる方法(キャスト結晶化法)や製膜ライン内で、熱処理ロールや熱風炉等により結晶化させる方法(インライン結晶化法)及び製膜ライン外で、恒温槽や熱プレス等により結晶化させる方法(アウトライン結晶化法)などを挙げることができる。本発明においては、生産の安定性および物性の均一性から、アウトライン結晶化法が好適に用いられる。また、熱処理時間は、熱処理温度にもよるが、通常2秒〜100時間程度、好適には5分〜50時間程度の範囲が適用できる。
When the molded product of the present invention is made of a resin composition containing a crystalline polyimide as the (A) component thermoplastic polyimide and / or the (B) component polyaryl ketone resin, the molded product is crystallized. By making it, heat resistance and dimensional stability can be improved. However, in a molding process involving normal melting and cooling processes, it may be difficult to crystallize sufficiently during the molding process, and the resin composition of the present invention is used for improving heat resistance and dimensional stability. Or it is necessary to crystallize a molded object at the temperature selected suitably in the range below glass transition temperature and below crystal melting temperature.
Here, the method and time of the crystallization treatment are not particularly limited. For example, the crystallization treatment may be performed by a heat treatment roll or a hot air oven in a film formation line (cast crystallization method) or a film forming line. Examples include a method for crystallization (in-line crystallization method) and a method for crystallization by a thermostatic bath, heat press, etc. (outline crystallization method) and the like outside the film production line. In the present invention, the outline crystallization method is preferably used from the viewpoint of production stability and uniformity of physical properties. Further, the heat treatment time is usually about 2 seconds to 100 hours, preferably about 5 minutes to 50 hours, although it depends on the heat treatment temperature.

本発明の樹脂組成物及びそれを用いてなる成形体は、そのものが200℃の空気中で350時間熱処理された場合に、熱処理される前との黄色度(YIと略記する。)の差の絶対値(ΔYIと略記する。)が10以下のものである。ΔYIが10以下であると、使用中の製品の色相面の外見と使用前の製品との外見上の差異が少なくなる。この観点から、ΔYIは好ましくは6以下である。
黄色度は、JIS K 7105−1981「プラスチックの光学的特性試験方法」に示された方法により市販の装置を使用して測定される。市販の測定器の一例として、スガ試験機株式会社製の分光測色計、型式SC−Tなどが挙げられる。測定される3刺激値X、Y、Zより、JIS K 7105−1981に記載されている計算式[YI=100(1.28X−1.06Z)/Y]を用いてYIが算出される。
また、上述したように、成形体が、(A)成分の熱可塑性ポリイミド及び/又は(B)成分のポリアリールケトン樹脂として結晶性を有するものを含む樹脂組成物からなるものである場合、通常の溶融と冷却過程を伴う成形加工においては、成形加工中に充分に結晶化させることが困難である場合がある。本発明の樹脂組成物あるいは成形体を200℃で熱処理する場合、その処理の初期には結晶化による色相変化の影響が大きいので、これを差し引くため、200℃処理において、48時間の熱処理による結晶化処理後を起点として、350時間を処理時間とする。すなわち、398時間処理後のYIと48時間処理後のYIの差(ΔYI−48と略記する。)を求める。ただし、充分に結晶化された成形体については、200℃での熱処理を行う前の状態を起点とする。
When the resin composition of the present invention and a molded article using the resin composition are heat-treated in air at 200 ° C. for 350 hours, the difference in yellowness (abbreviated as YI) from that before the heat treatment is performed. The absolute value (abbreviated as ΔYI) is 10 or less. If ΔYI is 10 or less, the difference in appearance between the hue surface of the product in use and the product before use is reduced. From this viewpoint, ΔYI is preferably 6 or less.
The yellowness is measured using a commercially available apparatus according to the method shown in JIS K 7105-1981 “Testing methods for optical properties of plastics”. Examples of commercially available measuring instruments include a spectrocolorimeter manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., model SC-T, and the like. From the measured tristimulus values X, Y, and Z, YI is calculated using the calculation formula [YI = 100 (1.28X−1.06Z) / Y] described in JIS K 7105-1981.
In addition, as described above, when the molded body is made of a resin composition containing a crystalline polyimide as the (A) component thermoplastic polyimide and / or the (B) component polyaryl ketone resin, In a molding process involving melting and cooling processes, it may be difficult to crystallize sufficiently during the molding process. When the resin composition or molded product of the present invention is heat-treated at 200 ° C., the influence of hue change due to crystallization is large at the initial stage of the treatment. The processing time is 350 hours from the start of the conversion process. That is, a difference between YI after 398 hours treatment and YI after 48 hours treatment (abbreviated as ΔYI−48) is obtained. However, for a sufficiently crystallized molded body, the state before the heat treatment at 200 ° C. is used as a starting point.

本発明の樹脂組成物及びフィルムなどの成形体の用途としては、配線基板、 リジッドフレックス基板、 ビルドアップ多層基板、 一括多層基板、 金属ベース基板などのエレクトロニクス用基板の基材、フレキシブルプリント基板の保護板、熱遮蔽板、サーモフォーミングや真空成形によるトレー、各種電子機器の筐体、自動車エンジンルーム内部品や隔壁などが挙げられる。 また、銅、銀、金、鉄、亜鉛、アルミニウム、 マグネシウム、ニッケルなど、またはこれらの合金類の箔、板、線などの金属体と貼り合わせたもの、あるいは、エッチングやメッキにより回路や図柄を付着させたものも挙げられる。   Applications of molded articles such as the resin composition and film of the present invention include wiring boards, rigid flex boards, build-up multilayer boards, batch multilayer boards, substrates for electronics boards such as metal base boards, and protection of flexible printed boards. Examples include plates, heat shielding plates, trays formed by thermoforming and vacuum forming, housings for various electronic devices, automobile engine compartment components, and partition walls. In addition, copper, silver, gold, iron, zinc, aluminum, magnesium, nickel, etc., or alloys of these metals, such as foils, plates, wires, etc., or by etching or plating There is also an attached one.

以下に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、本明細書中に表示されるフィルムについての種々の測定及び評価は次のようにして行った。ここで、フィルムの押出機からの流れ方向を縦方向、その直交方向を横方向と呼ぶ。   EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to these examples. In addition, various measurement and evaluation about the film displayed in this specification were performed as follows. Here, the flow direction from the extruder of the film is called the vertical direction, and the orthogonal direction is called the horizontal direction.

(1)色相測定
スガ試験機株式会社製の分光測色計、型式SC−Tを用い、JIS K 7105−1981に準じて上記フィルムの色の3刺激値(X、Y、Z)を測定し、YIを算出した。
(2)ΔYI
上記フィルムを、タバイエスペック株式会社製オーブン(型式:HPS−212)を使用し、温度200℃にて熱処理を行った。開始から48時間までは、フィルムの初期変形による波打ちやフィルム同士の融着を防止するため、厚さ50μmのポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製、商品名:ユーピレックス50S)2枚の間に挟んで1組とし、5組を横置きに積み上げて熱処理を行った。48時間以降は上記ポリイミドフィルムには挟まずオーブン中につるした。
各表中に示す時間にオーブンより取り出し、上記(1)に示す方法により色相を測定し、48時間以後には各時間のYIと48時間目のYIの差(ΔYI−48)を算出した。各時間の色相測定後に、フィルムサンプルを上記オーブンに戻し、引き続いて熱処理を行った。なお、オーブンより取り出して色相を測定したのちオーブンに戻すまでの操作に要した時間は、熱処理時間には算入しなかった。
(3)外見の目視判定
上記、200℃、48時間熱処理したフィルムの一部を室温下で保存し、目視判定の基準サンプルとした。このものを引き続いて398時間目まで処理したサンプルと比較し、目視にて、外見の変化を判定した。外見変化の判定基準として、色目の変化を感じないか、変化があってもさほど目立たないものを1、色目の変化がはっきりわかるが、激しくはないものを2、色目の変化が激しいものを3とした。
(1) Hue measurement Using a spectrocolorimeter manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., model SC-T, tristimulus values (X, Y, Z) of the color of the film were measured according to JIS K 7105-1981. , YI was calculated.
(2) ΔYI
The film was heat treated at a temperature of 200 ° C. using an oven (model: HPS-212) manufactured by Tabai Espec. Up to 48 hours from the beginning, sandwiched between two 50 μm-thick polyimide films (trade name: Upilex 50S, manufactured by Ube Industries Co., Ltd.) to prevent undulation due to initial deformation of the film and fusion between the films. One set was made, and 5 sets were stacked horizontally and heat-treated. After 48 hours, it was hung in the oven without being sandwiched between the polyimide films.
It was taken out from the oven at the times shown in each table, and the hue was measured by the method shown in (1) above. After 48 hours, the difference between YI at each time and YI at 48 hours (ΔYI−48) was calculated. After each hour of hue measurement, the film sample was returned to the oven and subsequently heat treated. It should be noted that the time required for the operation after taking out the oven and measuring the hue and returning it to the oven was not included in the heat treatment time.
(3) Visual determination of appearance A part of the film heat treated at 200 ° C. for 48 hours was stored at room temperature, and used as a reference sample for visual determination. This was subsequently compared with a sample processed up to 398 hours, and a change in appearance was visually determined. As a criterion for appearance change, 1 is the one that does not feel the change of the color or is not so noticeable even if there is a change, 2 can clearly see the change of the color, 2 is not so severe, 3 is the change of the color is severe It was.

(実施例1)
(1)表面処理された合成マイカの作製
ヘンシェルミキサーに、トピー工業株式会社製の合成マイカPDM−5B(平均粒子径6μm、アスペクト比25)2kgを入れた。その上から、表面処理剤ヘキシルトリメトキシシラン(信越化学株式会社製、商品名KBM−3063、表1において略号S6)40g(マイカ100質量部に対して2質量部)を水分約5質量%のイソプロピルアルコール160gに溶解して得た20質量%溶液200gを振りかけ、ミキサー上部に蓋をした。窒素ガスを供給しながら、ミキサーを10分間作動させて撹拌混合した。
この混合物を、ステンレス製のバットに広げ、室内にて4日間放置した後、120℃のオーブン中で48時間加熱処理し、室温まで冷却して表面処理された合成マイカ(略号F1とする)を得た。
(Example 1)
(1) Production of surface-treated synthetic mica 2 kg of synthetic mica PDM-5B (average particle diameter 6 μm, aspect ratio 25) manufactured by Topy Industries, Ltd. was placed in a Henschel mixer. Further, 40 g (2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of mica) of a surface treatment agent hexyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-3063, abbreviation S6 in Table 1) with a water content of about 5% by mass. 200 g of a 20% by mass solution obtained by dissolving in 160 g of isopropyl alcohol was sprinkled, and the top of the mixer was covered. While supplying nitrogen gas, the mixer was operated for 10 minutes to stir and mix.
This mixture was spread on a stainless steel vat and allowed to stand indoors for 4 days, then heat-treated in an oven at 120 ° C. for 48 hours, cooled to room temperature and surface-treated synthetic mica (abbreviated as F1). Obtained.

(2)フィルムの作製
非晶性ポリエーテルイミド樹脂[ゼネラルエレクトリック社製、商品名:Ultem1000、ガラス転移温度Tg:216℃](以下、単にPEI−1と略記することがある)1.856kg(29質量部)、非晶性ポリエーテルイミド樹脂[ゼネラルエレクトリック社製、商品名:Ultem−CRS5001、Tg:226℃](以下、単にPEI−2と略記することがある)1.856kg(29質量部)、ポリエーテルエーテルケトン樹脂[ビクトレックス社製、PEEK450G、Tg:143℃、融点Tm:334℃](以下、単にPEEKと略記することがある)2.688kg(42質量部)、及び上記充填材(F1)1.6kg(樹脂成分合計6.4kgを100質量部とし、これに対して25質量部)を、二軸混練機にて、設定温度380℃で溶融混練し、Tダイよりシート状に押し出し、 155℃のキャストロールで急冷製膜することにより厚さ100μmの、非晶質状態のフィルム(以下、非晶フィルムと略記する。)を得た。この非晶フィルムの色相を測定した。
また、この非晶フィルムを2枚の厚さ50μmのポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製、商品名:ユーピレックス50S)の間に挟んで1組とし、5組を横置きに積み上げて、タバイエスペック株式会社製オーブン(型式:HPS−212)内で、温度200℃にて48時間結晶化処理を行うことにより結晶化フィルムを得た。この結晶化フィルムの色相を測定した。
この結晶化フィルムをポリイミドフィルム間より取り出し、色相を測定した後、上記オーブン中に吊し、温度200℃にて熱処理を行った。
実施例表中に示した時間にオーブンより取り出し、上記(1)に示した方法により色相を測定した。
48時間以後については各時間のΔYI−48を算出した。各時間の色相測定後に、フィルムサンプルを上記オーブンに戻し、引き続いて熱処理を行った。オーブンより取り出して色相を測定したのちオーブンに戻すまでの操作に要した時間は、熱処理時間には算入しなかった。
得られた非晶フィルム又は結晶化フィルムのYI、結晶化フィルムの外見の目視評価結果、各処理時間におけるYI、ΔYI―48、ΔYI、及び色の3刺激値(X、Y、Z)の評価結果を表1〜表7に示す。
(2) Production of film Amorphous polyetherimide resin [manufactured by General Electric Co., Ltd., trade name: Ultem 1000, glass transition temperature Tg: 216 ° C.] (hereinafter sometimes simply referred to as PEI-1) 1.856 kg ( 29 parts by mass), amorphous polyetherimide resin [manufactured by General Electric Co., Ltd., trade name: Ultem-CRS5001, Tg: 226 ° C.] (hereinafter sometimes simply referred to as PEI-2) 1.856 kg (29 masses) Part), polyetheretherketone resin (manufactured by Victrex, PEEK450G, Tg: 143 ° C., melting point Tm: 334 ° C.) (hereinafter sometimes simply referred to as PEEK) 2.688 kg (42 parts by mass), and the above Filler (F1) 1.6 kg (resin component total 6.4 kg is 100 parts by mass, 25 quality Part) is melt-kneaded at a set temperature of 380 ° C. with a twin-screw kneader, extruded into a sheet form from a T die, and rapidly cooled with a cast roll at 155 ° C. to form a 100 μm thick amorphous state Film (hereinafter abbreviated as amorphous film). The hue of this amorphous film was measured.
In addition, this amorphous film is sandwiched between two 50 μm-thick polyimide films (trade name: Upilex 50S, manufactured by Ube Industries, Ltd.). A crystallized film was obtained by performing crystallization treatment at a temperature of 200 ° C. for 48 hours in a company oven (model: HPS-212). The hue of this crystallized film was measured.
The crystallized film was taken out from between the polyimide films and the hue was measured. Then, the crystallized film was hung in the oven and heat-treated at a temperature of 200 ° C.
The sample was taken out from the oven at the time shown in the Example Table, and the hue was measured by the method shown in (1) above.
After 48 hours, ΔYI-48 for each hour was calculated. After each hour of hue measurement, the film sample was returned to the oven and subsequently heat treated. The time required for the operation after taking out the oven and measuring the hue and returning it to the oven was not included in the heat treatment time.
Evaluation of YI of the obtained amorphous film or crystallized film, visual evaluation result of appearance of crystallized film, YI, ΔYI-48, ΔYI and color tristimulus values (X, Y, Z) at each processing time The results are shown in Tables 1-7.

(実施例2)
実施例1において、充填材の表面処理に使用するS6を26g(合成マイカ100質量部に対して1.3質量部)、水分約5質量%を含むイソプロピルアルコールの量を104gに変更し、使用する樹脂成分6.4kg(100質量部)に占めるPEI−1、PEI−2及びPEEKの混合量をそれぞれ55質量部、0質量部及び45質量部に変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、非晶フィルムを得た。 また、実施例1と同様にして結晶化フィルムを得た。実施例1と同様の評価を行った結果を各表に示す。
(Example 2)
In Example 1, the amount of S6 used for the surface treatment of the filler is changed to 26 g (1.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of synthetic mica) and the amount of isopropyl alcohol containing about 5% by mass of water is changed to 104 g. The same operation as in Example 1 except that the amount of PEI-1, PEI-2, and PEEK mixed in 6.4 kg (100 parts by mass) of the resin component changed to 55 parts by mass, 0 parts by mass, and 45 parts by mass, respectively. To obtain an amorphous film. A crystallized film was obtained in the same manner as in Example 1. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown in each table.

(実施例3)
実施例1において、充填材の表面処理に使用する表面処理剤ヘキシルトリメトキシシラン(S6)に代えてプロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製、試薬グレード、表1において略号S3)を36g(合成マイカ100質量部に対して1.8質量部)に変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、非晶フィルムを得た。 また、実施例1と同様にして結晶化フィルムを得た。実施例1と同様の評価を行った結果を各表に示す。
(Example 3)
In Example 1, 36 g of propyltrimethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent grade, abbreviation S3 in Table 1) was used instead of the surface treatment agent hexyltrimethoxysilane (S6) used for the surface treatment of the filler. An amorphous film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mass was changed to 1.8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of synthetic mica. A crystallized film was obtained in the same manner as in Example 1. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown in each table.

(実施例4)
実施例1において、充填材の表面処理に使用するS6をヘキシルトリメトキシシラン(信越化学株式会社製、商品名KBM−3103C、表1において略号S10)を36g(合成マイカ100質量部に対して1.8質量部)に、水分約5質量%を含むイソプロピルアルコールの量を144gに変更し、使用する樹脂成分6.4kg(100質量部)に占めるPEI−1、PEI−2及びとPEEKの混合量をそれぞれ25質量部、35質量部及び40質量部に変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、非晶フィルムを得た。 また、実施例1と同様にして結晶化フィルムを得た。実施例1と同様の評価を行った結果を各表に示す。
Example 4
In Example 1, S6 used for the surface treatment of the filler is hexyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-3103C, abbreviation S10 in Table 1), 36 g (1 for 100 parts by mass of synthetic mica). 8 parts by mass), the amount of isopropyl alcohol containing about 5% by mass of water is changed to 144 g, and PEI-1, PEI-2, and PEEK are mixed in 6.4 kg (100 parts by mass) of resin components to be used. An amorphous film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amounts were changed to 25 parts by mass, 35 parts by mass and 40 parts by mass, respectively. A crystallized film was obtained in the same manner as in Example 1. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown in each table.

(比較例1)
実施例1において、充填材の表面処理に使用した表面処理剤をS6にかえてイソプロピルトリ(ドデシルベンゼンスホニル)チタネート(味の素ファインテクノ株式会社製、商品名:プレンアクト9SA、表1において略号T1)を使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、非晶フィルムを得た。 また、実施例1と同様にして結晶化フィルムを得た。実施例1と同様の評価を行った結果を各表に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, isopropyltri (dodecylbenzenesulfonyl) titanate (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name: Preneact 9SA, abbreviated as T1 in Table 1) was used instead of S6 as the surface treatment agent used for the surface treatment of the filler. The same operation as in Example 1 was carried out except that was used to obtain an amorphous film. A crystallized film was obtained in the same manner as in Example 1. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown in each table.

(比較例2)
実施例1において、充填材の表面処理に使用した表面処理剤をS6にかえてイソプロピルトリステアロイルチタネート(味の素ファインテクノ株式会社製、商品名:プレンアクトTTS、表1において略号T2)を使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、非晶フィルムを得た。 また、実施例1と同様にして結晶化フィルムを得た。実施例1と同様の評価を行った結果を各表に示す。
(Comparative Example 2)
In Example 1, except that the surface treatment agent used for the surface treatment of the filler was changed to S6 and isopropyl tristearoyl titanate (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name: Preneact TTS, abbreviation T2 in Table 1) was used. The same operation as in Example 1 was performed to obtain an amorphous film. A crystallized film was obtained in the same manner as in Example 1. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown in each table.

Figure 2005220335
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表1より、本発明の樹脂組成物を使用して成形された実施例1〜4の結晶化フィルムは、200℃、48時間熱処理時点を基点として200℃、350時間の熱処理後(すなわち合計398時間後)のΔYI−48が4.7〜4.9で10以下であり、目視による外見変化、すなわち色目の変化がはっきりわかるが、激しいレベルではない。これに対して、ΔYI−48が10を超える比較例1及び比較例2の結晶化フィルムは、目視による外見変化が顕著なものと認められる。
また、本発明に係る表面処理剤で表面処理された充填材を含有する実施例1〜4の結晶化フィルムは、200℃にて熱処理された場合、24時間以後のいずれの処理時間においてもΔYI及びΔYI−48の値は、本発明に係る表面処理剤以外の表面処理剤で表面処理された充填材を含有する比較例1及び比較例2の結晶化フィルムの値より低く、本発明に係る表面処理剤により、樹脂組成物が熱処理された場合の色相変化を少なくするという効果が得られることが明らかである。
From Table 1, the crystallized films of Examples 1 to 4 formed using the resin composition of the present invention were subjected to heat treatment at 200 ° C. and 350 hours from the time of heat treatment at 200 ° C. for 48 hours (that is, a total of 398). ΔYI-48 (after time) is 4.7 to 4.9, which is 10 or less, and a change in appearance visually, that is, a change in color is clearly seen, but it is not a severe level. On the other hand, in the crystallized films of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 in which ΔYI-48 exceeds 10, it is recognized that the change in appearance by visual observation is remarkable.
In addition, when the crystallized films of Examples 1 to 4 containing the filler surface-treated with the surface treating agent according to the present invention were heat-treated at 200 ° C., ΔYI in any treatment time after 24 hours. And the value of ΔYI-48 is lower than the values of the crystallized films of Comparative Examples 1 and 2 containing a filler surface-treated with a surface treatment agent other than the surface treatment agent according to the present invention. It is clear that the effect of reducing the hue change when the resin composition is heat-treated is obtained by the surface treatment agent.

本発明の樹脂組成物及び成形体は、長時間高温にさらされた場合の色相変化が少なく、耐熱性、寸法安定性等に優れることから、その用途としては、プリント配線基板、 リジッドフレックス基板、 ビルドアップ多層基板、 一括多層基板、 金属ベース基板などのエレクトロニクス用基板の基材、フレキシブルプリント基板の保護板、熱遮蔽板、サーモフォーミングや真空成形によるトレー、各種電子機器の筐体、自動車エンジンルーム内部品や隔壁、航空宇宙機器の保護板、高温にさらされるエネルギー発生器機の部品などが挙げられる。 また、銅やアルミニウムなどの金属箔と積層、接着することにより電磁波遮蔽板などの用途も挙げられる。   Since the resin composition and the molded body of the present invention have little hue change when exposed to high temperature for a long time and are excellent in heat resistance, dimensional stability, etc., their uses include printed wiring boards, rigid flex boards, Base materials for electronics boards such as build-up multilayer boards, batch multilayer boards, metal base boards, protective boards for flexible printed boards, heat shields, trays by thermoforming and vacuum forming, housings for various electronic devices, automobile engine rooms These include internal parts, bulkheads, protection plates for aerospace equipment, and energy generator parts exposed to high temperatures. Moreover, the use of an electromagnetic shielding plate or the like is also mentioned by laminating and bonding with a metal foil such as copper or aluminum.

Claims (10)

(A)熱可塑性ポリイミド樹脂と(B)ポリアリールケトン樹脂の合計量100質量部に対して、(C)下記一般式(1)
n SiX4-n (1)
(式中、Rは、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜30の炭化水素基であり、Xは、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、アセトキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる1種以上の加水分解性基である。nは1又は2である。)
で表される有機珪素化合物により表面処理された充填材5〜50質量部を含み、200℃、350時間処理前後における、JIS K 7105−1981に規定される黄色度の差の絶対値が10以下であることを特徴とする樹脂組成物。
(C) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the thermoplastic polyimide resin and (B) polyaryl ketone resin, (C) the following general formula (1)
R n SiX 4-n (1)
(In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain an oxygen atom, and X is selected from an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, an acetoxy group and a hydroxyl group. One or more hydrolyzable groups, n is 1 or 2)
The absolute value of the difference in yellowness as defined in JIS K 7105-1981 before and after treatment at 200 ° C. for 350 hours, including 5 to 50 parts by mass of a filler surface-treated with an organosilicon compound represented by A resin composition characterized by the above.
(A)成分と(B)成分の混合質量比が、(A)/(B)=95〜5/5〜95である請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the mixing mass ratio of the component (A) and the component (B) is (A) / (B) = 95-5 / 5-95. (A)成分の熱可塑性ポリイミド樹脂が、下記構造式(2)で表される繰り返し単位を有するポリエーテルイミド樹脂又は下記構造式(3)で表される繰り返し単位を有するポリエーテルイミド樹脂を主成分とするものであり、(B)成分のポリアリールケトン樹脂が、下記構造式(4)で表される繰り返し単位を有する結晶性ポリエーテルエーテルケトン樹脂を主成分とするものである請求項1又は2記載の樹脂組成物。
Figure 2005220335
The thermoplastic polyimide resin of component (A) is mainly a polyetherimide resin having a repeating unit represented by the following structural formula (2) or a polyetherimide resin having a repeating unit represented by the following structural formula (3). The component (B), which is a polyaryl ketone resin as a component (B), is mainly composed of a crystalline polyether ether ketone resin having a repeating unit represented by the following structural formula (4). Or the resin composition of 2.
Figure 2005220335
(C)成分の表面処理された充填材において、充填材が無機系のものである請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein in the surface-treated filler of component (C), the filler is inorganic. (C)成分の表面処理された充填材において、充填材が板状である請求項4記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 4, wherein in the surface-treated filler of component (C), the filler is plate-shaped. (C)成分の表面処理された充填材において、充填材がマイカである請求項5記載の樹脂組成物。   6. The resin composition according to claim 5, wherein in the surface-treated filler of component (C), the filler is mica. (C)成分の表面処理された充填材の平均粒子径が0.01〜200μmである請求項1〜6のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the surface-treated filler of component (C) has an average particle size of 0.01 to 200 µm. (C)成分の表面処理された充填材が、充填材100質量部に対して0.1〜8質量部の一般式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されたものである請求項1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物。   The surface-treated filler of component (C) is surface-treated with an organosilicon compound represented by the general formula (1) in an amount of 0.1 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the filler. Item 8. The resin composition according to any one of Items 1 to 7. 請求項1〜8のいずれかに記載の樹脂組成物を成形してなる成形体。   The molded object formed by shape | molding the resin composition in any one of Claims 1-8. 成形体が結晶化処理されてなる請求項9記載の成形体。   The molded product according to claim 9, wherein the molded product is crystallized.
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