JP2005215644A - 光モジュールおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract


【課題】 マイクロレンズアレイと光ファイバを挿入し固定する凹所とのアライメント精度に優れた光モジュールを提供する。
【解決手段】 マイクロレンズアレイ27と光ファイバを挿入し固定する凹所28とのアライメント精度に優れた光モジュール20が、以下のようにして製造される。透明基板21の一方の面21a上にネガ型感光層22を形成し、他方の面21b上にポジ型感光層23を形成する。ネガ型感光層22の側に、ネガ型感光層22から離間して遮光マスク24を配置し、遮光マスク24を通してネガ型感光層22およびポジ型感光層23に対して光源25から光を照射して露光する。露光後、ネガ型感光層22を現像してマイクロレンズアレイ27を形成し、ポジ型感光層23を現像して凹所28を形成する。
【選択図】 図3

Description

本発明は、光モジュールおよびその製造方法に関する。
半導体レーザ、面発光レーザなどの発光素子から出射される光と、光ファイバなどの光伝達媒体との光接続に用いるデバイスとして、光モジュールが知られている(たとえば、特許文献1参照)。
図13は、典型的な光モジュール1の構成を例示する図である。光モジュール1は、レンズアレイ基板2の一方の面2aに複数のマイクロレンズ3aが配列されたマイクロレンズアレイ3が形成され、マイクロレンズアレイ3が形成された面に対向する反対側の面である他方の面2b側に光ファイバ4を挿入し固定する凹所5が形成され、該凹所5に光ファイバ4が固定されたものである。不図示の光源から出射された光6は、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ3aで集光され、凹所5に固定された光ファイバ4に入射する。または、光ファイバ4から出射された光は、マイクロレンズ3aでコリメートされた光6としてレンズアレイ基板2から出射する。
図14は、従来の光モジュールの製造方法を説明する図である。図14を参照して典型的な光モジュール1の従来の製造方法を説明する。図14(a)に示す工程では、一方の面2aにマイクロレンズアレイ3が形成されたレンズアレイ基板2の他方の面2b上に、ゾルゲル材料を塗布してゾルゲル層7を形成する。図14(b)に示す工程では、光ファイバを挿入し固定する凹所5の反転パターンが形成された成形型8をゾルゲル層7に押付け、ゾルゲル層7に凹所5の反転パターンを転写する。図14(c)に示す工程では、成形型8をゾルゲル層7から剥離させ、凹所5が形成されたゾルゲル層7を有するレンズアレイ基板2を焼成し、ゾルゲル層7を硬化させて、光ファイバ4を挿入し固定する凹所5が形成された光モジュール1が製造される。
しかしながら、特許文献1に開示される光モジュール1の製造方法では以下の問題がある。光ファイバ4は、コアとコアの周囲を覆うクラッド層とで形成され、光がコア中を伝達する。光モジュール1では、発光素子から出射される光をコア部に集光して入射させる必要があるけれども、コア部の直径は数μmと小さいので、マイクロレンズアレイ3と光ファイバ4とには高精度な位置決め(以後、アライメントと呼ぶ)が要求される。
特許文献1に開示される製造方法においては、成形型8を使用したゾルゲル層7の成形によって光ファイバ4を固定する凹所5を形成するけれども、マイクロレンズアレイ3と成形型8とのアライメント方法については何ら開示されていない。したがって、特許文献1に開示される製造方法に基づいて単純に成形した場合、マイクロレンズアレイ3と凹所5とに位置ずれが生じることとなり、光伝達効率の低下を招くという問題がある。
また特許文献1では、凹所5を形成する部材としてゾルゲル材料に代えて紫外線硬化樹脂を用いることも開示される。ゾルゲル材料に代えて紫外線硬化樹脂を用いる場合、成形型8によって紫外線硬化樹脂に凹所5の反転パターンを転写し、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、レンズアレイ基板2から成形型8を剥離する工程が存在する。近年、光モジュールは、小型化が希求されており、小型化を実現する手段として、光ファイバの小径化、光モジュールを構成するマイクロレンズの小径化および短焦点化、レンズアレイ基板の薄型化が試みられている。
しかしながら、特許文献1に開示される製造方法においては、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、レンズアレイ基板2から成形型8を剥離する工程が存在し、この剥離工程では、レンズアレイ基板2に応力が加わるので、レンズアレイ基板2を薄くすると、レンズアレイ基板2が応力に耐えられず破損するという問題があり、レンズアレイ基板2の薄型化が阻害される。
また、レンズアレイ基板2にマイクロレンズアレイ3を形成する工程と、ゾルゲル層7または紫外線硬化樹脂層に凹所を形成する工程とを、別工程で行うので、製造に多数の工程を要し、生産効率を低下させるという問題もある。
特開2002−350674号公報
本発明は上記課題を鑑みて成されたものであり、その目的は、マイクロレンズアレイと光ファイバを挿入し固定する凹所とのアライメント精度に優れた光モジュール、および該光モジュールを少ない製造工程で製造することのできる製造方法を提供することである。
本発明は、透明基板の一方の面側にマイクロレンズアレイが形成され、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように光ファイバを挿入する凹所が形成された光モジュールの製造方法において、
透明基板の一方の面上にネガ型感光層を形成する工程と、
透明基板の他方の面上にポジ型感光層を形成する工程と、
ネガ型感光層またはポジ型感光層のいずれか1つの感光層の側に、感光層から離間して遮光マスクを配置する工程と、
遮光マスクを通してネガ型感光層およびポジ型感光層に対して光を照射して露光する工程と、
ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする光モジュールの製造方法である。
また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程を含むことを特徴とする。
また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程を含むことを特徴とする。
また本発明は、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、
マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程を含むことを特徴とする。
また本発明は、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする。
また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程と、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程とにおいて用いられる現像液が、アルカリ性現像液であることを特徴とする。
また本発明は、透明基板の一方の面側に形成されるマイクロレンズアレイと、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように形成される凹所と、凹所に挿入して固定される光ファイバとを備える光モジュールにおいて、
マイクロレンズアレイがネガ型感光材料からなり、
凹所が形成される部材がポジ型感光材料からなり、
マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズと、マイクロレンズに対応する凹所とがアライメントされていることを特徴とする光モジュールである。
また本発明は、凹所が形成される部材は、凹所に臨む部分のコーナが、曲率を有することを特徴とする。
本発明によれば、透明基板の一方の面側にネガ型感光層を形成し、透明基板の他方の面側にポジ型感光層を形成し、いずれか一方の感光層側に遮光マスクを離間して配置し、遮光マスクを通してネガ型感光層とポジ型感光層とに対して同時に光を照射して露光し、その後ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成し、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する。このように、マイクロレンズアレイおよび光ファイバを挿入し固定するための凹所の形成を、1つの遮光マスクを用いて同時に露光して行うことができるので、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズと凹所とを高精度にアライメントして形成することが可能である。また省工程を実現することができる。さらに、マイクロレンズアレイと凹所との形成工程およびその後の工程において、部材を透明基板から剥離するなどの透明基板に応力を加えることがないので、透明基板を薄くし、光モジュールを薄型化することが可能になる。
また本発明によれば、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程が含まれる。この加熱処理によって、凹所を形成する部材の凹所に臨む部分のコーナが、曲率を有するように形成されるので、間口の広がった凹所が形成され、光ファイバの凹所に対する挿入を容易に行うことが可能になり、製造のタクトタイムが短縮される。
また本発明によれば、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程が含まれる。このことによって、透明基板の一方の面側に形成されたマイクロレンズアレイに対して、高精度にアライメントされた凹所を透明基板の他方の面に形成することができるので、凹所の強度を向上し、光ファイバが挿入固定される部分の健全性を一層向上することが可能になる。
また本発明によれば、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程が含まれる。このことによって、透明基板の一方の面にマイクロレンズアレイを形成することができるので、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることができる。
また本発明によれば、透明基板にエッチングして一方の面にマイクロレンズアレイを形成し、他方の面に凹所を形成する両方の工程が含まれるので、凹所の強度を向上して光ファイバが挿入固定される部分の健全性を一層向上するとともに、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることができる。
また本発明によれば、ポジ型感光層とネガ型感光層とは、ともにアルカリ性現像液で現像される。このことによって、ポジ型感光層およびネガ型感光層の現像を、同じ現像液を用いて同工程で行うことが可能になるので、製造工程を少なくし、現像液コストを低減することができる。
本発明によれば、光モジュールは、マイクロレンズアレイがネガ型感光材料からなり、凹所が形成される部材がポジ型感光材料からなり、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズと、マイクロレンズに対応する凹所とが高精度にアライメントされている。マイクロレンズと光ファイバを挿入し固定する凹所とが高精度にアライメントされることによって、光ファイバのコアに対して正確に光を集光できるので、光伝達効率を高くすることが可能となる。
このような光モジュールは、透明基板の一方の面側にネガ型感光層を形成し、透明基板の他方の面側にポジ型感光層を形成し、いずれか一方の感光層側に遮光マスクを離間して配置し、遮光マスクを通してネガ型感光層とポジ型感光層とに対して同時に光を照射して露光し、その後ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成し、ポジ型感光層を現像して凹所を形成することによって、実現される。
また本発明によれば、凹所が形成される部材は、凹所に臨む部分のコーナが、曲率を有するように形成されるので、間口の広がった凹所が形成され、凹所に対する光ファイバの挿入固定が容易な光モジュールが実現される。
図1は本発明の光モジュールの製造方法に関する感光層の露光方法を説明する図であり、図2は図1に示す方法で露光された感光層を現像した後の感光層のプロファイルを示す図である。透明基板10の一方の面10a上に感光性材料である紫外線硬化樹脂を塗布して第1紫外線硬化樹脂層11を形成し、透明基板10の一方の面10aに対向する他方の面10b上に紫外線硬化樹脂を塗布して第2紫外線硬化樹脂層12を形成し、第1紫外線硬化樹脂層11から離間して配置された遮光マスク13の開口部14を通して紫外線15を照射して露光した場合、現像後の第1および第2紫外線硬化樹脂層11,12のプロファイルが、図2中のライン16のような曲面に形成される現象を、本発明者らは見出した。本発明は、以上の知見に基づくものである。
図3は、本発明の実施の一形態である光モジュール20の製造方法を説明する図である。図3を参照して、本発明の光モジュール20を製造する方法について説明する。図3(a)の工程では、透明基板21の一方の面21a上にネガ型感光層22を形成し、透明基板21の一方の面21aに対向する反対側の面である他方の面21b上にポジ型感光層23を形成する。透明基板21のそれぞれの面に対するネガ型感光層22およびポジ型感光層23の形成には、たとえば塗布法など公知の成膜法が用いられる。また塗布法が用いられる場合、スピンコート法またはディッピング法などが適宜選択される。
透明基板21に用いられる素材としては、たとえば石英または硼珪酸などガラス材が挙げられる。ポジ型感光層23を構成するポジ型感光材料としては、たとえばポジレジスト(クラリアントジャパン(株)製:AZシリーズ)などが挙げられる。ネガ型感光層22を構成するネガ型感光材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂のいずれをも用いることができ、露光時の光透過率が高い物を用いることが望ましく、たとえば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどのアクリル系モノマー、エポキシ系モノマーに光開始剤を混合した混合組成物などが挙げられる。
なお、本実施の形態では、ネガ型感光材料として、紫外線硬化樹脂を使用しているので、ネガ型感光層22を、以後紫外線硬化樹脂層22と呼ぶ。
図3(b)の工程では、紫外線硬化樹脂層22側に、紫外線硬化樹脂層22から離間して遮光マスク24を配置し、遮光マスク24に関して、紫外線硬化樹脂層22およびポジ型感光層23を有する透明基板21の反対側に光源25が配置される。遮光マスク24には、マイクロレンズアレイおよび光ファイバが挿入し固定されるべき凹所の配列に対応し、光源25から出射される光が通過できるように光通過開口部26が、予め形成される。なお、本実施の形態では、ネガ型感光層が紫外線硬化樹脂層22であるので、光源25には紫外線を放射することのできる物が選択される。
図3(c)の工程では、光源25から放射された光を、遮光マスク24の光通過開口部26を通して紫外線硬化樹脂層22およびポジ型感光層23に対して照射し露光する。このとき、光源25から放射された光は、紫外線硬化樹脂層22と透明基板21とを透過してポジ型感光層23に対しても照射される。このことによって、遮光マスク24の光通過開口部26に対応する部分の紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とが同時に露光される。
図3(d)の工程では、紫外線硬化樹脂層22を現像して未露光部を除去することによってマイクロレンズアレイ27を形成し、ポジ型感光層23を現像して露光部を除去することによって凹所28を形成する。
紫外線硬化樹脂を含むネガ型感光材料は、アルカリ性現像液で現像可能であることが望ましい。アルカリ性現像液で現像可能な材料を使用することによって、ポジ型感光層23とネガ型感光層22との現像を、同一の現像液を用いて同一の工程で行うことができるので、製造工程を少なくすることができるとともに、現像液コストを低減することが可能になる。アルカリ性現像液としては、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)系の有機アルカリ現像液、KOH・NaOH・NaCOなどの無機アルカリ現像液などが挙げられる。
以上のようにして、透明基板21の一方の面21a側にマイクロレンズアレイ27が形成され、透明基板21の他方の面21b側に、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aに対応するように光ファイバを挿入する凹所28が形成された光モジュール20が製造される。
このように、光モジュール20は、マイクロレンズアレイ27および光ファイバを挿入し固定するための凹所28の形成が、1つの遮光マスク24を用いて同時に露光することによって行われるので、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aと凹所28とが、高精度にアライメントして形成される。
図4は、光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。光モジュール20のポジ型感光層23の凹所28に臨む部分に、たとえば紫外線硬化樹脂などの接着剤を塗布し、凹所28へ光ファイバ29が挿入し固定される。光モジュール20における透明基板21の厚みは、凹所28へ挿入固定される光ファイバ29の端面30が、マイクロレンズアレイ27を構成する各マイクロレンズ27aの焦点位置に合致するように設定される。なお、ここでは、光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入固定されて構成されるデバイスをも含めて、広義の意味で光モジュールに含める。
以上のように製造された光モジュール20では、マイクロレンズアレイ27と凹所28とが高精度にアライメントされているので、光ファイバ29のコアに対して正確に光31を集光することができ、光伝達効率を高くすることが可能になる。
またマイクロレンズアレイ27および光ファイバ29を挿入し固定するための凹所28の形成が、1つの遮光マスク24を用いて同時に露光することによって行われるので、省工程を実現することができる。さらに、マイクロレンズアレイ27と凹所28との形成工程およびその後の工程において、部材を透明基板21から剥離するなどの透明基板21に応力を加えることがないので、透明基板21を薄くし、光モジュール20を薄型化することに寄与できる。
図5は本発明の実施の第2形態である光モジュール40の構成を示す図であり、図6は図5に示す光モジュール40に光ファイバ29を挿入固定した状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール40は、実施の第1形態の光モジュール20に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。
光モジュール40において注目すべきは、凹所41が形成されるポジ型感光層42は、凹所41に臨む部分のコーナ43が曲率を有するように形成されることである。このような凹所41に臨む部分のコーナ43が曲率を有するようなポジ型感光層42は、ポジ型感光層42を現像して凹所41を形成する工程の後に、凹所41が形成されたポジ型感光層42を加熱処理する工程を採ることによって実現される。凹所41が形成されたポジ型感光層42を加熱処理することによって、凹所41に臨む部分のコーナ43が、軟化していわゆるダレを生じて曲率を有するように形成される。
このような、間口の広がった凹所41が形成される光モジュール40は、凹所41に対する光ファイバ29の挿入を容易に行うことが可能になるので、製造のタクトタイムが短縮される。
図7は本発明の実施の第3形態である光モジュール50の製造方法を説明する図であり、図8は図7に示す方法によって製造された光モジュール50の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール50およびその製造方法は、実施の第1形態の光モジュール20およびその製造方法に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。
図7を参照して光モジュール50の製造方法について説明する。図7(a)の工程では、まず実施の第1形態と同様にして、透明基板21のそれぞれの面に紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とを形成し、遮光マスクを介して同時に露光後、アルカリ性現像液で現像し、マイクロレンズアレイ27と凹所28とを形成する。次に、ポジ型感光層23に凹所28が形成された側からエッチングを行う。このエッチングは、たとえば反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching:略称RIE)または誘導結合プラズマ(
Inductively Coupled Plasma:略称ICP)などのドライエッチング法で実現できる。
図7(b)の工程では、ポジ型感光層23に凹所28が形成された側からエッチングを継続する。このことによって、ポジ型感光層23と、凹所28の底部を構成する透明基板21とが、ほぼ等速度でエッチングされるので、ポジ型感光層23に形成された凹所28の形状なりに減肉されて透明基板21に凹所51が形成され始める。
図7(c)の工程では、ポジ型感光層23がエッチングされて無くなった時点で、エッチングを終了する。このようにして、ポジ型感光層23に形成された凹所28と同一の形状を有する凹所51が、透明基板21に形成された光モジュール50が製造される。
透明基板21に凹所51を形成することによって、凹所51の形成される部分が透明基板21自体で構成されるので、その強度を向上させることができる。したがって、光ファイバ29が挿入固定される部分の健全性を一層向上することが可能になる。
なお、透明基板21の他方の面側のポジ型感光層23に凹所28を形成した後であって、エッチングを開始する前に、ポジ型感光層23に加熱処理を施して、凹所28に臨む部分のコーナが曲率を有するようにしても良い。このことによって、その後のエッチングで透明基板21に形成される凹所51も、凹所51に臨む部分のコーナが曲率を有するように形成することができるので、実施の第2形態の光モジュール40と同様の効果を奏することができる。
図9は本発明の実施の第4形態である光モジュール55の製造方法を説明する図であり、図10は図9に示す方法によって製造された光モジュール55の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール55およびその製造方法は、実施の第1形態の光モジュール20およびその製造方法に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。
図9を参照して光モジュール55の製造方法について説明する。図9(a)の工程では、まず実施の第1形態と同様にして、透明基板21のそれぞれの面に紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とを形成し、遮光マスクを介して同時に露光後、アルカリ性現像液で現像し、マイクロレンズアレイ27と凹所28とを形成する。次に、紫外線硬化樹脂層22にマイクロレンズアレイ27が形成された側からエッチングを行う。
図9(b)の工程では、紫外線硬化樹脂層22にマイクロレンズアレイ27が形成された側からエッチングを継続する。このことによって、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27と、マイクロレンズアレイ27の基底部周辺の透明基板21とが、ほぼ等速度でエッチングされるので、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aの形状なりに減肉して透明基板21にマイクロレンズ56aすなわちマイクロレンズアレイ56が形成され始める。
図9(c)の工程では、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27がエッチングされて無くなった時点で、エッチングを終了する。このようにして、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27と同一の形状を有するマイクロレンズアレイ56が、透明基板21に形成された光モジュール55が製造される。
透明基板21にマイクロレンズアレイ56を形成することによって、透明基板21とマイクロレンズアレイ56とが同材質からなり線膨張係数が同一になるので、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることが可能になる。
図11は本発明の実施の第5形態である光モジュール60の構成を示す図であり、図12は図11に示す光モジュール60の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール60は、実施の第3および第4形態の光モジュール50,55に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。
光モジュール60は、エッチングによって、透明基板21の他方の面に凹所51を形成する製造方法と、透明基板21の一方の面にマイクロレンズアレイ56を形成する製造方法とを併用して製造されるものであり、透明基板21にマイクロレンズアレイ56と凹所51とが形成されていることを特徴とする。このような光モジュール60では、実施の第3および第4形態の光モジュール40,50がそれぞれ発現する効果の両方を奏することができる。
図8、図10および図12に示すように、透明基板21にマイクロレンズアレイ56および/または凹所51が形成される場合においても、透明基板21の厚みは、マイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点位置に光ファイバ29の端面30が配置されるように設定される。このような設定は、次のようにして実現できる。透明基板21の初期厚みをマイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点距離よりも、エッチングによる減肉分だけ予め大きく設定し、エッチング終了後に、マイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点位置に光ファイバ29の端面30が合致するように設定すればよい。
以上に述べたように、本発明の実施の形態では、遮光マスク24は、透明基板21のネガ型感光層22が塗布された面の上方に離間して配置されて露光が行われるけれども、これに限定されることなく、ポジ型感光層23側の上方に離間して配置し露光が行われても良い。
本発明の光モジュールの製造方法に関する感光層の露光方法を説明する図である。 図1に示す方法で露光された感光層を現像した後の感光層のプロファイルを示す図である。 本発明の実施の一形態である光モジュール20の製造方法を説明する図である。 光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。 本発明の実施の第2形態である光モジュール40の構成を示す図である。 図5に示す光モジュール40に光ファイバ29を挿入固定した状態を示す図である。 本発明の実施の第3形態である光モジュール50の製造方法を説明する図である。 図7に示す方法によって製造された光モジュール50の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。 本発明の実施の第4形態である光モジュール55の製造方法を説明する図である。 図9に示す方法によって製造された光モジュール55の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。 本発明の実施の第5形態である光モジュール60の構成を示す図である。 図11に示す光モジュール60の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。 典型的な光モジュール1の構成を例示する図である。 従来の光モジュールの製造方法を説明する図である。
符号の説明
20,40,50,55,60 光モジュール
21 透明基板
22 ネガ型感光層
23,42 ポジ型感光層
24 遮光マスク
25 光源
27,56 マイクロレンズアレイ
28,41,51 凹所
29 光ファイバ

Claims (8)

  1. 透明基板の一方の面側にマイクロレンズアレイが形成され、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように光ファイバを挿入する凹所が形成された光モジュールの製造方法において、
    透明基板の一方の面上にネガ型感光層を形成する工程と、
    透明基板の他方の面上にポジ型感光層を形成する工程と、
    ネガ型感光層またはポジ型感光層のいずれか1つの感光層の側に、感光層から離間して遮光マスクを配置する工程と、
    遮光マスクを通してネガ型感光層およびポジ型感光層に対して光を照射して露光する工程と、
    ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程と、
    ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする光モジュールの製造方法。
  2. ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
    凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
  3. ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
    凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
  4. ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、
    マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
  5. ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程と、
    ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
  6. ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程と、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程とにおいて用いられる現像液が、アルカリ性現像液であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の光モジュールの製造方法。
  7. 透明基板の一方の面側に形成されるマイクロレンズアレイと、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように形成される凹所と、凹所に挿入して固定される光ファイバとを備える光モジュールにおいて、
    マイクロレンズアレイがネガ型感光材料からなり、
    凹所が形成される部材がポジ型感光材料からなり、
    マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズと、マイクロレンズに対応する凹所とがアライメントされていることを特徴とする光モジュール。
  8. 凹所が形成される部材は、
    凹所に臨む部分のコーナが、曲率を有することを特徴とする請求項7記載の光モジュール。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11076489B2 (en) 2018-04-10 2021-07-27 3D Glass Solutions, Inc. RF integrated power condition capacitor
US11101532B2 (en) 2017-04-28 2021-08-24 3D Glass Solutions, Inc. RF circulator
US11139582B2 (en) 2018-09-17 2021-10-05 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency compact slotted antenna with a ground plane
US11161773B2 (en) * 2016-04-08 2021-11-02 3D Glass Solutions, Inc. Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler
US11264167B2 (en) 2016-02-25 2022-03-01 3D Glass Solutions, Inc. 3D capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates
US11270843B2 (en) 2018-12-28 2022-03-08 3D Glass Solutions, Inc. Annular capacitor RF, microwave and MM wave systems
US11342896B2 (en) 2017-07-07 2022-05-24 3D Glass Solutions, Inc. 2D and 3D RF lumped element devices for RF system in a package photoactive glass substrates
US11367939B2 (en) 2017-12-15 2022-06-21 3D Glass Solutions, Inc. Coupled transmission line resonate RF filter
US11373908B2 (en) 2019-04-18 2022-06-28 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency die dicing and release
US11677373B2 (en) 2018-01-04 2023-06-13 3D Glass Solutions, Inc. Impedence matching conductive structure for high efficiency RF circuits
US11908617B2 (en) 2020-04-17 2024-02-20 3D Glass Solutions, Inc. Broadband induction
US11929199B2 (en) 2014-05-05 2024-03-12 3D Glass Solutions, Inc. 2D and 3D inductors fabricating photoactive substrates
US11962057B2 (en) 2019-04-05 2024-04-16 3D Glass Solutions, Inc. Glass based empty substrate integrated waveguide devices

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6775085B2 (ja) * 2016-11-08 2020-10-28 モレックス エルエルシー レンズ素子を有するマルチファイバフェルール

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11929199B2 (en) 2014-05-05 2024-03-12 3D Glass Solutions, Inc. 2D and 3D inductors fabricating photoactive substrates
US11264167B2 (en) 2016-02-25 2022-03-01 3D Glass Solutions, Inc. 3D capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates
US11161773B2 (en) * 2016-04-08 2021-11-02 3D Glass Solutions, Inc. Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler
US11101532B2 (en) 2017-04-28 2021-08-24 3D Glass Solutions, Inc. RF circulator
US11342896B2 (en) 2017-07-07 2022-05-24 3D Glass Solutions, Inc. 2D and 3D RF lumped element devices for RF system in a package photoactive glass substrates
US11367939B2 (en) 2017-12-15 2022-06-21 3D Glass Solutions, Inc. Coupled transmission line resonate RF filter
US11894594B2 (en) 2017-12-15 2024-02-06 3D Glass Solutions, Inc. Coupled transmission line resonate RF filter
US11677373B2 (en) 2018-01-04 2023-06-13 3D Glass Solutions, Inc. Impedence matching conductive structure for high efficiency RF circuits
US11076489B2 (en) 2018-04-10 2021-07-27 3D Glass Solutions, Inc. RF integrated power condition capacitor
US11139582B2 (en) 2018-09-17 2021-10-05 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency compact slotted antenna with a ground plane
US11270843B2 (en) 2018-12-28 2022-03-08 3D Glass Solutions, Inc. Annular capacitor RF, microwave and MM wave systems
US11962057B2 (en) 2019-04-05 2024-04-16 3D Glass Solutions, Inc. Glass based empty substrate integrated waveguide devices
US11373908B2 (en) 2019-04-18 2022-06-28 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency die dicing and release
US11908617B2 (en) 2020-04-17 2024-02-20 3D Glass Solutions, Inc. Broadband induction

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