JP2005213149A - Method for producing trifluoromethyl-substituted acetophenone - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、医薬および農薬の重要中間体であるトリフルオロメチル置換アセトフェノンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone which is an important intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals.
本発明で対象とするトリフルオロメチル置換アセトフェノンは医薬および農薬の重要中間体である。 The trifluoromethyl-substituted acetophenone targeted in the present invention is an important intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals.
トリフルオロメチル置換アセトフェノンの製造方法としては、（１）パラジウム触媒の存在下に酸素を用いて酸化する方法（非特許文献１）、（２）セシウムフルオロキシスルフェート（ＣｓＳＯ4Ｆ）を用いて酸化する方法（非特許文献２）、（３）三酸化クロムを用いて酸化する方法（非特許文献３）、（４）コバルト触媒とアルデヒドの存在下に酸素を用いて酸化する方法（非特許文献４）、（５）マンガン触媒とピバルアルデヒドの存在下に酸素を用いて酸化する方法（非特許文献５）、（６）基質を反応溶媒に溶解して次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて二層系で酸化する方法（特許文献１）および（７）大過剰の酢酸の存在下に次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて酸化する方法（非特許文献６）が報告されていた。また本発明に関連する技術として、（８）酢酸の存在下に、本発明の基質に類似する化合物を反応溶媒に溶解して低濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて酸化する方法（特許文献２）および（９）酢酸の存在下に脂肪族アルコール類を、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて酸化する方法（非特許文献７）が報告されていた。
本発明の目的は、医薬および農薬の重要中間体であるトリフルオロメチル置換アセトフェノンの工業的な製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an industrial process for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone, which is an important intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals.
非特許文献１から非特許文献５の方法では、高価な遷移金属や調整が煩雑な金属錯体を触媒に用いる必要があり、また触媒量の使用においても充分な触媒活性を得るためには比較的多くの触媒量を必要とした。さらに有害廃棄物の観点からも工業的な製造方法には遷移金属の使用を避けることが望まれていた。 In the methods of Non-Patent Document 1 to Non-Patent Document 5, it is necessary to use an expensive transition metal or a complex metal complex to adjust as a catalyst, and in order to obtain sufficient catalytic activity even in the use of a catalytic amount, A large amount of catalyst was required. Furthermore, from the viewpoint of hazardous waste, it has been desired to avoid the use of transition metals in industrial production methods.
次亜塩素酸ナトリウムを用いる酸化は非常に安価な方法で、有害廃棄物の観点からも工業的な製造方法として好適な手法である。しかしながら次亜塩素酸ナトリウムはその水溶液が簡便に調整でき工業的に安価に利用できるが、高濃度なものでも有効塩素濃度が１８％程度以下であり、比較的希釈された溶液として反応に供さなければならないという問題点があった。従って反応の生産性を上げるために反応容量を如何に圧縮できるかが、次亜塩素酸ナトリウムによる酸化の重要な課題としてあった。 Oxidation using sodium hypochlorite is a very inexpensive method, and is a suitable technique as an industrial production method from the viewpoint of hazardous waste. However, sodium hypochlorite can be easily adjusted in its aqueous solution and used industrially at low cost. However, even with a high concentration, sodium chloride has an effective chlorine concentration of about 18% or less, and is used as a relatively diluted solution. There was a problem of having to. Therefore, how to reduce the reaction volume in order to increase the productivity of the reaction was an important issue in the oxidation with sodium hypochlorite.
特許文献１および特許文献２の方法では、多量の反応溶媒や低濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用しており、その生産性は低いものであった。 In the methods of Patent Document 1 and Patent Document 2, a large amount of a reaction solvent and a low-concentration sodium hypochlorite aqueous solution are used, and the productivity is low.
また非特許文献６においては、本発明で対象とする基質である１−（４’−トリフルオロメチルフェニル）エタノールを、大過剰の酢酸の存在下に、ごく限られた量の次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて酸化する例が報告されていたが、研究の目的からさらに第三成分を含む反応系でもあり、本発明の目的とする工業的な製造方法とは非常にかけ離れた反応系であった。 In Non-Patent Document 6, 1- (4′-trifluoromethylphenyl) ethanol, which is a substrate targeted in the present invention, is used in the presence of a large excess of acetic acid in a very limited amount of hypochlorous acid. Although an example of oxidation using an aqueous sodium solution has been reported, it is also a reaction system further containing a third component for the purpose of research, and is a reaction system that is very far from the industrial production method of the present invention. there were.
非特許文献７の方法では、本発明で対象とする反応条件を用いて脂肪族アルコール類を酸化する例が開示されていたが、本発明で対象とする基質である１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールを酸化する例は全く開示されていなかった。１−フェニルエタノール類を酢酸の存在下に次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いて酸化する場合には、芳香環が塩素化された不純物を副生するという重大な問題点があった（非特許文献６）。この問題点を回避するために、基質を反応溶媒で希釈したり、二層系で反応を行ったり、または低純度次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用して該不純物の副生を制御していた。次亜塩素酸ナトリウムによる酸化の生産性を上げるためには、酢酸および水以外には反応溶媒を一切使用せず、高濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用し、さらに酢酸の使用量も可能な限り削減することが直接的な手法である。しかしながらこの様な厳しい反応条件を採用した場合には、上述した様な不純物の副生を伴う可能性が極めて高く、本発明で対象とする基質である１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールが高い生産性を維持したままで不純物の副生を伴わずに良好に酸化できるか否かについては全く不明であった。 In the method of Non-Patent Document 7, an example in which aliphatic alcohols are oxidized using the reaction conditions targeted by the present invention has been disclosed, but 1-trifluoromethyl-substituted phenyl which is a substrate targeted by the present invention is disclosed. No example of oxidizing ethanol was disclosed. When 1-phenylethanols are oxidized using an aqueous solution of sodium hypochlorite in the presence of acetic acid, there is a serious problem that an aromatic ring is chlorinated as a by-product (non-patent document). 6). In order to avoid this problem, the substrate was diluted with a reaction solvent, reacted in a two-layer system, or low-purity sodium hypochlorite aqueous solution was used to control the by-product of the impurity. . In order to increase the productivity of oxidation with sodium hypochlorite, no reaction solvent is used other than acetic acid and water, a high concentration sodium hypochlorite aqueous solution is used, and the amount of acetic acid can be used. It is a direct method to reduce as much as possible. However, when such harsh reaction conditions are adopted, there is a high possibility that the by-product of impurities as described above is involved, and the production of 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol, which is the substrate targeted in the present invention, is high. It was completely unclear whether or not it could be oxidized satisfactorily without the generation of impurities while maintaining the properties.
このようにトリフルオロメチル置換アセトフェノンを安価に且つ高い生産性で純度良く工業的に製造できる方法が強く望まれていた。 Thus, a method that can industrially produce trifluoromethyl-substituted acetophenone inexpensively with high productivity and high purity has been strongly desired.
本発明者らは鋭意検討を行った結果、１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールを、１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールに対して２０当量以下の酢酸の存在下に、有効塩素濃度が１０％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で酸化することにより、トリフルオロメチル置換アセトフェノンを効率よく製造できることを見出した。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol has an effective chlorine concentration of 10% or more in the presence of 20 equivalents or less of acetic acid with respect to 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol. It was found that the trifluoromethyl-substituted acetophenone can be efficiently produced by oxidizing with an aqueous sodium hypochlorite solution.
本発明の製造方法では、酢酸および水以外には反応溶媒を一切使用する必要がなく、通常容易に入手できるもののうち特に高い濃度の次亜塩素酸ナトリウム水溶液が使用でき、さらに酢酸の使用量も２０当量以下に削減できることから、次亜塩素酸ナトリウムによる酸化の高い生産性を達成している。またこの様な厳しい反応条件を採用しても、芳香環が塩素化された様な不純物の副生を伴わずに良好に酸化できることを明らかにした。さらに本反応系では、反応終了液を静定することにより二層分離し、下層を分液回収するだけで高い純度のトリフルオロメチル置換アセトフェノンを得ることができる。酢酸および水以外には反応溶媒や抽出溶媒を一切使用しないことから、溶媒の濃縮等の煩雑な後処理操作を全く必要としない。 In the production method of the present invention, it is not necessary to use any reaction solvent other than acetic acid and water, and a particularly high concentration sodium hypochlorite aqueous solution can be used among those that are usually readily available. Since it can be reduced to 20 equivalents or less, high productivity of oxidation by sodium hypochlorite is achieved. It was also clarified that even if such severe reaction conditions were adopted, the aromatic ring could be oxidized well without the by-product of impurities such as chlorination. Furthermore, in this reaction system, a trifluoromethyl-substituted acetophenone having a high purity can be obtained only by separating the two layers by stabilizing the reaction-terminated liquid and recovering the lower layer by liquid separation. Since no reaction solvent or extraction solvent is used other than acetic acid and water, no complicated post-treatment operations such as solvent concentration are required.
本発明者らは、上記のようにトリフルオロメチル置換アセトフェノンを製造するための新規な方法を見出し、本発明を完成した。 The present inventors have found a novel method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone as described above, and completed the present invention.
本発明の製造方法は、生産性および操作性が著しく改善されており、より安価に製造できる方法である。また反応の選択性が非常に高く、分離の難しい不純物を殆ど副生しないことから、高い純度で工業的に製造するための極めて有効な方法でもある。 The production method of the present invention is a method that is remarkably improved in productivity and operability and can be produced at a lower cost. Further, since the selectivity of the reaction is very high and impurities that are difficult to separate are hardly produced as by-products, it is also an extremely effective method for industrial production with high purity.
すなわち、本発明は、一般式［１］ That is, the present invention relates to the general formula [1]
［式中、トリフルオロメチル基は任意の置換位置を採る］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールを、１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールに対して２０当量以下の酢酸の存在下に、有効塩素濃度が１０％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で酸化することにより、一般式［２］ [Wherein, the trifluoromethyl group takes an arbitrary substitution position] is substituted with 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol in the presence of 20 equivalents or less of acetic acid with respect to 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol. By oxidation with an aqueous sodium hypochlorite solution having an effective chlorine concentration of 10% or more, the general formula [2]
［式中、トリフルオロメチル基は任意の置換位置を採る］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを製造する方法を提供する。 [Wherein the trifluoromethyl group adopts an arbitrary substitution position] is provided to provide a method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone.
また、本発明は、式［３］ Further, the present invention provides the formula [3]
で示される１−（３’−トリフルオロメチルフェニル）エタノールを、１−（３’−トリフルオロメチルフェニル）エタノールに対して２０当量以下の酢酸の存在下に、有効塩素濃度が１０％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で酸化することにより、式［４］ In the presence of 20 equivalents or less of acetic acid, 1- (3′-trifluoromethylphenyl) ethanol represented by the formula (1) has an effective chlorine concentration of 10% or more. By oxidation with aqueous sodium hypochlorite solution, the formula [4]
で示される３’−トリフルオロメチルアセトフェノンを製造する方法を提供する。 The method of manufacturing 3'-trifluoromethyl acetophenone shown by this is provided.
また、本発明は、式［５］ Further, the present invention provides the formula [5]
で示される１−（４’−トリフルオロメチルフェニル）エタノールを、１−（４’−トリフルオロメチルフェニル）エタノールに対して２０当量以下の酢酸の存在下に、有効塩素濃度が１０％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で酸化することにより、式［６］ In the presence of 20 equivalents or less of acetic acid, 1- (4′-trifluoromethylphenyl) ethanol represented by the formula (1) has an effective chlorine concentration of 10% or more. By oxidation with aqueous sodium hypochlorite solution, the formula [6]
で示される４’−トリフルオロメチルアセトフェノンを製造する方法を提供する。 The method of manufacturing 4'-trifluoromethyl acetophenone shown by this is provided.
また、本発明は、酢酸および水以外には反応溶媒を使用しないことを特徴とする、上記の何れかに記載の、トリフルオロメチル置換アセトフェノンの製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone according to any one of the above, wherein no reaction solvent is used other than acetic acid and water.
また、本発明は、反応終了液を静定することにより二層分離し、下層のトリフルオロメチル置換アセトフェノンを分液回収することを特徴とする、上記の、トリフルオロメチル置換アセトフェノンの製造方法を提供する。 Further, the present invention provides the above-described method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone, characterized in that the reaction-terminated liquid is settled into two layers to separate and recover the lower layer trifluoromethyl-substituted acetophenone. provide.
本発明のトリフルオロメチル置換アセトフェノンの製造方法について詳細に説明する。本発明の製造方法は、一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールを、１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールに対して２０当量以下の酢酸の存在下に、有効塩素濃度が１０％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で酸化することによりなる。 The production method of the trifluoromethyl-substituted acetophenone of the present invention will be described in detail. In the production method of the present invention, the effective chlorine concentration of 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1] is reduced in the presence of 20 equivalents or less of acetic acid with respect to 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol. By oxidizing with 10% or more of aqueous sodium hypochlorite solution.
本発明の反応は、酢酸および、次亜塩素酸ナトリウム水溶液の水以外には反応溶媒を使用しなくとも、酸化が良好に進行することを特徴とする。そこで本反応を実施するにあたっては、特別に反応溶媒を使用しないで行うことが好ましい。 The reaction of the present invention is characterized in that the oxidation proceeds satisfactorily without using a reaction solvent other than acetic acid and water of an aqueous sodium hypochlorite solution. Therefore, it is preferable to carry out this reaction without using a reaction solvent.
一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールのトリフルオロメチル基の置換位置としては、オルト位、メタ位、パラ位が挙げられる。その中でも特にメタ位およびパラ位の基質が良好に反応するためより好ましい。 Examples of the substitution position of the trifluoromethyl group of 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1] include an ortho position, a meta position, and a para position. Of these, the meta and para substrates are particularly preferred because they react well.
一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールは全ての置換位置の化合物が既知であり、特に対応するトリフルオロメチル置換ベンズアルデヒドとメチルグリニャール試薬を反応させることにより簡便に製造することができる。 The 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1] is known in all substitution positions, and can be easily produced by reacting the corresponding trifluoromethyl-substituted benzaldehyde with a methyl Grignard reagent. Can do.
次亜塩素酸ナトリウム水溶液の有効塩素濃度としては、１０％以上を使用すればよく、１０〜１５％の任意に濃度が調整された次亜塩素酸ナトリウム水溶液が市販されており、これらを利用することが簡便である。さらに高い生産性を得るには、１２％以上の次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用することがより好適である。また有効塩素濃度が１５％を超えるものの使用については、その経時安定性の無さおよび工業的な入手の困難さから必ずしも好適ではない。 The effective chlorine concentration of the aqueous sodium hypochlorite solution may be 10% or more, and an aqueous sodium hypochlorite solution whose concentration is arbitrarily adjusted to 10 to 15% is commercially available. Is convenient. In order to obtain higher productivity, it is more preferable to use a 12% or more aqueous solution of sodium hypochlorite. The use of those having an effective chlorine concentration exceeding 15% is not necessarily suitable because of its lack of stability over time and difficulty in industrial availability.
ここでいう有効塩素濃度（％）とは、有効塩素量（ｇ）を溶液の容量（ｍｌ）で割り、１００を乗じた値である。ここで有効塩素量（ｇ）は、次亜塩素酸ナトリウム水溶液中に存在する酸化性の塩素の量をＣｌ2に換算したもので、ＣｌＯ-、ＨＣｌＯ、Ｃｌ2等のモル数を合計した値（ｍｏｌ）に、塩素（Ｃｌ2）の分子量（７０．９）を乗じて得ることができる（ソーダハンドブック、日本ソーダ工業会、１９９８年、ｐｐ．３６０〜３７０）。有効塩素濃度（％）は、市販の次亜塩素酸ナトリウム水溶液に表示されている。 The effective chlorine concentration (%) here is a value obtained by dividing the effective chlorine amount (g) by the volume (ml) of the solution and multiplying by 100. Here, the effective chlorine amount (g) is a value obtained by converting the amount of oxidizing chlorine present in the aqueous sodium hypochlorite solution into Cl 2 , and the total number of moles of ClO − , HClO, Cl 2, etc. It can be obtained by multiplying (mol) by the molecular weight (70.9) of chlorine (Cl 2 ) (Soda Handbook, Japan Soda Industry Association, 1998, pp. 360-370). The effective chlorine concentration (%) is indicated in a commercially available sodium hypochlorite aqueous solution.
次亜塩素酸ナトリウム水溶液の使用量としては、特に制限はないが、通常は一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノール１モルに対して、概ね当量から小過剰量を使用すると、高い反応変換率が達成でき、また経済的である。具体的には、一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノール１モルに対して、有効塩素量に換算して０．９モル以上を使用すればよく、１．０〜３．０モルが好ましく、特に１．１〜２．０モルがより好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular as the usage-amount of sodium hypochlorite aqueous solution, Usually, it is used from about equivalent to a small excess with respect to 1 mol of 1-trifluoromethyl substituted phenylethanol shown by General formula [1]. Then, a high reaction conversion rate can be achieved and it is economical. Specifically, 0.9 mol or more in terms of the amount of effective chlorine may be used with respect to 1 mol of 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1]. 0.0 mol is preferable, and 1.1 to 2.0 mol is more preferable.
酢酸の使用量としては、一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノール１モルに対して２０モル以下を使用すればよく、１〜１７モルが好ましく、特に３〜１５モルがより好ましい。 The amount of acetic acid used may be 20 mol or less per 1 mol of 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1], preferably 1-17 mol, particularly 3-15 mol. More preferred.
一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノール、酢酸および次亜塩素酸ナトリウム水溶液の反応のさせ方としては、特に制限はないが、通常は一般式［１］で示される１−トリフルオロメチル置換フェニルエタノールと酢酸の反応混合液に、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を徐々に滴下して反応を行うことが、反応を制御しやすいため、好適である。 The method of reacting 1-trifluoromethyl-substituted phenylethanol represented by the general formula [1], acetic acid and sodium hypochlorite aqueous solution is not particularly limited, but is usually 1 represented by the general formula [1]. -It is preferable to carry out the reaction by gradually dropping a sodium hypochlorite aqueous solution into a reaction mixture of trifluoromethyl-substituted phenylethanol and acetic acid because the reaction can be easily controlled.
反応温度条件としては、通常は-１０〜+６０℃であり、-５〜+５０℃が好ましく、特に０〜+４０℃が、反応の制御が特に容易で、操作も簡便であるため、より好ましい。 The reaction temperature condition is usually −10 to + 60 ° C., preferably −5 to + 50 ° C., particularly 0 to + 40 ° C., because the reaction is particularly easy to control and easy to operate. preferable.
反応時間としては、特に制限はないが、通常は０．１〜２４時間である。但し反応基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular as reaction time, Usually, it is 0.1 to 24 hours. However, since it varies depending on the reaction substrate and reaction conditions, it is preferable to follow the progress of the reaction by analysis means such as gas chromatography, liquid chromatography, thin layer chromatography, NMR, etc. .
後処理としては、特に制限はないが、反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、目的とする一般式［２］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンの粗生成物を得ることができる。反応終了液に過剰に使用した次亜塩素酸ナトリウムが残存する場合には、亜硫酸ナトリウム等の還元剤の水溶液で還元した後で後処理操作を行うことが好適である。特に本発明の製造方法では、反応終了液を静定することにより二層分離し、下層の目的生成物を分液回収するだけで、一般式［２］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを高い純度で得ることができるので、この方法を採用することが好ましい。粗生成物は必要に応じて、活性炭処理、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製操作を行うことにより、さらに高い純度のものを得ることができる。 Although there is no restriction | limiting in particular as post-processing, The target crude product of the trifluoromethyl substituted acetophenone shown by General formula [2] can be obtained by performing normal post-processing operation after completion | finish of reaction. . When excessive sodium hypochlorite used in the reaction completion liquid remains, it is preferable to perform a post-treatment operation after reduction with an aqueous solution of a reducing agent such as sodium sulfite. In particular, in the production method of the present invention, the trifluoromethyl-substituted acetophenone represented by the general formula [2] is increased simply by separating the two-layered solution by stabilizing the reaction-terminated liquid and recovering the target product in the lower layer. It is preferable to employ this method because it can be obtained with purity. The crude product can be obtained with higher purity by performing purification operations such as activated carbon treatment, recrystallization, distillation, column chromatography and the like, if necessary.
以下、実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１］ 下記式
Hereinafter, the embodiments of the present invention will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[Example 1] The following formula
で示される１−（３’−トリフルオロメチルフェニル）エタノール １９０ｇ（１．０ｍｏｌ，１．０ｅｑ．）に、酢酸 ５２５ｇ（８．７ｍｏｌ，８．７ｅｑ．）を加え、内温を５〜２５℃に制御しながら、有効塩素濃度１３％次亜塩素酸ナトリウム水溶液 ７１０ｍｌ（１．８３Ｍ，１．３ｍｏｌ，１．３ｅｑ．）を３時間かけて滴下し、室温で１２時間攪拌した。反応の変換率は１００％であった。反応終了液を静定し、下層の、下記式 To 190 g (1.0 mol, 1.0 eq.) Of 1- (3′-trifluoromethylphenyl) ethanol represented by the formula, 525 g (8.7 mol, 8.7 eq.) Of acetic acid is added, and the internal temperature is adjusted to 5 to 25 ° C. 710 ml (1.83 M, 1.3 mol, 1.3 eq.) Of 13% effective chlorine concentration aqueous sodium hypochlorite solution was added dropwise over 3 hours, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. The conversion rate of the reaction was 100%. Stabilize the reaction-terminated liquid and use the following formula
で示される３’−トリフルオロメチルアセトフェノンの粗生成物を分液回収した。該回収品を蒸留精製（７２℃／１０７０Ｐａ）することにより、上記式で示される３’−トリフルオロメチルアセトフェノンの高純度品 １７３ｇを得た。収率は９２％であった。ガスクロマトグラフィーの純度は９９％以上であった。生成物の機器データを下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（基準物質；ＴＭＳ，溶媒；ＣＤＣｌ3，δ ｐｐｍ）／２．６６（ｓ，３Ｈ），７．６２（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），７．８３（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），８．１５（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），８．２１（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），
19Ｆ−ＮＭＲ（基準物質；Ｃ6Ｆ6，溶媒；ＣＤＣｌ3，δ ｐｐｍ）／９８．９３（ｓ，３Ｆ）．
［実施例２］ 下記式
A crude product of 3′-trifluoromethylacetophenone represented by the following was separated and recovered. The recovered product was purified by distillation (72 ° C./1070 Pa) to obtain 173 g of a high-purity product of 3′-trifluoromethylacetophenone represented by the above formula. The yield was 92%. The purity of gas chromatography was 99% or more. Product data for the product is shown below.
1 H-NMR (reference material; TMS, solvent; CDCl 3 , δ ppm) /2.66 (s, 3H), 7.62 (Ar—H, 1H), 7.83 (Ar—H, 1H), 8.15 (Ar-H, 1H), 8.21 (Ar-H, 1H),
19 F-NMR (reference material; C 6 F 6 , solvent; CDCl 3 , δ ppm) /98.93 (s, 3F).
[Example 2] The following formula
で示される１−（４’−トリフルオロメチルフェニル）エタノール １９０ｇ（１．０ｍｏｌ，１．０ｅｑ．）に、酢酸 ５２５ｇ（８．７ｍｏｌ，８．７ｅｑ．）を加え、内温を５〜２５℃に制御しながら、有効塩素濃度１３％次亜塩素酸ナトリウム水溶液 ７１０ｍｌ（１．８３Ｍ，１．３ｍｏｌ，１．３ｅｑ．）を３時間かけて滴下し、室温で１２時間攪拌した。反応の変換率は１００％であった。反応終了液を静定し、下層の、下記式 To 190 g (1.0 mol, 1.0 eq.) Of 1- (4′-trifluoromethylphenyl) ethanol represented by the following formula, 525 g (8.7 mol, 8.7 eq.) Of acetic acid was added, and the internal temperature was adjusted to 5 to 25 ° C. 710 ml (1.83 M, 1.3 mol, 1.3 eq.) Of 13% effective chlorine concentration aqueous sodium hypochlorite solution was added dropwise over 3 hours, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. The conversion rate of the reaction was 100%. Stabilize the reaction-terminated liquid and use the following formula
で示される４’−トリフルオロメチルアセトフェノンの粗生成物を分液回収した。該回収品を蒸留精製（８２℃／１６００Ｐａ）することにより、上記式で示される４’−トリフルオロメチルアセトフェノンの高純度品 １６９ｇを得た。収率は９０％であった。ガスクロマトグラフィーの純度は９９％以上であった。生成物の機器データを下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（基準物質；ＴＭＳ，溶媒；ＣＤＣｌ3，δ ｐｐｍ）／２．６５（ｓ，３Ｈ），７．７４（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ），８．０７（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ），
19Ｆ−ＮＭＲ（基準物質；Ｃ6Ｆ6，溶媒；ＣＤＣｌ3，δ ｐｐｍ）／９８．６４（ｓ，３Ｆ）．
The crude product of 4′-trifluoromethylacetophenone represented by The recovered product was purified by distillation (82 ° C./1600 Pa) to obtain 169 g of a 4′-trifluoromethylacetophenone high-purity product represented by the above formula. The yield was 90%. The purity of gas chromatography was 99% or more. Product data for the product is shown below.
1 H-NMR (reference material; TMS, solvent; CDCl 3 , δ ppm) /2.65 (s, 3H), 7.74 (Ar—H, 2H), 8.07 (Ar—H, 2H),
19 F-NMR (reference material; C 6 F 6 , solvent; CDCl 3 , δ ppm) /98.64 (s, 3F).
Claims (5)
The method for producing a trifluoromethyl-substituted acetophenone according to claim 4, wherein the reaction-terminated liquid is settled into two layers to separate and recover the lower layer trifluoromethyl-substituted acetophenone.
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-
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- 2004-01-27 JP JP2004018316A patent/JP2005213149A/en active Pending
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