JP2005212013A - レーザ照射方法及び装置、微細加工方法及び装置、並びに薄膜形成方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び固体表面の材質に応じて、固体表面に照射されることで固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る照射フルーエンスの値を、低フルーエンス領域内で設定する。そして、固体表面に対して、このように設定された照射フルーエンスの値でフェムト秒レーザを照射する。
【選択図】 図1
Description
図1から図17を参照して、レーザ照射装置の実施形態について説明する。
但し、
α―1:光侵入長(cm)、
F:照射フルーエンス(J/cm2)
従って、この式(1)から、上述した三つのアブレーション閾値フルーエンスFth(F3,th、F2,th、F1,th)は夫々、L=0なる照射フルーエンスFから評価されることになる。
但し、a:入射されるレーザビームの径
従って、この場合には、この式(2)から、上述した三つのアブレーション閾値フルーエンスFth(F3,th、F2,th、F1,th)は夫々、Γ=0なる照射フルーエンスFから評価されることになる。
×{(Eth/τpζm)((1−m)/m)−(F/τp)1−m} …(3)
但し、
m≧2
τp(s):レーザーパルスの幅、
ETH(J/cm3):融解熱で単位体積の固体を融解させるのに必要なエネルギ
そして、Lm=0となる条件が、アブレーション閾値フルーエンスFthで、次式(4)で表される。
以上式(3)及び(4)から分かるように、アブレーション閾値フルーエンスF3,thは、パルス幅に依存しており、図6の特性曲線L3(ξ3)で示された3光子吸収過程によるものとして説明される。
但し、
λ:レーザの波長
θ:レーザの入射角度
そして、本例では、λ=800nmであり、且つθ=0であるので、d=λ=800nmとなる。
本発明の微細加工装置の実施形態について説明する。
図18を参照して本発明の薄膜形成装置の実施形態について説明する。ここに、図18は、薄膜形成装置の概略構成を示す。尚、図18において、図1と同様の構成要素には同様の参照符号を付し、それらの説明は適宜省略する。
2…レーザ照射・分析装置
3…薄膜形成装置
10…制御装置
11…レーザ光源装置
12…集光レンズ
13…ターゲット
14…真空容器
16…検出装置
Claims (16)
- 固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び前記固体表面の材質に応じて、前記固体表面に照射されることで前記固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る照射フルーエンスの値を、前記低フルーエンス領域内で設定する設定工程と、
前記固体表面に対して前記設定された照射フルーエンスの値で前記フェムト秒レーザを照射する照射工程と
を備えたことを特徴とするレーザ照射方法。 - 前記設定工程は、前記低フルーエンス領域内として、前記材質に依存する複数のアブレーション閾値フルーエンスのうち1番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスと2番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスとの間の領域内で、前記照射フルーエンスの値を設定することを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射方法。
- 前記設定工程は、前記複数のアブレーション閾値フルーエンスとして少なくとも3つ存在するアブレーション閾値フルーエンスのうち、前記1番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスF3,thと前記2番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスF2,thとの間の領域内で、前記照射フルーエンスの値を設定することを特徴とする請求項2に記載のレーザ照射方法。
- 前記設定工程は、前記1番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスと前記2番目に小さいアブレーション閾値フルーエンスとの間の領域内で、前記材質に応じてレーザ多光子吸収過程に基づいて予め設定される照射フルーエンスの値に対するアブレーション率の特性曲線に従って、前記照射フルーエンスの値を設定することを特徴とする請求項2又は3に記載のレーザ照射方法。
- 前記設定工程は、前記レーザ多光子吸収過程として3光子吸収過程に基づいて予め設定される前記特性曲線に従って、前記照射フルーエンスの値を設定することを特徴とする請求項4に記載のレーザ照射方法。
- 前記設定工程は、前記剥離深さ及び前記材質に応じて、前記フェムト秒レーザの光強度の値を設定することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のレーザ照射方法。
- 固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び前記固体表面の材質に応じて、前記固体表面に照射されることで前記固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る光強度の値を、前記フェムト秒レーザに係る照射フルーエンスが前記低フルーエンス領域内から外れない範囲内で設定する設定工程と、
前記固体表面に対して前記設定された光強度の値で前記フェムト秒レーザを照射する照射工程と
を備えたことを特徴とするレーザ照射方法。 - 前記設定工程は、前記剥離深さに加えて又は代えて前記固体表面から剥離すべき所望の剥離面積と前記材質とに応じて、前記照射フルーエンスの値及び前記光強度の値のうち少なくとも一方を設定することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載のレーザ照射方法。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載のレーザ照射方法を含み、前記照射工程によって前記固体表面を微細加工することを特徴とする微細加工方法。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載のレーザ照射方法と、
前記照射工程によって前記固体表面から放出された分子イオンを用いて被成膜体に対して成膜を行う成膜工程と
を備えたことを特徴とする薄膜形成方法。 - 固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び前記固体表面の材質に応じて、前記固体表面に照射されることで前記固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る照射フルーエンスの値を、前記低フルーエンス領域内で設定する設定手段と、
前記固体表面に対して前記設定された照射フルーエンスの値で前記フェムト秒レーザを照射する照射手段と
を備えたことを特徴とするレーザ照射装置。 - 固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び前記固体表面の材質に応じて、前記固体表面に照射されることで前記固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る光強度の値を、前記フェムト秒レーザに係る照射フルーエンスが前記低フルーエンス領域内から外れない範囲内で設定する設定手段と、
前記固体表面に対して前記設定された光強度の値で前記フェムト秒レーザを照射する照射手段と
を備えたことを特徴とするレーザ照射装置。 - 前記照射手段は、前記レーザとして、一つのレーザパルスを他のレーザパルスから時間的に独立した形で照射可能に構成されていることを特徴とする請求項11又は12に記載のレーザ照射装置。
- 請求項11から13のいずれか一項に記載のレーザ照射装置を含み、前記照射手段によって前記固体表面を微細加工することを特徴とする微細加工装置。
- 請求項11から13のいずれか一項に記載のレーザ照射装置と、
前記照射手段によって前記固体表面から放出された分子イオンを用いて被成膜体に対して成膜を行なう成膜手段と
を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。 - 請求項1から8のいずれか一項に記載のレーザ照射方法により微細加工が施された構造を有することを特徴とする加工物。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006093017A1 (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | レーザーアブレーションによる材料の加工方法とその加工方法により加工された材料 |
JP2010105028A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | シアノ架橋金属錯体の微細加工方法およびシアノ架橋金属錯体の微細加工装置 |
JP2011245492A (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 金属表面加工方法及び金属表面加工装置 |
WO2016031727A1 (ja) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 有機材料膜又は有機無機複合材料膜のレーザー蒸着方法、レーザー蒸着装置 |
WO2018021392A1 (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 古河電気工業株式会社 | レーザ処理方法、接合方法、銅部材、多層プリント配線基板の製造方法、及び多層プリント配線基板 |
JP2019136556A (ja) * | 2013-05-30 | 2019-08-22 | パルス アイピー エルエルシー | 生体適合性を有しインプラント可能な電極を作製する方法 |
KR20200102279A (ko) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 주식회사 아스타 | 레이저 비젼 동축 ldi 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002205179A (ja) * | 1994-04-08 | 2002-07-23 | Regents Of The Univ Of Michigan | レーザー誘起破壊及び切断形状を制御する方法 |
JP2003230978A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の加工方法 |
-
2004
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002205179A (ja) * | 1994-04-08 | 2002-07-23 | Regents Of The Univ Of Michigan | レーザー誘起破壊及び切断形状を制御する方法 |
JP2003230978A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の加工方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006093017A1 (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | レーザーアブレーションによる材料の加工方法とその加工方法により加工された材料 |
JP2010105028A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | シアノ架橋金属錯体の微細加工方法およびシアノ架橋金属錯体の微細加工装置 |
JP2011245492A (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 金属表面加工方法及び金属表面加工装置 |
JP2019136556A (ja) * | 2013-05-30 | 2019-08-22 | パルス アイピー エルエルシー | 生体適合性を有しインプラント可能な電極を作製する方法 |
US10329659B2 (en) | 2014-08-29 | 2019-06-25 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method for laser deposition of organic material film or organic-inorganic composite material film, and laser deposition apparatus |
CN107109628A (zh) * | 2014-08-29 | 2017-08-29 | 国立研究开发法人产业技术综合研究所 | 有机材料膜或有机无机复合材料膜的激光蒸镀方法、激光蒸镀装置 |
JPWO2016031727A1 (ja) * | 2014-08-29 | 2017-06-15 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 有機材料膜又は有機無機複合材料膜のレーザー蒸着方法、レーザー蒸着装置 |
WO2016031727A1 (ja) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 有機材料膜又は有機無機複合材料膜のレーザー蒸着方法、レーザー蒸着装置 |
WO2018021392A1 (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 古河電気工業株式会社 | レーザ処理方法、接合方法、銅部材、多層プリント配線基板の製造方法、及び多層プリント配線基板 |
CN109496172A (zh) * | 2016-07-27 | 2019-03-19 | 古河电气工业株式会社 | 激光处理方法、接合方法、铜部件、多层印刷布线基板的制造方法及多层印刷布线基板 |
JPWO2018021392A1 (ja) * | 2016-07-27 | 2019-05-23 | 古河電気工業株式会社 | レーザ処理方法、接合方法、銅部材、多層プリント配線基板の製造方法、及び多層プリント配線基板 |
EP3492211A4 (en) * | 2016-07-27 | 2020-09-02 | Furukawa Electric Co. Ltd. | LASER TREATMENT METHOD, CONNECTION METHOD, COPPER ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING A MULTI-LAYER PRINT WIRING SUBSTRATE AND MULTI-LAYER PRINT WIRING SUBSTRATE |
KR20200102279A (ko) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 주식회사 아스타 | 레이저 비젼 동축 ldi 장치 |
KR102199581B1 (ko) | 2019-02-21 | 2021-01-07 | 주식회사 아스타 | 레이저 비젼 동축 ldi 장치 |
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