JP2005206603A - Preparation of candesartan cilexetil - Google Patents

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Marina Yu Etinger
ユー エティンジャー マリナ
Boris Fedotev
フェドテフ ボリス
Ben-Zion Dolitzky
ドリツキー ベン−ジオン
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preparation of candesartan cilexetil. <P>SOLUTION: A process for the synthesis of cilexetil trityl candesartan from a reaction of trityl candesartan with cilexetil halide in the presence of a base and a low boiling organic solvent, optionally, the reaction may be conducted in the presence of a phase transfer catalyst. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

関連出願
本出願は、米国特許仮出願第60/512,566号(2003年10月16日出願);60/523,524号(2003年11月18日出願);60/537,995号(2004年1月21日出願);60/568,649号(2004年5月5日出願)の利益を主張する。
Related Applications This application is filed with US Provisional Patent Application No. 60 / 512,566 (filed on Oct. 16, 2003); 60 / 523,524 (filed on Nov. 18, 2003); 60 / 537,995 (January 21, 2004) Claims the benefit of 60 / 568,649 (filed on May 5, 2004).

発明の分野
本発明は、カンデサルタントリチルシレキセチル(candesartan trityl cilexetil)の調製を包含する。本発明はまた、少なくとも1つの有機溶媒および/または少なくとも1つの有機酸を使用してシレキセチルトリチルカンデサルタン(TCC)を脱保護することよる、カンデサルタンシレキセチルの調製を包含する。本発明は、カンデサルタンシレキセチルを結晶化し再結晶化することを包含する。
The present invention encompasses the preparation of candesartan trityl cilexetil. The present invention also includes the preparation of candesartan cilexetil by deprotecting cilexetil trityl candesartan (TCC) using at least one organic solvent and / or at least one organic acid. The present invention includes crystallizing and recrystallizing candesartan cilexetil.

発明の背景
カンデサルタンは、強力な持続性選択性のAT1サブタイプアンギオテンシンII受容体アンタゴニストである。カンデサルタンは高力価の要件を満足するが、経口投与した時体内に吸収されにくい。この吸収の悪さを克服するために、プロドラッグであるカンデサルタンシレキセチルが開発された。消化管での吸収中に、カンデサルタンシレキセチルは迅速かつ完全に加水分解されてカンデサルタンになる。カンデサルタンの化学名は、2-エトキシ-1-[[2'-(1H-テトラゾール-5-イル)ビフェニル-4-イル]メチル]-1H-ベンズイミダゾール-7-カルボン酸である。カンデサルタンシレキセチルの化学名は、(±)-1-[[(シクロヘキシルオキシ)カルボニル]オキシ]エチル-2-エトキシ-1-[[2'-(1H-テトラゾール-5-イル)1,1'-ビフェニル-4-イル]メチル]-1H-ベンズイミダゾール-7-カルボキシレートである。カンデサルタンシレキセチルは、白色〜オフホワイトの粉末であり、水とメタノールにわずかしか溶けない。カンデサルタンシレキセチルは分子のエステル部分に不斉中心を有するが、カンデサルタンシレキセチルはラセミ混合物として販売されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Candesartan is a potent long-acting selective AT 1 subtype angiotensin II receptor antagonist. Candesartan satisfies the high titer requirements, but is difficult to be absorbed into the body when administered orally. To overcome this poor absorption, a prodrug, candesartan cilexetil, was developed. During absorption in the gastrointestinal tract, candesartan cilexetil is rapidly and completely hydrolyzed to candesartan. The chemical name for candesartan is 2-ethoxy-1-[[2 ′-(1H-tetrazol-5-yl) biphenyl-4-yl] methyl] -1H-benzimidazole-7-carboxylic acid. The chemical name of candesartan cilexetil is (±) -1-[[(cyclohexyloxy) carbonyl] oxy] ethyl-2-ethoxy-1-[[2 '-(1H-tetrazol-5-yl) 1,1 '-Biphenyl-4-yl] methyl] -1H-benzimidazole-7-carboxylate. Candesartan cilexetil is a white to off-white powder that is only slightly soluble in water and methanol. Candesartan cilexetil has an asymmetric center in the ester portion of the molecule, but candesartan cilexetil is sold as a racemic mixture.

Figure 2005206603
Figure 2005206603

アンギオテンシンIIは、アンギオテンシンIからアンギオテンシン変換酵素(ACE、キナーゼII)により触媒される反応で生成される。アンギオテンシンIIは、レニン−アンギオテンシン系で主要な昇圧剤であり、これは、血管収縮、アルドステロンの合成と放出の刺激、心臓刺激、およびナトリウムの腎再吸収を含む作用を有する。アンギオテンシンIIは、水分補給、ナトリウム摂取、および他の生理学的状態の変動にもかかわらず血圧を一定に維持することを助ける。アンギオテンシンIIはまた、腎臓によるナトリウム排泄の阻害のような調節作用をしており、ノルエフェドリン再取り込みを阻害しアルドステロン生合成を刺激する。カンデサルタンは、多くの組織(例えば血管平滑筋や副腎)においてアンギオテンシンIIのAT1受容体への結合を選択的に阻止することにより、血管収縮やアンギオテンシンIIのアルドステロン分泌作用を阻止する。AT1受容体へのアンギオテンシンIIの結合を阻害することによりカンデサルタンは、AT1受容体による血管収縮を妨害する。アンギオテンシンIIにより血管収縮を阻止することは、高血圧の患者に有用であることがわかっている。アメリカ合衆国食品医薬品局(United States Food and Drug Administration)は、高血圧の治療のためにカンデサルタンを単独でまたは他の抗高血圧剤と組合せて認可している。 Angiotensin II is produced by a reaction catalyzed by angiotensin I (ACE, kinase II) from angiotensin I. Angiotensin II is a major vasopressor in the renin-angiotensin system, which has effects including vasoconstriction, stimulation of aldosterone synthesis and release, cardiac stimulation, and renal reabsorption of sodium. Angiotensin II helps keep blood pressure constant despite hydration, sodium intake, and other physiological changes. Angiotensin II also acts as a regulator, such as inhibition of sodium excretion by the kidney, inhibiting norephedrine reuptake and stimulating aldosterone biosynthesis. Candesartan blocks vasoconstriction and angiotensin II aldosterone secretion by selectively blocking the binding of angiotensin II to the AT 1 receptor in many tissues (eg, vascular smooth muscle and adrenal glands). Candesartan By inhibiting angiotensin II binding to AT 1 receptors, interferes vasoconstriction by AT 1 receptors. Inhibiting vasoconstriction with angiotensin II has been found useful in hypertensive patients. The United States Food and Drug Administration has approved candesartan alone or in combination with other antihypertensive agents for the treatment of hypertension.

US Patent No. 5,196,444は実施例7を開示し、1-[[(シクロヘキシルオキシ)カルボニル]オキシ]エチル-2-エトキシ-1-[[2'-(1H-テトラゾール-5-イル)1,1'ビフェニル-4-イル]メチル]-1H-ベンズイミダゾール-7-カルボキシレートを、DMF中の2-エトキシ-1-[[2'-(N-トリフェニルメチルテトラゾール-5-イル)ビフェニル-4-イル]メチル]ベンズイミダゾール-7-カルボン酸をシクロヘキシル-1-ヨードエチルカーボネートと反応させてシレキセチルトリチルカンデサルタンを生成し、メタノール性塩酸で脱保護してカンデサルタンシレキセチルを生成した。
米国特許第5,196,444号
US Patent No. 5,196,444 discloses Example 7 and 1-[[(cyclohexyloxy) carbonyl] oxy] ethyl-2-ethoxy-1-[[2 '-(1H-tetrazol-5-yl) 1,1 'Biphenyl-4-yl] methyl] -1H-benzimidazole-7-carboxylate is converted to 2-ethoxy-1-[[2'-(N-triphenylmethyltetrazol-5-yl) biphenyl-4 in DMF -Ile] methyl] benzimidazole-7-carboxylic acid was reacted with cyclohexyl-1-iodoethyl carbonate to produce cilexetil trityl candesartan and deprotected with methanolic hydrochloric acid to produce candesartan cilexetil.
U.S. Patent No. 5,196,444

US Patent No. 5,578,733は、実質的に無水条件下で鉱酸を使用するシレキセチルトリチルカンデサルタンの脱保護を開示する。
米国特許第5,578,733号
US Patent No. 5,578,733 discloses deprotection of cilexetil trityl candesartan using a mineral acid under substantially anhydrous conditions.
U.S. Pat.No. 5,578,733

発明の要約
本発明の1つの実施態様は、シレキセチルトリチルカンデサルタンを調製する方法であって、トリチルカンデサルタン、ハロゲン化シレキセチル、および少なくとも1つの塩基を低沸点有機溶媒中で反応させてシレキセチルトリチルカンデサルタンを生成し;そして、シレキセチルトリチルカンデサルタンを単離することを含む方法を包含する。この方法はさらに、少なくとも1つの相間移動触媒を加えることを含む。
SUMMARY OF THE INVENTION One embodiment of the present invention is a method for preparing cilexetil trityl candesartan comprising reacting trityl candesartan, halogenated cilexetil, and at least one base in a low boiling organic solvent. A method comprising producing trityl candesartan; and isolating cilexetil trityl candesartan. The method further includes adding at least one phase transfer catalyst.

本発明の好適な実施態様において、シレキセチルトリチルカンデサルタンの調製法において低沸点有機溶媒は、約140 EC未満の沸点を有する。   In a preferred embodiment of the invention, the low boiling organic solvent in the process for preparing cilexetil trityl candesartan has a boiling point of less than about 140 EC.

シレキセチルカンデサルタンの調製法は、トリチルカンデサルタン、ハロゲン化シレキセチル、および少なくとも1つの塩基を低沸点有機溶媒中で反応させてシレキセチルトリチルカンデサルタンを生成することを含む、シレキセチルトリチルカンデサルタンの調製工程を含む。   A method of preparing cilexetil candesartan comprises preparing cilexetil trityl candesartan comprising reacting trityl candesartan, halogenated cilexetil, and at least one base in a low boiling organic solvent to produce cilexetil trityl candesartan. Process.

本発明の別の実施態様は、シレキセチルトリチルカンデサルタンを提供し;シレキセチルトリチルカンデサルタンを少なくとも1つの有機溶媒と反応させて少なくとも1つの有機溶媒中でシレキセチルカンデサルタンを生成させ;そして粗シレキセチルカンデサルタンを単離することを含む、シレキセチルカンデサルタンの合成法を包含する。   Another embodiment of the present invention provides cilexetil trityl candesartan; reacting cilexetil trityl candesartan with at least one organic solvent to produce cilexetil candesartan in at least one organic solvent; and It includes a method for synthesizing cilexetil candesartan comprising isolating cilexetil candesartan.

本発明の1つの実施態様は、シレキセチルトリチルカンデサルタンを提供し;シレキセチルトリチルカンデサルタンを酸を含まないメタノールの存在下で混合し;そして粗シレキセチルカンデサルタンを単離することを含む、シレキセチルカンデサルタンの合成法を包含する。   One embodiment of the invention includes providing cilexetil trityl candesartan; mixing cilexetil trityl candesartan in the presence of acid free methanol; and isolating crude cilexetil candesartan. Includes synthesis of cilexetil candesartan.

本発明の別の実施態様は、少なくとも2つの溶媒を有する溶媒系を使用して粗カンデサルタンシレキセチルを結晶化し;そして結晶性カンデサルタンシレキセチルを再結晶化することを包含する。   Another embodiment of the invention includes crystallizing crude candesartan cilexetil using a solvent system having at least two solvents; and recrystallizing crystalline candesartan cilexetil.

発明の詳細な説明
本発明の1つの実施態様は、塩基と低沸点有機溶媒の存在下でのトリチルカンデサルタンとハロゲン化シレキセチルとの反応からの、シレキセチルトリチルカンデサルタンの合成法を包含する。場合により反応は、相間移動触媒の存在下で行われる。好ましくはハロゲン化シレキセチルは塩化シレキセチルである。本発明の別の実施態様は、実質的に無水の有機溶媒の存在下で場合により水を添加して少なくとも1つの有機酸を使用して、シレキセチルトリチルカンデサルタンを脱保護してシレキセチルカンデサルタンにする方法を包含する。本発明の別の実施態様は、水性溶媒の存在下で少なくとも1つの無機酸を使用して、シレキセチルトリチルカンデサルタンを脱保護してシレキセチルカンデサルタンにする方法を包含する。本発明の別の実施態様は、酸を含まないメタノールの存在下で、シレキセチルトリチルカンデサルタンを脱保護してシレキセチルカンデサルタンにする方法を包含する。場合によりこの方法は、シレキセチルカンデサルタンの結晶化と再結晶化とをさらに含んで良い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION One embodiment of the present invention includes a method for the synthesis of cilexetil trityl candesartan from the reaction of trityl candesartan and cilexetil halide in the presence of a base and a low boiling organic solvent. Optionally, the reaction is performed in the presence of a phase transfer catalyst. Preferably the cilexetil halide is cilexetil chloride. Another embodiment of the present invention is the use of at least one organic acid optionally in the presence of a substantially anhydrous organic solvent to deprotect cilexetil trityl candesartan to produce cilexetil. Includes methods of making candesartan. Another embodiment of the invention includes a method of deprotecting cilexetil trityl candesartan to cilexetil candesartan using at least one inorganic acid in the presence of an aqueous solvent. Another embodiment of the invention includes a method of deprotecting cilexetil trityl candesartan to cilexetil candesartan in the presence of acid free methanol. Optionally, the method may further comprise crystallization and recrystallization of cilexetil candesartan.

典型的に、シレキセチルトリチルカンデサルタンの合成法は、トリチルカンデサルタン、ハロゲン化シレキセチル、および少なくとも1つの塩基を低沸点有機溶媒中で充分な時間に渡りかつ充分な温度で反応させ、シレキセチルトリチルカンデサルタンを単離することを含む。好ましくはハロゲン化シレキセチルは塩化シレキセチルである。この方法は、有利に低沸点有機溶媒を使用し、それは生成物混合物から除去することが容易であり、従来この合成で使用されている溶媒より環境的に安全である。理論に拘束はされるつもりはないが、本発明の方法の一部において、塩基は低沸点有機溶媒中で不溶性であり、2相系が形成されうる。反応は2相の界面で起きるため、そのような界面反応の速度は、相間移動触媒(PTC)の使用により大幅に上昇する。   Typically, a method for synthesizing cilexetil trityl candesartan comprises reacting trityl candesartan, a halogenated cilexetil, and at least one base in a low-boiling organic solvent for a sufficient time and at a sufficient temperature, Including isolating candesartan. Preferably the cilexetil halide is cilexetil chloride. This method advantageously uses a low boiling organic solvent that is easy to remove from the product mixture and is environmentally safer than the solvents conventionally used in this synthesis. While not intending to be bound by theory, in some of the processes of the present invention, the base is insoluble in low boiling organic solvents and a two-phase system can be formed. Since the reaction takes place at the two-phase interface, the rate of such interfacial reactions is greatly increased by the use of a phase transfer catalyst (PTC).

この方法で使用される溶媒は、低沸点を有する溶媒である。典型的には低沸点有機溶媒は約140EC未満の沸点を有し、そして好ましくは約120EC未満の沸点を有する。あるいは低沸点有機溶媒は、沸点が約140EC〜約70ECの薬剤学的に許容される低沸点有機溶媒であり、そして好ましくは約120EC〜約80ECの沸点を有する。典型的に、溶媒には、特に限定されないが炭化水素脂肪族溶媒、芳香族溶媒、またはエーテルの少なくとも1つが挙げられる。好適な実施態様において1つの溶媒はアセトニトリル(これは沸点が81EC〜82ECである)であるか、またはトルエン(これは沸点が110ECである)でもよい。これに対して先行技術で使用される溶媒(例えばジメチルホルムアミド)は、沸点が153ECである。しかし、もし本発明の反応でDMFが使用されると、反応温度は約50EC〜約55ECであり、還流温度ではない。   The solvent used in this method is a solvent having a low boiling point. Typically, the low boiling organic solvent has a boiling point of less than about 140EC, and preferably has a boiling point of less than about 120EC. Alternatively, the low boiling organic solvent is a pharmaceutically acceptable low boiling organic solvent having a boiling point of about 140EC to about 70EC, and preferably has a boiling point of about 120EC to about 80EC. Typically, the solvent includes, but is not limited to, at least one of a hydrocarbon aliphatic solvent, an aromatic solvent, or an ether. In a preferred embodiment, one solvent is acetonitrile (which has a boiling point of 81EC-82EC) or toluene (which has a boiling point of 110EC). In contrast, solvents used in the prior art (eg dimethylformamide) have a boiling point of 153EC. However, if DMF is used in the reaction of the present invention, the reaction temperature is about 50EC to about 55EC, not the reflux temperature.

反応中の塩基は、無機塩基または有機塩基の少なくとも1つであってよい。反応で使用される無機塩基には、特に限定されないが水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、および炭酸銀が挙げられる。反応で使用される有機塩基には、特に限定されないがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチル-モルホリン、4-ジメチルアミノピリジン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]ノ-5-ネン(DBN)、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]ウンデ-7-セン(DBU)、または1,4-ジアザビシクロ-[2.2.2]オクタン(DABCO)がある。好ましくは塩基は炭酸カリウムである。   The base in the reaction may be at least one of an inorganic base or an organic base. The inorganic base used in the reaction is not particularly limited, but lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, Examples include potassium hydrogen carbonate and silver carbonate. The organic base used in the reaction is not particularly limited, but triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methyl-morpholine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0 ] -5-Nene (DBN), 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] unde-7-cene (DBU), or 1,4-diazabicyclo- [2.2.2] octane (DABCO). Preferably the base is potassium carbonate.

相間移動触媒として作用することができるいくつかのクラスの化合物が公知であり、例えば2つだけを挙げただけでも4級アンモニウム化合物およびホスホニウム化合物がある。相間移動触媒には、特に限定されないが臭化テトラブチルアンモニウム、TEBA、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、塩化トリカプリルメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化セチルピリジニウム、塩化N-ベンジルキニニウム、塩化テトラ-n-ブチルアンモニウム、水酸化テトラ-n-ブチルアンモニウム、ヨウ化テトラ-n-ブチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリエチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、または塩化オクチルトリメチルアンモニウムの少なくとも1つがある。好ましくは相間移動触媒には、特に限定されないが臭化テトラブチルアンモニウム、TEBA、塩化トリカプリルメチルアンモニウムまたは硫酸水素テトラブチルアンモニウムがある。相間移動触媒は市販されているか、または当業者が容易に合成できる。例えば塩化トリカプリルメチルアンモニウム(一般的にAliquat(登録商標)336として知られている)は、アルドリッチケミカル社(Aldrich Chemical Co.)(ミルウォーキー、ウィスコンシン州)により製造されている。   Several classes of compounds are known that can act as phase transfer catalysts, such as quaternary ammonium compounds and phosphonium compounds, for example, only two. Phase transfer catalysts include, but are not limited to, tetrabutylammonium bromide, TEBA, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, tricaprylmethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, cetyltrimethylammonium bromide, cetylpyridinium bromide, N-benzyl chloride Quinium, tetra-n-butylammonium chloride, tetra-n-butylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium iodide, tetraethylammonium chloride, benzyltributylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide, hexadecyltriethylammonium chloride , Tetramethylammonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, or octyltrimethylammonium chloride. Preferably the phase transfer catalyst includes, but is not limited to, tetrabutylammonium bromide, TEBA, tricaprylmethylammonium chloride or tetrabutylammonium hydrogensulfate. Phase transfer catalysts are commercially available or can be readily synthesized by those skilled in the art. For example, tricaprylmethyl ammonium chloride (commonly known as Aliquat® 336) is manufactured by Aldrich Chemical Co. (Milwaukee, Wis.).

反応で使用される低沸点有機溶媒は、シレキセチルトリチルカンデサルタンの合成のためにより低い反応温度を可能にする。低沸点溶媒に基づく。典型的には反応温度は約25EC〜約110EC、好ましくは約40EC〜約90ECである。反応時間は、反応物質の量、反応温度、および当業者に公知の他の変数に依存する。   The low boiling organic solvent used in the reaction allows a lower reaction temperature for the synthesis of cilexetil trityl candesartan. Based on low boiling solvents. Typically, the reaction temperature is from about 25EC to about 110EC, preferably from about 40EC to about 90EC. The reaction time depends on the amount of reactants, the reaction temperature, and other variables known to those skilled in the art.

本発明の別の実施態様は、少なくとも1つの有機溶媒と少なくとも1つの有機酸の混合物を使用してシレキセチルトリチルカンデサルタン(I)を脱保護して、粗シレキセチルカンデサルタン(II)を生成する方法を包含する。別の実施態様において有機溶媒は、実質的に無水の有機溶媒であってもよい。さらに別の実施態様において本方法は、有機酸に加えて鉱酸を含む。本発明の別の実施態様は、有機溶媒を加えた後に、反応混合物中の過剰の酸を少なくとも1つの塩基で中和することを包含する。理論に拘束されるつもりは無いが、通常の処理中に有機酸は反応混合物から容易に除去されると考えられる。従って一般的に有機酸は、工業的スケールで使用することがより容易である。本発明は、少なくとも1つの有機酸とともに有機溶媒を使用して、シレキセチルトリチルカンデサルタンを脱保護する。本明細書において使用される場合、用語「実質的に無水の有機溶媒」は、約3重量%未満の水および好ましくは約0.5重量%未満の水を有する有機溶媒を意味する。   Another embodiment of the present invention is to deprotect cilexetil trityl candesartan (I) using a mixture of at least one organic solvent and at least one organic acid to produce crude cilexetil candesartan (II) To include a method. In another embodiment, the organic solvent may be a substantially anhydrous organic solvent. In yet another embodiment, the method includes a mineral acid in addition to the organic acid. Another embodiment of the present invention involves neutralizing excess acid in the reaction mixture with at least one base after adding the organic solvent. While not intending to be bound by theory, it is believed that organic acids are easily removed from the reaction mixture during normal processing. Thus, in general, organic acids are easier to use on an industrial scale. The present invention deprotects cilexetil trityl candesartan using an organic solvent with at least one organic acid. As used herein, the term “substantially anhydrous organic solvent” means an organic solvent having less than about 3 wt% water and preferably less than about 0.5 wt% water.

本方法は、シレキセチルトリチルカンデサルタンの脱保護であって:シレキセチルトリチルカンデサルタンと少なくとも1つの有機酸とを、少なくとも1つの有機溶媒中で充分な時間かつ充分な温度で混合してシレキセチルカンデサルタンを合成し;そして、粗シレキセチルカンデサルタンを単離することを含む脱保護を包含する。この脱保護工程をスキームIに示す。   The method is deprotection of cilexetil trityl candesartan: cilexetil trityl candesartan mixed with at least one organic acid in at least one organic solvent for a sufficient time and at a sufficient temperature. Synthesizes cetyl candesartan; and includes deprotection comprising isolating the crude cilexetil candesartan. This deprotection step is shown in Scheme I.

Figure 2005206603
Figure 2005206603

本発明の方法で企図される有機酸には、特に限定されないが少なくとも1つのC6-C10芳香族スルホン酸、ハロ酢酸、C1-C6アルキルスルホン酸、またはC1-C6カルボン酸がある。好ましくは有機酸には、特に限定されないが少なくとも1つのメタンスルホン酸、ギ酸、ピリジンp-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、または酢酸がある。好ましくは有機酸を使用する時は、反応温度は約15EC〜約60ECでもよい。反応時間は、反応の進行および/または完了を薄層クロマトグラフィー(TLC)で追跡することにより容易に決定されて良い。典型的な反応時間は、約4時間〜約20時間である。 Organic acids contemplated by the methods of the present invention include, but are not limited to, at least one C 6 -C 10 aromatic sulfonic acid, haloacetic acid, C 1 -C 6 alkyl sulfonic acid, or C 1 -C 6 carboxylic acid There is. Preferably, the organic acid includes, but is not limited to, at least one methanesulfonic acid, formic acid, pyridine p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, or acetic acid. Preferably when using an organic acid, the reaction temperature may be from about 15EC to about 60EC. The reaction time can be readily determined by following the progress and / or completion of the reaction with thin layer chromatography (TLC). Typical reaction times are about 4 hours to about 20 hours.

有機溶媒には、特に限定されないが少なくとも1つのアルコール、ケトン、エーテル、炭化水素、または塩素化溶媒がある。好ましくは有機溶媒には、少なくとも1つのC1-C4アルキルアルコール、ケトン、エーテル、または塩素化溶媒がある。特に有機溶媒には、特に限定されないがジクロロメタン、メタノール、トルエン、tert-ブチルメチルエーテルがある。2つ以上の溶媒が使用されるある実施態様において、第1の溶媒対第2の溶媒の比は約1:10〜約10:1である。 Organic solvents include but are not limited to at least one alcohol, ketone, ether, hydrocarbon, or chlorinated solvent. Preferably the organic solvent is at least one C 1 -C 4 alkyl alcohol, ketone, ether, or chlorinated solvent. In particular, the organic solvent includes, but is not limited to, dichloromethane, methanol, toluene, and tert-butyl methyl ether. In certain embodiments where more than one solvent is used, the ratio of the first solvent to the second solvent is from about 1:10 to about 10: 1.

トリチル基が除去された後、塩基を使用して反応混合物を中和する。塩基には上記のものがあげられ、そして好ましくは塩基はNaOHである。シレキセチルカンデサルタンの単離は、抽出、溶媒留去、結晶化、または反応混合物から目的の有機化合物を単離するための一般的な他の方法により行われる。好適な実施態様において、溶媒は減圧下で留去され、次に残渣は水で希釈され、適当な有機溶媒(例えば酢酸エチル)で抽出される。有機抽出物を合わせ、乾燥し、溶媒を除去して粗化合物IIを得る。   After the trityl group is removed, the reaction mixture is neutralized using a base. Bases include those described above, and preferably the base is NaOH. Isolation of cilexetil candesartan is accomplished by extraction, evaporation, crystallization, or other common methods for isolating the desired organic compound from the reaction mixture. In a preferred embodiment, the solvent is distilled off under reduced pressure, then the residue is diluted with water and extracted with a suitable organic solvent (eg ethyl acetate). The organic extracts are combined, dried and the solvent is removed to give crude compound II.

本発明のある実施態様はシレキセチルトリチルカンデサルタンの脱保護であって:シレキセチルトリチルカンデサルタンをメタノールの存在下で酸を伴わずに混合し;そしてシレキセチルカンデサルタンを単離することを含む脱保護を包含する。トリチル基の脱保護工程は水の存在下で行われて良い。反応の最後での化合物の沈降を促進するために、トリチル基の脱保護工程は有機溶媒の存在下で行われて良い。この脱保護法は、比較的清澄な生成物を与える。   One embodiment of the present invention is deprotection of cilexetil trityl candesartan comprising: mixing cilexetil trityl candesartan without acid in the presence of methanol; and isolating cilexetil candesartan Includes deprotection. The deprotection step of the trityl group may be performed in the presence of water. In order to promote precipitation of the compound at the end of the reaction, the deprotection step of the trityl group may be performed in the presence of an organic solvent. This deprotection method gives a relatively clear product.

典型的に、脱保護工程は、メタノール中のトリチルカンデサルタンシレキセチルを加熱還流することを含む。場合により脱保護溶媒混合物は、有機溶媒(例えばトルエン)および/または酸(例えばギ酸)をさらに含む。シレキセチルトリチルカンデサルタンは、清澄な溶液が得られるまで加熱還流される。典型的に、反応温度は約30EC〜約90EC、好ましくは約50EC〜約90ECであり、加熱は約5〜約19時間、好ましくは約8時間〜約12時間に渡り行われる。次に溶媒は留去されて、粗脱保護カンデサルタンシレキセチルが得られる。溶媒は約30EC〜約70ECの温度、好ましくは約50ECの温度かつ約30mbarの減圧下で除去される。   Typically, the deprotection step involves heating to reflux trityl candesartan cilexetil in methanol. Optionally, the deprotection solvent mixture further comprises an organic solvent (eg, toluene) and / or an acid (eg, formic acid). Silexetil trityl candesartan is heated to reflux until a clear solution is obtained. Typically, the reaction temperature is about 30EC to about 90EC, preferably about 50EC to about 90EC, and the heating is performed for about 5 to about 19 hours, preferably about 8 hours to about 12 hours. The solvent is then distilled off to yield crude deprotected candesartan cilexetil. The solvent is removed at a temperature of about 30EC to about 70EC, preferably at a temperature of about 50EC and a reduced pressure of about 30 mbar.

本明細書において用語「粗」は、脱保護反応から得られた生成物を意味する。粗カンデサルタンシレキセチルは、固体状であるかまたは油状形態である。   As used herein, the term “crude” refers to the product obtained from the deprotection reaction. Crude candesartan cilexetil is in solid or oily form.

典型的には粗カンデサルタンシレキセチルは、最少量の溶媒系に溶解され、次にこの溶液は、結晶性カンデサルタンシレキセチル沈殿物が現れるまでゆっくり冷却される。結晶化は、シード添加、エッチング、冷却、または当業者に公知の一般的な他の方法により誘導される。場合により結晶化工程中、溶液は攪拌されて良い。次に第1の結晶化で得られた結晶性カンデサルタンシレキセチルは乾燥される。乾燥工程は結晶性カンデサルタンシレキセチルを、場合により減圧下で一定の重量が得られるまで加熱することにより行われて良い。典型的には乾燥は、約45EC〜約65ECの温度、好ましくは約50EC〜約60ECの温度で行われる。減圧とは、行う場合は、特に限定されないが約30mbarを含む。   Typically, crude candesartan cilexetil is dissolved in a minimum amount of solvent system, and then the solution is slowly cooled until a crystalline candesartan cilexetil precipitate appears. Crystallization is induced by seeding, etching, cooling, or other common methods known to those skilled in the art. Optionally, the solution may be stirred during the crystallization process. Next, the crystalline candesartan cilexetil obtained in the first crystallization is dried. The drying step may be performed by heating crystalline candesartan cilexetil, optionally under reduced pressure, until a constant weight is obtained. Typically drying is performed at a temperature of about 45EC to about 65EC, preferably about 50EC to about 60EC. The decompression, when performed, includes about 30 mbar, although not particularly limited.

溶媒系は、少なくとも2つの溶媒を含み、ここで1つの溶媒はアルコールであり、他の溶媒は芳香族化合物である。典型的に、アルコールは、少なくとも1つのC1-C6アルコールであり、特に限定されないがメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、または3-ペンタノールが挙げられる。好ましくはアルコールはメタノールである。芳香族化合物はフェニル環を有する少なくとも1つの化合物であり、特に限定されないが置換もしくは非置換ベンゼン、トルエン、エチルトルエン、キシレンまたはメシチレンが挙げられる。好ましくは芳香族化合物はトルエンである。一般に溶媒系は、アルコールと芳香族化合物とを約20重量%アルコール対80重量%芳香族化合物の比で含み、好ましくはアルコール対芳香族化合物の比は約10重量%アルコール対90重量%芳香族化合物の溶媒混合物である。さらに好ましくはアルコール対芳香族化合物の重量比は、約5重量%アルコール対95重量%芳香族化合物である。 The solvent system includes at least two solvents, where one solvent is an alcohol and the other solvent is an aromatic compound. Typically, the alcohol is at least one C 1 -C 6 alcohol, including but not limited to methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, sec-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol Or 3-pentanol. Preferably the alcohol is methanol. The aromatic compound is at least one compound having a phenyl ring, and examples thereof include substituted or unsubstituted benzene, toluene, ethyltoluene, xylene, and mesitylene. Preferably the aromatic compound is toluene. Generally, the solvent system comprises alcohol and aromatics in a ratio of about 20% alcohol to 80% by weight aromatics, preferably the ratio of alcohol to aromatics is about 10% alcohol to 90% by weight aromatics. A solvent mixture of compounds. More preferably, the weight ratio of alcohol to aromatic compound is about 5% by weight alcohol to 95% by weight aromatic compound.

結晶性カンデサルタンシレキセチルの再結晶化は、結晶性カンデサルタンシレキセチルを溶媒に溶解し、そして再結晶化して実質的に純粋なカンデサルタンシレキセチルを得ることを含む。場合により、再結晶化中にこの溶液は攪拌されて良い。典型的には溶媒は少なくとも1つのC1-C6アルコール(特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、または3-ペンタノールを含む)を含む。好適に、アルコールはメタノールである。 Recrystallization of crystalline candesartan cilexetil involves dissolving crystalline candesartan cilexetil in a solvent and recrystallizing to obtain substantially pure candesartan cilexetil. Optionally, this solution may be stirred during recrystallization. Typically the solvent is at least one C 1 -C 6 alcohol (but is not limited to methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, sec-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, or Containing 3-pentanol). Preferably, the alcohol is methanol.

場合によりこの方法は乾燥工程をさらに含み、ここで第2の再結晶化後に、実質的に純粋なカンデサルタンシレキセチルは適当な温度かつ適当な時間乾燥されて、重量が一定の実質的に純粋な乾燥カンデサルタンシレキセチルが得られる。一般に乾燥温度は、結晶性カンデサルタンシレキセチルの重量が変動しなくなるまで、好ましくない溶媒を除去するのに充分なものである。例えば乾燥温度は約50EC〜65EC、好ましくは乾燥温度は約50ECである。場合により乾燥工程は、減圧下(特に限定されないが約8mbarを含む)で行われる。   Optionally, the method further comprises a drying step, wherein after the second recrystallization, the substantially pure candesartan cilexetil is dried at a suitable temperature and for a suitable time to obtain a substantially pure, constant weight. Fresh candesartan cilexetil is obtained. In general, the drying temperature is sufficient to remove undesirable solvents until the weight of crystalline candesartan cilexetil does not fluctuate. For example, the drying temperature is about 50EC to 65EC, preferably the drying temperature is about 50EC. Optionally, the drying step is performed under reduced pressure (including but not limited to about 8 mbar).

いくつかの好適な実施態様を参照して本発明を説明したが、明細書を考慮すれば他の実施態様も当業者には明らかであろう。本発明はさらに、本発明の組成物の調製と脱保護法を詳述する以下の例を参照してさらに規定される。本発明の精神を逸脱することなく、材料と方法の両方で多くの変更態様が可能であることは当業者に明らかであろう。   Although the invention has been described with reference to several preferred embodiments, other embodiments will be apparent to those skilled in the art from consideration of the specification. The invention is further defined by reference to the following examples detailing the preparation and deprotection methods of the compositions of the invention. It will be apparent to those skilled in the art that many modifications, both in materials and methods, are possible without departing from the spirit of the invention.

実施例
実施例1:低沸点溶媒中のシレキセチルトリチルカンデサルタンの作成法
トリチルカンデサルタン(2.0g, 2.93mmol)、塩化シレキセチル(1.21g, 5,86mmol)、炭酸カリウム(0.81g, 5.86mmol)およびアセトニトリル(19g)の懸濁物を40ECで約8時間に渡り攪拌し、反応をTLCにより追跡した。30EC〜35ECで減圧(10mbar)下でアセトニトリルを除去し、残渣を水(20ml)および酢酸エチル(30ml)と混合した。水層を分離し、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml×2)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して粗シレキセチルトリチルカンデサルタンを半固体(HPLCによる純度94.83%)として得た。
Example
Example 1: Preparation of cilexetil trityl candesartan in a low boiling point solvent Trityl candesartan (2.0 g, 2.93 mmol), cilexetil chloride (1.21 g, 5,86 mmol), potassium carbonate (0.81 g, 5.86 mmol) and acetonitrile ( 19 g) of the suspension was stirred at 40EC for about 8 hours and the reaction was followed by TLC. Acetonitrile was removed under reduced pressure (10 mbar) at 30EC-35EC and the residue was mixed with water (20 ml) and ethyl acetate (30 ml). The aqueous layer was separated and extracted with ethyl acetate (20 ml × 2). The combined organic layers were washed with brine (10 ml × 2), dried over sodium sulfate, and the solvent was evaporated to give crude cilexetil trityl candesartan as a semi-solid (HPLC purity 94.83%).

粗生成物をヘキサン(30ml)で25EC〜27ECで3時間に渡り粉砕した。次に固体をろ過して除去し、フィルターをヘキサン(5g×2)で洗浄し、25EC〜27ECで減圧(10mbar)下で乾燥して、シレキセチルトリチルカンデサルタン(12g, 84.8%)(HPLCによる純度94.64%)を得た。   The crude product was triturated with hexane (30 ml) at 25EC-27EC for 3 hours. The solid was then filtered off and the filter was washed with hexane (5 g x 2), dried under reduced pressure (10 mbar) at 25EC-27EC, and cilexetil trityl candesartan (12g, 84.8%) (by HPLC 94.64% purity) was obtained.

実施例2:PTCを用いるシレキセチルトリチルカンデサルタンの作成法
トルエン(20ml)中のトリチルカンデサルタン(2.0g, 2.93mmol)、塩化シレキセチル(1.21g, 5,86mmol)、炭酸カリウム(1.22g, 8.83mmol)および硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.2g)の懸濁物を50EC〜55ECで約8.5時間に渡り攪拌した。反応の進行をTLCにより追跡した。混合物を水(100ml)に注ぎ、クエン酸(固体)で中和した。有機層を分離し、水で洗浄し、酢酸エチル(20ml×3)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をヘキサン(20ml)で20〜25℃で約30分粉砕し、ろ過し、40℃で約30mbar未満で乾燥して、白色の粉末(1.68g, 67.2%)(HPLCによる純度97.90%)を得た。
Example 2: Preparation of cilexetil trityl candesartan using PTC Trityl candesartan (2.0 g, 2.93 mmol), cilexetil chloride (1.21 g, 5,86 mmol), potassium carbonate (1.22 g, 8.83 mmol) in toluene (20 ml) ) And tetrabutylammonium hydrogensulfate (0.2 g) was stirred at 50EC-55EC for about 8.5 hours. The progress of the reaction was followed by TLC. The mixture was poured into water (100 ml) and neutralized with citric acid (solid). The organic layer was separated, washed with water and extracted with ethyl acetate (20 ml × 3). The combined organic layers were washed with brine (10 ml), dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was triturated with hexane (20 ml) at 20-25 ° C. for about 30 minutes, filtered and dried at 40 ° C. to below about 30 mbar to give a white powder (1.68 g, 67.2%) (HPLC purity 97.90%). Obtained.

実施例3:メタンスルホン酸を使用する脱保護法
シレキセチルトリチルカンデサルタン(0.50g, 0.59mmol)、メタンスルホン酸(0.09g, 0.88mmol)、ジクロロメタン(10ml)およびメタノール(1ml)の溶液を25EC〜27ECで約4時間に渡り攪拌した。薄層クロマトグラフィーを使用して反応を追跡した(TLC追跡)。反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液で中和し、減圧下でジクロロメタンを除去した。残渣を水(10ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml×2)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して粗カンデサルタンシレキセチルを得た。
Example 3: Deprotection using methanesulfonic acid A solution of cilexetil trityl candesartan (0.50 g, 0.59 mmol), methanesulfonic acid (0.09 g, 0.88 mmol), dichloromethane (10 ml) and methanol (1 ml) Stir at ~ 27EC for about 4 hours. The reaction was followed using thin layer chromatography (TLC tracking). The reaction mixture was neutralized with saturated sodium bicarbonate solution and dichloromethane was removed under reduced pressure. The residue was diluted with water (10 ml) and extracted with ethyl acetate (20 ml × 2). The combined organic layers were washed with brine (10 ml × 2), dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain crude candesartan cilexetil.

実施例4:p-トルエンスルホン酸を使用する脱保護法
シレキセチルトリチルカンデサルタン(0.50g, 0.59mmol)、PPTS(ピリジンパラ−トルエンスルホン酸、0.22g, 0.88mmol)、ジクロロメタン(10ml)およびメタノール(1ml)の溶液を25EC〜27ECで約20時間に渡り攪拌した。反応の進行を薄層クロマトグラフィーを使用して追跡した(TLC追跡)。反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液で中和した。減圧下でジクロロメタンを除去し、残渣を水(10ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml×2)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して粗カンデサルタンシレキセチルを得た。
Example 4: Deprotection method using p-toluenesulfonic acid cilexetil trityl candesartan (0.50 g, 0.59 mmol), PPTS (pyridine para-toluenesulfonic acid, 0.22 g, 0.88 mmol), dichloromethane (10 ml) and methanol ( 1 ml) was stirred at 25EC-27EC for about 20 hours. The progress of the reaction was followed using thin layer chromatography (TLC tracking). The reaction mixture was neutralized with saturated sodium bicarbonate solution. Dichloromethane was removed under reduced pressure, and the residue was diluted with water (10 ml) and extracted with ethyl acetate (20 ml × 2). The combined organic layers were washed with brine (10 ml × 2), dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain crude candesartan cilexetil.

実施例5:ギ酸を使用する脱保護法
シレキセチルトリチルカンデサルタン(2.0g, 2.35mmol)、ギ酸(2.16g, 46.9mmol)、ジクロロメタン(8ml)およびメタノール(4ml)の溶液を25EC〜27ECで約5時間に渡り攪拌した(TLC追跡)。反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液で中和した。減圧下でジクロロメタンを除去し、残渣を水(10ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml×2)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して油状物(2.05g)を得て、これをtert-ブチルメチルエーテル(TBME)(2.7g)から結晶化してカンデサルタンシレキセチル(0.95g, 66.4%)を得た。
Example 5: Deprotection method using formic acid A solution of cilexetil trityl candesartan (2.0 g, 2.35 mmol), formic acid (2.16 g, 46.9 mmol), dichloromethane (8 ml) and methanol (4 ml) at about 25EC-27EC Stir for 5 hours (TLC chase). The reaction mixture was neutralized with saturated sodium bicarbonate solution. Dichloromethane was removed under reduced pressure, and the residue was diluted with water (10 ml) and extracted with ethyl acetate (20 ml × 2). The combined organic layer was washed with brine (10 ml × 2), dried over sodium sulfate and evaporated to give an oil (2.05 g) which was tert-butyl methyl ether (TBME) (2.7 g). ) To give candesartan cilexetil (0.95 g, 66.4%).

実施例6:ギ酸を使用する脱保護法
シレキセチルトリチルカンデサルタン(1.0g, 1.18mmol)の溶液をトルエン(10ml)に50EC〜55ECで溶解し、次にギ酸(1.1g, 23.88mmol)とメタノール(6ml)を加えた。溶液を50EC〜55ECに約7時間に渡り加熱した。反応混合物を20EC〜25ECに冷却し、1N NaOHでpHを6.4に調整し、酢酸エチル(20ml×3)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml×2)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して半固体の塊(0.79g)を得た。
Example 6: Deprotection using formic acid A solution of cilexetil trityl candesartan (1.0 g, 1.18 mmol) was dissolved in toluene (10 ml) at 50 EC to 55 EC, then formic acid (1.1 g, 23.88 mmol) and methanol (6 ml) was added. The solution was heated to 50EC-55EC for about 7 hours. The reaction mixture was cooled to 20EC-25EC, adjusted to pH 6.4 with 1N NaOH and extracted with ethyl acetate (20 ml × 3). The combined organic layers were washed with brine (10 ml × 2), dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain a semi-solid mass (0.79 g).

実施例7:ギ酸を使用する脱保護法
トルエン(180ml)中のトリチルカンデサルタンシレキセチル(30g, 0.035mol)の溶液、メタノール(180ml)、およびギ酸(1.6g, 0.035mol)を約10時間に渡り還流した。反応をHPLCにより追跡した。次に減圧(30mbar)下で約55EC〜60ECの温度で溶媒を留去して溶液体積を減少させて、粘性の油状物(36.5g)を得た。油状物をトルエン:メタノール(65.7g:7.3g)の混合物に溶解し、約0EC〜5ECで結晶化が始まるまで攪拌し、そして2EC〜8ECで約20時間に渡り維持した。固体をろ過して集め、フィルターをトルエン/メタノール(90:10w/w、15g)の混合物で洗浄し、減圧(10〜50mmHg)下で約50EC〜55ECの温度にて乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(16.88g, 78.6%)を白色の粉末として得た。
Example 7: Deprotection using formic acid A solution of trityl candesartan cilexetil (30 g, 0.035 mol) in toluene (180 ml), methanol (180 ml), and formic acid (1.6 g, 0.035 mol) in about 10 hours Refluxed over. The reaction was followed by HPLC. The solvent was then distilled off under reduced pressure (30 mbar) at a temperature of about 55EC to 60EC to reduce the solution volume to give a viscous oil (36.5 g). The oil was dissolved in a mixture of toluene: methanol (65.7 g: 7.3 g), stirred at about 0EC-5EC until crystallization started and maintained at 2EC-8EC for about 20 hours. The solid was collected by filtration and the filter was washed with a mixture of toluene / methanol (90:10 w / w, 15 g), dried under reduced pressure (10-50 mmHg) at a temperature of about 50 EC-55 EC, and then candesartan siloxane. Cetyl (16.88 g, 78.6%) was obtained as a white powder.

実施例8:トリフルオロ酢酸を使用する脱保護法
強有機酸を使用して保護基(トリチル)を除去した。メタノール(6ml)とトルエン(6ml)中のシレキセチルトリチルカンデサルタンの攪拌懸濁液に、トリフルオロ酢酸(0.1ml, 1.3当量)を20EC〜25℃で加えた。20EC〜25℃で50分攪拌後、溶液が生成した。この溶液を20EC〜25℃でさらに約6時間に渡り攪拌した。次に溶液のpHを飽和重炭酸ナトリウム水溶液で6.4に調整し、溶液を塩水(20ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。合わせた有機層を塩水(10ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を留去して体積を減少させて、半固体塊の粗カンデサルタンシレキセチルを得た。
Example 8: Deprotection using trifluoroacetic acid The protecting group (trityl) was removed using a strong organic acid. To a stirred suspension of cilexetil trityl candesartan in methanol (6 ml) and toluene (6 ml), trifluoroacetic acid (0.1 ml, 1.3 eq) was added at 20EC-25 ° C. After stirring at 20EC-25 ° C for 50 minutes, a solution formed. The solution was further stirred at 20EC-25 ° C for about 6 hours. The pH of the solution was then adjusted to 6.4 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, the solution was diluted with brine (20 ml) and extracted with ethyl acetate (20 ml × 2). The combined organic layers were washed with brine (10 ml), dried over sodium sulfate, filtered and evaporated to reduce the volume to give a semi-solid mass of crude candesartan cilexetil.

あるいはこの方法でトリクロロ酢酸を使用してもよい。   Alternatively, trichloroacetic acid may be used in this manner.

実施例9:トリフルオロ酢酸を使用する脱保護法
トルエン(12ml)とメタノール(12ml)中のシレキセチルトリチルカンデサルタン(2g, 2.34mmol)の攪拌懸濁液に、トリフルオロ酢酸(0.17g, 0.65当量)を約20EC〜約25℃で滴下して加えた。1.5時間の攪拌後に溶液が生成され、この溶液を約20EC〜約25℃の温度でさらに約20時間に渡り攪拌した。次に溶液のpHを飽和重炭酸ナトリウム水溶液でpH6.5に調整し、水(30ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×4)で抽出した。有機層を集め、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を留去して半固体の粗カンデサルタンシレキセチルを得た。
Example 9: Deprotection using trifluoroacetic acid To a stirred suspension of cilexetil trityl candesartan (2g, 2.34mmol) in toluene (12ml) and methanol (12ml) was added trifluoroacetic acid (0.17g, 0.65). Equivalent) was added dropwise at about 20EC to about 25 ° C. A solution was formed after 1.5 hours of stirring and the solution was stirred at a temperature of about 20EC to about 25 ° C for an additional about 20 hours. The pH of the solution was then adjusted to pH 6.5 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, diluted with water (30 ml) and extracted with ethyl acetate (20 ml × 4). The organic layer was collected, dried over sodium sulfate, filtered and evaporated to give a semi-solid crude candesartan cilexetil.

実施例10:酸を用いない脱保護
シレキセチルトリチルカンデサルタン(5.0g, 5.86mmol)を60℃でトルエン(30ml)に溶解した。メタノール(30ml)を加え溶液を油浴で約19時間に渡り70℃に加熱した。50EC〜60℃で減圧下で溶液の体積を約16gの重さまで減少させ、次に−10℃で約48時間に渡り冷却した。沈殿した固体をろ過して集め、冷メタノール(約0EC〜5℃のメタノール;2ml×2)で洗浄し、フィルター上で約1時間に渡り乾燥して粗カンデサルタンシレキセチル(3.1g, 88.5%)を得た。粗カンデサルタンシレキセチルを還流してメタノール(23ml)に溶解し、溶液を減圧下でろ過し、攪拌しながら氷浴中で約3時間に渡り冷却した。白色固体をろ過して集め、メタノール(2.5ml×3)で洗浄し、戸外で一晩乾燥して、カンデサルタンシレキセチルを白色の固体(2.3g, 74%)(HPLCによる純度99.28%)として得た。
Example 10: Deprotected cilexetil trityl candesartan (5.0 g, 5.86 mmol) without acid was dissolved in toluene (30 ml) at 60 ° C. Methanol (30 ml) was added and the solution was heated to 70 ° C. in an oil bath for about 19 hours. The volume of the solution was reduced to a weight of about 16 g under reduced pressure at 50EC-60 ° C. and then cooled at −10 ° C. for about 48 hours. The precipitated solid was collected by filtration, washed with cold methanol (methanol at about 0EC-5 ° C; 2 ml x 2), dried on the filter for about 1 hour and crude candesartan cilexetil (3.1 g, 88.5% ) The crude candesartan cilexetil was refluxed and dissolved in methanol (23 ml), the solution was filtered under reduced pressure and cooled in an ice bath with stirring for about 3 hours. The white solid was collected by filtration, washed with methanol (2.5 ml x 3), and dried overnight outdoors to give candesartan cilexetil as a white solid (2.3 g, 74%) (99.28% purity by HPLC) Obtained.

実施例11:酸を用いない脱保護
シレキセチルトリチルカンデサルタン(20g, 23mmol)を60ECでトルエン(120ml)に溶解した。メタノール(120ml)を加え、溶液を油浴で約13時間に渡り約75EC〜80ECで加熱した。50EC〜60ECで減圧下にて溶媒を留去して溶液の体積を減少させ、粘性の残渣(約27g)を得て、これをメタノール(60ml)に溶解し、溶媒を蒸発乾固して泡状物(約23g)を得た。この泡状物を還流温度でメタノール(約40g)に溶解した。次に溶液を減圧下でろ過し、4ECに冷却して固体を得て、この温度で12〜15時間に渡り維持した。
Example 11: Deprotection cilexetil trityl candesartan (20 g, 23 mmol) without acid was dissolved in toluene (120 ml) at 60EC. Methanol (120 ml) was added and the solution was heated in an oil bath at about 75EC-80EC for about 13 hours. Evaporate the solvent under reduced pressure at 50EC-60EC to reduce the volume of the solution to obtain a viscous residue (about 27g), dissolve it in methanol (60ml), evaporate the solvent to dryness and foam A product (about 23 g) was obtained. This foam was dissolved in methanol (about 40 g) at reflux temperature. The solution was then filtered under reduced pressure and cooled to 4EC to give a solid that was maintained at this temperature for 12-15 hours.

沈殿した固体をろ過して集め、約0EC〜5℃の冷メタノール(20ml×2)で洗浄し、そして50℃で真空下にて乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(15.5g)を得た。カンデサルタンシレキセチル(1g)をトルエン(5ml)で25EC〜27ECで1時間に渡り粉砕してカンデサルタンシレキセチルを得た(約0.65g)。   The precipitated solid was collected by filtration, washed with cold methanol (20 ml × 2) at about 0EC-5 ° C. and dried under vacuum at 50 ° C. to give candesartan cilexetil (15.5 g). Candesartan cilexetil (1 g) was pulverized with toluene (5 ml) at 25EC to 27EC for 1 hour to obtain candesartan cilexetil (about 0.65 g).

実施例12:酸を用いない脱保護
トリチルカンデサルタンシレキセチル(20g, 23.45mmol)、トルエン(60ml)、メタノール(60ml)および水(1ml)の混合物を、約12時間に渡り静かに還流した。反応をHPLCにより追跡した。減圧(30mbar)下で約55EC〜60ECの温度で溶媒を留去して溶液の体積を減少させて、カンデサルタンシレキセチルの粘性の油状物を残渣として得た(36.5g)。
Example 12: Deprotected trityl candesartan cilexetil (20 g, 23.45 mmol) without acid A mixture of toluene (60 ml), methanol (60 ml) and water (1 ml) was gently refluxed for about 12 hours. The reaction was followed by HPLC. The solvent was distilled off under reduced pressure (30 mbar) at a temperature of about 55EC-60EC to reduce the volume of the solution to give a viscous oil of candesartan cilexetil as a residue (36.5g).

実施例13:酸を用いない脱保護
トリチルカンデサルタンシレキセチル(20g, 23.45mmol)、トルエン(60ml)、メタノール(60ml)および水(1ml)の混合物を、約5時間に渡り静かに還流した。反応の進行をHPLCにより追跡した。減圧(30mbar)下で約55EC〜60ECの温度で溶媒を留去して溶液の体積を減少させて、カンデサルタンシレキセチルの粘性の油状物を残渣として得た(36.5g)。
Example 13: Deprotected trityl candesartan cilexetil without acid (20 g, 23.45 mmol), toluene (60 ml), methanol (60 ml) and water (1 ml) were gently refluxed for about 5 hours. The progress of the reaction was followed by HPLC. The solvent was distilled off under reduced pressure (30 mbar) at a temperature of about 55EC-60EC to reduce the volume of the solution to give a viscous oil of candesartan cilexetil as a residue (36.5g).

実施例14:酸を用いない脱保護
トリチルカンデサルタンシレキセチル(20g, 23.45mmol)、メタノール(200ml)および水(1ml)の混合物を、約16〜17時間に渡り静かに還流した。反応の進行をHPLCにより追跡した。減圧(30mbar)下で55EC〜60ECの温度で溶媒を留去して溶液の体積を減少させて、カンデサルタンシレキセチルの粘性の油状物を残渣として得た。
Example 14: A deprotected trityl candesartan cilexetil (20 g, 23.45 mmol), methanol (200 ml) and water (1 ml) mixture without acid was gently refluxed for about 16-17 hours. The progress of the reaction was followed by HPLC. The solvent was distilled off under reduced pressure (30 mbar) at a temperature of 55EC-60EC to reduce the volume of the solution to give a viscous oil of candesartan cilexetil as a residue.

実施例15:酸を用いない脱保護
トリチルカンデサルタンc(TCS, 350g, 410.3mmol)、トルエン(1050ml)、メタノール(2100ml)および水(17.0ml)の溶液を、約2〜4時間に渡り還流し(HPLC対照)、40〜50℃/P<100mbarで溶媒を留去して、残渣を粘性の油状物として得て、残渣を45〜55℃でトルエン/メタノールの混合物(1041g, 95:5, w/w)の混合物に溶解して清澄な溶液を得た。
Example 15: A solution of deprotected trityl candesartan c (TCS, 350 g, 410.3 mmol), toluene (1050 ml), methanol (2100 ml) and water (17.0 ml) without acid is refluxed for about 2-4 hours. (HPLC control), evaporation of the solvent at 40-50 ° C./P<100 mbar to give a residue as a viscous oil, the residue at 45-55 ° C. in a toluene / methanol mixture (1041 g, 95: 5, A clear solution was obtained by dissolving in the w / w) mixture.

溶液を(-5)〜(20)℃に冷却し、溶液をこの温度で約8〜12時間に渡り維持し、沈殿した固体をろ過して除去し、フィルター上で冷トルエン(350ml)で洗浄して湿潤固体(295.8g, 83%)を得た。湿潤固体の110gを50℃/10mbarで2〜6時間に渡り乾燥して、湿潤白色固体を得た(94g(LOD=15〜25%))。湿潤白色固体(43.75g)を40〜60℃で無水エタノール(215〜363ml 6〜10V)に溶解し、溶液をろ過し、そして反応槽に戻し、次に溶液を(-15)〜(5)℃に冷却して、この温度で約2〜24時間に渡り維持した。沈殿した固体をろ過して除去し、冷無水エタノール(23〜35ml)で洗浄して湿潤固体を得て、これを一定重量になるまで50℃/10mbarで乾燥してシレキセチルカンデサルタンを得た(21.5g, 67%)。   The solution is cooled to (-5) to (20) ° C., the solution is maintained at this temperature for about 8-12 hours, the precipitated solid is filtered off and washed on the filter with cold toluene (350 ml) To obtain a wet solid (295.8 g, 83%). 110 g of wet solid was dried at 50 ° C./10 mbar for 2-6 hours to give a wet white solid (94 g (LOD = 15-25%)). Wet white solid (43.75 g) is dissolved in absolute ethanol (215-363 ml 6-10 V) at 40-60 ° C., the solution is filtered and returned to the reaction vessel, then the solution is (-15)-(5) Cooled to 0 C and maintained at this temperature for about 2-24 hours. The precipitated solid was removed by filtration and washed with cold absolute ethanol (23-35 ml) to give a wet solid, which was dried at 50 ° C./10 mbar until constant weight to give cilexetil candesartan. (21.5g, 67%).

実施例16:酸を用いない脱保護
シレキセチルトリチルカンデサルタン(50.0g, 58.62mmol)、水(2.64g, 2.5当量)、およびメタノール(500ml, 10当量体積)の懸濁物を約16.5時間に渡り還流して清澄な溶液を得た。30mbarで40ECで溶媒を留去して固体残渣を得た(51.7g)。残渣を60ECでトルエン/メタノール(95:5w/w, 125g)の混合物に溶解し、20〜23ECに冷却し、約15時間に渡り攪拌した。沈殿物が出現し、これをろ過して集め、トルエン/メタノール(95:5w/w, 25g)の冷(4℃)混合物で洗浄し、50ECで30mbarにて2時間に渡り乾燥して、粗固体カンデサルタンシレキセチル(32.41g, 90.5%)(HPLCによる純度99.32%)を得た。
Example 16: Deprotection of deprotected cilexetil trityl candesartan without acid (50.0 g, 58.62 mmol), water (2.64 g, 2.5 eq), and methanol (500 ml, 10 eq volume) in about 16.5 hours The solution was refluxed to obtain a clear solution. The solvent was distilled off at 30 mbar and 40 EC to give a solid residue (51.7 g). The residue was dissolved at 60EC in a mixture of toluene / methanol (95: 5 w / w, 125 g), cooled to 20-23EC and stirred for about 15 hours. A precipitate appeared and was collected by filtration, washed with a cold (4 ° C.) mixture of toluene / methanol (95: 5 w / w, 25 g), dried at 50 EC and 30 mbar for 2 hours, and crude. Solid candesartan cilexetil (32.41 g, 90.5%) (99.32% purity by HPLC) was obtained.

実施例17:酸を用いない脱保護
シレキセチルトリチルカンデサルタン(100.0g, 0.117mol)、水(5.3g)、トルエン(600ml)およびメタノール(600ml)の溶液を約10時間に渡り還流(プロセス対照中のHPLC)し、60℃/30mbarで溶媒を留去して油状物残渣を得た。残渣の一部(6.84g)を50℃でトルエン/メタノール(95:5w/w, 11.2g)の混合物に溶解した。溶液を2〜8℃で約6時間攪拌し、固体をろ過して除去し、トルエン/メタノール(95:5w/w, 3.4g)の冷混合物で洗浄し、60EC/30mbarで乾燥して、白色固体(3.47g, 86.8%)(HPLCによる純度99.15%)を得た。
Example 17: Deprotected cilexetil trityl candesartan (100.0 g, 0.117 mol), water (5.3 g), toluene (600 ml) and methanol (600 ml) without acid are refluxed for about 10 hours (process control) And the solvent was distilled off at 60 ° C./30 mbar to obtain an oily residue. Part of the residue (6.84 g) was dissolved in a mixture of toluene / methanol (95: 5 w / w, 11.2 g) at 50 ° C. The solution is stirred at 2-8 ° C. for about 6 hours, the solid is filtered off, washed with a cold mixture of toluene / methanol (95: 5 w / w, 3.4 g), dried at 60 EC / 30 mbar and white A solid (3.47 g, 86.8%) (99.15% purity by HPLC) was obtained.

実施例18:メタノールで再結晶化
実施例8の化合物(5g)をメタノール(25.0g)に約18EC〜23℃で溶解して清澄な溶液を得ると、固体が沈殿して懸濁物が生成した。この懸濁物を18EC〜23ECで約60時間に渡り攪拌し、生じた固体をろ過して集め、メタノール(2.5g)で洗浄し、減圧(10mbar)下で約50EC〜55ECの温度にて固体が一定の重量になるまで乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(4.2g, 84%)を白色の粉末として得た。
Example 18: Recrystallization with methanol The compound of Example 8 (5 g) is dissolved in methanol (25.0 g) at about 18EC-23 ° C. to obtain a clear solution, and a solid precipitates to form a suspension. did. The suspension was stirred at 18EC-23EC for about 60 hours and the resulting solid was collected by filtration, washed with methanol (2.5 g), and solid at a temperature of about 50EC-55EC under reduced pressure (10 mbar). Was dried until a constant weight was obtained to give candesartan cilexetil (4.2 g, 84%) as a white powder.

実施例19:メタノールで再結晶化
実施例8の化合物(2g)をメタノール(6.0g)に50ECで溶解して清澄な溶液を得た。この溶液を約18EC〜23ECで沈殿物が生成し始めるまで冷却した。次に懸濁物を18EC〜23ECで約60時間に渡り攪拌し、固体をろ過して集め、メタノール(1.0g)で洗浄し、減圧(10mbar)下で約50EC〜55ECの温度にて固体が一定の重量になるまで乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(1.74g, 87.0%)を白色の粉末として得た。
Example 19: Recrystallization from methanol The compound of Example 8 (2g) was dissolved in methanol (6.0g) at 50EC to obtain a clear solution. The solution was cooled at about 18EC-23EC until a precipitate began to form. The suspension is then stirred at 18EC-23EC for about 60 hours, and the solid is collected by filtration, washed with methanol (1.0 g), and solids at a temperature of about 50EC-55EC under reduced pressure (10 mbar). Drying to a constant weight gave candesartan cilexetil (1.74 g, 87.0%) as a white powder.

実施例20:エタノールで再結晶化
実施例8の化合物(5g)をエタノール(25.0g)に50ECで溶解して清澄な溶液を得た。この溶液を約18EC〜23ECで沈殿物が生成し始めるまで冷却した。懸濁物を18EC〜23ECで約60時間に渡り攪拌し、固体をろ過して集め、エタノール(2.5g)で洗浄し、減圧(10mbar)下で約50EC〜55ECの温度で固体が一定の重量になるまで乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(4.17g, 83.4%)を白色の粉末として得た。
Example 20: Recrystallization from ethanol The compound of Example 8 (5 g) was dissolved in ethanol (25.0 g) at 50EC to obtain a clear solution. The solution was cooled at about 18EC-23EC until a precipitate began to form. The suspension is stirred at 18EC-23EC for about 60 hours, the solid is collected by filtration, washed with ethanol (2.5 g), and a constant weight of solid at a temperature of about 50EC-55EC under reduced pressure (10 mbar) To obtain candesartan cilexetil (4.17 g, 83.4%) as a white powder.

実施例21:エタノールで再結晶化
実施例1の化合物(2g)をエタノール(25.0g)に60ECで溶解して清澄な溶液を得た。この溶液を約18EC〜23ECで沈殿物が生成し始めるまで冷却した。懸濁物を18EC〜23ECで約60時間に渡り攪拌し、固体をろ過して集め、エタノール(1.0g)で洗浄し、減圧(10mbar)下で約50EC〜55ECの温度にて固体が一定の重量になるまで乾燥して、カンデサルタンシレキセチル(1.68g, 84.0%)を白色の粉末として得た。
Example 21: Recrystallization from ethanol The compound of Example 1 (2g) was dissolved in ethanol (25.0g) at 60EC to obtain a clear solution. The solution was cooled at about 18EC-23EC until a precipitate began to form. The suspension is stirred at 18EC-23EC for about 60 hours, the solid is collected by filtration, washed with ethanol (1.0 g), and the solid remains constant at a temperature of about 50EC-55EC under reduced pressure (10 mbar). Drying to weight gave candesartan cilexetil (1.68 g, 84.0%) as a white powder.

Claims (61)

シレキセチルトリチルカンデサルタンを調製する方法であって:
トリチルカンデサルタン、ハロゲン化シレキセチル、および少なくとも1つの塩基を低沸点有機溶媒中で反応させてシレキセチルトリチルカンデサルタンを生成し;そして
シレキセチルトリチルカンデサルタンを単離する、
ことを含む方法。
A method for preparing cilexetil trityl candesartan comprising:
Reacting trityl candesartan, halogenated cilexetil, and at least one base in a low boiling organic solvent to produce cilexetil trityl candesartan; and isolating cilexetil trityl candesartan;
A method involving that.
前記反応を相間移動触媒の存在下で行っている、請求項1に記載の方法。   The process according to claim 1, wherein the reaction is carried out in the presence of a phase transfer catalyst. 前記ハロゲン化シレキセチルが塩化シレキセチルである、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, wherein the cilexetil halide is cilexetil chloride. 前記低沸点有機溶媒が約140EC未満の沸点を有する、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the low boiling organic solvent has a boiling point of less than about 140 EC. 前記低沸点有機溶媒が約120EC未満の沸点を有する、請求項4に記載の方法。   5. The method of claim 4, wherein the low boiling organic solvent has a boiling point less than about 120EC. 前記低沸点有機溶媒が、脂肪族溶媒、芳香族溶媒、またはエーテルの少なくとも1つである、請求項1に記載の方法。   2. The method according to claim 1, wherein the low boiling point organic solvent is at least one of an aliphatic solvent, an aromatic solvent, or an ether. 前記低沸点有機溶媒がアセトニトリルまたはトルエンである、請求項1に記載の方法。   The process according to claim 1, wherein the low-boiling organic solvent is acetonitrile or toluene. 前記低沸点有機溶媒が、約140EC〜約70ECの沸点を有する薬剤学的に許容される低沸点有機溶媒である、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, wherein the low boiling organic solvent is a pharmaceutically acceptable low boiling organic solvent having a boiling point of about 140EC to about 70EC. 前記低沸点有機溶媒が、約120EC〜約80の沸点を有する薬剤学的に許容される低沸点有機溶媒である、請求項8に記載の方法。   9. The method of claim 8, wherein the low boiling organic solvent is a pharmaceutically acceptable low boiling organic solvent having a boiling point of about 120EC to about 80. 前記塩基が無機塩基よりなる群から選択される、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, wherein the base is selected from the group consisting of inorganic bases. 前記塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、または炭酸銀の少なくとも1つである、請求項10に記載の方法。   The base is at least one of lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or silver carbonate. 11. The method of claim 10, wherein 前記塩基が有機塩基よりなる群から選択される、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, wherein the base is selected from the group consisting of organic bases. 前記塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチル-モルホリン、4-ジメチルアミノピリジン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]ノ-5-ネン(DBN)、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]ウンデ-7-セン(DBU)、または1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)の少なくとも1つである、請求項12に記載の方法。   The base is triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methyl-morpholine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] no-5-ene (DBN), 13. The method of claim 12, wherein the method is at least one of 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] unde-7-cene (DBU) or 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO). 前記相間移動触媒が、臭化テトラブチルアンモニウム、TEBA、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、塩化トリカプリルメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化セチルピリジニウム、塩化N-ベンジルキニニウム、塩化テトラ-n-ブチルアンモニウム、水酸化テトラ-n-ブチルアンモニウム、ヨウ化テトラ-n-ブチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリエチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、または塩化オクチルトリメチルアンモニウムの少なくとも1つである、請求項2に記載の方法。   The phase transfer catalyst is tetrabutylammonium bromide, TEBA, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, tricaprylmethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, cetyltrimethylammonium bromide, cetylpyridinium bromide, N-benzylquininium chloride, Tetra-n-butylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium iodide, tetraethylammonium chloride, benzyltributylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide, hexadecyltriethylammonium chloride, tetramethyl chloride 3. The method of claim 2, wherein the method is at least one of ammonium, hexadecyltrimethylammonium chloride, or octyltrimethylammonium chloride. 前記相間移動触媒が、臭化テトラブチルアンモニウム、TEBA、塩化トリカプリルメチルアンモニウム、または硫酸水素テトラブチルアンモニウムの少なくとも1つである、請求項2に記載の方法。   3. The method of claim 2, wherein the phase transfer catalyst is at least one of tetrabutylammonium bromide, TEBA, tricaprylmethylammonium chloride, or tetrabutylammonium hydrogensulfate. 前記方法を約25EC〜約110ECの温度で行っている、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, wherein the method is performed at a temperature of about 25EC to about 110EC. 前記方法を約40EC〜約90ECの温度で行っている、請求項16に記載の方法。   17. The method of claim 16, wherein the method is performed at a temperature of about 40EC to about 90EC. カンデサルタンシレキセチルの調製法における、請求項1〜17のいずれか1項に記載の工程。   The process according to any one of claims 1 to 17, in a method for preparing candesartan cilexetil. シレキセチルカンデサルタンの合成法であって:
シレキセチルトリチルカンデサルタンを少なくとも1つの有機酸と反応させて、少なくとも1つの有機溶媒中でシレキセチルカンデサルタンを生成し;そして
粗シレキセチルカンデサルタンを単離する、
ことを含む方法。
A method for the synthesis of cilexetil candesartan comprising:
Reacting cilexetil trityl candesartan with at least one organic acid to produce cilexetil candesartan in at least one organic solvent; and isolating the crude cilexetil candesartan;
A method involving that.
粗シレキセチルカンデサルタンを単離する前に、反応混合物中の過剰の酸を少なくとも1つの塩基で中和することをさらに含む、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, further comprising neutralizing excess acid in the reaction mixture with at least one base prior to isolating the crude cilexetil candesartan. 鉱酸を添加することをさらに含む、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, further comprising adding a mineral acid. 前記有機酸は、メタンスルホン酸、ギ酸、ピリジンp-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、または酢酸よりなる群から選択される、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, wherein the organic acid is selected from the group consisting of methanesulfonic acid, formic acid, pyridine p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, or acetic acid. 前記方法を約15EC〜約60ECの反応温度で行っている、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, wherein the method is performed at a reaction temperature of about 15EC to about 60EC. 前記有機溶媒が実質的に無水である、請求項19に記載の方法。   The method of claim 19, wherein the organic solvent is substantially anhydrous. 実質的に無水の有機溶媒が約3重量%未満の水を有する、請求項24に記載の方法。   25. The method of claim 24, wherein the substantially anhydrous organic solvent has less than about 3% water by weight. 前記実質的に無水の有機溶媒が約0.5重量%未満の水を有する、請求項25に記載の方法。   26. The method of claim 25, wherein the substantially anhydrous organic solvent has less than about 0.5 wt% water. 前記実質的に無水の有機溶媒が、C1-C4アルキルアルコール、ケトン、エーテル、炭化水素、または塩素化溶媒である、請求項19に記載の方法。 Wherein the substantially organic anhydrous solvent is a C 1 -C 4 alkyl alcohols, ketones, ethers, hydrocarbons or chlorinated solvents, The method of claim 19. 前記実質的に無水の有機溶媒が、ジクロロメタン、メタノール、トルエン、またはtert-ブチルメチルエーテルである、請求項27に記載の方法。   28. The method of claim 27, wherein the substantially anhydrous organic solvent is dichloromethane, methanol, toluene, or tert-butyl methyl ether. 1超の溶媒を使用している、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, wherein more than one solvent is used. 第1の溶媒対第2の溶媒の比が約1:10〜約10:1である、請求項29に記載の方法。   30. The method of claim 29, wherein the ratio of the first solvent to the second solvent is from about 1:10 to about 10: 1. 前記塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチル-モルホリン、4-ジメチルアミノピリジン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]ノ-5-ネン(DBN)、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]ウンデ-7-セン(DBU)、1,4-ジアザビシクロ-[2.2.2]オクタン(DABCO)またはNaOHの少なくとも1つである、請求項20に記載の方法。   The base is triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methyl-morpholine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] no-5-ene (DBN), 21. The at least one of 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] unde-7-cene (DBU), 1,4-diazabicyclo- [2.2.2] octane (DABCO) or NaOH. Method. 前記塩基がNaOHである、請求項31に記載の方法。   32. The method of claim 31, wherein the base is NaOH. シレキセチルカンデサルタンの合成法であって:
シレキセチルトリチルカンデサルタンをメタノールと反応させてシレキセチルカンデサルタンを生成させ;そして
粗シレキセチルカンデサルタンを単離する、
ことを含む方法。
A method for the synthesis of cilexetil candesartan comprising:
Reacting cilexetil trityl candesartan with methanol to produce cilexetil candesartan; and isolating the crude cilexetil candesartan;
A method involving that.
反応を、酸を伴わずに起こす、請求項33に記載の方法。   34. A method according to claim 33, wherein the reaction takes place without acid. シレキセチルトリチルカンデサルタンを脱保護してシレキセチルカンデサルタンを生成することを含む、酸を伴わずにシレキセチルカンデサルタンを合成する方法。   A method of synthesizing cilexetil candesartan without acid, comprising deprotecting cilexetil trityl candesartan to produce cilexetil candesartan. 前記シレキセチルカンデサルタンを結晶化することを更に含む、請求項35に記載の方法。   36. The method of claim 35, further comprising crystallizing the cilexetil candesartan. 少なくとも1つの有機溶媒を添加することをさらに含む、請求項33に記載の方法。   34. The method of claim 33, further comprising adding at least one organic solvent. 水を添加することをさらに含む、請求項33に記載の方法。   34. The method of claim 33, further comprising adding water. 前記方法を約30EC〜約90ECの反応温度で行っている、請求項33に記載の方法。   34. The method of claim 33, wherein the method is performed at a reaction temperature of about 30EC to about 90EC. 前記方法を約50EC〜約90ECの反応温度で行っている、請求項39の方法。   40. The method of claim 39, wherein the method is conducted at a reaction temperature of about 50EC to about 90EC. 前記シレキセチルトリチルカンデサルタンを請求項1〜17のいずれかの方法により製造している、請求項19又は33のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 19 and 33, wherein the cilexetil trityl candesartan is produced by the method according to any one of claims 1 to 17. 前記粗カンデサルタンシレキセチルを溶媒系で結晶化して結晶性カンデサルタンシレキセチルを得ることをさらに含む、請求項19又は33のいずれか1項に記載の方法。   34. The method of any one of claims 19 or 33, further comprising crystallizing the crude candesartan cilexetil in a solvent system to obtain crystalline candesartan cilexetil. 前記溶媒系はC1-C6アルコール及び芳香族化合物である、請求項42に記載の方法。 The solvent system is C 1 -C 6 alcohols and aromatics The method of claim 42. 前記C1-C6アルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、および3-ペンタノールよりなる群から選択される、請求項43に記載の方法。 The C 1 -C 6 alcohol is selected from the group consisting of methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, sec-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, and 3-pentanol; 44. The method of claim 43. 前記C1-C6アルコールがメタノールである、請求項44に記載の方法。 Wherein C 1 -C 6 alcohol is methanol The method of claim 44. 前記芳香族化合物が、ベンゼン、トルエン、エチルトルエン、キシレンまたはメシチレンよりなる群から選択される、請求項43に記載の方法。   44. The method of claim 43, wherein the aromatic compound is selected from the group consisting of benzene, toluene, ethyltoluene, xylene, or mesitylene. 前記芳香族化合物がトルエンである、請求項46の方法。   48. The method of claim 46, wherein the aromatic compound is toluene. 前記C1-C6アルコール対芳香族化合物の比が約20重量%対約80重量%である、請求項43に記載の方法。 Wherein the ratio of C 1 -C 6 alcohol to aromatic compound is about 20 wt% to about 80 wt%, The method of claim 43. 前記C1-C6アルコール対芳香族化合物の比が約10重量%対約90重量%である、請求項48に記載の方法。 Wherein the ratio of C 1 -C 6 alcohol to aromatic compound is about 10 wt% to about 90 wt%, The method of claim 48. 前記C1-C6アルコール対芳香族化合物の比が約5重量%対約95重量%である、請求項49に記載の方法。 Wherein the ratio of C 1 -C 6 alcohol to aromatic compound is about 5 wt% to about 95 wt%, The method of claim 49. 結晶性カンデサルタンシレキセチルを溶媒中で再結晶化して実質的に純粋なカンデサルタンシレキセチルを得ることをさらに含む、請求項43に記載の方法。   44. The method of claim 43, further comprising recrystallizing crystalline candesartan cilexetil in a solvent to obtain substantially pure candesartan cilexetil. 前記溶媒がC1-C6アルコールである、請求項51に記載の方法。 Wherein the solvent is C 1 -C 6 alcohol, The method of claim 51. 前記C1-C6アルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、および3-ペンタノールよりなる群から選択される、請求項52に記載の方法。 The C 1 -C 6 alcohol is selected from the group consisting of methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, sec-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, and 3-pentanol; 53. The method of claim 52. 純粋なカンデサルタンシレキセチルを乾燥することをさらに含む、請求項51に記載の方法。   52. The method of claim 51, further comprising drying pure candesartan cilexetil. シレキセチルトリチルカンデサルタンの調製法であって:
トリチルカンデサルタン、ハロゲン化シレキセチルおよびDMFを約50EC〜約55ECの温度で反応させて、シレキセチルトリチルカンデサルタンを生成させ;そして
シレキセチルトリチルカンデサルタンを単離する、
ことを含む方法。
A process for preparing cilexetil trityl candesartan comprising:
Reacting trityl candesartan, halogenated cilexetil and DMF at a temperature of about 50EC to about 55EC to produce cilexetil trityl candesartan; and isolating cilexetil trityl candesartan;
A method involving that.
前記反応を相間移動触媒の存在下で行っている、請求項55に記載の方法。   56. The method of claim 55, wherein the reaction is performed in the presence of a phase transfer catalyst. 前記ハロゲン化シレキセチルが塩化シレキセチルである、請求項55に記載の方法。   56. The method of claim 55, wherein the cilexetil halide is cilexetil chloride. 前記塩基は無機塩基よりなる群から選択される、請求項55に記載の方法。   56. The method of claim 55, wherein the base is selected from the group consisting of inorganic bases. 前記塩基は有機塩基よりなる群から選択される、請求項55に記載の方法。   56. The method of claim 55, wherein the base is selected from the group consisting of organic bases. シレキセチルトリチルカンデサルタンの調製法であって:
トリチルカンデサルタン、塩化シレキセチル、および炭酸カリウムをアセトニトリル中で混合し;
反応物をアセトニトリルの還流温度に加熱してシレキセチルトリチルカンデサルタンを生成させ;そして
シレキセチルトリチルカンデサルタンを単離する、
ことを含む方法。
A process for preparing cilexetil trityl candesartan comprising:
Mixing trityl candesartan, cilexetil chloride, and potassium carbonate in acetonitrile;
Heating the reaction to the reflux temperature of acetonitrile to produce cilexetil trityl candesartan; and isolating cilexetil trityl candesartan;
A method involving that.
前記反応物を約8時間に渡り40ECに加熱している、請求項60に記載の方法。   61. The method of claim 60, wherein the reactant is heated to 40EC for about 8 hours.
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