JP2005206396A - Method of preparing glass composition, method of preparing resistor paste, method of manufacturing resistor and method of manufacturing electronic component - Google Patents

Method of preparing glass composition, method of preparing resistor paste, method of manufacturing resistor and method of manufacturing electronic component Download PDF

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博文 田中
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make the temperature coefficient of resistance (TCR) and withstand voltage characteristic (STOL) compatible in a resistor, for example, having high resistance of ≥10 kΩ/sq. <P>SOLUTION: The method of preparing the glass composition is carried out by melting an oxide mixed powder in a crucible and quenching the molten material to be vitrified. In such a case, when the melting temperature is expressed by T°C, an average cooling rate from T°C to (T-200)°C is expressed by A °C/sec and an average cooling rate from (T-200°C) to 100°C is expressed by B °C/sec, the relation between A and B is B>A, where A>10 and B>10<SP>3</SP>. The resultant glass composition is used for the resistor paste and a thick film resistor and in the resistor having ≥10 kΩ/sq resistance, the TCR characteristic is made compatible with the STOL characteristic. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、抵抗体ペーストに用いられるガラス組成物の製造方法に関するものであり、さらには、これを適用した抵抗体ペーストの製造方法、抵抗体の製造方法、及び電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass composition used for a resistor paste, and further relates to a method for manufacturing a resistor paste to which the glass composition is applied, a method for manufacturing a resistor, and a method for manufacturing an electronic component.

例えば抵抗体ペーストは、一般に、抵抗値の調節及び結合性を与えるためのガラス組成物と、導電性材料と、有機ビヒクルとを主たる成分として構成されており、これを基板上に印刷した後、焼成することによって、厚さ5〜20μm程度の厚膜抵抗体が形成される。そして、この種の抵抗体ペースト(厚膜抵抗体)においては、通常、導電性材料として酸化ルテニウム(RuO2)や鉛ルテニウム酸化物等が用いられ、ガラスとして酸化鉛(PbO)系ガラス等が用いられている。 For example, a resistor paste is generally composed of a glass composition for adjusting a resistance value and imparting bonding properties, a conductive material, and an organic vehicle as main components, and after printing this on a substrate, By baking, a thick film resistor having a thickness of about 5 to 20 μm is formed. In this type of resistor paste (thick film resistor), usually, ruthenium oxide (RuO 2 ), lead ruthenium oxide or the like is used as the conductive material, and lead oxide (PbO) glass or the like is used as the glass. It is used.

近年、環境問題が盛んに議論されてきており、鉛等の有害物質の電子部品からの排除が進められている。前記抵抗体ペーストや厚膜抵抗体も例外ではなく、鉛フリーとするための研究が行われている。   In recent years, environmental issues have been actively discussed, and elimination of harmful substances such as lead from electronic components is being promoted. The resistor paste and the thick film resistor are no exception, and research is being conducted to make them lead-free.

抵抗体ペーストの鉛フリー化における課題の一つとして、特に高抵抗(10kΩ/□以上)の抵抗体ペーストにおいて、温度特性(TCR)と耐電圧特性(STOL)の両立が挙げられる。例えば、従来の鉛系抵抗体ペーストにおいて用いられてきた金属酸化物を添加することによるTCRの調節を、そのまま鉛フリーの組成に応用した場合、電圧印加による抵抗値の変動が鉛系組成と比較して大きく起こるため、結果としてTCRとSTOLの両立を実現することは困難である。   As one of the problems in making the resistor paste lead-free, there is a compatibility between temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL) particularly in a resistor paste having a high resistance (10 kΩ / □ or more). For example, when adjusting the TCR by adding a metal oxide, which has been used in conventional lead-based resistor pastes, to a lead-free composition as it is, changes in resistance due to voltage application are compared with the lead-based composition. As a result, it is difficult to achieve both TCR and STOL.

このような事情から、鉛を含まないガラス組成物、鉛を含まない導電性材料、及び有機ビヒクルを主成分とする抵抗体ペーストにおいて、添加物としてCaTiO3若しくはNiOを添加し、温度特性(TCR)と耐電圧特性(STOL)とを両立する試みがなされている(例えば、特許文献1等を参照)。 Under such circumstances, in a resistor paste mainly composed of a lead-free glass composition, a lead-free conductive material, and an organic vehicle, CaTiO 3 or NiO is added as an additive, and temperature characteristics (TCR ) And withstand voltage characteristics (STOL) have been attempted (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1には、抵抗体ペーストに例えばCaTiO3を0vol%超、13vol%以下、若しくはNiOを0vol%超、12vol%以下含有させることが好ましく、さらにはCuO、ZnO、MgO等の添加物を同時に添加させることが好ましい旨の記述があり、それにより、高い抵抗値を有しながらも、抵抗値の温度特性(TCR)および耐電圧特性(STOL)が小さい抵抗体を得ることに適した鉛フリーの抵抗体ペーストを提供することが可能であるとされている。
特開2003−197405号公報
In Patent Document 1, it is preferable that the resistor paste contains, for example, CaTiO 3 more than 0 vol%, 13 vol% or less, or NiO more than 0 vol%, 12 vol% or less, and further additives such as CuO, ZnO, MgO, etc. There is a description that it is preferable to add them at the same time, and as a result, lead suitable for obtaining a resistor having a low temperature characteristic (TCR) and a low withstand voltage characteristic (STOL) while having a high resistance value. It is said that it is possible to provide a free resistor paste.
JP 2003-197405 A

しかしながら、特許文献1記載の発明のように、添加物を多量に含有させることでTCR特性を調整した抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体では、従来の鉛系組成の抵抗体ペーストを用いた場合よりもSTOL特性が低下する傾向にある。したがって、例えば添加物をあまり多量に添加しない状態で、STOL特性をさらに向上させることが望まれる。   However, as in the invention described in Patent Document 1, in a resistor formed using a resistor paste whose TCR characteristics are adjusted by adding a large amount of additives, a resistor paste having a conventional lead-based composition is used. The STOL characteristic tends to be lower than that in the case of the above. Therefore, for example, it is desired to further improve STOL characteristics in a state where an additive is not added in a large amount.

そこで本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、例えば10kΩ/□以上の高い抵抗値を有する抵抗体において、温度特性(TCR)及び耐電圧特性(STOL)を両立し得るガラス組成物の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、高抵抗で温度特性(TCR)及び耐電圧特性(STOL)に優れ、熱的な安定性にも優れる抵抗体ペーストの製造方法、この抵抗体ペーストを用いた抵抗体の製造方法、さらには電子部品の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation. For example, in a resistor having a high resistance value of 10 kΩ / □ or more, both temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL) are achieved. It aims at providing the manufacturing method of the obtained glass composition. The present invention also provides a method of manufacturing a resistor paste having high resistance, excellent temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL), and excellent thermal stability, and manufacturing of a resistor using the resistor paste. It is an object of the present invention to provide a method and a method for manufacturing an electronic component.

本発明者らは、厚膜抵抗体において、温度特性(TCR)と耐電圧特性(STOL)を両立することを目的に、長期に亘り種々の研究を重ねてきた。その結果、用いるガラス組成物の製造方法を工夫することで、実現可能であるとの結論を得るに至った。   The present inventors have made various studies over a long period of time for the purpose of achieving both temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL) in thick film resistors. As a result, it came to the conclusion that it was realizable by devising the manufacturing method of the glass composition to be used.

本発明は、このような知見に基づいて完成されたものである。すなわち、本発明に係るガラス組成物の製造方法は、酸化物混合粉末をるつぼ中で溶融し、溶融物を急冷してガラス化するガラス組成物の製造方法であって、溶融温度をT℃、T℃から(T−200)℃までの平均冷却速度をA℃/秒、(T−200)℃から100℃までの平均冷却速度をB℃/秒としたときに、B>Aであることを特徴とする。また、本発明の抵抗体ペーストの製造方法は、酸化物混合粉末をるつぼ中で溶融し、溶融物を急冷してガラス化してガラス組成物を得、当該ガラス組成物及び導電性材料を有機ビヒクルと混合する抵抗体ペーストの製造方法であって、前記ガラス化に際し、溶融温度をT℃、T℃から(T−200)℃までの平均冷却速度をA℃/秒、(T−200)℃から100℃までの平均冷却速度をB℃/秒としたときに、B>Aであることを特徴とする。さらに、本発明の抵抗体の製造方法、電子部品の製造方法は、前記方法で抵抗体ペーストを形成し、この抵抗体ペーストを基板上に塗布し、焼成することにより抵抗体を形成することを特徴とする。   The present invention has been completed based on such findings. That is, the method for producing a glass composition according to the present invention is a method for producing a glass composition in which an oxide mixed powder is melted in a crucible, and the melt is rapidly cooled to vitrify. B> A when the average cooling rate from T ° C to (T-200) ° C is A ° C / sec and the average cooling rate from (T-200) ° C to 100 ° C is B ° C / sec. It is characterized by. Also, the method for producing a resistor paste of the present invention comprises melting an oxide mixed powder in a crucible, quenching the melt and vitrifying it to obtain a glass composition, and the glass composition and the conductive material are combined with an organic vehicle. The resistor paste is mixed with a melting point of T.degree. C., an average cooling rate from T.degree. C. to (T-200) .degree. C. is A.degree. C./second, and (T-200) .degree. When the average cooling rate from 1 to 100 ° C. is B ° C./second, B> A. Furthermore, the method for manufacturing a resistor and the method for manufacturing an electronic component according to the present invention include forming a resistor paste by applying the resistor paste on a substrate and firing the resistor paste by the above method. Features.

ガラス組成物の製造過程において、急冷によるガラス化の際の温度プロファイルを最適化することで、得られるガラスの歪みが緩和されて安定化する。このようにして得られたガラス組成物を抵抗体ペースト(抵抗体)に用いることで、10kΩ/□以上の高抵抗領域において、TCR特性、STOL特性が両立される。   In the process of producing the glass composition, by optimizing the temperature profile at the time of vitrification by rapid cooling, the distortion of the obtained glass is relaxed and stabilized. By using the glass composition thus obtained for the resistor paste (resistor), TCR characteristics and STOL characteristics are compatible in a high resistance region of 10 kΩ / □ or more.

本発明のガラス組成物の製造方法によれば、TCR特性及びSTOL特性を両立し得るガラス組成物を提供することができ、これを抵抗体ペーストや抵抗体、電子部品の製造方法に適用することで、高抵抗値を有し、しかも温度特性(TCR)及び耐電圧特性(STOL)に優れた抵抗体、電子部品を製造することが可能である。   According to the method for producing a glass composition of the present invention, a glass composition capable of achieving both TCR characteristics and STOL characteristics can be provided, and this can be applied to a method for producing a resistor paste, a resistor, and an electronic component. Thus, it is possible to manufacture a resistor and an electronic component having a high resistance value and excellent in temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL).

以下、本発明に係るガラス組成物の製造方法、抵抗体ペースト、抵抗体、及び電子部品の製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the glass composition concerning this invention, a resistor paste, a resistor, and the manufacturing method of an electronic component are demonstrated.

先ず、本発明のガラス組成物の製造方法であるが、基本的には通常の製造方法を踏襲して行う。すなわち、原料となる酸化物混合粉末をるつぼに入れ、溶融温度まで昇温し、一定時間、この溶融温度に保つ。次いで、るつぼ内の溶融物を水中に投入したり、冷却ロール上に滴下し、溶融物を急冷してガラス化する。このとき、従来法では、いきなり急冷するのが通常であり、急冷の温度プロファイルは、図1において破線で示すようなものとなる。すなわち、従来の急冷では、冷却速度を、溶融温度から直ちに103℃/秒を越えるような急激な傾きとしている。 First, the method for producing the glass composition of the present invention is basically carried out by following the usual production method. That is, an oxide mixed powder as a raw material is put in a crucible, heated to a melting temperature, and kept at the melting temperature for a certain time. Next, the melt in the crucible is poured into water or dropped on a cooling roll, and the melt is rapidly cooled to be vitrified. At this time, in the conventional method, sudden cooling is usually performed suddenly, and the temperature profile of the rapid cooling is as shown by a broken line in FIG. That is, in the conventional rapid cooling, the cooling rate is set to a steep slope that immediately exceeds 10 3 ° C / second from the melting temperature.

しかしながら、溶融後、冷却速度を直ちにこのような急激な傾きとすると、得られるガラス組成物に歪みが残り、抵抗体ペーストのガラス材料として使用すると、温度特性(TCR)や耐電圧特性(STOL)を不安定化する要因となる。   However, if the cooling rate is set to such a steep slope immediately after melting, the resulting glass composition remains strained, and when used as a glass material for a resistor paste, temperature characteristics (TCR) and withstand voltage characteristics (STOL) It becomes a factor to destabilize.

そこで、本発明では、急冷時の温度プロファイルを見直し、溶融直後の冷却速度を若干抑え、その後、所定の冷却速度で急冷することとする。具体的には、溶融温度をT℃、T℃から(T−200)℃までの平均冷却速度をA℃/秒、(T−200)℃から100℃までの平均冷却速度をB℃/秒としたときに、B>Aとする。図1に、本発明における急冷の温度プロファイル(実線)を示す。本発明では、溶融直後の初期(図中、Aで示す期間)において、平均冷却速度Aを所定の急冷速度(図中、Bで示す期間の平均冷却速度B)よりも小(図において、傾きが小)とする。   Therefore, in the present invention, the temperature profile at the time of rapid cooling is reviewed, the cooling rate immediately after melting is slightly suppressed, and then the rapid cooling is performed at a predetermined cooling rate. Specifically, the melting temperature is T ° C, the average cooling rate from T ° C to (T-200) ° C is A ° C / sec, the average cooling rate from (T-200) ° C to 100 ° C is B ° C / sec. B> A. FIG. 1 shows a temperature profile (solid line) of rapid cooling in the present invention. In the present invention, in the initial stage immediately after melting (period indicated by A in the figure), the average cooling rate A is smaller than the predetermined rapid cooling rate (average cooling rate B in the period indicated by B in the figure) (inclination in the figure). Is small).

ここで、平均冷却速度をAとする期間Aは、溶融温度マイナス200(T−200)℃となるまでの期間とする。この期間Aの終点が溶融温度マイナス200℃よりも低温側になると、急冷前の温度が低くなり過ぎて、ガラス化に支障をきたすおそれがある。また、各平均冷却速度A,Bは、前記関係を満たす範囲で任意に設定可能であるが、ガラス化を考えた場合、平均冷却速度Aは10℃/秒以上とすることが好ましく、平均冷却速度Bは103℃/秒とすることが好ましい。 Here, the period A in which the average cooling rate is A is a period until the melting temperature becomes minus 200 (T−200) ° C. If the end point of this period A is lower than the melting temperature minus 200 ° C., the temperature before the rapid cooling becomes too low, and there is a possibility of hindering vitrification. Moreover, although each average cooling rate A and B can be arbitrarily set in the range which satisfies the said relationship, when considering vitrification, it is preferable that average cooling rate A shall be 10 degree-C / sec or more, and average cooling The speed B is preferably 10 3 ° C / second.

このような温度プロファイルとすることができれば、手法は問わないが、例えば、溶融後、炉内からるつぼを取り出して、所定の期間、そのまま放冷し、その後、水中に投入する等、所定の急冷操作を行えばよい。   Any method can be used as long as such a temperature profile can be obtained. For example, after melting, the crucible is taken out from the furnace, allowed to cool for a predetermined period, and then poured into water. You just have to do it.

対象となるガラス組成物は、例えば抵抗体ペースト、厚膜抵抗体のガラス材料であり、後に詳述するが、主たる修飾酸化物成分としてCaO、SrO及びBaOから選ばれる少なくとも1種と、網目形成酸化物成分としてB23及びSiO2から選ばれる少なくとも1種とを含有し、さらにはその他の修飾酸化物成分としてZrO、Al23、ZnOから選ばれる少なくとも1種を含有するガラス組成物である。 The target glass composition is, for example, a resistor paste or a thick film resistor glass material, and will be described in detail later. At least one selected from CaO, SrO, and BaO as a main modifying oxide component, and network formation Glass composition containing at least one selected from B 2 O 3 and SiO 2 as an oxide component, and further containing at least one selected from ZrO, Al 2 O 3 , ZnO as another modified oxide component It is a thing.

前述の温度プロファイルにしたがってガラス組成物を急冷調製することで、歪みが少なく安定なガラス組成物を得ることができ、これを抵抗体ペースト(抵抗体)に用いることで、TCR特性、STOL特性を両立することができる。   By preparing the glass composition by rapid cooling according to the above temperature profile, a stable glass composition with less distortion can be obtained. By using this for the resistor paste (resistor), the TCR characteristics and STOL characteristics can be obtained. It can be compatible.

抵抗体ペーストを製造するには、前述の方法でガラス組成物を作製した後、これを導電性材料及び必要に応じて添加物とともに有機ビヒクルと混合すればよい。ここで、導電性材料は、絶縁体であるガラス中に分散されることで、構造物である厚膜抵抗体に導電性を付与する役割を持つ。導電性材料は、環境保全上、やはり鉛を実質的に含まない導電性材料を用いることが好ましい。ここでは、先のガラス組成物との組合せを考慮して、RuO2、またはRu複合酸化物を用いる。Ru複合酸化物としては、CaRuO3、SrRuO3、BaRuO3、Bi2Ru27から選ばれる少なくとも1種が好ましい。 In order to produce a resistor paste, a glass composition is prepared by the above-described method, and then mixed with an organic vehicle together with a conductive material and, if necessary, an additive. Here, the conductive material has a role of imparting conductivity to the thick film resistor as the structure by being dispersed in the glass as the insulator. As the conductive material, it is preferable to use a conductive material that does not substantially contain lead in terms of environmental protection. Here, considering the combination with the glass composition, RuO 2 or Ru composite oxide is used. As the Ru composite oxide, at least one selected from CaRuO 3 , SrRuO 3 , BaRuO 3 , and Bi 2 Ru 2 O 7 is preferable.

抵抗体ペースト中の導電性材料の含有量は、ガラス組成物、導電性材料、及び添加物の合計重量を100重量%とした場合に、9.4重量%〜53.3重量%とするのが好ましい。導電性材料の含有量が前記範囲を下回る場合、抵抗値が高くなりすぎてしまい、抵抗体ペーストとしての使用に適さなくなるおそれがある。逆に、導電性材料の含有量が前記範囲を越えると、ガラス組成物による導電性材料の結着が不十分になり、信頼性が低下するおそれがある。   The content of the conductive material in the resistor paste is 9.4 wt% to 53.3 wt% when the total weight of the glass composition, the conductive material, and the additive is 100 wt%. Is preferred. When the content of the conductive material is less than the above range, the resistance value becomes too high, which may make it unsuitable for use as a resistor paste. On the contrary, if the content of the conductive material exceeds the above range, the binding of the conductive material by the glass composition becomes insufficient, and the reliability may be lowered.

ガラス組成物は、前述の方法で製造されるものであれば、その組成は特に限定されないが、本発明では環境保全上、鉛を実質的に含まない鉛フリーのガラス組成物を用いることが好ましい。なお、本発明において、「鉛を実質的に含まない」とは、不純物レベルとは言えない量を越える鉛を含まないことを意味し、不純物レベルの量(例えば、ガラス組成物中の含有量が0.05重量%以下程度)であれば含有されていてもよい趣旨である。鉛は、不可避不純物として極微量程度に含有されることがある。   The composition of the glass composition is not particularly limited as long as it is produced by the above-described method. However, in the present invention, it is preferable to use a lead-free glass composition that does not substantially contain lead for environmental protection. . In the present invention, “substantially free of lead” means not containing lead exceeding the amount that cannot be said to be an impurity level, and the amount of impurity level (for example, the content in the glass composition). Is about 0.05% by weight or less). Lead may be contained in a trace amount as an inevitable impurity.

ガラス組成物は、抵抗体とされたとき、抵抗体中で導電性材料及び添加物を基板と結着させる役割を持つ。ガラス組成物は、原料として、修飾酸化物成分、網目形成酸化物成分等を混合して用いることができる。主たる修飾酸化物成分としては、アルカリ土類酸化物、具体的にはCaO、SrO、BaOから選ばれる少なくとも1種を挙げることができる。また、網目形成酸化物成分としては、B23及びSiO2を挙げることができる。また、前記主たる修飾酸化物成分の他、その他の修飾酸化物成分として、任意の金属酸化物を用いることができる。具体的な金属酸化物は、例えばZrO2、Al23、ZnO、CuO、NiO、CoO、MnO、Cr23、V25、MgO、Li2O、Na2O、K2O、TiO2、SnO2、Y23、Fe23等から選ばれる少なくとも一種であり、中でもZrO2、Al23、MnOから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。 When the glass composition is a resistor, it has a role of binding the conductive material and the additive to the substrate in the resistor. The glass composition can be used by mixing a modified oxide component, a network-forming oxide component, or the like as a raw material. Examples of the main modifying oxide component include alkaline earth oxides, specifically, at least one selected from CaO, SrO, and BaO. Examples of the network forming oxide component include B 2 O 3 and SiO 2 . In addition to the main modified oxide component, any other metal oxide can be used as another modified oxide component. Specific metal oxides, for example ZrO 2, Al 2 O 3, ZnO, CuO, NiO, CoO, MnO, Cr 2 O 3, V 2 O 5, MgO, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O , TiO 2 , SnO 2 , Y 2 O 3 , Fe 2 O 3, etc., among which at least one selected from ZrO 2 , Al 2 O 3 , and MnO is preferable.

ガラス組成物における各成分の含有量にはそれぞれ最適範囲が存在し、例えば主たる修飾酸化物成分の含有量が少なすぎると、導電性材料との反応性が低下し、TCR、STOL特性を劣化させるおそれがある。逆に、主たる修飾酸化物成分の含有量が多すぎる場合、抵抗体を形成した時に、過剰な金属酸化物の析出が起こり、特性、信頼性を劣化させるおそれがある。網目形成酸化物成分の含有量が少ない場合、ガラス組成物の軟化点が高くなるため、所定の焼成温度にて抵抗体を形成した場合、抵抗体の焼結が不十分となり、信頼性を著しく低下させるおそれがある。逆に、網目形成酸化物成分の含有量が多すぎる場合、ガラス組成物の耐水性が低下するため、抵抗体としたときの信頼性を著しく低下させるおそれがある。また、その他の修飾酸化物成分の含有量が少なすぎる場合、ガラス組成物の耐水性が低下するため、抵抗体としたときの信頼性を著しく低下させるおそれがある。逆に、その他の修飾酸化物成分の含有量が多すぎる場合、抵抗体を形成した時に、過剰な金属酸化物の析出が起こり、特性、信頼性を劣化させるおそれがある。   There is an optimum range for the content of each component in the glass composition. For example, if the content of the main modifying oxide component is too small, the reactivity with the conductive material is lowered and the TCR and STOL characteristics are deteriorated. There is a fear. On the other hand, when the content of the main modifying oxide component is too large, when a resistor is formed, excessive metal oxide may be deposited, which may deteriorate the characteristics and reliability. When the content of the network-forming oxide component is small, the softening point of the glass composition becomes high. Therefore, when a resistor is formed at a predetermined firing temperature, the resistor is not sufficiently sintered and the reliability is remarkably improved. May decrease. On the other hand, when the content of the network-forming oxide component is too large, the water resistance of the glass composition is lowered, and thus there is a possibility that the reliability when a resistor is used is significantly lowered. Moreover, when there is too little content of another modification oxide component, since the water resistance of a glass composition falls, there exists a possibility that the reliability when it may be set as a resistor may fall remarkably. On the other hand, when the content of other modified oxide components is too large, when a resistor is formed, excessive metal oxide may be deposited, which may deteriorate the characteristics and reliability.

抵抗体ペースト中のガラス組成物の含有量は、導電性材料、ガラス組成物、添加物の合計の重量を100重量%とした時に、47.7重量%〜90.6重量%とするのが好ましい。含有量が少ない場合、導電性材料、添加物の結着が不十分となり、信頼性が著しく低下するおそれがある。逆に、ガラス組成物の含有量が前記範囲を越えると、抵抗値が高くなり過ぎてしまい、抵抗体ペーストとしての使用に適さなくなるおそれがある。   The content of the glass composition in the resistor paste is 47.7 wt% to 90.6 wt% when the total weight of the conductive material, the glass composition, and the additive is 100 wt%. preferable. When the content is small, the binding of the conductive material and the additive becomes insufficient, and the reliability may be significantly lowered. On the other hand, if the content of the glass composition exceeds the above range, the resistance value becomes too high, which may make it unsuitable for use as a resistor paste.

抵抗体ペーストには、前述のガラス組成物、導電性材料の他、特性の調整等を目的として、添加物が含まれていてもよい。抵抗体ペーストにおける添加物の含有量は、ガラス組成物、導電性材料、及び添加物の合計重量を100重量%とした場合に、0〜27.2重量%とするのが好ましく、1.0重量%〜27.2重量%とするのがより好ましい。添加物の含有量が少ない場合、十分な特性の調整が困難となる。逆に、添加物の含有量が多すぎる場合、導電性材料、添加物の結着が不十分となり、信頼性が著しく低下するおそれがある。   In addition to the glass composition and the conductive material described above, the resistor paste may contain an additive for the purpose of adjusting characteristics. The content of the additive in the resistor paste is preferably 0 to 27.2% by weight when the total weight of the glass composition, the conductive material, and the additive is 100% by weight. It is more preferable to set it as weight%-27.2 weight%. When the content of the additive is small, it is difficult to sufficiently adjust the characteristics. On the other hand, when the content of the additive is too large, the binding of the conductive material and the additive becomes insufficient, and the reliability may be significantly reduced.

添加物としては、任意の金属酸化物を用いることができる。具体的には、MgO、TiO2、SnO2、ZnO、CoO、CuO、NiO、MnO、Mn34、Fe23、Cr23、Y23、V25等が挙げられる。中でも、TCR調整剤として効果の高い酸化物であるCuO、NiO、MgOが好ましい。それぞれの添加物の含有量が多すぎる場合、STOL特性が劣化するおそれがある。 Any metal oxide can be used as the additive. Specifically, like MgO, TiO 2, SnO 2, ZnO, CoO, CuO, NiO, MnO, Mn 3 O 4, Fe 2 O 3, Cr 2 O 3, Y 2 O 3, V 2 O 5 and the like It is done. Among these, CuO, NiO, and MgO, which are highly effective oxides as a TCR adjuster, are preferable. When there is too much content of each additive, there exists a possibility that a STOL characteristic may deteriorate.

有機ビヒクルは、ガラス組成物、導電性材料と添加物とを混練しペースト化させる役割を有し、この種の抵抗体ペーストに用いられるものがいずれも使用可能である。有機ビヒクルは、バインダを有機溶剤中に溶解することによって調製されるものである。バインダとしては、特に限定されず、例えば、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等、各種バインダから適宜選択すればよい。有機溶剤も限定されず、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等、各種有機溶剤から適宜選択すればよい。さらに、抵抗体ペーストの物性を調節するために、分散剤等の各種添加剤を加えてもよい。   The organic vehicle has a role of kneading the glass composition, the conductive material, and the additive into a paste, and any of those used for this type of resistor paste can be used. An organic vehicle is prepared by dissolving a binder in an organic solvent. It does not specifically limit as a binder, For example, what is necessary is just to select suitably from various binders, such as an ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent is not limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, and toluene. Furthermore, in order to adjust the physical properties of the resistor paste, various additives such as a dispersant may be added.

前記有機ビヒクルの配合比率であるが、ガラス組成物、導電性材料、及び添加物を合計した合計重量(W1)と、有機ビヒクルの重量(W2)の比率(W2/W1)が、0.25〜4(W2:W1=1:0.25〜1:4)であることが好ましい。より好ましくは、前記比率(W2/W1)が0.5〜2である。前記比率を外れると、抵抗体を例えば基板上に形成するのに適した粘度の抵抗体ペーストを得ることができなくなるおそれがある。   The organic vehicle compounding ratio is a ratio (W2 / W1) of the total weight (W1) of the glass composition, the conductive material, and the additive to the weight (W2) of the organic vehicle (0.25). -4 (W2: W1 = 1: 0.25 to 1: 4) is preferable. More preferably, the ratio (W2 / W1) is 0.5-2. If the ratio is outside the above range, a resistor paste having a viscosity suitable for forming a resistor on, for example, a substrate may not be obtained.

抵抗体を形成するには、前述の成分を含む抵抗体ペーストを例えば基板上にスクリーン印刷等の手法で印刷(塗布)し、850℃程度の温度で焼成すればよい。基板としては、Al23基板やBaTiO3基板の誘電体基板や、低温焼成セラミック基板、AlN基板等を用いることができる。基板形態としては、単層基板、複合基板、多層基板のいずれであってもよい。多層基板の場合、抵抗体は、表面に形成してもよいし、内部に形成してもよい。 In order to form the resistor, the resistor paste containing the above-described components may be printed (applied) on the substrate by a method such as screen printing and fired at a temperature of about 850 ° C. As the substrate, a dielectric substrate such as an Al 2 O 3 substrate or a BaTiO 3 substrate, a low-temperature fired ceramic substrate, an AlN substrate, or the like can be used. The substrate form may be any of a single layer substrate, a composite substrate, and a multilayer substrate. In the case of a multilayer substrate, the resistor may be formed on the surface or inside.

抵抗体の形成に際しては、通常、基板に電極となる導電パターンを形成するが、この導電パターンは、例えば、AgやPt、Pd等を含むAg系の良導電材料を含む導電ペーストを印刷することにより形成することができる。また、形成した抵抗体の表面に、ガラス膜等の保護膜を形成してもよい。   In forming the resistor, a conductive pattern to be an electrode is usually formed on the substrate, and this conductive pattern is printed with a conductive paste containing an Ag-based highly conductive material containing Ag, Pt, Pd, or the like, for example. Can be formed. Further, a protective film such as a glass film may be formed on the surface of the formed resistor.

本発明の抵抗体を適用可能な電子部品としては特に限定されないが、例えば単層または多層の回路基板、チップ抵抗器等の抵抗器、アイソレータ素子、C−R複合素子、モジュール素子の他、積層チップコンデンサ等のコンデンサやインダクタ等が挙げられ、コンデンサやインダクタ等の電極部分にも適用することができる。   The electronic component to which the resistor of the present invention can be applied is not particularly limited. For example, a single-layer or multi-layer circuit board, a resistor such as a chip resistor, an isolator element, a CR composite element, a module element, and a laminated layer Capacitors such as chip capacitors, inductors and the like can be mentioned, and the present invention can also be applied to electrode portions such as capacitors and inductors.

また、本発明の導電性材料は、抵抗体ペーストや抵抗体の導電性材料に限らず、あらゆる用途の導電性材料として利用することができ、例えば直接基板上に本発明の導電性材料を含むパターンを形成し、電極や配線として利用することも可能である。   Further, the conductive material of the present invention is not limited to the resistor paste or the conductive material of the resistor, but can be used as a conductive material for any application. For example, the conductive material of the present invention is directly included on a substrate. It is also possible to form a pattern and use it as an electrode or wiring.

以下、本発明を適用した具体的な実施例について、実験結果に基づいて説明する。なお、本発明が以下の実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。   Hereinafter, specific examples to which the present invention is applied will be described based on experimental results. Needless to say, the present invention is not limited to the following examples.

<ガラス組成物の作製>
23、SiO2、CaCO3、ZrO2を所定量秤量し、ボールミルにて混合した後、乾燥した。得られた粉末を5℃/分の速度で1300℃まで昇温し、その温度に1時間保持した後に急冷し、ガラス化した。得られたガラス化物をボールミルで粉砕し、ガラス組成物粉末を得た。作製したガラス組成物の組成は、CaO:B23:SiO2:ZrO2=34:36:25:5(mol%)である。
<Preparation of glass composition>
B 2 O 3 , SiO 2 , CaCO 3 and ZrO 2 were weighed in predetermined amounts, mixed in a ball mill, and then dried. The obtained powder was heated to 1300 ° C. at a rate of 5 ° C./min, held at that temperature for 1 hour, then rapidly cooled and vitrified. The obtained vitrified product was pulverized with a ball mill to obtain a glass composition powder. The composition of the produced glass composition is CaO: B 2 O 3 : SiO 2 : ZrO 2 = 34: 36: 25: 5 (mol%).

ここで、試料1(比較例に相当する。)では、1300℃から100℃まで、1秒以内に急冷した。したがって、平均冷却速度は、図1の期間A,Bとも103℃/秒以上である。一方、試料2(実施例に相当する。)では、1300℃から1100℃程度となるまで1秒間放冷し、その後、100℃まで1秒以内に急冷した。期間Aにおける平均冷却速度Aはおよそ202℃/秒、、期間Bにおける平均冷却速度Bは103℃/秒以上である。 Here, Sample 1 (corresponding to a comparative example) was rapidly cooled from 1300 ° C. to 100 ° C. within 1 second. Accordingly, the average cooling rate is 10 3 ° C / second or more for both periods A and B in FIG. On the other hand, Sample 2 (corresponding to the example) was allowed to cool to 1300 ° C. to about 1100 ° C. for 1 second, and then rapidly cooled to 100 ° C. within 1 second. The average cooling rate A in period A is approximately 20 2 ° C / second, and the average cooling rate B in period B is 10 3 ° C / second or more.

CaCO3粉末とRuO2粉末をCaRuO3となるように秤量し、ボールミルにて混合して乾燥した。得られた粉末を5℃/分の速度で1200℃まで昇温し、その温度に5時間保持した後、5℃/分の速度で室温まで冷却することによってCaRuO3の粉末を得た。得られた導電性材料は、ボールミルにて粉砕した。 CaCO 3 powder and RuO 2 powder were weighed to become CaRuO 3 , mixed in a ball mill and dried. The obtained powder was heated to 1200 ° C. at a rate of 5 ° C./min, held at that temperature for 5 hours, and then cooled to room temperature at a rate of 5 ° C./min to obtain a CaRuO 3 powder. The obtained conductive material was pulverized by a ball mill.

<添加物>
添加物として、CuO、NiO、MgO等を用いた。
<Additives>
As an additive, CuO, NiO, MgO or the like was used.

<有機ビヒクルの作製>
バインダとしてエチルセルロース、有機溶剤としてテルピネオールを用い、有機溶剤を加熱撹拌しながらバインダを溶かして、有機ビヒクルを作製した。
<Preparation of organic vehicle>
Using ethyl cellulose as the binder and terpineol as the organic solvent, the binder was dissolved while heating and stirring the organic solvent to prepare an organic vehicle.

<抵抗体ペーストの作製>
前述の導電性材料の粉末と、ガラス組成物粉末、添加物、及び有機ビヒクルを各組成となるように秤量し、3本ロールミルで混練し、抵抗体ペーストを得た。なお、導電性材料粉末、ガラス組成物粉末及び添加物粉末の合計重量と有機ビヒクルの重量の比は、得られた抵抗体ペーストがスクリーン印刷に適した粘度となるように、重量比で1:0.25〜1:4の範囲で調合し、抵抗体ペーストを作製した。
<Preparation of resistor paste>
The above-mentioned conductive material powder, glass composition powder, additive, and organic vehicle were weighed so as to have each composition, and kneaded with a three-roll mill to obtain a resistor paste. The ratio of the total weight of the conductive material powder, the glass composition powder and the additive powder to the weight of the organic vehicle is 1: 1 by weight so that the obtained resistor paste has a viscosity suitable for screen printing. A resistor paste was prepared by blending in the range of 0.25 to 1: 4.

<抵抗体の作製>
96%のアルミナ基板上に、Ag−Pt導体ペーストを所定形状にスクリーン印刷して乾燥させた。Ag−Pt導体ペーストにおけるAgの割合は95重量%、Ptの割合は5重量%とした。このアルミナ基板をベルト炉に入れ、投入から排出まで1時間のパターンで焼き付けを行った。この時の焼き付け温度は850℃、その温度での保持時間は10分間とした。
<Fabrication of resistor>
On a 96% alumina substrate, the Ag—Pt conductor paste was screen printed in a predetermined shape and dried. The Ag ratio in the Ag-Pt conductor paste was 95% by weight, and the Pt ratio was 5% by weight. This alumina substrate was placed in a belt furnace and baked in a pattern of 1 hour from charging to discharging. The baking temperature at this time was 850 ° C., and the holding time at that temperature was 10 minutes.

このようにして導体が形成されたアルミナ基板上に、先に作製した抵抗体ペーストをスクリーン印刷法にて所定の形状(1mm×1mmの方形状)のパターンで塗布し、乾燥した。その後、導体焼き付けと同じ条件で抵抗体ペーストを焼き付け、厚膜抵抗体を得た。   On the alumina substrate on which the conductor was formed in this manner, the resistor paste prepared previously was applied in a pattern of a predetermined shape (1 mm × 1 mm square shape) by screen printing and dried. Thereafter, the resistor paste was baked under the same conditions as the conductor baking to obtain a thick film resistor.

<抵抗体の特性評価>
(1)抵抗値
Agilent Technologies 社製の製品番号 34401Aにより測定。試料数24個の平均値を求めた。
<Evaluation of resistor characteristics>
(1) Resistance value
Measured with Agilent Technologies product number 34401A. The average value of 24 samples was determined.

(2)TCR
室温25℃を基準として、−55℃及び125℃へ温度を変えた時の抵抗値変化率を求めた。試料数10個の平均値である。−55℃、25℃、125℃の抵抗値をR-55、R25、R125(Ω/□)とおくと、TCR(ppm/℃)=[(R-55-R25)/R25/80]×1000000、あるいは、TCR(ppm/℃)=[(R125-R25)/R25/100]×1000000である。数値の大きい方をTCR値とした。
(2) TCR
The resistance value change rate when the temperature was changed to −55 ° C. and 125 ° C. was obtained based on the room temperature of 25 ° C. The average value of 10 samples. TCR (ppm / ° C) = [(R-55-R25) / R25 / 80] x resistance values of -55 ° C, 25 ° C, 125 ° C are R-55, R25, R125 (Ω / □) 1000000, or TCR (ppm / ° C.) = [(R125−R25) / R25 / 100] × 1000000. The larger value was taken as the TCR value.

(3)STOL(耐電圧特性)
厚膜抵抗体に試験電圧を5秒間印加し、その前後における抵抗値の変化率を求めた。試料数10個の平均値である。試験電圧=2.5×定格電圧であり、定格電圧=√(R/8)、Rは抵抗値(Ω/□)である。計算した試験電圧が200Vを越える抵抗値を持つ抵抗体については、試験電圧を200Vにて行った。
(3) STOL (withstand voltage characteristics)
A test voltage was applied to the thick film resistor for 5 seconds, and the change rate of the resistance value before and after that was determined. The average value of 10 samples. Test voltage = 2.5 × rated voltage, rated voltage = √ (R / 8), and R is a resistance value (Ω / □). For resistors having a resistance value with the calculated test voltage exceeding 200V, the test voltage was 200V.

(4)ヒートサイクル試験
抵抗体の信頼性試験の1つである。抵抗体を−55℃と125℃にそれぞれ晒すことを1サイクルとし、合計1000サイクル繰り返したときの抵抗値の変動ΔRを求めた。ΔR(%)<±1.0%であることが好ましい。
(4) Heat cycle test This is one of the reliability tests of resistors. The exposure of the resistor to −55 ° C. and 125 ° C. was taken as one cycle, and the resistance value variation ΔR was determined when 1000 cycles were repeated in total. It is preferable that ΔR (%) <± 1.0%.

<評価結果>
先ず、ガラス組成物として試料1(比較例に相当)を用いた抵抗体について特性を評価したところ、抵抗値1.807MΩ、TCR−64ppm、STOL−4.9%、ΔR1.2%であった。これに対して、ガラス組成物として試料2(実施例に相当)を用いた抵抗体では、抵抗値1.230MΩ、TCR−60ppm、STOL−3.9%、ΔR0.3%であり、STOL値が20%以上改善されるとともに、ΔRも極めて小さな値に抑えられた。
<Evaluation results>
First, when the characteristics of a resistor using Sample 1 (corresponding to a comparative example) as a glass composition were evaluated, the resistance value was 1.807 MΩ, TCR-64 ppm, STOL-4.9%, and ΔR 1.2%. . On the other hand, in the resistor using Sample 2 (corresponding to Example) as the glass composition, the resistance value is 1.230 MΩ, TCR-60 ppm, STOL-3.9%, ΔR 0.3%, and the STOL value. Was improved by 20% or more, and ΔR was suppressed to an extremely small value.

急冷の温度プロファイルを示す図である。It is a figure which shows the temperature profile of rapid cooling.

Claims (16)

酸化物混合粉末をるつぼ中で溶融し、溶融物を急冷してガラス化するガラス組成物の製造方法であって、
溶融温度をT℃、T℃から(T−200)℃までの平均冷却速度をA℃/秒、(T−200)℃から100℃までの平均冷却速度をB℃/秒としたときに、B>Aであることを特徴とするガラス組成物の製造方法。
A method for producing a glass composition comprising melting an oxide mixed powder in a crucible, quenching the melt, and vitrifying the mixture.
When the melting temperature is T ° C, the average cooling rate from T ° C to (T-200) ° C is A ° C / second, and the average cooling rate from (T-200) ° C to 100 ° C is B ° C / second, B> A, The manufacturing method of the glass composition characterized by the above-mentioned.
A>10であり、B>103であることを特徴とする請求項1記載のガラス組成物の製造方法。 The method for producing a glass composition according to claim 1, wherein A> 10 and B> 10 3 . 溶融後、るつぼを所定時間放冷してから溶融物を急冷することを特徴とする請求項1又は2記載のガラス組成物の製造方法。   The method for producing a glass composition according to claim 1 or 2, wherein after melting, the crucible is allowed to cool for a predetermined time and then the melt is quenched. 前記ガラス組成物は、主たる修飾酸化物成分としてCaO、SrO及びBaOから選ばれる少なくとも1種と、網目形成酸化物成分としてB23及びSiO2から選ばれる少なくとも1種とを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のガラス組成物の製造方法。 The glass composition contains at least one selected from CaO, SrO, and BaO as a main modifying oxide component, and at least one selected from B 2 O 3 and SiO 2 as a network forming oxide component. The method for producing a glass composition according to any one of claims 1 to 3, characterized in that: 前記ガラス組成物が、その他の修飾酸化物成分としてZrO、Al23、ZnOから選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項4記載のガラス組成物の製造方法。 Method for producing the glass composition, other modifier oxide ingredient as ZrO, Al 2 O 3, the glass composition according to claim 4, characterized in that it contains at least one selected from ZnO. 酸化物混合粉末をるつぼ中で溶融し、溶融物を急冷してガラス化してガラス組成物を得、当該ガラス組成物及び導電性材料を有機ビヒクルと混合する抵抗体ペーストの製造方法であって、
前記ガラス化に際し、溶融温度をT℃、T℃から(T−200)℃までの平均冷却速度をA℃/秒、(T−200)℃から100℃までの平均冷却速度をB℃/秒としたときに、B>Aであることを特徴とする抵抗体ペーストの製造方法。
A method for producing a resistor paste comprising melting an oxide mixed powder in a crucible, rapidly cooling the melt to vitrify to obtain a glass composition, and mixing the glass composition and the conductive material with an organic vehicle,
Upon the vitrification, the melting temperature is T ° C, the average cooling rate from T ° C to (T-200) ° C is A ° C / sec, the average cooling rate from (T-200) ° C to 100 ° C is B ° C / sec. And B> A, a method for producing a resistor paste.
A>10であり、B>103であることを特徴とする請求項6記載の抵抗体ペーストの製造方法。 The method of manufacturing a resistor paste according to claim 6, wherein A> 10 and B> 10 3 . 溶融後、るつぼを所定時間放冷してから溶融物を急冷することを特徴とする請求項6又は7記載の抵抗体ペーストの製造方法。   8. The method for producing a resistor paste according to claim 6, wherein after melting, the crucible is allowed to cool for a predetermined time and then the melt is quenched. 前記ガラス組成物は、主たる修飾酸化物成分としてCaO、SrO及びBaOから選ばれる少なくとも1種と、網目形成酸化物成分としてB23及びSiO2から選ばれる少なくとも1種とを含有することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項記載の抵抗体ペーストの製造方法。 The glass composition contains at least one selected from CaO, SrO, and BaO as a main modifying oxide component, and at least one selected from B 2 O 3 and SiO 2 as a network forming oxide component. The method for producing a resistor paste according to claim 6, wherein the resistor paste is produced. 前記ガラス組成物が、その他の修飾酸化物成分としてZrO、Al23、ZnOから選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項9記載の抵抗体ペーストの製造方法。 The method for producing a resistor paste according to claim 9, wherein the glass composition contains at least one selected from ZrO, Al 2 O 3 , and ZnO as another modified oxide component. 前記導電性材料が、RuO2、Ru複合酸化物の少なくとも1種であることを特徴とする請求項6乃至10のいずれか1項記載の抵抗体ペーストの製造方法。 The method of manufacturing a resistor paste according to claim 6, wherein the conductive material is at least one of RuO 2 and Ru composite oxide. 前記導電性材料が、RuO2、CaRuO3、SrRuO3、BaRuO3、Bi2Ru27から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項11記載の抵抗体ペーストの製造方法。 The conductive material, RuO 2, CaRuO 3, SrRuO 3, BaRuO 3, Bi 2 process according to claim 11, wherein the resistive paste, characterized in that at least one selected from Ru 2 O 7. NiO、CuO、MgOの少なくとも1種を添加物として添加混合することを特徴とする請求項6乃至12のいずれか1項記載の抵抗体ペーストの製造方法。   13. The method of manufacturing a resistor paste according to claim 6, wherein at least one of NiO, CuO, and MgO is added and mixed as an additive. 前記ガラス組成物、導電性材料、及び添加物を合計した合計重量と、前記有機ビヒクルの重量との比率を、1:0.25〜1:4とすることを特徴とする請求項6乃至13のいずれか1項記載の抵抗体ペーストの製造方法。   The ratio of the total weight of the glass composition, the conductive material, and the additive to the weight of the organic vehicle is set to 1: 0.25 to 1: 4. The method for producing a resistor paste according to any one of the above. 請求項6乃至14のいずれか1項記載の方法で抵抗体ペーストを形成し、この抵抗体ペーストを基板上に塗布し、焼成することにより抵抗体を形成することを特徴とする抵抗体の製造方法。   A resistor is formed by forming a resistor paste by the method according to any one of claims 6 to 14, and applying the resistor paste onto a substrate and firing the resistor paste. Method. 請求項6乃至14のいずれか1項記載の方法で抵抗体ペーストを形成し、この抵抗体ペーストを基板上に塗布し、焼成することにより抵抗体を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。   A resistor paste is formed by the method according to any one of claims 6 to 14, and the resistor paste is applied on a substrate and baked to form a resistor. Method.
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