JP2005203032A - Method for manufacturing multilayer structure optical recording medium, and light-transmitting stamper - Google Patents
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Description
本発明は、多層構造光記録媒体の製造方法等に関し、より詳しくは、光透過性スタンパを用いた多層構造光記録媒体の製造方法等に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer structure optical recording medium, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer structure optical recording medium using a light transmissive stamper.
近年、長時間の大容量データを記録・再生するために、1枚の媒体に2層以上の記録層又は信号層を設け多層構造光記録媒体が開発されている。このような多層構造光記録媒体の例として挙げられるDVD(Degital Versatile Disk)−Rは、片面に記録層又は信号層を有するディスクを、紫外線硬化型接着剤層を介して、それぞれの記録層又は信号層が向き合うように貼り合わせて製造される。
一方、近年の光ディスクの高密度化に伴い、記録・再生のためにBlu−rayのような短波長のレーザ光が使用されるようになると、対物レンズの焦点深度が浅くなり、基板の傾きや厚さの変動により、対物レンズに収差が発生しやすくなる。このため、記録・再生用レーザ光が通過する基板を薄くする必要性が生じた。例えば、Blu−ray Diskの場合、厚さ0.1mmの中に、2層以上の記録層又は信号層が積層される構造が必要となり、ディスクを貼り合わせる方法では多層構造光記録媒体の製造が困難とされている。
そこで、このようなBlu−ray Diskの製造方法として、フォトポリメリゼーション法(Photo Polymerization:以下、「2P法」と記すことがある。)と呼ばれる製造方法が開発された。2P法によれば、例えば、光透過性材料からなる基板上に形成された記録層又は信号層の上に、通常、反射層等の他の層を介して、紫外線硬化性樹脂原料を塗布し、この上に微細な情報・記録パターンを有する金属スタンパを載置し、次いで基板側から照射された紫外線により紫外線硬化性樹脂原料を硬化させた後金属スタンパを剥離し、表面に情報・記録パターンが転写された樹脂層が形成される。その後、この樹脂層上に、第2の記録層又は信号層が形成されて、多層構造光記録媒体が製造される(特許文献1参照)。
In recent years, in order to record and reproduce a large amount of data for a long time, a multi-layer structure optical recording medium has been developed in which two or more recording layers or signal layers are provided on one medium. A DVD (Digital Versatile Disk) -R, which is an example of such a multi-layer structure optical recording medium, has a recording layer or a signal layer on one side, and each recording layer or recording layer via an ultraviolet curable adhesive layer. It is manufactured by pasting together so that the signal layers face each other.
On the other hand, when a laser beam having a short wavelength such as Blu-ray is used for recording / reproducing with the recent increase in the density of optical discs, the depth of focus of the objective lens becomes shallow, the tilt of the substrate and Due to the thickness variation, the objective lens is likely to generate aberration. For this reason, it has become necessary to thin the substrate through which the recording / reproducing laser beam passes. For example, in the case of a Blu-ray Disk, a structure in which two or more recording layers or signal layers are laminated in a thickness of 0.1 mm is required. It is considered difficult.
Thus, as a method for producing such a Blu-ray Disk, a production method called a photopolymerization method (hereinafter referred to as “2P method”) has been developed. According to the 2P method, for example, an ultraviolet curable resin material is applied on a recording layer or a signal layer formed on a substrate made of a light transmissive material, usually via another layer such as a reflective layer. Then, a metal stamper having a fine information / recording pattern is placed thereon, then the UV curable resin material is cured by ultraviolet rays irradiated from the substrate side, and then the metal stamper is peeled off, and the information / recording pattern is formed on the surface. A resin layer to which is transferred is formed. Thereafter, a second recording layer or signal layer is formed on the resin layer, and a multilayer structure optical recording medium is manufactured (see Patent Document 1).
ところで、2P法では、記録層又は信号層の上に塗布された紫外線硬化性樹脂原料は、光透過性材料からなる基板側から照射された紫外線により硬化されて樹脂層が形成される。このとき、記録層又は信号層の上に、通常、反射層等の他の層が形成されているため、基板側から照射される紫外線が透過し難いという問題がある。このため、積層される記録層又は信号層の数を重ねるほど紫外線の透過率が低下し、紫外線硬化性樹脂原料を硬化させることが困難になる。
また、2P法の場合、紫外線硬化性樹脂原料を硬化させた後のスタンパをスムーズに剥離することが必要とされる。しかし、紫外線硬化性樹脂の種類により、紫外線硬化性樹脂にスタンパが密着したまま硬化したり、紫外線硬化性樹脂とスタンパとが剥離し難い、又は、剥離しても樹脂層の表面の均一性が低下する等の製造上の問題が生じている。
By the way, in the 2P method, the ultraviolet curable resin raw material applied on the recording layer or the signal layer is cured by ultraviolet rays irradiated from the substrate side made of a light transmissive material to form a resin layer. At this time, since another layer such as a reflective layer is usually formed on the recording layer or signal layer, there is a problem that it is difficult to transmit ultraviolet rays irradiated from the substrate side. For this reason, as the number of recording layers or signal layers to be stacked increases, the transmittance of ultraviolet rays decreases, and it becomes difficult to cure the ultraviolet curable resin material.
Further, in the case of the 2P method, it is necessary to smoothly peel off the stamper after the ultraviolet curable resin material is cured. However, depending on the type of UV curable resin, the UV curable resin is hardened while the stamper is in close contact, or the UV curable resin and the stamper are not easily peeled off, or even if peeled, the surface of the resin layer is uniform. Manufacturing problems such as lowering have occurred.
本発明は、このような2P法により多層構造光記録媒体を製造する上で浮き彫りになった技術的課題を解決すべくなされたものである。
即ち、本発明の目的は、製造効率が改善された多層構造光記録媒体の製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、2P法により多層構造光記録媒体を製造する際に使用されるスタンパを提供することにある。
The present invention has been made to solve the technical problem that has emerged when manufacturing a multilayer optical recording medium by the 2P method.
That is, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer structure optical recording medium with improved manufacturing efficiency.
Another object of the present invention is to provide a stamper used when manufacturing a multilayer structure optical recording medium by the 2P method.
かかる課題を解決すべく、本発明においては、2P法による多層構造光記録媒体の製造方法において、硬化された紫外線硬化性樹脂との離型性が改善された光透過性スタンパを使用している。即ち、本発明が適用される多層構造光記録媒体の製造方法は、基板上に形成された記録層又は信号層上に、直接又は他の層を介して光硬化性樹脂層を塗布する工程と、塗布された光硬化性樹脂層上に、光硬化性樹脂層側の表面にニッケル層を有する凹凸形状が形成された光透過性スタンパを載置し、光透過性スタンパ側から光を照射して光硬化性樹脂層を硬化させた樹脂層を形成する工程と、形成された樹脂層と光透過性スタンパとを剥離し、樹脂層に凹凸形状を転写する工程と、を有することを特徴とするものである。
ここで、光透過性スタンパは、ニッケル層の表面にプラズマ処理が施されていることを特徴とすれば、紫外線硬化樹脂等から形成される樹脂層と光透過性スタンパとを、無理な負荷をかけることなく容易に剥離することができる。その結果、記録層、樹脂層の変形が防止される。また、ニッケル層は、酸素ガス及び/又はフッ化炭素ガスによるプラズマ処理が施されていることが好ましい。さらに、このように形成された樹脂層上に、直接又は他の層を介して、他の記録層又は信号層を形成する工程を繰り返すことにより、多層構造光記録媒体の製造効率を高めることができる。
In order to solve this problem, in the present invention, a light-transmitting stamper with improved releasability from a cured ultraviolet curable resin is used in a method for producing a multilayer structure optical recording medium by the 2P method. . That is, a method for producing a multilayer structure optical recording medium to which the present invention is applied includes a step of applying a photocurable resin layer directly or via another layer on a recording layer or a signal layer formed on a substrate. A light transmissive stamper having an uneven shape with a nickel layer formed on the surface of the light curable resin layer is placed on the coated light curable resin layer, and light is irradiated from the light transmissive stamper side. A step of forming a resin layer obtained by curing the photocurable resin layer, and a step of peeling the formed resin layer and the light transmissive stamper and transferring the uneven shape to the resin layer. To do.
Here, if the light transmissive stamper is characterized in that the surface of the nickel layer is subjected to plasma treatment, the resin layer formed of an ultraviolet curable resin or the like and the light transmissive stamper are subjected to an unreasonable load. It can be easily peeled off without applying. As a result, deformation of the recording layer and the resin layer is prevented. The nickel layer is preferably subjected to plasma treatment with oxygen gas and / or fluorocarbon gas. Furthermore, the manufacturing efficiency of the multilayer optical recording medium can be improved by repeating the process of forming another recording layer or signal layer directly or via another layer on the resin layer thus formed. it can.
次に、本発明は、基板上に形成された記録層又は信号層の上に、樹脂層を介して他の記録層又は信号層が少なくとも1層形成される多層構造光記録媒体の製造方法において、樹脂層は、表面に樹脂層との離型性が改良される処理が施された光透過性スタンパを用いて、フォトポリメリゼーション法により形成されることを特徴とする多層構造光記録媒体の製造方法として把握される。
ここで、光透過性スタンパは、表面にスパッタ又は蒸着法により形成されたニッケル層を有するガラス基板から形成されることを特徴とすれば、光透過性スタンパ側から照射された光により樹脂層を形成することができる。このとき、樹脂層が、光硬化性樹脂からなることが好ましい。
Next, the present invention provides a method for producing a multilayer structure optical recording medium in which at least one other recording layer or signal layer is formed on a recording layer or signal layer formed on a substrate via a resin layer. The multilayered optical recording medium is characterized in that the resin layer is formed by a photopolymerization method using a light-transmitting stamper whose surface has been subjected to a treatment for improving releasability from the resin layer. It is grasped as a manufacturing method.
Here, if the light transmissive stamper is formed from a glass substrate having a nickel layer formed on the surface by sputtering or vapor deposition, the resin layer is formed by light irradiated from the light transmissive stamper side. Can be formed. At this time, it is preferable that a resin layer consists of photocurable resin.
一方、本発明は、フォトポリメリゼーション法により樹脂層を形成する工程を有する多層構造光記録媒体の製造方法において使用されるスタンパであって、スタンパは、樹脂層と対向する側の表面に光透過率が30%以上になるようにニッケル層が形成されたガラス基板からなることを特徴とする光透過性スタンパとして把握される。
ここで、ニッケル層の厚さが、20nm〜50nmであることが好ましい。さらに、ニッケル層の表面が、酸素ガスおよび/又はフッ化炭素ガスを用いたプラズマ処理が施されていることが好ましい。
On the other hand, the present invention is a stamper used in a method for producing a multilayer structure optical recording medium having a step of forming a resin layer by a photopolymerization method. It is understood as a light transmissive stamper characterized by comprising a glass substrate on which a nickel layer is formed so that the transmittance is 30% or more.
Here, the thickness of the nickel layer is preferably 20 nm to 50 nm. Furthermore, it is preferable that the surface of the nickel layer is subjected to plasma treatment using oxygen gas and / or fluorocarbon gas.
かくして本発明によれば、2P法による多層構造光記録媒体の製造効率が改善される。 Thus, according to the present invention, the manufacturing efficiency of the multilayer structure optical recording medium by the 2P method is improved.
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態という。)について詳述する。
図1は、本実施の形態が適用される多層構造光記録媒体の製造方法を説明する図である。図1には、多層構造光記録媒体の製造方法の例として、2つの記録層又は信号層を有する多層構造光記録媒体の製造方法が示されている。
図1(f)に示された多層構造光記録媒体100は、ポリカーボネート等の光透過性材料で形成されたディスク状の第1基板101と、この第1基板101上に、第1記録層102と、半透明の第1反射層103と、紫外線硬化性樹脂からなる光透過性の樹脂層104と、第2記録層105と、第2反射層106と、最外層を形成する保護層107とが、順番に積層された構造を有している。第1基板101及び樹脂層104上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成している。多層構造光記録媒体100の光情報の記録・再生は、第1基板101側から第1記録層102及び第2記録層105に照射されたレーザ光108により行われる。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment of the present invention) will be described in detail.
FIG. 1 is a diagram for explaining a method of manufacturing a multilayer optical recording medium to which the present embodiment is applied. FIG. 1 shows a method for manufacturing a multilayer optical recording medium having two recording layers or signal layers as an example of a method for manufacturing a multilayer optical recording medium.
A multilayer-structure optical recording medium 100 shown in FIG. 1 (f) includes a disk-shaped
図1(a)に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成されたポリカーボネート製の第1基板101を、ニッケル製スタンパ等を用いて射出成形等により作製する。次に、第1基板101の凹凸を有する側の表面に第1記録層102を成膜する。第1記録層102を成膜した後、Ag合金等をスパッタまたは蒸着することにより、第1記録層102上に第1反射層103を成膜する。
続いて、図1(b)に示すように、第1反射層103の表面全体に紫外線硬化性樹脂原料をスピンコート等により塗布し、紫外線硬化性樹脂原料層104aを形成する。
次に、図1(c)に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層104aに対向する側の表面にニッケル層111が形成された凹凸形状を有するガラス製の光透過性スタンパ110を紫外線硬化性樹脂原料層104a上に載置し、紫外線硬化性樹脂原料層104aの厚さが25μmになるように押し当て、この状態で光透過性スタンパ110側から光透過性スタンパ110を介して紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分に硬化したところで光透過性スタンパ110を剥離し、紫外線硬化性樹脂の表面に、光透過性スタンパ110の凹凸が転写された樹脂層104(図1(d))を形成する。
続いて、図1(d)に示すように、樹脂層104上に第2記録層105を成膜する。そして、図1(e)示すように、Ag合金等をスパッタ蒸着することにより第2記録層105上に第2反射層106を成膜する。その後、図1(f)に示すように、第2反射層106上に紫外線硬化性樹脂を例えばスピンコート法により塗布した後に硬化させ、厚さ75μmの保護層107を形成し、多層構造光記録媒体100の製造が完了する。
尚、記録層をさらに積層する場合は、光透過性スタンパ110を用いて紫外線硬化性樹脂を硬化させる操作を繰り返す。
As shown in FIG. 1A, a
Subsequently, as shown in FIG. 1B, an ultraviolet curable resin material is applied to the entire surface of the first
Next, as shown in FIG. 1C, a glass light-transmitting stamper 110 having a concavo-convex shape in which a nickel layer 111 is formed on the surface facing the ultraviolet curable resin
Subsequently, as shown in FIG. 1D, a
In addition, when the recording layer is further laminated, the operation of curing the ultraviolet curable resin using the light transmissive stamper 110 is repeated.
次に、光透過性スタンパ110について説明する。図2は、光透過性スタンパ110を説明する図である。図2に示した光透過性スタンパ110は、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された光透過性のガラス基板112と、この凹凸形状の表面に形成されたニッケル層111とを有している。ガラス基板112の表面に形成された凹凸形状は、多層構造光記録媒体100の第1基板101の表面に形成された凹凸形状が反転された形状を有している。ガラス基板112の厚さは、通常、0.5mm〜6mmである。
ニッケル層111は、例えば、ガラス基板112の凹凸形状の表面にニッケルをスパッタして形成される。ニッケル層111の厚さは、通常、20nm〜50nmである。ニッケル層111の厚さがこの範囲であれば、ガラス基板112の光透過率が30%以上となり、十分な光透過性を有し、光透過性スタンパ110を介して紫外線を照射すると、紫外線硬化性樹脂等を効率よく硬化させることが出来、生産性を向上させることが出来る。凹凸形状の表面にニッケル層111が形成されることにより、光透過性スタンパ110と紫外線硬化性樹脂原料層104a(図1(c))を硬化させて形成した樹脂層104(図1(d))との離型性が大幅に改善され、樹脂層104(図1(d))に無理な負荷をかけることなく光透過性スタンパ110を容易に剥離することができる。
Next, the light transmissive stamper 110 will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating the light transmissive stamper 110. The light transmissive stamper 110 shown in FIG. 2 has a light transmissive glass substrate 112 having grooves and lands and prepits formed on the surface with irregularities, and a nickel layer 111 formed on the surface of the irregularities. ing. The uneven shape formed on the surface of the glass substrate 112 has a shape obtained by inverting the uneven shape formed on the surface of the
The nickel layer 111 is formed, for example, by sputtering nickel on the uneven surface of the glass substrate 112. The thickness of the nickel layer 111 is usually 20 nm to 50 nm. If the thickness of the nickel layer 111 is in this range, the light transmittance of the glass substrate 112 is 30% or more, and has sufficient light transmittance. It is possible to efficiently cure the functional resin and improve productivity. By forming the nickel layer 111 on the uneven surface, the resin layer 104 (FIG. 1D) formed by curing the light transmissive stamper 110 and the UV curable resin
本実施の形態においては、光透過性スタンパ110は、ニッケル層111の表面にプラズマ処理が施されることが好ましい。ニッケル層111の表面がプラズマ処理されることにより、光透過性スタンパ110と樹脂層104(図1(d))との離型性がさらに改善される。プラズマ処理の際に用いられる気体は特に限定されないが、通常、酸素、四フッ化炭素のようなフッ化炭素ガスが使用される。プラズマ処理は、これらの気体をそれぞれ単独に使用する場合、または、これらの気体の両方を使用する場合のいずれも可能である。プラズマ処理が施されることにより、ニッケル層111の表面には、酸素原子又はフッ素原子が付加され、例えば、NiOx、NiFx等が形成される。 In the present embodiment, the light transmissive stamper 110 is preferably subjected to plasma treatment on the surface of the nickel layer 111. By performing plasma treatment on the surface of the nickel layer 111, the releasability between the light transmissive stamper 110 and the resin layer 104 (FIG. 1D) is further improved. The gas used in the plasma treatment is not particularly limited, but usually a fluorocarbon gas such as oxygen or carbon tetrafluoride is used. The plasma treatment can be performed either when these gases are used alone or when both of these gases are used. By performing the plasma treatment, oxygen atoms or fluorine atoms are added to the surface of the nickel layer 111 to form, for example, NiOx, NiFx or the like.
本実施の形態では、光透過性スタンパ110にプラズマ処理が施されることにより、光透過性スタンパ110の表面エネルギーが低減される。表面エネルギーの指標である臨界表面張力(単位:dyn/cm)の測定値は、ガラス基板112では42であるのが、プラズマ処理されたニッケル層111では40に低減し、紫外線硬化性樹脂の表面張力(46)との差が大きくなっている。これにより光透過性スタンパ110と樹脂層104(図1(d))と離型性がさらに改善され、樹脂層104と光透過性スタンパ110とを、無理な負荷をかけることなく容易に剥離することができる。また、第1記録層102及び第1反射層103が変形するおそれが減少する等、多層構造光記録媒体100の製造効率が改善される。
In the present embodiment, the surface energy of the light transmissive stamper 110 is reduced by performing plasma treatment on the light transmissive stamper 110. The measured value of critical surface tension (unit: dyn / cm), which is an index of surface energy, is 42 in the glass substrate 112, but is reduced to 40 in the plasma-treated nickel layer 111, and the surface of the ultraviolet curable resin is reduced. The difference from the tension (46) is large. This further improves the releasability between the light transmissive stamper 110 and the resin layer 104 (FIG. 1D), and the
次に、図1(f)に示された多層構造光記録媒体100を構成する各層について簡単に説明する。
(第1基板)
第1基板101は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等、光学特性に優れることが望ましい。また射出成形が容易である等、成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、多層構造光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。第1基板101を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に、非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。第1基板101の厚さは、通常、10μm〜2mmであり、好ましくは600μm程度である。
Next, each layer constituting the multilayer optical recording medium 100 shown in FIG. 1 (f) will be briefly described.
(First substrate)
It is desirable that the
(第1記録層)
第1記録層102は、例えば、350nm〜900nm程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λmaxを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する有機色素材料;非晶質状態と結晶状態との屈折率差によって生じる反射率差および位相差変化を利用して記録情報信号の検出が行われる相変化型記録材料が挙げられる。有機色素材料としては、例えば、フタロシアニン色素、シアニン色素、アントラキノン系色素等が挙げられる。相変化型記録材料としては、例えば、SbTe系、GeTe系、GeSbTe系、InSbTe系、AgSbTe系、AgInSbTe系等が挙げられる。第1記録層102の膜厚は特に限定されないが、通常、5nm〜3μmである。第1記録層102の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。
(First recording layer)
The
(第1反射層)
第1反射層103を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等が挙げられる。第1反射層103の厚さは、通常、3nm〜50nmである。第1反射層103を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
(First reflective layer)
The material constituting the first
(樹脂層)
樹脂層104を構成する光硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂及びカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、いずれも使用することができる。ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、単官能(メタ)アクリレート及び多官能(メタ)アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。
(Resin layer)
Examples of the photocurable resin constituting the
(第2記録層)
第2記録層105は、前述した第1記録層102に用いる材料と同じでも良いし異なっていてもよい。第2記録層105を構成する材料、成膜方法等については、第1記録層102と同様に説明され、製膜方法としては、湿式製膜法が好ましい。第2記録層105の膜厚は、通常、10nm〜3μmである。
(第2反射層)
第2反射層106を構成する材料、成膜方法等については、第1反射層103と同様に説明される。第2反射層106の厚さは、通常、20nm〜400nmである。また、第2反射層106の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために無機系または有機系の樹脂層、接着層を設けることもできる。
(第2基板)
保護層107は、機械的安定性が高いことが好ましい。このような材料としては、第1基板101に用いうる材料と同じものが挙げられる。また、紫外線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂等が挙げられる。保護層107の厚さは0.3mm〜3mmである。
(Second recording layer)
The
(Second reflection layer)
The material constituting the second
(Second board)
The protective layer 107 preferably has high mechanical stability. Examples of such a material include the same materials that can be used for the
100…多層構造光記録媒体、101…第1基板、102…第1記録層、103…第1反射層、104…樹脂層、104a…紫外線硬化性樹脂原料層、105…第2記録層、106…第2反射層、107…保護層、108…レーザ光、110…光透過性スタンパ、111…ニッケル層、112…ガラス基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Multi-layer structure optical recording medium, 101 ... 1st board | substrate, 102 ... 1st recording layer, 103 ... 1st reflection layer, 104 ... Resin layer, 104a ... Ultraviolet curable resin raw material layer, 105 ... 2nd recording layer, 106 ... Second reflective layer, 107 ... Protective layer, 108 ... Laser light, 110 ... Light transmissive stamper, 111 ... Nickel layer, 112 ... Glass substrate
Claims (10)
塗布された前記光硬化性樹脂層上に、当該光硬化性樹脂層側の表面にニッケル層を有する凹凸形状が形成された光透過性スタンパを載置し、前記光透過性スタンパ側から光を照射して当該光硬化性樹脂層を硬化させた樹脂層を形成する工程と、
形成された前記樹脂層と前記光透過性スタンパとを剥離し、当該樹脂層に前記凹凸形状を転写する工程と、を有することを特徴とする多層構造光記録媒体の製造方法。 A step of applying a photocurable resin layer directly or via another layer on the recording layer or signal layer formed on the substrate;
On the applied photocurable resin layer, a light transmissive stamper having a concavo-convex shape having a nickel layer formed on the surface of the photocurable resin layer is placed, and light is transmitted from the light transmissive stamper side. Forming a resin layer by irradiating and curing the photocurable resin layer; and
And a step of peeling the formed resin layer and the light transmissive stamper, and transferring the uneven shape to the resin layer.
前記樹脂層は、表面に当該樹脂層との離型性が改良される処理が施された光透過性スタンパを用いて、フォトポリメリゼーション法により形成されることを特徴とする多層構造光記録媒体の製造方法。 In the method of manufacturing a multilayer structure optical recording medium in which at least one other recording layer or signal layer is formed on a recording layer or signal layer formed on a substrate via a resin layer,
The multilayered optical recording is characterized in that the resin layer is formed by a photopolymerization method using a light-transmitting stamper whose surface has been treated to improve releasability from the resin layer. A method for manufacturing a medium.
前記スタンパは、前記樹脂層と対向する側の表面に光透過率が30%以上になるようにニッケル層が形成されたガラス基板からなることを特徴とする光透過性スタンパ。 A stamper used in a method for producing a multilayer structure optical recording medium having a step of forming a resin layer by a photopolymerization method,
The light-transmitting stamper is characterized in that the stamper is made of a glass substrate on which a nickel layer is formed so that the light transmittance is 30% or more on the surface facing the resin layer.
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