JP2005196885A - Magnetic recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tape-shaped magnetic recording medium capable of realizing high density recording by applying a recording layer constitution of a hard disk to the tape-shaped magnetic recording medium. <P>SOLUTION: In the magnetic recording medium 10 wherein at least an amorphous layer 3, a seed layer 4, a base layer 5, a magnetic layer 6 and a protective layer 7 are successively formed on a non-magnetic substrate 1 consisting of a long-length polymer film, the seed layer 4 consists of any of Ti, Cr, Mo, W, Zr, a Ti alloy, a Cr alloy and a Zr alloy, the base layer 5 consists of a Ru film and the magnetic layer 6 has a granular structure consisting of crystal grains having ferromagnetism and non-magnetic grain boundary surrounding the grains. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、高密度記録型の磁気記録媒体に関するものであり、特に、再生用磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)や、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド(GMRヘッド)のような、高感度型の磁気ヘッドを用いたシステムに好適なテープ状の磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a high-density recording type magnetic recording medium, and in particular, as a reproducing magnetic head, a magnetoresistive effect type magnetic head (MR head) or a giant magnetoresistive effect type magnetic head (GMR head). The present invention also relates to a tape-like magnetic recording medium suitable for a system using a high-sensitivity magnetic head.

近年、磁気記録媒体においては、大容量のデータを取り扱うために、高密度記録化への要求が益々高まってきている。最近では、さらなる高密度記録化を達成するために、記録信号の再生を行う際に用いる磁気ヘッドについて、従来の誘導型ヘッドに代わり、高感度型の磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)や、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド(GMRヘッド)が適用されるようになってきており、ハードディスクだけではなく、いわゆる磁気テープに対しても適用されるようになってきている。   In recent years, in magnetic recording media, in order to handle a large amount of data, there is an increasing demand for higher density recording. Recently, in order to achieve higher density recording, a magnetic head used for reproducing a recording signal is replaced with a highly sensitive magnetoresistive head (MR head) instead of a conventional induction head. The giant magnetoresistive effect type magnetic head (GMR head) has been applied, and is applied not only to hard disks but also to so-called magnetic tapes.

上記のような高密度記録型の磁気テープ媒体としては、従来、真空蒸着法によって磁気記録層が形成された、いわゆるCoO−O蒸着テープが主に知られているが、さらなる高密度記録化への要望に応じるべく、磁気記録媒体の薄層化が進み、同時に良好な磁気特性をも確保するべく、研究が進められたが、これらの特性を両立させることは、技術的に限界に近づいていると言える。   As the above-described high-density recording type magnetic tape medium, conventionally, a so-called CoO—O vapor-deposited tape in which a magnetic recording layer is formed by a vacuum vapor deposition method is mainly known. In order to meet the demands of magnetic recording media, the magnetic recording medium has been made thinner, and at the same time, research has been carried out to ensure good magnetic properties. I can say that.

一方、基板上にCoPt系やCoCr系の金属薄膜をスパッタリング法によって形成した構成を有するハードディスク(例えば、特許文献1〜4参照。)の分野においても、現在、飛躍的な高密度記録化が進んでいる。   On the other hand, in the field of hard disks having a configuration in which a CoPt-based or CoCr-based metal thin film is formed on a substrate by a sputtering method (see, for example, Patent Documents 1 to 4), dramatic high-density recording is currently progressing. It is out.

特開平7−57236号公報JP-A-7-57236 特開平7−73433号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-73433 特開平9−198641号公報JP-A-9-198641 特開2003−123240号公報JP 2003-123240 A

上述したような従来の現状に鑑み、ハードディスクの記録層構成を磁気テープの記録層に応用させる技術に関する検討がなされた。
しかしながら、ハードディスクの製造工程において、記録層をスパッタリング法によって基板上に成膜する際には通常300℃以上の加熱処理を施すため、基板は極めて高い耐熱性を有する材料よりなるものである必要とされている。
In view of the conventional situation as described above, studies have been made on a technique for applying the recording layer configuration of a hard disk to a recording layer of a magnetic tape.
However, in the manufacturing process of the hard disk, when the recording layer is formed on the substrate by the sputtering method, heat treatment is usually performed at 300 ° C. or higher, and therefore the substrate needs to be made of a material having extremely high heat resistance. Has been.

すなわち、従来のハードディスクの記録層構成をテープ状の磁気記録媒体に応用することを考えると、加熱温度に耐えられる材料として、ポリイミド等の極めて耐熱性に優れた材料が用いることが必要となり、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)等のいわゆる汎用性の高いプラスチックフィルムを適用できないため、実用上コスト高になり現実的ではないと考えられてきた。   That is, considering the application of the recording layer configuration of a conventional hard disk to a tape-like magnetic recording medium, it is necessary to use a material with extremely high heat resistance, such as polyimide, as a material that can withstand the heating temperature. Since a so-called versatile plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) cannot be applied, it has been considered practically expensive and impractical.

上述したような問題を検討すると、高温加熱処理工程を必要とせず、室温程度の低温でも成膜可能なCo−Pt−Crを主体としてSi酸化物を含有する元素構成の磁性層を磁気テープ媒体の記録層として応用することが考えられる(例えば、上記特許文献4参照)が、プラスチックフィルム上にこのような磁性層を成膜した場合、格子のミスマッチにより、結晶配向が乱れ、著しく媒体ノイズが高いものとなるという問題が生じた。   Considering the above-described problems, a magnetic tape medium having an elemental magnetic layer mainly composed of Co—Pt—Cr and containing Si oxide, which can be formed at a low temperature of about room temperature without requiring a high-temperature heat treatment step. However, when such a magnetic layer is formed on a plastic film, the crystal orientation is disturbed due to lattice mismatch, and the medium noise is remarkably increased. The problem of being expensive has arisen.

さらに、磁気テープの支持体とするプラスチックフィルムの表面に、O2やH2Oが吸着していたり、あるいはプラスチックフィルム中に混入していたりすると、これらが磁性層の結晶配向性を乱し、媒体ノイズ増大の原因となるため、これらについての改善も必要である。 Furthermore, if O 2 or H 2 O is adsorbed on the surface of the plastic film as the support of the magnetic tape or is mixed in the plastic film, these disturb the crystal orientation of the magnetic layer, Since this causes an increase in medium noise, improvement of these is also necessary.

そこで本発明においては、上述したような、ハードディスクの記録層構成をテープ状の磁気記録媒体に応用するための各種問題点の解決を図り、従来にない高密度記録を実現可能なテープ状の磁気記録媒体を提供することとした。   Therefore, in the present invention, various problems for applying the recording layer configuration of the hard disk as described above to the tape-like magnetic recording medium are solved, and the tape-like magnetic that can realize unprecedented high-density recording is achieved. It was decided to provide a recording medium.

本発明においては、長尺状の高分子フィルムよりなる非磁性支持体上に、少なくとも、アモルファス層、シード層、下地層、磁性層、及び保護層が順次形成されてなり、シード層は、Ti、Cr、Mo、W、Zr、Ti合金、Cr合金、Zr合金のいずれかよりなり、下地層はRuよりなり、磁性層は、強磁性を有する結晶粒と、それを取り巻く非磁性粒界からなるグラニュラー構造を有している磁気記録媒体を提供する。   In the present invention, at least an amorphous layer, a seed layer, an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed on a nonmagnetic support made of a long polymer film. , Cr, Mo, W, Zr, Ti alloy, Cr alloy, Zr alloy, the underlayer is made of Ru, and the magnetic layer is composed of crystal grains having ferromagnetism and nonmagnetic grain boundaries surrounding it. A magnetic recording medium having a granular structure is provided.

また、本発明の磁気記録媒体においては、前記非磁性支持体と、前記アモルファス層との間に、O2、あるいはH2Oを封止する機能を有するバリア層を形成するものとする。 In the magnetic recording medium of the present invention, a barrier layer having a function of sealing O 2 or H 2 O is formed between the nonmagnetic support and the amorphous layer.

本発明の構成によれば、非磁性支持体(プラスチックフィルム)上にアモルファス層を形成したことにより、格子間ミスマッチに関し、シード層への影響が抑制される。   According to the configuration of the present invention, since the amorphous layer is formed on the nonmagnetic support (plastic film), the influence on the seed layer is suppressed with respect to the interstitial mismatch.

また、非磁性支持体とシード層との間に、バリア層を形成することにより、非磁性支持体からのO2やH2Oが抑止される。 Further, by forming a barrier layer between the nonmagnetic support and the seed layer, O 2 and H 2 O from the nonmagnetic support are suppressed.

本発明によれば、非磁性支持体(プラスチックフィルム)上にアモルファス層を形成したことにより、格子間ミスマッチに関し、その上層に形成されるシード層への影響が抑制され、さらにこれらの上層として形成される磁性層の結晶配向性の改善が図られ、ハードディスクの記録層構成をテープ状の磁気記録媒体に応用された、従来にない高密度記録を実現可能なテープ状の磁気記録媒体が得られた。   According to the present invention, since the amorphous layer is formed on the nonmagnetic support (plastic film), the influence on the seed layer formed on the upper layer is suppressed with respect to the interstitial mismatch, and further formed as the upper layer. As a result, the magnetic orientation of the magnetic layer is improved, and the recording layer configuration of the hard disk is applied to the tape-like magnetic recording medium, and a tape-like magnetic recording medium capable of realizing unprecedented high-density recording is obtained. It was.

また、非磁性支持体上にバリア層を形成したことより、非磁性支持体からのO2やH2Oが抑止され、磁性層のさらなる結晶配向性改善効果が得られた。 In addition, since the barrier layer was formed on the nonmagnetic support, O 2 and H 2 O from the nonmagnetic support were suppressed, and a further crystal orientation improvement effect of the magnetic layer was obtained.

本発明の磁気記録媒体の具体的な実施形態について説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
図1に、本発明の磁気記録媒体の概略断面図を示す。磁気記録媒体10は、長尺状の非磁性支持体1上に、バリア層2、アモルファス層3、シード層4、下地層5、磁性層6、及び保護層7が順次形成された構成のテープ状の磁気記録媒体である。以下、各層について説明する。
Specific embodiments of the magnetic recording medium of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following examples.
FIG. 1 is a schematic sectional view of a magnetic recording medium of the present invention. The magnetic recording medium 10 is a tape having a structure in which a barrier layer 2, an amorphous layer 3, a seed layer 4, an underlayer 5, a magnetic layer 6, and a protective layer 7 are sequentially formed on a long nonmagnetic support 1. It is a magnetic recording medium. Hereinafter, each layer will be described.

非磁性支持体1としては、例えば厚さ3μm〜10μmのポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等からなる高分子フィルムを適用できる。
非磁性支持体1の磁性層形成面の表面粗度(SRa)は、0.5〜3.0nmとすることが好ましく、更には0.5〜1.5nm程度が望ましい。これは、表面粗度SRaが0.5nm未満とすると、表面が平滑過ぎ、磁気ヘッドと接触走行させた際に磁気テープの表面が削れやすくなり、一方、3.0nmを超えると表面突起高さのスペーシングロスのために出力が低下するためである。
As the nonmagnetic support 1, for example, a polymer film made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyamide, polyimide amide or the like having a thickness of 3 μm to 10 μm can be applied.
The surface roughness (SRa) of the magnetic layer forming surface of the nonmagnetic support 1 is preferably 0.5 to 3.0 nm, more preferably about 0.5 to 1.5 nm. This is because when the surface roughness SRa is less than 0.5 nm, the surface is too smooth and the surface of the magnetic tape is easily scraped when it is brought into contact with the magnetic head. This is because the output decreases due to the spacing loss.

表面に粗度を付加する方法としては、例えば内部又は表面に所定の粒径を有する微粒子を含有させて凹凸を形成する方法が挙げられる。微粒子としては、例えばシリカ、炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ、カオリン、タルク、グラファイト、長石、二酸化モリブデン、カーボンブラック、硝酸バリウム等の無機質系粒子、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合体の架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニルデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の有機質系粒子等が挙げられるが、特に真球状粒子が得やすいコロイダルシリカや架橋高分子による粒子が好適である。また、水溶性高分子と微小粒子を主体とする連続被膜を設けることにより形成してもよい。   Examples of the method of adding roughness to the surface include a method of forming irregularities by adding fine particles having a predetermined particle diameter inside or on the surface. Examples of the fine particles include silica, calcium carbonate, titanium dioxide, alumina, kaolin, talc, graphite, feldspar, molybdenum dioxide, carbon black, barium nitrate and other inorganic particles, polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate copolymer, methyl Examples include cross-linked products of methacrylate copolymers, organic particles such as polytetrafluoroethylene, polyvinyldenfluoride, polyacrylonitrile, and benzoguanamine resins. Is preferred. Alternatively, it may be formed by providing a continuous film mainly composed of a water-soluble polymer and fine particles.

バリア層2は、例えば、Ti、Ta、TiW、Al、AlSi、あるいはガスバリア性に優れたAl23、Si酸化物等よりなるものとする。バリア層2の膜厚は、この上層に形成する層の表面粗度に影響を及ぼさないようにするため、10nm以下とすることが望ましい。
バリア層2を形成することにより、非磁性支持体1の表面に吸着し、あるいは内部から放出されるO2やH2Oのゲッタリング効果が得られ、後述する磁性層の結晶配向性を改善することができる。
バリア層2は上記成膜材料に応じたターゲットを用いたスパッタ法により形成することができるが、スパッタ工程のガス雰囲気にも影響される。例えばSiO2をターゲットとして窒素ガス雰囲気下でスパッタを行うと、バリア層の構成元素としてNが含有される。
The barrier layer 2 is made of, for example, Ti, Ta, TiW, Al, AlSi, or Al 2 O 3 , Si oxide having excellent gas barrier properties. The film thickness of the barrier layer 2 is desirably 10 nm or less so as not to affect the surface roughness of the layer formed thereon.
By forming the barrier layer 2, the gettering effect of O 2 or H 2 O adsorbed on the surface of the nonmagnetic support 1 or released from the inside can be obtained, and the crystal orientation of the magnetic layer described later is improved. can do.
The barrier layer 2 can be formed by sputtering using a target corresponding to the film forming material, but is also affected by the gas atmosphere in the sputtering process. For example, when sputtering is performed in a nitrogen gas atmosphere using SiO 2 as a target, N is contained as a constituent element of the barrier layer.

アモルファス層3は、例えば、Cu、Al、Cr、Ta、Zr、Hf、Re、Co、Ni、Ti、希土類金属、これらの合金あるいは酸化物、C、Si等よりなるものとすることができるが、これらに限定されるものではない。膜厚はアモルファス構造を維持するために1nm〜5nmとすることが好適である。アモルファス層3を形成することにより、格子間ミスマッチに関し、後述するシード層4への影響が抑制でき、さらに上層として形成する磁性層6の結晶配向性が改善する。
また、アモルファス層3に、O2やH2Oのゲッタリング効果を有する金属材料や、SiON等のようなガスバリア性に優れた材料を用いることにより、上述したバリア層2と同様の機能を持たせるようにしてもよい。
The amorphous layer 3 can be made of, for example, Cu, Al, Cr, Ta, Zr, Hf, Re, Co, Ni, Ti, rare earth metals, alloys thereof, oxides, C, Si, or the like. However, it is not limited to these. The film thickness is preferably 1 nm to 5 nm in order to maintain an amorphous structure. By forming the amorphous layer 3, the influence on the seed layer 4 to be described later can be suppressed with respect to the interstitial mismatch, and the crystal orientation of the magnetic layer 6 formed as an upper layer is improved.
Further, the amorphous layer 3 has a function similar to that of the barrier layer 2 described above by using a metal material having a gettering effect of O 2 or H 2 O or a material having excellent gas barrier properties such as SiON. You may make it let.

シード層4は、Ti、Cr、Mo、W、Zr、Ti合金、Cr合金、Zr合金のいずれかよりなるものとする。シード層4を形成することにより後述する下地層5の結晶配向性を高めることができる。なお、後述する磁性層6としてCoPtCr−SiO2を用いた面内媒体とするためには、シード層4はTiW非磁性合金膜よりなるものとすることが好適である。
シード4の膜厚は、5nm〜100nmとすることが好ましく、さらには5nm〜50nmが望ましい。
シード層4の膜厚が5nm未満であると後述する下地層5の結晶配向性を充分に高めることができなく、最終的に得られる磁気記録媒体10の保磁力Hc及びC/N特性が劣化する。一方、100nmを超えると、結晶成長が過度になり、後述する磁性層6の表面粗度SRaが大きくなりすぎ、ノイズの原因になる。
The seed layer 4 is made of any one of Ti, Cr, Mo, W, Zr, Ti alloy, Cr alloy, and Zr alloy. By forming the seed layer 4, the crystal orientation of the underlayer 5 described later can be improved. In order to obtain an in-plane medium using CoPtCr—SiO 2 as the magnetic layer 6 described later, the seed layer 4 is preferably made of a TiW nonmagnetic alloy film.
The film thickness of the seed 4 is preferably 5 nm to 100 nm, and more preferably 5 nm to 50 nm.
If the film thickness of the seed layer 4 is less than 5 nm, the crystal orientation of the underlayer 5 described later cannot be sufficiently improved, and the coercive force Hc and C / N characteristics of the finally obtained magnetic recording medium 10 deteriorate. To do. On the other hand, if it exceeds 100 nm, crystal growth becomes excessive, and the surface roughness SRa of the magnetic layer 6 described later becomes too large, causing noise.

下地層5は、Ru膜よりなるものとする。
Ruは、後述する磁性層6の主成分であるCoと同じ六方最密構造をとるものであり、またCoと、a軸が約8%、c軸が約5%異なるのみであるほぼ同様の結晶構造となるものである。
このことから、Ru膜よりなる下地層5を磁性層6の下層として形成してc軸が面内に配向した構造、望ましくは(100)配向、あるいは(110)配向とすることにより上層に形成される磁性層6の面内配向性が高められ、最終的に得られる磁気記録媒体において、良好な磁気特性及び電磁変換特性が得られる。
下地層5の膜厚は10nm〜100nmとすることが好ましく、特に15nm〜50nmが望ましい。下地層5の膜厚が10nm未満であると、良好な配向性が得られなくなり、磁気記録媒体の保磁力Hc及びC/Nの劣化が顕著となる。一方、膜厚が100nmを超えると、結晶成長が過度になり、表面粗度が大きくなりすぎノイズの増大の原因となる。
The underlayer 5 is made of a Ru film.
Ru has the same hexagonal close-packed structure as Co, which is a main component of the magnetic layer 6 described later, and is almost the same as Co except that the a axis is about 8% and the c axis is only about 5%. It becomes a crystal structure.
Therefore, the base layer 5 made of a Ru film is formed as a lower layer of the magnetic layer 6 and the c-axis is oriented in the plane, preferably (100) orientation or (110) orientation. The in-plane orientation of the magnetic layer 6 is improved, and good magnetic characteristics and electromagnetic conversion characteristics can be obtained in the finally obtained magnetic recording medium.
The thickness of the underlayer 5 is preferably 10 nm to 100 nm, and particularly preferably 15 nm to 50 nm. When the thickness of the underlayer 5 is less than 10 nm, good orientation cannot be obtained, and the coercive force Hc and C / N of the magnetic recording medium are significantly deteriorated. On the other hand, if the film thickness exceeds 100 nm, crystal growth becomes excessive, the surface roughness becomes too high, and noise increases.

磁性層6は、Coを主成分とする強磁性の結晶粒と、それを取り巻く非磁性粒界からなるグラニュラー構造を有しているものとし、例えば、Co−Pt−Crの結晶粒間に、Si酸化物が島状に分散した構造となっている。これにより、磁化遷移部分の磁化のばらつきに起因するノイズの低減化を図ることができ、同時に、各結晶粒が磁気的に孤立化することによって磁化の回転が一斉回転型になり保磁力Hcが大きくなる。   The magnetic layer 6 is assumed to have a granular structure composed of ferromagnetic crystal grains mainly composed of Co and nonmagnetic grain boundaries surrounding the ferromagnetic crystal grains. For example, between the crystal grains of Co—Pt—Cr, Si oxide is dispersed in islands. As a result, it is possible to reduce the noise caused by the variation in the magnetization of the magnetization transition portion. At the same time, each crystal grain is magnetically isolated so that the rotation of the magnetization becomes a simultaneous rotation type and the coercive force Hc is reduced. growing.

磁性層6が、Co−Pt−Crの結晶粒間にSi酸化物が島状に分散したグラニュラー構造なっているものとしたとき、Si酸化物の含有量は、Si原子に換算して前記Co−Pt−Crに対して8原子%以上20原子%以下とすることが好適である。
上記Si原子の含有量が8原子%未満である場合、Co−Pt−Crの結晶粒を取り囲んで孤立化させる効果が不充分となり、低ノイズ化及び高保磁力化の効果が得られなくなる。一方、含有量が20原子%を超えると、磁性層6中のCo−Pt−Cr含有量が相対的に減少するため、高ノイズ化及び保磁力の低下を招来する。
When the magnetic layer 6 has a granular structure in which Si oxides are dispersed in an island shape between Co—Pt—Cr crystal grains, the content of Si oxides is converted to Si atoms in the Co. It is preferable that the content be 8 atomic% or more and 20 atomic% or less with respect to —Pt—Cr.
When the content of Si atoms is less than 8 atomic%, the effect of surrounding and isolating the Co—Pt—Cr crystal grains becomes insufficient, and the effects of low noise and high coercive force cannot be obtained. On the other hand, when the content exceeds 20 atomic%, the Co—Pt—Cr content in the magnetic layer 6 is relatively reduced, resulting in higher noise and lower coercivity.

また、磁性層6を構成するCo−Pt−CrとSi酸化物のSi原子との総和を100原子%としたとき、Ptの含有量は12原子%以上20原子%以下、Crの含有量は10原子%以下とし、残部がCoとすることが好適である。これにより高保磁力化及び低ノイズ化が図られる。   Further, when the total of Co—Pt—Cr constituting the magnetic layer 6 and Si atoms of the Si oxide is 100 atomic%, the Pt content is 12 atomic% or more and 20 atomic% or less, and the Cr content is It is preferable that the content is 10 atomic% or less and the balance is Co. Thereby, high coercive force and low noise can be achieved.

磁性層6は、例えばCo−Pt−Cr合金に、Si酸化物が添加されてなる材料をターゲットとし、従来公知のスパッタリング法によって成膜することができる。   The magnetic layer 6 can be formed by a conventionally known sputtering method using, for example, a material obtained by adding a Si oxide to a Co—Pt—Cr alloy.

保護層7は、例えばダイヤモンドライクカーボン(DLC)、グラファイトライクカーボン、アモルファスカーボン、CN、BN、WC、WMoC、ZrNbN、B4C、SiO2、ZrO2等により形成することができるが、ダイヤモンドライクカーボンが特に好ましく、従来公知のCVD法、PVD法等により形成できる。
保護層7の膜厚は2nm〜30nmが好適であり、さらには5nm〜10nmが望ましい。保護層7の膜厚を2nm未満とすると充分な表面保護機能が得られなくなり、一方、20nmを超えるとスペーシングロスにより出力低下の原因となる。
The protective layer 7 can be formed of, for example, diamond-like carbon (DLC), graphite-like carbon, amorphous carbon, CN, BN, WC, WMoC, ZrNbN, B 4 C, SiO 2 , ZrO 2 or the like. Carbon is particularly preferable and can be formed by a conventionally known CVD method, PVD method, or the like.
The thickness of the protective layer 7 is preferably 2 nm to 30 nm, and more preferably 5 nm to 10 nm. If the thickness of the protective layer 7 is less than 2 nm, a sufficient surface protection function cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 20 nm, the output is reduced due to spacing loss.

保護層7上には、例えば炭化水素系もしくはフッ素系の潤滑剤を塗布し潤滑剤層(図示せず)を形成してもよく、これにより走行性の向上を図ることができる。
また、磁性層形成面とは反対側の面に、バック層(図示せず)を設けてもよい。なおバック層は、例えばカーボンを主成分とするものとすることができ、従来公知のウエットプロセスあるいはドライプロセスのいずれの方法によって形成してもよい。
On the protective layer 7, for example, a hydrocarbon-based or fluorine-based lubricant may be applied to form a lubricant layer (not shown), thereby improving running performance.
Further, a back layer (not shown) may be provided on the surface opposite to the magnetic layer forming surface. The back layer can be composed mainly of carbon, for example, and may be formed by any conventionally known wet process or dry process.

本発明の磁気記録媒体10は、特にMRヘッドやGMRヘッドのような高感度型の再生用磁気ヘッドを搭載した磁気記録テープシステム用の磁気記録媒体として好適である。   The magnetic recording medium 10 of the present invention is particularly suitable as a magnetic recording medium for a magnetic recording tape system equipped with a high-sensitivity reproducing magnetic head such as an MR head or a GMR head.

以下、本発明の磁気記録媒体について、具体的な実験例を挙げて説明するが、本発明は以下に示す例に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜従来公知の構成を置換したり追加したりすることができるものとする。   Hereinafter, the magnetic recording medium of the present invention will be described with specific experimental examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and is appropriately known in the art without departing from the scope of the present invention. Assume that the configuration can be replaced or added.

〔実験例1〕
非磁性支持体1として、幅127mm、長さ500m、膜厚6.4μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
非磁性支持体1の表面粗度SRa(磁性層形成面における中心面平均粗さ)を、デジタルインスツルメンタル社製「Nanoscope III」を用いて、5μm×5μmのエリアを測定することにより求めたところ、SRa=1.0nmであった。
[Experimental Example 1]
As the nonmagnetic support 1, a polyethylene terephthalate film having a width of 127 mm, a length of 500 m, and a film thickness of 6.4 μm was prepared.
The surface roughness SRa of the nonmagnetic support 1 (center surface average roughness on the magnetic layer forming surface) was determined by measuring an area of 5 μm × 5 μm using “Nanoscope III” manufactured by Digital Instrumental. However, SRa = 1.0 nm.

次に、公知のスパッタ装置を用いて非磁性支持体1を5.0m/minの速度で搬送させ、下記に示す条件により、バリア層2、アモルファス層3、シード層4、下地層5、及び磁性層6を順次形成した後、搬送速度を10m/minとして、同様に下記に示す条件により保護層7を形成した。   Next, the nonmagnetic support 1 is conveyed at a speed of 5.0 m / min using a known sputtering apparatus, and the barrier layer 2, the amorphous layer 3, the seed layer 4, the underlayer 5, and After the magnetic layer 6 was sequentially formed, the protective layer 7 was similarly formed under the conditions shown below at a conveyance speed of 10 m / min.

(バリア層:Ti膜)
Ti金属ターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より7W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧を4Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚5nmのTi膜よりなるバリア層2を形成した。
(アモルファス層:C膜)
Cターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より10W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧を4Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚1nmのC膜よりなるアモルファス層3を形成した。
(シード層:TiW膜)
Ti50原子%−W50原子%からなる合金ターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より7W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧を0.5Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚10nmのTiW膜よりなるシード層3を形成した。
(下地層:Ru膜)
Ru金属ターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より10W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧を4Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚30nmのRu膜よりなる下地層4を形成した。
(Barrier layer: Ti film)
An input power of 7 W / cm 2 was applied to the cathode of the Ti metal target from a direct current sputtering power source to create an argon gas atmosphere and a gas pressure of 4 Pa. Sputter film formation was performed under these conditions to form a barrier layer 2 made of a 5 nm thick Ti film.
(Amorphous layer: C film)
An input power of 10 W / cm 2 was applied to the cathode of the C target from a direct current sputtering power source to create an argon gas atmosphere and a gas pressure of 4 Pa. Sputter deposition was performed under these conditions to form an amorphous layer 3 made of a C film having a thickness of 1 nm.
(Seed layer: TiW film)
An input power of 7 W / cm 2 was applied from the direct current sputtering power source to the cathode of the alloy target composed of Ti 50 atomic% -W 50 atomic% to create an argon gas atmosphere, and the gas pressure was set to 0.5 Pa. Sputter deposition was performed under these conditions to form a seed layer 3 made of a 10 nm thick TiW film.
(Underlayer: Ru film)
An input power of 10 W / cm 2 was applied to the cathode of the Ru metal target from a direct current sputtering power source to form an argon gas atmosphere and a gas pressure of 4 Pa. Sputter film formation was performed under these conditions, and an underlayer 4 made of a Ru film having a thickness of 30 nm was formed.

(磁性層:Co−Pt−Cr(SiO2))
Co60原子%−Pt17原子%−Cr10原子%、SiO2−13原子%からなる焼結ターゲットのカソードに、RFスパッタリング電源より10W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧は1.0Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚13nmの磁性層5を形成した。
(保護層:DLC膜)
Cターゲットのカソードに直流スパッタリング電源より10W/cm2の投入電力を印加し、アルゴンガス雰囲気とし、ガス圧は1.0Paとした。この条件でスパッタ成膜を行い、膜厚8nmのDLC膜よりなる保護層7を形成した。
(バック層)
磁性層形成面とは反対側の面に、カーボンとウレタン樹脂を主成分とする塗料を塗布して膜厚0.6μmのバック層を形成した。
(Magnetic layer: Co—Pt—Cr (SiO 2 ))
An input power of 10 W / cm 2 is applied from an RF sputtering power source to a cathode of a sintering target composed of Co 60 atomic% -Pt 17 atomic% -Cr 10 atomic% and SiO 2 -13 atomic%, and an argon gas atmosphere is applied. 1.0 Pa. Sputter film formation was performed under these conditions to form a magnetic layer 5 having a thickness of 13 nm.
(Protective layer: DLC film)
An input power of 10 W / cm 2 was applied to the cathode of the C target from a direct current sputtering power source to form an argon gas atmosphere, and the gas pressure was 1.0 Pa. Sputter deposition was performed under these conditions to form a protective layer 7 made of a DLC film having a thickness of 8 nm.
(Back layer)
A coating mainly composed of carbon and urethane resin was applied to the surface opposite to the magnetic layer forming surface to form a back layer having a thickness of 0.6 μm.

その後、8mm幅に裁断し、磁性層形成面側にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗布して潤滑剤層を形成し、サンプル磁気テープを作製した。
このようにして作製した磁気テープの磁気特性は、保磁力Hc=3200Oe(255kA/m)、残留磁化量と磁性層の膜厚の積Mr・t=0.5memu/cm2(5mA)であった。
Then, it cut | judged to 8 mm width, the perfluoropolyether type lubricant was apply | coated to the magnetic layer formation surface side, the lubricant layer was formed, and the sample magnetic tape was produced.
The magnetic properties of the magnetic tape thus produced were coercive force Hc = 3200 Oe (255 kA / m), product of residual magnetization and magnetic layer thickness Mr · t = 0.5 memu / cm 2 (5 mA). It was.

〔実験例2〜15〕
バリア層2、アモルファス層3、シード層4、下地層5、及び磁性層6の構成材料及び含有量、及び各層の膜厚を変化させて各種サンプル磁気テープを作製した。これらの構成を下記表1に示す。
[Experimental Examples 2 to 15]
Various sample magnetic tapes were prepared by changing the constituent materials and contents of the barrier layer 2, the amorphous layer 3, the seed layer 4, the underlayer 5, and the magnetic layer 6, and the film thickness of each layer. These configurations are shown in Table 1 below.

Figure 2005196885
Figure 2005196885

上記実験例1〜15のサンプル磁気テープについて、ドラムテスタを用いて周波数特性、及びC/Nを測定した。
信号記録にはトラック幅20μmの薄膜ヘッド、再生にはトラック幅7μmのMRヘッド(市販のMicroMV用再生ヘッド)を用いた。磁気テープと磁気ヘッドとの相対速度は6.8m/sとした。
About the sample magnetic tape of the said Experimental Examples 1-15, the frequency characteristic and C / N were measured using the drum tester.
A thin film head having a track width of 20 μm was used for signal recording, and an MR head having a track width of 7 μm (a commercially available reproducing head for MicroMV) was used for reproduction. The relative speed between the magnetic tape and the magnetic head was 6.8 m / s.

特性の比較サンプルとして、市販のMicroMV用蒸着テープを用意した。
周波数特性は、記録周波数1〜30MHzの範囲で記録し、出力のピークから6dB減少した線記録密度をD50として評価した。なおD50は180kfci以上であれば良好な値であると判断した(市販のMicroMV用蒸着テープのD50は160kfciであった。)。
また、記録周波数12MHzにおける出力と±1MHzにおけるノイズの平均値の差をC/Nとし、市販のMicroMV用蒸着テープと比較して−1dB以上であれば実用上良好な値であると判断した。
各サンプル磁気テープの保磁力Hc、Mrt、C/N、及びD50の測定結果を下記表2に示す。
As a comparative sample of characteristics, a commercially available vapor deposition tape for MicroMV was prepared.
For the frequency characteristics, recording was performed in the range of a recording frequency of 1 to 30 MHz, and the linear recording density decreased by 6 dB from the output peak was evaluated as D50. In addition, it was judged that D50 was a favorable value if it was 180 kfci or more (D50 of the vapor deposition tape for commercially available MicroMV was 160 kfci).
Further, the difference between the output at the recording frequency of 12 MHz and the average value of noise at ± 1 MHz was defined as C / N, and it was judged to be a practically good value if it was −1 dB or more compared to a commercially available MicroMV vapor deposition tape.
Table 2 below shows the measurement results of the coercive force Hc, Mrt, C / N, and D50 of each sample magnetic tape.

Figure 2005196885
Figure 2005196885

表1及び表2に示すように、実験例1〜10においては、非磁性支持体上にアモルファス層を形成したため、非磁性支持体とその上層に形成される膜との格子間ミスマッチに関する影響を抑制でき、磁性層の結晶配向性が改善され、実用上充分に高い保磁力Hcが得られ、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られた。   As shown in Table 1 and Table 2, in Experimental Examples 1 to 10, since the amorphous layer was formed on the nonmagnetic support, the influence on the interstitial mismatch between the nonmagnetic support and the film formed on the nonmagnetic support was affected. The crystal orientation of the magnetic layer was improved, a sufficiently high coercive force Hc was obtained in practical use, and practically good values were obtained in both frequency characteristics and C / N characteristics.

特に、非磁性支持体とアモルファス層との間にバリア層を形成した実験例1、6〜9においては、非磁性支持体1の表面に吸着し、あるいは内部から放出されるO2やH2Oのゲッタリング効果が得られたため、磁性層の結晶配向性の改善効果が向上し、高い保磁力Hcが得られ、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られた。 In particular, in Experimental Examples 1 and 6 to 9 in which a barrier layer is formed between the nonmagnetic support and the amorphous layer, O 2 and H 2 adsorbed on the surface of the nonmagnetic support 1 or released from the inside. Since the gettering effect of O was obtained, the effect of improving the crystal orientation of the magnetic layer was improved, high coercive force Hc was obtained, and practically good values were obtained in both frequency characteristics and C / N characteristics. It was.

実験例11においては、アモルファス層3を形成しなかったため、格子間ミスマッチに関しシード層4への影響が抑制できず、磁性層6の結晶配向性が改善されず、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られなかった。   In Experimental Example 11, since the amorphous layer 3 was not formed, the influence on the seed layer 4 with respect to the interstitial mismatch could not be suppressed, the crystal orientation of the magnetic layer 6 was not improved, and the frequency characteristics and C / N characteristics were improved. In any case, a practically good value was not obtained.

実験例12においては、アモルファス層3が厚すぎるため結晶化してしまい、上層に形成する磁性層6の結晶配向性の改善効果が得られず、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られなかった。   In Experimental Example 12, since the amorphous layer 3 is too thick, it is crystallized, and the effect of improving the crystal orientation of the magnetic layer 6 formed in the upper layer cannot be obtained, and both the frequency characteristics and the C / N characteristics are practical. Good values could not be obtained.

実験例13においては、バリア層2が厚すぎるため磁性層6の表面粗度SRaが大きくなってしまい、ノイズが増加しC/Nが劣化した。   In Experimental Example 13, since the barrier layer 2 was too thick, the surface roughness SRa of the magnetic layer 6 was increased, noise increased, and C / N deteriorated.

実験例14においては、アモルファス層としてSiO2膜を形成しており、この膜厚が厚すぎるため結晶化してしまい、磁性層6の結晶配向性の改善効果が得られず、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られなかった。 In Experimental Example 14, a SiO 2 film was formed as an amorphous layer, and this film thickness was too thick, so that it was crystallized, and the effect of improving the crystal orientation of the magnetic layer 6 could not be obtained. No practically good value was obtained in any of the N characteristics.

実験例15においては、磁性層6におけるCo含有量が少なすぎるため、充分な保磁力が得られず、また出力が低下し、周波数特性及びC/N特性のいずれにおいても実用上良好な値が得られなかった。   In Experimental Example 15, since the Co content in the magnetic layer 6 is too small, a sufficient coercive force cannot be obtained, the output is reduced, and both the frequency characteristic and the C / N characteristic have practically good values. It was not obtained.

本発明の磁気記録媒体の一例の概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an example of a magnetic recording medium of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1……非磁性支持体、2……バリア層、3……アモルファス層、4……シード層、5……下地層、6……磁性層、7……保護層、10……磁気記録媒体




DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nonmagnetic support body, 2 ... Barrier layer, 3 ... Amorphous layer, 4 ... Seed layer, 5 ... Underlayer, 6 ... Magnetic layer, 7 ... Protective layer, 10 ... Magnetic recording medium




Claims (5)

長尺状の高分子フィルムよりなる非磁性支持体上に、少なくとも、アモルファス層、シード層、下地層、磁性層、及び保護層が順次形成されてなり、
前記シード層は、Ti、Cr、Mo、W、Zr、Ti合金、Cr合金、Zr合金のいずれかよりなり、
前記下地層は、Ruよりなり、
前記磁性層は、強磁性を有する結晶粒と、それを取り巻く非磁性粒界からなるグラニュラー構造を有してなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
At least an amorphous layer, a seed layer, an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed on a nonmagnetic support made of a long polymer film,
The seed layer is made of any one of Ti, Cr, Mo, W, Zr, Ti alloy, Cr alloy, Zr alloy,
The underlayer is made of Ru,
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer has a granular structure comprising crystal grains having ferromagnetism and nonmagnetic grain boundaries surrounding the crystal grains.
前記アモルファス層が、Cu、Al、Cr、Ta、Zr、Hf、Re、Co、Ni、Ti、希土類金属、これらの合金あるいは酸化物、C、Siのいずれかよりなることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。   The amorphous layer is made of any one of Cu, Al, Cr, Ta, Zr, Hf, Re, Co, Ni, Ti, rare earth metals, alloys thereof, oxides, C, and Si. 2. The magnetic recording medium according to 1. 前記非磁性支持体と、前記アモルファス層との間に、O2、あるいはH2Oを封止するバリア層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 The magnetic recording medium according to claim 1, wherein a barrier layer for sealing O 2 or H 2 O is formed between the nonmagnetic support and the amorphous layer. 前記バリア層は、Ti、Ta、TiW、Al、AlSi、Al23、Si酸化物のいずれかよりなることを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体。 The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the barrier layer is made of any one of Ti, Ta, TiW, Al, AlSi, Al 2 O 3 , and Si oxide. 前記磁性層は、Co−Pt−Crを主体とし、Si酸化物を含有してなるものであり、前記Si酸化物の含有量が、前記Co−Pt−Crに対して、Si原子に換算して、8原子%以上20原子%以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。









The magnetic layer is mainly composed of Co—Pt—Cr and contains Si oxide, and the content of the Si oxide is converted to Si atoms with respect to the Co—Pt—Cr. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is 8 atom% or more and 20 atom% or less.









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