JP2005195984A - Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device - Google Patents

Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device Download PDF

Info

Publication number
JP2005195984A
JP2005195984A JP2004003420A JP2004003420A JP2005195984A JP 2005195984 A JP2005195984 A JP 2005195984A JP 2004003420 A JP2004003420 A JP 2004003420A JP 2004003420 A JP2004003420 A JP 2004003420A JP 2005195984 A JP2005195984 A JP 2005195984A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical compensation
compensation layer
group
film
polarizing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004003420A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Kitamura
吉紹 北村
Hiroyuki Okada
裕之 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2004003420A priority Critical patent/JP2005195984A/en
Publication of JP2005195984A publication Critical patent/JP2005195984A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To adopt a polarizing film protection film with an optical compensation layer without drastically reforming the conventional process of manufacturing a polarizing plate and manufacture the polarizing plate with the optical compensation layer without damaging the optical compensation function of the optical compensation layer. <P>SOLUTION: A polarizing film protection film 5 with an optical compensation layer prepared by sequentially laminating a optical compensation layer 2 and an optical compensation layer protection film 3 on a polarizing film protection film 1 is saponified. The polarizing film protection film 5 with the optical compensation layer is stuck to the polarizing film 4 by using the surface 1a of the saponified polarizing film protection film. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光学補償層付き偏光板の製造方法と、それによって得られる光学補償層付き偏光板、並びに該光学補償層付き偏光板を備えた画像表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a polarizing plate with an optical compensation layer, a polarizing plate with an optical compensation layer obtained thereby, and an image display device including the polarizing plate with an optical compensation layer.

従来、光学補償層と偏光膜とが一体化されてなる光学補償層付き偏光板が知られている。斯かる光学補償層付き偏光板は、液晶セルに積層して用いることにより、液晶表示装置の視野角や視認性を改善し得るものである。   Conventionally, a polarizing plate with an optical compensation layer in which an optical compensation layer and a polarizing film are integrated is known. Such a polarizing plate with an optical compensation layer can improve the viewing angle and the visibility of a liquid crystal display device by being stacked on a liquid crystal cell.

そして、このような光学補償層付き偏光板としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)の薄いフィルムをヨウ化カリウム水溶液等に浸漬させてヨウ素を吸着させた後、ホウ酸水溶液中で一方向に3〜10倍の範囲で延伸して偏光膜を作成し、該偏光膜の両面に光学的透明性の高い偏光膜保護フィルムを貼り合わせることによって偏光板を作成した後、さらに、該偏光板に、粘着剤等を介して別途作成した光学補償層を貼り付けることによって得られることが開示されている(特許文献1及び2)。
特開2000−321992号公報 特開2000−321426号公報
And as such a polarizing plate with an optical compensation layer, for example, a thin film of polyvinyl alcohol (PVA) is immersed in an aqueous potassium iodide solution to adsorb iodine, and then 3 in one direction in an aqueous boric acid solution. After creating a polarizing film by stretching in the range of 10 times, creating a polarizing plate by laminating a polarizing film protective film having high optical transparency on both sides of the polarizing film, It is disclosed that it can be obtained by attaching an optical compensation layer separately prepared via an adhesive or the like (Patent Documents 1 and 2).
JP 2000-321992 A JP 2000-32426 A

しかしながら、このような従来の製造方法では、偏光板を作成した後に別途光学補償層を貼り付ける工程が必要となるため、偏光膜と偏光膜保護フィルムとを貼り合わせるという従来の製造設備を大幅に改変する必要が生じ、製造工程が煩雑なものとなる。また、その結果として、光学補償層付き偏光板の製造コストが高くなるという問題がある。   However, since such a conventional manufacturing method requires a step of attaching an optical compensation layer separately after creating a polarizing plate, the conventional manufacturing equipment for attaching a polarizing film and a polarizing film protective film greatly increases. It becomes necessary to modify, and the manufacturing process becomes complicated. As a result, there is a problem that the manufacturing cost of the polarizing plate with an optical compensation layer increases.

また、従来の製造設備を大幅に改変しない為には、前記偏光膜保護フィルムに該光学補償層が予め貼り合わされてなる光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用し、該光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせる方法も考えられる。   Further, in order not to significantly modify the conventional manufacturing equipment, a polarizing film protective film with an optical compensation layer in which the optical compensation layer is bonded in advance to the polarizing film protective film is adopted, and the optical compensation layer is attached. A method of attaching the polarizing film protective film to the polarizing film is also conceivable.

しかしながら、偏光膜と偏光膜保護フィルムとを貼り合わせる際には、接着剤による該偏光膜と偏光膜保護フィルムとの接着性を高めるべく、前記偏光膜保護フィルムを無機アルカリ水溶液等のケン化浴に浸漬することによって表面をケン化処理することが好ましいとされている。
そうすると、光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用した場合には光学補償層がケン化浴によって浸食されてしまい、光学補償機能が損なわれることとなるため、光学補償層付きの偏光膜保護フィルムは従来の製造工程に採用できないという問題がある。
However, when the polarizing film and the polarizing film protective film are bonded together, the polarizing film protective film is used as a saponification bath such as an inorganic alkaline aqueous solution in order to enhance the adhesiveness between the polarizing film and the polarizing film protective film by an adhesive. It is said that the surface is preferably saponified by immersing in water.
Then, when the polarizing film protective film with the optical compensation layer is adopted, the optical compensation layer is eroded by the saponification bath, and the optical compensation function is impaired. Therefore, the polarizing film protective film with the optical compensation layer Has a problem that it cannot be adopted in the conventional manufacturing process.

そこで本発明は、従来の偏光板製造工程を大幅に改変することなく光学補償層付きの偏光膜保護フィルムを採用し、しかも、その光学補償層の光学補償機能を損なうことなく、光学補償層付きの偏光板を製造することを一の課題とする。   Therefore, the present invention employs a polarizing film protective film with an optical compensation layer without significantly modifying the conventional polarizing plate manufacturing process, and with an optical compensation layer without impairing the optical compensation function of the optical compensation layer. It is an object to produce a polarizing plate.

前記課題を解決すべく、本発明は、偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該光学補償層付偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することを特徴とする光学補償層付き偏光板の製造方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a saponification treatment for a polarizing film protective film with an optical compensation layer in which an optical compensation layer and an optical compensation layer protective film are sequentially laminated on the polarizing film protective film. A polarizing plate with an optical compensation layer is produced by bonding the polarizing film protective film with an optical compensation layer to the polarizing film on the surface of the polarizing film protective film thus manufactured. Provide a method.

斯かる製造方法によれば、光学補償層の上に光学補償層保護フィルムが積層された状態で偏光膜保護フィルムがケン化処理されるため、ケン化処理によって光学補償層の光学補償機能が損なわれることがない。しかも光学補償層保護フィルムを積層することを除き、従来の偏光板の製造工程を大幅に改変する必要がないため、光学補償層付き偏光板を安価に製造することが可能となる。   According to such a manufacturing method, since the polarizing film protective film is saponified in a state where the optical compensation layer protective film is laminated on the optical compensation layer, the optical compensation function of the optical compensation layer is impaired by the saponification process. It will not be. And since it is not necessary to change the manufacturing process of the conventional polarizing plate significantly except laminated | stacking an optical compensation layer protective film, it becomes possible to manufacture a polarizing plate with an optical compensation layer at low cost.

以下、本発明に係る光学補償層付き偏光板の製造方法について詳細に説明する。
本発明の光学補償層付き偏光板の製造方法は、偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することにある。
Hereinafter, the manufacturing method of the polarizing plate with an optical compensation layer according to the present invention will be described in detail.
In the method for producing a polarizing plate with an optical compensation layer of the present invention, a polarizing film protective film with an optical compensation layer in which an optical compensation layer and an optical compensation layer protective film are sequentially laminated on the polarizing film protective film is saponified. The polarizing film with an optical compensation layer is manufactured by bonding the polarizing film protective film to the polarizing film on the surface of the saponified polarizing film protective film.

図1は、本発明の一実施形態を示したフロー図である。本実施形態においては、先ず、偏光膜保護フィルム1の上に光学補償層2を積層し、さらに該光学補償層2の上に光学補償層保護フィルム3を積層した後、これをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面1aにて該光学補償層付偏光膜保護フィルム5と偏光膜4とを貼り合わせる。また、偏光膜4の反対側の面についても、偏光膜保護フィルム1’をケン化処理した後、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該偏光膜保護フィルム1’と貼り合わせる。こうして、一実施形態としての光学補償層付きの偏光板を製造することができる。   FIG. 1 is a flowchart showing an embodiment of the present invention. In this embodiment, first, the optical compensation layer 2 is laminated on the polarizing film protective film 1, and further the optical compensation layer protective film 3 is laminated on the optical compensation layer 2, followed by saponification treatment. The polarizing film protective film with an optical compensation layer 5 and the polarizing film 4 are bonded to each other on the saponified polarizing film protective film surface 1a. Also, the polarizing film protective film 1 ′ is saponified on the opposite surface of the polarizing film 4, and then bonded to the polarizing film protective film 1 ′ on the surface of the saponified polarizing film protective film. Thus, a polarizing plate with an optical compensation layer as one embodiment can be produced.

偏光膜保護フィルム1としては、従来から偏光膜4を保護するために偏光膜に積層して使用されるものであれば特に限定されず、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などの観点から適宜のものを使用することができる。
該偏光膜保護フィルム1としては、例えば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーをフィルム状としたものが挙げられる。
The polarizing film protective film 1 is not particularly limited as long as it is conventionally used by being laminated on the polarizing film in order to protect the polarizing film 4, and is transparent, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property. From the viewpoint of isotropicity, an appropriate one can be used.
Examples of the polarizing film protective film 1 include a film made of a cellulose-based polymer such as diacetyl cellulose or triacetyl cellulose.

斯かる偏光膜保護フィルム1の厚みは、一般には500μm以下であるが、1〜100μmが好ましく、30〜50μmがより好ましい。   The thickness of the polarizing film protective film 1 is generally 500 μm or less, preferably 1 to 100 μm, and more preferably 30 to 50 μm.

光学補償層2については特に限定されるものではなく、該光学補償層付き偏光板の用途に応じて、各種液晶ポリマーを含んでなるフィルムやポリマーフィルムを延伸処理してなる複屈折性のフィルム等を適宜使用することができる。   The optical compensation layer 2 is not particularly limited, and depending on the use of the polarizing plate with the optical compensation layer, a film containing various liquid crystal polymers, a birefringent film obtained by stretching a polymer film, or the like Can be used as appropriate.

液晶ポリマーを含んでなるフィルムとしては、例えば、コレステリック構造をとって配向させた状態の液晶モノマーを重合または架橋し、フィルム状に形成したものを好適に使用することができる。斯かる構成のフィルムは、液晶ポリマーがコレステリック液晶相のようにコレステリック構造をとって配向しているにもかかわらず、液晶分子のように温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への変化が起きることがない。よって該液晶ポリマーを含んでなるフィルムは、温度変化に影響されない極めて安定した光学補償層として使用することができる。   As a film comprising a liquid crystal polymer, for example, a film formed by polymerizing or crosslinking a liquid crystal monomer in a state of having a cholesteric structure and being oriented can be preferably used. In such a film, the liquid crystal polymer has a cholesteric structure such as a cholesteric liquid crystal phase and is oriented, but the liquid crystal molecule changes into a liquid crystal phase, a glass phase, and a crystal phase due to a temperature change like a liquid crystal molecule. I don't get up. Therefore, the film comprising the liquid crystal polymer can be used as an extremely stable optical compensation layer that is not affected by temperature changes.

該液晶ポリマーを含んでなるフィルムは、具体的には、液晶モノマーと、カイラル剤と、重合剤および架橋剤の少なくとも一方とを含む塗工液を配向基材上に展開して展開層を形成し、前記液晶モノマーがコレステリック構造となるように該展開層を加熱し、さらに前記液晶モノマーによるコレステリック構造を固定すべく液晶モノマーを重合処理又は架橋処理することによって得ることができる。   Specifically, the film containing the liquid crystal polymer forms a spread layer by spreading a coating liquid containing a liquid crystal monomer, a chiral agent, and at least one of a polymerization agent and a crosslinking agent on an alignment substrate. The development layer can be heated so that the liquid crystal monomer has a cholesteric structure, and the liquid crystal monomer can be polymerized or crosslinked to fix the cholesteric structure of the liquid crystal monomer.

前記液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーを使用でき、下記式(1)で例示されるモノマーをより好適に使用することができる。尚、これらの液晶モノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As said liquid crystal monomer, a nematic liquid crystal monomer can be used, for example, and the monomer illustrated by following formula (1) can be used more suitably. In addition, these liquid crystal monomers may be used independently and may use 2 or more types together.

前記式(1)において、A1およびA2は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、A1およびA2は、いずれか一方が水素であってもよい。Xは、それぞれ単結合、−O−、−S−、−C=N−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−NR−、−NR−CO−、−NR−、−O−CO−NR−、−NR−CO−O−、−CH2−O−または−NR−CO−NR−を表す。また、前記Xにおいて、Rは、HまたはC1〜C4アルキルを表し、Mはメソーゲン基を表す。 In the formula (1), A 1 and A 2 each represent a polymerizable group, and may be the same or different. One of A 1 and A 2 may be hydrogen. X represents a single bond, —O—, —S—, —C═N—, —O—CO—, —CO—O—, —O—CO—O—, —CO—NR—, —NR—, respectively. CO -, - NR -, - O-CO-NR -, - NR-CO-O -, - CH 2 -O- or an -NR-CO-NR-. Further, in the X, R represents H or C 1 -C 4 alkyl, M represents a mesogenic group.

前記式(1)において、Xは同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。   In the formula (1), Xs may be the same or different, but are preferably the same.

前記式(1)のモノマーの中でも、A2は、それぞれA1に対してオルト位に配置されていることが好ましい。 Among the monomers represented by the formula (1), each A 2 is preferably located in the ortho position with respect to A 1 .

また、前記A1およびA2は、それぞれ独立して下記式(2)
Z−X−(Sp)n ・・・(2)
で表されることが好ましく、A1およびA2は同じ基であることが好ましい。
A 1 and A 2 are each independently represented by the following formula (2):
Z-X- (Sp) n (2)
And A 1 and A 2 are preferably the same group.

前記式(2)において、Zは架橋性基を表し、Xは前記式(1)と同様であり、Spは、1〜30個のC原子を有する直鎖または分枝鎖のアルキル基からなるスペーサーを表し、nは、0または1を表す。前記Spにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはC1〜C4のアルキルイミノ基等により割り込まれてもよい。 In the above formula (2), Z represents a crosslinkable group, X is the same as in the above formula (1), and Sp consists of a linear or branched alkyl group having 1 to 30 C atoms. Represents a spacer, and n represents 0 or 1. Carbon chain in the Sp, for example, oxygen in ether functional group, sulfur in a thioether functional group, may be interrupted by such alkylimino group nonadjacent imino or C 1 -C 4.

前記式(2)においては、Zは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Rとしては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル等の基が挙げられる。   In the formula (2), Z is preferably any one of atomic groups represented by the following formula. In the following formula, examples of R include groups such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, and t-butyl.

また、前記式(2)において、Spは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、mは1〜3、pは1〜12であることが好ましい。
In the formula (2), Sp is preferably any one of the atomic groups represented by the following formula. In the following formula, m is preferably 1 to 3, and p is preferably 1 to 12.

前記式(1)において、Mは、下記式(3)で表されることが好ましく、下記(3)において、Xは、前記式(1)におけるXと同様である。Qは、例えば、置換または未置換のアルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表し、また、たとえば、置換または未置換の直鎖もしくは分枝鎖のC1〜C12アルキレン等であってもよい。
In the formula (1), M is preferably represented by the following formula (3). In the following (3), X is the same as X in the formula (1). Q represents, for example, a substituted or unsubstituted alkylene or aromatic hydrocarbon group, and may be, for example, a substituted or unsubstituted linear or branched C 1 to C 12 alkylene.

前記Qが、前記芳香族炭化水素原子団の場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。
When Q is the aromatic hydrocarbon atomic group, for example, an atomic group represented by the following formula or a substituted analog thereof is preferable.

前記式に表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環1個につき1〜4個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基1個につき、1または2個の置換基を有していてもよい。前記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換基としては、例えば、C1〜C4のアルキル基、ニトロ基、F、Cl、Br,I等のハロゲン、フェニル基、C1〜C4のアルコキシ基等が挙げられる。 The substituted analog of the aromatic hydrocarbon group represented by the above formula may have, for example, 1 to 4 substituents per aromatic ring, and may include one aromatic ring or one group. Each may have 1 or 2 substituents. The substituents may be the same or different. Examples of the substituent include C 1 to C 4 alkyl groups, nitro groups, halogens such as F, Cl, Br, and I, phenyl groups, C 1 to C 4 alkoxy groups, and the like.

前記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式(4)〜(19)で表されるモノマーが挙げられる。
Specific examples of the liquid crystal monomer include monomers represented by the following formulas (4) to (19).

前記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なるが、例えば、40〜120℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは50〜100℃の範囲であり、特に好ましくは60〜90℃の範囲である。   The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity varies depending on the type, but is preferably in the range of 40 to 120 ° C., more preferably in the range of 50 to 100 ° C., and particularly preferably 60. It is the range of -90 degreeC.

カイラル剤としては、前記液晶モノマーにねじりを付与してコレステリック構造となるように配向させるものであれば特に制限されないが、重合性カイラル剤であることが好ましい。カイラル剤は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。   The chiral agent is not particularly limited as long as it imparts a twist to the liquid crystal monomer so that the liquid crystal monomer is aligned to have a cholesteric structure, but a polymerizable chiral agent is preferable. A chiral agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

前記重合性カイラル剤としては、具体的には、例えば下記一般式(20)〜(23)で表されるカイラル化合物を使用できる。
(Z−X5nCh ・・・(20)
(Z−X2−Sp−X5nCh ・・・(21)
(P1−X5nCh ・・・(22)
(Z−X2−Sp−X3−M−X4nCh ・・・(23)
Specifically, as the polymerizable chiral agent, for example, chiral compounds represented by the following general formulas (20) to (23) can be used.
(Z−X 5 ) n Ch (20)
(Z-X 2 -Sp-X 5) n Ch ··· (21)
(P 1 −X 5 ) n Ch (22)
(Z-X 2 -Sp-X 3 -M-X 4) n Ch ··· (23)

前記各式においては、ZおよびSpは前記式(2)と同様であり、X2、X3およびX4は、互いに独立して、化学的単結合、−O−、−S−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−NR−、−NR−CO−、−O−CO−NR−、−NR−CO−O−または−NR−CO−NR−を表し、前記Rは、H、C1〜C4アルキルを表す。また、X5は、化学的単結合、−O−、−S−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−NR−、−NR−CO−、−O−CO−NR−、−NR−CO−O−、−NR−CO−NR−、−CH2O−、−O−CH2−、−CH=N−、−N=CH−または−N≡N−を表す。Rは、前述と同様に、H、C1〜C4アルキルを表す。Mは、前述と同様にメソーゲン基を表し、P1は、水素、1〜3個のC1〜C6アルキルによって置換されたC1〜C30アルキル基、C1〜C30アシル基またはC3〜C8シクロアルキル基を表し、nは、1〜6の整数である。Chは、n価のカイラル基を表す。前記式(23)において、X3およびX4は、少なくともその一方が、−O−CO−O−、−O−CO−NR−、−NR−CO−O−または−NR−CO−NR−であることが好ましい。また、前記式(22)において、P1がアルキル基、アシル基またはシクロアルキル基の場合、例えば、その炭素鎖が、エーテル官能基内の酸素、チオエーテル官能基内の硫黄、非隣接イミノ基またはC1〜C4アルキルイミノ基によって割り込まれてもよい。 In the above formulas, Z and Sp are the same as those in the formula (2), and X 2 , X 3 and X 4 are each independently a chemical single bond, —O—, —S—, —O. —CO—, —CO—O—, —O—CO—O—, —CO—NR—, —NR—CO—, —O—CO—NR—, —NR—CO—O— or —NR—CO. It represents -NR-, wherein R represents H, a C 1 -C 4 alkyl. X 5 represents a chemical single bond, —O—, —S—, —O—CO—, —CO—O—, —O—CO—O—, —CO—NR—, —NR—CO—. , —O—CO—NR—, —NR—CO—O—, —NR—CO—NR—, —CH 2 O—, —O—CH 2 —, —CH═N—, —N═CH— or —N≡N— is represented. R is the same manner as described above, represents H, C 1 -C 4 alkyl. M represents a mesogen group as described above, and P 1 represents hydrogen, a C 1 to C 30 alkyl group substituted with 1 to 3 C 1 to C 6 alkyls, a C 1 to C 30 acyl group, or C 1 It represents 3 -C 8 cycloalkyl radical, n is an integer from 1 to 6. Ch represents an n-valent chiral group. In the formula (23), at least one of X 3 and X 4 is —O—CO—O—, —O—CO—NR—, —NR—CO—O—, or —NR—CO—NR—. It is preferable that In the formula (22), when P 1 is an alkyl group, an acyl group or a cycloalkyl group, for example, the carbon chain is oxygen in the ether functional group, sulfur in the thioether functional group, non-adjacent imino group or it may be interrupted by C 1 -C 4 alkylimino groups.

前記Chのカイラル剤としては、例えば、下記式で表される原子団が挙げられる。
Examples of the chiral agent for Ch include an atomic group represented by the following formula.

前記原子団において、Lは、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロゲン、COOR、OCOR、CONHRまたはNHCORであって、前記RはC1〜C4アルキル基を表す。なお、前記式に表した原子団における末端は、隣接する基との結合手を示す。 In the atomic group, L is C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy, halogen, COOR, OCOR, CONHR or NHCOR, and R represents a C 1 -C 4 alkyl group. In addition, the terminal in the atomic group represented by the above formula represents a bond with an adjacent group.

前記原子団の中でも、特に好ましくは下記式で表される原子団である。
Among the atomic groups, an atomic group represented by the following formula is particularly preferable.

また、前記式(21)または(23)で表されるカイラル化合物は、例えば、nが2、ZがH2C=CH−を表し、Chが下記式で表される原子団であることが好ましい。
The chiral compound represented by the formula (21) or (23) is, for example, an atomic group in which n is 2, Z represents H 2 C═CH—, and Ch is represented by the following formula. preferable.

前記カイラル化合物の具体例としては、例えば、下記式(24)〜(44)で表される化合物が挙げられる。なお、これらのカイラル化合物は、ねじり力が1×10-6nm-1・(wt%)-1以上である。

Specific examples of the chiral compound include compounds represented by the following formulas (24) to (44). These chiral compounds have a twisting force of 1 × 10 −6 nm −1 · (wt%) −1 or more.

前述のようなカイラル化合物の他にも、例えば、RE−A4342280号およびドイツ国特許出願19520660.6号および19520704.1号に挙げられるカイラル化合物が好ましく使用できる。   In addition to the above-mentioned chiral compounds, for example, chiral compounds listed in RE-A 4342280 and German Patent Applications 19520660.6 and 195207041 can be preferably used.

前記重合剤および架橋剤としては、特に制限されないが、例えば以下のようなものが使用できる。即ち、重合剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド(BPO)、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等が使用でき、架橋剤としては、例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が使用できる。これらは何れか一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。   Although it does not restrict | limit especially as said polymerizer and a crosslinking agent, For example, the following can be used. That is, as the polymerization agent, for example, benzoyl peroxide (BPO), azobisisobutyronitrile (AIBN), etc. can be used, and as the crosslinking agent, for example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent, etc. Can be used. Any of these may be used alone or in combination of two or more.

また、前記液晶モノマーとしては、上述のようなネマチック液晶に限定されず、ディスコティック液晶を使用することもできる。
ディスコティック液晶の種類についても特に限定されず、公知のものの中から適宜選択して使用することができる。
Further, the liquid crystal monomer is not limited to the nematic liquid crystal as described above, and a discotic liquid crystal can also be used.
The type of discotic liquid crystal is also not particularly limited, and can be appropriately selected from known ones.

光学補償層2を構成する非液晶性のポリマーフィルムとしては、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーフィルムを好適に使用することができる。
これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ2種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
The non-liquid crystalline polymer film constituting the optical compensation layer 2 is excellent in heat resistance, chemical resistance, transparency, and rigidity, so that, for example, polyamide, polyimide, polyester, polyetherketone, polyamideimide, A polymer film such as polyesterimide can be preferably used.
Any one of these polymers may be used alone, or a mixture of two or more having different functional groups such as a mixture of polyaryletherketone and polyamide may be used. . Among such polymers, polyimide is particularly preferable because of its high transparency, high orientation, and high stretchability.

前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量(Mw)が1,000〜1,000,000の範囲であることが好ましく、より好ましくは2,000〜500,000の範囲である。   The molecular weight of the polymer is not particularly limited, but for example, the weight average molecular weight (Mw) is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, more preferably in the range of 2,000 to 500,000. .

前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表2000−511296号公報に開示された、9,9−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式(45)に示す繰り返し単位を1つ以上含むポリマーが使用できる。
As the polyimide, for example, a polyimide that has high in-plane orientation and is soluble in an organic solvent is preferable. Specifically, for example, it includes a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride disclosed in JP 2000-511296 A, and has the following formula ( A polymer containing one or more repeating units shown in 45) can be used.

前記式(45)中、R3〜R6は、水素、ハロゲン、フェニル基、1〜4個のハロゲン原子またはC110アルキル基で置換されたフェニル基、およびC110アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、R3〜R6は、ハロゲン、フェニル基、1〜4個のハロゲン原子またはC110アルキル基で置換されたフェニル基、およびC110アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。 In the formula (45), R 3 ~R 6 is hydrogen, halogen, a phenyl group, 1-4 halogen atoms, or C 1 ~ 10 alkyl-substituted phenyl, and C 1 ~ 10 alkyl group And at least one substituent selected independently from the group. Preferably, R 3 to R 6 is a halogen, a phenyl group, each independently from the group consisting of one to four halogen atoms or C 1 ~ 10 alkyl-substituted phenyl, and C 1 ~ 10 alkyl group It is at least one type of substituent selected.

前記式(45)中、Zは、例えば、C620の4価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式(46)で表される基である。 In the formula (45), Z is, for example, a tetravalent aromatic group having C 6 ~ 20, preferably a pyromellitic group, a polycyclic aromatic group, a derivative of a polycyclic aromatic group, or, It is group represented by following formula (46).

前記式(46)中、Z’は、例えば、共有結合、C(R72基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(C252基、または、NR8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、wは、1から10までの整数を表す。
7は、それぞれ独立に、水素またはC(R93である。R8は、水素、炭素原子数1〜約20のアルキル基、またはC620のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。R9は、それぞれ独立に、水素、フツ素、または塩素である。
In the formula (46), Z ′ represents, for example, a covalent bond, C (R 7 ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (C 2 H 5 ) 2 group, or NR There are 8 groups, and when there are multiple groups, they are the same or different. W represents an integer from 1 to 10.
Each R 7 is independently hydrogen or C (R 9 ) 3 . R 8 is hydrogen, an alkyl group having 1 to about 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and in a plurality of cases, they are the same or different. Each R 9 is independently hydrogen, fluorine, or chlorine.

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される4価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、C110のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびFやCl等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。 Examples of the polycyclic aromatic group include a tetravalent group derived from naphthalene, fluorene, benzofluorene or anthracene. The substitution Examples of the substituted derivatives of polycyclic aromatic group, for example, an alkyl group of C 1 ~ 10, at least one group selected from the group consisting of fluorinated derivatives, and F or a halogen such as Cl And the above-mentioned polycyclic aromatic group.

この他にも、例えば、特表平8−511812号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式(47)または(48)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式(49)で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式(49)のポリイミドは、下記式(47)のホモポリマーの好ましい形態である。   In addition to this, for example, the homopolymer represented by the following general formula (47) or (48) described in JP-A-8-511812, or the repeating unit represented by the following general formula (49) The polyimide etc. which are shown are mention | raise | lifted. In addition, the polyimide of following formula (49) is a preferable form of the homopolymer of following formula (47).

前記一般式(47)〜(49)中、GおよびG’は、例えば、共有結合、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(ここで、Xは、ハロゲンである。)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、および、N(CH3)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。 In the general formulas (47) to (49), G and G ′ are, for example, a covalent bond, a CH 2 group, a C (CH 3 ) 2 group, a C (CF 3 ) 2 group, or a C (CX 3 ) 2 group. (Where X is halogen), from the group consisting of CO, O, S, SO 2 , Si (CH 2 CH 3 ) 2 and N (CH 3 ) groups, respectively It represents independently selected groups, and may be the same or different.

前記式(47)および式(49)中、Lは、置換基であり、dおよびeは、その置換数を表す。Lは、例えば、ハロゲン、C13アルキル基、C13ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、C13アルキル基、およびC13ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。dは、0から2までの整数であり、eは、0から3までの整数である。 In Formula (47) and Formula (49), L is a substituent, and d and e represent the number of substitutions. L is, for example, halogen, C 1 ~ 3 alkyl group, C 1 ~ 3 halogenated alkyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group, in the case of multiple or different are each identical. Examples of the substituted phenyl group, for example, halogen, a substituted phenyl group having at least one substituent selected from C 1 ~ 3 alkyl group, and C 1 ~ 3 the group consisting of halogenated alkyl groups. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine. d is an integer from 0 to 2, and e is an integer from 0 to 3.

前記式(47)〜(49)中、Qは置換基であり、fはその置換数を表す。Qとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Qが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。fは、0から4までの整数であり、gおよびhは、それぞれ0から3および1から3までの整数である。また、gおよびhは、1より大きいことが好ましい。   In the formulas (47) to (49), Q is a substituent, and f represents the number of substitutions. Q is, for example, selected from the group consisting of hydrogen, halogen, alkyl group, substituted alkyl group, nitro group, cyano group, thioalkyl group, alkoxy group, aryl group, substituted aryl group, alkyl ester group, and substituted alkyl ester group And when Q is plural, they are the same or different. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the substituted alkyl group include a halogenated alkyl group. Examples of the substituted aryl group include a halogenated aryl group. f is an integer from 0 to 4, and g and h are integers from 0 to 3 and 1 to 3, respectively. Further, g and h are preferably larger than 1.

前記式(48)中、R10およびR11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、R10およびR11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。 In the formula (48), R 10 and R 11 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, phenyl group, substituted phenyl group, alkyl group, and substituted alkyl group. Among these, R 10 and R 11 are preferably each independently a halogenated alkyl group.

前記式(49)中、M1およびM2は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、C13アルキル基、C13ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、C13アルキル基、およびC13ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。 In the formula (49), M 1 and M 2 are identical or different, for example, halogen, C 1 ~ 3 alkyl group, C 1 ~ 3 halogenated alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group is there. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine. The above-mentioned substituted phenyl group, for example, halogen, a substituted phenyl group having at least one substituent selected from the group consisting of C 1 ~ 3 alkyl group, and C 1 ~ 3 halogenated alkyl group and the like .

前記式(47)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式(50)で表されるもの等があげられる。
Specific examples of the polyimide represented by the formula (47) include those represented by the following formula (50).

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。   Furthermore, examples of the polyimide include a copolymer obtained by appropriately copolymerizing an acid dianhydride other than the skeleton (repeating unit) as described above and a diamine.

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、2,2’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。   Examples of the acid dianhydride include aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, heterocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 2, And 2'-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride.

前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、3,6−ジフェニルピロメリト酸二無水物、3,6−ビス(トリフルオロメチル)ピロメリト酸二無水物、3,6−ジブロモピロメリト酸二無水物、3,6−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,3,6,7−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロロ−ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記2,2’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,2’−ジブロモ−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ジクロロ−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。   Examples of the pyromellitic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,6-diphenylpyromellitic dianhydride, 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, and 3,6-dibromo. Examples include pyromellitic dianhydride and 3,6-dichloropyromellitic dianhydride. Examples of the benzophenone tetracarboxylic dianhydride include 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2 , 2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride and the like. Examples of the naphthalenetetracarboxylic dianhydride include 2,3,6,7-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 2,6 -Dichloro-naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride and the like. Examples of the heterocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride and pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride. Pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and the like. Examples of the 2,2′-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride include 2,2′-dibromo-4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 2,2′-dichloro. -4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, etc. can give.

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,5,6−トリフルオロ−3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4’−(3,4−ジカルボキシフェニル)−2,2−ジフェニルプロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、4,4’−[4,4’−イソプロピリデン−ジ(p−フェニレンオキシ)]ビス(フタル酸無水物)、N,N−(3,4−ジカルボキシフェニル)−N−メチルアミン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等があげられる。   Other examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride. Bis (2,5,6-trifluoro-3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3 3-hexafluoropropane dianhydride, 4,4 ′-(3,4-dicarboxyphenyl) -2,2-diphenylpropane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4 , 4′-oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfonic dianhydride (3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride), 4,4 ′ -[4,4'-isopropylidene-di (p Phenyleneoxy)] bis (phthalic anhydride), N, N- (3,4-dicarboxyphenyl) -N-methylamine dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diethylsilane dianhydride, etc. Is given.

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、2,2’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、2,2’−ビス(トリハロメチル)−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。   Among these, the aromatic tetracarboxylic dianhydride is preferably 2,2′-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride, more preferably 2,2′-bis (trihalomethyl) -4,4. ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, more preferably 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride It is.

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。   Examples of the diamine include aromatic diamines, and specific examples include benzene diamine, diaminobenzophenone, naphthalene diamine, heterocyclic aromatic diamine, and other aromatic diamines.

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、o−、m−およびp−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2−メトキシベンゼン、1,4−ジアミノ−2−フェニルベンゼンおよび1,3−ジアミノ−4−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、2,2’−ジアミノベンゾフェノン、および3,3’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、1,8−ジアミノナフタレン、および1,5−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、2,6−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリジン、および2,4−ジアミノ−S−トリアジン等があげられる。   Examples of the benzenediamine include o-, m- and p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diamino-2-methoxybenzene, 1,4-diamino-2-phenylbenzene, and 1, Examples include diamines selected from the group consisting of benzenediamines such as 3-diamino-4-chlorobenzene. Examples of the diaminobenzophenone include 2,2'-diaminobenzophenone and 3,3'-diaminobenzophenone. Examples of the naphthalene diamine include 1,8-diaminonaphthalene and 1,5-diaminonaphthalene. Examples of the heterocyclic aromatic diamine include 2,6-diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, and 2,4-diamino-S-triazine.

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−(9−フルオレニリデン)−ジアニリン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’,5,5’−テトラクロロベンジジン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。   In addition to these, the aromatic diamine includes 4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4 ′-(9-fluorenylidene) -dianiline, 2,2′-bis ( Trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dichloro-4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,2′-dichloro-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2 ′, 5 5′-tetrachlorobenzidine, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1, 1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-amino Phenoxy) biphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl) -1,1,1,3,3,3 -Hexafluoropropane, 4,4'-diaminodiphenyl thioether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone and the like.

前記光学補償層の材料となる前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開2001−49110号公報に記載された、下記一般式(51)で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。   Examples of the polyether ketone used as the material of the optical compensation layer include polyaryl ether ketones represented by the following general formula (51) described in JP-A No. 2001-49110.

前記式(51)中、Xは、置換基を表し、qは、その置換数を表す。Xは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Xが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。   In the formula (51), X represents a substituent, and q represents the number of substitutions. X is, for example, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogenated alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogenated alkoxy group, and when there are a plurality of Xs, they are the same or different.

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、C16の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはC14の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、および、tert−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、C16の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはC14の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、および、tert−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom, and an iodine atom, and among these, a fluorine atom is preferable. Examples of the lower alkyl group, for example, preferably a lower alkyl group having a straight-chain or branched C 1 ~ 6, more preferably a straight-chain or branched alkyl group of C 1 ~ 4. Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable. Examples of the halogenated alkyl group include halides of the lower alkyl group such as a trifluoromethyl group. Examples of the lower alkoxy group, for example, preferably a straight chain or branched chain alkoxy group of C 1 ~ 6, more preferably a straight chain or branched chain alkoxy group of C 1 ~ 4. Specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group are more preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable. . Examples of the halogenated alkoxy group include halides of the lower alkoxy group such as a trifluoromethoxy group.

前記式(51)中、qは、0から4までの整数である。前記式(51)においては、q=0であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。   In the formula (51), q is an integer from 0 to 4. In the formula (51), it is preferable that q = 0, and the carbonyl group bonded to both ends of the benzene ring and the oxygen atom of the ether are present in the para position.

また、前記式(51)中、R1は、下記式(52)で表される基であり、mは、0または1の整数である。 In the formula (51), R 1 is a group represented by the following formula (52), and m is an integer of 0 or 1.

前記式(52)中、X’は置換基を表し、例えば、前記式(51)におけるXと同様である。前記式(52)において、X’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。q’は、前記X’の置換数を表し、0から4までの整数であって、q’=0が好ましい。また、pは、0または1の整数である。   In the formula (52), X ′ represents a substituent, and is the same as X in the formula (51), for example. In Formula (52), when there are a plurality of X ′, they are the same or different. q ′ represents the number of substitutions of X ′ and is an integer from 0 to 4, preferably q ′ = 0. P is an integer of 0 or 1.

前記式(52)中、R2は、2価の芳香族基を表す。この2価の芳香族基としては、例えば、o−、m−もしくはp−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、o−、m−もしくはp−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される2価の基等があげられる。これらの2価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記R2としては、下記式(53)〜(59)からなる群から選択される芳香族基が好ましい。 In the formula (52), R 2 represents a divalent aromatic group. Examples of the divalent aromatic group include an o-, m- or p-phenylene group, or naphthalene, biphenyl, anthracene, o-, m- or p-terphenyl, phenanthrene, dibenzofuran, biphenyl ether, or And divalent groups derived from biphenylsulfone. In these divalent aromatic groups, hydrogen directly bonded to the aromatic group may be substituted with a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group. Among these, R 2 is preferably an aromatic group selected from the group consisting of the following formulas (53) to (59).

前記式(51)中、前記R1としては、下記式(60)で表される基が好ましく、下記式(60)において、R2およびpは前記式(52)と同義である。 In the formula (51), the R 1 is preferably a group represented by the following formula (60). In the following formula (60), R 2 and p have the same meanings as the formula (52).

さらに、前記式(51)中、nは重合度を表し、例えば、2〜5000の範囲であり、好ましくは、5〜500の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。   Furthermore, in said Formula (51), n represents a polymerization degree, for example, is the range of 2-5000, Preferably, it is the range of 5-500. The polymerization may be composed of repeating units having the same structure, or may be composed of repeating units having different structures. In the latter case, the polymerization mode of the repeating unit may be block polymerization or random polymerization.

さらに、前記式(51)で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、p−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式(61)で表すことができる。なお、下記式において、nは前記式(51)と同様の重合度を表す。   Furthermore, it is preferable that the end of the polyaryl ether ketone represented by the formula (51) is fluorine on the p-tetrafluorobenzoylene group side and a hydrogen atom on the oxyalkylene group side. For example, it can be represented by the following general formula (61). In the formula below, n represents the same degree of polymerization as in formula (51).

前記式(51)で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としでは、下記式(62)〜(65)で表されるもの等があげられ、下記各式において、nは、前記式(51)と同様の重合度を表す。   Specific examples of the polyaryletherketone represented by the formula (51) include those represented by the following formulas (62) to (65). In each formula below, n represents the formula (51). Represents the same degree of polymerization.

また、これらの他に、前記光学補償層の材料である前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平10−508048号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式(66)で表すことができる。   In addition to these, examples of the polyamide or polyester as the material of the optical compensation layer include polyamides and polyesters described in JP-T-10-508048, and the repeating units thereof are, for example, Can be represented by the following general formula (66).

前記式(66)中、Yは、OまたはNHである。また、Eは、例えば、共有結合、C2アルキレン基、ハロゲン化C2アルキレン基、CH2基、C(CX3)2基(ここで、Xはハロゲンまたは水素である。)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(R)2基、および、N(R)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Eにおいて、Rは、C13アルキル基およびC13ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはY基に対してメタ位またはパラ位にある。 In the formula (66), Y is O or NH. E is, for example, a covalent bond, a C 2 alkylene group, a halogenated C 2 alkylene group, a CH 2 group, a C (CX 3 ) 2 group (where X is a halogen or hydrogen), a CO group, It is at least one kind of group selected from the group consisting of O atom, S atom, SO 2 group, Si (R) 2 group, and N (R) group, and may be the same or different. In the E, R is at least one of C 1 ~ 3 alkyl group and C 1 ~ 3 halogenated alkyl group, in the meta or para position relative to the carbonyl functional group or a Y group.

また、前記(66)中、AおよびA’は、置換基であり、tおよびzは、それぞれの置換数を表す。また、pは、0から3までの整数であり、qは、1から3までの整数であり、rは、0から3までの整数である。   Moreover, in said (66), A and A 'are substituents and t and z represent the number of each substitution. P is an integer from 0 to 3, q is an integer from 1 to 3, and r is an integer from 0 to 3.

前記Aは、例えば、水素、ハロゲン、C13アルキル基、C13ハロゲン化アルキル基、OR(ここで、Rは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、C19アルコキシカルボニル基、C19アルキルカルボニルオキシ基、C112アリールオキシカルボニル基、C112アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、C112アリールカルバモイル基、ならびに、C112アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記A’は、例えば、ハロゲン、C13アルキル基、C13ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、C1-3アルキル基、C1-3ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記tは、0から4までの整数であり、前記zは、0から3までの整数である。 Wherein A is selected from hydrogen, a halogen, C 1 ~ 3 alkyl group, C 1 ~ 3 halogenated alkyl group, OR (wherein, R represents those defined above.) The alkoxy group represented by aryl group, a substituted aryl group by a halogen, etc., C 1 ~ 9 alkoxycarbonyl group, C 1 ~ 9 alkylcarbonyloxy group, C 1 ~ 12 aryloxycarbonyl group, C 1 ~ 12 arylcarbonyloxy group and a substituted derivative thereof, C 1-12 arylcarbamoyl group, and is selected from the group consisting of C 1-12 arylcarbonylamino group and a substituted derivative thereof, in the case of a plurality, they may be the same or different. Wherein A 'is, for example, halogen, C 1 ~ 3 alkyl group, C 1 ~ 3 halogenated alkyl group, selected from the group consisting of phenyl group and a substituted phenyl group and when there are plural, they may be the same or different. Examples of the substituent on the phenyl ring of the substituted phenyl group include halogen, C 1-3 alkyl group, C 1-3 halogenated alkyl group, and combinations thereof. The t is an integer from 0 to 4, and the z is an integer from 0 to 3.

前記式(66)で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式(67)で表されるものが好ましい。   Among the repeating units of polyamide or polyester represented by the formula (66), those represented by the following general formula (67) are preferable.

前記式(67)中、A、A’およびYは、前記式(66)で定義したものであり、vは0から3の整数、好ましくは、0から2の整数である。xおよびyは、それぞれ0または1であるが、共に0であることはない。   In the formula (67), A, A ′ and Y are as defined in the formula (66), and v is an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2. x and y are each 0 or 1, but are not 0 at the same time.

斯かる構成の光学補償層2を前記偏光膜保護フィルム1に積層するには、粘着剤又は接着剤を使用することができる。中でも、光学補償層付き偏光板の薄型化を図ることができるという観点から、接着剤を使用することが好ましい。   In order to laminate the optical compensation layer 2 having such a configuration on the polarizing film protective film 1, a pressure-sensitive adhesive or an adhesive can be used. Especially, it is preferable to use an adhesive from a viewpoint that thickness reduction of a polarizing plate with an optical compensation layer can be achieved.

前記粘着剤としては、透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性のある粘着特性を示すものが好ましく、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系の粘着剤を使用することができる。   As the pressure-sensitive adhesive, those having excellent transparency and exhibiting appropriate wettability, cohesion and adhesive properties are preferable. For example, rubber-based, acrylic-based and silicone-based pressure-sensitive adhesives can be used. .

また、前記接着剤としては、エポキシ系、アクリル系、アクリルウレタン系の接着剤等を使用することができる。
接着剤によって偏光膜保護フィルムと光学補償層とが積層されている場合、製造された光学補償層付き偏光板は薄型軽量性に優れたものとなり、モバイル用途に用いられる画像表示装置に好適な光学補償層付き偏光板となる。
Moreover, as said adhesive agent, an epoxy type, an acrylic type, an acrylic urethane type adhesive agent, etc. can be used.
When a polarizing film protective film and an optical compensation layer are laminated by an adhesive, the produced polarizing plate with an optical compensation layer is excellent in thin and lightweight properties, and is suitable for an image display device used for mobile applications. It becomes a polarizing plate with a compensation layer.

光学補償層保護フィルム3は、後段のケン化処理において光学補償層2の表面が悪影響を及ぼされない程度にアルカリ耐性があり、ケン化処理後に剥がせるものであれば、特に限定されない。
該光学補償層保護フィルム3としては、例えば、ポリオレフィン系やポリエステル系のポリマー等を広く使用することができるが、中でも、アルカリ耐性に優れるという観点から、ポリエチレン或いはポリエチレンテレフタレートが好ましい。
尚、該光学補償層保護フィルム3は、ケン化処理後すぐに剥がしても良く、また、偏光膜4との積層前に剥がしても良く、或いは偏光膜4との積層後に剥がしてもよい。
但し、ケン化処理後の工程において高温に加熱される工程を経る場合には、耐熱性に優れた光学補償層保護フィルムとすることが好ましい。
The optical compensation layer protective film 3 is not particularly limited as long as it has alkali resistance to the extent that the surface of the optical compensation layer 2 is not adversely affected in the subsequent saponification treatment and can be peeled off after the saponification treatment.
As the optical compensation layer protective film 3, for example, polyolefin-based or polyester-based polymers can be widely used. Among them, polyethylene or polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoint of excellent alkali resistance.
The optical compensation layer protective film 3 may be peeled off immediately after the saponification treatment, may be peeled off before lamination with the polarizing film 4, or may be peeled off after lamination with the polarizing film 4.
However, when passing through the process heated to high temperature in the process after a saponification process, it is preferable to set it as the optical compensation layer protective film excellent in heat resistance.

光学補償層保護フィルムを光学補償層に貼り合わせる方法については特に限定されず、例えば、ケン化処理の際に光学補償層保護フィルムが剥がれることがなく、ケン化処理後にはこれを容易に剥がし得るようなものを好適に使用できる。斯かる方法としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系の粘着剤を介して貼りつける方法が挙げられる。   The method for bonding the optical compensation layer protective film to the optical compensation layer is not particularly limited. For example, the optical compensation layer protective film is not peeled off during the saponification treatment, and can be easily peeled off after the saponification treatment. Such a thing can be used conveniently. Examples of such a method include a method of attaching via a rubber-based, acrylic-based, or silicone-based pressure-sensitive adhesive.

偏光膜保護フィルムのケン化処理方法については特に限定されず、偏光膜保護フィルムと偏光膜との接着に使用される接着剤や、偏光膜保護フィルムの種類に応じて適宜公知の方法から最適な条件(アルカリへの浸漬時間、アルカリ溶液の温度、アルカリ溶液の濃度など)を選択すればよい。   The saponification treatment method of the polarizing film protective film is not particularly limited, and it is optimal from known methods as appropriate depending on the adhesive used for bonding the polarizing film protective film and the polarizing film and the type of the polarizing film protective film. The conditions (immersion time in alkali, temperature of alkali solution, concentration of alkali solution, etc.) may be selected.

次いで、斯かるケン化処理によってケン化された偏光膜保護フィルム表面を介し、光学補償層付偏光膜保護フィルムと偏光膜とを接着する。接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコールとその架橋剤を含む水溶液や、イソシアネート系接着剤などを使用できる。   Next, the polarizing film protective film with an optical compensation layer and the polarizing film are bonded via the surface of the polarizing film protective film saponified by the saponification treatment. As the adhesive, for example, an aqueous solution containing polyvinyl alcohol and its crosslinking agent, an isocyanate-based adhesive, or the like can be used.

また、本発明の液晶表示装置は、上述のような本発明の光学補償層付き偏光板を備えたものである。液晶表示装置の形式は特に限定されず、例えばSTN(SuperTwisted Nematic)セル、TN(Twisted Nenatic)セル、VA(Vertical Aligned)セル、OCB(Optically Controled Birefringence)セル、HAN(Hybrid Aligned Nematic)セル、及びこれらに規則正しい配向分割を施したもの、ランダムな配向分割を行ったもの等の、各種のセルを含むものとすることができ、また、単純マトリックス方式、TFT(Thin Film Transistor)電極やMIM(Metal Insulator Metal)電極等を用いたアクティブマトリックス方式、セルの面内方向に駆動電圧を印加するIPS(In−Plane Switching)方式、プラズマアドレッシング方式等の各種の駆動方式を採るものとすることができる。また、バックライトシステムを備えた透過型のもの、あるいは反射板を供えた反射型のもの、さらには投射型のものとすることもできる。   The liquid crystal display device of the present invention includes the polarizing plate with an optical compensation layer of the present invention as described above. The type of the liquid crystal display device is not particularly limited, and for example, an STN (Super Twisted Nematic) cell, a TN (Twisted Nematic) cell, a VA (Vertical Aligned Birefringence) cell, an OCB (Optically Controlled Birefringence) cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, an HN cell, a HN These cells can include various types of cells such as those subjected to regular alignment division and those subjected to random alignment division, and also include a simple matrix type, TFT (Thin Film Transistor) electrode, MIM (Metal Insulator Metal). ) Active matrix system using electrodes, etc., IPS (In− Various driving methods such as a plane switching method and a plasma addressing method can be adopted. Further, it can be of a transmissive type provided with a backlight system, a reflective type provided with a reflecting plate, or a projection type.

本発明の液晶表示装置においては、前記光学補償層付き偏光板を備える態様は特に限定されないが、通常、偏光膜と駆動セルとの間に光学補償層が位置するように、駆動セルの上側及び/又は下側の位置に、1枚若しくは複数枚の前記光学補償層付き偏光板を配置する態様を挙げることができる。また、別の光学用フィルム、例えば本発明の光学フィルムとは異なる屈折率構造を有する位相差フィルム、散乱フィルム、レンズシート等と組み合わせた態様とすることもできる。   In the liquid crystal display device of the present invention, the aspect including the polarizing plate with the optical compensation layer is not particularly limited, but usually, the upper side of the driving cell and the optical compensation layer are positioned between the polarizing film and the driving cell. There may be mentioned an embodiment in which one or a plurality of the polarizing plates with optical compensation layers are arranged at the lower position. Moreover, it can also be set as the aspect combined with another optical film, for example, the phase difference film which has a refractive index structure different from the optical film of this invention, a scattering film, a lens sheet, etc.

また、本発明の光学補償層付き偏光板は、有機エレクトロルミネセンス装置のような他の画像表示装置においても用いることができる。
有機エレクトロルミネセンス装置は、例えば、電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、該有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなるものである。斯かる構成の有機エレクトロルミネセンス装置においては、例えば、透明電極の表面側に、本発明の光学補償層付き偏光板を設けることができ、好ましくは、透明電極と偏光膜との間に光学補償層が位置するように設けることができる。
The polarizing plate with an optical compensation layer of the present invention can also be used in other image display devices such as an organic electroluminescence device.
An organic electroluminescent device includes, for example, a transparent electrode on the surface side of an organic light emitting layer that emits light when a voltage is applied, and a metal electrode on the back surface side of the organic light emitting layer. In the organic electroluminescence device having such a configuration, for example, the polarizing plate with an optical compensation layer of the present invention can be provided on the surface side of the transparent electrode, and preferably, optical compensation is performed between the transparent electrode and the polarizing film. It can be provided that the layer is located.

以下、実施例を挙げることにより、本発明についてさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by giving examples.

実施例1
(1)厚さ56μmの光学補償層が積層されたトリアセチルセルロースフィルム(新日本石油社製、LCフィルム)を用い、該光学補償層に光学補償層保護フィルム(サンエー化研社製)を貼り合わせた後、該積層フィルムをケン化浴に浸漬し、前記トリアセチルセルロースフィルムの表面をケン化処理することにより、光学補償層付偏光膜保護フィルム5を作製した。
(2)ポリビニルアルコールフィルム(クラレ社製)を30℃の純水に1分間浸漬しながら2.7倍に延伸した。次いで、ヨウ素濃度3%の水溶液中に30℃で1分間浸漬しながら1.4倍に延伸した。次いで、ホウ酸濃度4%、ヨウ素濃度3%のホウ酸とヨウ素の混合水溶液中に55℃で2分間浸漬しながら1.7倍に延伸した。更にヨウ素濃度3.4%の水溶液中に30℃で5秒間浸漬した。その後、27℃で7分間、空気中で乾燥させ偏光膜4を作製した。
(3)さらに、偏光膜保護フィルム1’として、別途、ケン化処理済のトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製、フジタック)を用意した。
これら5、4、1’のフィルムおよび膜をその順に貼り合わせることにより、実施例1の光学補償層付き偏光板を作製した。
Example 1
(1) Using a triacetyl cellulose film (LC film) manufactured by Nippon Oil Corporation with an optical compensation layer having a thickness of 56 μm, an optical compensation layer protective film (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.) is attached to the optical compensation layer. Then, the laminated film was immersed in a saponification bath, and the surface of the triacetylcellulose film was saponified to produce a polarizing film protective film 5 with an optical compensation layer.
(2) A polyvinyl alcohol film (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was stretched 2.7 times while immersed in pure water at 30 ° C. for 1 minute. Next, the film was stretched 1.4 times while immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 3% at 30 ° C. for 1 minute. Next, the film was stretched 1.7 times while immersed in a mixed aqueous solution of boric acid and iodine having a boric acid concentration of 4% and an iodine concentration of 3% at 55 ° C. for 2 minutes. Further, it was immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 3.4% at 30 ° C. for 5 seconds. Thereafter, the polarizing film 4 was produced by drying in air at 27 ° C. for 7 minutes.
(3) Furthermore, a saponified triacetyl cellulose film (Fuji Film, Fujitac) was separately prepared as the polarizing film protective film 1 ′.
A polarizing plate with an optical compensation layer of Example 1 was produced by laminating these 5, 4, 1 ′ films and films in that order.

実施例1の光学補償層付き偏光板を調べたところ、全体の厚みは121μmであり、光学補償層の侵食は認められなかった。   When the polarizing plate with an optical compensation layer of Example 1 was examined, the total thickness was 121 μm, and no erosion of the optical compensation layer was observed.

比較例1
前記光学補償層付偏光膜保護フィルム5において、光学補償層に光学補償層保護フィルムを貼り合わせずにケン化処理する点を除き、他は実施例1と同様にして比較例1の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例1の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは121μmであったが、光学補償層はケン化により、溶出したものとなっていた。
Comparative Example 1
The optical compensation layer of Comparative Example 1 was the same as Example 1 except that the polarizing film protective film 5 with the optical compensation layer was subjected to saponification treatment without bonding the optical compensation layer protective film to the optical compensation layer. An attached polarizing plate was produced.
When the polarizing plate with an optical compensation layer of Comparative Example 1 was examined, the total thickness was 121 μm, but the optical compensation layer was eluted by saponification.

比較例2
前記偏光膜4に、前記偏光膜保護フィルム1’を両面から貼り合わせることにより、偏光板を作製した。該偏光板に、前記光学補償層付偏光膜保護フィルム5の光学補償層とは反対側の面に粘着剤(アクリル系、20μm)を塗布したものを貼り合わせ、比較例2の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例2の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは181μmであった。
Comparative Example 2
A polarizing plate was prepared by pasting the polarizing film protective film 1 ′ on both sides of the polarizing film 4. The polarizing plate protective film 5 with an optical compensation layer is coated with a pressure-sensitive adhesive (acrylic, 20 μm) applied to the opposite side of the polarizing film protective film 5 with the optical compensation layer, and the optical compensation layer of Comparative Example 2 is attached. A polarizing plate was produced.
When the polarizing plate with an optical compensation layer of Comparative Example 2 was examined, the total thickness was 181 μm.

比較例3
前記偏光膜4に、前記偏光膜保護フィルム1’を両面から貼り合わせることにより、偏光板を作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に液晶ポリマーを厚み16μmに塗布し、更にその上に粘着剤(アクリル系)を20μmに塗布したものを貼り合わせ、その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することによって光学補償層を偏光板に転写し、比較例3の光学補償層付き偏光板を作製した。
比較例3の光学補償層付き偏光板を調べたところ、その全体の厚みは141μmであった。
Comparative Example 3
A polarizing plate was prepared by pasting the polarizing film protective film 1 ′ on both sides of the polarizing film 4. Next, an optical compensation layer is formed by applying a liquid crystal polymer on a polyethylene terephthalate film to a thickness of 16 μm, and further bonding an adhesive (acrylic) applied to a thickness of 20 μm, and then peeling the polyethylene terephthalate film. Was transferred to a polarizing plate to produce a polarizing plate with an optical compensation layer of Comparative Example 3.
When the polarizing plate with an optical compensation layer of Comparative Example 3 was examined, the total thickness was 141 μm.

本発明の一実施形態を示したフロー図。The flowchart which showed one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、1’ 偏光膜保護フィルム
1a ケン化された偏光膜保護フィルム表面
2 光学補償層
3 光学補償層保護フィルム
4 偏光膜
5 光学補償層付偏光膜保護フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 'Polarizing film protective film 1a Saponified polarizing film protective film surface 2 Optical compensation layer 3 Optical compensation layer protective film 4 Polarizing film 5 Polarizing film protective film with an optical compensation layer

Claims (7)

偏光膜保護フィルムの上に光学補償層と光学補償層保護フィルムとが順に積層されてなる光学補償層付偏光膜保護フィルムをケン化処理し、ケン化された偏光膜保護フィルム表面にて該光学補償層付偏光膜保護フィルムを偏光膜に貼り合わせることにより、光学補償層付きの偏光板を製造することを特徴とする光学補償層付き偏光板の製造方法。   A polarizing film protective film with an optical compensation layer in which an optical compensation layer and an optical compensation layer protective film are sequentially laminated on the polarizing film protective film is saponified, and the optical film is formed on the surface of the saponified polarizing film protective film. A method for producing a polarizing plate with an optical compensation layer, comprising producing a polarizing plate with an optical compensation layer by attaching a polarizing film protective film with a compensation layer to the polarizing film. 前記光学補償層が、接着剤を介して偏光膜保護フィルムに積層されていることを特徴とする請求項1記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。   The method for producing a polarizing plate with an optical compensation layer according to claim 1, wherein the optical compensation layer is laminated on a polarizing film protective film via an adhesive. 前記光学補償層が、液晶ポリマーを含んでなることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。   The method for producing a polarizing plate with an optical compensation layer according to claim 1, wherein the optical compensation layer comprises a liquid crystal polymer. 前記偏光膜保護フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。   The said polarizing film protective film is a triacetyl cellulose film, The manufacturing method of the polarizing plate with an optical compensation layer in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記偏光膜保護フィルムの厚みが、30〜50μmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の光学補償層付き偏光板の製造方法。   The thickness of the said polarizing film protective film is 30-50 micrometers, The manufacturing method of the polarizing plate with an optical compensation layer in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜5の何れかに記載の製造方法によって得られた光学補償層付き偏光板。   The polarizing plate with an optical compensation layer obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-5. 請求項6記載の光学補償層付き偏光板が備えられたことを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the polarizing plate with an optical compensation layer according to claim 6.
JP2004003420A 2004-01-08 2004-01-08 Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device Pending JP2005195984A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004003420A JP2005195984A (en) 2004-01-08 2004-01-08 Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004003420A JP2005195984A (en) 2004-01-08 2004-01-08 Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005195984A true JP2005195984A (en) 2005-07-21

Family

ID=34818337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004003420A Pending JP2005195984A (en) 2004-01-08 2004-01-08 Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005195984A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009009111A (en) * 2007-05-29 2009-01-15 Nitto Denko Corp Method for manufacturing polarizer, polarizer, polarizing plate, optical film and image display device
JP2010076081A (en) * 2008-09-29 2010-04-08 Fujifilm Corp Method for cutting resin sheet with protective film
US7777837B2 (en) 2006-05-22 2010-08-17 Samsung Electronics Co., Ltd. LCD polarizers

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7777837B2 (en) 2006-05-22 2010-08-17 Samsung Electronics Co., Ltd. LCD polarizers
JP2009009111A (en) * 2007-05-29 2009-01-15 Nitto Denko Corp Method for manufacturing polarizer, polarizer, polarizing plate, optical film and image display device
JP2010076081A (en) * 2008-09-29 2010-04-08 Fujifilm Corp Method for cutting resin sheet with protective film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100832276B1 (en) Optical film and method for producing same, and image display employing such optical film
JP4044485B2 (en) Optical film, method for producing the same, and polarizing plate using the same
JP4236098B2 (en) Birefringent optical film
JP3762751B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP4388023B2 (en) Polarizing plate with optical compensation layer, liquid crystal panel using polarizing plate with optical compensation layer, liquid crystal display device, and image display device
JP2004264345A (en) Retardation film and its manufacturing method
WO2003100480A1 (en) Optical film
WO2003091767A1 (en) Process for producing birefringent film
JP4530256B2 (en) Retardation film, method for producing the same, and optical film using the same
JP4025699B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device using the same
JP2003315555A (en) Stacked retardation plate and image displaying device using the same
JP2003315554A (en) Stacked polarizing plate and image display device using the same
JP2004046097A (en) Laminated retardation plate, stacked polarizing plate using same, and image display device
JP3929046B2 (en) Method for producing birefringent film, birefringent film, polarizing plate with optical compensation layer using the same, liquid crystal panel for vertical alignment mode liquid crystal display device, and vertical alignment mode liquid crystal display device
JP3764440B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP3967764B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
JP3998153B2 (en) VA cell optical compensation film manufacturing method
JP3747210B2 (en) Optical film manufacturing method, optical film, liquid crystal display device and image display device
JP4274842B2 (en) Polarizing plate with optical compensation function for VA mode liquid crystal display device, and VA mode liquid crystal display device using the same
JP2005195984A (en) Method of manufacturing polarizing plate with optical compensation layer, polarizing plate with optical compensation layer and image displaying device
JP2007178984A (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
JP3976328B2 (en) Method for producing optical film for VA mode liquid crystal display device
JP2006091920A5 (en)
JP2005292727A (en) Laminated phase difference film, its manufacturing method and optical film using the same
JP3742626B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061106

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090710

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091106