JP2005195721A - 光偏向装置、光偏向アレイ、画像形成装置及び画像投影表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、基板と、複数の規制部材と、支点部材と、板状部材と、複数の電極とを有し、複数の規制部材はそれぞれ上部にストッパを有し、基板の複数の端部にそれぞれ設けられ、支点部材は頂部を有し、基板の上面に設けられ、板状部材は固定端を持たず、上面に光反射領域を有し、少なくとも一部に導電性を有する部材からなる導電体層を有し、基板と支点部材とストッパの間の空間内で可動的に配置され、複数の電極は前記板状部材の導電体層とほぼ対向して基板上にそれぞれ設けられ、板状部材が支点部材を中心として静電引力により傾斜変位することにより、光反射領域に入射する光束が反射方向を変えて光偏向を行う。そして、板状部材が高弾性率を有する第1の部材と高反射率を有する第2の部材の2層で構成されている。
【選択図】 図1
Description
先ず図9のOFF動作における電位の印加組み合わせにおいて、電極105aに高電位aを印加し、電極105bに低電位cを印加し、電極105c及び電極105dに中間の電位bを印加すると、導電体層を有しかつ電極群105と対向している電気的に浮いている板状部材104は簡易的なクローズ回路の計算から容易に類推されるように上記中間の電位bと等しくなる。それにより、ON側の電極105c,105dに対して静電引力を生じず、OFF側の電極105a,105bに対して図8の(a)に記載のように静電引力が発生する。そのため、板状部材104がOFF側に傾斜変位する。この動作は一連の光偏向動作のOFF動作だけでなく、光偏向動作の初期に行うリセット動作であっても良い。次に、図9のON動作における電位の印加組み合わせにおいて、電極105cに高電位aを印加し、電極105dに低電位cを印加し、電極105a及び電極105bに中間の電位bを印加すると、導電体層を有しかつ電極群105と対向している電気的に浮いている板状部材104はやはり簡易的なクローズ回路の計算から容易に類推されるように上記中間の電位bと等しくなる。それにより、OFF側の電極105a,105bに対して静電引力を生じず、ON側の電極105c,105dに対して図8の(d)に記載のように静電引力が発生する。そのため、板状部材104がON側に傾斜変位する。なお、従来の光偏向装置の板状部材104は単層であるが、必ずしも単層に限るものではなく、2層構造を有するものでも良い。また、上述の従来の光偏向装置の駆動動作及びそれに対応した板状部材104の傾斜変位動作は、電気的に浮いている板状部材104を傾斜変位させる方法を記載したが、他に支点部材103を導電性部材で構成し、この支点部材103を経由して板状部材104に接触させて電位を付与し、対向する電極群105との間の静電引力により板状部材104を傾斜変位させる方法もある。
はじめに、図10の(a)に示すように、シリコン基板101上に、支点部材103を構成するシリコン酸化膜がプラズマCVD法により堆積され、その後、濃度階調性を有するフォトマスクを用いた写真製版法やレジストパターン形成後熱変形させる写真製版法により、支点部材103の形状とほぼ同形状の任意の膜厚を有するレジストパターンを形成し、その後、ドライエッチング法により目的形状の支点部材103が形成される。なお、シリコン基板101上にシリコン酸化膜を形成し、その上層の一部を同様の加工を行っても良い。次に、図10の(b)に示すように、電極105a,105b,105c,105dを窒化チタン(TiN)膜の薄膜で形成する。TiN薄膜は、TiをターゲットとしたDCマグネトロンスパッタ法により成膜し、写真製版法及びドライエッチング法により複数の電極105a,105b,105c,105dとしてパターン化する。そして、図10の(c)に示すように、電極105a,105b,105c,105dの保護膜106として、プラズマCVD法によるシリコン酸化膜を形成する。次に、図10の(d)に示すように、非晶質なシリコン膜をスパッタ法により堆積させ、CMP技術を用いて処理時間制御にて平坦化した。この時、支点部材103の頂部上に残る非晶質なシリコン膜の膜厚を制御することが重要である。残存する非晶質なシリコン膜が第1の犠牲層107である。なお、第1の犠牲層107としては上記非晶質なシリコン膜以外にもポリイミド膜、感光性有機膜(一般的に半導体プロセスにて用いられるレジスト膜)や多結晶シリコン膜などを用いることもでき、平坦化の手法としては、熱処理によるリフロー法やドライエッチングによるエッチバック法を用いることもできる。そして、図10の(e)に示すように、従来の光偏向装置の特徴である板状部材104を堆積、パターン化する。板状部材104は高い光反射性を有しかつ導電体層としての役割を果たすために、アルミニウム膜をスパッタリング技術により堆積させ、写真製版法及びドライエッチング法によりパターン化する。
一般的に任意の基板上に堆積した膜はその基板との熱膨張係数差や堆積手法や堆積時の温度さらに膜中の元素の結合状態に応じて、膜中に残留応力を有することとなる。後述する残留膜応力または膜応力はこれを表す。残留膜応力は理想的には膜厚方向で均一であることが望まれるが、堆積手法によっては膜厚方向に不均一である場合もある。更に、この膜はその組成及び堆積手法に応じてそれぞれ特有のヤング率を有する。後述する弾性率はこれを表す。特有の弾性率を持つ膜が残留膜応力を有するので、上述のε=σ/Eに示すように、膜は歪を内在することとなる。後述する歪量はこれを表す。図7の従来の光偏向装置は、板状部材104が固定端を有していないことを特徴としており、図10の(i)の犠牲層のエッチングにおいて周囲の第1の犠牲層107及び第2の犠牲層108がエッチング除去されると、板状部材104は膜応力及び弾性率に応じて歪が開放され伸縮されることとなる。この時、膜厚方向に膜応力が不均一でない限り単層膜では均一に歪が開放されるので板状部材104が大きく反ることはない。すなわち平面性が低下することはない。それに対し、板状部材104が2層で構成されている場合、各膜はそれぞれが有する弾性率及び膜応力に従い、それぞれの歪量を開放することとなる。図12に板状部材が2層で構成され犠牲層エッチング時に歪が開放された様子を模式的に示す。図12において構成膜201、202がそれぞれ弾性率E1、E2と残留引張応力σ1、σ2を有する場合、それぞれの歪量はσ1/E1、σ2/E2となる。歪量が白抜き矢印の大きさで示したように、構成膜201の方が大きい場合、板状部材は、図12に黒矢印で記載のように曲げモーメントを受け、201側に反ることとなる。すなわち板状部材の平面性が低下することとなる。この不具合は、板状部材の総膜厚が薄膜化するほど顕著となり、例えば総膜厚が300nm以下では重要な課題と考えられる。
302,402;第1の部材、303,403;第2の部材、
304,404;歪量調整部材、500;画像形成装置、
503,603;光偏向アレイ、600;画像投影表示装置。
Claims (8)
- 基板と、複数の規制部材と、支点部材と、板状部材と、複数の電極とを有し、前記複数の規制部材はそれぞれ上部にストッパを有し、前記基板の複数の端部にそれぞれ設けられ、前記支点部材は頂部を有し、前記基板の上面に設けられ、前記板状部材は固定端を持たず、上面に光反射領域を有し、少なくとも一部に導電性を有する部材からなる導電体層を有し、前記基板と前記支点部材と前記ストッパの間の空間内で可動的に配置され、前記複数の電極は前記板状部材の導電体層とほぼ対向して基板上にそれぞれ設けられ、前記板状部材が前記支点部材を中心として静電引力により傾斜変位することにより、前記光反射領域に入射する光束が反射方向を変えて光偏向を行う光偏向装置において、
前記板状部材が、高弾性率を有する第1の部材と、高反射率を有する第2の部材の2層で構成されることを特徴とする光偏向装置。 - 前記第1の部材の膜応力に起因する歪量と、前記第2の部材の膜応力に起因する歪量をほぼ同等とする請求項1記載の光偏向装置。
- 基板と、複数の規制部材と、支点部材と、板状部材と、複数の電極とを有し、前記複数の規制部材はそれぞれ上部にストッパを有し、前記基板の複数の端部にそれぞれ設けられ、前記支点部材は頂部を有し、前記基板の上面に設けられ、前記板状部材は固定端を持たず、上面に光反射領域を有し、少なくとも一部に導電性を有する部材からなる導電体層を有し、前記基板と前記支点部材と前記ストッパの間の空間内で可動的に配置され、前記複数の電極は前記板状部材の導電体層とほぼ対向して基板上にそれぞれ設けられ、前記板状部材が前記支点部材を中心として静電引力により傾斜変位することにより、前記光反射領域に入射する光束が反射方向を変えて光偏向を行う光偏向装置において、
前記板状部材が、高弾性率を有する第1の部材と、高反射率を有する第2の部材と、少なくとも1層以上の歪量調整部材で構成され、前記板状部材を構成する各部材内または部材間の歪量の差を、前記歪量調整部材の歪量で補正することを特徴とする光偏向装置。 - 前記第1の部材としてシリコン窒化膜、アルミニウム窒化膜、アルミニウム合金の窒化膜、クロム膜又はクロム合金膜を用いる請求項1〜3のいずれかに記載の光偏向装置。
- 前記歪量調整部材としてシリコン酸化膜又はクロム酸化膜を用いる請求項3記載の光偏向装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の光偏向装置を複数、任意の基板上に1次元又は2次元アレイ状に配置したことを特徴とする光偏向アレイ。
- 請求項6記載の光偏向アレイを、ライン露光型の潜像形成手段である光書込みユニットとして用いることを特徴とする画像形成装置。
- 請求項6記載の光偏向アレイを、光源からの光束を画像情報に応じて目的の方向へ反射させる表示ユニットとして用いることを特徴とした画像投影表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004000111A JP4397236B2 (ja) | 2004-01-05 | 2004-01-05 | 光偏向装置、光偏向アレイ、画像形成装置及び画像投影表示装置 |
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Publications (2)
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JP2005195721A true JP2005195721A (ja) | 2005-07-21 |
JP4397236B2 JP4397236B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4397236B2 (ja) |
Cited By (4)
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US7345823B2 (en) | 2004-10-20 | 2008-03-18 | Ricoh Company, Ltd. | Optical system, color information displaying method, optical deflecting device, and image projection displaying apparatus |
US7607786B2 (en) | 2005-04-20 | 2009-10-27 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflector, light deflection array, optical system, image forming device, and projection type image display apparatus |
US10544032B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-01-28 | Ricoh Company, Ltd. | MEMS device |
US11187890B2 (en) | 2017-03-15 | 2021-11-30 | Ricoh Company, Ltd. | Movable diffraction element and spectroscope |
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US7345823B2 (en) | 2004-10-20 | 2008-03-18 | Ricoh Company, Ltd. | Optical system, color information displaying method, optical deflecting device, and image projection displaying apparatus |
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