JP2005177554A - Fluid separating filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、石油精製における特定のガスを濃縮するプラント、混合溶剤からの特定物質の濃縮するプラント、アルコールからの脱水を行うプラント、水の純度を高める水処理プラントや淡水化プラント、工場排ガスや発電所から酸素や二酸化炭素等の特定ガスの分離を行う装置、石油や天然ガス油田から二酸化炭素や硫化水素、メタン等特定のガスの分離を行うプラント、食品関係又は医療関係の分離装置、水素ガスと酸素ガスを燃料として発電する燃料電池および化学合成や燃料電池用途のマイクロリアクター内の酸素分離膜や水素分離膜として好適に使用できる流体分離フィルタ及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a plant for concentrating a specific gas in petroleum refining, a plant for concentrating a specific substance from a mixed solvent, a plant for dehydration from alcohol, a water treatment plant or desalination plant for increasing the purity of water, a factory exhaust gas, Equipment that separates specific gases such as oxygen and carbon dioxide from power plants, plants that separate specific gases such as carbon dioxide, hydrogen sulfide, and methane from oil and natural gas oil fields, food-related or medical-related separators, hydrogen The present invention relates to a fuel cell that generates electricity using gas and oxygen gas as fuel, a fluid separation filter that can be suitably used as an oxygen separation membrane and a hydrogen separation membrane in a microreactor for chemical synthesis and fuel cell use, and a method for producing the same.
従来から、各種ガスを含有する混合気体中から特定ガスを濾過分離するフィルタを始め、触媒担持体や電解隔壁等として多孔質体が用いられているが、安全かつ簡便なことからその適用範囲が拡がり、多孔質体を用いた特定のガスの分離濃縮技術は各種燃焼機関をはじめ、食品工業や医療用機器、更には廃棄物処理等の分野でも注目されている。しかし一方で、膜材質は一般に高分子を用いることが多いため耐熱性の問題があった。そのため最近では無機膜を使ったフィルタが注目されてきている。 Conventionally, a porous body has been used as a catalyst carrier, an electrolytic partition, etc., including a filter for filtering and separating a specific gas from a mixed gas containing various gases. The technology for separating and concentrating specific gases using a porous material has been attracting attention in various combustion engines, food industries, medical equipment, and waste disposal. On the other hand, however, there is a problem of heat resistance because the polymer is generally made of a polymer. Therefore, recently, a filter using an inorganic film has attracted attention.
ところが、無機材質を用いると、例えば図3にその構造を示したように、Si−OH基の存在により膜への水の吸着現象がおこり、繰り返し測定における透過特性の劣化や親水性物質の吸着による分離特性劣化の現象がしばしば起こっていた。 However, when an inorganic material is used, for example, as shown in FIG. 3, the adsorption of water to the film occurs due to the presence of Si—OH groups, which deteriorates the permeation characteristics in repeated measurements and adsorbs hydrophilic substances. The phenomenon of deterioration of separation characteristics due to the occurrence of this phenomenon often occurred.
そこで、疎水性を高め、親水性物質の膜への吸着を防ぐためにガラス多孔質膜においてシリル化剤により膜表面,内部に存在するSi−OHを化学変換してシロキサン結合を生成し、かつ膜に残存するシリル化剤の濃度を0.60mg/m2とすることが提案されている。これにより膜に存在する水の吸着点となるSi−OH基が減少し水の吸着が抑制され、分離特性の劣化が抑制される(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, in order to increase hydrophobicity and prevent adsorption of hydrophilic substances to the membrane, a glass porous membrane generates a siloxane bond by chemically converting Si—OH present on the surface and inside of the membrane with a silylating agent, and the membrane. It has been proposed that the concentration of the remaining silylating agent is 0.60 mg / m 2 . As a result, Si—OH groups serving as water adsorption points existing in the membrane are reduced, water adsorption is suppressed, and degradation of separation characteristics is suppressed (see, for example, Patent Document 1).
また、疎水性を高めるために600℃以上の高温焼成することでSi−OH基をSi−O−Si基(シロキサン結合)に変化させ、耐水性の向上が試みられている(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、特許文献1に記載のフィルタでは、膜のSi−OH(シラノール)基をシリル化剤によってシロキサン結合を生成し材質改善を行っており、フィルタの作製直後には疎水性が著しく向上するという効果があるものの、時間の経過と共に、次第に透過特性が劣化するという問題があった。
However, in the filter described in
また、特許文献2に記載のフィルタでは、高温焼成によって作製されたシロキサン結合によって初期特性は大幅に改善されるものの、経時変化によって透過特性の劣化が発生するという問題があった。
In addition, the filter described in
従って本発明の目的は、水分の影響を低減して耐水性に優れ、透過特性の劣化を改善した流体分離フィルタを提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a fluid separation filter that is excellent in water resistance by reducing the influence of moisture and improved in deterioration of permeation characteristics.
本発明の流体分離フィルタは、多孔質支持体の表面の少なくとも一部に、金属成分Si、Ti、Zrの少なくとも1種と、周期律表第3a族元素と、から構成されるセラミック流体分離膜が形成されてなることを特徴とするものである。 The fluid separation filter of the present invention is a ceramic fluid separation membrane comprising at least part of the surface of a porous support and at least one metal component Si, Ti, Zr and a group 3a element of the periodic table. Is formed.
前記周期律表第3a族元素が、Lu、Yb、Dy、Sm、Er、Euのうち少なくとも1種であることが好ましい。 The Group 3a element of the periodic table is preferably at least one of Lu, Yb, Dy, Sm, Er, and Eu.
前記セラミック流体分離膜が、非晶質材料からなることが好ましい。 The ceramic fluid separation membrane is preferably made of an amorphous material.
本発明は、経時変化は、最終的にSiO2成分が水に溶け出すことによって生じることを知見し、金属成分と周期律第3族元素を加えて結合状態を変えることによって、SiO2成分の水への溶出を抑制し、水分の影響を低減するとともに、耐水性に優れた流体分離フィルタを実現したものである。 The present invention, change with time, eventually finding that caused by the SiO 2 component from dissolving in water, by changing the coupling state by adding a metal component and a periodic group 3 element, the SiO 2 component This is a fluid separation filter that suppresses elution into water, reduces the influence of moisture, and has excellent water resistance.
即ち、本発明の流体分離フィルタは、分離膜が金属成分Si、Ti、Zrの少なくとも1種と、周期律表第3a族元素と、から構成されることで、分離膜内にA−O−B(Aは金属成分Si、Ti、Zrの少なくとも1種、Bは周期律表第3a族元素)の結合を作り、従来のA−O−A結合の膜と異なる結合状態を持つことで、インダクティブ効果によって水との反応性や分離特性などに関して改善することができる。 That is, in the fluid separation filter of the present invention, the separation membrane is composed of at least one of the metal components Si, Ti, and Zr and the Group 3a element of the periodic table. By forming a bond of B (A is at least one of the metal components Si, Ti, and Zr, and B is a group 3a element of the periodic table) and having a bond state different from that of the conventional A-O-A bond film, Inductive effects can improve water reactivity and separation characteristics.
また、前記周期律表第3a族元素が、Lu、Yb、Dy、Sm、Er、Eu、Ceのうち少なくとも1種からなる場合、より高い耐水性を得ることができる。 Further, when the Group 3a element of the periodic table is composed of at least one of Lu, Yb, Dy, Sm, Er, Eu, and Ce, higher water resistance can be obtained.
さらに、前記セラミック流体分離膜が非晶質材料からなる場合、ガス分離に最適な細孔径を有するように、格子間距離を制御することができ、ガスが透過するに十分な流量が得られ、かつ選択性を高める効果がある。 Furthermore, when the ceramic fluid separation membrane is made of an amorphous material, the interstitial distance can be controlled so as to have an optimum pore diameter for gas separation, and a flow rate sufficient for gas to pass through can be obtained. In addition, there is an effect of increasing selectivity.
本発明の流体分離フィルタについて、図を用いて説明する。 The fluid separation filter of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は本実施形態の流体分離フィルタの構造を示す断面図である。図1に示したように、この流体分離フィルタ1は、多孔質支持体2と、多孔質支持体2の少なくとも一方の表面に形成され、多数の細孔4を有するセラミック流体分離膜3と、からなる。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of the fluid separation filter of the present embodiment. As shown in FIG. 1, the
多孔質支持体2と、セラミック流体分離膜3との間には所望により中間層5を設けることができる。この中間層5は、多孔質支持体2の細孔径よりも小さく、セラミック流体分離膜3の細孔径よりも大きく設定するのが良い。
An intermediate layer 5 can be provided between the
本発明によれば、従来のSi−OH基をシロキサン結合に変換しても、時間の経過と共に水の存在下で再度Si−OH基に変換することが判明し、最終的にSiO2が水に溶け出すことが原因であることを突き止めた。 According to the present invention, be converted to conventional Si-OH group to siloxane bond was found to be converted back to Si-OH groups in the presence of water over time, eventually SiO 2 water I found out that the cause is that it melts in.
従って、本発明によれば、セラミック流体分離膜の流体と接する分離層が金属成分Si、Ti、Zrの少なくとも1種と周期律表第3a族元素(希土類元素)から構成されることが重要である。このように分離層内に希土類元素をド−プすることでSi、Ti、Zr単独では水に対して溶け出していたものが、A−O−B(Aは金属成分Si、Ti、ZrのいずれかでBは周期律表第3a族元素)結合になることで、水への溶け出しが抑制され耐水性を顕著に向上することができる。 Therefore, according to the present invention, it is important that the separation layer in contact with the fluid of the ceramic fluid separation membrane is composed of at least one metal component Si, Ti, Zr and Group 3a element (rare earth element) of the periodic table. is there. In this way, by doping rare earth elements in the separation layer, Si, Ti, Zr alone dissolved into water is A-O-B (A is a metal component of Si, Ti, Zr). In any case, B is a periodic table group 3a element) bond, so that dissolution into water can be suppressed and water resistance can be significantly improved.
図2は、セラミック流体分離膜の結合状態を示す模式図である。セラミック流体分離膜3は、図2に示したように、Si/Er複合酸化膜を考えた場合、基本的に−Si−O−Er−で表される環状結合によって形成され、細孔4を複数有する非晶質の酸化物を含むものである。Erの代わりにLu、Dy、Sm、Yb、Euのいずれをドープしても同じような環状結合を作製することができ、同様の効果が得られる。
FIG. 2 is a schematic view showing a bonded state of the ceramic fluid separation membrane. As shown in FIG. 2, when considering the Si / Er composite oxide film, the ceramic fluid separation membrane 3 is basically formed by a cyclic bond represented by —Si—O—Er—, and the
このように、流体と接する部位が金属成分Si、Ti、Zrのいずれか1種と周期律表第3a族元素からなる複合酸化物からなることによって、水への金属成分溶け出しを抑制し、耐水性を高めることができる。 Thus, the portion in contact with the fluid is composed of a complex oxide composed of any one of the metal components Si, Ti, Zr and the Group 3a element of the periodic table, thereby suppressing the dissolution of the metal component in water, Water resistance can be increased.
さらに前記セラミック流体分離膜が、非晶質材料からなることが望ましい。非晶質であると、上記A−O−B結合を含む環状結合の中に形成される細孔4を、結晶状態に比べて広い範囲で調整することが可能であり、ガスの透過率を高めることができる。
Furthermore, it is desirable that the ceramic fluid separation membrane is made of an amorphous material. When it is amorphous, it is possible to adjust the
なお、細孔4の大きさ及びその分布状態は、周期律表第3a族元素の種類及び製造条件によって異なるため、適宜選択組み合わせて細孔径を決める必要がある。
In addition, since the size of the
セラミック流体分離膜3は、多孔質支持体2の表面に被着形成されるが、多孔質支持体2との界面に反応生成物を生じることがなく、多孔質支持体2の表面に層状に被覆され、平滑な表面を形成することが望ましく、セラミック流体分離膜の厚みは分離性能の向上の点で0.01〜5μmであることが望ましい。
The ceramic fluid separation membrane 3 is deposited on the surface of the
多孔質支持体2は、ガス等の流体を透過でき、かつ構造体として必要な強度を有するとともに、セラミック流体分離膜3の成膜性を高める点で、0.05〜2μmの細孔径を有することが望ましい。また、セラミック流体分離膜3の成膜性を高める上で、多孔質支持体2は平滑な表面を有することが望ましい。
The
また、高い圧力をかけることなく混合ガスが多孔質支持体2中を透過するためには、多孔質支持体2は20%以上の気孔率を有することが望ましく、また、多孔質支持体2の強度を確保し、フィルタ1を組み立てる際に、多孔質支持体が破損することや、操作中に多孔質支持体2を構成する粒子が脱粒することを防止するためには、多孔質支持体2の気孔率が30〜50%であることが望ましい。
In order to allow the mixed gas to permeate through the
多孔質支持体2としては、α−アルミナや安定化ジルコニアを主成分とするセラミックスやシリカ系ガラス(分相ガラス)等によって形成できるが、耐熱性が高いこと、容易に作製できること、コストの点でα−アルミナを主成分とするセラミックスからなることが望ましい。
The
セラミック流体分離膜3の成膜性を高める上で、多孔質支持体2は表面粗さ(Ra)が0.1〜2.0μmの平滑な表面を得有することが望ましい。
In order to improve the film formability of the ceramic fluid separation membrane 3, it is desirable that the
多孔質支持体2は、内径が1〜5mm、肉厚が0.3〜1mmの管状体であることが、コンパクト性や取り扱いやすさ、透過ガス透過量の点で望ましい。
The
以上のような多孔質支持体2に直接セラミック流体分離膜3を形成しても良いが、多孔質支持体2とセラミック流体分離膜3との間には通気性を有する中間層5を介在させることが望ましい。これにより、セラミック流体分離膜3の多孔質支持体2への成膜性が向上することから、セラミック流体分離膜3の厚みを薄くすることができ、ガス分離の処理速度が向上する。
Although the ceramic fluid separation membrane 3 may be formed directly on the
中間層5は、多孔質支持体2およびセラミック流体分離膜3との間に反応生成物を生じず、多孔質支持体2の表面を層状に覆い、平滑な表面を形成するものであればよい。かかる中間層5としては、例えば、多孔質支持体2としてα−アルミナ質セラミックスを用いる場合、γ−アルミナが好適である。
The intermediate layer 5 may be any layer that does not produce a reaction product between the
また、中間層5としては、の平均細孔径は、ガスの透過速度およびセラミック流体分離膜3の成膜性の点で、多孔質支持体2の平均細孔径よりも小さく、かつセラミック流体分離膜3の平均細孔径よりも大きいことが望ましく、具体的には1〜50nm、特に1〜15nmであることが望ましい。
Further, the average pore diameter of the intermediate layer 5 is smaller than the average pore diameter of the
次に、本発明の流体分離フィルタの製造方法を、金属アルコキシドとしてシリコンアルコキシドを周期律表第3a族元素としてエルビウムのアルコキシドを用いたガス分離フィルタを製造する場合を例として取り上げて説明する。 Next, the manufacturing method of the fluid separation filter of the present invention will be described by taking as an example the case of manufacturing a gas separation filter using silicon alkoxide as metal alkoxide and erbium alkoxide as Group 3a element of the periodic table.
まず、最初に、多孔質支持体を準備する。その詳細は上述した材質、気孔率、平均細孔径を有するものを用いることができる。 First, a porous support is prepared. In detail, those having the above-mentioned materials, porosity, and average pore diameter can be used.
この多孔質支持体に、所望により中間層を形成することができる。中間層の形成方法は、例えば、アルミニウムセカンダリーブトキシド等のアルミニウムアルコキシドを加水分解することによってベーマイトゾルを作製し、上記の多孔質支持体の表面に前記ベーマイトゾルを被着形成することができる。 If desired, an intermediate layer can be formed on this porous support. The intermediate layer can be formed, for example, by hydrolyzing an aluminum alkoxide such as aluminum secondary butoxide to produce a boehmite sol and depositing the boehmite sol on the surface of the porous support.
多孔質支持体表面にベーマイトゾルを被着する方法としては、ベーマイトゾルを塗布または注入する方法、またはベーマイトゾル溶液中に多孔質支持体を含浸して引き上げる方法が好適に用いられる。 As a method for depositing boehmite sol on the surface of the porous support, a method of applying or injecting boehmite sol, or a method of impregnating the porous support in a boehmite sol solution and pulling it up is preferably used.
その後、前記被着形成したベーマイトゾルを乾燥しゲル化し、これを大気中、400〜900℃、特に400〜600℃で熱処理することにより多孔質支持体表面に中間層を被着形成することができる。焼成温度については、400℃より低いと中間層の多孔質支持体への結合力が弱く中間層が剥離してしまうためであり、また、900℃より高いと、焼結が進行しすぎてしまい中間層の細孔径が大きくなり、所望の細孔径を得ることができないためである。 Thereafter, the deposited boehmite sol is dried and gelled, and this is heat-treated in the atmosphere at 400 to 900 ° C., particularly 400 to 600 ° C., thereby forming an intermediate layer on the porous support surface. it can. When the firing temperature is lower than 400 ° C., the intermediate layer is weakly bonded to the porous support and the intermediate layer peels off. When the firing temperature is higher than 900 ° C., the sintering proceeds too much. This is because the pore diameter of the intermediate layer becomes large and a desired pore diameter cannot be obtained.
次に、セラミック流体分離膜を形成する。具体的には、例えば、シリコンアルコキシドを加水分解して前駆体ゾルを作製する。ここで、シリコンアルコキシドとしては、例えば、Si元素に4つのエトキシ基が結合したテトラエトキシシラン(TEOS)を用いる。 Next, a ceramic fluid separation membrane is formed. Specifically, for example, silicon alkoxide is hydrolyzed to prepare a precursor sol. Here, as the silicon alkoxide, for example, tetraethoxysilane (TEOS) in which four ethoxy groups are bonded to the Si element is used.
上記のアルコキシドを溶媒に溶解させる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール等のアルコールが好適に用いられるが、前記アルコシキドの溶解性、ゲルの多孔質支持体への親和性および乾燥性等の成膜性の点で、メタノールまたはエタノール等の低級アルコールが最適である。 The above alkoxide is dissolved in a solvent. As the solvent, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-methoxyethanol, and 2-ethoxyethanol are preferably used. The solubility of the alkoxide, the affinity of the gel for the porous support and the drying property From the viewpoint of film-forming properties such as, lower alcohols such as methanol or ethanol are optimal.
また、溶媒とともにシリコンアルコキシド1molに対して0.1〜10mol、好ましくは0.2〜5molの水を酸もしくはアルカリとともに添加し、加水分解することが望ましく、これによりシリコンアルコキシドの1部が加水分解および縮重合することによって溶液中の前駆体ゾルの作製ができる。 In addition, it is desirable to add 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 5 mol of water with acid or alkali together with 1 mol of silicon alkoxide together with a solvent to hydrolyze, whereby 1 part of silicon alkoxide is hydrolyzed. The precursor sol in solution can be prepared by condensation polymerization.
次にエルビウムのアルコキシドとしてエルビウムメトキシエトキシドを用い、前駆体ゾルに添加する。なお、Erの代わりに、Lu、Yb、Dy、Sm、Euを用いる場合には、同様にルテニウムメトキシエトキシド、イットリビウムメトキシエトキシド、ダイシウムメトキシエトキシド、サマリウムメトキシエトキシド、ヨウロシウムメトキシエトキシドなど好適に用いることができる。 Next, erbium methoxyethoxide is used as an erbium alkoxide and added to the precursor sol. In addition, when using Lu, Yb, Dy, Sm, Eu instead of Er, similarly, ruthenium methoxy ethoxide, yttrium methoxy ethoxide, dysium methoxy ethoxide, samarium methoxy ethoxide, and iodine. Methoxyethoxide can be preferably used.
エルビウムのアルコキシドを後から添加する目的は、反応速度の異なるアルコキシドを均一に反応させるために反応性の低いアルコキシドをあらかじめ加水分解させておくことでより均一な−Si−O−Er−ネットワークを有するゾルの作製が可能となる。 The purpose of adding erbium alkoxide later is to have a more uniform -Si-O-Er-network by pre-hydrolyzing the less reactive alkoxide in order to uniformly react alkoxides with different reaction rates. A sol can be produced.
エルビウム添加後、適量の水を添加して加水分解および縮重合反応を行う。水の添加量はシリコンアルコキシドとエルビウムアルコキシド計1molに対して0.5〜100mol好ましくは1〜20mol添加する。これにより分離層ゾルの作製が行える。 After adding erbium, an appropriate amount of water is added to conduct hydrolysis and polycondensation reaction. The amount of water added is 0.5 to 100 mol, preferably 1 to 20 mol, based on 1 mol of silicon alkoxide and erbium alkoxide in total. Thereby, the separation layer sol can be prepared.
ここで、水の量を上記の範囲に設定すると、十分な加水分解が期待でき、十分な−Si−O−Er−ネットワークを有する結合が得られることで、良好な成膜性が得られ、膜内にクラックや剥離が生じ難く、また、加水分解が適度に進行し、沈殿の発生もなく、安定なゾルを得ることができる。 Here, when the amount of water is set in the above range, sufficient hydrolysis can be expected, and a bond having a sufficient -Si-O-Er-network can be obtained. Cracks and peeling are unlikely to occur in the film, hydrolysis proceeds moderately, no precipitation occurs, and a stable sol can be obtained.
次に、多孔質支持体または中間層の表面に上記のゾルを被着形成し、これを乾燥しゲル化する。なお、被着形成方法は中間層の形成方法と同様の方法により行うことができる。 Next, the above sol is deposited on the surface of the porous support or the intermediate layer, and this is dried and gelled. The deposition forming method can be performed by the same method as the intermediate layer forming method.
そして、表面にゲルを形成した多孔質支持体を、大気雰囲気中、200〜900℃、特に300〜700℃で熱処理することことが好ましい。これによりゲル内で−Si−O−Er−ネットワーク結合が進行し、さらに強固な膜が生成する。 And it is preferable to heat-process the porous support body which formed the gel on the surface at 200-900 degreeC in air | atmosphere atmosphere, especially 300-700 degreeC. As a result, —Si—O—Er—network bonding proceeds in the gel, and a stronger film is formed.
このように、シリコンアルコキシドの前駆体ゾルに周期律第3族の元素を含むアルコキシドを加え、これを部分的に加水分解を行ない、しかる後に焼成し、多孔質支持体の上に分離膜を形成することによって、耐水性に優れ、分離特性の劣化の改善された流体分離フィルタを実現することができる。 Thus, an alkoxide containing a Group 3 element is added to a silicon alkoxide precursor sol, which is partially hydrolyzed and then baked to form a separation membrane on the porous support. By doing so, it is possible to realize a fluid separation filter having excellent water resistance and improved deterioration of separation characteristics.
なお、上記の説明は、金属成分がSiの場合について行ったものであるが、金属成分が、Tiでも、また、Zrでも同様の効果が得られ、耐熱的にも安定な膜を得ることができる。また、前記周期律表第3aとしてはErについて行ったが、Lu、Yb、Dy、Sm、Eu、Ceを用いても同様の効果が得られる。 The above explanation is made for the case where the metal component is Si. However, even if the metal component is Ti or Zr, the same effect can be obtained, and a heat resistant stable film can be obtained. it can. The periodic table 3a is Er, but the same effect can be obtained by using Lu, Yb, Dy, Sm, Eu, and Ce.
内径2.3mm、肉厚0.4mm、長さ250mmの管状体で、平均粒径0.2μm、気孔率39%、表面粗さ(Ra)が0.3μm以下のα−アルミナ質多孔質支持体を作製した。 Α-alumina porous support having an inner diameter of 2.3 mm, a wall thickness of 0.4 mm, and a length of 250 mm, an average particle diameter of 0.2 μm, a porosity of 39%, and a surface roughness (Ra) of 0.3 μm or less The body was made.
また、水110molに対してアルミニウムセカンダリーブトキシドを1mol添加して加水分解し、さらに硝酸を添加した後、16時間還流してベーマイトゾルを作製した。そして、上記の多孔質支持体の先端部に栓をして、前記ベーマイトゾル溶液内に含浸して60秒間保持し、5mm/秒の速度で取り出し、室温で2時間乾燥してベーマイトゾルをゲル化した後、前記ゲルを被着形成した多孔質支持体を大気中、500℃で焼成する工程を4回繰り返して前記α−アルミナ質多孔質支持体の外表面にγ−アルミナからなる中間層を被着形成した。 Further, 1 mol of aluminum secondary butoxide was added to 110 mol of water for hydrolysis, and further nitric acid was added, followed by refluxing for 16 hours to prepare a boehmite sol. Then, the tip of the porous support is plugged, impregnated in the boehmite sol solution, held for 60 seconds, taken out at a rate of 5 mm / second, and dried at room temperature for 2 hours to gel the boehmite sol. The intermediate layer made of γ-alumina on the outer surface of the α-alumina porous support is obtained by repeating the step of firing the porous support with the gel deposited thereon at 500 ° C. four times in the air. Was formed.
一方、金属アルコキシド(A)1molに対して、水1molおよびHCl0.28mol含むエタノール溶液を添加、混合して部分加水分解ゾルを作製し、次いでシリコンアルコキシド1molに対して周期律表第3a(B)を表1に示す割合でエタノール溶液として添加した。 On the other hand, with respect to 1 mol of metal alkoxide (A), an ethanol solution containing 1 mol of water and 0.28 mol of HCl is added and mixed to prepare a partially hydrolyzed sol, and then the periodic table 3a (B) with respect to 1 mol of silicon alkoxide. Was added as an ethanol solution at the ratio shown in Table 1.
上記複合アルコキシドに水10molとエタノールの混合溶液を添加し加水分解して、攪拌し、分離層ゾルを作製した。 A mixed solution of 10 mol of water and ethanol was added to the composite alkoxide for hydrolysis, followed by stirring to prepare a separation layer sol.
次に、得られた分離層ゾル溶液中に、前記中間層を被着形成した多孔質支持体を30秒間浸漬し、5mm/秒の速度で引き上げ、室温で1時間乾燥した後、引き続いて表1に示す条件で1時間焼成し、またこの浸漬、乾燥、焼成の一連の操作を4回繰り返し、γ−アルミナ層上に(A)および(B)を含有する酸化物膜を被着形成した。 Next, the porous support having the intermediate layer formed thereon is immersed in the obtained separation layer sol solution for 30 seconds, pulled up at a speed of 5 mm / second, dried at room temperature for 1 hour, and subsequently Firing was performed for 1 hour under the conditions shown in FIG. 1, and a series of operations of dipping, drying, and firing was repeated four times to deposit an oxide film containing (A) and (B) on the γ-alumina layer. .
得られたフィルタを表1に示す温度に加熱すると共に、管内側を大気開放として100kPa(大気圧)にした状態で、管外側に水素200kPa(2.0気圧)を100ml/分の割合で流し、透過ガス排出口で回収されるガスについて、透過流量を測定し、さらに、水素ガスの透過量/(膜面積×差圧×時間)で表される透過率を算出した。 The obtained filter was heated to the temperature shown in Table 1, and 200 kPa (2.0 atm) of hydrogen was allowed to flow to the outside of the tube at a rate of 100 ml / min with the inside of the tube being open to the atmosphere and 100 kPa (atmospheric pressure). The permeate flow rate was measured for the gas recovered at the permeate gas outlet, and the permeability represented by hydrogen gas permeation amount / (membrane area × differential pressure × time) was calculated.
また、上記と同様にして一酸化炭素ガスの透過率を求め、透過係数比α(水素の透過率/一酸化炭素の透過率)を選択率として算出した。また、耐水性を調べるとともに、経時変化を調べるため、透過率変化率を測定した。即ち、測定する供給ガス中に5mol%の水蒸気を導入し、3時間経過後の透過率を測定し、乾燥状態での透過率に対する変化率を算出した。なお、変化率は、乾燥状態での透過率をCとして水蒸気導入後の透過率をDとした時に(C−D)/C×100(%)で表される。 Further, the carbon monoxide gas permeability was obtained in the same manner as described above, and the permeability coefficient ratio α (hydrogen permeability / carbon monoxide permeability) was calculated as the selectivity. Further, in order to examine the water resistance and the change with time, the transmittance change rate was measured. That is, 5 mol% of water vapor was introduced into the supply gas to be measured, the transmittance after 3 hours was measured, and the rate of change relative to the transmittance in the dry state was calculated. The rate of change is represented by (C−D) / C × 100 (%), where C is the transmittance in the dry state and D is the transmittance after the introduction of water vapor.
なお、透過率の測定は全て100℃で行った。結果を表1に示した。
本発明の試料No.1〜6、8〜13は、透過率変化率が21%以下と小さく、透過率の経時変化が大幅に改善された。特に、Siを用い、200〜900℃で熱処理した試料No.1〜6、8及び12は、H2/CO選択率が74以上と大きかった。また、Ti及びZrを使用した試料No.9〜11は、乾燥状態でのH2透過率が10×10−7モル/(m2・sec・Pa)以上と大きかった。
Sample No. of the present invention. In 1-6 and 8-13, the transmittance change rate was as small as 21% or less, and the temporal change in transmittance was greatly improved. In particular, Sample No. No. 2 was heat-treated at 200 to 900 ° C. using Si. 1~6,8 and 12,
一方、周期律表第3a族元素を含まない試料No.7は、乾燥状態では6.43×10−7モル/(m2・sec・Pa)のH2透過率を示したが、水蒸気に曝した後のH2透過率は0.63×10−7モル/(m2・sec・Pa)と激減し、透過率変化率が90.2%と大きく、耐水性がなく、経時変化が大きかった。 On the other hand, sample no. 7 showed a H 2 transmittance of 6.43 × 10 −7 mol / (m 2 · sec · Pa) in a dry state, but the H 2 transmittance after exposure to water vapor was 0.63 × 10 − It was drastically reduced to 7 mol / (m 2 · sec · Pa), the transmittance change rate was as large as 90.2%, there was no water resistance, and the change with time was large.
1・・・流体分離フィルタ
2・・・多孔質支持体
3・・・セラミック流体分離膜
4・・・細孔
5・・・中間層
DESCRIPTION OF
Claims (3)
The fluid separation filter according to claim 1 or 2, wherein the ceramic fluid separation membrane is made of an amorphous material.
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