JP2005149075A - Fluid controller - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、主として半導体製造プラントや化学プラント等に於いて使用され、半導体製造プラント等のガス制御ラインを形成する流体制御装置の改良に係り、特に流体通路を形成した複数のブロック継手と圧力式流量制御装置や開閉バルブ等の各種流体制御機器とを集積化して成る流体制御装置に関するものである。 The present invention is mainly used in a semiconductor manufacturing plant, a chemical plant, etc., and relates to an improvement of a fluid control device that forms a gas control line of a semiconductor manufacturing plant or the like. The present invention relates to a fluid control device in which various fluid control devices such as a flow rate control device and an open / close valve are integrated.
一般に、半導体製造プラントや化学プラント等に於いては、原料となる複数のガスを所定の流量で供給し、原料ガスを反応炉の中で化学反応させて目的ガスを生成する場合が多い。このような場合に、原料ガスの供給流量が正確でないと化学反応に過不足が生じ、目的ガスの中に原料ガスが残留する事態が生じる。 In general, semiconductor manufacturing plants, chemical plants, and the like often generate a target gas by supplying a plurality of gases as raw materials at a predetermined flow rate and causing the raw material gases to chemically react in a reaction furnace. In such a case, if the supply flow rate of the source gas is not accurate, excess or deficiency in the chemical reaction occurs, and the source gas remains in the target gas.
未反応状態で残留する原料ガスは不純物ガスとなり、目的ガスの純度を低下させる。特に、未反応残留ガスが爆発性のガスである場合には、後続の製造設備に於いて爆発の危険性が付きまとい、その処理に余分な手間が掛かるという事態が生じる。 The raw material gas remaining in an unreacted state becomes an impurity gas, which lowers the purity of the target gas. In particular, when the unreacted residual gas is an explosive gas, there is a risk of explosion in a subsequent manufacturing facility, and there is a situation in which extra processing is required.
そこで、半導体製造プラントや化学プラント等に於いては、ガス流量を正確に供給制御することが必要となり、従来からマスフローコントローラを組み込んだ流体制御装置が多く用いられている。この流体制御装置は、マスフローコントローラや開閉バルブ、フィルター等の複数の流体制御機器を配管及び継手を介して直列状に接続することにより構成されており、各流体制御機器及び配管等でガス制御ラインが形成されている。 Therefore, in semiconductor manufacturing plants, chemical plants, and the like, it is necessary to accurately control the supply of gas flow rates, and conventionally, fluid control devices incorporating a mass flow controller have been widely used. This fluid control device is configured by connecting a plurality of fluid control devices such as a mass flow controller, an open / close valve, and a filter in series via pipes and joints. Is formed.
図19及び図20はマスフローコントローラを組み込んだ基本的な流体制御装置の正面図及びガスの流れを示す概略系統図であり、当該流体制御装置は、手動式開閉バルブ60、フィルター61、プレッシャーレギュレータ62、圧力センサー63、ブロックバルブ64(流体通路を形成したブロック状本体64aに開閉バルブ64b及びパージ用バルブ64cを設けたもの)、マスフローコントローラ65及び開閉バルブ66を配管67及び継手68を介して直列状に接続することにより構成されている。
19 and 20 are a front view of a basic fluid control device incorporating a mass flow controller and a schematic system diagram showing a gas flow. The fluid control device includes a manual open /
而して、前記流体制御装置によれば、上流側(図19の左側)の継手68から導入されたプロセスガスが開閉バルブ60、フィルター61、プレッシャーレギュレータ62、圧力センサー63及びブロックバルブ64を経てマスフローコントローラ65に流入し、マスフローコントローラ65によって流量制御された後、開閉バルブ66を通って下流側(図19の右側)の継手68から排出されるようになっている。又、N2 等のパージガスは、ブロックバルブ64(パージ用バルブ64c)からマスフローコントローラ65及び開閉バルブ66を経て下流側の継手68から排出されるようになっている。
Thus, according to the fluid control apparatus, the process gas introduced from the
ところで、上述した流体制御装置に於いては、マスフローコントローラ65や開閉バルブ60,66等の流体制御機器同士を配管67及び継手68により接続するようにしているため、(1)装置自体が大型化して広い設置スペースが必要になる、(2)流体通路空間の容積が大きくなり、ガスの置換性が悪くなると共に、ガス純度が低下する、(3)シール部が多くなってガスの外部リークの総量が増加する、(4)配管及び継手の接続(溶接を含む)や多数の接続部の漏洩検査等の作業に手数がかかる、等の不具合があった。
By the way, in the fluid control device described above, the fluid control devices such as the
このような不具合を解消するために、マスフローコントローラ65や開閉バルブ60,66等の各種流体制御機器同士を配管67を介さずにブロック継手69により接続するようにした流体制御装置が開発され、広く利用に供されている(例えば特許文献1、特許文献2及び特許文献3等)。この流体制御装置は、流体通路を夫々形成した複数のブロック継手69と、各ブロック継手69に連通状に夫々接続された複数の流体制御機器(マスフローコントローラ65や開閉バルブ60,66等)とから成り、各ブロック継手69の流体通路と各流体制御機器とで流体制御ラインを形成するようにしたものである。
In order to solve such problems, a fluid control device has been developed in which various fluid control devices such as the
図21はブロック継手69を使用して複数の流体制御機器同士を接続した流体制御装置の一例を示すものであり、ガス制御ラインが図19及び図20に示した流体制御装置のガス制御ラインと同一に形成されている。
即ち、前記流体制御装置は、下段に直列状に配置されて流体通路(図示省略)を夫々形成した複数のブロック継手69と、上段に直列状に配置されて各ブロック継手69の流体通路に連通状に夫々接続される手動式開閉バルブ60、フィルター61、プレッシャーレギュレータ62、圧力センサー63、ブロックバルブ64(流体通路を形成したブロック状本体64aに開閉バルブ64b及びパージ用バルブ64cを設けたもの)、マスフローコントローラ65及び開閉バルブ66等の各種流体制御機器とから構成されており、矩形状の基板(図示省略)上に複数のブロック継手69を直列状に配置してボルトにより固定し、隣接するブロック継手69に各バルブ60,64,66及びマスフローコントローラ65等を跨るようにして載せ、これらをボルト70により各ブロック継手69に固定することにより組み立てられている。
FIG. 21 shows an example of a fluid control device in which a plurality of fluid control devices are connected to each other using a
That is, the fluid control device includes a plurality of
そして、このように構成された流体制御装置を基板上に並列状に配置し、適宜の流体制御装置のガス制御ライン同士を所定個所に於いて継手等の通路接続手段で接続することにより集積化ガスシステム(Integrated Gas Delivery System)が構成される。 Then, the fluid control devices configured as described above are arranged in parallel on the substrate, and the gas control lines of appropriate fluid control devices are connected to each other by connecting passage connecting means such as joints at predetermined locations. A gas system (Integrated Gas Delivery System) is configured.
前記流体制御装置は、開閉バルブ60,66やマスフローコントローラ65等の各種流体制御機器同士を複数のブロック継手69を介して接続しているため、複数の流体制御機器を配管67及び継手68により接続するようにした流体制御装置に比較して設置スペースが少なくて済むうえ、ガスの置換性が優れていると共に、不純ガス放出量が少なくなる等の優れた利点がある。
Since the fluid control device connects various fluid control devices such as the open /
然し乍ら、上述した流体制御装置(図21に示すもの)に於いても、未だ解決すべき問題点が残されている。
即ち、前記流体制御装置に於いては、マスフローコントローラ65の上流側の流体圧力が変動した場合にマスフローコントローラ65の出力値が大きく変動するため、マスフローコントローラ65の上流側にプレッシャーレギュレータ62を設置しなければならない。そのため、ガス制御ラインにプレッシャーレギュレータ62を組み込まなければならず、流体制御装置自体の大幅な小型化を図れないと云う問題があった。その結果、マスフローコントローラ65を組み込んだ流体制御装置に於いては、設置スペースの大幅な減少は勿論のこと、ガスの置換性の大幅な向上及び不純ガス放出量の大幅な減少等を図れないことになる。
又、マスフローコントローラ65には、応答速度が比較的遅くて低流量域に於ける流量精度が悪い等の欠点があるため、このマスフローコントローラ65を組み込んだ流体制御装置では、高精度な流量制御を行えないと云う問題もある。
That is, in the fluid control device, when the fluid pressure on the upstream side of the
Further, since the
本発明は、このような問題点に鑑みて為されたものであり、その目的は、部品点数を削減できて装置自体のより一層の小型化を図れると共に、高精度な流量制御を行えるようにした流体制御装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and its object is to reduce the number of parts, further miniaturize the apparatus itself, and to perform high-precision flow rate control. An object of the present invention is to provide a fluid control apparatus.
本願発明者等は、先にガスの圧力を制御することによって、高精度に流量をコントロールすることができる新しいタイプの圧力式流量制御装置を開発した。この圧力式流量制御装置は、上流側の流体の圧力が変動した場合でも出力値が変動しないと云う特性があり、然も、素早い応答性を有し、高精度な流量制御を行うことができる等の利点がある。
そこで、本願発明者等は、マスフローコントローラに替えて前記圧力式流量制御装置をガス制御ラインに組み込むことによって、装置自体の小型化等を図ることができる流量制御装置を着想した。
The inventors of the present application have previously developed a new type pressure type flow rate control device that can control the flow rate with high accuracy by controlling the gas pressure. This pressure type flow control device has a characteristic that the output value does not fluctuate even when the pressure of the fluid on the upstream side fluctuates, but it has quick response and can perform high-precision flow control. There are advantages such as.
Therefore, the inventors of the present application have conceived a flow rate control device that can reduce the size of the device itself by incorporating the pressure type flow rate control device in the gas control line instead of the mass flow controller.
本発明の請求項1の発明は、下段に配置されて流体通路を夫々形成した複数のブロック継手と、上段に配置されて各ブロック継手に夫々接続された複数の流体制御機器とを具備し、各ブロック継手の流体通路と各流体制御機器とで流体制御ラインを形成する流体制御装置に於いて、前記各流体制御機器のうち、一つの流体制御機器が、流量制御用のオリフィスと、オリフィスの上流側に設けたコントロールバルブと、オリフィスとコントロールバルブの間に設けられてオリフィスの上流側圧力を検出する上流側圧力センサーとを備え、上流側圧力によりオリフィス通過流量を演算しながらコントロールバルブの開閉によりオリフィス通過流量を制御するようにした圧力式流量制御装置で構成されていることに特徴がある。
The invention of
又、本発明の請求項2の発明は、下段に配置されて流体通路を夫々形成した複数のブロック継手と、上段に配置されて各ブロック継手に夫々接続された複数の流体制御機器とを具備し、各ブロック継手の流体通路と各流体制御機器とで流体制御ラインを形成する流体制御装置に於いて、前記各流体制御機器のうち、一つ流体制御機器が、流量制御用のオリフィスと、オリフィスの上流側に設けたコントロールバルブと、オリフィスとコントロールバルブの間に設けられてオリフィスの上流側圧力を検出する上流側圧力センサーと、オリフィスの下流側に設けられてオリフィスの下流側圧力を検出する下流側圧力センサーとを備え、上流側圧力と下流側圧力によりオリフィス通過流量を演算しながらコントロールバルブの開閉によりオリフィス通過流量を制御するようにした圧力式流量制御装置で構成されていることに特徴がある。
Further, the invention of
更に、本発明の請求項3の発明は、請求項1又は請求項2の発明に於いて、コントロールバルブの上流側流体通路からパージ用流体通路を分岐させ、当該パージ用流体通路にパージ用バルブを介設する構成としたものである。
又、本発明の請求項4の発明は、請求項1乃至請求項3の発明に於いて、圧力式流量制御装置の入口側ブロックにパージ用バルブを一体的に配設する構成としたものである。
Further, the invention according to
According to a fourth aspect of the present invention, in the first to third aspects of the present invention, a purge valve is integrally disposed on the inlet side block of the pressure type flow control device. is there.
本発明の流体制御装置は、ガス制御ラインに組み込まれる各種流体制御機器のうち、一つの流体制御機器を、上流側の流体の圧力が変動した場合でも出力値が変動せず、然も、素早い応答性を有し、高精度な流量制御を行うことができる圧力式流量制御装置としているため、流体の圧力を調整するための流体制御機器(プレッシャーレギュレータ)をガス制御ラインから省くことができ、マスフローコントローラを組み込んだ流体制御装置に比較して流体制御装置自体の大幅なコンパクト化及びコスト低減を図れると共に、流量制御を高精度で行える。
又、本発明の流体制御装置は、装置自体のコンパクト化に伴って流体通路の容積が小さくなり、ガスの置換性が大幅に向上すると共に、不純ガス放出量が極めて少なくなる。
The fluid control device according to the present invention is one of the various fluid control devices incorporated in the gas control line. Even when the pressure of the fluid on the upstream side fluctuates, the output value does not fluctuate. Because it is a pressure type flow rate control device that has responsiveness and can perform high-precision flow rate control, fluid control equipment (pressure regulator) for adjusting fluid pressure can be omitted from the gas control line, Compared to a fluid control device incorporating a mass flow controller, the fluid control device itself can be significantly reduced in size and cost, and the flow rate can be controlled with high accuracy.
In addition, the fluid control device of the present invention has a smaller volume of the fluid passage as the device itself becomes more compact, greatly improving the gas substituting property and extremely reducing the amount of impure gas released.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明の第1実施形態に係る流体制御装置の一例を示すものであり、当該流体制御装置は、下段に直列状に配置されて流体通路1a,2a,3a,4a,5aを夫々形成した複数のブロック継手1,2,3,4,5と、上段に直列状に配置されて各ブロック継手1,2,3,4,5に連通状に夫々接続された複数の流体制御機器6,7,8,9とを具備し、各ブロック継手1,2,3,4,5の流体通路1a,2a,3a,4a,5aと各流体制御機器6,7,8,9とで流体制御ラインを形成するものであり、流体制御機器9の一つが圧力式流量制御装置9により構成されている。
この実施の形態に於いては、流体制御装置は、矩形状の基板(図示省略)上に取り付けられた五つのブロック継手1,2,3,4,5と、隣接するブロック継手1,2,3,4,5に夫々取り付けられた四つの流体制御機器6,7,8,9とから構成されており、各流体制御機器6,7,8,9には、一つの手動式開閉バルブ6、二つのエアー式開閉バルブ7,8及び一つの圧力式流量制御装置9が夫々使用されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an example of a fluid control device according to the first embodiment of the present invention. The fluid control device is arranged in series in the lower stage and has
In this embodiment, the fluid control device includes five
前記五つのブロック継手1,2,3,4,5は、従来公知のものと同様構造に構成されており、各ブロック継手1,2,3,4,5には、L字状1a,5a又はV状の流体通路2a,3a,4aが夫々形成されている。
具体的には、五つのブロック継手1,2,3,4,5のうち、左端に配置されたブロック継手1には、左向きの入口及び上向きの出口を有するL字状の流体通路1aが形成されており、流体通路1aの入口側には入口継手10Aが設けられている。又、左から2番目、3番目及び4番目に配置された各ブロック継手2,3,4には、上向きの入口及び上向きの出口を有するV状の流体通路2a,3a,4aが夫々形成されている。更に、右端に配置されたブロック継手5には、上向きの入口及び右向きの出口を有するL字状の流体通路5aが形成されており、流体通路5aの出口側には出口継手10Bが設けられている。
そして、各ブロック継手1,2,3,4,5の所定個所には、ボルト53が挿通される複数の縦向きの貫通穴(図示省略)及びボルト53が螺着される複数の縦向きのネジ穴(図示省略)が夫々形成されており、各ブロック継手1,2,3,4,5は、これらを複数のネジ穴を形成した基板(図示省略)上に直列状に配置し、各ブロック継手1,2,3,4,5の貫通孔に上方からボルト53を挿通して基板のネジ穴に螺着することにより基板に固定されている。
The five
Specifically, among the five
A plurality of longitudinal through holes (not shown) through which the
前記手動式開閉バルブ6と二つのエアー式開閉バルブ7,8は、従来公知のものと同様構造に構成されており、各開閉バルブ6,7,8には、発塵が少なくて耐食性及びガス置換性等に優れた所謂ダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラムバルブが夫々使用されている。
具体的には、手動式開閉バルブ6は、左端に配置されたブロック継手1の流体通路1aの出口と左から2番目に配置されたブロック継手2の流体通路2aの入口に連通し、且つダイヤフラム(図示省略)により開閉される流体通路(図示省略)を形成したボディ6aと、ボディ6aに設けられてダイヤフラムを操作する手動式の操作部6bとから構成されており、ボディ6aを左端のブロック継手1と左から2番目のブロック継手2に跨るように載せ、ボディ6aに上方から挿通したボルト53を各ブロック継手1,2のネジ孔に螺着することにより各ブロック継手1,2に連通状に接続固定されている。
又、一方のエアー式開閉バルブ7は、左から2番目に配置されたブロック継手2の流体通路2aの出口と左から3番目に配置されたブロック継手3の流体通路3aの入口に連通し、且つダイヤフラム(図示省略)により開閉される流体通路(図示省略)を形成したボディ7aと、ボディ7aに設けられてダイヤフラムを操作する駆動部7b(アクチュエータ)とから構成されており、ボディ7aを左から2番目のブロック継手2aと左から3番目のブロック継手3に跨るように載せ、ボディ7aに上方から挿通したボルト53を各ブロック継手2,3のネジ孔に螺着することにより各ブロック継手2,3に連通状に接続固定されている。
更に、他方のエアー式開閉バルブ8は、左から4番目に配置されたブロック継手4の流体通路4aの出口と右端に配置されたブロック継手5の流体通路5aの入口に連通し、且つダイヤフラム(図示省略)により開閉される流体通路(図示省略)を形成したボディ8aと、ボディ8aに設けられてダイヤフラムを操作する駆動部8b(アクチュエータ)とから構成されており、ボディ8aを左から4番目のブロック継手4と右端のブロック継手5に跨るように載せ、ボディ8aに上方から挿通したボルト53を各ブロック継手4,5のネジ孔に螺着することにより各ブロック継手4,5に連通状に接続固定されている。
The manual open /
Specifically, the manual open /
One air type on-off
Further, the other air type on-off
前記圧力式流量制御装置9は、流量制御用のオリフィス11と、オリフィス11の上流側に設けたコントロールバルブ12と、オリフィス11とコントロールバルブ12の間に設けられてオリフィス11の上流側圧力を検出する上流側圧力センサー13と、コントロールバルブ12の上流側に設けたガスケットフィルター14と、コントロールバルブ12を制御する制御回路15等から構成されており、オリフィス11の上流側圧力によりオリフィス通過流量を演算しながらコントロールバルブ12の開閉によりオリフィス通過流量を制御するようにしたものである。
即ち、この圧力式流量制御装置9は、供給される流体が臨界条件にある場合(オリフィス11から流出する流体の速度が音速である場合)を前提としたものであり、オリフィス11の上流側圧力P1 (絶対圧力)を下流側圧力P2 (絶対圧力)の約2倍以上に保持した状態下に於いてオリフィス11の上流側に配置したコントロールバルブ12によりオリフィス11の上流側圧力を調整し、これによってオリフィス11の下流側の流量QcをQc=KP1 (但しKは定数)により演算して所定の設定値に制御することを基本原理とするものである(特開平8−338546号公報等参照)。
The pressure type flow
That is, the pressure type flow
そして、圧力式流量制御装置9は、左から3番目に配置されたブロック継手3の流体通路3aの出口に連通する導入通路16aを形成した入口側ブロック16と、左から4番目に配置されたブロック継手4の流体通路4aの入口に連通する排出通路17aを形成した出口側ブロック17を夫々備えており、入口側ブロック16を左から3番目のブロック継手3に、又、出口側ブロック17を左から4番目のブロック継手4に夫々載せ、入口側ブロック16及び出口側ブロック17に上方から挿通したボルトを各ブロック継手3,4のネジ孔に螺着することにより各ブロック継手3,4に連通状に接続固定されている。
The pressure type flow
図2及び図3は流体制御装置の主要部である圧力式流量制御装置9を示し、当該圧力式流量制御装置9は、コントロールバルブ12、入口側ブロック16、出口側ブロック17、上流側圧力センサー13、オリフィス11、ガスケットフィルター14及び制御回路15等から構成されている。
2 and 3 show a pressure type flow
前記コントロールバルブ12は、図2に示す如く、ボディ18、ダイヤフラム19、押えアダプター20、割りベース21、ベース押え22、アクチュエータボックス23、ダイヤフラム押え24、皿バネ25、ボール受け26、ボール27、ピエゾアクチュエータ28(圧電素子)、ベアリング受け29、ベアリング30、ロックナット31及び調整用袋ナット32等から構成されており、ノーマルクローズ型のメタルダイヤフラムバルブとなっている。
2, the
具体的には、ボディ18は、ステンレス鋼によりブロック状に形成されており、弁室18a′を形成する凹部18aと、弁室18a′に連通する入口通路18bと、弁室18a′内に形成された弁座18cと、弁室18a′に連通する出口通路18dと、上流側圧力センサー13が挿着されるセンサー挿着穴18eと、ガスケットフィルター14が挿着されるフィルター挿着孔18fと、オリフィス11が挿着されるオリフィス挿着孔18g等を備えている。
Specifically, the
ダイヤフラム19は、コバルト、ニッケルを基ベ−スにタングステン、モリブデン、チタン、クロ−ム等を加えた耐久性、耐食性、耐熱性に優れた高弾性合金(スプロン100)製の極薄板材により中央部が上方へ膨出した逆皿形に形成されており、弁座18a′と対向するように凹部18a内へ配置され、凹部18a内に挿入した筒状の押えアダプター20、二つ割りの割りベース21及び筒状のベース押え22をボルト33によりボディ18側へ締め込み固定することによって、ダイヤフラム19の外周縁部が押えアダプター20等によりボディ18側へ気密状に保持固定されている。
尚、ダイヤフラム19の材質は、ステンレス鋼やインコネル、その他の合金鋼であっても良く、又、複数枚のダイヤフラム19を積層したダイヤフラム19であっても良い。更に、押えアダプター20、割りベース21及びベース押え22は、ステンレス鋼により夫々形成されている。
The material of the
アクチュエータボックス23は、図2、図4及び図5に示す如く、熱膨張率の小さなインバー材により筒状に形成されており、ピエゾアクチュエータ28を収納し且つ下端部がベース押え22内にOリング34を介して上下方向へ摺動自在に挿入された筒状の大径部23aと、大径部23aの下端に一体的に設けられ、皿バネ25及びボール受け26等を収納する筒状の小径部23bとから成る。又、小径部23bの内方には、隔壁23cが一体的に設けられており、隔壁23cの上方空間に皿バネ25及びボール受け26が収納され、隔壁23cの下方空間にダイヤフラム押え24が挿入固定されている。更に、大径部23aと小径部23bの境界部分の周壁には、後述する割りベース21の一部分が挿入される縦長のガイド穴23dが対向状に形成されている。
As shown in FIGS. 2, 4 and 5, the
割りベース21は、図6及び図7に示す如く、半割り状の一対の割りベース片21′から成り、各割りベース片21′をアクチュエータボックス23のガイド穴23dの両側から対向状に組み付け、両割りベース片21′に筒状のベース押え22を嵌め込むことによって、アクチュエータボックス23に一体的に保持固定される。
各割りベース片21′は、短い円筒部21aの上端にアクチュエータボックス23のガイド穴23dに挿入される嵌合部21bを、又、円筒部21aの下端にボディ18の凹部18aに挿入される鍔部21cを夫々形成したものを中央部で二つ割りすることにより形成されており、嵌合部21bの上面にはボール受け26の一部分が嵌め込まれる窪み21dが形成されている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the
Each split base piece 21 'has a
前記コントロールバルブ12の組み立てに際しては、先ず、ボディ18の凹部18a内にダイヤフラム19、押えアダプター20、ダイヤフラム押え24を固定したアクチュエータボックス23、皿バネ25、割りベース21、ボール受け26の順に組み付け、ベース押え22を介してアクチュエータボックス23をボディ18へ挿着し、ベース押え22をボルト33によりボディ18へ締め込み固定する。
次に、アクチュエータボックス23内へボール27、ピエゾアクチュエータ28、ベアリング受け29、ベアリング30の順に挿着し、調整用袋ナット32の締め込み量を調整することにより、ピエゾアクチュエータ28によるダイヤフラム19の作動ストロークを設定値に調整する。
尚、ベース押え22の締め込み固定により、割りベース21とアクチュエータボックス23とボール受け26と皿バネ25とダイヤフラム押え24とダイヤフラム19等は、全て所定の位置に整然と自動的に固定されると共に、調整用袋ナット32の締め込みによりボール27やピエゾアクチュエータ28、アクチュエータボックス23等の軸芯は極めて高精度に一致されることになる。
このコントロールバルブ12は、各部材の軸芯の一致を自動的に図ることができ、その結果、組み付け精度が大幅に向上して組み付け精度のバラツキやヒステリシス現象が減少するだけでなく、作動の安定性及び応答性の向上が可能となる。
When assembling the
Next, the
By fixing the
This
而して、前記コントロールバルブ12によれば、制御回路15からコネクターを介して開弁信号が入力(入力電圧0〜120v)されると、ピエゾアクチュエータ28は設定値(0〜45μmの間)だけ伸長する。
これにより、約40〜80kgの押上げ力がアクチュエータボックス23に働き、ベース押え22のOリング34により軸芯を保持された状態でアクチュエータボックス23が皿バネ25の弾性力に抗して上記設定値だけ上昇する。その結果、ダイヤフラム19がその弾性力によって弁座28cから離座し、開弁状態となる。
逆に、開弁信号の入力がoffになると、ピエゾアクチュエータ28が元の長さ寸法の状態に復帰し、その結果、皿バネ25の弾性力によりアクチュエータボックス23の隔壁23cが下方向へ押し下げられ、ダイヤフラム押え24によりダイヤフラム19が弁座18cへ当座し、開弁状態となる。
尚、開弁ストロークが45μmで弁座18cの口径が1mmφの場合、弁の全閉から全開に至る所要時間は約30msec以下である。
Thus, according to the
As a result, a lifting force of about 40 to 80 kg acts on the
On the other hand, when the input of the valve opening signal is turned off, the
When the valve opening stroke is 45 μm and the diameter of the
前記入口側ブロック16は、図2に示す如く、ステンレス鋼によりブロック状に形成されており、左から3番目のブロック継手3の流体通路3a及びコントロールバルブ12のボディ18の入口通路18bに夫々連通し、且つ下向きの入口及び右向きの出口を有する導入通路16aと、導入通路16aの入口側及び出口側に形成されたフィルター挿着孔16bと、流体の漏洩を検査するためのリークポート16cとを夫々備えている。
又、出口側ブロック17は、図2に示す如く、ステンレス鋼によりブロック状に形成されており、左から4番目のブロック継手4の流体通路4a及びコントロールバルブ12のボディ18の出口通路18dに夫々連通し、且つ左向きの入口及び下向きの出口を有する排出通路17aと、排出通路17aの入口側に形成されたオリフィス挿着孔17bと、排出通路17aの出口側に形成されたフィルター挿着孔17cと、流体の漏洩を検査するためのリークポート17dとを夫々備えている。
そして、入口側ブロック16及び出口側ブロック17は、コントロールバルブ12のボディ18の左側面及び右側面に夫々配置され、複数本のボルトによりコントロールバルブ12のボディ18に固定されている。
As shown in FIG. 2, the
Further, as shown in FIG. 2, the
The
前記上流側圧力センサー13は、センサーチップ(感圧素子)を利用したダイヤフラム型の圧力センサーであり、この上流側圧力センサー13には特開2001−50835号公報に開示されたもの同様構造のものが使用されている。
即ち、上流側圧力センサー13は、図8に示す如く、センサーベース35、センサーチップ36、ダイヤフラム37aを備えたダイヤフラムベース37、圧力伝達用媒体38(シリコンオイル)、封止用ボール39及びリードピン40等から構成されており、流体圧がダイヤフラム37a及び圧力伝達用媒体38を介してセンサーチップ36へ加わると、センサーチップ36を形成する半導体圧力トランスジューサから圧力に比例した電圧信号がリードピン40を介して外部へ出力されるようになっている。このダイヤフラム型の上流側圧力センサー13は、管路等へ取り付けたときにデッドスペースを極めて小さくすることができ、ガスの置換性を高めることができる等の利点がある。
The
That is, the
具体的には、センサーベース35は、ステンレス鋼により外周面に鍔部35aを有する厚肉の円盤状に形成されており、センサーベース35の片面側にはセンサーチップ36を収納し、且つ圧力伝達用媒体38を封入するための窪み部35bが形成されている。又、センサーベース35には、圧力伝達用媒体38の注入孔(図示省略)及びリードピン40の貫通孔が夫々形成されている。
Specifically, the
ダイヤフラムベース37は、ダイヤフラム37aと、ダイヤフラム37aの外周縁部に連設された環状の本体部37bと、本体部37bの外周面に連設された鍔部37cとから成り、鍔部37cの一方の端面(図8に示す鍔部37cの上側の面)をセンサーベース35の鍔部35aの片面に密着させ、両鍔部37c,35aを対向せしめた状態で両鍔部37c,35aの密着部分を全周に亘って溶接することによりセンサーベース35に固定されている。これにより、センサーベース35とダイヤフラムベース37との間には、センサーチップ36を収納し且つ圧力伝達用媒体38を封入するための空間が形成されることになる。
又、ダイヤフラムベース37の鍔部37cの他方の端面(センサーベース35の鍔部35aに密着しない方の面)には、所謂歪み逃し用の浅溝37dが環状に形成されている。この浅溝37dは、鍔部37cの内側寄り位置に形成されており、その断面形状はV字形又はU字形に形成されている。
更に、ダイヤフラム37aの流体に接する面(接ガス面)には、公知の方法により所謂不働態膜の形成処理が施されており、接ガス面には厚さ約200Åの略100%酸化クロムから成る不働態膜又は厚さ約1000Å〜3000Åの弗化不働態膜若しくは厚さ約200Åの主としてアルミニウム酸化膜とクロム酸化物の混合酸化不働態膜が形成されている。
この実施の形態に於いては、ダイヤフラムベース37の鍔部37cの外径は14.7mmに、ダイヤフラムベース37の本体部37bの外径は12.4mmに、ダイヤフラム37aの受圧面の直径は11.4mmに、ダイヤフラムベース37の本体部37bの厚みは1.95mmに、ダイヤフラムベース37の鍔部37cの厚みは1.15mmに、ダイヤフラム37aの厚みは0.06mmに、歪み逃し用の浅溝37dの深さは0.2mmに、不働態膜の厚さは約200Åの酸化クロム皮膜に夫々選定されており、ダイヤフラムベース37の材質にはFS9が使用されている。
The
A so-called strain relief
Further, the surface of the
In this embodiment, the outer diameter of the
尚、センサーチップ36には、従来公知の拡散形半導体圧力トランスジューサが使用されており、このセンサーチップ36は圧力を受けると変形をするダイヤフラム構造を呈している。又、圧力伝達用媒体38には、温度膨張係数や圧縮係数が小さく且つ化学的にも安定したシリコンオイルが使用されており、この圧力伝達用媒体38はダイヤフラム37aに加わった流体圧力をセンサーチップ36へ伝達するものである。更に、封止用ボール39は、圧力伝達用媒体38の注入孔を密封するためのものであり、この封止用ボール39には軸受鋼のボールが使用されている。
A conventionally known diffusion type semiconductor pressure transducer is used for the
図9は上流側圧力センサー13のコントロールバルブ12のボディ18への取り付け構造を示すものであり、ボディ18に形成したセンサー挿着孔18e内へ上流側圧力センサー13がセンサー押えフランジ41及びボルト42によりガスケット43を介して気密状に取り付け固定されている。
FIG. 9 shows a structure for attaching the
前記センサー挿着孔18eは、ボディ18の出口通路18dに連通するようにボディ18の底面側に形成されており、センサー挿着孔18eの内周面はセンサー押えフランジ41のガイド面となっている。又、センサー挿着孔18eの奥部は、小径に形成されており、この小径部分にガスケット43が挿着されるようになっている。即ち、センサー挿着孔18eの小径部分の内周面にガスケット43の外周面43aが、センサー挿着孔18eの小径部分の水平面にガスケット43の一方の端面43bが夫々当接するようになっている。更に、センサー挿着孔18eの小径部分の水平面の内側部分は、テーパ状に形成されている。
The
前記ガスケット43は、ステンレス鋼によりリング状に形成されており、そのシート部の断面形状は矩形の四隅部を面取りした縦長の四角形に形成されている。このガスケット43の内周面43dは、ダイヤフラムベース37の本体部37bの外周面に、又、ガスケット43の他方の端面43cは、ダイヤフラムベース37の鍔部37cの片面に夫々当接するようになっている。
この実施の形態に於いては、ガスケット43の外径は14.6mmに、ガスケット43の内径は12.8mmに、ガスケット43のシート部の厚さ(高さ)は1.8mmに、シート部の接当面の横幅は0.4mmに夫々選定されている。
The
In this embodiment, the outer diameter of the
而して、前記上流側圧力センサー13は、図9に示す如く、コントロールバルブ12のボディ18に形成したセンサー挿着孔18e内へガスケット43、上流側圧力センサー13及びセンサー押えフランジ41を順次挿入し、センサー押えフランジ41をボルト42によりボディ18側へ締め付け、センサー押えフランジ41の先端部でセンサーベース35及びダイヤフラムベース37の両鍔部35a,37cを押圧することにより、ガスケット43を介してボディ18のセンサー挿着孔18e内に気密状に取り付けられている。
この上流側圧力センサー13の取り付け構造に於いては、ボルト42が締め込まれると、センサー押えフランジ41及びガスケット43を介してセンサーベース35及びダイヤフラムベース37の両鍔部35a,37cに上・下方向の圧縮力(上・下方向の反力)がかかる。万一、ボルト42の締め込み時に、センサーベース35及びダイヤフラムベース37の両鍔部35a,37cにかかる上・下方向の圧縮力が原因となって、ダイヤフラム37aに歪力が加わる場合でも、ダイヤフラムベース37の鍔部37cに設けた浅溝37dによりこの部分の肉厚が薄くなっているため、歪力による変位は前記薄肉部の近傍に於いて吸収される。これにより、歪力が直接にダイヤフラム37aへ伝達されなくなり、ダイヤフラム37aに歪みが生ずるのが防止されることになる。
その結果、ボディ18へ上流側圧力センサー13を取り付け固定した場合に於いても、出力や温度特性がフリーの状態下に於ける出力や温度特性と殆ど差異を生ぜず、流体通路のデッドスペースの増加を招くことなしに上流側圧力センサー13をボディ18へ取り付けることができる。
Thus, as shown in FIG. 9, the
In the mounting structure of the
As a result, even when the
前記オリフィス11は、図2に示す如く、上流側圧力センサー13より下流側で且つコントロールバルブ12のボディ18の出口通路18dの出口側に設けられており、ボディ18のオリフィス挿着孔18g及び出口側ブロック17のオリフィス挿着孔17bに円筒状のオリフィスガイド44を介して挿着され、出口側ブロック17をボルトを介してボディ18側へ固定することにより、ボディ18側に取り付け固定されている。
即ち、オリフィス11は、図2及び図10に示す如く、ステンレス鋼製の円筒状のオリフィスガイド44に挿着され、ボディ18の出口通路18dに連通する円筒状のオリフィスベース45と、オリフィスベース45に取り付けられ、オリフィス孔46′を形成した円板状のオリフィスプレート46とから成る。
As shown in FIG. 2, the
That is, as shown in FIGS. 2 and 10, the
具体的には、オリフィスベース45は、図10に示す如く、ステンレス鋼により円筒状に形成されており、その内周面の一端部側にはオリフィスプレート46を取り付けるためのフランジ部45aが形成されている。このフランジ部45aの外側面の内周縁部には、オリフィスプレート46を嵌め込むための環状の窪み部45bが形成されている。
Specifically, as shown in FIG. 10, the
一方、オリフィスプレート46は、図11に示す如く、ステンレス鋼製の極薄板材をプレス加工することにより円板状に形成されており、その中心部にはオリフィス孔46′が形成されている。又、オリフィス孔46′は、流体の高圧側(上流側)に位置するテーパ部46aと、テーパ部46aに連続して流体の低圧側(下流側)に位置するストレート部46bとから成る。このオリフィスプレート46は、プレス加工により形成されているため、放電加工やエッチング加工により形成したオリフィスに比較して加工精度にバラツキを生じることがなく、簡単且つ安価に製作することができるうえ、オリフィスの流量特性のバラツキもなくなる。
そして、オリフィスプレート46は、オリフィスベース45のフランジ部45aに形成した窪み部45bに嵌め込まれ、オリフィスプレート46の外周縁部をフランジ部45aへレーザー溶接することによりオリフィスベース45に取り付け固定されている。
この実施の形態に於いては、オリフィスプレート46の直径は3.5mmに、オリフィスプレート46の厚みは0.05mmに、オリフィス孔46′のストレート部46bの長さは0.015mmに、オリフィス孔46′のストレート部46bの内径は0.03mmに、オリフィス孔46′のテーパ部46aの傾斜角度は軸心に対して17°に夫々選定されている。
On the other hand, as shown in FIG. 11, the
The
In this embodiment, the diameter of the
前記ガスケットフィルター14は、コントロールバルブ12のボディ18の入口通路18bと入口側ブロック16の導入通路16aとの突き合せ部分に配置されてシール性を確保すると共に、フィルター機能を果たすものである。
即ち、ガスケットフィルター14は、図2及び図12に示す如く、ステンレス鋼製の円筒状の接続ガイド47に挿着され、ボディ18の出口通路18dに連通する環状のSUS316L−P(Wメルト)製のフィルターベース48と、フィルターベース48に取り付けられたろ過密度が8μmの円板状の焼結フィルターエレメント49とから成り、ボディ18及び入口側ブロック16のフィルター挿着孔18f,16bに接続ガイド47を介して挿着され、入口側ブロック16をボルトを介してボディ18側へ固定することにより、ボディ18と入口側ブロック16との間に取り付け固定されている。
The
That is, as shown in FIGS. 2 and 12, the
具体的には、フィルターベース48は、図12に示す如く、ステンレス鋼により環状に形成されており、その一端面にはフィルターベース48と同軸の環状の凹所が48a設けられ、この凹所48aの底面には焼結フィルターエレメント49を嵌め込むための環状のリップ部48bが設けられている。
Specifically, as shown in FIG. 12, the
前記焼結フィルターエレメント49は、フィルターベース48の凹所48aの底面に形成したリップ部48b内に嵌め込まれ、リップ部48bを内径側へ曲げてカシメることによりフィルターベース48に取り付け固定されている。
尚、フィルターエレメントとしては、当該焼結フィルターエレメント49に替えて図13に示す如くステンレス鋼製の極薄円板(厚さ20μm〜50μm)の外周縁部を除く部分に多数の小孔49a(小孔49aの内径はフィルターエレメント49の厚みと同程度)をエッチングで開けることにより形成したものを使用しても良い。
又、エッチングの方法としては、フィルターエレメント49の材質と小孔49aの径に応じて両面エッチング又は片面エッチングが適宜に採用される。両面エッチングの場合、各小孔49aの形状は、図13(B)に示すように円板の両端面で径が最も大きく、円板の厚みの中央で径が最小とになっている。又、片面エッチングの場合、各小孔49aの形状は、表面で径が最も大きく、裏面で径が最小となる。
このエッチング加工により小孔49aを設けた構成のガスケットフィルター14は、フィルターエレメント49に多数の小孔49aを開けたものであるから、表面処理を簡単にでき、然も、水分等の不純物が付着し得る表面積が小さくなり、且つフィルター内部に微小空間が存在しないので、付着した水分が取れ易くなる。又、開口面積を求めることが容易であるので、これに基づいて簡単に圧力損失を予測することができ、更に、両端面が共に平坦であるので、シール性向上のための鏡面研磨が容易に行える。
尚、ガスケットフィルター14には、図12に示すガスケットフィルター14に替えて特開2000−167318号公報の図4、図5、図6、図8、図9に開示された構造のガスケットフィルター14を使用するようにしても良い。又、フィルターエレメント49にレーザー加工、機械加工、放電加工、プレス加工等により小孔49aを開けるようにしても良い。
The
As the filter element, instead of the
As the etching method, double-sided etching or single-sided etching is appropriately employed depending on the material of the
Since the
The
前記制御回路15は、コントロールバルブ12の駆動部等を覆う保護ケース50内に設けられており、図示しない増幅回路やA/D変換器等の電子回路系と、実験流量式による流量を演算する流量演算手段と、流すべき設定流量を指令する流量設定手段と、演算流量と設定流量の流量差を演算する比較手段等から構成されている。この制御回路15は、電子回路とマイクロコンピュータと内蔵プログラムを中心に構成されているが、電子回路だけで構成しても良いし、電子回路とパーソナルコンピュータで構成しても良い。
The
尚、前記流体制御装置に於いては、図3に示すように上流側圧力センサー13の取り付け部の近傍に温度センサー51(サーミスタ)を配設し、これによって上流側圧力センサー13の温度補償のための温度検出を行うようにしている。
又、この流体制御装置に於いては、各ブロック継手1,2,3,4,5と各流体制御機器6,7,8,9との突き合せ部に夫々シール部が設けられており、各シール部には通常のガスケット若しくは圧力式流量制御装置9に使用されているガスケットフィルター14が夫々配置されている。
更に、この流体制御装置に於いては、従前の圧力式流量制御装置のようにオリフィス11の下流側圧力が上昇してP2 /P1 の値が臨界値に近づいた場合(又は臨界値以上となった場合)の警報回路やガス供給の停止回路が設けられている。
In the fluid control device, as shown in FIG. 3, a temperature sensor 51 (thermistor) is provided in the vicinity of the mounting portion of the
Further, in this fluid control device, a seal portion is provided at each butt portion of each
Further, in this fluid control device, when the pressure on the downstream side of the
而して、上述した流体制御装置によれば、各ブロック継手1,2,3,4,5の流体通路1a,2a,3a,4a,5aと各流体制御機器6,7,8,9とでガス制御ラインが形成されており、入口継手10Aから導入されたガスがブロック継手1、手動式開閉バルブ6、ブロック継手2、エアー式開閉バルブ7及びブロック継手3を経て圧力式流量制御装置9に流入し、圧力式流量制御装置9によって流量制御された後、ブロック継手4、エアー式開閉バルブ8及びブロック継手5を通って出口継手10Bから排出されるようになっている。
この流体制御装置は、図14に示すグラフからも明らかなように供給圧力の変動によって制御流量が影響を受けない圧力式流量制御装置9をガス制御ラインに組み込んでいるため、流体の圧力を調整するプレッシャーレギュレータをガス制御ラインから省くことができ、マスフローコントローラを組み込んだ流体制御装置に比較して流体制御装置自体のコンパクト化を図れるうえ、高精度に流量を制御することができる。
Thus, according to the fluid control device described above, the
As is apparent from the graph shown in FIG. 14, this fluid control device incorporates a pressure type flow
図15は他の構造の圧力式流量制御装置9をガス制御ラインに組み込んだ第2実施形態に係る流体制御装置を示すものであり、この流体制御装置に組み込んだ圧力式流量制御装置9は、供給される流体が非臨界条件にある場合(オリフィス11から流出する流体の流体速度が音速より低い場合)を前提としている。
即ち、圧力式流量制御装置9は、図16に示す如く、オリフィス11とコントロールバルブ12の間にオリフィス11の上流側圧力を検出する上流側圧力センサー13を、又、オリフィス11の下流側にオリフィス11の下流側圧力を検出する下流側圧力センサー52を夫々配設し、上流側圧力と下流側圧力によりオリフィス通過流量を演算しながらコントロールバルブ12の開閉によりオリフィス通過流量を制御するようにしたものであり、出口側ブロック17の形状が異なることと、オリフィス11の下流側に下流側圧力センサー52を設けたこと、オリフィス11の下流側圧力を下流側圧力センサー52により測定して制御回路15に入力する電子回路系及びソフト系を付加したこと以外は、上述した図2に示す圧力式流量制御装置9と同様構造に構成されている。
この圧力式流量制御装置9を組み込んだ流体制御装置も、上述した流体制御装置と同様の作用効果を奏することができる。
FIG. 15 shows a fluid control device according to the second embodiment in which a pressure type
That is, as shown in FIG. 16, the pressure type
The fluid control device incorporating the pressure type flow
図17は更に他の構造の圧力式流量制御装置9をガス制御ラインに組み込んだ第3実施形態に係る流体制御装置を示すものであり、この流体制御装置に組み込んだ圧力式流量制御装置9は、前記第2実施形態の場合と同様に非臨界条件下の流体を制御対象とするものである。
即ち、圧力式流量制御装置9は、図18に示す如く、オリフィス11とコントロールバルブ12の間にオリフィス11の上流側圧力を検出する上流側圧力センサー13を、又、オリフィス11の下流側にオリフィス11の下流側圧力を検出する下流側圧力センサー52を夫々配設し、上流側圧力と下流側圧力によりオリフィス通過流量を演算しながらコントロールバルブ12の開閉によりオリフィス通過流量を制御するようにしたものである。
FIG. 17 shows a fluid control device according to the third embodiment in which a pressure type
That is, as shown in FIG. 18, the pressure type
又、当該第3実施形態に係る流量制御装置は、コントロールバルブ12の上流側の流体通路からパージ用流体通路を分岐させ、当該パージ用流体通路にエアー作動型のパージ用バルブ54を設けたものであり、圧力式流量制御装置とパージ用バルブとを一体型としたものである。
即ち、第3実施形態に於いては、コントロールバルブ12の上流側の流体通路である入口側ブロック16の導入通路16aからパージ用流体通路16d(N2等のパージガスを流すための通路)を分岐させると共に、入口側ブロック16にエアー作動型のパージ用バルブ54を設け、当該パージ用バルブ54により前記パージ用流体通路16dを開閉するようにしている。このパージ用バルブ54には、エアーにより作動するダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラムバルブが使用されており、パージ用バルブ54の作動用エアーはエアー入口54aより供給される。
Further, the flow rate control device according to the third embodiment branches the purge fluid passage from the upstream fluid passage of the
That is, in the third embodiment, a
尚、当該第3実施形態は、入口側ブロック16及び出口側ブロック17の形状が異なること、オリフィス11の下流側に下流側圧力センサー52を設けたこと、コントロールバルブ12の上流側にエアー作動型のパージ用バルブ54を分岐状に設けたこと、オリフィス11の下流側圧力を下流側圧力センサー52により測定して制御回路15に入力する電子回路系及びソフト系を付加したこと以外は、上述した図2に示す圧力式流量制御装置9と同様構造に構成されている。
この圧力式流量制御装置9を組み込んだ流体制御装置も、上述した流体制御装置と同様の作用効果を奏することができ、より一層の流体制御装置のコンパクト化が可能となる。
又、当該第3実施形態では、圧力式流量制御装置9を非臨界状態下の流体の流量制御を対象とするものにしているが、下流側圧力センサー52を取り除いて臨界状態下の流体の流量制御を対象とするものにしても良いことは勿論である。
In the third embodiment, the shapes of the
The fluid control device in which the pressure type
In the third embodiment, the pressure type flow
尚、上記第1及び第2実施形態に於いては、流体制御機器6,7,8,9に一つの手動式開閉バルブ6、二つのエアー式開閉バルブ7,8及び一つの圧力式流量制御装置9を使用し、これら各機器6,7,8,9を五つのブロック継手1,2,3,4,5で連通状に接続するようにしたが、流体制御装置に用いられる流体制御機器6,7,8,9の種類や配置関係、ブロック継手1,2,3,4,5の数や形状等は、上記実施の形態のものに限定されものではなく、圧力式流量制御装置9をガス制御ラインに組み込んでおれば、流体制御機器の種類や配置関係等は如何なるものであっても良い。例えば、流体制御機器にパージ用バルブやブロックバルブ(開閉バルブとパージ用バルブ等をブロック化したもの)、チャッキバルブ、フィルター等を使用しても良く、その組み合せも適宜に変更可能であることは勿論である。又、第3実施形態に示すようにパージ用バルブを組み込んだ圧力式流量制御装置9を流体制御装置のガス制御ラインに組み込むようにしても良い。
In the first and second embodiments, the
1,2,3,4,5はブロック継手、1a,2a,3a,4a,5aは流体通路、6は手動式開閉バルブ、7,8はエアー式開閉バルブ、9は圧力式流量制御装置、11はオリフィス、12はコントロールバルブ、13は上流側圧力センサー、52は下流側圧力センサー、54はパージ用バルブ。 1, 2, 3, 4, 5 are block joints, 1 a, 2 a, 3 a, 4 a, 5 a are fluid passages, 6 is a manual opening / closing valve, 7, 8 is an air opening / closing valve, 9 is a pressure flow control device, 11 is an orifice, 12 is a control valve, 13 is an upstream pressure sensor, 52 is a downstream pressure sensor, and 54 is a purge valve.
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