JP2005148506A - Polarization converting element, manufacturing method of the polarization converting element and projection type liquid crystal display device - Google Patents

Polarization converting element, manufacturing method of the polarization converting element and projection type liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarization converting element which has high heat resistance and provides superior optical performance in a stable manner. <P>SOLUTION: The polarization converting element is provided with a substrate 11 that is provided with a surface on which a great number of linear groove sections 12 having a prescribed depth H and a prescribed width W is formed with an equal interval in a mutually parallel manner, a foundation layer 13 which is formed at the top region of the surface where the groove sections 12 of the substrate 11 are formed and light shielding layers 15 which are formed in the groove sections 12 with approximately same widths of the sections 12. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、偏光変換素子等に関し、より詳しくは、耐熱性に優れた偏光変換素子等に関する。   The present invention relates to a polarization conversion element and the like, and more particularly to a polarization conversion element and the like excellent in heat resistance.

近年、高度情報化社会の進展を背景に、画像をスクリーンに拡大投影する装置として、従来のスライドプロジェクタやオーバーヘッドプロジェクタ(OHP)に代わって、電子データを直接投影することができる投射型液晶表示装置が利用されている。かかる投射型液晶表示装置では、投影画像の照度を向上させることができることから、明るい室内での投影も可能であるが、さらに明るく高精細な画像を表示するため、投射レンズの改良、高輝度ランプの改良、液晶パネルを均一に照明するためのインテグレータレンズの改良、あるいは、偏光方向をそろえて光の利用効率を向上するための偏光変換光学系の改良等が進められている。
そのような状況にあって、投影画像の照度を向上させる有力な手段として、光源に超高圧水銀ランプ等の高輝度ランプを用いるのが一般的となっている。このような高輝度ランプに対しては、レンズ、偏光変換素子等の光学素子の耐熱性を高める必要性があることから、特に、偏光変換素子においては、光透過性材料の基板上に多数の金属細線を固定したワイヤーグリッド型偏光変換素子が開発されている。
In recent years, with the advancement of an advanced information society, as a device for enlarging and projecting images on a screen, a projection type liquid crystal display device capable of directly projecting electronic data instead of conventional slide projectors and overhead projectors (OHP) Is being used. In such a projection-type liquid crystal display device, since the illuminance of the projected image can be improved, projection in a bright room is possible. However, in order to display a brighter and higher-definition image, the projection lens is improved, a high-intensity lamp Improvement of the above, improvement of the integrator lens for uniformly illuminating the liquid crystal panel, or improvement of the polarization conversion optical system for improving the light utilization efficiency by aligning the polarization direction are being promoted.
Under such circumstances, it is common to use a high-intensity lamp such as an ultra-high pressure mercury lamp as a light source as an effective means for improving the illuminance of the projected image. For such a high-intensity lamp, since it is necessary to increase the heat resistance of optical elements such as lenses and polarization conversion elements, in particular, in the polarization conversion element, a large number of light-transmitting materials are formed on a substrate. A wire grid type polarization conversion element in which a thin metal wire is fixed has been developed.

ここで図5は、このようなワイヤーグリッド型偏光変換素子を説明するための図である。図5に示したワイヤーグリッド型偏光変換素子200は、光透過性材料からなる基板201と、この基板201上に固定された金属細線のワイヤーグリッド202とを有している。幅100nm程度のワイヤーグリッド202は、100nm程度の間隔で平行に多数設けられている。ワイヤーグリッド型偏光変換素子200は、通常、蒸着法又はスパッタ法により、基板201上にアルミニウム等の金属層を形成し、これにエッチング処理を施すことによって、多数のワイヤーグリッド202が一定の間隔を設けて平行に並んだ凸部を形成する方法により調製される。また、基板201上に形成された金属細線による凸部の間を、基板201と同程度の屈折率を有する材料を用いて固める方法も報告されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。   Here, FIG. 5 is a diagram for explaining such a wire grid type polarization conversion element. A wire grid type polarization conversion element 200 shown in FIG. 5 includes a substrate 201 made of a light transmitting material, and a metal wire wire grid 202 fixed on the substrate 201. A large number of wire grids 202 having a width of about 100 nm are provided in parallel at intervals of about 100 nm. In the wire grid type polarization conversion element 200, a metal layer such as aluminum is usually formed on the substrate 201 by an evaporation method or a sputtering method, and an etching process is performed on the metal layer, whereby a large number of wire grids 202 are spaced at a certain interval. It is prepared by a method of providing convex portions arranged in parallel. In addition, a method has been reported in which a space between convex portions formed by fine metal wires formed on the substrate 201 is solidified using a material having a refractive index comparable to that of the substrate 201 (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). ).

特表2003−502708号公報(第19−20頁、図4)Japanese translation of PCT publication No. 2003-502708 (pages 19-20, FIG. 4) 特開平10−153706号公報(第4頁、図1)Japanese Patent Laid-Open No. 10-153706 (page 4, FIG. 1)

しかし、このようなワイヤーグリッド型偏光変換素子は、支持体である基板上に金属細線のワイヤーグリッドを形成するために、スパッタ法等により形成した金属層について、製品個々に、エッチング処理を行う必要があり、製造コストが高く、また、大量に生産できないという不都合がある。
また、例えば、特許文献2に記載されたワイヤーグリッド型偏光変換素子のように、基板上に形成された金属細線による凸部の間を、基板と同程度の屈折率を有する材料を用いて固めた構造の偏光変換素子を、高温化において長時間使用すると、ワイヤーグリッドと基板とが剥離するおそれが有り、信頼性の点において問題がある。
そこで本発明は、以上のような技術的課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、耐熱性に優れた偏光変換素子を提供することにある。
However, in such a wire grid type polarization conversion element, it is necessary to perform an etching process for each product on a metal layer formed by sputtering or the like in order to form a wire grid of fine metal wires on a substrate which is a support. There are disadvantages in that the manufacturing cost is high and mass production is impossible.
Further, for example, like a wire grid type polarization conversion element described in Patent Document 2, a space between convex portions formed by fine metal wires formed on a substrate is solidified using a material having a refractive index similar to that of the substrate. If the polarization conversion element having the above structure is used at a high temperature for a long time, the wire grid and the substrate may be peeled off, which is problematic in terms of reliability.
Accordingly, the present invention has been made to solve the technical problems as described above, and an object thereof is to provide a polarization conversion element having excellent heat resistance.

かかる目的のもと、本発明の偏光変換素子は、所定の深さ及び幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板と、基板の溝部が形成された面の頂部領域に形成された下地層と、溝部内に溝部と略同一の幅で形成された遮光層とを有することを特徴としている。これによって、高耐熱性を有するとともに、優れた光学性能を安定して発揮することが可能となる。
ここで、遮光層は、溝部の深さ以下の厚さで形成されることを特徴とすれば、遮光層が基板に埋め込まれた構成とすることができるので、遮光層の破損による性能低下を抑制することができる。
また、下地層は、遮光層よりも硬質な材料で形成されることを特徴とすれば、偏光変換素子の製造時に生じる遮光層の変形を抑制することができる。さらに、下地層は、SiO2、SiC、Si34により形成すれば、遮光層の変形を抑制する効果が大きい。
加えて、遮光層は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金で形成されることを特徴とすれば、効率的な遮光効果が得られるとともに、高温下での長時間の使用の際にも遮光層が基板から剥離することが抑制される。
For this purpose, the polarization conversion element of the present invention includes a substrate having a surface in which a number of linear grooves having a predetermined depth and width are formed in parallel with each other at equal intervals, and a groove on the substrate. It has a base layer formed in the top region of the formed surface, and a light-shielding layer formed in the groove with a width substantially the same as that of the groove. This makes it possible to stably exhibit excellent optical performance while having high heat resistance.
Here, if the light shielding layer is formed with a thickness equal to or less than the depth of the groove, the light shielding layer can be configured to be embedded in the substrate. Can be suppressed.
Further, if the base layer is formed of a material harder than the light shielding layer, deformation of the light shielding layer that occurs during the manufacture of the polarization conversion element can be suppressed. Further, if the underlayer is formed of SiO 2 , SiC, or Si 3 N 4 , the effect of suppressing the deformation of the light shielding layer is great.
In addition, if the light-shielding layer is formed of aluminum, aluminum alloy, silver, or silver alloy, an efficient light-shielding effect can be obtained and light-shielding can be achieved even when used for a long time at high temperatures. The layer is prevented from peeling from the substrate.

また、本発明の偏光変換素子は、光透過性材料により形成された基板と、基板の表面に等間隔で互いに平行に埋め込まれた直線状の金属グリッドと、平行に埋め込まれた金属グリッドの間に形成された硬質層とを有し、金属グリッドは、基板と直接接触する領域を有することを特徴としている。これによって、高耐熱性を有するとともに、優れた光学性能を安定して発揮することが可能となる。
また、金属グリッドは、配置密度が2.5〜10本/μmであることを特徴とすることができる。
Further, the polarization conversion element of the present invention includes a substrate formed of a light transmissive material, a linear metal grid embedded in parallel to each other at equal intervals on the surface of the substrate, and a metal grid embedded in parallel. And the metal grid is characterized by having a region in direct contact with the substrate. This makes it possible to stably exhibit excellent optical performance while having high heat resistance.
In addition, the metal grid may be characterized in that the arrangement density is 2.5 to 10 / μm.

また、本発明は偏光変換素子の製造方法として捉えることもでき、本発明の偏光変換素子の製造方法は、所定の深さおよび幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板を形成する基板形成工程と、基板形成工程により形成された基板の溝部が設けられた面上の頂部領域に下地層を形成する下地層形成工程と、基板に形成された溝部の側面に直接接触させて充填され、かつ基板の表面上に所定の厚さを有する金属層を形成する金属層形成工程と、金属層形成工程により形成された金属層を研磨し、溝部に充填された金属層を残して金属層を除去する研磨工程とを有することを特徴としている。これによって、高耐熱性を有するとともに、優れた光学性能を安定して発揮することができる偏光変換素子を提供できる。
ここで、下地層形成工程は、基板の溝部が設けられた面上に、気相法により硬質材料からなる下地層を成膜することを特徴とすれば、均一な下地層を成膜することができる。また、金属層形成工程は、基板の溝部が設けられた面上に、気相法により遮光物質からなる金属層を成膜することを特徴とすれば、均一な金属層を成膜することができる。
The present invention can also be regarded as a method for manufacturing a polarization conversion element. In the method for manufacturing a polarization conversion element of the present invention, a large number of linear grooves having a predetermined depth and width are parallel to each other at equal intervals. A substrate forming step of forming a substrate having the formed surface, a base layer forming step of forming a base layer in a top region on a surface provided with a groove portion of the substrate formed by the substrate forming step, and forming on the substrate A metal layer forming step of forming a metal layer having a predetermined thickness on the surface of the substrate, which is filled in direct contact with the side surface of the groove portion, and polishing the metal layer formed by the metal layer forming step; And a polishing step for removing the metal layer while leaving the metal layer filled in the groove. Accordingly, it is possible to provide a polarization conversion element that has high heat resistance and can stably exhibit excellent optical performance.
Here, if the base layer forming step is characterized in that a base layer made of a hard material is formed by a vapor phase method on the surface of the substrate where the groove is provided, a uniform base layer is formed. Can do. In addition, the metal layer forming step is characterized in that a metal layer made of a light-shielding substance is formed on the surface of the substrate on which the groove is provided by a vapor phase method. it can.

さらに、本発明は投射型液晶表示装置として捉えることもでき、光源と、光源からの光を偏光分離する偏光変換素子と、偏光変換素子により偏光された光を透過または反射する液晶表示素子と、液晶表示素子を透過または反射した光をスクリーンに投射する投射光学系とを備えており、偏光変換素子は、所定の深さ及び幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板と、基板の溝部が形成された面の頂部領域に形成された下地層と、溝部内に溝部と略同一の幅で形成された遮光層とを有することを特徴としている。これによって、偏光変換素子は長期間に亘る光照射を行っても熱による損傷もないので、安定して高品質の投影画像を得ることが可能となる。ここで、偏光変換素子は、下地層が遮光層よりも硬質な材料で形成されることを特徴とすれば、偏光変換素子の製造時に生じる遮光層の変形を抑制することができ、安定して高品質の投影画像を得る効果が大きい。   Furthermore, the present invention can also be regarded as a projection-type liquid crystal display device, and includes a light source, a polarization conversion element that polarizes and separates light from the light source, a liquid crystal display element that transmits or reflects light polarized by the polarization conversion element, And a projection optical system that projects light transmitted or reflected by the liquid crystal display element onto the screen. The polarization conversion element includes a plurality of linear grooves having predetermined depths and widths that are parallel to each other at equal intervals. A substrate having a formed surface, a base layer formed in a top region of the surface of the substrate where the groove portion is formed, and a light shielding layer formed in the groove portion with substantially the same width as the groove portion. It is said. As a result, the polarization conversion element is not damaged by heat even if light irradiation is performed for a long period of time, so that a high-quality projected image can be stably obtained. Here, if the polarization conversion element is characterized in that the base layer is formed of a material harder than the light shielding layer, it is possible to suppress the deformation of the light shielding layer that occurs during the manufacture of the polarization conversion element, and to stably The effect of obtaining a high-quality projection image is great.

本発明の効果として、耐熱性に優れた偏光変換素子を提供することが可能となった。   As an effect of the present invention, it is possible to provide a polarization conversion element having excellent heat resistance.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
[実施の形態1]
図1は、本実施の形態が適用される透過方式の投射型液晶表示装置を説明する図である。図1に示した透過方式の投射型液晶表示装置である3板式液晶プロジェクタ1は、光源である白色光源30、白色光源30から出射される白色光31の一様化を図るインテグレータレンズ21,22、白色光31をS偏光、P偏光に分離する偏光変換素子10、白色光31を波長の異なる光に分離するダイクロイックミラー51,52、波長の異なる光をそれぞれ透過する透過型液晶パネル61,62,63、分離された光を合成するダイクロイックプリズム45、ダイクロイックプリズム45によって合成された光をスクリーン80上に結像させる投影光学系である投射レンズ70を備えている。さらに、光学部品としての、ミラー41,42,43,44、リレーレンズ23,24、コンデンサレンズ25,26,27を有している。また、白色光源30は、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の高輝度ランプと高輝度ランプからの光を集光するリフレクタ(楕円鏡)とから構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a diagram illustrating a transmissive projection type liquid crystal display device to which the present embodiment is applied. A three-plate liquid crystal projector 1 that is a transmissive projection type liquid crystal display device shown in FIG. 1 includes a white light source 30 that is a light source, and integrator lenses 21 and 22 that make white light 31 emitted from the white light source 30 uniform. The polarization conversion element 10 that separates the white light 31 into S-polarized light and P-polarized light, the dichroic mirrors 51 and 52 that separate the white light 31 into light of different wavelengths, and the transmissive liquid crystal panels 61 and 62 that transmit light of different wavelengths, respectively. 63, a dichroic prism 45 that synthesizes the separated light, and a projection lens 70 that is a projection optical system that forms an image on the screen 80 of the light synthesized by the dichroic prism 45. Further, mirrors 41, 42, 43, and 44, relay lenses 23 and 24, and condenser lenses 25, 26, and 27 are provided as optical components. The white light source 30 includes a high-intensity lamp such as an ultra-high pressure mercury lamp and a metal halide lamp, and a reflector (elliptical mirror) that collects light from the high-intensity lamp.

本実施の形態の3板式液晶プロジェクタ1では、白色光源30からリフレクタにより略平行光に変換された白色光31が出射される。出射された白色光31は、インテグレータレンズ21に入射する。インテグレータレンズ21は、入射した白色光31をマトリックス状に配置された複数のレンズセルで複数の光束に分割して、効率よくインテグレータレンズ22と偏光変換素子10を通過するように導く。インテグレータレンズ21と同様に、マトリックス状に配置された複数のレンズセルを持つインテグレータレンズ22は、構成するレンズセルそれぞれが対応するインテグレータレンズ21のレンズセルの形状を透過型液晶パネル61,62,63側に投影する。そして、これらインテグレータレンズ21の各レンズセルの投影像をリレーレンズ23,24、コンデンサレンズ25,26,27により、各透過型液晶パネル61,62,63上に重ね合わせる。その際、白色光31は、偏光変換素子10により同じ方向の直線偏光に揃えられるので、透過型液晶パネル61,62,63での光量のロスを減少させることができる。
また、かかる過程では、ダイクロイックミラー51,52により、白色光源30より出射された白色光31は青色光32、緑色光33、赤色光34の3原色に分離され、それぞれ対応する透過型液晶パネル61,62,63に照射される。なお、ここではダイクロイックミラー51は緑青反射赤透過特性を有し、ダイクロイックミラー52は緑反射青透過特性を有している。
In the three-plate liquid crystal projector 1 according to the present embodiment, white light 31 converted into substantially parallel light by the reflector is emitted from the white light source 30. The emitted white light 31 enters the integrator lens 21. The integrator lens 21 divides the incident white light 31 into a plurality of light beams by a plurality of lens cells arranged in a matrix and efficiently guides the light to pass through the integrator lens 22 and the polarization conversion element 10. Similar to the integrator lens 21, the integrator lens 22 having a plurality of lens cells arranged in a matrix shape changes the shape of the lens cell of the integrator lens 21 corresponding to each of the constituting lens cells to the transmissive liquid crystal panels 61, 62, 63. Project to the side. Then, the projection images of the lens cells of the integrator lens 21 are superimposed on the transmissive liquid crystal panels 61, 62, 63 by the relay lenses 23, 24 and the condenser lenses 25, 26, 27. At that time, since the white light 31 is aligned with linearly polarized light in the same direction by the polarization conversion element 10, it is possible to reduce the light amount loss in the transmissive liquid crystal panels 61, 62, and 63.
In this process, the white light 31 emitted from the white light source 30 is separated by the dichroic mirrors 51 and 52 into the three primary colors of blue light 32, green light 33, and red light 34. , 62, 63 are irradiated. Here, the dichroic mirror 51 has a green-blue reflection red transmission characteristic, and the dichroic mirror 52 has a green reflection blue transmission characteristic.

そして、透過型液晶パネル61,62,63上の画像は、ダイクロイックプリズム45によって色合成され、さらに、投射レンズ70によってスクリ−ン80上へと投射され、大画面映像を得ることができる。
なお、リレーレンズ23,24は、透過型液晶パネル62,63に対して、透過型液晶パネル61の白色光源30から液晶パネル面までの光路長が長くなっていることを補うものである。また、コンデンサレンズ25,26,27はそれぞれ透過型液晶パネル61,62,63を通過した後の光線の広がりを押さえ、投射レンズ70によって効率のよい投射を実現している。
The images on the transmissive liquid crystal panels 61, 62, 63 are color-combined by the dichroic prism 45, and further projected onto the screen 80 by the projection lens 70, so that a large screen image can be obtained.
The relay lenses 23 and 24 compensate for the fact that the optical path length from the white light source 30 of the transmissive liquid crystal panel 61 to the liquid crystal panel surface is longer than that of the transmissive liquid crystal panels 62 and 63. Further, the condenser lenses 25, 26, and 27 suppress the spread of light rays that have passed through the transmissive liquid crystal panels 61, 62, and 63, respectively, and the projection lens 70 realizes efficient projection.

次に、本実施の形態の偏光変換素子10について説明する。図2は、本実施の形態が適用される偏光変換素子10を説明する図である。図2に示したように、本実施の形態の偏光変換素子10は、互いに平行で等間隔に配置された多数の直線状の溝部12が一方の面に形成された基板11、基板11の溝部12が形成された面上の頂部領域に形成された下地層13、および底部領域に形成された下地層14、基板11の溝部12内に充填された遮光層15、溝部12が形成された面とは反対側の面に形成された反射防止膜16により構成されている。   Next, the polarization conversion element 10 of the present embodiment will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating the polarization conversion element 10 to which this exemplary embodiment is applied. As shown in FIG. 2, the polarization conversion element 10 of the present embodiment includes a substrate 11 in which a large number of linear groove portions 12 that are parallel to each other and arranged at equal intervals are formed on one surface, and a groove portion of the substrate 11. The base layer 13 formed in the top region on the surface on which the surface 12 is formed, the base layer 14 formed in the bottom region, the light shielding layer 15 filled in the groove 12 of the substrate 11, and the surface on which the groove 12 is formed. It is comprised by the anti-reflective film 16 formed in the surface on the opposite side.

基板11を形成する材料としては、光透過性材料であれば特に限定されず、例えば、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフォン、フェノール樹脂、ノルボルネン系非晶質ポリオレフィン樹脂等の合成樹脂や、青板ガラス、白板ガラス、サファイアガラス等のガラス等を用いることができる。その中でも、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系非晶質ポリオレフィン、ポリイミド等は、耐熱性が良好である点で好ましい。さらには、ポリカーボネート系樹脂は、高い光透過性を有する点で特に好ましい。
また、基板11の厚さは、通常0.1〜2.0mm、好ましくは0.7〜1.1mmである。基板11の形状及び外形寸法は、使用される態様に応じて適宜選択され、特に限定されないが、一般的には、一辺が10〜100mmの長方形又は正方形、直径が5〜100mmの円形又は楕円形等が用いられる。
The material for forming the substrate 11 is not particularly limited as long as it is a light transmissive material. For example, polycarbonate resin, acrylic resin, methacrylic resin, polystyrene resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, polyester resin, polyimide, Synthetic resins such as polyetherimide, polyether sulfone, phenol resin, norbornene-based amorphous polyolefin resin, and glass such as blue plate glass, white plate glass, and sapphire glass can be used. Among these, polycarbonate resins, norbornene amorphous polyolefins, polyimides, and the like are preferable in terms of good heat resistance. Furthermore, the polycarbonate-based resin is particularly preferable in that it has high light transmittance.
Moreover, the thickness of the board | substrate 11 is 0.1-2.0 mm normally, Preferably it is 0.7-1.1 mm. The shape and outer dimensions of the substrate 11 are appropriately selected according to the mode to be used, and are not particularly limited. In general, a rectangle or a square having a side of 10 to 100 mm, and a circle or an ellipse having a diameter of 5 to 100 mm. Etc. are used.

基板11の一方の面に形成された溝部12は、例えば、溝幅(W)が50〜120nm、溝深さ(H)が30〜120nmの直線形状を有している。また、溝部12の溝ピッチ(P)は、50〜180nmの間隔で、互いに平行に等間隔で設けられており、その密度は、2.5〜10本/μmである。
基板11の溝部12が設けられた面上の頂部領域および底部領域にそれぞれ形成される下地層13および下地層14の材質は、特に限定されないが、研磨やエッチング処理による被加工速度が遮光層15を形成する遮光物質に比べて低いものが望ましい。また、下地層13,14の材質は光透過性物質であることが望ましいが、十分に光透過性を得られる程度に下地層13,14の厚さを薄くするならば非光透過性物質であってもよい。特にSiO2、SiC、Si34等は、研磨やエッチング処理による被加工速度が、通常、遮光物質として用いられるアルミニウム、アルミニウム合金等に比べて十分に低いため、偏光変換素子10の製造時に生じる基板パターン形状の変形を抑制することができるので、良好な偏光変換特性を得ることができる。
なお、下地層としては、偏光変換素子10の製造時に生じる基板パターン形状の変形を抑制するためには、基板11の溝部12が設けられた面上の頂部領域において下地層13を形成すれば十分であり、底部領域に形成される下地層14については必要条件ではない。
The groove 12 formed on one surface of the substrate 11 has, for example, a linear shape with a groove width (W) of 50 to 120 nm and a groove depth (H) of 30 to 120 nm. Moreover, the groove pitch (P) of the groove part 12 is provided at equal intervals in parallel with each other at an interval of 50 to 180 nm, and the density thereof is 2.5 to 10 / μm.
The material of the underlayer 13 and the underlayer 14 formed in the top region and the bottom region on the surface of the substrate 11 where the groove 12 is provided is not particularly limited, but the processing speed by polishing or etching treatment is limited to the light shielding layer 15. It is desirable to use a material that is lower than the light shielding material that forms the film. The material of the underlayers 13 and 14 is preferably a light transmissive material. However, if the thickness of the underlayers 13 and 14 is made thin enough to obtain a sufficient light transmittance, a non-light transmissive material is used. There may be. In particular, SiO 2 , SiC, Si 3 N 4 and the like have a sufficiently low processing speed by polishing or etching treatment as compared with aluminum, an aluminum alloy or the like that is usually used as a light shielding material. Since the deformation | transformation of the board | substrate pattern shape which arises can be suppressed, a favorable polarization conversion characteristic can be acquired.
As the underlayer, in order to suppress the deformation of the substrate pattern shape that occurs during the manufacture of the polarization conversion element 10, it is sufficient to form the underlayer 13 in the top region on the surface of the substrate 11 where the groove 12 is provided. The underlayer 14 formed in the bottom region is not a necessary condition.

遮光層15を形成する遮光物資としては、光を遮断する物質であれば特に限定されないが、通常は、金属や半導体材料等が用いられる。例えば、アルミニウム、銀、アルミニウム合金、銀合金等は、屈折率が大きく、さらには光の吸収が大きいので好ましい。その中でも、アルミニウムは熱伝導率が大きいことから、遮光物質としてアルミニウムを用いた場合には、偏光変換素子10は、耐熱性に特に優れ、例えば、400℃で1時間放置した後においても、外見上も、性能上も変化を生ずることがない。また、このような偏光変換素子10を本実施の形態の3板式液晶プロジェクタ1のような投射型液晶表示装置に組み込んだ場合には、偏光変換素子10は、およそ150〜200℃程度の温度雰囲気下に置かれることとなるが、遮光物質としてアルミニウム等を用いた場合には、通常の耐熱性樹脂を使用した場合よりも優れた耐熱性を発揮することができることから、投射型液晶表示装置の性能の安定化に貢献する。
また、遮光物質として金属を使用する場合は、金属表面に自己保護膜として酸化層を形成することが好ましい。このような酸化層を形成する化合物としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム等が挙げられる。酸化層は、屈折率及び厚さを成膜条件により調整することで、所望の波長範囲における反射率を低減するように形成される。
The light shielding material for forming the light shielding layer 15 is not particularly limited as long as it is a substance that blocks light, but usually a metal, a semiconductor material, or the like is used. For example, aluminum, silver, an aluminum alloy, a silver alloy, and the like are preferable because they have a large refractive index and a large light absorption. Among them, since aluminum has a high thermal conductivity, when aluminum is used as a light-shielding substance, the polarization conversion element 10 is particularly excellent in heat resistance, for example, even after being left at 400 ° C. for 1 hour, There is no change in performance or performance. In addition, when such a polarization conversion element 10 is incorporated in a projection type liquid crystal display device such as the three-plate liquid crystal projector 1 of the present embodiment, the polarization conversion element 10 has a temperature atmosphere of about 150 to 200 ° C. However, when aluminum or the like is used as a light-shielding substance, it can exhibit better heat resistance than when a normal heat-resistant resin is used. Contributes to stable performance.
Further, when a metal is used as the light shielding material, it is preferable to form an oxide layer as a self-protecting film on the metal surface. Examples of the compound that forms such an oxide layer include silicon oxide, silicon nitride, and aluminum oxide. The oxide layer is formed so as to reduce the reflectance in a desired wavelength range by adjusting the refractive index and the thickness according to the film forming conditions.

なお、本実施の形態が適用される偏光変換素子10では、入射光の偏光効率を高めるために、基板11の溝部12が形成された面とは反対側の面に、反射防止膜16を設けることが好ましい。反射防止膜16を形成する材料としては、通常、金属、金属酸化物及び金属フッ化物から選ばれる化合物が用いられる。具体的には、金属としては、例えば、銀等が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム等が挙げられる。金属フッ化物としては、例えば、弗化マグネシウム等が挙げられる。反射防止膜は、単層又は多層であってもよい。反射防止膜の厚さ、多層である場合の各層の厚さは、層数、各層に用いる物質の屈折率等により適宜選択される。   In the polarization conversion element 10 to which this exemplary embodiment is applied, an antireflection film 16 is provided on the surface of the substrate 11 opposite to the surface on which the groove 12 is formed in order to increase the polarization efficiency of incident light. It is preferable. As a material for forming the antireflection film 16, a compound selected from metals, metal oxides, and metal fluorides is usually used. Specifically, silver etc. are mentioned as a metal, for example. Examples of the metal oxide include silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, and zirconium oxide. Examples of the metal fluoride include magnesium fluoride. The antireflection film may be a single layer or a multilayer. The thickness of the antireflection film and the thickness of each layer in the case of a multilayer are appropriately selected depending on the number of layers, the refractive index of the substance used for each layer, and the like.

本実施の形態が適用される偏光変換素子10では、遮光層15は基板11と一体に形成された溝部12内に遮光物質が充填された構造を有している。そのため、従来のワイヤーグリッド型偏光変換素子のような金属製のワイヤーグリッド部が基板上に突出した構造とは異なり、ワイヤーグリッド部の破損による性能低下の発生といった問題を解消することができる。また、溝部12は基板11と一体成形されているため、遮光層15を構成する溝部12に充填された遮光物質が、高温環境下で長時間使用しても基板11から剥離することが無いので、高い耐熱性を実現することもできる。
特に、本実施の形態の偏光変換素子10では、溝部12の側面において、基板11と遮光層15を構成する遮光物質とが直接接触することで結合されている。すなわち、溝部12内に溝部12の幅と略同一の幅の遮光層15が形成されている。基板11を構成する樹脂材料と遮光物質である金属等とは強固に付着させることができるので、遮光層15を基板11に対して十分に強く固定させておくことができる。後段で述べるが、下地層13および下地層14は基板11の溝部12が設けられた面上の頂部領域および底部領域にそれぞれ形成され、溝部12の側面には形成されないか、または形成されても極く僅かである。したがって、遮光物質は、溝部12の側面において基板11を構成する樹脂材料と直接的に接触することができる。
In the polarization conversion element 10 to which this exemplary embodiment is applied, the light shielding layer 15 has a structure in which a light shielding material is filled in a groove portion 12 formed integrally with the substrate 11. Therefore, unlike a structure in which a metal wire grid portion protrudes on a substrate like a conventional wire grid type polarization conversion element, it is possible to solve the problem of performance degradation due to breakage of the wire grid portion. Further, since the groove portion 12 is integrally formed with the substrate 11, the light shielding material filled in the groove portion 12 constituting the light shielding layer 15 does not peel from the substrate 11 even when used for a long time in a high temperature environment. High heat resistance can also be realized.
In particular, in the polarization conversion element 10 according to the present embodiment, the substrate 11 and the light shielding material constituting the light shielding layer 15 are coupled to each other on the side surface of the groove portion 12 by direct contact. That is, a light shielding layer 15 having a width substantially the same as the width of the groove 12 is formed in the groove 12. Since the resin material constituting the substrate 11 and the light-shielding substance such as metal can be firmly attached, the light-shielding layer 15 can be fixed sufficiently strongly to the substrate 11. As will be described later, the base layer 13 and the base layer 14 are respectively formed in the top region and the bottom region on the surface of the substrate 11 where the groove 12 is provided, and are not formed on the side surface of the groove 12 or may be formed. Very little. Therefore, the light shielding substance can directly contact the resin material constituting the substrate 11 on the side surface of the groove 12.

次に、本実施の形態が適用される偏光変換素子10の製造方法について説明する。図3は、偏光変換素子10の製造方法を説明する図である。図3(a)に示すように、まず光透過性材料を用いて、一方の面に多数の溝部12が設けられた基板11を形成する。基板11の材料として、例えば、ポリカーボネート等の耐熱性合成樹脂を用いる場合は、予め、所定の溝幅、溝深さを有し、所定の溝ピッチで、多数の直線状の溝部12が等間隔で平行に並ぶようにプリフォーマットが形成された型(スタンパ)を使用し、射出成形法により、溝部12を備えた一体の基板11を大量に生産することができる。また、2P法によることも可能である。
このような方法により、溝部12を基板11上に直接的に成形加工することにより、溝部12を所望の溝形状に高精度で形成することができるので、偏光変換素子10の偏光特性の向上を図ることができる
Next, a method for manufacturing the polarization conversion element 10 to which this exemplary embodiment is applied will be described. FIG. 3 is a diagram illustrating a method for manufacturing the polarization conversion element 10. As shown in FIG. 3A, first, a substrate 11 having a large number of grooves 12 on one surface is formed using a light transmissive material. When a heat resistant synthetic resin such as polycarbonate is used as the material of the substrate 11, for example, a plurality of linear groove portions 12 having a predetermined groove width and groove depth and having a predetermined groove pitch are equally spaced. Using a mold (stamper) in which a preformat is formed so as to be arranged in parallel, a single substrate 11 having the groove 12 can be produced in large quantities by an injection molding method. It is also possible to use the 2P method.
By forming the groove portion 12 directly on the substrate 11 by such a method, the groove portion 12 can be formed into a desired groove shape with high accuracy, so that the polarization characteristics of the polarization conversion element 10 can be improved. Can be planned

次に、図3(b)に示すように、このように形成された基板11の頂部領域および底部領域のそれぞれに下地層13および下地層14を形成する。下地層13および下地層14は、例えば、SiO2、SiC、Si34等の材料を、基板11の溝部12を設けた面に、真空蒸着法、スパッタ法等の気相法により成膜することにより形成する。下地層13および下地層14の層厚は、溝部12の形状を大幅に変化させない程度が望ましく、通常10〜50nmに形成される。
ここで、気相法では、専ら基板11の表面と平行な面において成膜が進行する。したがって、基板11に形成される溝部12の断面形状として、溝部12の側面と基板11の表面(頂部領域)とのなす角θ(図2参照)が55〜90°である台形形状、さらには矩形形状に形成することによって、基板11の頂部領域および底部領域においては十分な成膜が行われ、溝部12の側面では殆ど成膜されないか、または全く成膜されないようにすることができる。このように溝部12の断面形状を設定することで、基板11の頂部領域と底部領域とにおいて、それぞれ下地層13と下地層14とを形成する。
なお、底部領域に形成される下地層14については、上述したように必要条件ではないため、底部領域には成膜が行われないように設定してもよい。
Next, as shown in FIG. 3B, a base layer 13 and a base layer 14 are formed in the top region and the bottom region of the substrate 11 formed in this way, respectively. The underlayer 13 and the underlayer 14 are formed by, for example, a material such as SiO 2 , SiC, or Si 3 N 4 on the surface of the substrate 11 provided with the groove 12 by a vapor phase method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. To form. The layer thickness of the foundation layer 13 and the foundation layer 14 is preferably such that the shape of the groove 12 is not significantly changed, and is usually formed to be 10 to 50 nm.
Here, in the vapor phase method, film formation proceeds exclusively on a plane parallel to the surface of the substrate 11. Therefore, as a cross-sectional shape of the groove portion 12 formed in the substrate 11, a trapezoidal shape in which an angle θ (see FIG. 2) formed by the side surface of the groove portion 12 and the surface (top region) of the substrate 11 is 55 to 90 °, By forming a rectangular shape, sufficient film formation can be performed in the top region and the bottom region of the substrate 11, and almost no film can be formed on the side surface of the groove 12, or no film can be formed at all. By setting the cross-sectional shape of the groove 12 in this manner, the base layer 13 and the base layer 14 are formed in the top region and the bottom region of the substrate 11, respectively.
Note that the underlayer 14 formed in the bottom region is not a necessary condition as described above, and may be set so that no film is formed in the bottom region.

次に、図3(c)に示すように、このように形成された基板11の溝部12を覆うように、金属膜17を形成する。その際には、溝部12の側面には下地層が殆ど成膜されず、または全く成膜されていないので、溝部12内では溝部12の幅と略同一の幅の遮光層15となる金属膜17が充填される。ここで、金属膜17は、例えば、アルミニウム、銀、アルミニウム合金、銀合金等の金属を、基板11の溝部12が設けられた面に、真空蒸着法、スパッタ法等の気相法により成膜する。金属膜17の厚さは特に限定されないが、通常、100〜500nm程度で形成される。
続いて、図3(d)に示すように、基板11の溝部12を覆うように形成された金属膜17の表面を、研磨または化学エッチングにより除去し、溝部12にのみ金属が充填され、溝部12の深さ、またはそれ以下の厚さの遮光層15を形成する。研磨の方法は特に限定されないが、例えば、研磨布(パッド)上に基板11の表面を当てるように配置し、基板11に裏面から均一に加重をかけつつ、パッド−基板11間に研磨液(スラリー)を供給しながら研磨を行う方法が挙げられる。
Next, as shown in FIG. 3C, a metal film 17 is formed so as to cover the groove 12 of the substrate 11 thus formed. In that case, since the base layer is hardly formed on the side surface of the groove portion 12 or not formed at all, the metal film which becomes the light shielding layer 15 having the same width as the groove portion 12 in the groove portion 12. 17 is filled. Here, the metal film 17 is formed of a metal such as aluminum, silver, an aluminum alloy, or a silver alloy on the surface of the substrate 11 on which the groove portion 12 is provided by a vapor phase method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. To do. The thickness of the metal film 17 is not particularly limited, but is usually formed with a thickness of about 100 to 500 nm.
Subsequently, as shown in FIG. 3D, the surface of the metal film 17 formed so as to cover the groove 12 of the substrate 11 is removed by polishing or chemical etching, and only the groove 12 is filled with metal. A light shielding layer 15 having a depth of 12 or less is formed. The polishing method is not particularly limited. For example, the polishing liquid (pad) is disposed between the pad 11 and the substrate 11 while the substrate 11 is placed on the polishing cloth (pad) so that the surface of the substrate 11 is applied, and the substrate 11 is uniformly loaded from the back surface. There is a method of polishing while supplying the slurry.

この研磨工程では、頂部領域の下地層13を形成するSiO2、SiC、Si34等は、研磨やエッチング処理による被加工速度が、通常、遮光層15の遮光物質として用いられるアルミニウム、アルミニウム合金等に比べて十分に低いため、遮光層15のパターン形状の変形を抑制することができる。すなわち、研磨に際しては、頂部領域の下地層13が研磨の進行に対するストッパーの作用を果たすので、基板11の頂部領域の下地層13より深く金属膜17および基板11が削られることを抑制する。そのため、部分的に研磨が必要以上に進んで遮光層15が不均一な厚さとなることを防ぐことができる。また、遮光層15の中央部の削れが大きくなって、遮光層15が湾曲した形状となることもないので、遮光層15の表面を安定して平滑に形成することができる。 In this polishing step, SiO 2 , SiC, Si 3 N 4, etc., which form the base layer 13 in the top region, are processed at a processing speed by polishing or etching, and are usually used as a light shielding material for the light shielding layer 15. Since it is sufficiently lower than an alloy or the like, deformation of the pattern shape of the light shielding layer 15 can be suppressed. That is, during polishing, the base layer 13 in the top region serves as a stopper against the progress of polishing, and therefore, the metal film 17 and the substrate 11 are prevented from being etched deeper than the base layer 13 in the top region of the substrate 11. For this reason, it is possible to prevent the light shielding layer 15 from having a non-uniform thickness due to partial progress of polishing more than necessary. Further, since the shading of the central portion of the light shielding layer 15 is not increased and the light shielding layer 15 does not have a curved shape, the surface of the light shielding layer 15 can be formed stably and smoothly.

このように、本実施の形態の偏光変換素子10の製造方法によれば、基板11の一方の面に溝部12を成形加工し、この溝部12が形成された面の頂部領域および底部領域において、それぞれに下地層13および下地層14を形成している。これにより、遮光層15を精度良く所望の形状に形成することができるとともに、平滑な表面を安定して形成することができるので、偏光変換素子10において優れた光学性能を安定して得ることが可能となる。
特に、遮光層15を構成する遮光物質としてアルミニウム等の金属を用いることができ、さらに形状を精度良く形成できるので、偏光変換素子10は、安定した光学性能に加えて、耐熱性に特に優れており、また、遮光層15を基板に対して強固に固定させておくことができるので、破損の発生も生じ難い。
Thus, according to the method for manufacturing the polarization conversion element 10 of the present embodiment, the groove 12 is formed on one surface of the substrate 11, and the top region and the bottom region of the surface on which the groove 12 is formed, A base layer 13 and a base layer 14 are formed respectively. As a result, the light shielding layer 15 can be accurately formed in a desired shape, and a smooth surface can be stably formed, so that excellent optical performance can be stably obtained in the polarization conversion element 10. It becomes possible.
In particular, since a metal such as aluminum can be used as the light shielding substance constituting the light shielding layer 15 and the shape can be formed with high accuracy, the polarization conversion element 10 is particularly excellent in heat resistance in addition to stable optical performance. In addition, since the light shielding layer 15 can be firmly fixed to the substrate, the occurrence of breakage hardly occurs.

以下、実施例に基づき、本実施の形態の偏光変換素子10を具体的に説明する。なお、本実施の形態の偏光変換素子10は実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
厚さ1.1mmの耐熱性高分子基板上に、溝幅100nm、溝深さ50nmの形状の溝部が、溝ピッチ170nmで、等間隔で平行に設けられたプリフォーマットを形成し、耐熱性高分子基板の溝部とは反対側の面に、Ta25/SiO2を2層積層した反射防止膜を形成した。次に、耐熱性高分子基板の溝部を設けた面上に、スパッタリングにより、厚さ20nmのSiO2を成膜した。さらにSiO2層の上から基板の溝部を充填し、さらに溝に覆うように、厚さ200nmのアルミニウム(Al)膜を形成した。続いて、このAl膜を研磨して、基板の溝部にAl金属が充填された偏光変換素子を調製した。このように調製した偏光変換素子を、図1に示した3板式液晶プロジェクタに取り付け、1000時間投射の実験を行った。実験の結果、偏光変換素子の外観に、何らの損傷も見られなかった。また、投影される画像についても表示品質の低下は見られなかった。
Hereinafter, based on an Example, the polarization conversion element 10 of this Embodiment is demonstrated concretely. In addition, the polarization conversion element 10 of this Embodiment is not limited to an Example.
(Example 1)
On a heat-resistant polymer substrate having a thickness of 1.1 mm, a preformat is formed in which groove portions having a groove width of 100 nm and a groove depth of 50 nm are provided in parallel at equal intervals with a groove pitch of 170 nm. An antireflection film in which two layers of Ta 2 O 5 / SiO 2 were laminated was formed on the surface of the molecular substrate opposite to the groove. Next, a SiO 2 film having a thickness of 20 nm was formed by sputtering on the surface of the heat-resistant polymer substrate provided with the groove. Further, an aluminum (Al) film having a thickness of 200 nm was formed so as to fill the groove portion of the substrate from above the SiO 2 layer and to cover the groove. Subsequently, this Al film was polished to prepare a polarization conversion element in which Al metal was filled in the groove portion of the substrate. The polarization conversion element thus prepared was attached to the three-plate liquid crystal projector shown in FIG. 1, and a 1000-hour projection experiment was conducted. As a result of the experiment, no damage was observed in the appearance of the polarization conversion element. Also, no deterioration in display quality was observed for the projected image.

(実施例2)
予め、電子ビームを用いて、クロムマスク上に200nmピッチのラインアンドスペースのパターンを形成した。シリコンウエハ上にレジストを塗布し、マスク露光を施し、パターニングを行った。その後、レジストの感光部分を除去し、シリコンの異方性エッチングを施し、溝深さ110nmとした。この溝を形成したシリコン基板に無電解めっきを施し、めっき部分をシリコンから剥離したものを基板形成に必要な金型とした。この金型を用いて、ガラス2P法により、溝幅100nm、溝深さ90nmの形状を有する多数の溝が、溝ピッチ170nmで互いに平行に形成されたプリフォーマットを有するガラス基板を得た。
また、溝部とは反対側の面に、反射防止膜をTa25/SiO2の2層で形成した。その後、基板プリフォーマット上に、厚さ15nmのSiCを形成した。さらに厚さ200nmのAl膜を形成し、続いて、基板の溝部分に埋め込まれたAl金属のみを残し、余分な部分を研磨により除去した。
このようにして調製した偏光変換素子を、図1に示した3板式液晶プロジェクタに取り付け、投射実験を行った。1000時間投射した後、偏光変換素子を取り出し、目視にて観察を行ったが、何らの損傷も見られなかった。また、投影される画像についても表示品質の低下は見られなかった。
(Example 2)
A 200 nm pitch line-and-space pattern was previously formed on a chromium mask using an electron beam. A resist was applied on the silicon wafer, mask exposure was performed, and patterning was performed. Thereafter, the photosensitive portion of the resist was removed, and anisotropic etching of silicon was performed to obtain a groove depth of 110 nm. An electroless plating was performed on the silicon substrate on which the groove was formed, and a metal mold required for substrate formation was obtained by peeling the plated portion from the silicon. Using this mold, a glass substrate having a preformat in which a number of grooves having a groove width of 100 nm and a groove depth of 90 nm were formed in parallel with each other at a groove pitch of 170 nm was obtained by the glass 2P method.
Further, an antireflection film was formed with two layers of Ta 2 O 5 / SiO 2 on the surface opposite to the groove. Thereafter, SiC having a thickness of 15 nm was formed on the substrate preformat. Further, an Al film having a thickness of 200 nm was formed. Subsequently, only the Al metal embedded in the groove portion of the substrate was left, and the excess portion was removed by polishing.
The polarization conversion element thus prepared was attached to the three-plate liquid crystal projector shown in FIG. 1, and a projection experiment was performed. After projecting for 1000 hours, the polarization conversion element was taken out and visually observed, but no damage was observed. Also, no deterioration in display quality was observed for the projected image.

以上説明したように、本実施の形態の偏光変換素子10では、基板11の一方の面に溝部12を形成し、この溝部12が形成された面の頂部領域および底部領域のそれぞれにおいて、下地層13および下地層14を形成している。そのため、溝部12に金属等の遮光物質を充填して形成される遮光層15が、溝部12に密着して所定の形状に精度良く形成され、さらに平滑な表面形状で形成することができる。これにより、偏光変換素子10において優れた光学性能を安定して発揮することが可能となる。
特に、遮光層15を構成する遮光物質としてアルミニウム等の金属を用いることができるので、偏光変換素子10は、耐熱性に特に優れた特性を実現することができる。その際、遮光層15は基板11と一体に形成された溝部12に遮光物質が充填された構造を有しているので、遮光層15の破損が生じ難く、優れた光学性能を長期に亘って実現することができる。また、溝部12は基板11と一体成形され、遮光層15を溝部12の側面に対して十分に強く固定させているため、遮光層15を構成する溝部12に充填された遮光物質が、高温環境下で長時間使用しても基板11から剥離することが無いので、その点にからも高い耐熱性を実現している。
このような本実施の形態の偏光変換素子10の特性から、偏光変換素子10を3板式液晶プロジェクタ1のような投射型液晶表示装置に適用することによって、長期間に亘る光照射を行っても熱による損傷もなく、安定して優れた光学性能を維持できるので、高品質の投影画像を得ることが可能となる。
As described above, in the polarization conversion element 10 of the present embodiment, the groove 12 is formed on one surface of the substrate 11, and the base layer is formed in each of the top region and the bottom region of the surface on which the groove 12 is formed. 13 and the underlayer 14 are formed. Therefore, the light shielding layer 15 formed by filling the groove portion 12 with a light shielding substance such as a metal can be formed in a predetermined shape with high accuracy in close contact with the groove portion 12, and can be formed with a smoother surface shape. Thereby, it is possible to stably exhibit excellent optical performance in the polarization conversion element 10.
In particular, since a metal such as aluminum can be used as the light shielding material constituting the light shielding layer 15, the polarization conversion element 10 can realize a particularly excellent characteristic in heat resistance. At this time, since the light shielding layer 15 has a structure in which the groove portion 12 formed integrally with the substrate 11 is filled with a light shielding material, the light shielding layer 15 is hardly damaged and has excellent optical performance over a long period of time. Can be realized. Further, since the groove portion 12 is integrally formed with the substrate 11 and the light shielding layer 15 is fixed sufficiently strongly with respect to the side surface of the groove portion 12, the light shielding material filled in the groove portion 12 constituting the light shielding layer 15 is in a high temperature environment. Since it does not peel off from the substrate 11 even if it is used for a long time under this, high heat resistance is also realized from that point.
Due to the characteristics of the polarization conversion element 10 according to the present embodiment, the polarization conversion element 10 can be applied to a projection-type liquid crystal display device such as the three-plate liquid crystal projector 1 to perform light irradiation over a long period of time. Since excellent optical performance can be stably maintained without being damaged by heat, a high-quality projection image can be obtained.

[実施の形態2]
実施の形態1では、透過方式の投射型液晶表示装置である3板式液晶プロジェクタ1について説明した。実施の形態2では、反射方式の投射型液晶表示装置である液晶プロジェクタ2について説明する。尚、実施の形態1と同様な構成については同様な符号を用い、ここではその詳細な説明を省略する。
[Embodiment 2]
In the first embodiment, the three-plate liquid crystal projector 1 that is a transmissive projection type liquid crystal display device has been described. In the second embodiment, a liquid crystal projector 2 that is a projection type liquid crystal display device will be described. In addition, about the structure similar to Embodiment 1, the same code | symbol is used and the detailed description is abbreviate | omitted here.

図4は、本実施の形態が適用される反射方式の投射型液晶表示装置を説明する図である。図4に示した反射方式の投射型液晶表示装置である液晶プロジェクタ2は、光源である白色光源30、白色光源30から出射される白色光をS偏光に変換する偏光変換素子90、白色光を波長の異なる光に分離するダイクロイックミラー53、波長の異なる3つの光をそれぞれ反射する3つの反射型液晶パネル64,65,66、一方向の偏光成分のみを通過させる偏光子91,93,95,96、偏光方向を90°回転させる偏光回転素子92,94,97,98、それぞれの光の偏光成分を選択的に透過・反射する偏光ビームスプリッタ101,102,103、合成された光をスクリーン80上に結像させる投影光学系である投射レンズ70を備えている。   FIG. 4 is a diagram illustrating a reflection type projection type liquid crystal display device to which the present embodiment is applied. A liquid crystal projector 2 which is a reflection type projection type liquid crystal display device shown in FIG. 4 includes a white light source 30 which is a light source, a polarization conversion element 90 which converts white light emitted from the white light source 30 into S-polarized light, and white light. A dichroic mirror 53 that separates light of different wavelengths, three reflective liquid crystal panels 64, 65, and 66 that reflect three lights of different wavelengths, and polarizers 91, 93, 95, and 96, polarization rotation elements 92, 94, 97, and 98 that rotate the polarization direction by 90 °, polarization beam splitters 101, 102, and 103 that selectively transmit and reflect the polarization components of each light, and the combined light on the screen 80. A projection lens 70 is provided as a projection optical system that forms an image on the top.

白色光源30からは、白色光源30に備えられたリフレクタ(楕円鏡)により略平行光に変換された白色光が出射される。白色光は、青色光(B)、緑色光(G)、赤色光(R)の3原色からなり、偏光変換素子90によりS偏光へと変換される。
緑反射赤青透過特性を有するダイクロイックミラー53に入射したRのS偏光、BのS偏光は、ダイクロイックミラー53のダイクロイック面を透過した後、偏光子91を透過しP偏光成分がほぼ完全にカットされ、RのS偏光、BのS偏光となる。なお、この位置に偏光子91を配置する理由は、偏光変換素子90による偏光の整流化が充分ではなく、偏光変換素子90を通過した時点での入射光には一部P偏光が含まれ、画像のコントラストを劣化させるため、偏光子91により偏光を揃えることでより高い画像のコントラストが得られることにある。RのS偏光とBのS偏光とはB光の偏光を回転させる偏光回転素子92に入射し、RのS偏光は変化せず、BのS偏光は偏光が回転してBのP偏光となる。
The white light source 30 emits white light converted into substantially parallel light by a reflector (elliptical mirror) provided in the white light source 30. White light consists of three primary colors of blue light (B), green light (G), and red light (R), and is converted into S-polarized light by the polarization conversion element 90.
The R S-polarized light and B S-polarized light incident on the dichroic mirror 53 having green reflection red-blue transmission characteristics are transmitted through the polarizer 91 after passing through the dichroic surface of the dichroic mirror 53, and the P-polarized component is cut almost completely. R-polarized light and B-polarized light. Note that the reason why the polarizer 91 is disposed at this position is that the polarization rectification by the polarization conversion element 90 is not sufficient, and the incident light at the time of passing through the polarization conversion element 90 partially includes P-polarized light. In order to degrade the contrast of the image, a higher image contrast can be obtained by aligning the polarization by the polarizer 91. The R S-polarized light and the B S-polarized light are incident on the polarization rotation element 92 that rotates the polarization of the B light, the R S-polarized light does not change, and the B S-polarized light is rotated by the rotation of the B-polarized light. Become.

第1のプリズムに相当する偏光ビームスプリッタ101に入射したRのS偏光はスプリッタ面である誘電体多層膜101aにより反射され、RのS偏光として反射型液晶パネル64に入射する。ここで、反射型液晶パネル64によって明るく表示させる光は、RのP偏光として反射され、暗く表示させる光はRのS偏光のまま反射される。明るく表示させる光であるRのP偏光は、再び偏光ビームスプリッタ101に入射し、今度はP偏光であるためスプリッタ面101aを透過する。   The R S-polarized light incident on the polarization beam splitter 101 corresponding to the first prism is reflected by the dielectric multilayer film 101a which is the splitter surface, and is incident on the reflective liquid crystal panel 64 as R S-polarized light. Here, light to be displayed brightly by the reflective liquid crystal panel 64 is reflected as R P-polarized light, and light to be displayed dark is reflected as R S-polarized light. The P-polarized light of R, which is light to be displayed brightly, is incident on the polarization beam splitter 101 again, and is transmitted through the splitter surface 101a because it is now P-polarized light.

一方、Bの偏光を回転させる偏光回転素子92を透過したBのP偏光は、偏光ビームスプリッタ101に入射し、スプリッタ面である誘電体多層膜101aを透過してBのP偏光としてBの反射型液晶パネル65に入射する。ここでBの反射型液晶パネル65により、明るく表示させる光は、BのS偏光として反射され、暗く表示させる光はBのP偏光のまま反射される。明るく表示させる光であるBのS偏光は、偏光ビームスプリッタ101に再度入射し、今度はS偏光であるため、スプリッタ面である誘電体多層膜101aにより反射され、BのS偏光となってRのP偏光と合成される。   On the other hand, the B P-polarized light that has passed through the polarization rotating element 92 that rotates the B-polarized light enters the polarization beam splitter 101, passes through the dielectric multilayer film 101a that is the splitter surface, and is reflected as B P-polarized light. Is incident on the liquid crystal panel 65. Here, light to be displayed brightly by the B reflection type liquid crystal panel 65 is reflected as S-polarized light of B, and light to be displayed dark is reflected as B P-polarized light. The S-polarized light of B, which is the light to be displayed brightly, is incident again on the polarization beam splitter 101 and is now S-polarized light. Of P-polarized light.

偏光ビームスプリッタ101によって合成されたRのP偏光とBのS偏光とは、B光の偏光を回転させる偏光回転素子94に入射し、RのP偏光は変化せずにRのP偏光となり、BのS偏光は偏光が回転してBのP偏光となる。R、B共にP偏光となった光は、次にP偏光を通過させるように配置された偏光子93に入射して、不要なS偏光の迷光がカットされ、高いコントラストを持つRのP偏光およびBのP偏光となる。
RのP偏光とBのP偏光とは第2のプリズムに相当する偏光ビームスプリッタ102に入射し、スプリッタ面102aを透過し、RのP偏光およびBのP偏光となる。
The R P-polarized light and the B S-polarized light synthesized by the polarization beam splitter 101 are incident on the polarization rotation element 94 that rotates the polarization of the B light, and the R P-polarized light does not change and becomes the R P-polarized light. The polarization of B S-polarized light is rotated to become B P-polarized light. The light that has become P-polarized in both R and B is then incident on a polarizer 93 that is arranged to pass P-polarized light, and unnecessary S-polarized stray light is cut, so that P-polarized light of R having high contrast is obtained. And B P-polarized light.
The R P-polarized light and the B P-polarized light enter the polarization beam splitter 102 corresponding to the second prism, pass through the splitter surface 102a, and become R P-polarized light and B P-polarized light.

また、Gの光については、白色光源30より出射したGの光は、偏光変換素子90によりGのS偏光に変換された後、緑反射赤青透過特性を有するダイクロイックミラー53により反射され、GのS偏光となって偏光子95に入射する。
ダイクロイックミラー53により反射されたGのS偏光が偏光子95に入射すると、P偏光成分がほぼ完全にカットされ、GのS偏光となり、第3のプリズムに相当する偏光ビームスプリッタ103に入射する。
偏光ビームスプリッタ103に入射したGのS偏光は、スプリッタ面である誘電体多層膜103aにより反射されGのS偏光となり、Gの反射型液晶パネル66に入射する。ここで明るく表示させる光はGのP偏光として反射され、再び偏光ビームスプリッタ103に入射し、今度はP偏光であるため、スプリッタ面である誘電体多層膜103aを透過する。
As for the G light, the G light emitted from the white light source 30 is converted into G S-polarized light by the polarization conversion element 90 and then reflected by the dichroic mirror 53 having green reflection red-blue transmission characteristics. The S-polarized light enters the polarizer 95.
When the G S-polarized light reflected by the dichroic mirror 53 is incident on the polarizer 95, the P-polarized component is almost completely cut to become the S-polarized G light and enters the polarizing beam splitter 103 corresponding to the third prism.
The G S-polarized light incident on the polarization beam splitter 103 is reflected by the dielectric multilayer film 103 a that is the splitter surface to become G S-polarized light, and is incident on the G reflective liquid crystal panel 66. The light to be displayed brightly is reflected as P-polarized light of G and enters the polarization beam splitter 103 again. Since it is now P-polarized light, it passes through the dielectric multilayer film 103a which is the splitter surface.

ここで、GのP偏光は、P偏光を透過させるように配置された偏光子96を透過した後、偏光回転素子97に入射して偏光が回転され、GのS偏光となる。
GのS偏光は、偏光ビームスプリッタ102に入射し、スプリッタ面102aで反射され、RのP偏光およびBのP偏光と合成される。
そして、RのP偏光、GのS偏光およびBのP偏光は、R光とB光の偏光を回転させる偏光回転素子98に入射し、GのS偏光は変化せず、RのP偏光とBのP偏光とは偏光が回転し、RのS偏光とBのS偏光とになる。したがって、偏光ビームスプリッタ102によって合成された映像光はR、G、B全てS偏光の成分を持ち、投写レンズ70によってスクリーン80に拡大投写される。投写レンズ70から出射する偏光面を全て同一のS偏光とすることにより、偏光スクリーンへの対応や、所定の偏光方向の光の入射が指定されている背面投写型スクリーンへの対応が可能である。
Here, the G P-polarized light passes through the polarizer 96 arranged to transmit the P-polarized light, and then enters the polarization rotating element 97 to rotate the polarized light to become G S-polarized light.
The G S-polarized light enters the polarization beam splitter 102, is reflected by the splitter surface 102a, and is combined with the R P-polarized light and the B P-polarized light.
Then, the R P-polarized light, the G S-polarized light, and the B P-polarized light enter the polarization rotating element 98 that rotates the polarized light of the R light and the B light, and the S polarized light of the G does not change, The polarization of the B P-polarized light is rotated to become the S-polarized light of R and the S-polarized light of B. Accordingly, the image light synthesized by the polarization beam splitter 102 has R, G, and B components that are all S-polarized components, and is enlarged and projected onto the screen 80 by the projection lens 70. By making all the polarization planes emitted from the projection lens 70 the same S-polarized light, it is possible to cope with a polarizing screen or a rear projection screen in which light of a predetermined polarization direction is specified. .

ここで、本実施の形態の偏光変換素子90や偏光子91,93,95,96においても、実施の形態1の偏光変換素子10と同様に、基板11の一方の面に溝部12を形成し、この溝部12が形成された面の頂部領域および底部領域のそれぞれにおいて、下地層13および下地層14を形成している。そのため、溝部12に金属等の遮光物質を充填して形成される遮光層15が、溝部12に密着して所定の形状に精度良く形成され、さらに平滑な表面形状で形成することができる。これにより、偏光変換素子10において優れた光学性能を安定して発揮することが可能となる。
特に、遮光層15を構成する遮光物質としてアルミニウム等の金属を用いることができるので、偏光変換素子10は、耐熱性に特に優れた特性を実現することができる。その際、遮光層15は基板11と一体に形成された溝部12に遮光物質が充填された構造を有しているので、遮光層15の破損が生じ難く、優れた光学性能を長期に亘って実現することができる。また、溝部12は基板11と一体成形され、遮光層15を溝部12の側面に対して十分に強く固定させているため、遮光層15を構成する溝部12に充填された遮光物質が、高温環境下で長時間使用しても基板11から剥離することが無いので、その点にからも高い耐熱性を実現している。
このような本実施の形態の偏光変換素子90や偏光子91,93,95,96の特性から、これらを液晶プロジェクタ2に適用することによって、長期間に亘る光照射を行っても熱による損傷もなく、安定して優れた光学性能を維持できるので、高品質の投影画像を得ることが可能となる。
Here, also in the polarization conversion element 90 and the polarizers 91, 93, 95, and 96 of the present embodiment, the groove portion 12 is formed on one surface of the substrate 11 as in the polarization conversion element 10 of the first embodiment. The base layer 13 and the base layer 14 are formed in each of the top region and the bottom region of the surface on which the groove 12 is formed. Therefore, the light shielding layer 15 formed by filling the groove portion 12 with a light shielding substance such as a metal can be formed in a predetermined shape with high accuracy in close contact with the groove portion 12, and can be formed with a smoother surface shape. Thereby, it is possible to stably exhibit excellent optical performance in the polarization conversion element 10.
In particular, since a metal such as aluminum can be used as the light shielding material constituting the light shielding layer 15, the polarization conversion element 10 can realize a particularly excellent characteristic in heat resistance. At this time, since the light shielding layer 15 has a structure in which the groove portion 12 formed integrally with the substrate 11 is filled with a light shielding material, the light shielding layer 15 is hardly damaged and has excellent optical performance over a long period of time. Can be realized. Further, since the groove portion 12 is integrally formed with the substrate 11 and the light shielding layer 15 is fixed sufficiently strongly with respect to the side surface of the groove portion 12, the light shielding material filled in the groove portion 12 constituting the light shielding layer 15 is in a high temperature environment. Since it does not peel off from the substrate 11 even if it is used for a long time under this, high heat resistance is also realized from that point.
Due to the characteristics of the polarization conversion element 90 and the polarizers 91, 93, 95, and 96 according to the present embodiment, by applying these to the liquid crystal projector 2, even if light irradiation is performed for a long time, damage due to heat is caused. In addition, since stable and excellent optical performance can be maintained, a high-quality projected image can be obtained.

本発明の活用例として、光伝送装置、光増幅装置等の各種光学装置、さらには透過方式または反射方式の投射型液晶表示装置等がある。   Examples of utilization of the present invention include various optical devices such as an optical transmission device and an optical amplification device, and a projection type liquid crystal display device of a transmission type or a reflection type.

透過方式の投射型液晶表示装置を説明する図である。It is a figure explaining a transmissive projection type liquid crystal display device. 偏光変換素子の構造を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the structure of a polarization conversion element. 偏光変換素子の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of a polarization conversion element. 反射方式の投射型液晶表示装置を説明する図である。It is a figure explaining a reflection type projection type liquid crystal display device. 従来のワイヤーグリッド型偏光変換素子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conventional wire grid type | mold polarization conversion element.

符号の説明Explanation of symbols

10,90…偏光変換素子、11…基板、12…溝部、13…下地層(頂部領域)、14…下地層(底部領域)、15…遮光層、16…反射防止膜、17…金属膜、21,22…インテグレータレンズ、23,24…リレーレンズ、25,26,27…コンデンサレンズ、30…白色光源、91,93,95,96…偏光子、41,42,43,44…ミラー、45…ダイクロイックプリズム、51,52,53…ダイクロイックミラー、61,62,63…透過型液晶パネル、64,65,66…反射型液晶パネル、70…投射レンズ、80…スクリーン、92,94,97,98…偏光回転素子、101,102,103…偏光ビームスプリッタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,90 ... Polarization conversion element, 11 ... Board | substrate, 12 ... Groove part, 13 ... Underlayer (top area), 14 ... Underlayer (bottom area), 15 ... Light shielding layer, 16 ... Antireflection film, 17 ... Metal film, 21, 22 ... Integrator lens, 23, 24 ... Relay lens, 25, 26, 27 ... Condenser lens, 30 ... White light source, 91, 93, 95, 96 ... Polarizer, 41, 42, 43, 44 ... Mirror, 45 ... Dichroic prism, 51, 52, 53 ... Dichroic mirror, 61, 62, 63 ... Transmission type liquid crystal panel, 64, 65, 66 ... Reflection type liquid crystal panel, 70 ... Projection lens, 80 ... Screen, 92, 94, 97, 98: Polarization rotating element, 101, 102, 103 ... Polarizing beam splitter

Claims (12)

所定の深さ及び幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板と、
前記基板の前記溝部が形成された面の頂部領域に形成された下地層と、
前記溝部内に当該溝部と略同一の幅で形成された遮光層と、
を有することを特徴とする偏光変換素子。
A substrate having a surface in which a plurality of linear grooves having a predetermined depth and width are formed in parallel with each other at equal intervals;
An underlayer formed in a top region of the surface of the substrate where the groove is formed;
A light shielding layer formed in the groove with a width substantially the same as the groove,
A polarization conversion element comprising:
前記遮光層は、前記溝部の深さ以下の厚さで形成されることを特徴とする請求項1記載の偏光変換素子。   The polarization conversion element according to claim 1, wherein the light shielding layer has a thickness equal to or less than a depth of the groove. 前記下地層は、前記遮光層よりも硬質な材料で形成されることを特徴とする請求項1記載の偏光変換素子。   The polarization conversion element according to claim 1, wherein the base layer is made of a material harder than the light shielding layer. 前記下地層は、SiO2、SiC、Si34により形成されることを特徴とする請求項1記載の偏光変換素子。 The polarization conversion element according to claim 1, wherein the underlayer is made of SiO 2 , SiC, or Si 3 N 4 . 前記遮光層は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金で形成されることを特徴とする請求項1記載の偏光変換素子。   The polarization conversion element according to claim 1, wherein the light shielding layer is formed of aluminum, an aluminum alloy, silver, or a silver alloy. 光透過性材料により形成された基板と、
前記基板の表面に等間隔で互いに平行に埋め込まれた直線状の金属グリッドと、
平行に埋め込まれた前記金属グリッドの間に形成された硬質層とを有し、
前記金属グリッドは、前記基板と直接接触する領域を有することを特徴とする偏光変換素子。
A substrate formed of a light transmissive material;
Linear metal grids embedded parallel to each other at equal intervals on the surface of the substrate;
A hard layer formed between the metal grids embedded in parallel,
The polarization conversion element, wherein the metal grid has a region in direct contact with the substrate.
前記金属グリッドは、配置密度が2.5〜10本/μmであることを特徴とする請求項6記載の偏光変換素子。   The polarization conversion element according to claim 6, wherein the metal grid has an arrangement density of 2.5 to 10 lines / μm. 所定の深さおよび幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板を形成する基板形成工程と、
前記基板形成工程により形成された前記基板の前記溝部が設けられた面上の頂部領域に下地層を形成する下地層形成工程と、
前記基板に形成された前記溝部の側面に直接接触させて充填され、かつ当該基板の表面上に所定の厚さを有する金属層を形成する金属層形成工程と、
前記金属層形成工程により形成された前記金属層を研磨し、前記溝部に充填された当該金属層を残して当該金属層を除去する研磨工程と
を有することを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
A substrate forming step of forming a substrate having a surface in which a plurality of linear grooves having a predetermined depth and width are parallel to each other and formed at equal intervals;
An underlayer forming step of forming an underlayer in a top region on the surface of the substrate provided with the groove portion formed by the substrate forming step;
A metal layer forming step of forming a metal layer that is filled in direct contact with the side surface of the groove formed in the substrate and has a predetermined thickness on the surface of the substrate;
Polishing the metal layer formed in the metal layer forming step, and removing the metal layer while leaving the metal layer filled in the groove portion. .
前記下地層形成工程は、前記基板の前記溝部が設けられた面上に、気相法により硬質材料からなる前記下地層を成膜することを特徴とする請求項8記載の偏光変換素子の製造方法。   The said base layer formation process forms the said base layer which consists of hard materials with a vapor phase method on the surface in which the said groove part of the said board | substrate was provided, The manufacture of the polarization converting element of Claim 8 characterized by the above-mentioned. Method. 前記金属層形成工程は、前記基板の前記溝部が設けられた面上に、気相法により遮光物質からなる前記金属層を成膜することを特徴とする請求項8記載の偏光変換素子の製造方法。   The said metal layer formation process forms the said metal layer which consists of a light-shielding substance by a vapor phase method on the surface in which the said groove part of the said board | substrate was provided, The manufacture of the polarization conversion element of Claim 8 characterized by the above-mentioned. Method. 光源と、
前記光源からの光を偏光分離する偏光変換素子と、
前記偏光変換素子により偏光された光を透過または反射する液晶表示素子と、
前記液晶表示素子を透過または反射した光をスクリーンに投射する投射光学系とを備え、
前記偏光変換素子は、
所定の深さ及び幅を有する多数の直線状の溝部が、互いに平行で等間隔に形成された面を備えた基板と、
前記基板の前記溝部が形成された面の頂部領域に形成された下地層と、
前記溝部内に当該溝部と略同一の幅で形成された遮光層と、
を有することを特徴とする投射型液晶表示装置。
A light source;
A polarization conversion element that polarizes and separates light from the light source;
A liquid crystal display element that transmits or reflects light polarized by the polarization conversion element;
A projection optical system that projects light transmitted or reflected by the liquid crystal display element onto a screen;
The polarization conversion element is:
A substrate having a surface in which a plurality of linear grooves having a predetermined depth and width are formed in parallel with each other at equal intervals;
An underlayer formed in a top region of the surface of the substrate where the groove is formed;
A light shielding layer formed in the groove with a width substantially the same as the groove,
A projection type liquid crystal display device comprising:
前記偏光変換素子は、前記下地層が前記遮光層よりも硬質な材料で形成されることを特徴とする請求項11記載の投射型液晶表示装置。   12. The projection type liquid crystal display device according to claim 11, wherein the polarization conversion element is formed of a material whose base layer is harder than the light shielding layer.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1844356A1 (en) * 2005-06-13 2007-10-17 LG Chem, Ltd. Method of patterning conductive layers, method of manufacturing polarizers, and polarizers manufactured using the same
JP2008090238A (en) * 2006-10-05 2008-04-17 Asahi Kasei Corp Wire grid polarizing plate and method of manufacturing the same
JP2008181112A (en) * 2006-12-26 2008-08-07 Toray Ind Inc Reflection type polarizer, method of manufacturing the same and liquid crystal display device using the same
JP2009080387A (en) * 2007-09-27 2009-04-16 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, projection-type display device and manufacturing method for the liquid crystal device
JP2009109636A (en) * 2007-10-29 2009-05-21 Sony Corp Polarizing plate and method of manufacturing polarizing plate, and liquid crystal projector
JP2009157071A (en) * 2007-12-26 2009-07-16 Cheil Industries Inc Wire grid polarizer and its manufacturing method
EP2096472A1 (en) * 2006-12-05 2009-09-02 Nippon Oil Corporation Wire grid polarizer and method for manufacturing the wire grid polarizer, and phase difference film and liquid crystal display element using the wire grid polarizer
JP2009237473A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Konica Minolta Opto Inc Polarizer manufacturing method
WO2010005059A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 旭硝子株式会社 Wire grid type polarizer, and method for manufacturing the polarizer
JP2011191766A (en) * 2005-06-13 2011-09-29 Lg Chem Ltd Method for patterning conductive layer, method for manufacturing polarizing element using the same, and polarizing element manufactured by the method
US8445058B2 (en) 2008-04-08 2013-05-21 Asahi Glass Company, Limited Process for producing wire-grid polarizer

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008529053A (en) * 2005-06-13 2008-07-31 エルジー・ケム・リミテッド Conductive layer patterning method, polarizing element manufacturing method using the same, and polarizing element manufactured by the method
JP2011191766A (en) * 2005-06-13 2011-09-29 Lg Chem Ltd Method for patterning conductive layer, method for manufacturing polarizing element using the same, and polarizing element manufactured by the method
EP1844356A1 (en) * 2005-06-13 2007-10-17 LG Chem, Ltd. Method of patterning conductive layers, method of manufacturing polarizers, and polarizers manufactured using the same
EP1844356A4 (en) * 2005-06-13 2010-07-21 Lg Chemical Ltd Method of patterning conductive layers, method of manufacturing polarizers, and polarizers manufactured using the same
JP2008090238A (en) * 2006-10-05 2008-04-17 Asahi Kasei Corp Wire grid polarizing plate and method of manufacturing the same
EP2096472A4 (en) * 2006-12-05 2010-07-21 Nippon Oil Corp Wire grid polarizer and method for manufacturing the wire grid polarizer, and phase difference film and liquid crystal display element using the wire grid polarizer
EP2096472A1 (en) * 2006-12-05 2009-09-02 Nippon Oil Corporation Wire grid polarizer and method for manufacturing the wire grid polarizer, and phase difference film and liquid crystal display element using the wire grid polarizer
JP2008181112A (en) * 2006-12-26 2008-08-07 Toray Ind Inc Reflection type polarizer, method of manufacturing the same and liquid crystal display device using the same
JP2009080387A (en) * 2007-09-27 2009-04-16 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, projection-type display device and manufacturing method for the liquid crystal device
JP4507126B2 (en) * 2007-10-29 2010-07-21 ソニー株式会社 Manufacturing method of polarizing plate
JP2009109636A (en) * 2007-10-29 2009-05-21 Sony Corp Polarizing plate and method of manufacturing polarizing plate, and liquid crystal projector
JP2009157071A (en) * 2007-12-26 2009-07-16 Cheil Industries Inc Wire grid polarizer and its manufacturing method
JP2009237473A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Konica Minolta Opto Inc Polarizer manufacturing method
US8445058B2 (en) 2008-04-08 2013-05-21 Asahi Glass Company, Limited Process for producing wire-grid polarizer
WO2010005059A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 旭硝子株式会社 Wire grid type polarizer, and method for manufacturing the polarizer
JP5459210B2 (en) * 2008-07-10 2014-04-02 旭硝子株式会社 Wire grid polarizer and method of manufacturing the same

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