JP2005148481A - Optical waveguide package and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光通信用の光分岐器等に適用される光導波路パッケージと、その製造方法に関する。 The present invention relates to an optical waveguide package applied to an optical branching device for optical communication, and a method for manufacturing the same.
導波路デバイスとファイバアレイとを接着してなる光導波路結合体を備えた光パッケージにおいて、温度サイクル試験などの環境試験を行なったときに、光パワーの変動量が許容値(変動幅:0.4dB)を越え、光特性が悪化することがある。また、導波路デバイスとファイバアレイとの接着部が剥離し、所望の光特性が得られないこともある。 In an optical package including an optical waveguide assembly formed by bonding a waveguide device and a fiber array, when an environmental test such as a temperature cycle test is performed, the fluctuation amount of the optical power is an allowable value (variation width: 0. 0). 4 dB), and the optical characteristics may deteriorate. In addition, the bonded portion between the waveguide device and the fiber array may peel off, and desired optical characteristics may not be obtained.
このような光導波路結合体の接着部を剥離しにくくするために、例えば下記特許文献1に記載されているように、接着面にシランカップリング処理を行なうことにより、接着強度を高めることも知られている。 In order to make it difficult to peel off the bonded portion of such an optical waveguide assembly, it is also known to increase the bonding strength by performing a silane coupling treatment on the bonding surface, for example, as described in Patent Document 1 below. It has been.
しかし、光導波路結合体の接着部の強度を高めただけでは、光パワーの変動量を小さくすることができない。光パワーが変動する原因について鋭意研究したところ、光導波路を形成する際に基板等に生じたうねりによって、光導波路とカバーガラスとの間の接着剤層の厚さがばらつき、光パワーの変動量に影響を与えていることが判った。 However, the amount of fluctuation in optical power cannot be reduced simply by increasing the strength of the bonded portion of the optical waveguide assembly. As a result of diligent research on the cause of fluctuations in optical power, the thickness of the adhesive layer between the optical waveguide and the cover glass varies due to the undulations that occur on the substrate when forming the optical waveguide, and the amount of fluctuation in optical power. It has been found that it has an influence.
例えば図14に模式的に示す従来の導波路集合体1は、基板2上に、コア3とクラッド層4が、CVD等の成膜プロセスによって形成されている。この基板2は、成膜時に生じる応力や、該応力を緩和させるための熱処理によって、うねりが生じている。うねりの曲半径Rは5〜20mである。
For example, in a conventional waveguide assembly 1 schematically shown in FIG. 14, a core 3 and a cladding layer 4 are formed on a
基板2上には同一パターンのコア3と、これらのコア3を覆うクラッド層4によって、多数の光導波路5が形成され、クラッド層4の上に接着剤層6を介してカバーガラス7が接着されている。この導波路集合体1を、図14に2点鎖線で示す位置で切断することにより、1個ずつに分割された導波路デバイスが得られる。
A large number of optical waveguides 5 are formed on the
しかしながら、上記導波路集合体1のように基板2にうねりが生じていると、うねりの谷に位置する接着剤層6の厚さt1が、うねりの山に位置する接着剤層6の厚さt2よりも大となる。このような理由から、個々の導波路デバイスの接着剤層6の厚さが数μm〜100μmの範囲でばらつく。ここで接着剤層6の厚さが、あるレベルを超えると、光パワーの変動量が許容値を超えることが判った。
従ってこの発明の目的は、光パワーの変動量が小さい光導波路パッケージと、その製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical waveguide package with a small amount of fluctuation in optical power and a method for manufacturing the same.
本発明は、光導波路が形成された導波路デバイスと、該導波路デバイスの端面に接合されたファイバアレイと、を有する光導波路パッケージであって、前記導波路デバイスは、第1の基板と、前記第1の基板上に形成されたコアと、前記コアを覆うクラッド層と、該クラッド層に重ねる第1のカバーガラスと、前記第1のカバーガラスと前記クラッド層とを接着する第1の接着剤層と、を有し、前記ファイバアレイは、第2の基板と、前記第2の基板に固定された光ファイバと、前記第2の基板に重ねる第2のカバーガラスと、前記第2の基板と前記第2のカバーガラスとを接着する第2の接着剤層と、を有し、前記第1の接着剤層の厚さが10〜50μm、より好ましくは15〜50μmである。 The present invention is an optical waveguide package having a waveguide device in which an optical waveguide is formed, and a fiber array bonded to an end face of the waveguide device, the waveguide device comprising: a first substrate; A core formed on the first substrate; a clad layer covering the core; a first cover glass overlaid on the clad layer; and a first cover glass and the clad layer that are bonded to each other. An adhesive layer, and the fiber array includes a second substrate, an optical fiber fixed to the second substrate, a second cover glass overlaid on the second substrate, and the second substrate. A second adhesive layer that adheres the substrate and the second cover glass, and the thickness of the first adhesive layer is 10 to 50 μm, more preferably 15 to 50 μm.
この発明の好ましい形態では、前記第2の接着剤層の厚さが10〜50μm、より好ましくは15〜50μmである。また、前記光導波路が形成された前記第1の基板が、曲率半径5〜20mのうねりを有している。 In a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the second adhesive layer is 10 to 50 μm, more preferably 15 to 50 μm. Further, the first substrate on which the optical waveguide is formed has undulations with a radius of curvature of 5 to 20 m.
第1の観点に基く本発明の光導波路パッケージの製造方法は、1枚の基板上に同一パターンの複数の光導波路を等ピッチで形成することにより導波路集合体を得る工程と、前記導波路集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより1つの光導波路を含む分割片を得る工程と、前記分割片の光導波路上に厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介してカバーガラスを接着することにより導波路デバイスを得る工程と、を具備している。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical waveguide package according to the present invention, comprising: obtaining a waveguide assembly by forming a plurality of optical waveguides having the same pattern on a single substrate at an equal pitch; A step of obtaining a split piece including one optical waveguide by cutting the assembly between adjacent optical waveguides, and a photocurable adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm on the optical waveguide of the split piece. And obtaining a waveguide device by adhering a cover glass.
第2の観点に基く本発明の光導波路パッケージの製造方法は、1枚の基板上に同一パターンの複数の光導波路を等ピッチで形成することにより導波路集合体を得る工程と、前記導波路集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、前記導波路集合体に含まれる光導波路の数よりも少ない数の光導波路を含む分割片を得る工程と、前記分割片の光導波路上に厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介してカバーガラスを接着することにより導波路デバイス集合体を得る工程と、前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、を具備している。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical waveguide package according to the present invention, comprising: obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides having the same pattern on a single substrate at an equal pitch; Cutting the aggregate between adjacent optical waveguides to obtain a split piece including a smaller number of optical waveguides than the number of optical waveguides included in the waveguide aggregate; and on the optical waveguides of the split pieces A step of obtaining a waveguide device assembly by adhering a cover glass via a photo-curing adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm, and cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides Thus, a step of obtaining one waveguide device divided by one is provided.
第3の観点に基く本発明の光導波路パッケージの製造方法は、1枚の基板上に同一パターンの複数の光導波路を等ピッチで形成することにより導波路集合体を得る工程と、前記導波路集合体の基板のうねりに対応した曲面を有するカバーガラスを、厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介して前記導波路集合体の光導波路に接着することにより導波路デバイス集合体を得る工程と、前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、を具備している。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical waveguide package according to the present invention, comprising: obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides having the same pattern on a single substrate at an equal pitch; A waveguide device assembly is formed by adhering a cover glass having a curved surface corresponding to the undulation of the substrate of the assembly to the optical waveguide of the waveguide assembly via a photo-curing adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm. And a step of obtaining waveguide devices divided into one by cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides.
第4の観点に基く本発明の光導波路パッケージの製造方法は、1枚の基板上に同一パターンの複数の光導波路を等ピッチで形成することにより導波路集合体を得る工程と、前記導波路集合体の光導波路上に光硬化形の接着剤を間に挟んで平坦なカバーガラスを重ね、かつ、この導波路集合体の基板のうねりに対応した曲面を有する台座上に、この導波路集合体を乗せる工程と、前記カバーガラスの上から荷重をかけ、かつ、前記接着剤を硬化させることにより、厚さ10〜50μmの接着剤層を介して前記導波路集合体と前記カバーガラスとを接着してなる導波路デバイス集合体を得る工程と、前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、を具備している。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical waveguide package according to the present invention, comprising: obtaining a waveguide assembly by forming a plurality of optical waveguides having the same pattern on a single substrate at an equal pitch; On the pedestal having a curved surface corresponding to the undulation of the substrate of the waveguide assembly, a flat cover glass is laminated on the optical waveguide of the assembly with a photo-curing adhesive interposed therebetween. The waveguide assembly and the cover glass through the adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm by applying a load from above the cover glass and curing the adhesive. A step of obtaining a waveguide device assembly formed by bonding, and a step of obtaining a waveguide device divided into one by cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides. ing
本発明の光導波路パッケージによれば、温度変化による光パワーの変動量を小さくすることができるため光特性が良好となり、しかも温度変化による接着部の剥離を防止することができる。 According to the optical waveguide package of the present invention, the amount of fluctuation of the optical power due to temperature change can be reduced, so that the optical characteristics are improved, and peeling of the bonded portion due to temperature change can be prevented.
本発明の光導波路パッケージの製造方法によれば、光導波路の基板にうねりが生じていても、接着剤層を望ましい厚さにすることができ、温度変化による光パワーの変動量を小さくすることができる。 According to the method for manufacturing an optical waveguide package of the present invention, the adhesive layer can be made to have a desired thickness even when the substrate of the optical waveguide is wavy, and the fluctuation amount of optical power due to temperature change can be reduced. Can do.
以下に本発明の一実施形態について、図1から図9を参照して説明する。
図1に示す光導波路パッケージ10は、ハウジング11と、ハウジング11の内部に収容される光導波路結合体12とを備えている。ハウジング11は、例えば合成樹脂からなるハウジング本体11aと、蓋11bとを含んでいる。ハウジング本体11aと蓋11bは金属を機械加工したものであってもよい。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
An
ハウジング本体11aに、光導波路結合体12を収容することのできる大きさの凹部からなる結合体収容部15が形成されている。蓋11bは結合体収容部15を覆うようにしてハウジング本体11aに重ね合わされ、接着剤等によってハウジング本体11aに固定される。
The housing main body 11a is formed with a coupling
図2に示されるように光導波路結合体12は、光導波路19が形成された導波路デバイス20と、導波路デバイス20の一端に接合された第1のファイバアレイ21と、導波路デバイス20の他端に接合された第2のファイバアレイ22とを含んでいる。光導波路19は、単芯の導波路コア19aから多芯の導波路コア19bが分岐するように形成され、単芯の導波路コア19aから入射した光を、多芯の導波路コア19bに均等に分配させることができるようになっている。
As shown in FIG. 2, the
図3に示されるように、ハウジング本体11aの内部に、封止材25がほぼ隙間無く充填される。この封止材25がハウジング11の内部で硬化することによって、光導波路結合体12がハウジング本体11a内の所定位置に封止される。この封止材25によって、ハウジング11の外部の温度変化や振動の影響等が光導波路結合体12に及ぶことが緩和される。
As shown in FIG. 3, the
図4に導波路デバイス20の一部が示されている。導波路デバイス20は、石英ガラスウェハなどからなる第1の基板30と、該基板30上に形成された前記コア19a,19bと、コア19a,19bを覆うクラッド層31と、第1の接着剤層32と、第1のカバーガラス33とを備えている。コア19a,19bは、CVD等の成膜プロセスと、RIE等のエッチングを経て所定形状にパターニングされている。
A portion of the
カバーガラス33は、光導波路19を保護し、かつ、導波路デバイス20をファイバアレイ21,22に接合する際に両者の接着面積を大きくするために用いられている。
The
第1の接着剤層32は、例えばアクリル系などのラジカル硬化型紫外線硬化性樹脂からなり、クラッド層31とカバーガラス33とを互いに固定している。この接着剤層32は例えばエポキシ系などのカチオン硬化型の紫外線硬化性樹脂であってもよい。第1の接着剤層32の厚さT1は、後述する理由により、10〜50μmに調整されている。
The first
光導波路19の屈折率は、基板30とクラッド層31のそれぞれの屈折率よりも0.1〜数%高い。クラッド層31の屈折率は石英ガラスと同等である。なお、基板30にシリコンウェハを用いる場合には、光導波路19を形成する前に、光導波路19よりも屈折率の低い下部クラッド層を基板30上に形成し、この下部クラッド層の上にコア19a,19bを形成する。
The refractive index of the
図6は、接着剤層32の厚さを種々に変えて、[−40℃〜+85℃]の温度範囲で温度サイクル負荷を与えたときの損失変動幅を測定した結果を示している。この図6に示されるように、接着剤層32の厚さT1が50μm以下であれば、光パワーの変動量(損失変動幅)が許容値の0.4dB以内に収まることが判った。接着面にシランカップリング処理を行なっても、光パワー変動量はほとんど改善されなかった。
FIG. 6 shows the result of measuring the loss fluctuation width when the thickness of the
接着剤層32の厚さT1が10μm未満の場合、温度が20℃から85℃に変化したときに接着面が剥離してしまうことがあり、[−40℃〜+85℃]の温度サイクルに接着面が耐えることができないことがあった。接着剤層32の厚さT1が10μm以上であれば、このような問題が生じなかった。
When the thickness T1 of the
接着剤層32の厚さが15〜50μmであれば、85℃85RHの雰囲気中で行なわれる高温高湿保管試験において、規定時間経過後の光パワーが試験前の値の±0.2dB以内に収まることが確認された。このような理由から、接着剤層32の厚さT1は10〜50μm、より好ましくは15〜50μmの範囲とする。
When the thickness of the
第1のファイバアレイ21に単芯の光ファイバ部材40が取付けられている。この光ファイバ部材40は、1本の光ファイバ41と、光ファイバ41を覆う被覆材42などによって構成されている。光ファイバ部材40の被覆部40a(被覆材42で覆われている部位)が、接着剤43によってファイバアレイ21の基板51に固定される。
A single-core
図4に示すように第1のファイバアレイ21は、V溝50が形成された第2の基板51と、第2のカバーガラス52と、第2の接着剤層53とを有している。この接着剤層53によって、第2の基板51とカバーガラス52とが互いに固定されている。第2の接着剤層53の厚さT2は、第1の接着剤層32と同様の理由により、10〜50μm、好ましくは15〜50μmとしている。光ファイバ41は、基板51に形成されたV溝50によって位置決めがなされ、接着剤層53によって基板51に固定されている。
As shown in FIG. 4, the
このように構成された第1のファイバアレイ21が、透光性を有する光硬化形接着剤によって、導波路デバイス20の一方の端面に接合されている。図1,2中の符号L1はその接合部を示している。光ファイバ41の先端面は、導波路デバイス20の前記導波路コア19aに光学的に接続されている。
The
図1,図2,図5に示されるように、第2のファイバアレイ22は、第2の基板55と、第2のカバーガラス56と、第2の接着剤層57と、多芯の光ファイバ部材60とを有している。第2の基板55には、例えば8つのV溝50´が互いに平行に形成されている。
As shown in FIGS. 1, 2 and 5, the
多芯の光ファイバ部材60は、互いに平行に配置された複数(例えば8本)の光ファイバ61と、これら光ファイバ61を覆う被覆材62とによって構成されている。図5に示されるように、光ファイバ61の先端部を基板55のV溝50´に収容することにより、光ファイバ61の位置決めがなされる。
The multi-core
基板55とカバーガラス56と光ファイバ61は、第2の接着剤層57によって互いに固定されている。第2の接着剤層57は第1の接着剤層32と同様の光硬化形の接着剤からなり、その厚さT2は、第1の接着剤層32と同様の理由により、10〜50μm、好ましくは15〜50μmに調整されている。光ファイバ部材60の被覆部60a(被覆材62で覆われている部位)は、第2の接着剤層57よりも柔らかい接着剤63によって第2の基板55に固定される。
The
このように構成された第2のファイバアレイ22は、導波路デバイス20の他方の端面に、透光性を有する光硬化形の接着剤によって接合されている。図1,2中の符号L2はその接合部を示している。各光ファイバ61の端面は、それぞれ導波路デバイス20の各導波路コア19bに光学的に接続されている。
The
光導波路結合体12は、図3に示すようにハウジング本体11aに収容される。ハウジング本体11aの両端部、すなわち結合体収容部15の一端側と他端側に、それぞれガイド部材収容部70,71が形成されている。ハウジング本体11aの底と光導波路結合体12との間に、光導波路結合体12の位置決めをなすためのスペーサ72(図1に示す)を設けてもよい。
The
一方のガイド部材収容部70に第1の弾性ガイド部材81が収容されている。この弾性ガイド部材81は、例えばシリコーン等のゴム弾性を有する材料からなる。この弾性ガイド部材81には、単芯の光ファイバ部材40を通すことのできるファイバ挿通孔85と、光ファイバ部材40を周面側からファイバ挿通孔85に挿入することの可能な切込み86が形成されている。
A first
第1の弾性ガイド部材81の端部87は、ハウジング11の一端側の開口88から外側に突出するようになっている。この端部87は、先端に向かって細くなるテーパ形状(例えば円錐台形状)をなしている。
An
他方のガイド部材収容部71に第2の弾性ガイド部材92が収容されている。この弾性ガイド部材92は、第1の弾性ガイド部材81と同様の材料からなる。図1に示すように第2の弾性ガイド部材92には、テープ状の光ファイバ部材60を挿通することができるファイバ挿通孔95と、光ファイバ部材60を弾性ガイド部材92の周面側からファイバ挿通孔95に挿入することの可能な切込み96が形成されている。
A second
第2の弾性ガイド部材92の端部97は、ハウジング11の他端側の開口98から外側に突出するようになっている。この端部97は、先端に向かって細くなるテーパ形状をなしている。
An
次に、上記導波路デバイス20の製造工程の第1の実施形態について、図7〜図9を参照して説明する。
図7に模式的に示すように、1枚の基板30上に同一パターンの複数の光導波路19を等ピッチで形成することにより、導波路集合体100を得る。この導波路集合体100の成膜時に生じた応力を緩和させるために、1000℃程度の温度で熱処理が行なわれる。この導波路集合体100には、光導波路19の成膜時に生じた応力、あるいは前記熱処理によって、うねりが生じている。うねりの曲率半径Rは5〜20mである。
Next, a first embodiment of the manufacturing process of the
As schematically shown in FIG. 7, a plurality of
この導波路集合体100を、例えば図7に2点鎖線で示すように互いに隣り合う光導波路19間で切断することにより、導波路集合体100よりも数の少ない(1〜5個程度)の光導波路19を含む分割片100a(図8)を得る。
By cutting this
前記分割片100aとカバーガラス33との間に光硬化形の液状接着剤を供給し、紫外線を照射することにより、接着剤を硬化させる。接着剤層32の厚さは10〜50μmにコントロールされる。この接着剤層32によって、カバーガラス33がクラッド層31に固定される。分割片100aが1個の光導波路19のみを含む場合には、分割片100aにカバーガラス33を接着したのち、光の入射面と出射面を研磨する。
A photocurable liquid adhesive is supplied between the divided piece 100a and the
図9に示すように2個以上の光導波路19を含む分割片100aの場合には、分割片100aにカバーガラス33を接着してなる導波路デバイス集合体20´を、2点鎖線で示す位置で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイス20を得る。そののち、導波路デバイス20の光の入射面と出射面を研磨する。
As shown in FIG. 9, in the case of a split piece 100a including two or more
このように、1個もしくは数個の光導波路19を含む分割片100aごとに、平坦なカバーガラス33を接着剤層32によって接着する。こうすることで、接着剤層32の厚さがばらつくことを抑制することができ、接着剤層32の厚さT1を10〜50μmの範囲にコントロールすることができる。図7に示すように、うねりの曲率半径Rが5〜20mの場合、複数個の光導波路19の総長さが22mm程度であれば、接着剤層32の厚さT1を50μm以下にすることができる。
As described above, the
上記の工程によって得られた導波路デバイス20に、ファイバアレイ21,22を接合する。例えば、調芯機を用いて、導波路デバイス20の導波路コア19a,19bとファイバアレイ21,22との位置決めを行ったのち、導波路デバイス20の端面にファイバアレイ21,22を接着剤によって接合する。
The
以下に、導波路デバイス20の製造方法の第2の実施形態について、図10と図11を参照して説明する。
図10に模式的に示すように、1枚の基板30上に同一パターンの複数の光導波路19を等ピッチで形成することにより、導波路集合体100を得る。本実施形態では、導波路集合体100のうねりに応じた湾曲面33aを有するカバーガラス33が使用される。
Below, 2nd Embodiment of the manufacturing method of the
As schematically shown in FIG. 10, a plurality of
図11に示すように、導波路集合体100に接着剤層32を介してカバーガラス33を接着することにより、複数の光導波路19を含む導波路デバイス集合体20´を得る。そののち、この導波路デバイス集合体20´を、図11に2点鎖線で示す位置で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイス20を得る。
As shown in FIG. 11, a
この第2の実施形態のように、導波路集合体100のうねりに対応した湾曲面33aを有するカバーガラス33を重ねることによっても、接着剤層32の厚さのばらつきを小さくすることができ、接着剤層32の厚さを10〜50μmの範囲にコントロールすることができる。
As in the second embodiment, the thickness variation of the
以下に、導波路デバイス20の製造方法の第3の実施形態について、図12と図13を参照して説明する。
前記第2の実施形態と同様に、1枚の基板30上に同一パターンの複数の光導波路19を等ピッチで形成することにより、導波路集合体100を得る。本実施形態では、導波路集合体100のうねりに応じた湾曲面110aを有する台座110と、平坦なカバーガラス33を用いる。
Below, 3rd Embodiment of the manufacturing method of the
Similar to the second embodiment, a plurality of
図13に示されるように、曲面110aを有する台座110上に、該導波路集合体100を乗せ、カバーガラス33の上から押圧部材111によって荷重をかけ、接着剤層32を介して導波路集合体100とカバーガラス33とを接着することにより、導波路デバイス集合体20´を得る。接着剤層32の厚さT1は、10〜50μm、さらに好ましくは15〜50μmである。この導波路デバイス集合体20´を、互いに隣り合う光導波路19間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイス20を得る。
As shown in FIG. 13, the
この第3の実施形態のように、湾曲面110aを有する台座110を用い、カバーガラス33に荷重をかけることによっても、接着剤層32の厚さを10〜50μmの範囲にコントロールすることが可能である。
As in the third embodiment, the thickness of the
なお、この発明を実施するに当たり、導波路デバイスを構成する第1の基板、コア、クラッド層、第1のカバーガラス、第1の接着剤層や、ファイバアレイを構成する第2の基板、光ファイバ、第2のカバーガラス、第2の接着剤層などの構成要素を、この発明の要旨を逸脱しない範囲で種々に変更して実施できることは言うまでもない。 In carrying out this invention, the first substrate constituting the waveguide device, the core, the clad layer, the first cover glass, the first adhesive layer, the second substrate constituting the fiber array, the light It goes without saying that the constituent elements such as the fiber, the second cover glass, and the second adhesive layer can be variously changed without departing from the gist of the present invention.
10…光導波路パッケージ
12…光導波路結合体
19…光導波路
20…導波路デバイス
20´…導波路デバイス集合体
21,22…ファイバアレイ
30…第1の基板
31…クラッド層
32…第1の接着剤層
33…第1のカバーガラス
41…光ファイバ
51…第2の基板
52…第2のカバーガラス
53…第2の接着剤層
55…第2の基板
56…第2のカバーガラス
57…第2の接着剤層
61…光ファイバ
100…導波路集合体
100a…分割片
110…台座
DESCRIPTION OF
Claims (7)
該導波路デバイスの端面に接合されたファイバアレイと、
を有する光導波路パッケージであって、
前記導波路デバイスは、
第1の基板と、
前記第1の基板上に形成されたコアと、
前記コアを覆うクラッド層と、
該クラッド層に重ねる第1のカバーガラスと、
前記第1のカバーガラスと前記クラッド層とを接着する第1の接着剤層と、
を有し、
前記ファイバアレイは、
第2の基板と、
前記第2の基板に固定された光ファイバと、
前記第2の基板に重ねる第2のカバーガラスと、
前記第2の基板と前記第2のカバーガラスとを接着する第2の接着剤層と、
を有し、
前記第1の接着剤層の厚さが10〜50μmであることを特徴とする光導波路パッケージ。 A waveguide device in which an optical waveguide is formed;
A fiber array bonded to the end face of the waveguide device;
An optical waveguide package comprising:
The waveguide device is:
A first substrate;
A core formed on the first substrate;
A cladding layer covering the core;
A first cover glass overlaid on the cladding layer;
A first adhesive layer that bonds the first cover glass and the cladding layer;
Have
The fiber array is
A second substrate;
An optical fiber fixed to the second substrate;
A second cover glass overlaid on the second substrate;
A second adhesive layer for bonding the second substrate and the second cover glass;
Have
An optical waveguide package, wherein the first adhesive layer has a thickness of 10 to 50 μm.
前記導波路集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより1つの光導波路を含む分割片を得る工程と、
前記分割片の光導波路上に厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介してカバーガラスを接着することにより導波路デバイスを得る工程と、
を具備したことを特徴とする光導波路パッケージの製造方法。 Obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides of the same pattern on a single substrate at an equal pitch; and
Obtaining a split piece including one optical waveguide by cutting the waveguide aggregate between adjacent optical waveguides;
A step of obtaining a waveguide device by adhering a cover glass on the optical waveguide of the divided piece via a photocurable adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm;
An optical waveguide package manufacturing method characterized by comprising:
前記導波路集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、前記導波路集合体に含まれる光導波路の数よりも少ない数の光導波路を含む分割片を得る工程と、
前記分割片の光導波路上に厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介してカバーガラスを接着することにより導波路デバイス集合体を得る工程と、
前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、
を具備したことを特徴とする光導波路パッケージの製造方法。 Obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides of the same pattern on a single substrate at an equal pitch; and
Cutting the waveguide assembly between adjacent optical waveguides to obtain a split piece including a smaller number of optical waveguides than the number of optical waveguides included in the waveguide assembly;
A step of obtaining a waveguide device assembly by adhering a cover glass on the optical waveguide of the divided piece via a photocurable adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm;
Cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides to obtain a waveguide device divided into one piece;
An optical waveguide package manufacturing method characterized by comprising:
前記導波路集合体の基板のうねりに対応した曲面を有するカバーガラスを、厚さ10〜50μmの光硬化形の接着剤層を介して前記導波路集合体の光導波路に接着することにより導波路デバイス集合体を得る工程と、
前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、
を具備したことを特徴とする光導波路パッケージの製造方法。 Obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides of the same pattern on a single substrate at an equal pitch; and
A waveguide is formed by adhering a cover glass having a curved surface corresponding to the undulation of the substrate of the waveguide assembly to the optical waveguide of the waveguide assembly through a photo-curing adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm. Obtaining a device aggregate;
Cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides to obtain a waveguide device divided into one piece;
An optical waveguide package manufacturing method characterized by comprising:
前記導波路集合体の光導波路上に光硬化形の接着剤を間に挟んで平坦なカバーガラスを重ね、かつ、この導波路集合体の基板のうねりに対応した曲面を有する台座上に、この導波路集合体を乗せる工程と、
前記カバーガラスの上から荷重をかけ、かつ、前記接着剤を硬化させることにより、厚さ10〜50μmの接着剤層を介して前記導波路集合体と前記カバーガラスとを接着してなる導波路デバイス集合体を得る工程と、
前記導波路デバイス集合体を互いに隣り合う光導波路間で切断することにより、1個ずつに分かれた導波路デバイスを得る工程と、
を具備したことを特徴とする光導波路パッケージの製造方法。 Obtaining a waveguide aggregate by forming a plurality of optical waveguides of the same pattern on a single substrate at an equal pitch; and
On the pedestal having a curved surface corresponding to the undulation of the substrate of the waveguide assembly, a flat cover glass is laminated on the optical waveguide of the waveguide assembly with a photocurable adhesive interposed therebetween. A step of placing the waveguide assembly;
A waveguide formed by adhering the waveguide assembly and the cover glass through an adhesive layer having a thickness of 10 to 50 μm by applying a load from above the cover glass and curing the adhesive. Obtaining a device aggregate;
Cutting the waveguide device assembly between adjacent optical waveguides to obtain a waveguide device divided into one piece;
An optical waveguide package manufacturing method characterized by comprising:
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CN103995334A (en) * | 2014-06-10 | 2014-08-20 | 科纳技术(苏州)有限公司 | Miniaturization multi-channel sealing optical fiber splitter |
CN112859238A (en) * | 2021-02-09 | 2021-05-28 | 西安理工大学 | Method and device for coupling optical fiber array and optical waveguide passive end face |
-
2003
- 2003-11-17 JP JP2003386811A patent/JP2005148481A/en active Pending
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