JP2005148475A - Optoelectronic apparatus and its manufacturing method, and electronic equipment - Google Patents

Optoelectronic apparatus and its manufacturing method, and electronic equipment Download PDF

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JP2005148475A JP2003386777A JP2003386777A JP2005148475A JP 2005148475 A JP2005148475 A JP 2005148475A JP 2003386777 A JP2003386777 A JP 2003386777A JP 2003386777 A JP2003386777 A JP 2003386777A JP 2005148475 A JP2005148475 A JP 2005148475A
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Sae Endo
彩映 遠藤
Ryoichi Nozawa
陵一 野澤
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the cost needed to alter an image to be displayed. <P>SOLUTION: A display panel 1 has a plurality of unit elements U which are arrayed on a plate surface of a base material 10. Each unit element U has an OLED element 15 which is interposed between a 1st electrode 11 and a 2nd electrode 12. Image constituent elements U1 selected corresponding to a desired display image among the plurality of unit elements U are provided with optical control parts which vary characteristics of projection lights from OLED elements 15 to overlap with the image constituent elements U1 when viewed from a direction perpendicular to the plate surface of the base material 10. Optical characteristics of respective optical control parts are selected by the image constituent elements U1 according to gradations of the display image. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電流の供給や電圧の印加といった電気的な作用を輝度(階調)や透過率の変
化といった光学的な作用に変換する電気光学素子を用いて画像を表示する技術に関する。
The present invention relates to a technique for displaying an image using an electro-optic element that converts an electrical action such as supply of current or application of voltage into an optical action such as change in luminance (gradation) or transmittance.

有機発光ダイオード(以下「OLED(Organic Light Emitting Diode)」という)素
子などの電気光学素子を用いて画像を表示する装置は、マトリクス状に配列された画素に
より多様な画像を表示するドットマトリクス型と、特定の画像を固定的に表示するセグメ
ント型とに大別される。このうちセグメント型の電気光学装置においては、例えば特許文
献1に示されるように、表示されるべき画像の形状となるようにパターニングされた電極
によって電気光学素子が駆動される。
An apparatus that displays an image using an electro-optical element such as an organic light emitting diode (hereinafter referred to as “OLED (Organic Light Emitting Diode)”) element is a dot matrix type that displays various images using pixels arranged in a matrix. , It is roughly divided into a segment type for displaying a specific image in a fixed manner. Among these, in the segment type electro-optical device, as shown in Patent Document 1, for example, the electro-optical element is driven by an electrode patterned so as to have a shape of an image to be displayed.

特開2001−244081(段落0027および第1図)JP2001-244081 (paragraph 0027 and FIG. 1)

しかしながら、このセグメント型の電気光学装置においては、電極をパターニングする
ためのフォトマスクを表示されるべき画像ごとに作成する必要があるため、画像が異なる
電気光学装置を新たに製造するために多大なコストを要するという問題がある。本発明は
、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、表示される画像の変更に要
するコストを低減することにある。
However, in this segment type electro-optical device, it is necessary to create a photomask for patterning the electrodes for each image to be displayed. Therefore, it is very difficult to newly manufacture an electro-optical device having different images. There is a problem of cost. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to reduce the cost required for changing the displayed image.

この目的を達成するために、本発明に係る電気光学装置の第1の特徴は、面状に配列さ
れた複数の単位素子であって第1電極および第2電極の間に介在する電気光学素子を各々
が有する複数の単位素子と、単位素子の配列面に垂直な方向からみて複数の単位素子のう
ち一部の単位素子と重なるように設けられて電気光学素子からの出射光の特性を変化させ
る光制御部とを具備することにある。本発明における電気光学素子とは、電流の供給や電
圧の印加といった電気的な作用を輝度(発光量)や透過率といった光学的特性の変化に変
換するための素子である。電気光学素子の典型的な例は、有機EL(Electro Luminescen
t)や発光ポリマーなどの有機発光ダイオード(OLED)素子である。なお、本発明に
おける電気光学素子は、有機発光ダイオードに代表される自発光型(すなわち自らが光を
発する性質を有する)の素子である必要は必ずしもなく、背面側からの入射光を透過させ
る非自発光型の素子(例えば液晶)であってもよい。
In order to achieve this object, a first feature of an electro-optical device according to the present invention is a plurality of unit elements arranged in a planar shape, the electro-optical element interposed between the first electrode and the second electrode A plurality of unit elements, and a plurality of unit elements as viewed from a direction perpendicular to the unit element arrangement surface, and overlapping with some of the unit elements to change the characteristics of light emitted from the electro-optic element And a light control unit. The electro-optical element in the present invention is an element for converting an electrical action such as supply of current or application of voltage into a change in optical characteristics such as luminance (light emission amount) and transmittance. A typical example of an electro-optic element is an organic EL (Electro Luminescen).
t) and organic light emitting diode (OLED) elements such as light emitting polymers. The electro-optical element in the present invention does not necessarily have to be a self-luminous element (that is, has a property of emitting light itself) typified by an organic light-emitting diode, and does not necessarily transmit incident light from the back side. A self-luminous element (for example, liquid crystal) may be used.

この構成においては、面状に配列された複数の単位素子のなかから選択された一部の単
位素子と重なるように選択的に光制御部が設けられる。この構成のもとでは、光制御部が
設けられた単位素子の電気光学素子から出射して当該光制御部を透過したうえで観察者に
視認される光の特性と、光制御部が設けられていない単位素子の電気光学素子から出射し
て光制御部を透過することなく観察者に視認される光の特性とは異なる。したがって、例
えば、特定の画像を構成する画素(ドット)に相当する単位素子に対してのみ選択的に光
制御部を設ければ、その画像が観察者によって視認されることとなる。このように、所望
の画像に応じて選択された単位素子に光制御部を設けることによって当該画像の表示が実
現されるから、異なる画像を表示する電気光学装置を製造する場合であっても、各電極を
画像に応じた形状にパターニングするためのフォトマスクを画像ごとに作成する必要はな
い。したがって、本発明によれば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造す
るために要するコストを低減することができる。
In this configuration, the light control unit is selectively provided so as to overlap with some of the unit elements selected from the plurality of unit elements arranged in a planar shape. Under this configuration, the light control unit is provided with the characteristics of the light that is emitted from the electro-optical element of the unit element provided with the light control unit and is transmitted through the light control unit and is visually recognized by the observer. This is different from the characteristics of light that is emitted from an electro-optic element of a unit element that is not emitted and is viewed by an observer without passing through the light control unit. Therefore, for example, if a light control unit is selectively provided only for unit elements corresponding to pixels (dots) constituting a specific image, the image is visually recognized by an observer. As described above, since the display of the image is realized by providing the light control unit in the unit element selected according to the desired image, even when an electro-optical device that displays a different image is manufactured, It is not necessary to create a photomask for patterning each electrode into a shape corresponding to an image for each image. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the cost required to manufacture electro-optical devices that display different images.

本発明における光制御部としては、例えば、光フィルタ層や光干渉層、あるいはレンズ
層が採用され得る。このうち光フィルタ層は、電気光学素子からの出射光の一部を選択的
に透過させる層である。また、光干渉層は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射さ
せる第1および第2の半透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる層
である。一方、レンズ層は、電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備えた層で
ある。これらの光制御部によれば、電気光学素子から出射して観察者に到達する光量を、
光制御部が設けられていない単位素子の電気光学素子から出射して観察者に到達する光量
と異ならせることができるから、光制御部が設けられた単位素子の配列の態様に応じた所
望の画像が表示される。なお、本発明における光制御部の構成は、これらの態様のいずれ
かひとつが選択的に採用されたものに限られない。例えば、光フィルタ層、光干渉層、レ
ンズ層、およびその他の構成を有する層のなかから選択された2以上の層を積層すること
によって光制御部を構成してもよい
As the light control unit in the present invention, for example, an optical filter layer, a light interference layer, or a lens layer may be employed. Among these, the optical filter layer is a layer that selectively transmits part of the light emitted from the electro-optical element. The optical interference layer is formed by interposing a translucent layer that transmits the irradiation light between the first and second transflective layers that transmit a part of the irradiation light and reflect the other part. Is a layer. On the other hand, the lens layer is a layer provided with a lens that refracts light emitted from the electro-optic element. According to these light control units, the amount of light emitted from the electro-optic element and reaching the observer is
Since the amount of light emitted from the electro-optic element of the unit element not provided with the light control unit and reaching the observer can be different, the desired amount according to the arrangement of the unit elements provided with the light control unit An image is displayed. In addition, the structure of the light control part in this invention is not restricted to what employ | adopted any one of these aspects selectively. For example, the light control unit may be configured by stacking two or more layers selected from an optical filter layer, a light interference layer, a lens layer, and other layers having other configurations.

本発明の望ましい態様において、各々が単位素子と重なるように設けられた複数の光制
御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とは異なる。このよう
に光制御部ごとに光学的特性を適宜に選定すれば、各単位素子の光制御部を透過して観察
者に到達する光の特性(例えば光量)を当該単位素子ごとに異ならせることができるから
、光制御部が設けられた単位素子により構成される画像を複数の階調にて表示することが
できる。
In a desirable mode of the present invention, the optical characteristics of one light control unit among the plurality of light control units provided so as to overlap each unit element are different from the optical characteristics of the other light control units. As described above, if the optical characteristics are appropriately selected for each light control unit, the characteristics (for example, the amount of light) of light that passes through the light control unit of each unit element and reaches the observer can be made different for each unit element. Therefore, an image composed of unit elements provided with the light control unit can be displayed with a plurality of gradations.

本発明に係る電気光学装置においては、複数の単位素子のうち一部の単位素子に選択的
に光制御部を設ける構成のほか、総ての単位素子の各々に光制御部を設けたうえで各単位
素子の光制御部の特性を異ならせる構成も採用され得る。すなわち、本発明に係る電気光
学装置の第2の特徴は、面状に配列された複数の単位素子であって第1電極および第2電
極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子と、単位素子の配列面に垂
直な方向からみて各単位素子と重なるように設けられて電気光学素子からの出射光の特性
を変化させる複数の光制御部であって、一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学
的特性とが異なる複数の光制御部とを具備することにある。この構成によれば、各単位素
子の光制御部ごとに光学的特性を適宜に異ならせることによって画像を複数の階調にて表
示することができる。この構成においても、それぞれ異なる画像(複数の階調からなる画
像)を表示する電気光学装置ごとにフォトマスクを作成する必要はないから製造コストが
低減される。
In the electro-optical device according to the invention, in addition to the configuration in which the light control unit is selectively provided in some of the unit elements, the light control unit is provided in each of the unit elements. A configuration in which the characteristics of the light control unit of each unit element are made different can also be adopted. That is, the second feature of the electro-optical device according to the present invention is a plurality of unit elements arranged in a planar shape, each of which includes a plurality of electro-optical elements interposed between the first electrode and the second electrode. A plurality of light control units which are provided so as to overlap each unit element when viewed from the direction perpendicular to the unit element array plane, and change the characteristics of light emitted from the electro-optic element, and are a single light control unit And a plurality of light control units having different optical characteristics of the other light control units. According to this configuration, an image can be displayed in a plurality of gradations by appropriately changing the optical characteristics for each light control unit of each unit element. Even in this configuration, it is not necessary to create a photomask for each electro-optical device that displays different images (images having a plurality of gradations), so that the manufacturing cost is reduced.

上記第1の特徴に係る電気光学装置のうち光制御部ごとに光学的特性が異なる電気光学
装置や上記第2の特徴に係る電気光学装置の光制御部としては、例えば上述した光フィル
タ層や光干渉層、あるいはレンズ層が採用され得る。このうち光フィルタ層を採用した構
成のもとでは、複数の光制御部のうち一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フ
ィルタ層とで光透過率が異なる。この構成によれば、各単位素子の光制御部を透過して観
察者に到達する光量を単位素子ごとに異ならせることができるから、画像を複数の階調に
て表示することができる。なお、光フィルタ層の透過率を光制御部ごとに異ならせるため
の構成としては、一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層とで膜厚を
異ならせた構成や、一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層とが吸光
係数の異なる材料によって形成された構成が考えられる。もっとも、これ以外の構成によ
って各光フィルタ層の光透過率を異ならせてもよいことはもちろんである。
Among the electro-optical devices according to the first feature, the electro-optical device having different optical characteristics for each light control unit and the light control unit of the electro-optical device according to the second feature include, for example, the above-described optical filter layer, A light interference layer or a lens layer may be employed. Among these, under the configuration employing the optical filter layer, the light transmittance is different between the optical filter layer of one light control unit and the optical filter layer of another light control unit among the plurality of light control units. According to this configuration, the amount of light that passes through the light control unit of each unit element and reaches the observer can be made different for each unit element, so that an image can be displayed in a plurality of gradations. In addition, as a structure for making the transmittance | permeability of an optical filter layer differ for every light control part, the structure by which the film thickness was varied by the optical filter layer of one light control part, and the optical filter layer of another light control part Or the structure by which the optical filter layer of one light control part and the optical filter layer of another light control part were formed with the material from which an absorption coefficient differs can be considered. However, it goes without saying that the light transmittance of each optical filter layer may be made different depending on other configurations.

また、光制御部として光干渉層が採用された構成のもとでは、一の光制御部の光干渉層
と他の光制御部の光干渉層とで透光層の膜厚が異なる。さらに、光制御部としてレンズ層
が採用された構成のもとでは、一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部のレンズ
層のレンズとで光学的特性が異なる。これらの構成によっても、各単位素子の光制御部を
透過して観察者に到達する光量を単位素子ごとに異ならせることができるから、画像を複
数の階調にて表示することができる。このうちレンズ層を用いた場合に各単位素子ごとに
光学的特性を異ならせる構成としては、一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部
のレンズ層のレンズとで焦点距離を異ならせた構成や、一の光制御部のレンズ層と他の光
制御部のレンズ層とが屈折率の異なる材料によって形成された構成が考えられる。なお、
本発明における光制御部の構成は、これらの態様のいずれかひとつが選択的に採用された
ものに限られない。例えば、光フィルタ層、光干渉層、レンズ層、およびその他の構成を
有する層のなかから選択された2以上の層を積層することによって光制御部を構成しても
よい。
In addition, under the configuration in which the light interference layer is employed as the light control unit, the thickness of the light transmissive layer differs between the light interference layer of one light control unit and the light interference layer of another light control unit. Furthermore, under a configuration in which a lens layer is employed as the light control unit, the optical characteristics of the lens of the lens layer of one light control unit are different from those of the lens layer of the other light control unit. Also with these configurations, the amount of light that passes through the light control unit of each unit element and reaches the observer can be made different for each unit element, so that an image can be displayed in a plurality of gradations. Among these, when a lens layer is used, the optical characteristics are different for each unit element, so that the focal length is set between the lens of the lens layer of one light control unit and the lens layer of the other light control unit. A different configuration or a configuration in which the lens layer of one light control unit and the lens layer of another light control unit are formed of materials having different refractive indexes can be considered. In addition,
The configuration of the light control unit in the present invention is not limited to one in which any one of these modes is selectively adopted. For example, the light control unit may be configured by stacking two or more layers selected from an optical filter layer, a light interference layer, a lens layer, and other layers having other configurations.

本発明の他の態様において、導電性材料により形成されて複数の単位素子のうち1以上
の単位素子における第1電極と第2電極との間に介在する抵抗層が設けられる。この態様
によれば、各単位素子ごとに第1電極と第2電極との間の抵抗値を異ならせることによっ
て電気光学素子の出射光量を単位素子ごとに適宜に調整することができるから、より多様
な画像の表示が実現される。また、他の態様においては、複数の単位素子のうち1以上の
単位素子における第1電極と第2電極とを電気的に絶縁させる絶縁層が設けられる。この
態様によれば、絶縁層の有無に応じて電気光学素子からの出射光の有無を単位素子ごとに
選定することができるから、より多様な画像の表示が実現される。さらに他の態様におい
ては、単位素子の配列面に垂直な方向からみて電気光学素子の一部と重なるように、複数
の単位素子のうち1以上の単位素子における第1電極と第2電極との間に介在する部分絶
縁層が設けられる。この態様によれば、部分絶縁層の有無および電気光学素子の光出射面
に対する当該部分絶縁層の占有面積に応じて電気光学素子からの出射光量を単位素子ごと
に適宜に選定することができるから、より多様な画像の表示が実現される。
In another aspect of the present invention, a resistance layer formed of a conductive material and interposed between the first electrode and the second electrode of one or more unit elements among the plurality of unit elements is provided. According to this aspect, the amount of light emitted from the electro-optic element can be appropriately adjusted for each unit element by making the resistance value between the first electrode and the second electrode different for each unit element. Various image displays are realized. In another aspect, an insulating layer that electrically insulates the first electrode and the second electrode of one or more unit elements among the plurality of unit elements is provided. According to this aspect, since the presence or absence of the emitted light from the electro-optical element can be selected for each unit element according to the presence or absence of the insulating layer, more various image displays can be realized. In yet another aspect, the first electrode and the second electrode of one or more unit elements of the plurality of unit elements are overlapped with each other so as to overlap a part of the electro-optic element when viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements. A partial insulating layer interposed therebetween is provided. According to this aspect, the amount of light emitted from the electro-optic element can be appropriately selected for each unit element according to the presence / absence of the partial insulation layer and the area occupied by the partial insulation layer with respect to the light emission surface of the electro-optic element. More diverse image display is realized.

なお、本発明に係る電気光学装置において、第1電極および第2電極の各々は、複数の
単位素子にわたって連続する単一の電極であってもよいし、単位素子ごとに別個に設けら
れた複数の電極であってもよい。電気光学素子についても同様であり、複数の単位素子に
わたって連なるように設けられていてもよいし、単位素子ごとに独立して設けられていて
もよい。第1電極や第2電極が複数の単位素子にわたって連続する構成や、電気光学素子
が複数の単位素子にわたって連続する構成であっても、各単位素子における光制御部の有
無や各単位素子の光制御部の特性を適宜に選定することにより、多階調からなる高品位な
表示が実現される。また、第1電極および第2電極の少なくとも一方を単位素子ごとに設
けられた複数の電極とした場合には、各単位素子ごとに異なる電流または電圧が電気光学
素子に供給され得る。このように各単位素子ごとに電気光学素子への電気的作用を異なら
せれば電気光学素子からの出射光量を適宜に選定することができるから多様な画像の表示
が実現される。
In the electro-optical device according to the present invention, each of the first electrode and the second electrode may be a single electrode continuous over a plurality of unit elements, or a plurality of separately provided for each unit element. These electrodes may be used. The same applies to the electro-optical element, and the electro-optical element may be provided so as to be continuous over a plurality of unit elements, or may be provided independently for each unit element. Even in a configuration in which the first electrode and the second electrode are continuous over a plurality of unit elements, and in a configuration in which the electro-optical element is continuous over a plurality of unit elements, the presence or absence of a light control unit in each unit element and the light of each unit element By appropriately selecting the characteristics of the control unit, a high-quality display consisting of multiple gradations can be realized. When at least one of the first electrode and the second electrode is a plurality of electrodes provided for each unit element, a different current or voltage for each unit element can be supplied to the electro-optical element. In this way, if the electric action on the electro-optic element is made different for each unit element, the amount of light emitted from the electro-optic element can be appropriately selected, so that various images can be displayed.

本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機など各種の電子機器の表示装置として用いら
れる。この表示装置の表示領域のうち一部の領域のみに本発明が適用された構成も好適で
ある。すなわち、表示領域のうち第1の領域においてはドットマトリクス型の表示方式に
よって種々の画像が表示される一方、第1領域とは異なる第2領域においては本発明の適
用によって固定的な画像が表示される。
The electro-optical device according to the present invention is used as a display device of various electronic devices such as a mobile phone. A configuration in which the present invention is applied to only a part of the display area of the display device is also suitable. That is, in the first area of the display area, various images are displayed by a dot matrix type display method, while in the second area different from the first area, a fixed image is displayed by applying the present invention. Is done.

また、本発明に係る製造方法の第1の特徴は、第1電極および第2電極の間に介在する
電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を平板状の基材の板面上に形成する工程と、
電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部を、基材の板面に垂直な方向から
みて複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように形成する工程とを有することに
ある。この方法によれば、複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように選択的に
光制御部を形成することによって所望の画像を表示する電気光学装置が得られるから、表
示すべき画像ごとに異なるフォトマスクを用意する必要はない。したがって、本発明によ
れば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造するコストを低減することがで
きる。
The first feature of the manufacturing method according to the present invention is that a plurality of unit elements each having an electro-optic element interposed between the first electrode and the second electrode are formed on the plate surface of the flat substrate. And a process of
Forming a light control unit that changes the characteristics of light emitted from the electro-optic element so as to overlap some of the plurality of unit elements when viewed from the direction perpendicular to the plate surface of the substrate. It is in. According to this method, an electro-optical device that displays a desired image can be obtained by selectively forming a light control unit so as to overlap some of the unit elements. There is no need to prepare a different photomask for each. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the cost of manufacturing electro-optical devices that display different images.

さらに、本発明に係る製造方法の第2の特徴は、第1電極および第2電極の間に介在す
る電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を平板状の基材の板面上に形成する工程と
、電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部の各々を単位素子の配列
面に垂直な方向からみて各単位素子と重なるように形成する工程であって、これらの光制
御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異なるように複数
の光制御部を形成する工程とを有することにある。この方法によれば、各単位素子に重ね
られる光制御部の光学的特性を適宜に選定することによって所望の画像を表示する電気光
学装置が得られるから、表示すべき画像ごとに異なるフォトマスクを用意する必要はない
。したがって、本発明によれば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造する
コストを低減することができる。
Furthermore, a second feature of the manufacturing method according to the present invention is that a plurality of unit elements each having an electro-optic element interposed between the first electrode and the second electrode are formed on the plate surface of the flat substrate. And a step of forming each of the plurality of light control units that change the characteristics of the emitted light from the electro-optic element so as to overlap each unit element when viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements. And forming a plurality of light control units so that the optical characteristics of one light control unit and the optical characteristics of the other light control units are different from each other. According to this method, an electro-optical device that displays a desired image can be obtained by appropriately selecting the optical characteristics of the light control unit that is overlaid on each unit element. Therefore, a different photomask can be used for each image to be displayed. There is no need to prepare. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the cost of manufacturing electro-optical devices that display different images.

なお、上記第1および第2の特徴に係る製造方法においては、各工程が実施される順番
は任意である。例えば、複数の単位素子を形成した後に光制御部を形成してもよいし、光
制御部を形成した後に複数の単位素子を形成してもよい。あるいは、各単位素子を形成す
る第1電極、第2電極および電気光学素子を形成する各工程の間に光制御部を形成する工
程を実施してもよい。
In the manufacturing methods according to the first and second features, the order in which the steps are performed is arbitrary. For example, the light control unit may be formed after forming the plurality of unit elements, or the plurality of unit elements may be formed after forming the light control unit. Or you may implement the process of forming a light control part between each process of forming the 1st electrode which forms each unit element, the 2nd electrode, and an electro-optic element.

これらの製造方法のうち光制御部を形成する工程においては液滴吐出法が用いられる。
具体的には、光吸収性を有する物質を含む液滴を吐出口から吐出して当該液滴を基材上に
着弾させることにより、電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フィルタ層が光
制御部として形成される。また、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口から吐出し、
照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第1半透過反射層の表面上に当該液滴を
着弾させることによって透光層を形成する一方、当該透光層を挟んで第1半透過反射層と
対向する第2半透過反射層を形成することにより、第1半透過反射層と透光層と第2半透
過反射層とからなる光干渉層が光制御部として形成される。さらに、光透過性を有する物
質を含む液滴を吐出口から吐出して当該液滴を基材上に着弾させることにより、電気光学
素子からの出射光を屈折させるレンズを備えたレンズ層が光制御部として形成される。こ
のように液滴吐出法を用いれば、各光制御部をフォトリソグラフィ技術などを用いて形成
する場合と比較して製造コストを低減することができる。
Of these manufacturing methods, a droplet discharge method is used in the step of forming the light control unit.
Specifically, an optical filter that transmits a part of light emitted from an electro-optic element by discharging a droplet containing a light-absorbing substance from a discharge port and landing the droplet on a substrate. A layer is formed as a light control. In addition, liquid droplets containing a light-transmitting substance are discharged from the discharge port,
The light-transmitting layer is formed by landing the droplet on the surface of the first semi-transmissive reflective layer that transmits a part of the irradiation light and reflects the other part, while the first light-transmitting layer is sandwiched between By forming the second transflective layer opposite to the first transflective layer, an optical interference layer including the first transflective layer, the translucent layer, and the second transflective layer is formed as the light control unit. The Further, a lens layer including a lens that refracts light emitted from the electro-optical element is emitted by discharging a droplet containing a light-transmitting substance from the discharge port and landing the droplet on the substrate. It is formed as a control unit. If the droplet discharge method is used in this way, the manufacturing cost can be reduced as compared with the case where each light control unit is formed using a photolithography technique or the like.

図面を参照しながら本発明を実施するための具体的な形態を説明する。以下では、OL
ED素子の一例である有機エレクトロルミネッセンス素子を電気光学素子として用いた電
気光学装置に本発明が適用された形態を例示するが、本発明の適用され得る範囲をこの装
置に限定する趣旨ではない。また、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認
識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異
ならせてある。
Specific embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, OL
Although an example in which the present invention is applied to an electro-optical device using an organic electroluminescence element as an example of an ED element as an electro-optical element is illustrated, the scope to which the present invention can be applied is not limited to this device. Further, in the respective drawings shown below, the dimensions and ratios of the respective constituent elements are appropriately changed from the actual ones in order to make the respective constituent elements large enough to be recognized on the drawings.

<A:第1実施形態>
<A−1:電気光学装置の構成>
図1は、本実施形態に係る電気光学装置の構成を示す平面図である。同図に示されるよ
うに、この電気光学装置100は表示パネル1と電源回路8とを有する。図2は、表示パ
ネル1の構成を示す断面図である。図1および図2に示されるように、表示パネル1はガ
ラスやプラスチックなどからなる平板状またはフィルム状の基材10を有する。本実施形
態に係る表示パネル1は、後述するOLED素子から発せられた光が基材10とは反対側
(図2における上側)に出射されるトップエミッション型のパネルである。
<A: First Embodiment>
<A-1: Configuration of electro-optical device>
FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the electro-optical device according to the present embodiment. As shown in the figure, the electro-optical device 100 includes a display panel 1 and a power supply circuit 8. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the display panel 1. As shown in FIGS. 1 and 2, the display panel 1 has a flat plate or film substrate 10 made of glass, plastic, or the like. The display panel 1 according to the present embodiment is a top emission type panel in which light emitted from an OLED element to be described later is emitted to the side opposite to the substrate 10 (upper side in FIG. 2).

図1に示されるように、基材10の板面上には複数の単位素子UがX方向およびY方向
にわたってマトリクス状に配列されている。基材10の板面に垂直な方向からみると、こ
れらの単位素子Uの各々は略同一の矩形状である。図2に示されるように、各単位素子U
は、基材10の板面上に設けられた第1電極11と、第1電極11の表面上に設けられた
OLED素子15と、OLED素子15を挟んで第1電極11に対向する第2電極12と
により構成される。第1電極11および第2電極12の各々は、複数の単位素子Uにわた
って連続する単一の電極である。このうち第1電極11は、OLED素子15の陽極とし
て機能する電極であり、アルミニウムや銀などの単体金属やこれらの金属を主成分とする
合金など光反射性を有する導電性材料によって形成されている。この構成によれば、OL
ED素子15から観察側とは反対側(図2における下側)に発せられた光を第1電極11
によって観察側に反射させることによって表示画像の明るさを向上させることができる。
As shown in FIG. 1, a plurality of unit elements U are arranged in a matrix over the X and Y directions on the plate surface of the substrate 10. When viewed from a direction perpendicular to the plate surface of the substrate 10, each of these unit elements U has substantially the same rectangular shape. As shown in FIG. 2, each unit element U
Are a first electrode 11 provided on the plate surface of the substrate 10, an OLED element 15 provided on the surface of the first electrode 11, and a second electrode facing the first electrode 11 across the OLED element 15. And the electrode 12. Each of the first electrode 11 and the second electrode 12 is a single electrode continuous over a plurality of unit elements U. Among these, the 1st electrode 11 is an electrode which functions as an anode of the OLED element 15, and is formed of a conductive material having light reflectivity such as a single metal such as aluminum or silver or an alloy mainly composed of these metals. Yes. According to this configuration, OL
The light emitted from the ED element 15 to the side opposite to the observation side (the lower side in FIG. 2) is the first electrode 11.
The brightness of the display image can be improved by reflecting the light to the viewing side.

図2に示されるように、第1電極11が設けられた基材10の板面上には隔壁13が設
けられている。この隔壁13は、X方向またはY方向に相互に隣接する単位素子Uの各間
隙と重なるように格子状に設けられて基材10の板面から突出する。換言すると、複数の
単位素子Uの各々は隔壁13によって区分されていると捉えることができる。電気光学素
子たるOLED素子15は、基材10の板面上にあって隔壁13により四方を囲まれた空
間(窪み)に入り込むように設けられている。したがって、OLED素子15は単位素子
Uごとに独立している。各OLED素子15は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子
輸送層および電子注入層が基材10側からみてこの順番に積層された構造を有する。第2
電極12は隔壁13およびOLED素子15が設けられた基材10の板面を覆う電極であ
り、OLED素子15の陰極として機能する。本実施形態における第2電極12は、イン
ジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)などの光透過性を有する導電性材料により
形成されている。第2電極12が形成された基材10の板面はその全域にわたり封止層1
8によって覆われている。この封止層18は、基材10上に形成された第2電極12など
の各要素を保護するための層である。
As shown in FIG. 2, a partition wall 13 is provided on the plate surface of the substrate 10 on which the first electrode 11 is provided. The partition walls 13 are provided in a lattice shape so as to overlap the gaps between the unit elements U adjacent to each other in the X direction or the Y direction, and project from the plate surface of the substrate 10. In other words, it can be understood that each of the plurality of unit elements U is divided by the partition wall 13. The OLED element 15, which is an electro-optic element, is provided on the plate surface of the substrate 10 so as to enter a space (depression) surrounded on all sides by the partition wall 13. Therefore, the OLED element 15 is independent for each unit element U. Each OLED element 15 has a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are stacked in this order as viewed from the substrate 10 side. Second
The electrode 12 is an electrode that covers the plate surface of the substrate 10 on which the partition wall 13 and the OLED element 15 are provided, and functions as a cathode of the OLED element 15. The second electrode 12 in the present embodiment is formed of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO). The plate | board surface of the base material 10 in which the 2nd electrode 12 was formed is the sealing layer 1 over the whole region.
8 is covered. The sealing layer 18 is a layer for protecting each element such as the second electrode 12 formed on the substrate 10.

第1電極11および第2電極12は電源回路8に接続されている。この電源回路8は第
1電極11および第2電極12に電力を供給するための回路である。さらに詳述すると、
電源回路8は、第1電極11に対して電源電圧の高位側を印加する一方、第2電極12に
対して電源電位の低位側(接地電位)を印加する。このように第1電極11と第2電極1
2との間に電圧が印加されると各単位素子UのOLED素子15に電流が流れて当該OL
ED素子15が発光する。
The first electrode 11 and the second electrode 12 are connected to the power supply circuit 8. The power supply circuit 8 is a circuit for supplying power to the first electrode 11 and the second electrode 12. More specifically,
The power supply circuit 8 applies the higher power supply voltage side to the first electrode 11, while applying the lower power supply potential side (ground potential) to the second electrode 12. Thus, the first electrode 11 and the second electrode 1
2, a current flows through the OLED element 15 of each unit element U, and the OL
The ED element 15 emits light.

本実施形態に係る電気光学装置100は特定の画像(以下「対象画像」という)を固定
的に表示する装置である。この表示を実現するために、マトリクス状に配列された複数の
単位素子Uは、図3に示されるように、対象画像を構成する各ドットに相当するものとし
て選択された単位素子U(以下では特に「画像構成素子U1」という)と、これ以外の単
位素子U(すなわち対象画像を構成する各ドット以外の単位素子Uである。以下では特に
「非構成素子U0」という)とに区分される。例えば、文字「ABC」が対象画像とされ
た場合を例示する図3においては、文字「A」、「B」および「C」の各々を構成する単
位素子Uが画像構成素子U1に分別され、それ以外の単位素子U(すなわち文字「ABC
」の背景となるドットに相当する単位素子U)が非構成素子U0に分別される。
The electro-optical device 100 according to the present embodiment is a device that fixedly displays a specific image (hereinafter referred to as “target image”). In order to realize this display, a plurality of unit elements U arranged in a matrix form, as shown in FIG. 3, unit elements U (hereinafter referred to as “unit elements U” selected as corresponding to the dots constituting the target image). In particular, it is classified into “image constituent element U1” and other unit elements U (that is, unit elements U other than the dots constituting the target image. In the following, they are particularly referred to as “non-constituent elements U0”). . For example, in FIG. 3 illustrating the case where the character “ABC” is the target image, the unit elements U constituting each of the characters “A”, “B”, and “C” are separated into image constituent elements U1, Other unit elements U (ie, the characters “ABC”
The unit element U) corresponding to the dot serving as the background of "is separated into the non-constituent element U0.

総ての単位素子Uのうち各画像構成素子U1にはOLED素子15からの出射光の特性
を変化させる光制御部としての光フィルタ層21が設けられる一方、各非構成素子U0に
光フィルタ層21は設けられていない。この光フィルタ層21は、OLED素子15から
の出射光(OLED素子15の発光層から発せられて観察側に向かう光、および第1電極
11にて反射したうえでOLED素子15を透過して観察側に向かう光)の一部を選択的
に観察側に透過させる膜体であり、図2に示されるように、基材10の板面に垂直な方向
からみて画像構成素子U1のOLED素子15と重なるように第2電極12の表面上に形
成される。この構成においては、画像構成素子U1のOLED素子15から出射して光フ
ィルタ層21を経由したうえで観察側に向かう光量は、光フィルタ層21によって光量の
一部が吸収される分だけ、非構成素子U0のOLED素子15から出射して観察側に向か
う光量よりも少なくなる。したがって、この出射光量の差は観察者によって階調(輝度)
の差と認識され、この結果として対象画像が表示されることとなるのである。
Among all the unit elements U, each image constituent element U1 is provided with an optical filter layer 21 as a light control unit for changing the characteristics of the emitted light from the OLED element 15, while each non-constituent element U0 has an optical filter layer. 21 is not provided. The optical filter layer 21 transmits light emitted from the OLED element 15 (light emitted from the light emitting layer of the OLED element 15 toward the observation side and reflected by the first electrode 11 and then transmitted through the OLED element 15 for observation). 2 is a film body that selectively transmits a part of the light toward the viewing side to the observation side. As shown in FIG. 2, the OLED element 15 of the image forming element U1 as viewed from the direction perpendicular to the plate surface of the substrate 10 is used. Is formed on the surface of the second electrode 12 so as to overlap. In this configuration, the amount of light emitted from the OLED element 15 of the image constituent element U1 and passing through the optical filter layer 21 and traveling toward the observation side is not so much as a part of the light amount is absorbed by the optical filter layer 21. The amount of light emitted from the OLED element 15 of the constituent element U0 and less toward the observation side is smaller. Therefore, this difference in the amount of emitted light depends on the gradation (brightness) by the observer.
As a result, the target image is displayed.

さらに、各画像構成素子U1における光フィルタ層21の光学的特性は、対象画像を構
成する各ドットの階調に応じて異なる。より具体的には、各OLED素子15からの出射
光に対する光フィルタ層21の光透過率(すなわち入射光量に対する出射光量の割合)は
、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に選定されている。例えば、図3にお
いては対象画像たる各文字「A」、「B」および「C」の階調がハッチングの疎密(ハッ
チングが密であるほど階調が低い(暗い))によって示されている。この場合を例に採る
と、文字「A」を構成する画像構成素子U1における光フィルタ層21(文字「A」に対
応する光フィルタ層21)の光透過率は文字「B」に対応する光フィルタ層21の光透過
率よりも高く、文字「B」に対応する光フィルタ層21の光透過率は文字「C」に対応す
る光フィルタ層21の光透過率よりも高くなっている。このため、図3に示されるように
、文字「A」は文字「B」よりも明るい階調(ただし、非構成素子U0と比べると暗い階
調)にて表示され、文字「B」は文字「C」よりも明るい階調にて表示されることとなる
。このように各光フィルタ層21の光透過率を異ならせるための構成としては、各光フィ
ルタ層21の膜厚を異ならせる構成と、吸光係数が異なる材料によって各光フィルタ層2
1を形成した構成とが考えられる。このうち前者に係る構成においては、光フィルタ層2
1の膜厚を大きくするほど画像構成素子U1の表示階調が暗くなり、後者に係る構成にお
いては、光フィルタ層21を吸光係数が大きい材料によって形成するほど画像構成素子U
1の表示階調が暗くなる。
Furthermore, the optical characteristics of the optical filter layer 21 in each image constituent element U1 differ depending on the gradation of each dot constituting the target image. More specifically, the light transmittance of the optical filter layer 21 with respect to the emitted light from each OLED element 15 (that is, the ratio of the emitted light amount to the incident light amount) is appropriately determined according to the gradation of each dot constituting the target image. Selected. For example, in FIG. 3, the gradations of the letters “A”, “B”, and “C” that are the target image are indicated by hatching density (the gradation is lower (darker as the hatching is denser)). Taking this case as an example, the light transmittance of the optical filter layer 21 (the optical filter layer 21 corresponding to the letter “A”) in the image constituent element U1 constituting the letter “A” is the light corresponding to the letter “B”. The light transmittance of the optical filter layer 21 corresponding to the letter “B” is higher than the light transmittance of the optical filter layer 21 corresponding to the letter “C”. For this reason, as shown in FIG. 3, the character “A” is displayed in a lighter gradation than the character “B” (however, it is darker than the non-component U0), and the character “B” It is displayed with gradations brighter than “C”. As a configuration for making the light transmittance of each optical filter layer 21 different in this way, each optical filter layer 2 is made of a material having a different absorption coefficient from a configuration in which the thickness of each optical filter layer 21 is made different.
1 may be considered. Among these, in the former configuration, the optical filter layer 2
As the film thickness of 1 increases, the display gradation of the image forming element U1 becomes darker. In the latter configuration, the image forming element U1 is formed as the light filter layer 21 is formed of a material having a large extinction coefficient.
The display gradation of 1 becomes darker.

以上に説明したように、本実施形態においては、光フィルタ層21の有無に応じて対象
画像の形状が任意に選定されるとともに、光フィルタ層21の光透過率に応じて対象画像
の各部の階調が任意に選定される。したがって、画素ごとに薄膜トランジスタなどのスイ
ッチング素子が設けられたアクティブマトリクス型の電気光学装置100と比較して極め
て簡易な構成であるにも拘わらず、高品位かつ高精細な表示が実現される。
As described above, in the present embodiment, the shape of the target image is arbitrarily selected according to the presence or absence of the optical filter layer 21, and each part of the target image is determined according to the light transmittance of the optical filter layer 21. The gradation is arbitrarily selected. Therefore, a high-quality and high-definition display is realized in spite of a very simple configuration as compared with the active matrix electro-optical device 100 in which a switching element such as a thin film transistor is provided for each pixel.

<A−2:電気光学装置の製造方法>
次に、上述した電気光学装置100の製造方法を説明する。
まず、図4(a)に示されるように、基材10の板面上に第1電極11が形成される。
より具体的には、アルミニウム、マグネシウム、リチウムまたはカルシウムといった単体
金属やこれらを主成分とした合金など光反射性を有する導電性材料からなる薄膜をスパッ
タリングなどの成膜技術によって形成した後、この膜膜に対してフォトリソグラフィ技術
およびエッチング技術を用いたパターニング処理(すなわち薄膜の周縁部を除去する処理
)を施すことによって第1電極11が得られる。なお、各々が異なる材料からなる複数の
層を積層することによって第1電極11を形成してもよい。例えば、LiOとAlとの
積層や、LiFとAlとの積層、あるいはMgFとAlとの積層などにより第1電極1
1が形成され得る。第1電極11はOLED素子51の陽極として機能するため、仕事関
数は4.5eV以上であることが望ましく、さらに好ましくは4.5eV以上かつ5.5
eV以下とされる。
<A-2: Manufacturing method of electro-optical device>
Next, a method for manufacturing the electro-optical device 100 described above will be described.
First, as shown in FIG. 4A, the first electrode 11 is formed on the plate surface of the base material 10.
More specifically, after forming a thin film made of a light-reflective conductive material such as a single metal such as aluminum, magnesium, lithium or calcium or an alloy containing these as a main component by a film forming technique such as sputtering, this film The first electrode 11 is obtained by subjecting the film to a patterning process using a photolithography technique and an etching technique (that is, a process of removing the peripheral portion of the thin film). The first electrode 11 may be formed by laminating a plurality of layers each made of a different material. For example, the first electrode 1 may be formed by stacking Li 2 O and Al, stacking LiF and Al, stacking MgF 2 and Al, or the like.
1 can be formed. Since the first electrode 11 functions as an anode of the OLED element 51, the work function is desirably 4.5 eV or more, more preferably 4.5 eV or more and 5.5.
eV or less.

続いて、図4(b)に示されるように、第1電極11が形成された基材10の板面上に
隔壁13が形成される。具体的には、ポリイミドやアクリル、ポリアミドといった感光性
の有機材料を基材10上に塗布した後に加熱により硬化させ、この有機膜に対して所定の
フォトマスクを用いた露光と現像とを施すことによって格子状の隔壁13が得られる。さ
らに、隔壁13に対してCF、SiFまたはBFなどのガスを反応ガスとしたプラ
ズマ処理が施されて、その表面が撥液性(例えば撥水性)を呈するように改質される。な
お、隔壁13の表面を改質するのではなく、隔壁13の形成に用いられる有機材料に弗化
物を添加することによって隔壁13自体が撥液性を呈するようにしてもよい。
Subsequently, as illustrated in FIG. 4B, the partition wall 13 is formed on the plate surface of the base material 10 on which the first electrode 11 is formed. Specifically, a photosensitive organic material such as polyimide, acrylic or polyamide is applied on the substrate 10 and then cured by heating, and the organic film is exposed and developed using a predetermined photomask. Thus, a lattice-like partition wall 13 is obtained. Further, the partition wall 13 is subjected to plasma treatment using a gas such as CF 4 , SiF 4, or BF 3 as a reactive gas, and the surface thereof is modified to exhibit liquid repellency (for example, water repellency). Instead of modifying the surface of the partition wall 13, the partition wall 13 itself may exhibit liquid repellency by adding a fluoride to the organic material used to form the partition wall 13.

次いで、図4(c)に示されるように、隔壁13により区画された多数の領域(以下「
単位領域」という)Auの各々にOLED素子15が形成される。この形成には液滴吐出
法が用いられる。すなわち、図4(c)に示されるように、各単位領域Auの上方に吐出
口51を移動させたうえで、この吐出口51から電気光学物質を含む液滴を吐出して基材
10の板面上に着弾させる。これを総ての単位領域Auについて繰り返したうえで乾燥さ
せることによってOLED素子15が得られる。なお、OLED素子15の正孔輸送層は
、例えば、ポリチオフェン誘導体やポリピロール誘導体、あるいはこれらにドーピングを
施した材料により形成される。より具体的には、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェ
ンを溶媒としてのポリスチレンスルフォン酸に分散させたうえで水を加えた分散液(PE
DOT/PSSの分散液)が吐出口51から吐出されて正孔輸送層が形成される。また、
OLED素子15の発光層は、例えば、ポリフルオレン誘導体(PV)、ポリパラフェニ
レンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘
導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリジア
ルキルフルオレン(PDAF)、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール(PFBT)、ポ
リアルキルチオフェン(PAT)、あるいはポリメチルフェニルシラン(PMPS)など
公知である各種の材料により形成される。また、これらの高分子材料に対し、ペリレン系
色素、クマリン系色素またはローダミン系色素といった高分子材料や、ルブレン、ペリレ
ン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、ク
マリン6またはキナクリドンといった低分子材料をドープした材料によっても発光層は形
成され得る。
Next, as shown in FIG. 4C, a large number of regions (hereinafter “
An OLED element 15 is formed in each Au (referred to as “unit region”). A droplet discharge method is used for this formation. That is, as shown in FIG. 4C, after the discharge port 51 is moved above each unit area Au, a droplet containing an electro-optical material is discharged from the discharge port 51 to Land on the board. The OLED element 15 is obtained by repeating this for all the unit regions Au and drying. Note that the hole transport layer of the OLED element 15 is formed of, for example, a polythiophene derivative, a polypyrrole derivative, or a material obtained by doping them. More specifically, a dispersion liquid in which 3,4-polyethylenedioxythiophene is dispersed in polystyrene sulfonic acid as a solvent and then water is added (PE
DOT / PSS dispersion) is discharged from the discharge port 51 to form a hole transport layer. Also,
The light emitting layer of the OLED element 15 includes, for example, a polyfluorene derivative (PV), a polyparaphenylene vinylene derivative (PPV), a polyphenylene derivative (PP), a polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), a polythiophene derivative, poly It is formed of various known materials such as dialkylfluorene (PDAF), polyfluorene benzothiadiazole (PFBT), polyalkylthiophene (PAT), or polymethylphenylsilane (PMPS). In addition to these polymer materials, polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes or rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6 or quinacridone. The light emitting layer can also be formed by a material doped with a low molecular material.

上述したように隔壁13の表面は撥液性を呈するから、図4(c)の工程においてOL
ED素子15となる液滴は、隔壁13により囲まれた空間(窪み)内に効率よく滞留する
。なお、隔壁13により仕切られた空間の底部に液滴を効率よく滞留させるという観点か
らすると、親液性を呈する第1層と撥液性を呈する第2層とを基材10側からみてこの順
番に積層することによって隔壁13を形成する方法も好適である。あるいは、SiO
どの無機材料からなる第1層とアクリルやポリイミドなどの有機材料からなる第2層とを
基材10側からみてこの順番に積層することによって隔壁13を形成し、この隔壁13に
対してプラズマ処理を施す方法も採用され得る。この方法によれば、第1層と第2層とで
表面の改質の程度が異なる(第2層が第1層よりも高い撥液性を呈する)から、液滴を効
率的に滞留させることができる。
Since the surface of the partition wall 13 exhibits liquid repellency as described above, the OL in the process of FIG.
The droplet that becomes the ED element 15 efficiently stays in the space (depression) surrounded by the partition wall 13. From the viewpoint of efficiently retaining droplets at the bottom of the space partitioned by the partition wall 13, the first layer exhibiting lyophilicity and the second layer exhibiting liquid repellency are viewed from the substrate 10 side. A method of forming the partition wall 13 by stacking in order is also suitable. Alternatively, a partition wall 13 is formed by laminating a first layer made of an inorganic material such as SiO 2 and a second layer made of an organic material such as acrylic or polyimide in this order as viewed from the substrate 10 side. A method of performing a plasma treatment on can also be employed. According to this method, the degree of surface modification differs between the first layer and the second layer (the second layer exhibits higher liquid repellency than the first layer), so that the droplets are efficiently retained. be able to.

次に、図4(d)に示されるように、基材10の全面を覆うように(すなわち隔壁13
とOLED素子15とを覆うように)第2電極12が形成される。より具体的には、イン
ジウム錫酸化物や酸化インジウム、酸化亜鉛系アモルファスなどの光透過性を有する導電
性材料からなる薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの成膜技術によって形成した後、フ
ォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いたパターニング処理により薄膜の周縁
部を除去することによって第2電極12が得られる。第2電極12はOLED素子51の
陰極として機能するため、仕事関数は3.5eV以下であることが望ましい。
Next, as shown in FIG. 4D, the entire surface of the substrate 10 is covered (that is, the partition wall 13).
And the OLED element 15 are formed). More specifically, after a thin film made of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide, indium oxide, or zinc oxide-based amorphous is formed by a film forming technique such as vacuum deposition or sputtering, a photolithography technique and The 2nd electrode 12 is obtained by removing the peripheral part of a thin film by the patterning process using an etching technique. Since the second electrode 12 functions as a cathode of the OLED element 51, the work function is desirably 3.5 eV or less.

次に、図4(e)に示されるように、隔壁13により区画された多数の単位領域Auの
うち画像構成素子U1に対応する単位領域Auに対して選択的に光フィルタ層21が形成さ
れる。この形成には液滴吐出法(インクジェット法)が用いられる。すなわち、図4(e
)に示されるように、多数の単位領域Auのうち画像構成素子U1に対応する単位領域Au
の上方に吐出口52を移動させたうえで、この吐出口52から光吸収性を有する物質を含
有する液滴を吐出して単位領域Auに着弾させる。これを総ての画像構成素子U1について
繰り返したうえで乾燥させることによって光フィルタ層21が得られる。上述したように
、各光フィルタ層21の光透過率は、その膜厚や材料を適宜に選定することによって調整
される。膜厚に応じて各光フィルタ層21の光透過率が調整される場合、各単位領域Au
に着弾する液滴の量(例えば吐出口52から吐出される液滴量や液滴が吐出される回数)
は、光フィルタ層21が対象画像の階調に応じた膜厚となるように適宜に選定される。例
えば、明るい階調に対応する光フィルタ層21となる液滴は、これよりも暗い階調に対応
する光フィルタ層21となる液滴よりも少ない量とされる。一方、材料の吸光係数に応じ
て各光フィルタ層21の光透過率が調整される場合には、各単位領域Auに吐出される溶
液の種類(あるいは染料・顔料の含有量)は、光フィルタ層21が対象画像の階調に応じ
た光透過率を呈するように適宜に選定される。
Next, as shown in FIG. 4E, the optical filter layer 21 is selectively formed on the unit region Au corresponding to the image constituent element U1 among the many unit regions Au partitioned by the partition wall 13. The For this formation, a droplet discharge method (inkjet method) is used. That is, FIG.
), The unit region Au corresponding to the image constituent element U1 among the many unit regions Au.
After the ejection port 52 is moved above the droplets, droplets containing a light-absorbing substance are ejected from the ejection port 52 to land on the unit region Au. The optical filter layer 21 is obtained by repeating this for all the image constituent elements U1 and then drying. As described above, the light transmittance of each optical filter layer 21 is adjusted by appropriately selecting the film thickness and material. When the light transmittance of each optical filter layer 21 is adjusted according to the film thickness, each unit region Au
The amount of liquid droplets that land on the surface (for example, the amount of liquid droplets discharged from the discharge port 52 and the number of times droplets are discharged)
Is appropriately selected so that the optical filter layer 21 has a thickness corresponding to the gradation of the target image. For example, the amount of liquid droplets that become the optical filter layer 21 corresponding to a bright gradation is smaller than the amount of liquid droplets that become the optical filter layer 21 corresponding to a darker gradation. On the other hand, when the light transmittance of each optical filter layer 21 is adjusted according to the extinction coefficient of the material, the type of solution (or dye / pigment content) discharged to each unit area Au is the optical filter. The layer 21 is appropriately selected so as to exhibit light transmittance according to the gradation of the target image.

光フィルタ層21は、例えば染料や顔料などの色材を含む樹脂材料によって形成される
。より具体的には、インジゴ系やアゾ系といった水溶性の染料が混合された樹脂材料や、
フタロシアニンやペリレンといった顔料が分散された樹脂材料によって光フィルタ層21
が形成され得る。なお、水溶性を持たない色材や水に分散しにくい色材を用いる場合であ
っても、これらの色材の分子をバインディングポリマーによってコーティングしたうえで
溶媒と混合することによって、吐出口52からの吐出に適した溶液を作成することができ
る。また、各種の色材に側鎖を形成することによって溶媒に対する溶解性を持たせてもよ
い。
The optical filter layer 21 is formed of a resin material containing a color material such as a dye or a pigment. More specifically, resin materials mixed with water-soluble dyes such as indigo and azo,
The optical filter layer 21 is made of a resin material in which pigments such as phthalocyanine and perylene are dispersed.
Can be formed. Even when a color material that does not have water solubility or a color material that is difficult to disperse in water is used, the molecules of these color materials are coated with a binding polymer and then mixed with a solvent, so that the discharge port 52 can be used. It is possible to prepare a solution suitable for discharging the liquid. Moreover, you may give the solubility with respect to a solvent by forming a side chain in various coloring materials.

また、吐出口52から吐出される溶液にバインダ成分を添加してもよい。ここで、液滴
吐出法においては、吐出口52からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要があるため、バ
インダ成分としては熱や光といったエネルギの作用によって硬化する物質(例えば感光性
樹脂や熱硬化型樹脂)を用いることが望ましい。これらの物質をバインダ成分として添加
すれば、吐出後の液滴に対して加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとき
に、バインダ成分を硬化させて光フィルタ層21が形成される。バインダ成分としては、
フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ樹脂といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニ
ルベンザルアセトフェノンなど各種の感光性(架橋)樹脂材料が採用され得る。また、ビ
ニル化合物などの材料を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、
これにより光フィルタ層21を形成してもよい。
Further, a binder component may be added to the solution discharged from the discharge port 52. Here, in the droplet discharge method, it is necessary to remove the solvent of the droplet after discharge from the discharge port 52. Therefore, the binder component is a substance that is cured by the action of energy such as heat or light (for example, photosensitive resin or It is desirable to use a thermosetting resin. If these substances are added as a binder component, the binder component is cured to form the optical filter layer 21 when the solvent is removed by heating or irradiating light to the discharged droplets. As a binder component,
Various thermosetting resin materials such as phenol resin, urea resin, and epoxy resin, and various photosensitive (crosslinked) resin materials such as polyvinyl benzalacetophenone can be employed. Moreover, it is crosslinked by applying a polymerization initiator after applying a material such as a vinyl compound to the pixel,
Thereby, the optical filter layer 21 may be formed.

この後、図2に示されるように、基材10の全面を覆うように封止層18が形成される
。この封止層18は、各種の無機化合物により形成されるものであり、好ましくは珪素化
合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物、珪素酸化物などによって形成される。ただし
、これ以外の材料、例えばアルミナや酸化タンタル、酸化チタン、さらには他のセラミッ
クスなどによって封止層18が形成されてもよい。このように封止層18が無機化合物に
より形成されれば、特に第2電極12が無機化合物により形成される場合に封止層18と
第2電極12との密着性が高まり、これにより封止層18が欠陥のない緻密な層となって
酸素や水分に対するバリア性がより良好になる。
Thereafter, as shown in FIG. 2, a sealing layer 18 is formed so as to cover the entire surface of the substrate 10. The sealing layer 18 is formed of various inorganic compounds, and is preferably formed of a silicon compound, that is, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon oxide, or the like. However, the sealing layer 18 may be formed of other materials such as alumina, tantalum oxide, titanium oxide, and other ceramics. Thus, if the sealing layer 18 is formed of an inorganic compound, the adhesion between the sealing layer 18 and the second electrode 12 is increased, particularly when the second electrode 12 is formed of an inorganic compound, thereby sealing the sealing layer 18. The layer 18 becomes a dense layer having no defects, and has a better barrier property against oxygen and moisture.

また、上述した各種の珪素化合物のなかから選択された異なる材料からなる複数の層を
積層することによって封止層18を形成してもよい。より具体的には、珪素化合物からな
る層と珪素酸窒化物からなる層とを第2電極12側からみてこの順番に積層し、あるいは
珪素酸窒化物からなる層と珪素酸化物からなる層とを第2電極12側からみてこの順番に
積層することによって封止層18を形成することが望ましい。トップエミッション型の表
示パネル1においては封止層18が光透過性を有する必要がある。このため、封止層18
の材質や膜厚を適宜に調整することにより、封止層18に可視光領域に属する光を照射し
たときの光透過率を80%以上とすることが望ましい。また、基材10の全面を覆うよう
に封止部材(図示略)が不活性ガス雰囲気中にて貼り合わされた構成としてもよい。この
構成のもとで封止部材と基材10とにより囲まれた密閉空間にOLED素子15を配置す
れば、OLED素子15を大気中の酸素や水分から隔離することができる。こうして封止
層18が形成された後、基材10の縁辺近傍に電源回路8が実装されて電気光学装置10
0が得られる。
Further, the sealing layer 18 may be formed by laminating a plurality of layers made of different materials selected from the various silicon compounds described above. More specifically, a layer made of a silicon compound and a layer made of silicon oxynitride are stacked in this order as viewed from the second electrode 12 side, or a layer made of silicon oxynitride and a layer made of silicon oxide It is desirable to form the sealing layer 18 by stacking layers in this order as viewed from the second electrode 12 side. In the top emission type display panel 1, the sealing layer 18 needs to have light transmittance. For this reason, the sealing layer 18
It is desirable to adjust the light transmittance when the light belonging to the visible light region is irradiated to the sealing layer 18 to 80% or more by appropriately adjusting the material and the film thickness. Moreover, it is good also as a structure by which the sealing member (not shown) was bonded together in the inert gas atmosphere so that the whole surface of the base material 10 might be covered. If the OLED element 15 is arranged in a sealed space surrounded by the sealing member and the base material 10 under this configuration, the OLED element 15 can be isolated from oxygen and moisture in the atmosphere. After the sealing layer 18 is formed in this way, the power supply circuit 8 is mounted in the vicinity of the edge of the substrate 10, and the electro-optical device 10.
0 is obtained.

このように本実施形態によれば、各単位素子Uに対する光フィルタ層21の形成の有無
および各画像構成素子U1における光フィルタ層21の光透過率を適宜に選定することに
より、多階調からなる所望の対象画像を表示する電気光学装置100が得られる。この製
造工程のうち第1電極11および第2電極12やOLED素子15といった各要素を形成
する工程は対象画像の内容に拘わらず共通である。特に、第1電極11および第2電極1
2を形成するためのフォトマスクを対象画像の内容に応じて変更する必要はない。したが
って、本実施形態によれば、対象画像の内容に応じたフォトマスクを用いて表示パネル1
を製造する場合と比較して、各々が異なる対象画像を表示する表示パネル1の製造に要す
るコストが著しく低減される。換言すると、製造コストを増大させることなく、利用者の
要望に応じた種々の対象画像を表示し得る表示パネル1を作成することができる。しかも
、本実施形態においては、光フィルタ層21が比較的安価な液滴吐出法により形成される
という利点もある。
As described above, according to the present embodiment, by appropriately selecting the presence / absence of the formation of the optical filter layer 21 for each unit element U and the light transmittance of the optical filter layer 21 in each image constituent element U1, multiple gradations can be used. Thus, the electro-optical device 100 that displays the desired target image is obtained. Of these manufacturing processes, the process of forming each element such as the first electrode 11, the second electrode 12, and the OLED element 15 is common regardless of the contents of the target image. In particular, the first electrode 11 and the second electrode 1
It is not necessary to change the photomask for forming 2 according to the contents of the target image. Therefore, according to the present embodiment, the display panel 1 is used using a photomask corresponding to the content of the target image.
As compared with the case of manufacturing the display panel, the cost required for manufacturing the display panel 1 for displaying different target images is remarkably reduced. In other words, it is possible to create the display panel 1 that can display various target images according to the user's request without increasing the manufacturing cost. Moreover, the present embodiment has an advantage that the optical filter layer 21 is formed by a relatively inexpensive droplet discharge method.

<A−3:他の構成例>
次に、ボトムエミッション型の表示パネル1の構成を説明する。図5は、この電気光学
装置100の構成を示す断面図であり、前掲した図2に対応している。なお、図5に示さ
れる各要素のうち前掲した各図面の各要素と同様の作用を営むものについては共通の符号
が付されている。ボトムエミッション型の表示パネル1においては、OLED素子15か
ら発せられた光が基材10を透過して観察側(図5における下側)に出射される。このた
め、本実施形態における第2電極12は、アルミニウムや銀などの単体金属やこれらの金
属を主成分として含む合金など光反射性を有する導電性材料によって形成されている。一
方、OLED素子15から発せられて観察側に向かう光量を低減させるため、光制御部た
る光フィルタ層21はOLED素子15と観察者との間に設けられる。図5においては、
光透過性を有する導電性材料からなる導電膜111が基材10の全面を覆うように設けら
れる一方、OLED素子15の陽極たる第1電極11は各単位素子Uごとに別個の電極と
して設けられている。そして、画像構成素子U1のうち第1電極11と導電膜111との
間に介在するように光フィルタ層21が設けられる。この構成において、各画像構成素子
U1の第1電極11は、光フィルタ層21に設けられたコンタクトホール(図示略)を介
して導電膜111に接続されている。この構成によっても、上述した電気光学装置100
と同様に、光フィルタ層21の有無や各々の光透過率に応じて対象画像が表示される。
<A-3: Other configuration examples>
Next, the configuration of the bottom emission type display panel 1 will be described. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the electro-optical device 100 and corresponds to FIG. 2 described above. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about what performs the effect | action similar to each element of each drawing mentioned above among each element shown by FIG. In the bottom emission type display panel 1, the light emitted from the OLED element 15 passes through the substrate 10 and is emitted to the observation side (the lower side in FIG. 5). For this reason, the 2nd electrode 12 in this embodiment is formed with the electroconductive material which has light reflectivity, such as single-piece | unit metals, such as aluminum and silver, and the alloy containing these metals as a main component. On the other hand, in order to reduce the amount of light emitted from the OLED element 15 and traveling toward the observation side, the light filter layer 21 serving as a light control unit is provided between the OLED element 15 and the observer. In FIG.
A conductive film 111 made of a light-transmitting conductive material is provided so as to cover the entire surface of the base material 10, while the first electrode 11 serving as the anode of the OLED element 15 is provided as a separate electrode for each unit element U. ing. The optical filter layer 21 is provided so as to be interposed between the first electrode 11 and the conductive film 111 in the image constituent element U1. In this configuration, the first electrode 11 of each image constituent element U1 is connected to the conductive film 111 via a contact hole (not shown) provided in the optical filter layer 21. Also with this configuration, the electro-optical device 100 described above.
Similarly, the target image is displayed according to the presence / absence of the optical filter layer 21 and each light transmittance.

<B:第2実施形態>
<B−1:電気光学装置100の構成>
上記第1実施形態においては、OLED素子15からの出射光の特性を変化させる光制
御部として光フィルタ層21が採用された構成を例示した。これに対し、本実施形態にお
いては、光制御部として光干渉層22が採用されている。なお、本実施形態に係る電気光
学装置100の各要素のうち上記第1実施形態に係る各要素と同様の作用を営むものにつ
いては共通の符号を付してその詳細な説明を省略する。
<B: Second Embodiment>
<B-1: Configuration of the electro-optical device 100>
In the said 1st Embodiment, the structure by which the optical filter layer 21 was employ | adopted as a light control part which changes the characteristic of the emitted light from the OLED element 15 was illustrated. On the other hand, in this embodiment, the optical interference layer 22 is employed as the light control unit. Of the elements of the electro-optical device 100 according to the present embodiment, those that operate in the same manner as the elements according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図6は、本実施形態に係る表示パネル1の構成を示す断面図である。この表示パネル1
は、OLED素子15から発せられた光が基材10の反対側(図6における上側)に出射
して表示に供されるトップエミッション型のパネルである。同図に示されるように、多数
の単位素子Uのなかから対象画像の内容に応じて選択された画像構成素子U1には光干渉
層22が設けられている。この光干渉層22は、OLED素子15からみて基材10とは
反対側(すなわち表示に供される光が向かう側)に設けられてOLED素子15からの出
射光の特性を変化させる光制御部であり、照射光の一部を透過させて他を反射させる第1
半透過反射層と、同じく照射光の一部を透過させて他を反射させる第2半透過反射層22
2と、第1半透過反射層と第2半透過反射層222との間に介在して照射光を透過させる
透光層223とを有する。ただし、図6においては、第1半透過反射層がOLED素子1
5の陰極たる第2電極12として兼用されている場合が例示されている。すなわち、本実
施形態における第2電極12は、照射光の一部を透過させて他を反射する電極である。第
1半透過反射層たる第2電極12と第2半透過反射層222とは、画像構成素子U1およ
び非構成素子U0の双方を含む総ての単位素子Uにわたって連続するように設けられてい
る。また、第2半透過反射層222は、照射光の一部を透過させて他を反射させる役割の
ほか、基材10上に形成された各要素を保護する役割(すなわち上記第1実施形態におけ
る封止層18と同様の役割)を担っている。このため、本実施形態に係る表示パネル1は
封止層18を持たない。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the configuration of the display panel 1 according to the present embodiment. This display panel 1
Is a top emission type panel in which light emitted from the OLED element 15 is emitted to the opposite side (upper side in FIG. 6) of the substrate 10 and used for display. As shown in the figure, an optical interference layer 22 is provided in the image constituent element U1 selected from among a large number of unit elements U according to the contents of the target image. The light interference layer 22 is provided on the side opposite to the substrate 10 as viewed from the OLED element 15 (that is, the side toward which light used for display is directed), and changes the characteristics of the emitted light from the OLED element 15. The first for transmitting a part of the irradiation light and reflecting the other
Similarly to the semi-transmissive reflective layer, the second semi-transmissive reflective layer 22 transmits a part of the irradiation light and reflects the other.
2 and a translucent layer 223 that is interposed between the first transflective layer and the second transflective layer 222 to transmit the irradiation light. However, in FIG. 6, the first transflective layer is the OLED element 1.
A case where the second electrode 12 is also used as the cathode 5 is illustrated. That is, the 2nd electrode 12 in this embodiment is an electrode which permeate | transmits a part of irradiation light and reflects others. The second electrode 12 and the second transflective layer 222 as the first transflective layer are provided so as to continue over all unit elements U including both the image constituent element U1 and the non-constituent element U0. . Further, the second transflective layer 222 has a role of transmitting a part of the irradiation light and reflecting the other, and a role of protecting each element formed on the substrate 10 (that is, in the first embodiment). It plays the same role as the sealing layer 18). For this reason, the display panel 1 according to the present embodiment does not have the sealing layer 18.

一方、透光層223は、多数の単位素子Uのうち画像構成素子U1のみに対して選択的
に設けられ、非構成素子U0には設けられていない。ここで、第2電極12によって覆わ
れた隔壁13の頂上面には、この隔壁13と重なる格子状の透光層形成用隔壁225が設
けられている。画像構成素子U1の透光層223は、隔壁13および透光層形成用隔壁2
25の双方によって囲まれた空間(窪み)に入り込むように設けられている。なお、上述
した第2半透過反射層222は透光層形成用隔壁225を覆うように設けられている。
On the other hand, the translucent layer 223 is selectively provided only for the image constituent element U1 among the many unit elements U, and is not provided for the non-constituent element U0. Here, on the top surface of the partition wall 13 covered with the second electrode 12, a lattice-shaped light transmitting layer forming partition wall 225 overlapping the partition wall 13 is provided. The translucent layer 223 of the image constituent element U1 includes the partition wall 13 and the translucent layer forming partition wall 2.
25 is provided so as to enter a space (depression) surrounded by both of them. The second transflective layer 222 described above is provided so as to cover the light transmitting layer forming partition wall 225.

ここで、第1半透過反射層(第2電極12)を透過して第2半透過反射層222に向か
う光や、この第2半透過反射層222のうち第1半透過反射層と対向する面において反射
した光、および第1半透過反射層のうち第2半透過反射層222と対向する面において反
射した光は、第1半透過反射層と第2半透過反射層222との間において相互に干渉して
観察側に出射する。この干渉の程度(条件)は第1半透過反射層と第2半透過反射層22
2との間隔に応じたものとなる。そこで、本実施形態においては、各画像構成素子U1に
おける透光層223の膜厚が、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に選定さ
れている。このように第1半透過反射層(第2電極12)と第2半透過反射層222との
間隔を画像構成素子U1ごとに異ならせることにより、第1半透過反射層と第2半透過反
射層222との間を進行する光同士の干渉の程度が任意に調整される。この結果、OLE
D素子15から発せられて光干渉層22を透過したうえで観察側に出射する光量は、各画
像構成素子U1における透光層223の膜厚に応じたものとなる。
Here, the light transmitted through the first transflective layer (second electrode 12) toward the second transflective layer 222 or the first transflective layer of the second transflective layer 222 faces the first transflective layer. The light reflected on the surface and the light reflected on the surface of the first transflective layer facing the second transflective layer 222 are between the first transflective layer and the second transflective layer 222. The beams interfere with each other and exit to the observation side. The degree (condition) of this interference depends on the first transflective layer and the second transflective layer 22.
2 according to the interval. Therefore, in the present embodiment, the film thickness of the light transmitting layer 223 in each image constituent element U1 is appropriately selected according to the gradation of each dot constituting the target image. As described above, the distance between the first transflective layer (second electrode 12) and the second transflective layer 222 is made different for each image constituent element U1, so that the first transflective layer and the second transflective layer are reflected. The degree of interference between the light traveling between the layers 222 is arbitrarily adjusted. As a result, OLE
The amount of light emitted from the D element 15 and transmitted through the optical interference layer 22 and then emitted to the observation side depends on the film thickness of the light transmitting layer 223 in each image constituent element U1.

以上に説明したように、本実施形態においては、光干渉層22の有無に応じて対象画像
の形状が任意に選定されるとともに、各光干渉層22における透光層223の膜厚に応じ
て対象画像の各部の階調が任意に選定される。したがって、本実施形態に係る電気光学装
置100によれば、極めて簡易な構成にも拘わらず高品位かつ高精細な表示が実現される
As described above, in the present embodiment, the shape of the target image is arbitrarily selected according to the presence or absence of the light interference layer 22, and according to the film thickness of the light transmitting layer 223 in each light interference layer 22. The gradation of each part of the target image is arbitrarily selected. Therefore, according to the electro-optical device 100 according to the present embodiment, a high-quality and high-definition display is realized despite the extremely simple configuration.

<B−2:電気光学装置100の製造方法>
本実施形態に係る電気光学装置100は、上記第1実施形態に係る電気光学装置100
の製造方法のうち図4(e)の光フィルタ層21を形成する工程に代えて、光干渉層22
を形成する工程を実施することによって製造される。このため、以下では光干渉層22を
形成する工程のみを説明し、その他の要素(第1電極11、隔壁13およびOLED素子
15)を形成する工程については説明を省略する。
<B-2: Manufacturing Method of Electro-Optical Device 100>
The electro-optical device 100 according to the present embodiment is the electro-optical device 100 according to the first embodiment.
In place of the step of forming the optical filter layer 21 in FIG.
It is manufactured by performing the process of forming. For this reason, below, only the process of forming the optical interference layer 22 is demonstrated, and description about the process of forming the other elements (the 1st electrode 11, the partition 13, and the OLED element 15) is abbreviate | omitted.

図4(c)に示したOLED素子15を形成する工程に続き、図7(a)に示されるよ
うに、第1半透過反射層を兼ねる第2電極12が形成される。より具体的には、光透過性
および光反射性を兼ね備える導電性材料からなる薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの
成膜技術によって形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いたパ
ターニング処理により薄膜の周縁部を除去することによって第2電極12が得られる。第
2電極12の材料としては、インジウム錫酸化物や酸化亜鉛系アモルファス材料(例えば
IZO(登録商標))などが採用され得る。また、アルミニウム、マグネシウムまたは銀
といった単体金属やこれらの金属を主成分とする合金など光反射性を有する材料を極薄い
膜状に形成することにより、照射光の一部を透過させる機能を持たせることができる。
Subsequent to the step of forming the OLED element 15 shown in FIG. 4C, as shown in FIG. 7A, the second electrode 12 also serving as the first transflective layer is formed. More specifically, a thin film made of a conductive material having both light transmittance and light reflectivity is formed by a film forming technique such as vacuum deposition or sputtering, and then the thin film is formed by patterning using a photolithography technique and an etching technique. The 2nd electrode 12 is obtained by removing a peripheral part. As the material of the second electrode 12, indium tin oxide, a zinc oxide-based amorphous material (for example, IZO (registered trademark)), or the like can be employed. In addition, by forming a light-reflective material such as a single metal such as aluminum, magnesium or silver or an alloy containing these metals as a main component into an extremely thin film, it has a function of transmitting part of the irradiation light. be able to.

次に、図7(b)に示されるように、第2電極12によって覆われた隔壁13の頂上面
に透光層形成用隔壁225が形成される。具体的には、ポリイミドやアクリル、ポリアミ
ドといった感光性の有機材料を基材10の全面を覆うように塗布した後に加熱により硬化
させ、この有機膜に対して所定のフォトマスクを用いた露光と現像とを施すことによって
格子状の透光層形成用隔壁225が得られる。この透光層形成用隔壁225は、上述した
隔壁13と同様に撥液性を呈することが望ましい。透光層形成用隔壁225の表面に撥液
性を持たせるための方法としては、上記第1実施形態において隔壁13について説明した
方法が採用され得る。
Next, as shown in FIG. 7B, a light transmitting layer forming partition wall 225 is formed on the top surface of the partition wall 13 covered with the second electrode 12. Specifically, a photosensitive organic material such as polyimide, acrylic, or polyamide is applied so as to cover the entire surface of the substrate 10 and then cured by heating, and the organic film is exposed and developed using a predetermined photomask. To obtain a lattice-shaped light transmitting layer forming partition wall 225. It is desirable that the light transmitting layer forming partition wall 225 exhibit liquid repellency like the partition wall 13 described above. As a method for imparting liquid repellency to the surface of the light transmitting layer forming partition wall 225, the method described for the partition wall 13 in the first embodiment may be employed.

次に、図7(c)に示されるように、隔壁13および透光層形成用隔壁225により区
画された多数の単位領域Auのうち画像構成素子U1に対応する単位領域Auに対して選択
的に透光層223が形成される。この形成には液滴吐出法が用いられる。すなわち、図7
(c)に示されるように、多数の単位領域Auのうち画像構成素子U1に対応する単位領域
Auの上方に吐出口54を移動させたうえで、この吐出口54から光透過性を有する物質
を含有する液滴を吐出して単位領域Auに着弾させる。これを総ての画像構成素子U1につ
いて繰り返したうえで乾燥させることによって光干渉層22の透光層223が得られる。
この工程において吐出口54から吐出される液滴の量は、透光層223が対象画像の階調
に応じた膜厚となるように適宜に調整される。
Next, as shown in FIG. 7C, the unit region Au corresponding to the image constituent element U1 is selectively selected from the many unit regions Au partitioned by the partition wall 13 and the light transmitting layer forming partition wall 225. A translucent layer 223 is formed on the substrate. A droplet discharge method is used for this formation. That is, FIG.
As shown in (c), after the discharge port 54 is moved above the unit region Au corresponding to the image constituent element U1 among the many unit regions Au, the substance having light transmittance from the discharge port 54 Are ejected to land on the unit area Au. This is repeated for all the image constituent elements U1, and then dried to obtain the light transmitting layer 223 of the light interference layer 22.
In this step, the amount of liquid droplets ejected from the ejection port 54 is appropriately adjusted so that the translucent layer 223 has a film thickness corresponding to the gradation of the target image.

透光層223は、光透過性を有する各種の材料によって形成される。より具体的には、
ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ポリ塩化ビニル樹脂、メラニン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂などによって透
光層223が形成され得る。なお、本実施形態における透光層223は液滴吐出法によっ
て形成されるから、透光層223を形成するための材料は、水などの溶媒に対する溶解性
を有する材料や溶媒に分散する材料であることが望ましい。これらの材料としては、多価
アルコール(例えばポリビニルアルコール)、アクリル樹脂(例えばポリ酢酸ビニルやポ
リアクリル酸ビニル)、有機珪素化合物(例えばテトラエトキシシラン(TEOS)やア
ニノプロピルトリメトキシシラン)などが挙げられる。もっとも、水溶性を持たない材料
や水に分散しにくい材料であっても、これらの材料の分子をバインディングポリマーによ
ってコーティングしたうえで水に混合させることによって、吐出口54からの吐出に適し
た溶液を得ることができる。また、これらの材料に側鎖を形成することによって溶媒に対
する溶解性を持たせてもよい。
The light transmissive layer 223 is formed of various materials having light transmissivity. More specifically,
Polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl chloride resin, melanin resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin,
The translucent layer 223 can be formed of polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin, or the like. Note that since the light-transmitting layer 223 in this embodiment is formed by a droplet discharge method, a material for forming the light-transmitting layer 223 is a material that is soluble in a solvent such as water or a material that is dispersed in the solvent. It is desirable to be. Examples of these materials include polyhydric alcohols (for example, polyvinyl alcohol), acrylic resins (for example, polyvinyl acetate and polyvinyl acrylate), organic silicon compounds (for example, tetraethoxysilane (TEOS) and aninopropyltrimethoxysilane), and the like. It is done. Of course, even for materials that are not water-soluble or difficult to disperse in water, the molecules of these materials are coated with a binding polymer and mixed with water, so that the solution is suitable for ejection from the ejection port 54. Can be obtained. Moreover, you may give the solubility with respect to a solvent by forming a side chain in these materials.

また、液滴吐出法においては、吐出口54からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要が
あるため、熱や光といったエネルギの作用によって硬化する材料(例えば感光性樹脂や熱
硬化性樹脂)によって透光層223を形成することが望ましい。これらの材料を溶媒に含
有させたものを吐出口54から吐出させて透光層223を形成すれば、吐出後の液滴に対
して加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとときに透光層223を硬化さ
せることができる。したがって、透光層223は、フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ
樹脂といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニルベンザルアセトフェノンなど各種の
感光性(架橋)樹脂材料によって形成されることが望ましい。また、ビニル化合物などの
材料を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、これにより透光層
223を形成してもよい。
In the droplet discharge method, since the solvent of the droplet needs to be removed after discharge from the discharge port 54, a material that is cured by the action of energy such as heat or light (for example, a photosensitive resin or a thermosetting resin). It is desirable to form the translucent layer 223 by If the light-transmitting layer 223 is formed by discharging a material containing these materials in a solvent from the discharge port 54, the solvent may be removed when the solvent is removed by heating or irradiating the discharged droplets. The optical layer 223 can be cured. Therefore, the light transmitting layer 223 is desirably formed of various thermosetting resin materials such as phenol resin, urea resin, and epoxy resin, and various photosensitive (crosslinked) resin materials such as polyvinyl benzalacetophenone. Alternatively, the light-transmitting layer 223 may be formed by applying a polymerization initiator to the pixel after applying a material such as a vinyl compound to the pixel, thereby cross-linking.

さて、以上の工程により透光層223が形成された後、図7(d)に示されるように、
基材10の全面を覆うように第2半透過反射層222が形成される。この第2半透過反射
層222は第1半透過反射層たる第2電極12と同様の材料によって共通の工程を経て形
成され得る。なお、第2電極12または第2半透過反射層222と透光層223との境界
において光を反射させるために、第2電極12または第2半透過反射層222の屈折率と
透光層223の屈折率とは相違する必要がある。より具体的には、以上に例示した透光層
223の材料は屈折率が1.6程度であるため、第2電極12および第2半透過反射層2
22はこれよりも屈折率が大きい材料によって形成されることが望ましい。
Now, after the translucent layer 223 is formed by the above steps, as shown in FIG.
A second transflective layer 222 is formed so as to cover the entire surface of the substrate 10. The second transflective layer 222 can be formed through a common process using the same material as that of the second electrode 12 serving as the first transflective layer. In order to reflect light at the boundary between the second electrode 12 or the second transflective layer 222 and the translucent layer 223, the refractive index of the second electrode 12 or the second transflective layer 222 and the translucent layer 223 are reflected. Must be different from the refractive index. More specifically, since the material of the light-transmitting layer 223 exemplified above has a refractive index of about 1.6, the second electrode 12 and the second transflective layer 2
22 is preferably formed of a material having a higher refractive index.

このように本実施形態によれば、各単位素子Uにおける光干渉層22(より詳細には透
光層223)の有無および各画像構成素子U1における透光層223の膜厚を適宜に選定
することにより、多階調からなる所望の対象画像を表示する電気光学装置100が得られ
る。したがって、上記第1実施形態と同様の理由により、各々が異なる対象画像を表示す
るための表示パネル1の製造に要するコストが著しく低減される。しかも、本実施形態に
おいては、比較的安価で制御が容易な液滴吐出法により光干渉層22の透光層223が形
成されるという利点もある。
As described above, according to the present embodiment, the presence / absence of the light interference layer 22 (more specifically, the light transmissive layer 223) in each unit element U and the film thickness of the light transmissive layer 223 in each image constituent element U1 are appropriately selected. Thus, the electro-optical device 100 that displays a desired target image having multiple gradations can be obtained. Therefore, for the same reason as in the first embodiment, the cost required for manufacturing the display panel 1 for displaying different target images is remarkably reduced. Moreover, this embodiment has an advantage that the light-transmitting layer 223 of the optical interference layer 22 is formed by a droplet discharge method that is relatively inexpensive and easy to control.

<B−3:他の構成例>
図6においては第2電極12が光干渉層22の第1半透過反射層を兼ねるとともに第2
半透過反射層222が封止層18を兼ねる構成を例示したが、図8に示されるように、こ
れらの各部が別個に形成された構成も採用され得る。同図に示された表示パネル1におい
ては、第2電極12を覆うように第1半透過反射層221が形成されるとともに、第2半
透過反射層222を覆うように封止層18が形成されている。また、以上においてはトッ
プエミッション型の表示パネル1を例示したが、ボトムエミッション型の表示パネルにお
いても光干渉層22により対象画像を表示する構成が採用され得る。ボトムエミッション
型の表示パネル1においては、図5に示した光フィルタ層21の代わりに、光干渉層22
が設けられる。
<B-3: Other configuration examples>
In FIG. 6, the second electrode 12 also serves as the first transflective layer of the optical interference layer 22 and the second
Although the configuration in which the transflective layer 222 also serves as the sealing layer 18 is illustrated, as shown in FIG. 8, a configuration in which these portions are separately formed may be employed. In the display panel 1 shown in the figure, the first transflective layer 221 is formed so as to cover the second electrode 12, and the sealing layer 18 is formed so as to cover the second transflective layer 222. Has been. In the above, the top emission type display panel 1 has been exemplified. However, a configuration in which a target image is displayed by the light interference layer 22 can also be adopted in a bottom emission type display panel. In the bottom emission type display panel 1, instead of the optical filter layer 21 shown in FIG.
Is provided.

<C:第3実施形態>
<C−1:電気光学装置100の構成>
上記第1実施形態においては、光制御部として光フィルタ層21が採用された構成を例
示した。これに対し、本実施形態においては、光制御部としてレンズ層23が採用されて
いる。なお、本実施形態に係る電気光学装置100の各要素のうち上記第1実施形態に係
る各要素と同様の作用を営むものについては共通の符号を付してその詳細な説明を省略す
る。
<C: Third Embodiment>
<C-1: Configuration of Electro-Optical Device 100>
In the said 1st Embodiment, the structure by which the optical filter layer 21 was employ | adopted as the light control part was illustrated. On the other hand, in the present embodiment, the lens layer 23 is employed as the light control unit. Of the elements of the electro-optical device 100 according to the present embodiment, those that operate in the same manner as the elements according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図9は、本実施形態に係る表示パネル1の構成を示す断面図である。この表示パネル1
は、OLED素子15から発せられた光が基材10の反対側(図9における上側)に出射
して表示に供されるトップエミッション型のパネルである。同図に示されるように、多数
の単位素子Uのなかから対象画像の内容に応じて選択された画像構成素子U1にはレンズ
層23が設けられる一方、非構成素子U0にはレンズ層23が設けられていない。このレ
ンズ層23は、OLED素子15からみて基材10とは反対側(すなわち表示に供される
光が向かう側)に設けられてOLED素子15からの出射光の特性を変化させる光制御部
であり、OLED素子15とは反対側に向かって凸であるレンズ231(凸レンズ)を有
する。また、図9に示されるように、第2電極12の表面上にはレンズ層形成用隔壁23
5が設けられている。このレンズ層形成用隔壁235は、隔壁13の内壁と頂上面とを覆
うように設けられた膜体である。各画像構成素子U1のレンズ層23は、隔壁13および
レンズ層形成用隔壁235によって囲まれた空間(窪み)に入り込むように形成されてい
る。詳細は後述するが、レンズ層形成用隔壁235は、レンズ層23を液滴吐出法によっ
て形成する工程においてレンズ層23となる液滴を基材10上に効率よく滞留させる役割
を担っている。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the configuration of the display panel 1 according to the present embodiment. This display panel 1
Is a top emission type panel in which light emitted from the OLED element 15 is emitted to the opposite side (upper side in FIG. 9) of the substrate 10 and used for display. As shown in the figure, a lens layer 23 is provided on the image constituent element U1 selected according to the contents of the target image from among a large number of unit elements U, while a lens layer 23 is provided on the non-constituent element U0. Not provided. The lens layer 23 is a light control unit that is provided on the side opposite to the substrate 10 as viewed from the OLED element 15 (that is, the side toward which light used for display is directed) and changes the characteristics of the emitted light from the OLED element 15. There is a lens 231 (convex lens) that is convex toward the side opposite to the OLED element 15. Further, as shown in FIG. 9, a lens layer forming partition wall 23 is formed on the surface of the second electrode 12.
5 is provided. The lens layer forming partition wall 235 is a film body provided so as to cover the inner wall and the top surface of the partition wall 13. The lens layer 23 of each image forming element U1 is formed so as to enter a space (depression) surrounded by the partition wall 13 and the lens layer forming partition wall 235. Although details will be described later, the lens layer forming partition wall 235 plays a role of efficiently retaining droplets to be the lens layer 23 on the substrate 10 in the step of forming the lens layer 23 by the droplet discharge method.

ここで、図10(a)は、非構成素子U0のOLED素子15から発せられた光の経路
を示す図であり、同図(b)は、画像構成素子U1のOLED素子15から発せられた光
の経路を示す図である。同図(a)および(b)においては、電極や隔壁13など表示パ
ネル1を構成する各要素の図示が適宜に省略されている。図10(a)および(b)に示
される基板6は、本実施形態に係る表示パネル1の観察側に配置された光透過性を有する
板状部材である。この基板6は、例えば電気光学装置100を搭載した電子機器の筐体に
配置されて表示パネル1を保護する役割を担っている。なお、以下では説明の便宜のため
に、基板6のうち観察側とは反対側の板面と発光素子またはレンズ層23との間隙が当該
基板6と略同一の屈折率を有する物質によって満たされているものと仮定する。
Here, FIG. 10A is a diagram showing a path of light emitted from the OLED element 15 of the non-component U0, and FIG. 10B is emitted from the OLED element 15 of the image constituent U1. It is a figure which shows the path | route of light. In FIGS. 2A and 2B, illustration of elements constituting the display panel 1 such as electrodes and partition walls 13 is omitted as appropriate. A substrate 6 shown in FIGS. 10A and 10B is a light-transmitting plate-like member disposed on the observation side of the display panel 1 according to this embodiment. For example, the substrate 6 is disposed in a housing of an electronic device on which the electro-optical device 100 is mounted, and plays a role of protecting the display panel 1. In the following description, for convenience of explanation, the gap between the surface of the substrate 6 opposite to the observation side and the light emitting element or the lens layer 23 is filled with a substance having substantially the same refractive index as that of the substrate 6. Assuming that

図10(a)に示されるように、非構成素子U0のOLED素子15から出射角θ1にて
出射した光は基板6の観察側の板面と観察側の空間との境界面61に対して入射角θ1に
て到達する。ここで、入射角θ1が臨界角よりも大きい角度であるとすれば、この光は境
界面61において観察側とは反対側に全反射するから、観察側に出射して表示に供される
ことはない。つまり、非構成素子U0にあっては、境界面61における臨界角よりも小さ
い出射角にてOLED素子15から出射した光のみが観察側に出射して表示に供されるこ
ととなる。これに対し、画像構成素子U1のOLED素子15から出射角θ1にて出射した
光はレンズ層23のレンズ231表面において屈折するため、角度θ1よりも小さい角度
θ2にて境界面61に到達することとなる。この角度θ2が臨界角よりも小さい角度である
とすれば、この光は境界面61において反射することなく観察側に出射して表示に供され
る。換言すると、画像構成素子U1にあってはOLED素子15からの出射光がレンズ2
31によって集光されるため、境界面61における臨界角よりも大きい出射角にてOLE
D素子15から出射した光も観察側に出射させて表示に供することができるのである。し
たがって、OLED素子15からの出射光量が画像構成素子U1と非構成素子U0とで略同
一であったとしても、実際に観察側に出射する光量は画像構成素子U1と非構成素子U0と
で異なる。より具体的には、OLED素子15からの出射光を屈折させるレンズ231が
設けられた画像構成素子U1から観察側に出射する光量は、非構成素子U0から観察側に出
射する光量よりも多くなるのである。この出射光量の差は観察者によって階調の差として
認識され、この結果として対象画像が表示される。したがって、上述した第1実施形態に
おいては、画像構成素子U1の表示階調が非構成素子U0の表示階調よりも低く(暗く)な
るのに対し、本実施形態においては画像構成素子U1の表示階調が非構成素子U0の表示階
調よりも高く(明るく)なる。すなわち、図3に示した階調の明暗は本実施形態において
は逆転することとなる。
As shown in FIG. 10A, the light emitted from the OLED element 15 of the non-constituent element U0 at the emission angle θ1 is relative to the boundary surface 61 between the plate surface on the observation side of the substrate 6 and the space on the observation side. It reaches at an incident angle θ1. Here, if the incident angle θ1 is larger than the critical angle, this light is totally reflected on the side of the boundary surface 61 opposite to the observation side, so that it is emitted to the observation side and used for display. There is no. That is, in the non-constituent element U0, only the light emitted from the OLED element 15 at the emission angle smaller than the critical angle at the boundary surface 61 is emitted to the observation side and used for display. On the other hand, since the light emitted from the OLED element 15 of the image forming element U1 at the emission angle θ1 is refracted on the surface of the lens 231 of the lens layer 23, it reaches the boundary surface 61 at an angle θ2 smaller than the angle θ1. It becomes. If this angle θ2 is smaller than the critical angle, this light is emitted to the observation side without being reflected at the boundary surface 61 and used for display. In other words, in the image constituent element U1, the emitted light from the OLED element 15 is converted into the lens 2
Since the light is condensed by 31, the OLE has an exit angle larger than the critical angle at the boundary surface 61.
The light emitted from the D element 15 can also be emitted to the observation side for display. Therefore, even if the amount of light emitted from the OLED element 15 is substantially the same between the image constituent element U1 and the non-constituent element U0, the amount of light actually emitted to the observation side differs between the image constituent element U1 and the non-constituent element U0. . More specifically, the amount of light emitted from the image constituent element U1 provided with the lens 231 that refracts the emitted light from the OLED element 15 to the observation side is larger than the amount of light emitted from the non-constituent element U0 to the observation side. It is. This difference in the amount of emitted light is recognized as a difference in gradation by the observer, and as a result, the target image is displayed. Therefore, in the first embodiment described above, the display gradation of the image constituent element U1 is lower (darker) than the display gradation of the non-constituent element U0, whereas in this embodiment, the display of the image constituent element U1 is displayed. The gradation is higher (brighter) than the display gradation of the non-constituting element U0. That is, the brightness of the gradation shown in FIG. 3 is reversed in the present embodiment.

さらに、各画像構成素子U1におけるレンズ層23の光学的特性は、対象画像を構成す
る各ドットの階調に応じて異なる。より具体的には、各画像構成素子U1のレンズ層23
におけるレンズ231の焦点距離は、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に
選定されているのである。さらに詳述すると、明るい階調を表示すべき画像構成素子U1
のレンズ231ほど観察側への出射光量が大きくなり、暗い階調を表示すべき画像構成素
子U1のレンズ231ほど観察側への出射光量が小さく(ただし非構成素子U0の出射光量
よりは大きく)なるように、各画像構成素子U1のレンズ231の焦点距離が調整されて
いる。このように各レンズ層23におけるレンズ231の焦点距離を異ならせるための構
成としては、各レンズ231の表面形状(特に曲率)を対象画像の階調ごとに異ならせる
構成と、屈折率が異なる材料によって各レンズ231を形成した構成とが考えられる。
Further, the optical characteristics of the lens layer 23 in each image constituent element U1 differ depending on the gradation of each dot constituting the target image. More specifically, the lens layer 23 of each image constituent element U1.
The focal length of the lens 231 is appropriately selected according to the gradation of each dot constituting the target image. More specifically, the image forming element U1 to display a bright gradation.
The lens 231 has a larger amount of light emitted toward the observation side, and the lens 231 of the image constituent element U1 to display a dark gradation has a smaller amount of light emitted toward the observation side (however, is larger than the amount of light emitted from the non-constituent element U0). Thus, the focal length of the lens 231 of each image constituting element U1 is adjusted. In this way, as a configuration for making the focal length of the lens 231 different in each lens layer 23, a material having a different refractive index from a configuration in which the surface shape (particularly the curvature) of each lens 231 is made different for each gradation of the target image. Thus, a configuration in which each lens 231 is formed can be considered.

以上に説明したように、本実施形態においては、レンズ層23の有無に応じて対象画像
の形状が任意に選定されるとともに、各レンズ層23の焦点距離に応じて対象画像の各部
の階調が任意に選定される。したがって、本実施形態に係る電気光学装置100によって
も、極めて簡易な構成にも拘わらず高品位かつ高精細な表示が実現される。
As described above, in the present embodiment, the shape of the target image is arbitrarily selected according to the presence or absence of the lens layer 23, and the gradation of each part of the target image according to the focal length of each lens layer 23 Is arbitrarily selected. Therefore, even with the electro-optical device 100 according to the present embodiment, a high-quality and high-definition display can be realized despite an extremely simple configuration.

<C−2:電気光学装置100の製造方法>
本実施形態に係る電気光学装置100は、上記第1実施形態に係る電気光学装置100
の製造方法のうち図4(e)の光フィルタ層21を形成する工程に代えて、レンズ層23
を形成する工程を実施することによって製造される。このため、以下ではレンズ層23を
形成する工程のみを説明し、その他の要素(第1電極11、隔壁13、OLED素子15
および第2電極12)を形成する工程については説明を省略する。
<C-2: Manufacturing Method of Electro-Optical Device 100>
The electro-optical device 100 according to the present embodiment is the electro-optical device 100 according to the first embodiment.
In place of the step of forming the optical filter layer 21 of FIG.
It is manufactured by performing the process of forming. For this reason, only the process of forming the lens layer 23 will be described below, and other elements (the first electrode 11, the partition wall 13, the OLED element 15) are described.
The description of the step of forming the second electrode 12) is omitted.

図4(d)に示した第2電極12を形成する工程に続き、図11(a)に示されるよう
に、第2電極12のうち隔壁13を覆う部分にレンズ層形成用隔壁235が形成される。
このレンズ層形成用隔壁235の表面は撥液性を呈する。このようなレンズ層形成用隔壁
235は、隔壁13について上記第1実施形態にて説明したのと同様に、ポリイミドやア
クリルなどの有機材料からなる薄膜をフォトリソグラフィ技術によりパターニングした後
、この薄膜の表面に撥液性を持たせるためにプラズマ処理を施すことによって得られる。
ただし、この工程においては、有機材料からなる薄膜のパターニングに用いられる溶剤が
既に形成されているOLED素子15に付着して損傷を与える可能性がある。このような
不具合を回避するために、レンズ層形成用隔壁235は図12に示される工程によって形
成されることが望ましい。すなわち、同図(a)に示されるように、まず、レンズ層形成
用隔壁235となる複数の膜体572を平板状の基板571の板面上に形成する。この膜
体572は、例えば弗化物が添加された有機材料により形成された薄膜を隔壁13と重な
るような形状(格子状)にパターニングすることにより得られたものである。したがって
、膜体572は撥液性を有する。次いで、図12(b)に示されるように、第2電極12
によって覆われた隔壁13の頂上面に膜体572が接触するように基板571と基材10
とを対向させ、この状態で膜体572に対して熱や光などのエネルギが付与される。例え
ば、基板571を介して膜体572に紫外線やレーザ光が照射される。この工程により膜
体572が基板571の板面から剥離されて隔壁13上に転写され、撥液性を有するレン
ズ層形成用隔壁235が得られる。このように、基板571上に別途に形成された膜体5
72を基材10上に転写してレンズ層形成用隔壁235を形成する方法によれば、溶剤に
よるOLED素子15の損傷は原理的に生じ得ない。
Following the step of forming the second electrode 12 shown in FIG. 4D, as shown in FIG. 11A, a lens layer forming partition 235 is formed in a portion of the second electrode 12 covering the partition 13. Is done.
The surface of the lens layer forming partition wall 235 exhibits liquid repellency. Such a lens layer forming partition wall 235 is formed by patterning a thin film made of an organic material such as polyimide or acrylic by the photolithography technique in the same manner as described in the first embodiment for the partition wall 13. It is obtained by subjecting the surface to plasma treatment in order to impart liquid repellency.
However, in this process, there is a possibility that a solvent used for patterning a thin film made of an organic material adheres to the already formed OLED element 15 and is damaged. In order to avoid such a problem, it is desirable that the lens layer forming partition wall 235 be formed by the process shown in FIG. That is, as shown in FIG. 5A, first, a plurality of film bodies 572 to be the lens layer forming partition walls 235 are formed on the plate surface of the flat substrate 571. The film body 572 is obtained, for example, by patterning a thin film formed of an organic material to which a fluoride is added so as to overlap with the partition wall 13 (lattice shape). Therefore, the film body 572 has liquid repellency. Next, as shown in FIG. 12B, the second electrode 12
The substrate 571 and the base material 10 so that the film body 572 contacts the top surface of the partition wall 13 covered with
In this state, energy such as heat and light is applied to the film body 572. For example, the film body 572 is irradiated with ultraviolet rays or laser light through the substrate 571. By this step, the film body 572 is peeled off from the plate surface of the substrate 571 and transferred onto the partition wall 13 to obtain a lens layer forming partition wall 235 having liquid repellency. Thus, the film body 5 separately formed on the substrate 571.
According to the method of forming the lens layer forming partition wall 235 by transferring 72 onto the base material 10, the OLED element 15 cannot be damaged by the solvent in principle.

さて、以上の工程にてレンズ層形成用隔壁235が形成されると、図11(b)に示さ
れるように、隔壁13およびレンズ層形成用隔壁235により区画された多数の単位領域
Auのうち画像構成素子U1に対応する単位領域Auに対して選択的にレンズ層23が形成
される。この形成には液滴吐出法が用いられる。すなわち、図11(b)に示されるよう
に、多数の単位領域Auのうち画像構成素子U1に対応する単位領域Auの上方に吐出口5
6を移動させたうえで、この吐出口56から光透過性を有する物質を含有する液滴を吐出
して単位領域Auに着弾させる。これを総ての画像構成素子U1について繰り返したうえで
乾燥させることによってレンズ層23が得られる。ここで、レンズ層23が形成される単
位領域Auは撥液性を有するレンズ層形成用隔壁235によって囲まれているため、単位
領域Auに着弾した液滴は基材10と反対側に向けて突起した状態で硬化してレンズ23
1となる。上述したように、各レンズ層23におけるレンズ231の焦点距離は、その表
面形状や材料を適宜に選定することによって調整される。例えば、各単位領域Auに着弾
する液適量(例えば吐出口56から吐出される各液滴の量や液滴が吐出される回数)を適
宜に選定することによって、所望の表面形状を有するレンズ231が得られる。より具体
的には、各単位領域Auに着弾する液適量が多ければ曲率の大きいレンズ231が得られ
る一方、液適量が少なければ曲率の小さいレンズ231が得られるといった具合である。
また、各単位領域Auに吐出される液滴の材料を屈折率が異なる複数の材料のなかから適
宜に選定することによって、所望の焦点距離を有するレンズ231が得られる。
When the lens layer forming partition wall 235 is formed by the above steps, as shown in FIG. 11B, among the many unit regions Au partitioned by the partition wall 13 and the lens layer forming partition wall 235, A lens layer 23 is selectively formed on the unit area Au corresponding to the image constituent element U1. A droplet discharge method is used for this formation. That is, as shown in FIG. 11B, the discharge port 5 is located above the unit area Au corresponding to the image constituent element U1 among the many unit areas Au.
6 is moved, and a droplet containing a light-transmitting substance is discharged from the discharge port 56 to land on the unit region Au. The lens layer 23 is obtained by repeating this for all the image constituent elements U1 and then drying. Here, since the unit area Au in which the lens layer 23 is formed is surrounded by the lens layer forming partition wall 235 having liquid repellency, the liquid droplets that have landed on the unit area Au face toward the opposite side of the substrate 10. The lens 23 is cured by protruding and cured.
1 As described above, the focal length of the lens 231 in each lens layer 23 is adjusted by appropriately selecting the surface shape and material. For example, the lens 231 having a desired surface shape is selected by appropriately selecting an appropriate amount of liquid to land on each unit area Au (for example, the amount of each droplet discharged from the discharge port 56 and the number of times the droplet is discharged). Is obtained. More specifically, a lens 231 having a large curvature can be obtained if the appropriate amount of liquid to land on each unit area Au is large, and a lens 231 having a small curvature can be obtained if the appropriate amount of liquid is small.
Further, the lens 231 having a desired focal length can be obtained by appropriately selecting the material of the droplets discharged to each unit region Au from a plurality of materials having different refractive indexes.

レンズ層23は、光透過性を有する各種の材料によって形成される。より具体的には、
ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ポリ塩化ビニル樹脂、メラニン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂などによってレ
ンズ層23が形成され得る。なお、本実施形態におけるレンズ層23は液滴吐出法によっ
て形成されるから、レンズ層23を形成するための材料は、水などの溶媒に対する溶解性
を有する材料や溶媒に分散する材料であることが望ましい。これらの材料としては、多価
アルコール(例えばポリビニルアルコール)、アクリル樹脂(例えばポリ酢酸ビニルやポ
リアクリル酸ビニル)、有機珪素化合物(例えばテトラエトキシシラン(TEOS)やア
ニノプロピルトリメトキシシラン)などが挙げられる。もっとも、水溶性を持たない材料
や水に分散しにくい材料であっても、これらの材料の分子をバインディングポリマーによ
ってコーティングしたうえで水に混合させることによって、吐出口56からの吐出に適し
た溶液を得ることができる。また、これらの材料に側鎖を形成することによって溶媒に対
する溶解性を持たせてもよい。
The lens layer 23 is formed of various materials having light transmittance. More specifically,
Polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl chloride resin, melanin resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin,
The lens layer 23 can be formed of polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin, or the like. In addition, since the lens layer 23 in this embodiment is formed by a droplet discharge method, the material for forming the lens layer 23 is a material that is soluble in a solvent such as water or a material that is dispersed in the solvent. Is desirable. Examples of these materials include polyhydric alcohols (for example, polyvinyl alcohol), acrylic resins (for example, polyvinyl acetate and polyvinyl acrylate), organic silicon compounds (for example, tetraethoxysilane (TEOS) and aninopropyltrimethoxysilane), and the like. It is done. However, even if the material is not water-soluble or difficult to disperse in water, a solution suitable for ejection from the ejection port 56 is obtained by coating the molecules of these materials with the binding polymer and mixing with water. Can be obtained. Moreover, you may give the solubility with respect to a solvent by forming a side chain in these materials.

また、液滴吐出法においては、吐出口からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要がある
ため、熱や光といったエネルギの作用によって硬化する材料(例えば感光性樹脂や熱硬化
性樹脂)によってレンズ層23を形成することが望ましい。これらの材料を溶媒に含有さ
せたものを吐出口56から吐出させてレンズ層23を形成すれば、吐出後の液滴に対して
加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとときにレンズ層23を硬化させる
ことができる。したがって、レンズ層23は、フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ樹脂
といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニルベンザルアセトフェノンなど各種の感光
性(架橋)樹脂材料によって形成されることが望ましい。また、ビニル化合物などの材料
を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、これによりレンズ層2
3を形成してもよい。
Further, in the droplet discharge method, it is necessary to remove the solvent of the droplet after discharge from the discharge port, so that the material is cured by the action of energy such as heat or light (for example, a photosensitive resin or a thermosetting resin). It is desirable to form the lens layer 23. If the lens layer 23 is formed by ejecting a material containing these materials in a solvent from the ejection port 56, the lens layer is sometimes removed when the solvent is removed by heating or irradiating the droplets after ejection. 23 can be cured. Therefore, the lens layer 23 is desirably formed of various thermosetting resin materials such as phenol resin, urea resin, and epoxy resin, and various photosensitive (crosslinked) resin materials such as polyvinyl benzalacetophenone. Further, a material such as a vinyl compound is applied to the pixel and then crosslinked by applying a polymerization initiator, whereby the lens layer 2
3 may be formed.

このように本実施形態によれば、各単位素子Uにおけるレンズ層23の有無および各画
像構成素子U1におけるレンズ231の焦点距離を適宜に選定することにより、所望の対
象画像を表示する電気光学装置100が得られる。したがって、上記第1実施形態と同様
の理由により、各々が異なる対象画像を表示するための表示パネル1の製造に要するコス
トが著しく低減される。しかも、本実施形態においては、比較的安価で制御が容易な液滴
吐出法によりレンズ層23が形成されるという利点もある。
As described above, according to the present embodiment, the electro-optical device that displays a desired target image by appropriately selecting the presence / absence of the lens layer 23 in each unit element U and the focal length of the lens 231 in each image constituent element U1. 100 is obtained. Therefore, for the same reason as in the first embodiment, the cost required for manufacturing the display panel 1 for displaying different target images is remarkably reduced. In addition, the present embodiment has an advantage that the lens layer 23 is formed by a droplet discharge method that is relatively inexpensive and easy to control.

<D:変形例>
以上に説明した実施形態はあくまでも例示である。この形態に対しては本発明の趣旨か
ら逸脱しない範囲で種々の変形が加えられ得る。具体的には、以下のような変形例が考え
られる。
<D: Modification>
The embodiment described above is merely an example. Various modifications can be made to this embodiment without departing from the spirit of the present invention. Specifically, the following modifications can be considered.

<D−1:変形例1>
上記各実施形態に係る電気光学装置100においては、総ての単位素子Uにわたって連
なる共通の電極を第1電極11および第2電極12として採用した構成を例示した。この
構成のもとで各OLED素子15には共通の電圧が印加されるため、各OLED素子15
自体の発光量は総ての単位素子Uにわたって略同一である。この構成に代えて、OLED
素子15に印加される電圧(換言すればOLED素子15に流れる電流)を単位素子Uご
とに異ならせることによって各OLED素子15の発光量を適宜に異ならせる構成も採用
され得る。例えば、上記各実施形態に係る構成に加えて、以下の第1ないし第3の態様が
採用される。なお、以下では第1実施形態に係る電気光学装置100に本変形例が適用さ
れた構成を例示するが、第2および第3実施形態に係る電気光学装置100にも同様の構
成が採用され得ることはもちろんである。
<D-1: Modification 1>
In the electro-optical device 100 according to each of the above-described embodiments, the configuration in which the common electrodes connected to all the unit elements U are employed as the first electrode 11 and the second electrode 12 is exemplified. Since a common voltage is applied to each OLED element 15 under this configuration, each OLED element 15
The amount of emitted light is substantially the same across all unit elements U. Instead of this configuration, OLED
A configuration in which the light emission amount of each OLED element 15 is appropriately varied by varying the voltage applied to the element 15 (in other words, the current flowing through the OLED element 15) for each unit element U may be employed. For example, in addition to the configuration according to each of the above embodiments, the following first to third aspects are employed. In the following, a configuration in which the present modification is applied to the electro-optical device 100 according to the first embodiment will be exemplified, but the same configuration may be employed for the electro-optical device 100 according to the second and third embodiments. Of course.

(1)第1の態様
複数の単位素子Uのなかから選択された1以上の単位素子Uにおける第1電極11と第
2電極12との間に介在するように抵抗層を設けた構成が採用され得る。この抵抗層は、
所定の抵抗率を有する導電性材料からなる膜体である。より具体的には、図13に示され
るように、基材10の板面に垂直な方向からみてOLED素子15と重なるように、特定
の単位素子Uにおける第2電極12とOLED素子15との間に抵抗層31が設けられる
。この構成によれば、第1電極11と第2電極12とに印加される電圧が総ての単位素子
Uにわたって共通であるとしても、各単位素子UのOLED素子15に対する印加電圧は
抵抗層31の有無に応じて異なるから、各OLED素子15の発光量を抵抗層31の有無
に応じて異ならせることができる。抵抗層31を形成すべき単位素子U(図13において
は3つの単位素子Uのうち右側と左側の単位素子U)は、画像構成素子U1および非構成
素子U0の双方を含む総ての単位素子Uのなかから所望の対象画像の階調に応じて適宜に
選定される。なお、図13においては第2電極12とOLED素子15との間に抵抗層3
1が設けられた構成を例示したが、この構成に代えてまたはこの構成とともに、第1電極
11とOLED素子15との間に抵抗層31を設けてもよい。また、抵抗層31の膜厚や
材料を適宜に選定することにより、抵抗層31の抵抗値を単位素子Uごとに異ならせる構
成も採用され得る。
(1) First aspect
A configuration in which a resistance layer is provided so as to be interposed between the first electrode 11 and the second electrode 12 in one or more unit elements U selected from among the plurality of unit elements U may be employed. This resistive layer
It is a film body made of a conductive material having a predetermined resistivity. More specifically, as shown in FIG. 13, the second electrode 12 and the OLED element 15 in the specific unit element U are overlapped with the OLED element 15 when viewed from the direction perpendicular to the plate surface of the substrate 10. A resistance layer 31 is provided therebetween. According to this configuration, even if the voltage applied to the first electrode 11 and the second electrode 12 is common over all the unit elements U, the applied voltage to the OLED element 15 of each unit element U is the resistance layer 31. Therefore, the light emission amount of each OLED element 15 can be varied depending on the presence or absence of the resistance layer 31. The unit elements U (the right and left unit elements U of the three unit elements U in FIG. 13) to form the resistance layer 31 are all unit elements including both the image constituent element U1 and the non-constituent element U0. U is appropriately selected according to the gradation of the desired target image. In FIG. 13, the resistance layer 3 is interposed between the second electrode 12 and the OLED element 15.
Although the configuration in which 1 is provided is illustrated, the resistance layer 31 may be provided between the first electrode 11 and the OLED element 15 instead of or in addition to this configuration. A configuration in which the resistance value of the resistance layer 31 is made different for each unit element U by appropriately selecting the film thickness and material of the resistance layer 31 may be employed.

(2)第2の態様
複数の単位素子Uのなかから選択された1以上の単位素子Uにおける第1電極11と第
2電極12との間に介在するように絶縁層を設けた構成が採用され得る。この絶縁層は、
電気的な絶縁性を有する材料からなる膜体である。より具体的には、図14に示されるよ
うに、基材10の板面に垂直な方向からみてOLED素子15の発光面と重なるように、
特定の単位素子Uにおける第2電極12とOLED素子15との間に絶縁層33が設けら
れる。この構成においては絶縁層33が設けられた単位素子UのOLED素子15に電流
が流れず発光しないから、この単位素子Uにより対象画像の最低階調が実現される。絶縁
層33を形成すべき単位素子U(図14においては3つの単位素子Uのうち右側と左側の
単位素子U)は、画像構成素子U1および非構成素子U0の双方を含む総ての単位素子Uの
なかから所望の対象画像の内容に応じて適宜に選定される。なお、図14においては第2
電極12とOLED素子15との間に絶縁層33が設けられた構成を例示したが、この構
成に代えてまたはこの構成とともに、第1電極11とOLED素子15との間に絶縁層3
3を設けてもよい。
(2) Second aspect
A configuration in which an insulating layer is provided so as to be interposed between the first electrode 11 and the second electrode 12 in one or more unit elements U selected from among the plurality of unit elements U may be employed. This insulating layer is
It is a film body made of a material having electrical insulation. More specifically, as shown in FIG. 14, as seen from the direction perpendicular to the plate surface of the base material 10, it overlaps with the light emitting surface of the OLED element 15.
An insulating layer 33 is provided between the second electrode 12 and the OLED element 15 in the specific unit element U. In this configuration, since no current flows through the OLED element 15 of the unit element U provided with the insulating layer 33 and no light is emitted, the unit element U realizes the lowest gradation of the target image. The unit elements U (the right and left unit elements U of the three unit elements U in FIG. 14) to form the insulating layer 33 are all unit elements including both the image constituent element U1 and the non-constituent element U0. U is appropriately selected according to the content of the desired target image. In FIG. 14, the second
Although the configuration in which the insulating layer 33 is provided between the electrode 12 and the OLED element 15 is illustrated, the insulating layer 3 is provided between the first electrode 11 and the OLED element 15 instead of or together with this configuration.
3 may be provided.

なお、ここでは特定の単位素子UにおいてOLED素子15の発光面と完全に重なるよ
うに絶縁層33が設けられた構成を例示したが、図15に示されるように、基材10の板
面に垂直な方向からみてOLED素子15の発光面の一部と重なるように部分的に絶縁層
(以下「部分絶縁層」という)34が設けられた構成も採用され得る。この構成によれば
、各OLED素子15から発せられて観察側に出射する光量が、その発光面に占める部分
絶縁層34の面積の割合に応じて調整され得る。したがって、さらに多階調からなる対象
画像を表示することができる。
Here, the configuration in which the insulating layer 33 is provided so as to completely overlap the light emitting surface of the OLED element 15 in the specific unit element U is illustrated. However, as shown in FIG. A configuration in which an insulating layer (hereinafter referred to as “partial insulating layer”) 34 is partially provided so as to overlap with a part of the light emitting surface of the OLED element 15 when viewed from the vertical direction can also be adopted. According to this configuration, the amount of light emitted from each OLED element 15 and emitted to the observation side can be adjusted according to the proportion of the area of the partial insulating layer 34 in the light emitting surface. Therefore, it is possible to display a target image having more gradations.

なお、上記第1および第2の態様における抵抗層31、絶縁層33および部分絶縁層3
4の形成には液滴吐出法が用いられる。例えば、所定の抵抗率を有する導電性物質を含む
液滴を吐出口から吐出して基材10上に着弾させることによって抵抗層31が形成され、
絶縁性物質を含む液滴を吐出口から吐出して基材10上に着弾させることによって絶縁層
33または部分絶縁層34が形成される。
The resistance layer 31, the insulating layer 33, and the partial insulating layer 3 in the first and second embodiments.
A droplet discharge method is used to form 4. For example, the resistive layer 31 is formed by discharging droplets containing a conductive substance having a predetermined resistivity from the discharge port and landing on the substrate 10,
The insulating layer 33 or the partial insulating layer 34 is formed by discharging droplets containing an insulating substance from the discharge port and landing on the substrate 10.

(3)第3の態様
第1電極11および第2電極12の少なくとも一方を各単位素子Uごとに独立した電極
としてもよい。図16においては、第1電極11が単位素子Uごとに独立して設けられた
構成が例示されている。各第1電極11は、基材10の板面上に形成されて隔壁13によ
り覆われる配線112を介して電源回路8に接続される。そして、複数の第1電極11の
各々には、対象画像の内容に応じて選定された電圧が電源回路8から印加される。この構
成によればOLED素子15への印加電圧を異ならせることによって各OLED素子15
の発光量を適宜に調整することができる。なお、図16においては第1電極11を単位素
子Uごとの電極とした構成を例示したが、この構成に代えてまたはこの構成とともに、第
2電極12を単位素子Uごとに独立した電極としてもよい。
(3) Third aspect
At least one of the first electrode 11 and the second electrode 12 may be an independent electrode for each unit element U. FIG. 16 illustrates a configuration in which the first electrode 11 is provided independently for each unit element U. Each first electrode 11 is connected to the power supply circuit 8 through a wiring 112 formed on the plate surface of the base material 10 and covered with the partition wall 13. A voltage selected in accordance with the content of the target image is applied from each power supply circuit 8 to each of the plurality of first electrodes 11. According to this configuration, by applying different voltages to the OLED elements 15, each OLED element 15
The amount of emitted light can be adjusted appropriately. 16 illustrates the configuration in which the first electrode 11 is an electrode for each unit element U, but the second electrode 12 may be an independent electrode for each unit element U instead of or together with this configuration. Good.

以上に説明したように本変形例によれば、OLED素子15から観察側への出射光量を
光制御部(光フィルタ層21、光干渉層22またはレンズ層23)によって調整するだけ
ではなく、OLED素子15から発せられて光制御部に至る発光量を単位素子Uごとに異
ならせることができるから、上記各実施形態に係る構成と比較して、より多くの階調によ
り高精細な表示を行なうことが可能となる。
As described above, according to this modification, the amount of light emitted from the OLED element 15 to the observation side is not only adjusted by the light control unit (the optical filter layer 21, the optical interference layer 22, or the lens layer 23), but also the OLED Since the amount of light emitted from the element 15 and reaching the light control unit can be made different for each unit element U, high-definition display is performed with more gradations compared to the configuration according to each of the above embodiments. It becomes possible.

<D−2:変形例2>
上記各実施形態および変形例においては各単位素子Uによる表示階調のみを異ならせる
ことによってモノクロの対象画像が表示される構成を例示したが、カラー表示が可能な構
成にも本発明は適用され得る。すなわち、この構成にあっては、各単位素子Uの各OLE
D素子15として、例えば赤色、緑色および青色のいずれかの色に対応する波長の光を発
するものが採用される。この構成のもとでは、各画像構成素子U1に設けられた光制御部
の光学的特性がその単位素子UにおけるOLED素子15の発光色に応じて選定されるこ
とが望ましい。詳述すると以下の通りである。
<D-2: Modification 2>
In each of the above embodiments and modifications, the configuration in which the monochrome target image is displayed by changing only the display gradation of each unit element U is exemplified, but the present invention is also applied to a configuration capable of color display. obtain. That is, in this configuration, each OLE of each unit element U
As the D element 15, for example, one that emits light having a wavelength corresponding to any one of red, green, and blue is employed. Under this configuration, it is desirable that the optical characteristic of the light control unit provided in each image constituent element U1 is selected according to the emission color of the OLED element 15 in the unit element U. The details are as follows.

(1)第1の態様
上記第1実施形態において各画像構成素子U1に設けられた光フィルタ層21は、その
画像構成素子U1のOLED素子15から発せられた光を吸収し得る材料によって形成さ
れることが望ましい。より具体的には、青色に対応するOLED素子15から発せられる
光は波長が440nm(ナノメートル)程度である成分の強度がピークとなるから、この
画像構成素子U1の光フィルタ層21は440nmを含む帯域の光成分を吸収し得る材料
、例えばアゾ系材料によって形成されることが望ましい。同様に、緑色光(波長550n
m程度において強度がピークとなる光)を発するOLED素子15を備えた画像構成素子
U1の光フィルタ層21は、550nmを含む範囲内の波長を有する光成分を吸収し得る
材料、例えばフタロシアニン系材料によって形成されることが望ましい。また、赤色光(
波長680nm程度において強度がピークとなる光)を発するOLED素子15を備えた
画像構成素子U1の光フィルタ層21は、680nmを含む範囲内の波長を有する光成分
を吸収し得る材料、例えばフタロシアニン系材料によって形成されることが望ましい。
(1) First aspect
In the first embodiment, the optical filter layer 21 provided in each image constituent element U1 is preferably formed of a material capable of absorbing light emitted from the OLED element 15 of the image constituent element U1. More specifically, the light emitted from the OLED element 15 corresponding to blue has a peak intensity of a component having a wavelength of about 440 nm (nanometers). Therefore, the optical filter layer 21 of the image forming element U1 has a wavelength of 440 nm. It is desirable to form with the material which can absorb the light component of the band to contain, for example, an azo type material. Similarly, green light (wavelength 550n
The optical filter layer 21 of the image forming element U1 including the OLED element 15 that emits light having a peak intensity at about m) is a material that can absorb a light component having a wavelength in the range including 550 nm, for example, a phthalocyanine-based material It is desirable to be formed by. Also, red light (
The optical filter layer 21 of the image forming element U1 including the OLED element 15 that emits light having a peak intensity at a wavelength of about 680 nm is a material that can absorb a light component having a wavelength within a range including 680 nm, such as a phthalocyanine-based material. It is desirable that it be formed of a material.

(2)第2の態様
上記第2実施形態においては、太陽光や室内照明光などの外光が第1電極11や第1半
透過反射層(第2電極12)の表面にて反射して観察側に至り、表示画像のコントラスト
を低下させる原因ともなり得る。そこで、上記第2実施形態において各画像構成素子U1
に設けられた光干渉層22の透光層223は、その画像構成素子U1のOLED素子15
から発せられた光の波長と補色の関係にある波長の光を吸収し得る材料によって形成され
ることが望ましい。この構成によれば、太陽光や室内照明光などの外光が光干渉層22の
内側に到達したとしても、OLED素子15から発せられる光の波長と補色の関係にある
光は透光層223によって吸収されるから、OLED素子15の色に対応する光のみが選
択的に観察側に出射される。したがって、表示画像のコントラストを向上させることがで
きる。さらに、OLED素子15から発せられる光の一部を吸収し得る材料によって透光
層223を形成すれば、上記第1実施形態と同様に、OLED素子15から発せられて観
察側に出射する光量を透光層223によって調整することができるから、より多くの階調
により高精細な表示が実現される。
(2) Second aspect
In the second embodiment, external light such as sunlight or indoor illumination light is reflected on the surface of the first electrode 11 or the first transflective layer (second electrode 12) and reaches the observation side, and a display image is displayed. It may also cause a decrease in contrast. Therefore, in the second embodiment, each image constituent element U1.
The light-transmitting layer 223 of the light interference layer 22 provided on the OLED element 15 of the image constituent element U1.
It is desirable to be formed of a material that can absorb light having a wavelength complementary to the wavelength of the light emitted from. According to this configuration, even if outside light such as sunlight or indoor illumination light reaches the inside of the light interference layer 22, light having a complementary color relationship with the wavelength of light emitted from the OLED element 15 is transmitted through the light transmitting layer 223. Therefore, only the light corresponding to the color of the OLED element 15 is selectively emitted to the observation side. Therefore, the contrast of the display image can be improved. Furthermore, if the light-transmitting layer 223 is formed of a material that can absorb a part of the light emitted from the OLED element 15, the amount of light emitted from the OLED element 15 and emitted to the observation side is obtained as in the first embodiment. Since it can be adjusted by the light-transmitting layer 223, a high-definition display is realized with more gradations.

<D−3:変形例3>
上記各実施形態および各変形例においては、第2電極12からみて観察側に光制御部が
設けられた構成を例示したが、光制御部(光フィルタ層21、光干渉層22およびレンズ
層23)が設けられる位置はこれに限られない。例えば、光制御部が導電性を有する材料
によって形成される場合には、第1電極11とOLED素子15との間またはOLED素
子15と第2電極12との間に介在するように光制御部が設けられてもよい。また、OL
ED素子15が正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層といった
複数の層からなる場合には、これらの各層の間に(すなわちOLED素子15内に)光制
御部が設けられた構成も採用され得る。要するに、本発明においては、単位素子Uの配列
面(上記各実施形態における基材10の板面)に垂直な方向からみて各単位素子Uと重な
るように光制御部が設けられていれば足り、単位素子Uの積層構造に対する光制御部の位
置は不問である。
<D-3: Modification 3>
In each of the above-described embodiments and modifications, the configuration in which the light control unit is provided on the observation side as viewed from the second electrode 12 is illustrated, but the light control unit (the optical filter layer 21, the optical interference layer 22, and the lens layer 23) is exemplified. ) Is not limited to this. For example, when the light control unit is formed of a conductive material, the light control unit is interposed between the first electrode 11 and the OLED element 15 or between the OLED element 15 and the second electrode 12. May be provided. Also, OL
When the ED element 15 includes a plurality of layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, light control is performed between these layers (that is, in the OLED element 15). A configuration provided with a portion may also be adopted. In short, in the present invention, it is sufficient if the light control unit is provided so as to overlap each unit element U when viewed from the direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements U (the plate surface of the base material 10 in each of the above embodiments). The position of the light control unit with respect to the stacked structure of the unit elements U is not limited.

<D−4:変形例4>
上記各実施形態および各変形例においては、複数の単位素子Uのうち画像構成素子U1
のみに選択的に光制御部を設けた構成と、光制御部の光学的特性を単位素子U(画像構成
素子U1)ごとに異ならせる構成とを兼ね備えた電気光学装置100を例示したが、いず
れか一方のみの構成も採用され得る。例えば、前者に係る構成に着目すると、複数の単位
素子Uのなかから対象画像の内容に応じて選択された総ての画像構成素子U1に対して共
通の光学的特性を有する光制御部が設けられた構成も採用され得る。また、後者に係る構
成に着目すると、総ての単位素子Uに対して光制御部を設けたうえで、各光制御部の光学
的特性を対象画像の内容に応じて適宜に異ならせる構成も採用され得る。
<D-4: Modification 4>
In each of the above-described embodiments and modifications, the image constituent element U1 among the plurality of unit elements U.
Although the electro-optical device 100 having both the configuration in which only the light control unit is selectively provided and the configuration in which the optical characteristics of the light control unit are different for each unit element U (image constituent element U1) is illustrated, Only one of the configurations may be employed. For example, focusing on the former configuration, a light control unit having optical characteristics common to all the image constituent elements U1 selected according to the content of the target image from among the plurality of unit elements U is provided. The arranged configuration can also be adopted. Further, focusing on the latter configuration, there is a configuration in which the light control unit is provided for all the unit elements U, and the optical characteristics of each light control unit are appropriately changed according to the contents of the target image. Can be employed.

<D−5:変形例5>
上記各実施形態においては、光フィルタ層21、光干渉層22およびレンズ層23を光
制御部として例示したが、光制御部の構成はこれに限られない。すなわち、本発明におけ
る「光制御部」は、OLED素子15からの出射光の特性(特に光量)を変化させる部材
であれば足り、その具体的な構成の如何は不問である。また、上記各実施形態においては
、光フィルタ層21、光干渉層22およびレンズ層23のいずれか一層のみが設けられた
構成を例示したが、これらのうち2以上の層を積層することによって光制御部としてもよ
い。
<D-5: Modification 5>
In each said embodiment, although the optical filter layer 21, the optical interference layer 22, and the lens layer 23 were illustrated as a light control part, the structure of a light control part is not restricted to this. That is, the “light control unit” in the present invention is sufficient if it is a member that changes the characteristics (particularly the amount of light) of the light emitted from the OLED element 15, and the specific configuration thereof is not questioned. In each of the above embodiments, the configuration in which only one of the optical filter layer 21, the optical interference layer 22, and the lens layer 23 is provided is exemplified. It is good also as a control part.

<D−6:変形例6>
上記各実施形態においては光制御部(より具体的には光フィルタ層21と光干渉層22
の透光層223とレンズ層23)とOLED素子15とを液滴吐出法により形成する場合
を例示したが、これらの形成方法は任意である。例えば、光制御部やOLED素子15は
、これを構成する材料をレーザにより基材10上に転写する方法によっても形成され得る
。また、蒸着法やスピンコート法などの成膜技術によって基材10の全面にわたって連続
するOLED素子15を形成してもよい。このようにOLED素子15が総ての単位素子
Uにわたって連続するように形成された場合であっても、各単位素子Uごとに光制御部の
有無や各光制御部の光学的特性(あるいは上記変形例1に例示した抵抗層31、絶縁層3
3または部分絶縁層34の特性や、第1電極11および第2電極12への印加電圧)を適
宜に選定することにより、当該単位素子Uから観察側への出射光量(すなわち単位素子U
の表示階調)を区別することができる。
<D-6: Modification 6>
In each of the above embodiments, the light control unit (more specifically, the optical filter layer 21 and the optical interference layer 22).
The case where the light-transmitting layer 223, the lens layer 23), and the OLED element 15 are formed by the droplet discharge method is illustrated, but these forming methods are arbitrary. For example, the light control unit and the OLED element 15 can also be formed by a method of transferring a material constituting the light control unit or the OLED element 15 onto the base material 10 using a laser. Moreover, you may form the OLED element 15 continuous over the whole surface of the base material 10 by film-forming techniques, such as a vapor deposition method and a spin coat method. Thus, even when the OLED element 15 is formed so as to be continuous over all the unit elements U, the presence / absence of the light control unit and the optical characteristics of each light control unit (or the above-mentioned) Resistive layer 31 and insulating layer 3 exemplified in Modification 1
3 or the characteristics of the partial insulating layer 34 and the voltage applied to the first electrode 11 and the second electrode 12 are selected as appropriate, so that the amount of light emitted from the unit element U to the observation side (that is, the unit element U).
Can be distinguished.

<D−7:変形例7>
本発明はOLED素子15以外の電気光学素子を用いた電気光学装置100にも適用さ
れ得る。本発明が適用され得る電気光学装置としては、ヘリウムやネオンなどの高圧ガス
を電気光学素子として用いたプラズマディスプレイパネル(PDP)や、蛍光体を電気光
学素子として用いたフィールドエミッションディスプレイ(FED)などが挙げられる。
また、ここでは自らが発光する電気光学素子(いわゆる自発光型の電気光学素子)を例示
したが、自らは発光する性質を持たない非自発光型の電気光学素子(例えば照明装置によ
る照射光の透過率を配向方向に応じて変化させる液晶など)を用いた電気光学装置にも本
発明は適用され得る。
<D-7: Modification 7>
The present invention can also be applied to the electro-optical device 100 using an electro-optical element other than the OLED element 15. As an electro-optical device to which the present invention can be applied, a plasma display panel (PDP) using a high-pressure gas such as helium or neon as an electro-optical element, a field emission display (FED) using a phosphor as an electro-optical element, or the like Is mentioned.
In addition, although an electro-optical element that emits light itself (a so-called self-luminous electro-optic element) is illustrated here, a non-self-luminous electro-optic element that does not emit light itself (for example, irradiation light emitted from a lighting device). The present invention can also be applied to an electro-optical device using a liquid crystal or the like that changes transmittance according to the orientation direction.

<E:電子機器>
次に、本発明に係る電気光学装置を表示部として備える電子機器について説明する。図
17は、本発明を適用した電気光学装置100を有する携帯電話機の構成を示す斜視図で
ある。この図に示されるように、携帯電話機1200は、利用者により操作される複数の
操作ボタン1202、他の端末装置から受信した音声を出力する受話口1204、および
他の端末装置に送信される音声を入力する送話口1206のほかに、各種の画像を表示す
る電気光学装置100を有する。この電気光学装置100の表示領域は第1領域101と
第2領域102とに区分される。このうち第1領域101は、ドットマトリクス型の表示
方式により各種の画像が適宜に変化しつつ表示される領域である。一方、第2領域102
は、本発明の適用により対象画像を固定的に表示する領域である。すなわち、第2領域1
02においては、面状に配列された複数の単位素子Uのうち対象画像を構成する画像構成
素子U1のみに光制御部が選択的に設けられ、各光制御部の光学的特性は対象画像の階調
に応じて画像構成素子U1ごとに選定されている。
<E: Electronic equipment>
Next, an electronic apparatus including the electro-optical device according to the invention as a display unit will be described. FIG. 17 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone having the electro-optical device 100 to which the present invention is applied. As shown in this figure, the mobile phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202 operated by a user, a mouthpiece 1204 for outputting a sound received from another terminal device, and a sound transmitted to the other terminal device. In addition to the mouthpiece 1206, the electro-optical device 100 that displays various images is included. The display area of the electro-optical device 100 is divided into a first area 101 and a second area 102. Among these, the first area 101 is an area in which various images are displayed while being appropriately changed by a dot matrix type display method. On the other hand, the second region 102
Is an area where the target image is fixedly displayed by applying the present invention. That is, the second region 1
In 02, the light control unit is selectively provided only in the image constituent element U1 constituting the target image among the plurality of unit elements U arranged in a plane, and the optical characteristics of each light control unit are the same as those of the target image. It is selected for each image constituent element U1 according to the gradation.

なお、本発明に係る電気光学装置が利用され得る電子機器としては、図17に示される
携帯電話機のほかにも、ノートパソコンや、液晶テレビ、ビューファインダ型(またはモ
ニタ直視型)のビデオレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、
ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備え
た機器等などが挙げられる。
Electronic devices that can use the electro-optical device according to the present invention include notebook computers, liquid crystal televisions, viewfinder type (or monitor direct view type) video recorders, in addition to the mobile phone shown in FIG. Car navigation device, pager, electronic notebook, calculator,
Examples include a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel.

本発明の第1実施形態に係る電気光学装置の構成を示す平面図である。1 is a plan view illustrating a configuration of an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 同電気光学装置のうち表示パネルの構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display panel in the electro-optical device. 同表示パネルにおける画像構成素子と非構成素子との関係を示す平面図である。It is a top view which shows the relationship between the image structural element and non-structural element in the display panel. 第1実施形態に係る表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the display panel which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on the modification of 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 同表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the display panel. 第2実施形態の変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on the modification of 2nd Embodiment. 本発明の第3実施形態に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 同表示パネルのうち画像構成素子と非構成素子とにおける光路を示す図である。It is a figure which shows the optical path in an image structural element and a non-structural element among the display panels. 同表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the display panel. レンズ層形成用隔壁の形成工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the formation process of the partition for lens layer formation. 変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on a modification. 変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on a modification. 変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on a modification. 変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the display panel which concerns on a modification. 本発明に係る電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone which is an example of the electronic device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100……電気光学装置、1……表示パネル、10……基材、11……第1電極、12…
…第2電極、13……隔壁、15……OLED素子、18……封止層、111……導電膜
、112……配線、21……光フィルタ層(光制御部)、22……光干渉層(光制御部)
、221……第1半透過反射層、222……第2半透過反射層、223……透光層、22
5……透光層形成用隔壁、23……レンズ層(光制御部)、231……レンズ、235…
…レンズ層形成用隔壁、31……抵抗層、33……絶縁層、34……部分絶縁層、8……
電源回路、51,52,54,56……吐出口、U……単位素子、U1……画像構成素子
、U2……非構成素子、Au……単位領域。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Electro-optical apparatus, 1 ... Display panel, 10 ... Base material, 11 ... 1st electrode, 12 ...
2nd electrode, 13 ... partition, 15 ... OLED element, 18 ... sealing layer, 111 ... conductive film, 112 ... wiring, 21 ... optical filter layer (light control part), 22 ... light Interference layer (light control unit)
221... First transflective layer, 222... Second transflective layer, 223.
5... Translucent layer forming partition wall 23. Lens layer (light control unit) 231.
... Lens layer forming partition wall 31... Resistive layer 33. Insulating layer 34 34 Partially insulating layer 8.
Power supply circuit 51, 52, 54, 56... Discharge port, U... Unit element, U1... Image constituent element, U2.

Claims (22)

面状に配列された複数の単位素子であって第1電極および第2電極の間に介在する電気
光学素子を各々が有する複数の単位素子と、
前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記複数の単位素子のうち一部の単位素子
と重なるように設けられて前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部と
を具備する電気光学装置。
A plurality of unit elements arranged in a plane, each of which has an electro-optical element interposed between the first electrode and the second electrode;
A light control unit provided so as to overlap a part of the plurality of unit elements when viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements, and changing a characteristic of light emitted from the electro-optical element. An electro-optical device.
前記光制御部は、前記電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フィルタ層を有
する
請求項1に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the light control unit includes an optical filter layer that transmits part of light emitted from the electro-optical element.
前記光制御部は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第1および第2の半
透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる光干渉層を有する
請求項1または2に記載の電気光学装置。
The light control unit is a light formed by interposing a translucent layer that transmits the irradiation light between the first and second transflective layers that transmit a part of the irradiation light and reflect the other part. The electro-optical device according to claim 1, further comprising an interference layer.
前記光制御部は、前記電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備えたレンズ層
を有する
請求項1から3のいずれかに記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the light control unit includes a lens layer including a lens that refracts light emitted from the electro-optical element.
各々が前記単位素子と重なるように設けられた複数の前記光制御部のうち一の光制御部
の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とは異なる
請求項1に記載の電気光学装置。
2. The electro-optic according to claim 1, wherein an optical characteristic of one light control unit of the plurality of light control units provided so as to overlap each of the unit elements is different from an optical characteristic of another light control unit. apparatus.
面状に配列された複数の単位素子であって第1電極および第2電極の間に介在する電気
光学素子を各々が有する複数の単位素子と、
前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記各単位素子と重なるように設けられて
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部であって、一の光制御
部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異なる複数の光制御部と
を具備する電気光学装置。
A plurality of unit elements arranged in a plane, each of which has an electro-optical element interposed between the first electrode and the second electrode;
A plurality of light control units that are provided so as to overlap with the unit elements as viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements, and that change the characteristics of the emitted light from the electro-optical element, the light control unit An electro-optical device comprising: a plurality of light control units having different optical characteristics from those of other light control units.
前記複数の光制御部の各々は、前記電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フ
ィルタ層を有し、
前記複数の光制御部のうち一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層
とは透過率が異なる
請求項5または6に記載の電気光学装置。
Each of the plurality of light control units includes an optical filter layer that transmits a part of light emitted from the electro-optical element,
The electro-optical device according to claim 5, wherein the optical filter layer of one light control unit and the optical filter layer of another light control unit among the plurality of light control units have different transmittances.
前記一の光制御部の光フィルタ層と前記他の光制御部の光フィルタ層とは膜厚が異なる
請求項7に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 7, wherein the optical filter layer of the one light control unit and the optical filter layer of the other light control unit have different film thicknesses.
前記一の光制御部の光フィルタ層と前記他の光制御部の光フィルタ層とは吸光係数が異
なる材料からなる
請求項7に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 7, wherein the optical filter layer of the one light control unit and the optical filter layer of the other light control unit are made of materials having different absorption coefficients.
前記複数の光制御部の各々は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射する第1およ
び第2の半透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる光干渉層を有し

前記複数の光制御部のうち一の光制御部の光干渉層を構成する透光層と他の光制御部の
光干渉層を構成する透光層とは膜厚が異なる
請求項5または6に記載の電気光学装置。
Each of the plurality of light control units includes a light-transmitting layer that transmits the irradiation light between the first and second transflective layers that transmit a part of the irradiation light and reflect the other part. Having a light interference layer inserted,
The translucent layer constituting the light interference layer of one light control unit and the translucent layer constituting the light interference layer of another light control unit among the plurality of light control units have different film thicknesses. The electro-optical device according to 1.
前記複数の光制御部の各々は、前記電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備
えたレンズ層を有し、
前記複数の光制御部のうち一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部のレンズ層
のレンズとは光学的特性が異なる
請求項5または6に記載の電気光学装置。
Each of the plurality of light control units includes a lens layer including a lens that refracts light emitted from the electro-optical element,
The electro-optical device according to claim 5, wherein a lens of a lens layer of one light control unit and a lens of a lens layer of another light control unit among the plurality of light control units have different optical characteristics.
前記一の光制御部のレンズ層のレンズと前記他の光制御部のレンズ層のレンズとは焦点
距離が異なる
請求項11に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 11, wherein the lens of the lens layer of the one light control unit and the lens of the lens layer of the other light control unit have different focal lengths.
前記一の光制御部のレンズ層と前記他の光制御部のレンズ層とは屈折率の異なる材料か
らなる
請求項11に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 11, wherein the lens layer of the one light control unit and the lens layer of the other light control unit are made of materials having different refractive indexes.
導電性材料により形成されて前記複数の単位素子のうち1以上の単位素子における前記
第1電極と前記第2電極との間に介在する抵抗層
を具備する請求項1から13のいずれかに記載の電気光学装置。
The resistance layer formed of a conductive material and interposed between the first electrode and the second electrode in one or more unit elements among the plurality of unit elements is provided. Electro-optic device.
前記複数の単位素子のうち1以上の単位素子における前記第1電極と前記第2電極とを
電気的に絶縁させる絶縁層
を具備する請求項1から14のいずれかに記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, further comprising an insulating layer that electrically insulates the first electrode and the second electrode in one or more unit elements of the plurality of unit elements.
前記複数の単位素子のうち1以上の単位素子における前記第1電極と前記第2電極との
間に介在するように設けられ、前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記電気光学
素子の一部と重なる部分絶縁層
を具備する請求項1から15のいずれかに記載の電気光学装置。
Among the plurality of unit elements, the electro-optical element is disposed so as to be interposed between the first electrode and the second electrode in one or more unit elements, and viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements. The electro-optical device according to claim 1, further comprising a partial insulating layer that overlaps a part thereof.
請求項1から16のいずれかに記載の電気光学装置を表示装置として備えた電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 as a display device. 第1電極および第2電極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を
平板状の基材の板面上に形成する工程と、
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部を、前記基材の板面に垂直
な方向からみて前記複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように形成する工程と
を有する電気光学装置の製造方法。
Forming a plurality of unit elements each having an electro-optic element interposed between the first electrode and the second electrode on the plate surface of the flat substrate;
Forming a light control unit that changes the characteristics of the emitted light from the electro-optic element so as to overlap with some of the plurality of unit elements as viewed from a direction perpendicular to the plate surface of the substrate; A method of manufacturing an electro-optical device having
第1電極および第2電極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を
平板状の基材の板面上に形成する工程と、
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部の各々を前記単位素
子の配列面に垂直な方向からみて前記各単位素子と重なるように形成する工程であって、
これらの光制御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異な
るように前記複数の光制御部を形成する工程と
を有する電気光学装置の製造方法。
Forming a plurality of unit elements each having an electro-optic element interposed between the first electrode and the second electrode on the plate surface of the flat substrate;
Forming each of the plurality of light control units that change the characteristics of the light emitted from the electro-optic element so as to overlap the unit elements when viewed from a direction perpendicular to the arrangement surface of the unit elements,
Forming the plurality of light control units so that the optical characteristics of one of the light control units is different from the optical characteristics of the other light control units. .
前記光制御部を形成する工程においては、光吸収性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出して当該液滴を前記基材上に着弾させることにより、前記電気光学素子からの出射
光の一部を透過させる光フィルタ層を前記光制御部として形成する
請求項18または19に記載の電気光学装置の製造方法。
In the step of forming the light control unit, the light emitted from the electro-optical element is discharged by discharging a droplet containing a light-absorbing substance from the discharge port and landing the droplet on the substrate. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 18, wherein an optical filter layer that transmits a part of the optical filter layer is formed as the light control unit.
前記光制御部を形成する工程においては、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出し、照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第1半透過反射層の表面上に
当該液滴を着弾させることによって透光層を形成する一方、当該透光層を挟んで前記第1
半透過反射層と対向する第2半透過反射層を形成することにより、前記第1半透過反射層
と前記透光層と前記第2半透過反射層とからなる光干渉層を前記光制御部として形成する
請求項18または19に記載の電気光学装置の製造方法。
In the step of forming the light control unit, a first transflective layer that discharges a droplet containing a light-transmitting substance from the discharge port and transmits a part of the irradiation light and reflects the other part The light-transmitting layer is formed by landing the liquid droplets on the surface of the first, while the first light-transmitting layer is sandwiched between the first
By forming a second transflective layer facing the transflective layer, an optical interference layer composed of the first transflective layer, the translucent layer, and the second transflective layer is formed into the light control unit. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 18 or 19.
前記光制御部を形成する工程においては、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出して当該液滴を前記基材上に着弾させることにより、前記電気光学素子からの出射
光を屈折させるレンズを備えたレンズ層を前記光制御部として形成する
請求項18または19に記載の電気光学装置の製造方法。
In the step of forming the light control unit, the light emitted from the electro-optical element is discharged by discharging a droplet containing a light-transmitting substance from the discharge port and landing the droplet on the substrate. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 18, wherein a lens layer including a lens that refracts the light is formed as the light control unit.
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