JP2005135693A - X-ray apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ビーム幅の広いX線を容易に発生させることのできるX線発生装置を備えたX線装置に関する。 The present invention relates to an X-ray apparatus including an X-ray generator that can easily generate X-rays having a wide beam width.
X線透過を利用した検査装置(X線装置)は、医療分野、工場における製品の検査、或いは、空港における所持品のセキュリティチェック、港湾における税関による貨物の検査等、幅広い分野において活用されている。
この種の検査装置は、一般に、X線発生部から発生させたX線を検査対象物(対象者を含む)に向けて照射し、対象物を透過したX線をラインセンサを用いて検知し、透過強度の違いを画像化して検査対象物の内部を調べるように構成されている。
Inspection devices using X-ray transmission (X-ray devices) are used in a wide range of fields, including medical fields, inspection of products in factories, security checks of belongings at airports, and inspection of cargo by customs at ports. .
In general, this type of inspection apparatus irradiates X-rays generated from an X-ray generation unit toward an inspection object (including a subject) and detects X-rays transmitted through the object using a line sensor. In addition, the inside of the inspection object is examined by imaging the difference in transmission intensity.
このうち、X線発生部は、真空に保たれた容器内の電子銃(陰極)から放出された電子線を、X線変換ターゲット(陽極)に衝突させ、その衝突によりX線変換ターゲットからX線を放出させるものであり、従来より種々の改良が加えられている(例えば、特許文献1参照)。
ところで、コンテナ入の貨物の検査等では、大型の検査対象物(コンテナ入の貨物)の隅々までX線を照射し透過させることが必要であるため、X線の拡がりの幅(以下「ビーム幅」という)は、大型対象物に対応した大きさでなければならない。
X線発生部(図1参照)は、基本的には電子銃1から線状の電子線ビームeが照射されたX線変換ターゲット2が、その照射位置からX線xを発生させるように構成される。X線ターゲット2が発生するX線xは、上記電子線ビームeが照射された一点から所定の拡がり角度で円錐形状をなして直進する。このX線xの拡がり角度は、最大でも45度程度である。それ故、上述のように大型の検査対象物3に適合したビーム幅のX線を得るためには、X線発生部(X線変換ターゲット2)と検査対象物3との間の距離L1を十分に長くする必要があった。例えば、検査対象物の高さが10mの場合、一個のX線発生部により検査を行うためには、検査対象物3とX線発生部(X線変換ターゲット2)とを12m(距離L1)以上離隔させることが必要になる。しかし、実際の検査場所においてこのような広いスペースを確保することは容易ではなく、従って、検査対象物3とX線発生部(X線変換ターゲット2)との距離L1を短縮することが必要となる。
By the way, in the inspection of cargo in a container, etc., it is necessary to irradiate and transmit X-rays to every corner of a large inspection object (cargo in a container). Width ") must be sized to accommodate large objects.
The X-ray generation unit (see FIG. 1) is basically configured so that the
検査対象物とX線発生部との距離L1を短縮する手段としては、図2(a)に示すように複数のX線発生部を並べて配設し、1つのX線発生部でカバーできないX線照射範囲を他のX線発生部によりカバーすることが考えられる。或いは、図2(b)に示すよに一個のX線発生部を、例えば、高さ方向に移動させながら検査を行う等の対応も考えられる。しかし、複数のX線発生部を使用した場合には、図2(a)において領域Aとして示すように隣接するX線発生部からのX線の端部が重なりあい、一方のX線により形成された物体の影(像)が、他方のX線により消されてしまうので、像が不明瞭なものとなる欠点がある。また、X線発生部を移動させる場合には、複雑な移動機構を必要とすることのみならず、移動時間を要する。しかも、移動させながら撮像することは結局多数のX線発生部を使用することと同様であるから、撮影された像が不明瞭なものとなってしまう。 As means for shortening the distance L1 between the inspection object and the X-ray generation unit, as shown in FIG. 2A, a plurality of X-ray generation units are arranged side by side and cannot be covered by one X-ray generation unit. It is conceivable that the X-ray irradiation range is covered by another X-ray generation unit. Alternatively, as shown in FIG. 2B, for example, it is conceivable to perform an inspection while moving one X-ray generation unit in the height direction. However, when a plurality of X-ray generators are used, the X-ray ends from adjacent X-ray generators overlap as shown as region A in FIG. Since the shadow (image) of the object is erased by the other X-ray, there is a drawback that the image becomes unclear. Further, when the X-ray generation unit is moved, not only a complicated moving mechanism is required but also a moving time is required. In addition, imaging while moving is the same as using a large number of X-ray generators, so that the captured image becomes unclear.
上述の問題を考慮して、本発明においては、大型の検査対象物を検査する場合であっても検査対象物とX線発生部との離隔距離を短くすることができ、かつ明瞭なX線画像を得るに好適なX線装置を提供することを目的とする。 In consideration of the above-described problems, in the present invention, even when a large inspection object is inspected, the separation distance between the inspection object and the X-ray generation unit can be shortened, and clear X-rays can be obtained. It is an object to provide an X-ray apparatus suitable for obtaining an image.
上記目的を達成するため、請求項1の発明によっては、電子線ビームを発生する電子銃と、前記電子線ビームを、例えば所定の方向に所定の幅に亘って偏向走査する偏向手段と、偏向走査された前記電子線ビームがなすビーム面に対して傾斜し、例えば前記電子線ビームの偏向走査方向に所定の長さを有するX線発生面を備えて、該X線発生面の前記電子線ビームの照射部位からX線を発生させるX線変換ターゲットとを具備したことを特徴とするX線装置が提供される。 In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, an electron gun for generating an electron beam, deflection means for deflecting and scanning the electron beam over a predetermined width, for example, in a predetermined direction, and deflection An X-ray generation surface that is inclined with respect to the beam surface formed by the scanned electron beam and has a predetermined length in the deflection scanning direction of the electron beam, for example, and the electron beam on the X-ray generation surface An X-ray apparatus comprising an X-ray conversion target for generating X-rays from a beam irradiation site is provided.
上記X線装置には、更に前記X線変換ターゲットに対峙させて設けられて、該X線変換ターゲットが発生する前記X線の照射方向を平行に揃えるコリメータを備えてもよく(請求項2)、前記コリメータは、前記X線を照射すべき方向に沿って設けられた複数枚のX線遮蔽板から構成されていてもよい(請求項3)。 The X-ray apparatus may further include a collimator that is provided opposite to the X-ray conversion target and aligns the X-ray irradiation directions generated by the X-ray conversion target in parallel. The collimator may be composed of a plurality of X-ray shielding plates provided along a direction in which the X-rays are to be irradiated (Claim 3).
本発明のX線装置においては、電子線ビームを偏向走査させるため、擬似的に平面を構成する電子線ビームが、X線変換ターゲットに一点ではなく直線状に照射される。このため、X線はX線変換ターゲットの一点から拡がるように発生するのではなく、上記直線状の発生源の全部位から発生し、帯状のX線ビーム面を形成しつつ直進する。従って、該帯状X線のビーム幅は、上記直線状の発生源の長さに一致し、それは、電子ビームの偏向幅(偏向角度)と、電子ビームの偏向起点とX線変換ターゲットとの距離により設定される。すなわち、X線発生部と検査対象物との距離に無関係にX線のビーム幅を設定できるので、検査対象物とX線発生部との距離を短くしたまま、大型の検査対象物の検査に必要な、大きなビーム幅のX線を得ることができる。例えば所定の方向に所定の幅に亘って電子ビームを偏向走査させることで、電子線ビームの偏向走査方向に所定の長さを有するX線発生面を形成した、随意のビーム幅を有するX線を得ることができる。 In the X-ray apparatus of the present invention, in order to deflect and scan the electron beam, the electron beam which forms a pseudo plane is irradiated to the X-ray conversion target in a straight line instead of a single point. For this reason, X-rays are not generated so as to spread from one point of the X-ray conversion target, but are generated from all parts of the linear generation source and go straight while forming a belt-like X-ray beam surface. Therefore, the beam width of the belt-like X-ray coincides with the length of the linear source, which is the deflection width (deflection angle) of the electron beam, and the distance between the deflection start point of the electron beam and the X-ray conversion target. Is set by In other words, since the X-ray beam width can be set regardless of the distance between the X-ray generation unit and the inspection object, it is possible to inspect a large inspection object while keeping the distance between the inspection object and the X-ray generation unit short. Necessary large beam width X-rays can be obtained. For example, an X-ray having an arbitrary beam width is formed by forming an X-ray generation surface having a predetermined length in the deflection scanning direction of the electron beam by deflecting and scanning the electron beam in a predetermined direction over a predetermined width. Can be obtained.
また、通常のX線発生部によっては、所定の拡がりを持って進行するX線成分が重なりあうことにより、互いのX線画像を打ち消しあってしまい、X線画像が不明瞭なものとなってしまう。しかし、本発明のX線装置では、コリメータの設置により所定の方向以外のX線成分を遮断するので、撮影された像が不明瞭になることはない。
これらの効果に加え、X線は、下流に向かって拡がることのないシート状の平行X線(シート状X線)として検査対象物に照射することになるので、検査対象物の位置により像の大きさが異なることがなく、そのために像が歪むこともない。
In addition, depending on the normal X-ray generation unit, the X-ray components traveling with a predetermined spread overlap each other, so that the X-ray images cancel each other, and the X-ray images become unclear. End up. However, in the X-ray apparatus of the present invention, the X-ray component other than the predetermined direction is blocked by the installation of the collimator, so that the photographed image is not obscured.
In addition to these effects, the X-rays irradiate the inspection object as sheet-like parallel X-rays (sheet-like X-rays) that do not spread downstream, so that the image of the image depends on the position of the inspection object. There is no difference in size, so that the image is not distorted.
以下、本発明のX線装置にかかる一実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図3は、本発明に係るX線装置の要部であるX線発生部10を示す概略構成図である。X線発生部以外の装置は公知のものであるので記載を省略する。X線発生部10は、電子線ビームe0を発生する電子銃11と、電子銃11の前方に該電子銃11の電子線照射軸の両側に対峙して配設される一対の電磁石12a、12bと、電子線ビームe0の照射部位からX線を発生させるX線変換ターゲット13と、X線変換ターゲット13が発生したX線から、所定の方向に平行なX線以外のX線を遮断し、平行なシート状X線を形成するコリメータ20とを備える。なお、これらの装置は、コリメータ20を除き、すべて、図示しない、X線を外部に引き出すための窓部を備えた真空容器の中に封入されている。
Hereinafter, an embodiment of the X-ray apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an
電子銃11は陰極電圧の印加により線状の電子線ビームを放出する。
電磁石12aと12bには、図示しない制御回路により交互に電圧が印加されることにより、電磁石12a、12b間に磁界を発生させ、電子線ビームe0を、電磁石12aと12bとの対峙方向に沿って、所定の幅で、振り子のように、偏向走査する役割を担う。
X線変換ターゲット13は、上記電子線ビームe0の偏向走査方向に所定の長さを有するX線発生面13aを備えた棒状又は板状のものからなり、特にこのX線発生面13aを、偏向した電子線ビームe0により形成される扇形ビーム平面Eと長手方向を平行に、かつ、他方向は扇形ビーム平面Eに対し所定の角度αで傾斜させて設けられている。そして、扇形ビーム面Eとが直線Fをなして交叉するように位置決めされている。また、X線発生面13aの長手方向の長さは、少なくとも発生させるX線のビーム幅と同じかそれより長く設定されている。なお、図中、扇形ビーム平面Eは、直線Fと交差した状態で記載されているので、扇形ではなく三角形として図示されている。
The
A voltage is alternately applied to the
The
なお、X線変換ターゲット13は、電子線の照射によるX線発生面13aの温度上昇を抑えるための図示しない冷却装置を備える。また、X線変換ターゲットのX線発生面13aの材質は、電子線の衝突によりX線を発生させることのできるものであって、電子線ビーム照射加熱による温度上昇を考慮しても十分な耐熱性を有する材料が望ましく、例えば、タングステンの他、モリブデンや銅等が好適に使用できる。
The
ところで、以下にコリメータ20について説明すると、コリメータ20は、X線変換ターゲット13が発生する帯状X線の下流側に、X線変換ターゲット13に対峙して配設される。コリメータ20は、僅かの隙間hを介して互いに平行に配設された2枚の長尺の遮蔽板21a、21bと、遮蔽板21a、21b間に垂直に所定のピッチで平行に配設され、遮蔽板21a、21bを互いに固定する多数の桁板22とを備える。なお、桁板22もX線の遮蔽能力を有する。遮蔽板21a、21bと2枚の桁板22により両端開放の四角筒状の小区画23が複数形成されている。コリメータ20の向きは、図4に示すように、小区画23を通る軸23aが、X線X2を照射すべき方向である直線Kに平行になるように定める。ここで、直線Kは、直線Fを含んでX線発生面13aに垂直な対称面Dに関して扇形ビーム平面Eに面対称なX線ビーム中心平面Gと扇形ビーム平面Eに垂直な扇形ビーム垂直平面Jとの交差により形成される直線である。小区画23の軸23aが直線Kに平行になるようにコリメータ20を配置する理由は、X線変換ターゲット13から発生するX線の強度が最大となるのが直線Kに平行な方向だからである。
By the way, the
コリメータの大きさについて説明すると、コリメータ20の長手方向の幅L3(図3参照)は、前述の直線Fの長さに略等しくする。また、遮蔽板21aと21bの隙間高さhは、X線発生部から放出されるシート状X線の必要厚さにより設定する。
さらに、2枚の桁板22の配列ピッチpの設定方法を図5を参照して説明する。図5は、コリメータ20の複数の小区画23のうち一個のみを説明用に抜き出したものである。配列ピッチpは、小区画23を通過するX線が小区画23の軸に対してなし得る最大角度γを所定の値以下にするように設定する。この最大角度γを小さくするほど、直線Kに平行なX線以外のX線が少なくなり、より明瞭なX線画像を得ることができる。従って、明瞭さを考慮して最大角度γを設定し、それに基づいて配列ピッチpを設定する。なお、最大角度γと、配列ピッチp、隙間h、コリメータ20の奥行き長さL4との間には以下の関係式が成立している。
Explaining the size of the collimator, the width L3 (see FIG. 3) in the longitudinal direction of the
Further, a method for setting the arrangement pitch p of the two
Tan(γ)=(p2+h2)1/2/L4 ………………(1)式
遮蔽板21a、21b、桁板22の厚さは、X線発生部10において発生するX線のエネルギ、X線強度、遮蔽板や桁板の遮蔽能力等を勘案し、不要なX線成分を遮断できるように定める。なお、遮蔽板21a、21b及び桁板22の材質としては、鉛又はタングステンが好適に使用できるが、遮蔽板21a、21bの隙間や桁板22の配列ピッチを小さくする場合には変形の少ないタングステンがより好適に使用できる。
Tan (γ) = (p 2 + h 2 ) 1/2 / L4 (1) Formula The thicknesses of the
次にX線発生部10の作用について説明する。
X線発生部10は、電子銃11から発生する直線状の電子線ビームe0を電磁石12a、12bにより偏向走査させ、平面状の電子線ビーム(扇形ビーム平面E)を形成させる。該平面状の電子線ビームを、X線変換ターゲット13に照射させ、電子線照射部位である直線F全体からX線を発生させる。すなわち、本発明によれば、従来技術のようにX線が一点から拡がるのではなく、X線発生面13aにおいて幅広いX線発生源が直線状に形成されるために、発生位置においてすでに幅広い帯状を形成するX線を発生させることができる。なお、X線自体を偏向走査させて幅広いX線とすることは困難である。しかし、X線を発生させる電子線は、電磁石等の手段により容易に偏向走査させ、X線発生源を直線状にすることによりビーム幅の広いX線を発生させることができるので、X線を偏向走査するのと同様の効果を得ることができる。
Next, the operation of the
The
また、上述のように発生させたX線は、直線状の発生源を有するのでもともと拡がりの少ない帯状を形成するが、なお、一部に拡がる方向のX線成分をも含んでいる。これらの拡がる方向のX線成分はコリメータ20により遮断され、所定の方向に平行なX線としてX線発生部10から放出される。このような平行X線によれば、明瞭かつ歪みの少ないX線画像を得ることができる。
In addition, the X-rays generated as described above form a belt-like band shape that has a linear generation source, but also includes an X-ray component that extends in part. These X-ray components in the expanding direction are blocked by the
以下に、X線発生部10の作用をより詳しく説明する。
最も電磁石12aに近付く電子線ビーム位置をe1、最も電磁石12bに近付く電子線ビーム位置をe2とし、電子線ビームe1とe2のなす角度を偏向角度βとする。偏向角度βは、電子線ビームの電子の加速電圧及び電磁石12a、12bに印加される電圧により発生する磁界の強度を調整することにより定めることができる。
Below, the effect | action of the
The electron beam position closest to the
もともと線状のビームである電子線ビームe0は、偏向角度βで偏向されるので、この偏向速度が速ければ、あたかも電子線ビーム位置e1、e2を2辺とする扇形の平面状のビームであるかのように作用する。そしてこの扇形ビーム平面Eは、X線変換ターゲット13のX線発生面13aと角度αをもって交差する。このとき、扇形ビーム平面EとX線発生面13aとは、X線発生面13aの長手方向に平行な直線Fを形成して交差し、直線Fを発生源としてX線が放出される。
The electron beam e0, which is originally a linear beam, is deflected at a deflection angle β. Therefore, if the deflection speed is high, the electron beam e0 is a fan-like planar beam having electron beam positions e1 and e2 as two sides. Acts as if. The fan beam plane E intersects the
このX線の放出される方向は、図6に示すように、前述のX線ビーム中心平面Gを中心として、ある角度範囲内に分布する。すなわち、X線X1は、直線Fを一辺とする三角柱形状を形成しつつ、コリメータ20に入射することになる。
コリメータ20に入射したX線X1は、前述のコリメータ20の整流作用(すなわち、前述の直線Kに平行なX線以外のX線を遮断する)により、殆ど拡がることのないシート状X線X2として放出される。
As shown in FIG. 6, the X-ray emission direction is distributed within a certain angular range with the X-ray beam center plane G as the center. That is, the X-ray X1 enters the
The X-ray X1 incident on the
前述したように、大型の対象物を検査する場合には、X線のビーム幅を大きくすることが重要であるが、シート状X線X2のビーム幅は、直線Fの長さに略等しい。この直線Fの長さは、以下の式で示される。
直線Fの長さ=L2×2×Tan(β/2)……(2)式
但し、L2は、電子線の偏向の起点Sから直線Fまでの距離である。
As described above, when inspecting a large object, it is important to increase the X-ray beam width, but the beam width of the sheet-like X-ray X2 is substantially equal to the length of the straight line F. The length of the straight line F is expressed by the following formula.
Length of straight line F = L2 × 2 × Tan (β / 2) (2) where L2 is the distance from the starting point S of electron beam deflection to the straight line F.
(2)式から明らかなように、偏向角度βを大とするほど、また、偏向の起点SからX線変換ターゲット13までの距離を大とするほど直線Fの長さも長くなり、出力されるX線のビーム幅も大となる。すなわち、X線発生部10によれば、偏向角度βを決める電子線ビームeの加速電圧及び電磁石12a、12bの磁界強度と、電子線の偏向起点からX線変換ターゲットまでの距離を調節することにより任意のビーム幅のX線を得ることができる。従って、X線発生部と検査対象物との距離には、関係なく任意のビーム幅のX線を得ることができる。
As is clear from the equation (2), the length of the straight line F becomes longer and output as the deflection angle β is increased and the distance from the deflection starting point S to the
また、X線発生部10によっては、前述のように、X線の発生源が通常の装置のような点ではなく直線状であるために、もともと拡がりが少ない帯状のX線が発生する。該X線は、その上に、コリメータ20により整流されるので、放出されるシート状X線は平行X線としての性質を強く有する。
そのため、ビーム幅を任意に調整できるという前述の効果とは別に以下の2つの効果をも有することになる。
Further, depending on the
Therefore, in addition to the above-described effect that the beam width can be arbitrarily adjusted, the following two effects are also provided.
第1の効果は、平行X線以外のX線が互いに重なり合って、それぞれのX線が形成するX線画像を打ち消しあうということがないので、明瞭な像を得ることができるという点である。明瞭なX線画像を得るためにコリメータ20の配列ピッチpが重要であることは既に述べた。
第2の効果は、平行X線によるX線画像には歪みが生じないということである。すなわち、図7(a)に示すように、通常のX線X3のようにそれが拡がる性質を有する場合には、X線発生源に近い対象物B1の像S1が拡大され、遠い対象物B2の像S2は殆ど拡大されない。このため、X線画像としては、大きさの異なる対象物B1、B2の像が殆ど同じ大きさに示されることがありうる。いいかえれば、拡がる性質を有する通常のX線では像の歪みが生じる。一方、X線発生部10により発生する平行X線(シート状X線)X4の場合には、図7(b)に示すように、大小の対象物B3,B4の像S3、S4は拡大されることはなく、実際の大きさに一致するので、像に歪みを生じることはない。
The first effect is that a clear image can be obtained because X-rays other than parallel X-rays overlap each other and the X-ray images formed by the X-rays do not cancel each other. As described above, the arrangement pitch p of the
The second effect is that no distortion occurs in an X-ray image by parallel X-rays. That is, as shown in FIG. 7A, when the X-ray X3 has a property of expanding like the normal X-ray X3, the image S1 of the object B1 close to the X-ray generation source is enlarged, and the distant object B2 The image S2 is hardly enlarged. For this reason, as an X-ray image, the images of the objects B1 and B2 having different sizes may be shown in almost the same size. In other words, image distortion occurs in ordinary X-rays having a spreading property. On the other hand, in the case of parallel X-rays (sheet-like X-rays) X4 generated by the
なお、電子線ビームeの偏向速度(角速度)を、扇形ビーム平面E上の電子線ビーム位置によらず一定とすると、発生するX線ビームは、図8(a)に示すように、X線のビーム幅中心が膨らみ両端部が少ない偏った分布を示す(図8中XCはX線中心、XT1,XT2はX線の両端部を示す)。しかし、電子線ビームeの偏向速度を、扇形ビーム平面Eの両縁部e1、e2の近傍では遅くさせ、扇形ビーム平面Eの中央部e3(図3参照)近傍で速くすることにより、発生するX線の分布を図8(b)に示すように均一に分布させることも可能である。そのためには、電磁石12a、12bに印加する電圧を、例えば、正弦波として入力してもよい。
If the deflection speed (angular velocity) of the electron beam e is constant regardless of the position of the electron beam on the fan beam plane E, the generated X-ray beam is an X-ray as shown in FIG. In FIG. 8, XC represents the X-ray center, and XT1 and XT2 represent both ends of the X-ray. However, it is generated by slowing the deflection speed of the electron beam e near the both edges e1 and e2 of the fan beam plane E and increasing it near the center e3 (see FIG. 3) of the fan beam plane E. It is also possible to uniformly distribute the X-ray distribution as shown in FIG. For this purpose, the voltage applied to the
本発明によれば、一基でビーム幅の広いX線を照射することができるが、本装置をシート状X線のビーム幅方向に複数隣接して配設し、さらに幅広いX線を照射することも可能である。
本発明は、広いスペースを必要とせずに任意のビーム幅のX線を得ることができ、しかも明瞭なX線画像を得ることができるので、コンテナ貨物検査等大型検査対象物用のX線装置として好適である。また、平行X線の効果として非常に明瞭なX線画像を得ることができるので、空港等におけるセキュリティチェック用検査装置等小型のX線装置としても、好適に使用できる。
According to the present invention, it is possible to irradiate X-rays having a wide beam width with a single unit. However, a plurality of this apparatus are arranged adjacent to each other in the beam width direction of a sheet-like X-ray to irradiate a wider X-ray. It is also possible.
Since the present invention can obtain X-rays having an arbitrary beam width without requiring a wide space and can obtain a clear X-ray image, an X-ray apparatus for a large inspection object such as container cargo inspection. It is suitable as. Moreover, since a very clear X-ray image can be obtained as an effect of parallel X-rays, it can be suitably used as a small X-ray apparatus such as a security check inspection apparatus in an airport or the like.
10 X線発生部
11 電子銃
12a、12b 電磁石(偏向手段)
13 X線変換ターゲット
13a X線発生面
20 コリメータ
21a、21b 遮蔽板(遮蔽板)
22 桁板(遮蔽板)
E 扇形ビーム平面(ビーム面)
10
13
22 Girder plate (shield plate)
E Fan-shaped beam plane (beam surface)
Claims (3)
前記電子線ビームを偏向走査する偏向手段と、
偏向走査された前記電子線ビームがなすビーム面に対して傾斜したX線発生面を備えて、該X線発生面の前記電子線ビームの照射部位からX線を発生させるX線変換ターゲットと
を具備したことを特徴とするX線装置。 An electron gun that generates an electron beam;
Deflection means for deflecting and scanning the electron beam;
An X-ray conversion target that includes an X-ray generation surface that is inclined with respect to a beam surface formed by the deflection-scanned electron beam, and that generates X-rays from the irradiated portion of the electron beam on the X-ray generation surface; An X-ray apparatus characterized by comprising.
更に前記X線変換ターゲットに対峙させて設けられて、該X線変換ターゲットが発生する前記X線の照射方向を平行に揃えるコリメータを備えることを特徴とするX線装置。 The X-ray apparatus according to claim 1,
An X-ray apparatus further comprising a collimator provided to face the X-ray conversion target and aligning the irradiation directions of the X-rays generated by the X-ray conversion target in parallel.
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WO2010074031A1 (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | オムロン株式会社 | X-ray inspection method and x-ray inspection apparatus |
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- 2003-10-29 JP JP2003369138A patent/JP4420190B2/en not_active Expired - Lifetime
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WO2010074031A1 (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | オムロン株式会社 | X-ray inspection method and x-ray inspection apparatus |
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