JP2005134843A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 反射表示領域における反射表示性能と透過表示領域における透過表示性能とを両立し、良好な画質を得ることができる。
【解決手段】 非表示面側に配置された第１基板１１０と、第１基板１１０に対向して配置された第２基板１２０と、第１基板１１０と第２基板１２０との間に挟持された液晶層１３０とを有する液晶パネルとを備える。液晶パネルは、反射表示方式により画像表示可能な第１領域Ｂと、上記第１領域と異なる領域であって透過表示方式により画像表示可能な第２領域Ａとから構成され、セルギャップが第１領域Ｂと第２領域Ａとで異なる。
【選択図】 図３

Description

本発明は、反射表示方式により画像表示可能な第１領域と、上記第１領域と異なる領域であって反射表示方式により画像表示可能な第２領域とから構成される液晶パネルを有する液晶表示装置に関する。

近年のＩＴ技術の飛躍的発展に伴い、携帯情報端末の分野でも高精細なカラー画像を表示でき、小型、軽量、低消費電力の表示装置の実用化が望まれている。このような要望を満たす表示装置としては、外光を光源として表示を行う反射型表示装置が有力視され、一部の用途では実用化されている。反射型表示装置は、日中の屋外で使用した場合には、極めて視認性の高い画像表示を行うことができるといった利点を持つ。

しかしながら、反射型液晶表示装置は光源を持たないため、暗闇等の暗所においては表示した画像はほとんど視認することができず、使用環境上の制限がある。この対策として、反射型液晶表示装置の表示面を透明な面光源で覆うことにより、外光の照度を補うという、フロントライト技術が提案されている。しかしながら、この技術は、液晶表示装置の内部構造の変更を必要としないが、反射光量の低下、画像のにじみ、奥行き感の増大等により高精細画像の画質が低下してしまうという問題がある。

これに対して、光利用効率を高めるために、例えば各画素を透過表示領域と反射表示領域とに分割し、それぞれの領域での液晶層の厚みを異ならせるように構成された半透過型の液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。この液晶表示装置では、反射表示領域の液晶層の厚みが透過表示領域よりも小さくされることにより、透過表示領域と反射表示領域とで光学パラメータを独立に設定することができ、視差がなく、高コントラスト比を実現することができ、周囲が暗い場合の視認性を向上させることが可能であると共に、周囲光が強い場合でも良好な視認性を得ることができる。

また、１画素内に反射表示領域と透過表示領域とを有する半透過型液晶表示装置とは異なり、表示領域の一部を反射型表示領域とし、残りの領域を透過型又は半透過型表示領域とする液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。この液晶表示装置によれば、第１領域に対応した領域で反射表示方式により画像を表示することができ、第２領域に対応した領域で透過表示方式により画像を表示することができるため、面光源装置からの光は第２表示領域のみで利用することができ、したがって、消費電力をより低減することが可能である。
特開平１１−２４２２２６号公報 特開２００３−３０３８６３号公報

しかしながら、上記特許文献１記載の液晶表示装置では、１画素領域内で光透過表示領域と光反射表示領域とで液晶層の厚みを異ならせるために、光透過表示領域と光反射表示領域とで段差を設けているが、液晶表示装置の高精細化により段差に起因する光透過表示時のコントラストを低下させるリバースチルトや残像等の不具合が発生し、画質の低下が懸念される。

また、上記特許文献２記載の液晶表示装置では、透過表示領域に適した条件に液晶表示装置を設計した場合には反射表示性能が低下し、逆に反射表示領域に適した条件に液晶表示装置を設計した場合には透過表示性能が低下し、透過表示性能と反射表示性能とを両立させることができないという問題がある。

そこで本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、反射表示領域における反射表示性能と透過表示領域における透過表示性能とを両立し、良好な画質を得ることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。

上述の問題を解決するために、本発明に係る液晶表示装置は、非表示面側に配置された第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板と上記第２基板との間に挟持された液晶層とを有する液晶パネルを備え、上記液晶パネルは、反射表示方式により画像表示可能な第１領域と、上記第１領域と異なる領域であって透過表示方式により画像表示可能な第２領域とから構成され、上記液晶層の厚みが上記第１領域と上記第２領域とで異なることを特徴とする。

以上のような液晶表示装置は、透過表示方式で画像表示を行う透過表示領域と反射表示方式で画像表示を行う反射表示領域とを１画素内に設けるのではなく、液晶パネル全体を、反射表示可能な画素を有する第１領域（反射表示領域）と、透過表示可能な第２領域（透過表示領域）とに分け、それぞれの領域に適した表示を行うようにしている。

そして、第１領域の液晶層の厚みと第２領域の液晶層の厚みとを異ならせることにより、第１領域においては反射表示のために最適な液晶層の厚みに設定され、第２領域においては透過表示に最適な液晶層の厚みに設定される。このため、第１領域と第２領域とで同時に最適な表示が実現される。また、１画素内を透過表示領域と反射表示領域に分けるのではなく、表示領域全体を透過表示領域と反射表示領域に分ける構成であるため、段差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生が防止され、良好な画質が得られる。

本発明に係る液晶表示装置によれば、第１領域の液晶層の厚みと第２領域の液晶層の厚みとを異ならせているので、第１領域と第２領域とのそれぞれに最適な液晶層の厚みを独立して設定でき、第１領域での表示性能（反射表示性能）と、第２領域での表示性能（透過表示性能）とを両立することができる。また、本発明に係る液晶表示装置によれば、１画素領域内に反射表示領域と透過表示領域とを有する液晶表示装置に比べて段差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生が防止されるので、液晶表示装置の高精細化にも対応することができる。

以下、本発明を適用した液晶表示装置の実施形態について、図面を参照しながら説明する。

＜第１実施形態＞
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１を概略的に示す断面図であり、また、図２（ａ）,（ｂ）は、図１に示す液晶表示装置１及びそのアレイ基板を概略的に示す平面図であり、図３（ａ），（ｂ）,（ｃ）は、図１に示す液晶表示装置１の要部拡大断面図である。図３（ａ）に示す構造は液晶表示装置１の透過表示領域Ａに対応しており、図３（ｂ）に示す構造は、液晶表示装置１の透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂの境界部に対応しており、図１（ｃ）に示す構造は、液晶表示装置１の反射表示領域Ｂに対応している。

図１に示すように、液晶表示装置１の表示領域は、バックライトの光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、第２基板側から入射する周囲光を利用する反射表示方式で表示を行う反射表示領域Ｂとで構成されている。

液晶表示装置１は、液晶パネル１００と、液晶パネル１００とＴＣＰ(Tape Carrier Package)６００を介して電気的に接続された制御回路基板２００と、液晶パネル１００の透過表示領域Ａに対応した位置に配置されこの透過表示領域Ａに光を照射するバックライト３００とから主に構成されている。

さらに、図１及び図３に示すように、液晶パネル１００は、非表示面側であるバックライト３００側に配置された第１基板としてのアレイ基板１１０と、アレイ基板１１０と対向して配された第２基板としての対向基板１２０と、これらアレイ基板１１０及び対向基板１２０間に挟持された液晶層１３０とを含んでおり、バックライト３００側の面と反対側の面を光出射面としている。

また、アレイ基板１１０及び対向基板１２０の各外面には、１／４波長板４１０及び１／４波長板４２０、並びに偏光板５１０及び偏光板５２０がそれぞれ貼り付けられ、１／４波長板４１０の遅相軸と偏光板５１０の透過軸とのなす角度が、１／４波長板４２０の遅相軸と偏光板５２０の透過軸とのなす角度に等しくなされている。

また、図２に示すように、アレイ基板１１０は、ガラス等の光透過性絶縁基板１１１と、光透過性絶縁基板１１１上で互いにほぼ平行に及び等間隔に配列した走査線１１２と、それら走査線１１２にほぼ直交して配列した信号線１１４と、走査線１１２と信号線１１４との間に介在してこれらを電気的に絶縁する層間絶縁膜１１３と、走査線１１２と信号線１１４との交点近傍に配置されたスイッチング素子としてのＴＦＴ(Thin Film Transistor)１５０とが配置される。

透過表示領域Ａにおいては、ＴＦＴ１５０上に、例えば赤色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ａ、緑色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ｂ又は青色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ｃのいずれかと、コンタクトホール１１６を介してＴＦＴ１５０と電気的に接続された画素電極１１７ａとを有する。すなわち、透過表示領域Ａにおいては、ＴＦＴ１５０上に重ねられるように、着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃが、画素電極１１７ｂに対応して周期的に配置されている。着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ，及び着色層１１５ｃとしては、例えばＰＶＡ系、アクリル系等の感光性樹脂中に顔料を均一に分散した着色レジストを用いる。例えば赤色の着色層１１５ａは、ＰＶＡ系又はアクリル系の感光性樹脂中に赤色顔料を均一に分散した着色レジストを塗布後、フォトリソグラフィ法にて所定の画素に対応する形状にパターニングすることにより形成される。このとき、コンタクトホール１１６も同時に形成する。このようなフォトリソグラフィ法によるパターニングを、緑色の着色層１１５ｂ、青色の着色層１１５ｃについて同様に繰り返すことにより、これら着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、及び着色層１１５ｃが互いに重なり合うことなく、画素に対応して周期的に配列されるようにする。透過表示領域Ａに配置された画素電極１１７ａは、例えばＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の透明導電性材料から構成される。

一方、反射表示領域Ｂにおいては、ＴＦＴ１５０上に重ねられるように、透過表示領域Ａに周期的に配置された着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃが順次積層された段差層１１５と、コンタクトホール１１６を介してＴＦＴ１５０と電気的に接続された画素電極１１７ｂとを有する。反射表示領域Ｂに配置された画素電極１１７ｂは、例えばアルミニウム、銀、これらを含む合金等の光反射性を有する導電性光反射膜である。

また、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａ及び反射表示領域Ｂの各画素電極１１７ａ及び画素電極１１７ｂが設けられた面のほぼ全体には、配向膜１１８が設けられている。

対向基板１２０は、ガラス等の光透過性絶縁基板１２１と、光漏れ防止等のための遮光層１２２と、透明樹脂層１２３と、例えばＩＴＯ等の透明導電膜よりなる対向電極１２４と、配向膜１２５とで主に構成されている。なお、本実施形態では対向電極１２４が透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとの間で共通しているが、対向電極１２４が透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとの間で分割された構成でも構わない。

アレイ基板１１０の配向膜１１８及び対向基板１２０の配向膜１２５は、例えば液晶層１３０中の液晶分子が約０°〜７０°の角度でツイスト配向するように配向処理される。アレイ基板１１０及び対向基板１２０は、それら基板間の周縁に枠状に配置されたシール材（図示せず）により一体化されて中空のセルを形成し、このセル内に液晶組成物を封入して液晶パネル１００を構成している。ここでは、この液晶組成物として、屈折率異方性Δｎがほぼ０．０６であるホモジニアス液晶を使用することとするが、屈折率異方性Δｎが同等のツイストネマチック液晶でもよい。また、アレイ基板１１０及び対向基板１２０の配向膜１１８及び配向膜１２５に垂直配向膜を用い、液晶組成物として負の誘電率異方性を持つＶＡ(Vertical Alignment)液晶を用いてもよい。

以上のように、本実施形態の液晶表示装置１では、表示領域は、画素電極１１７ａと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置した透過表示領域Ａと、画素電極１１７ｂと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置した反射表示領域Ｂとで構成される。すなわち、本実施形態において、シール材の内側に配置される表示領域は、バックライト３００の光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光を利用する反射表示方式で表示を行う反射表示領域Ｂとで構成されている。そして、この液晶表示装置１の透過表示領域Ａにおいては、バックライト３００を点灯することによって透過表示方式による画像表示を行い、反射表示領域Ｂにおいては、外光を利用することによって反射表示方式による画像表示を行う。

そして、本実施形態の液晶表示装置１では、アレイ基板１１０の反射表示領域Ｂに、着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを積層してなる段差層１１５を設けることにより、反射表示領域Ｂの液晶層１３０の厚み（以下、単にセルギャップと称する。）が透過表示領域Ａのセルギャップに比べて小さく設定されている。このように、反射表示領域Ｂに段差層１１５を設けることにより、セルギャップを反射表示領域Ｂと透過表示領域Ａとでそれぞれ独立して設定することができる。したがって、段差層１１５の厚みを調整することにより、反射表示領域Ｂと透過表示領域Ａとにそれぞれ最適なセルギャップを設定することができるので、液晶表示装置１は、反射表示領域Ｂと透過表示領域Ａとの両方の領域で優れた表示性能を実現することができる。

また、液晶表示装置１は、透過表示領域と反射・透過表示領域とで１画素領域を分ける構成の従来の液晶表示装置に比べ、セルギャップの差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生を防止し、良好な画質を得ることができる。

さらに、反射表示領域Ｂの段差層１１５は、透過表示領域Ａにおけるカラー表示を行うための３種類の着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを形成する工程と同一の工程で形成することができる。このため、段差層１１５を設けるための工程を別途追加することなく、反射表示領域Ｂのセルギャップを透過表示領域Ａのセルギャップより小さくすることができる。したがって、段差層１１５を例えば透明材料等から構成する場合に比べ、液晶表示装置１を製造する工程を簡略化することができ、歩留まりの向上や製造コストの削減等に貢献することができる。

なお、表示領域を透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとで構成した場合、周囲が暗いと、反射表示領域Ｂに表示された画像の視認が困難となることがある。しかしながら、この液晶表示装置１によって表示可能な情報の全てが暗所での利用頻度が高い訳ではない。したがって、暗所での利用頻度が高い情報を透過表示領域Ａで表示させ、暗所での利用頻度が低い情報を反射表示領域Ｂで表示させれば、周囲環境の明るさが如何様であっても使用者が不便に感じることなく、使用環境に左右されずに視認性の良好な画像表示を行うことができる。また、頻繁にアクセスする情報を反射表示領域Ｂに表示するようにすれば、周囲がある程度明るい場合には、使用者は外光を利用して反射表示領域Ｂの情報を見ることができるので、バックライト３００の点灯は不要である。このため、バックライト３００の点灯時間が大幅に短縮され、消費電力をより低減することができる。

また、バックライト３００からの光は透過表示領域Ａのみで利用するため、バックライト３００は、透過表示領域Ａに対応した位置にのみ設ければよい。従って、消費電力を低減することができ、液晶表示装置１の軽量化が可能である。さらに、反射表示領域Ｂの非表示面側にバックライト３００の存在しないスペースができるため、ここに制御回路基板２００等を格納すること等により、液晶表示装置１の薄型化及び省スペース化も可能である。

さらにまた、液晶表示装置１では、走査線１１２及び信号線１１４は、膜厚の厚い着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、又は着色層１１５ｃの下にあるため、従来のように走査線１１２及び信号線１１４と画素電極１１７ａの間隔を設ける必要がなく、画素電極１１７ａの面積を大きくすることができる。

＜第２実施形態＞
ところで、上述の説明では、表示領域が透過表示方式により表示を行う透過表示領域Ａと反射表示方式により表示を行う反射表示領域Ｂとを有する構成とされているが、本発明はこの構成に限定されず、例えば反射表示領域Ｂが反射表示方式に加えて透過表示方式により画像表示可能な構成とされてもよい。以下では、透過表示領域と、反射表示方式及び透過表示方式を併用して表示を行う反射・透過表示領域とを有する構成の液晶表示装置について、図４及び図５を用いて説明する。図４は、本実施形態に係る液晶表示装置２を概略的に示す断面図であり、また、図５は、図４に示す液晶表示装置２及びそのアレイ基板１１０を概略的に示す平面図である。なお、この第２実施形態の液晶表示装置２の説明では、第１実施形態の液晶表示装置１と同じ部分については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

図４に示すように、液晶表示装置２の表示領域は、バックライト３００の光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光を利用する反射表示方式、及びバックライト３００からの光を利用する透過表示方式の併用方式で表示を行う反射・透過表示領域Ｃとで構成されている。

液晶表示装置２は、液晶パネル１００と、液晶パネル１００とＴＣＰ６００を介して電気的に接続された制御回路基板２００と、液晶パネル１００の表示領域全体に対応した位置に配置され表示領域に光を照射するバックライト３００とから主に構成されている。

また、図４に示すように、液晶パネル１００は、非表示面側であるバックライト３００側に配置されたアレイ基板１１０と、アレイ基板１１０と対向して配された対向基板１２０と、これらアレイ基板１１０及び対向基板１２０間に挟持された液晶層１３０とを含んでおり、バックライト３００側の面と反対側の面を光出射面としている。

さらに、本実施形態の液晶表示装置２においては、図５に示すように、反射・透過表示領域Ｃでの導電性光反射膜である画素電極１１７ｂ、並びに着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを積層してなる段差層１１５に、バックライト３００からの光を透過させるための１以上の開口部１１９を設ける。この画素電極１１７ｂ及び段差層１１５に開口部１１９を設ける工程は、透過表示領域Ａに着色レジストを塗布後、フォトリソグラフィ法にて着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃとコンタクトホール１１６とを形成する際、及びアルミニウム等の導電性光反射膜を成膜後所定の形状にパターンニングして画素電極１１７ｂを形成する際に同時に形成する。

以上のように、本実施形態の液晶表示装置２では、表示領域は、画素電極１１７ａと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置された透過表示領域Ａと、画素電極１１７ｂと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置された反射・透過表示領域Ｃとで構成される。すなわち、本実施形態において、シール材の内側に配置される表示領域は、バックライト３００の光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光及びバックライト３００の光を併用する反射・透過表示方式で表示を行う反射・透過表示領域Ｃとで構成されている。そして、この液晶表示装置２の透過表示領域Ａにおいては、バックライト３００を点灯することによって透過表示方式による画像表示を行い、反射・透過表示領域Ｃにおいては、外光及びバックライト３００の光を併用することによって、反射・透過表示方式による画像表示を行う。

本実施形態の液晶表示装置２は、アレイ基板１１０の反射・透過表示領域Ｃに、着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを積層してなる段差層１１５が設けられることにより、反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップに比べて小さく設定される。このように、反射・透過表示領域Ｃに段差層１１５を設けることにより、セルギャップを反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとでそれぞれ独立して設定することができる。このため、段差層１１５の厚みを調整することにより、反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとにそれぞれ最適なセルギャップを設定することができるので、液晶表示装置２は、反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとの両方の領域で優れた表示性能を実現することができる。

また、液晶表示装置２は、透過表示領域と反射・透過表示領域とで１画素領域を分ける構成の従来の液晶表示装置に比べ、セルギャップの差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生を防止し、良好な画質を得ることができる。

また、反射・透過表示領域Ｃの段差層１１５は、透過表示領域Ａにおけるカラー表示を行うための３種類の着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを形成する工程と同一の工程で形成することができる。このため、段差層１１５を設けるための工程を別途追加することなく、反射・透過表示領域Ｃのセルギャップを透過表示領域Ａのセルギャップより小さくすることができる。したがって、段差層１１５を例えば透明材料等から構成する場合に比べ、液晶表示装置２を製造する工程を簡略化することができ、歩留まりの向上や製造コストの削減等に貢献することができる。

また、液晶表示装置２では、信号線１１４と走査線１１２は、膜厚の厚い着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、又は着色層１１５ｃの下にあるため、従来のように信号線１１４、走査線１１２と画素電極１１７ａの間隔を設ける必要がなく、画素電極１１７ａの面積を大きくできる。

さらに、本実施形態の液晶表示装置２によれば、光導電性反射膜からなる画素電極１１７ｂ及び段差層１１５にバックライト３００からの光を透過させるための開口部１１９を設けることで、反射・透過表示領域Ｃにおいて外光とバックライト３００からの光との両方を表示に利用できる。このため、周囲光の照度が不十分な場合には、バックライト３００の光を利用して反射・透過表示領域Ｃの視認性を高めることができる。したがって、周囲環境の明るさが如何様であっても使用者が不便に感じることなく、使用環境に左右されずに視認性の良好な画像表示を行うことができる。

また、この画素電極１１７ｂ及び段差層１１５に開口部１１９を設ける工程は、透過表示領域Ａに着色レジストを塗布後、フォトリソグラフィ法にて着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃとコンタクトホール１１６とを形成する際や、及びアルミニウム等の導電性光反射膜を成膜後所定の形状にパターニングして画素電極１１７ｂを形成する際等に同時に形成するので、開口部１９を設けるにあたって製造プロセスの増加を伴うことがない。

また、頻繁にアクセスする情報を反射・透過表示領域Ｃに表示するようにすれば、周囲がある程度明るい場合には、使用者は外光を利用して反射・透過表示領域Ｃの情報を見ることができるので、バックライト３００の点灯は不要である。このため、バックライト３００の点灯時間が大幅に短縮され、消費電力をより低減することができる。

なお、第１実施形態及び第２実施形態において、段差層１１５の構成は、上述したような着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃの３種類の着色層を積層してなる構成に限らず、例えば着色層のうち２種類を積層する等、任意の層数や厚みを選択することができる。また、透過表示領域Ａに配置される着色層の種類や数等についても特に限定されない。

また、第１実施形態及び第２実施形態の液晶表示装置が有する段差層１１５は、上述のような透過表示領域Ａに周期的に配置された３種類の着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを積層してなる構成に限らず、例えば段差層１１５を形成するための工程を追加することが問題にならなければ、段差層１１５を透明材料等の着色層以外の材料から構成してもよい。この場合、反射表示領域Ｂにおける反射表示が可能であるので、対向基板１２０側に段差層１１５を形成してもよい。

＜第３実施形態＞
本発明の液晶表示装置は、上述の第１実施形態及び第２実施形態で説明したような反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより小さい構成とは逆に、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大きい構成であってもよい。以下では、先ず、反射表示領域Ｂのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大とされた液晶表示装置について、図６及び図７を参照しながら説明する。図６は、本実施形態に係る液晶表示装置３を概略的に示す断面図であり、また、図７（ａ），（ｂ）,（ｃ）は、図６に示す液晶表示装置３の要部拡大断面図である。図７（ａ）に示す構造は液晶表示装置３の透過表示領域Ａに対応しており、図７（ｂ）に示す構造は、液晶表示装置３の透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂの境界部に対応しており、図７（ｃ）に示す構造は、液晶表示装置３の反射表示領域Ｂに対応している。なお、この第３実施形態の液晶表示装置３の説明では、第１実施形態の液晶表示装置１と同じ部分については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

図６に示すように、本実施形態の液晶表示装置３の表示領域は、バックライトの光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、第２基板側から入射する周囲光を利用する反射表示方式で表示を行う反射表示領域Ｂとで構成されている。

液晶表示装置３は、液晶パネル１００と、液晶パネル１００とＴＣＰ６００を介して電気的に接続された制御回路基板２００と、液晶パネル１００の透過表示領域Ａに対応した位置に配置されこの透過表示領域Ａに光を照射するバックライト３００とから主に構成されている。

また、図６及び図７に示すように、液晶パネル１００は、非表示面側であるバックライト３００側に配置されたアレイ基板１１０と、アレイ基板１１０と対向して配された対向基板１２０と、これらアレイ基板１１０及び対向基板１２０間に挟持された液晶層１３０とを含んでおり、バックライト３００側の面と反対側の面を光出射面としている。

また、アレイ基板１１０及び対向基板１２０の各外面には、１／４波長板４１０及び１／４波長板４２０、並びに偏光板５１０及び偏光板５２０がそれぞれ貼り付けられ、１／４波長板４１０の遅相軸と偏光板５１０の透過軸とのなす角度が、１／４波長板４２０の遅相軸と偏光板５２０の透過軸との為す角度に等しくなされている。

また、アレイ基板１１０は、ガラス等の光透過性絶縁基板１１１と、光透過性絶縁基板１１１上で互いにほぼ平行に及び等間隔に配列した走査線１１２と、それら走査線１１２にほぼ直交して配列した信号線１１４と、走査線１１２と信号線１１４との間に介在してこれらを電気的に絶縁する層間絶縁膜１１３と、走査線１１２と信号線１１４との交点近傍に配置されたスイッチング素子としてのＴＦＴ１５０とが配置される。

透過表示領域Ａにおいては、ＴＦＴ１５０上に、例えば赤色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ａ、緑色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ｂ又は青色の有色絶縁膜からなる着色層１１５ｃのいずれかと、これら着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃの上に形成された光透過性を有する絶縁層１２６と、コンタクトホール１１６を介してＴＦＴ１５０と電気的に接続された画素電極１１７ａとを有する。すなわち、透過表示領域Ａにおいては、ＴＦＴ１５０上に重ねられるように、着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃが、画素電極１１７ｂに対応して周期的に配置されている。なお、図７（ａ）及び図７（ｂ）においては、一例として赤色の着色層１１５ａが形成されている画素を図示した。着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ，及び着色層１１５ｃとしては、例えばＰＶＡ系、アクリル系等の感光性樹脂中に顔料を均一に分散した着色レジストを用いる。例えば赤色の着色層１１５ａは、ＰＶＡ系又はアクリル系の感光性樹脂中に赤色顔料を均一に分散した着色レジストを塗布後、フォトリソグラフィ法にて所定の画素に対応する形状にパターニングすることにより形成される。このとき、コンタクトホール１１６も同時に形成する。このようなフォトリソグラフィ法によるパターニングを、緑色の着色層１１５ｂ、青色の着色層１１５ｃについて同様に繰り返すことにより、これら着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、及び着色層１１５ｃが互いに重なり合うことなく、画素に対応して周期的に配列されるようにする。

また、絶縁層１２６は、透明な樹脂材料からなり、例えばＰＶＡ系又はアクリル系の感光性樹脂等のレジストを塗布後、フォトリソグラフィ法にて所定の画素に対応する形状にパターニングすること等により形成される。このとき、コンタクトホール１１６も同時に形成する。透過表示領域Ａに配置された画素電極１１７ａは、例えばＩＴＯ等の透明導電性材料から構成される。

また、反射表示領域Ｂにおいては、ＴＦＴ１５０上に、透過表示領域Ａにも形成されている絶縁層１２６と、コンタクトホール１１６を介してＴＦＴ１５０と電気的に接続された画素電極１１７ｂとを有する。すなわち、反射表示領域Ｂにおいては、透過表示領域Ａに着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを形成する際にこれらの着色層を形成せず、ＴＦＴ１５０上に直接絶縁層１２６を重ねるようにする。このように、透過表示領域Ａのみに着色層を形成し、反射表示領域Ｂに着色層を形成しないことにより、アレイ基板１１０において透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとに厚みの差が生じ、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａにおける高さが反射表示領域Ｂにおける高さより高くなる。言い換えると、反射表示領域Ｂのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大とされる。反射表示領域Ｂに配置された画素電極１１７ｂは、例えばアルミニウム等の光反射性を有する導電性光反射膜である。

また、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａ及び反射表示領域Ｂの各画素電極１１７ａ及び画素電極１１７ｂが設けられた面のほぼ全体には、配向膜１１８が設けられている。

対向基板１２０は、ガラス等の光透過性絶縁基板１２１と、光漏れ防止等のための遮光層１２２と、透明樹脂層１２３と、例えばＩＴＯ等の透明導電膜よりなる対向電極１２４と、配向膜１２５とで主に構成されている。なお、本実施形態では対向電極１２４が透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとの間で共通しているが、対向電極１２４が透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとの間で分割された構成でも構わない。

アレイ基板１１０の配向膜１１８及び対向基板１２０の配向膜１２５は、例えば液晶層１３０中の液晶分子が約０°〜７０°の角度でツイスト配向するように配向処理される。アレイ基板１１０及び対向基板１２０は、それら基板間の周縁に枠状に配置されたシール材（図示せず）により一体化されて中空のセルを形成し、このセル内に液晶組成物を封入して液晶パネル１００を構成している。ここでは、この液晶組成物として、屈折率異方性Δｎがほぼ０．０６であるホモジニアス液晶を使用することとするが、屈折率異方性Δｎが同等のツイストネマチック液晶でもよい。また、アレイ基板１１０及び対向基板１２０の配向膜１１８及び配向膜１２５に垂直配向膜を用い、液晶組成物として負の誘電率異方性を持つＶＡ(Vertical Alignment)液晶を用いてもよい。

以上のように、本実施形態の液晶表示装置３では、表示領域は、画素電極１１７ａと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素をマトリクス状に配置した透過表示領域Ａと、画素電極１１７ｂと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素をマトリクス状に配置した反射表示領域Ｂとで構成される。すなわち、本実施形態において、シール材の内側に配置される表示領域は、バックライト３００の光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光を利用する反射表示方式で表示を行う反射表示領域Ｂとで構成されている。そして、この液晶表示装置１の透過表示領域Ａにおいては、バックライト３００を点灯することによって透過表示方式による画像表示を行い、反射表示領域Ｂにおいては、外光を利用することによって反射表示方式による画像表示を行う。

本実施形態の液晶表示装置３では、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａに着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃが設けられることにより、反射表示領域Ｂのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大きく設定される。したがって、透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとで基板の高さを調整することにより、反射表示領域Ｂと透過表示領域Ａとにそれぞれ最適なセルギャップを設定することができるので、液晶表示装置３は、反射表示領域Ｂと透過表示領域Ａとの両方の領域で優れた表示性能を実現することができる。

なお、表示領域を透過表示領域Ａと反射表示領域Ｂとで構成した場合、周囲が暗いと、反射表示領域Ｂに表示された画像の視認が困難となることがある。しかしながら、この液晶表示装置３によって表示可能な情報の全てが暗所での利用頻度が高い訳ではない。したがって、暗所での利用頻度が高い情報を透過表示領域Ａで表示させ、暗所での利用頻度が低い情報を反射表示領域Ｂで表示させれば、周囲環境の明るさが如何様であっても使用者が不便に感じることなく、使用環境に左右されずに視認性の良好な画像表示を行うことができる。また、頻繁にアクセスする情報を反射表示領域Ｂに表示するようにすれば、周囲がある程度明るい場合には、使用者は外光を利用して反射表示領域Ｂの情報を見ることができるので、バックライト３００の点灯は不要である。このため、バックライト３００の点灯時間が大幅に短縮され、消費電力をより低減することができる。

また、バックライト３００からの光は透過表示領域Ａのみで利用するため、バックライト３００は、透過表示領域Ａに対応した位置にのみ設ければよい。従って、消費電力を低減することができ、液晶表示装置３の軽量化が可能である。また、反射表示領域Ｂの非表示面側にバックライト３００の存在しないスペースができるため、ここに制御回路基板２００等を格納すること等により、液晶表示装置３の薄型化及び省スペース化も可能である。

また、液晶表示装置３は、透過表示領域と反射・透過表示領域とで１画素領域を分ける構成の従来の液晶表示装置に比べ、セルギャップの差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生を防止し、良好な画質を得ることができる。

さらに、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａのみに形成されたフルカラー表示のための着色層が、反射表示領域Ｂのセルギャップを透過表示領域Ａのセルギャップより大とする機能を兼ねるため、製造プロセスの増加、新たな構成要素の追加、構造の複雑化を伴うことがなく、歩留まりの低下や製造コストの上昇がない。

また、液晶表示装置１では、走査線１１２及び信号線１１４は、膜厚の厚い着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、又は着色層１１５ｃの下にあるため、従来のように走査線１１２及び信号線１１４と画素電極１１７ａの間隔を設ける必要がなく、画素電極１１７ａの面積を大きくすることができる。

＜第４実施形態＞
また、本発明の液晶表示装置は、第３実施形態と同様に反射表示領域Ｂのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大とされるとともに、第２実施形態と同様に反射表示領域Ｂが反射表示方式に加えて透過表示方式により画像表示可能な構成とされてもよい。以下では、反射表示方式及び透過表示方式の両方で画像表示可能な反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大とされるとともに、表示領域が透過表示領域Ａと反射・透過表示領域Ｃとから構成される液晶表示装置について、図８及び図９を用いて説明する。図８は、本実施形態に係る液晶表示装置４を概略的に示す断面図であり、また、図９は、図８に示す液晶表示装置４の透過表示領域Ａと反射・透過表示領域Ｃの境界部を示す断面図である。なお、この第４実施形態の液晶表示装置４の説明では、第３実施形態の液晶表示装置３と同じ部分については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

図８に示すように、本実施形態の液晶表示装置４の表示領域は、バックライトの光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光を利用する反射表示方式、及びバックライト３００からの光を利用する透過表示方式の併用方式で表示を行う反射・透過表示領域Ｃとで構成されている。

液晶表示装置４は、液晶パネル１００と、液晶パネル１００とＴＣＰ６００を介して電気的に接続された制御回路基板２００と、液晶パネル１００の表示領域全体に対応した位置に配置され表示領域に光を照射するバックライト３００とから主に構成されている。

また、図８及び図９に示すように、液晶パネル１００は、非表示面側であるバックライト３００側に配置されたアレイ基板１１０と、アレイ基板１１０と対向して配された対向基板１２０と、これらアレイ基板１１０及び対向基板１２０間に挟持された液晶層１３０とを含んでおり、バックライト３００側の面と反対側の面を光出射面としている。

本実施形態の液晶表示装置４の透過表示領域Ａの構成は、上述の第３実施形態の液晶表示装置３と同様であるため、詳細な説明を省略する。

また、反射・透過表示領域Ｃにおいては、ＴＦＴ１５０上に、絶縁層１２６と、コンタクトホール１１６を介してＴＦＴ１５０と電気的に接続された画素電極１１７ｃと、画素電極１１７ｃ上に重ねられた導電性光反射膜１２７と、にバックライト３００からの光を透過させるように導電性光反射膜１２７に設けられた１以上の開口部１２８とを有する。反射・透過表示領域Ｃに配置された画素電極１１７ｃは、例えばＩＴＯ等の透明導電性材料から構成される。また、導電性光反射膜１２７は、例えばアルミニウム等の光反射性を有する材料が用いられる。この導電性光反射膜１２７に開口部１２８を設ける工程は、アルミニウム等の導電性を有する材料を成膜後、所定の形状にパターニングする際に同時に形成する。

このように、反射・透過表示領域Ｃにおいては、透過表示領域Ａに着色層１１５ａ，着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃを形成する際にこれらの着色層を形成せず、ＴＦＴ１５０上に直接絶縁層１２６を重ねるようにする。このように、透過表示領域Ａのみに着色層を形成し、反射・透過表示領域Ｃに着色層を形成しないことにより、アレイ基板１１０において透過表示領域Ａと反射・透過表示領域Ｃとで厚みの差が生じ、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａにおける高さが反射・透過表示領域Ｃにおける高さより高くなる。言い換えると、反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップがより大とされる。

以上のように、本実施形態の液晶表示装置４では、表示領域は、画素電極１１７ａと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置した透過表示領域Ａと、画素電極１１７ｃと対向電極１２４との間に液晶層１３０を挟持してなる複数の画素がマトリクス状に配置した反射・透過表示領域Ｃとで構成される。すなわち、本実施形態において、シール材の内側に配置される表示領域は、バックライト３００の光を利用する透過表示方式で表示を行う透過表示領域Ａと、対向基板１２０側から入射する周囲光及びバックライト３００の光を併用する反射・透過表示方式で表示を行う反射・透過表示領域Ｃとで構成されている。そして、この液晶表示装置４の透過表示領域Ａにおいては、バックライト３００を点灯することによって透過表示方式による画像表示を行い、反射・透過表示領域Ｃにおいては、外光及びバックライト３００の光を併用することによって、反射・透過表示方式による画像表示を行う。

本実施形態の液晶表示装置４では、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａに着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ又は着色層１１５ｃが設けられることにより、反射・透過表示領域Ｃのセルギャップが透過表示領域Ａのセルギャップより大きく設定される。したがって、透過表示領域Ａと反射・透過表示領域Ｃとの基板の高さを調整することにより、反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとにそれぞれ最適なセルギャップを設定することができるので、液晶表示装置４は、反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとの両方の領域で優れた表示性能を実現することができる。

また、液晶表示装置４は、透過表示領域と反射・透過表示領域とで１画素領域を分ける構成の従来の液晶表示装置に比べ、セルギャップの差に起因する透過表示時のリバースチルトや残像等の発生を防止し、良好な画質を得ることができる。

また、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａのみに形成されたフルカラー表示のための着色層が、反射・透過表示領域Ｃのセルギャップを透過表示領域Ａのセルギャップをより大とする機能を兼ねるため、製造プロセスの増加、新たな構成要素の追加、構造の複雑化を伴うことがなく、歩留まりの低下や製造コストの上昇がない。

さらに、本実施形態の液晶表示装置４によれば、画素電極１１７ｃ上に設けられた導電性光反射膜１２７にバックライト３００からの光を透過させるための開口部１２８を設けることで、反射・透過表示領域Ｃにおいて外光とバックライト３００からの光との両方を表示に利用できる。このため、周囲光の照度が不十分な場合には、バックライト３００の光を利用して反射・透過表示領域Ｃの視認性を高めることができる。したがって、周囲環境の明るさが如何様であっても使用者が不便に感じることなく、使用環境に左右されずに視認性の良好な画像表示を行うことができる。

また、導電性光反射膜１２７の開口部１２８は、アルミニウム等の導電性を有する材料を成膜後、所定の形状にパターニングする際に同時に形成するので、開口部１２８を設けるにあたって製造プロセスの増加を伴うことがない。

また、液晶表示装置１では、走査線１１２及び信号線１１４は、膜厚の厚い着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ、又は着色層１１５ｃの下にあるため、従来のように走査線１１２及び信号線１１４と画素電極１１７ａの間隔を設ける必要がなく、画素電極１１７ａの面積を大きくできる。

ところで、上述の第１実施形態乃至第４実施形態の液晶表示装置は、表示領域のうち透過表示領域Ａのアレイ基板１１０上のみに着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃが設けられているので、透過表示領域Ａではカラー表示可能である一方、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃではモノクロ表示となる。

そこで、本発明では、対向基板１２０の反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃに、各画素に対応するように周期的に第２着色層を設けることができる。これにより、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃにおいてもカラー表示が可能となり、液晶表示装置を全体として見たときの見栄えを向上することができる。

このとき、対向基板１２０の反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃに形成される第２着色層は、アレイ基板１１０の透過表示領域Ａに形成される着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃと同じ明度を有するか、又は高い明度を有することが好ましい。反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃに、透過表示領域Ａの着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃと同じか、又は透過表示領域Ａの着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃよりも明度の高い透過色彩を有する第２着色層を配することで、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃにおいてもカラー表示が可能になり、且つ、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃに必要な反射率を確保することができるためである。第２着色層を表示光が２回通過することを考慮すると、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃは、透過表示領域Ａの着色層１１５ａ、着色層１１５ｂ及び着色層１１５ｃよりも明度の高い第２着色層を配することが好ましく、これによれば、反射表示領域Ｂ又は反射・透過表示領域Ｃと透過表示領域Ａとで光の吸収の度合いを実質的に同じ程度にでき、反射表示特性と透過表示特性とを同じ程度にでき、表示領域全体で均一な表示を行うことができる。

また、本発明の液晶表示装置は、上述の構成を任意に組み合わせることが可能である。

第１実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。 （ａ）は図１に示す液晶表示装置の平面図であり、（ｂ）は図１に示す液晶表示装置のアレイ基板を概略的に示す平面図である。 図１に示す液晶表示装置の液晶パネルの要部拡大断面図であり、（ａ）は透過表示領域の拡大断面図、（ｂ）は透過表示領域と反射表示領域との境界付近の拡大断面図、（ｃ）は反射表示領域の拡大断面図である。 第２実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。 （ａ）は図４に示す液晶表示装置の平面図であり、（ｂ）は図４に示す液晶表示装置のアレイ基板を概略的に示す平面図である。 第３実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。 図６に示す液晶表示装置の液晶パネルの要部拡大断面図であり、（ａ）は透過表示領域の拡大断面図、（ｂ）は透過表示領域と反射表示領域との境界付近の拡大断面図、（ｃ）は反射表示領域の拡大断面図である。 第４実施形態の液晶表示装置を示す概略断面図である。 図８に示す液晶表示装置の液晶パネルの、透過表示領域と反射表示領域との境界付近を示す拡大断面図である。

符号の説明

１００ 液晶パネル、１１０ アレイ基板、１１１ 光透過性絶縁基板、１１２ 走査線、１１３ 層間絶縁膜、１１４ 信号線、１１５ 段差層、１１５ａ，１１５ｂ，１１５ｃ 着色層、１１６ コンタクトホール、１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ 画素電極、１１８ 配向膜、１１９ 開口部、１２０ 対向基板、１２１ 光透過性絶縁基板、１２２ 遮光層、１２３ 透明樹脂層、１２４ 対向電極、１２５ 配向膜、１２６ 絶縁層、１２７ 導電性光反射膜、１２８ 開口部、１３０ 液晶層、１５０ ＴＦＴ、２００ 制御回路基板、３００ バックライト、４１０，４２０ １／４波長板、５１０，５２０ 偏光板、６００ ＴＣＰ

Claims (16)

1. 非表示面側に配置された第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板と上記第２基板との間に挟持された液晶層とを有する液晶パネルを備え、
   上記液晶パネルは、反射表示方式により画像表示可能な第１領域と、上記第１領域と異なる領域であって透過表示方式により画像表示可能な第２領域とから構成され、
   上記液晶層の厚みが上記第１領域と上記第２領域とで異なることを特徴とする液晶表示装置。
2. 上記第１領域の液晶層の厚みが上記第２領域の液晶層の厚みに比べて小とされていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
3. 上記第１基板又は上記第２基板は、上記第１領域の液晶層の厚みと上記第２領域の液晶層の厚みとを異ならせる段差層を有することを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
4. 上記段差層は、透明材料からなることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
5. 上記第１基板又は上記第２基板は、上記第２領域において、各画素に対応するように周期的に配置された３種類以上の着色層を有することを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
6. 上記段差層は、上記第１基板の上記第１領域に形成され、且つ上記第１基板の第２領域に配置された着色層のうち２種類以上を積層してなることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
7. 上記第１基板の上記第１領域に、上記段差層と当該段差層上に上記第２基板側から入射する光を反射するための光反射膜とを有し、
   上記光反射膜及び上記段差層の一部が除去されて開口部とされることにより、上記第１領域は、反射表示方式及び透過表示方式の両方により画像表示可能であることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
8. 上記第１領域の上記液晶層の厚みが上記第２領域の上記液晶層の厚みに比べて大とされていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
9. 上記第１基板の上記第２領域に、各画素に対応するように周期的に配置された着色層が形成され、
   上記第１基板の上記第１領域に上記着色層が形成されないことにより、上記第１領域の上記液晶層の厚みが上記第２領域の上記液晶層の厚みに比べて大とされていることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
10. 上記第１基板は、上記第１領域において、上記第１領域の画素を駆動するための光透過性を有する画素電極と、当該画素電極上に上記第２基板側から入射する光を反射するための光反射膜とを有し、
    上記光反射膜の一部が除去されて開口部とされることにより、上記第１領域は、反射表示方式及び透過表示方式の両方により画像表示可能であることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
11. 上記第２基板は、上記第１領域において、各画素に対応するように周期的に配置された第２着色層を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
12. 上記第２着色層の明度は、上記第２領域に形成された上記着色層の明度と略同じであることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置。
13. 上記第２着色層の明度は、上記第２領域に形成された上記着色層の明度より高いことを特徴とする請求項１１記載の液晶表示装置。
14. 上記液晶層中の液晶組成物は、正の誘電率異方性を持つホモジニアス液晶であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
15. 上記液晶層中の液晶組成物は、正の誘電率異方性を持つツイストネマチック液晶であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
16. 上記液晶層中の液晶組成物は、負の誘電率異方性を持つＶＡ液晶であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。

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