JP2005132829A - Aromatic compound - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new aromatic compound having 3 or 4 condensable functional groups or their precursors. <P>SOLUTION: The aromatic compound is expressed by formula (1) or (2). In the formulae, Ar<SP>1</SP>and Ar<SP>3</SP>express each a tetravalent aromatic hydrocarbon group or a tetravalent heterocyclic group; Ar<SP>2</SP>expresses a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group; A<SP>1</SP>expresses Z<SP>1</SP>, Z<SP>2</SP>, Z<SP>3</SP>or Z<SP>4</SP>=Z<SP>5</SP>; Z<SP>1</SP>, Z<SP>2</SP>and Z<SP>3</SP>express each O, S or the like; Z<SP>4</SP>and Z<SP>5</SP>express each N, B, P or the like; X<SP>1</SP>, X<SP>2</SP>, X<SP>3</SP>and X<SP>4</SP>express each a halogen atom or the like. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、分岐型高分子化合物の原料モノマーとして用いうる、縮合反応性官能基またはその前駆体を3つまたは4つ有する芳香族化合物に関する。   The present invention relates to an aromatic compound having three or four condensation-reactive functional groups or precursors thereof, which can be used as a raw material monomer for a branched polymer compound.

高分子量の発光材料(高分子発光体)は低分子量のそれとは異なり溶媒に可溶で塗布法により発光素子における発光層を形成できることから種々検討されており、主鎖に芳香環を含むものが、知られている。
これらの高分子発光体を製造するためのモノマーとして、縮合反応性官能基を2個有する芳香族化合物(例えば、WO97/05184など)が用いられる。
一方近年、高分子発光体の性能を改良等するために分岐型高分子化合物とする試みがなされており、そのモノマーとして使用しうる、3つの縮合反応性官能基を有する芳香族化合物が開示されている(例えば、WO96/17035)。しかしながら、種々の分岐型高分子化合物を創製するためには、その種類は不十分であった。
High molecular weight light emitting materials (polymer light emitters) have been studied in various ways since they are soluble in solvents and can form a light emitting layer in a light emitting device by a coating method, unlike low molecular weight materials. ,Are known.
An aromatic compound having two condensation-reactive functional groups (for example, WO97 / 05184) is used as a monomer for producing these polymer light emitters.
On the other hand, in recent years, attempts have been made to make branched polymer compounds in order to improve the performance of polymer light emitters, and aromatic compounds having three condensation-reactive functional groups that can be used as monomers are disclosed. (For example, WO96 / 17035). However, in order to create various branched polymer compounds, the types were insufficient.

WO96/17035WO96 / 17035

本発明の目的は、3つまたは4つの縮合反応性官能基またはその前駆体を有する新規な芳香族化合物を提供することである。   The object of the present invention is to provide a novel aromatic compound having three or four condensation-reactive functional groups or precursors thereof.

すなわち、本発明は、下記式(1)または(2)で示される芳香族化合物を提供するものである。

Figure 2005132829

[式中、Ar1およびAr3は、それぞれ独立に、4価の芳香族炭化水素基または4価の複素環基を表す。Ar2は、3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表し、該
Ar1、Ar2およびAr3は置換基を有していてもよく、Ar1およびAr2が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar1およびAr3が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
また、A1は、−Z1−、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−を表し、Z1、Z2、およびZ3は、それぞれ独立に、O、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z4およびZ5は、それぞれ独立に、N、B、P、C(R9)またはSi(R10)
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基を表す。ただし、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成していてもよい。)を表す。ただし式(1)において、Ar2とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr2環上の互いに隣接する原子隣に結合し、式(2)においてAr3とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr3環の互いに隣接する原子上に結合する。
また、X1、X2、X3およびX4は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(1)におけるX1、X2、およびX3の少なくとも一つ並びに式(2)における、X1、X2、X3およびX4の少なくとも一つはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる。〕 That is, the present invention provides an aromatic compound represented by the following formula (1) or (2).

Figure 2005132829

[Wherein, Ar 1 and Ar 3 each independently represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group or a tetravalent heterocyclic group. Ar 2 represents a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group, and Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 may have a substituent, and Ar 1 and Ar 2 are a substituent. When they have, they may combine to form a ring, and when Ar 1 and Ar 3 have a substituent, they may combine to form a ring.
A 1 represents -Z 1- , -Z 2 -Z 3 -or -Z 4 = Z 5- , and Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently O, S, C ( = O), S (= O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) Or P (═O) (R 8 ), and Z 4 and Z 5 are each independently N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ).
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group , Alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, amino group, substituted amino group Substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, arylethynyl group, carboxyl group, alkyloxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycal It represents an alkenyl group, or a cyano group. However, R 1 and R 2, R 3 and R 4 represents a bond to each other may form a ring.). However, in Formula (1), Ar 2 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 2 ring, and Formula (2) In which Ar 3 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, and Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 3 ring.
X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each independently represent a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , monohalogenated methyl Represents a group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro group, X in formula (1) 1 , at least one of X 2 and X 3 and at least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in formula (2) is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group , Borate group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group , Sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, and vinyl group. ]

また本発明は、下記式(5)または(6)で示される芳香族化合物を提供するものである。

Figure 2005132829

〔式中、A1およびX3は、前記と同じ意味を表し、Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は、それぞれ独立に3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表すし、該Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
9、X10、X11およびX12は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(5)におけるX9、X10およびX3の少なくとも一つ並びに式(6)における、X9、X10、X11およびX12の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基またはビニル基である。〕 The present invention also provides an aromatic compound represented by the following formula (5) or (6).

Figure 2005132829

[Wherein, A 1 and X 3 represent the same meaning as described above, and Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 each independently represent a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group. And Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may combine to form a ring. Good.
X 9 , X 10 , X 11 and X 12 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, Represents a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, a vinyl group, a hydroxyl group, an alkyloxy group, an acyloxy group, a substituted silyloxy group, an amino group or a nitro group, and X 9 in formula (5), At least one of X 10 and X 3 and at least one of X 9 , X 10 , X 11 and X 12 in formula (6) are a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a boron Acid ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, A sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group or a vinyl group. ]

さらに本発明は、下記式(9)、(10)または(11)で示される芳香族化合物を提供するものである。

Figure 2005132829

[式中、Ar4およびAr5は、前記と同じ意味を表し、Ar8、Ar9およびAr10はそれぞれ独立にアリーレン基または2価の複素環基を表し、該Ar4、Ar5、Ar8、Ar9およびAr10は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が直接結合して環を形成していてもよい。
2は、下記式のいずれかで表される。

Figure 2005132829
式中、Z6はB、PまたはP(=O)を表し、Z7はC(R9)、Si(R10)、N、B、PまたはP(=O)を表し、Z8はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z9はCまたはSiを表し、Z10はN、B、P、C(R9)またはSi(R10)を表す。(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。)
3は、下記式のいずれかで表される。


Figure 2005132829
式中、Z11はCまたはSiを表し、Z12はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)もしくはP(=O)(R8)を表し、Z13およびZ14はそれぞれ独立にC(R9)、Si(R10)、B、N、PまたはP(=O)を表す。Z15およびZ16はそれぞれ独立にCまたはSiを表す。(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。)
4は、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、置換アミノ基、置換シリル基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基またはアリールエチニル基を表す。ただし、式(9)においてAr5とA2はAr4環の互いに隣接する原子に結合し、Ar4とA2はAr5環の互いに隣接する原子に結合する。
18、X19、X20、X21およびX22は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(9)におけるX18、X19およびX20の少なくとも一つ、式(10)におけるX18、X21およびX22の少なくとも一つ、並びに式(11)におけるX18、X19、X21およびX22の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、またはビニル基である。] Furthermore, this invention provides the aromatic compound shown by following formula (9), (10) or (11).

Figure 2005132829

[Wherein Ar 4 and Ar 5 represent the same meaning as described above, and Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and the Ar 4 , Ar 5 , Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may be bonded to form a ring, and Ar 9 and Ar 10 are When it has a substituent, they may be bonded to form a ring, or Ar 9 and Ar 10 may be directly bonded to form a ring.
A 2 is represented by one of the following formulas.

Figure 2005132829
In the formula, Z 6 represents B, P or P (═O), Z 7 represents C (R 9 ), Si (R 10 ), N, B, P or P (═O), and Z 8 represents O, S, C (= O ), S (= O), SO 2, C (R 1) (R 2), Si (R 3) (R 4), N (R 5), B (R 6) , P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), Z 9 represents C or Si, Z 10 represents N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ). . (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)
A 3 is represented by one of the following formulas.


Figure 2005132829
In the formula, Z 11 represents C or Si, and Z 12 represents O, S, C (═O), S (═O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) ( R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), and Z 13 and Z 14 are each independently C (R 9 ), Si (R 10 ), B, N, P or P (═O) is represented. Z 15 and Z 16 each independently represent C or Si. (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)
A 4 is a hydrogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, substituted amino group, substituted silyl group, monovalent group Represents a heterocyclic group, a heteroaryloxy group, a heteroarylthio group, an arylalkenyl group or an arylethynyl group. However, in Formula (9), Ar 5 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 4 ring, and Ar 4 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 5 ring.
X 18 , X 19 , X 20 , X 21 and X 22 are each independently a halogen atom, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, aryl alkyl sulfonate group, borate group, —B (OH) 2 , monohalogenated Represents a methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro group, in formula (9) At least one of X 18 , X 19 and X 20 , at least one of X 18 , X 21 and X 22 in formula (10), and at least one of X 18 , X 19 , X 21 and X 22 in formula (11) One is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfo group. Over preparative group, borate group, -B (OH) 2, a methyl monohalide group, a sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group or a vinyl group. ]

また、本発明は、下記式(15)で示される芳香族化合物を提供するものである。

Figure 2005132829

(式中、Ar4、Ar5、A1およびX3は、前記と同じ意味を表す。A5は、ホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、窒素原子、リン原子、砒素原子、a価の芳香族炭化水素基、a価の複素環基または金属錯体構造を有するa価の基を表す。aは3または4を表す。複数あるAr4、Ar5、A1およびX10は、互いに同一であっても異なっていてもよい。) Moreover, this invention provides the aromatic compound shown by following formula (15).

Figure 2005132829

(Wherein Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 3 represent the same meaning as described above. A 5 represents a boron atom, an aluminum atom, a gallium atom, a silicon atom, a germanium atom, a nitrogen atom, a phosphorus atom, and arsenic. An atom, an a-valent aromatic hydrocarbon group, an a-valent heterocyclic group or an a-valent group having a metal complex structure, wherein a represents 3 or 4. Plural Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 10 may be the same as or different from each other.

本発明の芳香族化合物は、3つまたは4つの縮合反応性官能基またはその前駆体を有する新規な芳香族化合物であり、分岐型高分子化合物等を製造するためのモノマー等として有用である。 The aromatic compound of the present invention is a novel aromatic compound having three or four condensation-reactive functional groups or precursors thereof, and is useful as a monomer or the like for producing a branched polymer compound.

上記式(1)、(2)で示される化合物において、Ar1およびAr3は、それぞれ独立に、4価の芳香族炭化水素基または4価の複素環基を表す。Ar2は、3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表し、該Ar1、Ar2およびAr3は置換基を有していてもよく、Ar1およびAr2が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar1およびAr3が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。 In the compounds represented by the above formulas (1) and (2), Ar 1 and Ar 3 each independently represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group or a tetravalent heterocyclic group. Ar 2 represents a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group, and Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 may have a substituent, and Ar 1 and Ar 2 are a substituent. When they have, they may combine to form a ring, and when Ar 1 and Ar 3 have a substituent, they may combine to form a ring.

ここで3価の芳香族炭化水素基および4価の芳香族炭化水素基とは、芳香族炭化水素化合物からそれぞれ3つおよび4つの水素原子を除いた残りの原子団をいい、通常炭素数6〜60、好ましくは6〜20である。なお、芳香族炭化水素基に置換基を有していてもよいが、芳香族炭化水素基の炭素数には置換基の炭素数は含まれない。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。芳香族炭化水素化合物としては、下記の化合物が例示される。   Here, the trivalent aromatic hydrocarbon group and the tetravalent aromatic hydrocarbon group are the remaining atomic groups obtained by removing three and four hydrogen atoms from the aromatic hydrocarbon compound, respectively. -60, preferably 6-20. Note that the aromatic hydrocarbon group may have a substituent, but the carbon number of the aromatic hydrocarbon group does not include the carbon number of the substituent. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include ethynyl group, carboxyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, cyano group and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon compound include the following compounds.


Figure 2005132829

Figure 2005132829

また、3価の複素環基および4価の複素環基とは、複素環化合物からそれぞれ3つおよび4つの水素原子を除いた残りの原子団をいい、通常炭素数3〜60、好ましくは3〜20である。なお、複素環基上に置換基を有していてもよいが、複素環基の炭素数には置換基の炭素数は含まれない。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。複素環化合物としては、下記の化合物が例示される。 Further, the trivalent heterocyclic group and the tetravalent heterocyclic group are the remaining atomic groups obtained by removing 3 and 4 hydrogen atoms from the heterocyclic compound, respectively, and usually have 3 to 60 carbon atoms, preferably 3 carbon atoms. ~ 20. Note that the heterocyclic group may have a substituent, but the carbon number of the heterocyclic group does not include the carbon number of the substituent. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include ethynyl group, carboxyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, cyano group and the like. Examples of the heterocyclic compound include the following compounds.


Figure 2005132829

式中、Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、置換シリル基、アシル基または1価の複素環基を表す。R’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシルオキシ基、置換アミノ基、アミド基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基またはシアノ基を表す。
Figure 2005132829

In the formula, each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, a substituted silyl group, an acyl group or a monovalent heterocyclic group. R ′ is independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, acyloxy group, substitution An amino group, an amide group, an arylalkenyl group, an arylalkynyl group, a monovalent heterocyclic group, a heteroaryloxy group, a heteroarylthio group, or a cyano group is represented.

Ar1、Ar2およびAr3が有していてもよい置換基のなかで、
アルキル基としては、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよい。炭素数は通常1〜20程度であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、 i−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基などが例示される。
Among the substituents that Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 may have,
The alkyl group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent. The number of carbon atoms is usually about 1 to 20, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl. Group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, lauryl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, A perfluorooctyl group is exemplified.

アルキルオキシ基としては、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよい。炭素数は通常1〜20程度であり、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、 i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、メトキシメチルオキシ基、2−メトキシエチルオキシ基などが例示される。 The alkyloxy group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent. The number of carbon atoms is usually about 1 to 20, specifically, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyl. Oxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, Examples include perfluorobutoxy group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, methoxymethyloxy group, 2-methoxyethyloxy group and the like.

アルキルチオ基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよく、置換基を有していてもよい。炭素数は通常1〜20程度であり、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、 i−プロピルチオ基、ブチルチオ基、 i−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基などが例示される。   The alkylthio group may be linear, branched or cyclic, and may have a substituent. The number of carbon atoms is usually about 1 to 20, specifically, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, i-propylthio group, butylthio group, i-butylthio group, t-butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, cyclohexyl. Examples include a thio group, a heptylthio group, an octylthio group, a 2-ethylhexylthio group, a nonylthio group, a decylthio group, a 3,7-dimethyloctylthio group, a laurylthio group, and a trifluoromethylthio group.

アリール基は、置換基を有していてもよく、炭素数は通常3〜60程度であり、具体的には、フェニル基、C1〜C12アルコキシフェニル基(C1〜C12は、炭素数1〜12であることを示す。以下も同様である。)、C1〜C12アルキルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ペンタフルオロフェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基などが例示される。 The aryl group may have a substituent and usually has about 3 to 60 carbon atoms. Specifically, the aryl group may be a phenyl group or a C 1 to C 12 alkoxyphenyl group (C 1 to C 12 are carbon atoms). indicates a number 1 to 12. the same applies is less.), C 1 -C 12 alkylphenyl group, 1-naphthyl, 2-naphthyl, pentafluorophenyl group, a pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group , Pyrazyl group, triazyl group and the like.

アリールオキシ基としては、芳香環上に置換基を有していてもよく、炭素数は通常3〜60程度であり、具体的には、フェノキシ基、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジルオキシ基、ピラジルオキシ基、トリアジルオキシ基などが例示される。 The aryloxy group may have a substituent on the aromatic ring, and usually has about 3 to 60 carbon atoms. Specifically, the phenoxy group, C 1 to C 12 alkoxyphenoxy group, C 1 -C 12 alkylphenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, pentafluorophenyloxy group, pyridyloxy group, pyridazinyloxy group, pyrimidyloxy group, pyrazyloxy group, triazyl group is exemplified The

アリールチオ基としては、芳香環上に置換基を有していてもよく、炭素数は通常3〜60程度であり、具体的には、フェニルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニルチオ基、C1〜C12アルキルフェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基、ピリジルチオ基、ピリダジニルチオ基、ピリミジルチオ基、ピラジルチオ基、トリアジルチオ基などが例示される。 The arylthio group may have a substituent on the aromatic ring, the number of carbon atoms is usually about 3 to 60, specifically, phenylthio group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl-thio group, C 1 -C 12 alkyl phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, pentafluorophenylthio group, pyridylthio group, pyridazinylthio group, pyrimidylthio group, pyrazylthio group, etc. Toriajiruchio groups.

アリールアルキル基としては、置換基を有していてもよく、炭素数は通常7〜60程度であり、具体的には、フェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキル基などが例示される。 The arylalkyl group may have a substituent, the number of carbon atoms is usually about 7 to 60, specifically, phenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl - C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group exemplified Is done.

アリールアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよく、炭素数は通常7〜60程度であり、具体的には、フェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルコキシ基、1−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基、2−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基などが例示される。 The arylalkyloxy group may have a substituent and usually has about 7 to 60 carbon atoms. Specifically, a phenyl-C 1 -C 12 alkoxy group, a C 1 -C 12 alkoxyphenyl- C 1 -C 12 alkoxy groups, C 1 -C 12 alkylphenyl-C 1 -C 12 alkoxy groups, 1-naphthyl-C 1 -C 12 alkoxy groups, 2-naphthyl-C 1 -C 12 alkoxy groups, etc. Is done.

アリールアルキルチオ基としては、置換基を有していてもよく、炭素数は通常7〜60程度であり、具体的には、フェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基などが例示される。 The arylalkylthio group may have a substituent, the number of carbon atoms is usually about 7 to 60, specifically, phenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl - C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio group are exemplified Is done.

アシル基は、炭素数は通常2〜20程度であり、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基などが例示される。 Acyl groups usually have about 2 to 20 carbon atoms, and specific examples include acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pivaloyl, benzoyl, trifluoroacetyl, and pentafluorobenzoyl groups. Is done.

アシルオキシ基は、炭素数は通常2〜20程度であり、具体的には、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基などが例示される。   The acyloxy group usually has about 2 to 20 carbon atoms. Specifically, the acetoxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, isobutyryloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, trifluoroacetyloxy group, pentane Examples include a fluorobenzoyloxy group.

アミド基は、炭素数は通常2〜20程度であり、具体的には、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基などが例示される。   The amide group usually has about 2 to 20 carbon atoms, and specifically includes a formamide group, an acetamide group, a propioamide group, a butyroamide group, a benzamide group, a trifluoroacetamide group, a pentafluorobenzamide group, a diformamide group, a diamide group. Examples include an acetamide group, a dipropioamide group, a dibutyroamide group, a dibenzamide group, a ditrifluoroacetamide group, a dipentafluorobenzamide group, and the like.

酸イミド基としては、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる残基があげられ、通常炭素数2〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜20である。具体的には以下に示す基が例示される。

Figure 2005132829
The acid imide group includes a residue obtained by removing a hydrogen atom bonded to the nitrogen atom from an acid imide, and usually has about 2 to 60 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms. Specific examples include the following groups.

Figure 2005132829

イミン残基としては、イミン化合物(分子内に、−N=C-を持つ有機化合物のことをいう。その例として、アルジミン、ケチミン及びこれらのN上の水素原子が、アルキル基等で置換された化合物があげられる)から水素原子1個を除いた残基があげられ、通常炭素数2〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜20である。具体的には、以下の構造式で示される基などが例示される。

Figure 2005132829
As the imine residue, an imine compound (refers to an organic compound having —N═C— in the molecule. For example, aldimine, ketimine, and hydrogen atoms on these N are substituted with alkyl groups or the like. And a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound, usually having about 2 to 60 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms. Specific examples include groups represented by the following structural formulas.

Figure 2005132829

置換アミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1または2個の基で置換されたアミノ基があげられ、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
炭素数は通常1〜40程度であり、具体的には、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、t−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル)アミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基、フェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基などが例示される。
Examples of the substituted amino group include an amino group substituted with one or two groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a monovalent heterocyclic group. The alkyl group, aryl group, arylalkyl The group or the monovalent heterocyclic group may have a substituent.
The number of carbon atoms is usually about 1 to 40. Specifically, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, propylamino group, dipropylamino group, isopropylamino group, diisopropylamino group, butylamino group Group, isobutylamino group, t-butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, cyclohexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, nonylamino group, decylamino group, 3,7-dimethyloctyl amino group, laurylamino group, cyclopentylamino group, dicyclopentylamino group, cyclohexylamino group, dicyclohexylamino group, pyrrolidyl group, piperidyl group, ditrifluoromethylamino group, phenylamino group, diphenylamino group, C 1 -C 12 Turkey hydroxyphenyl amino group, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl) amino groups, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, pentafluorophenylamino group, pyridylamino group, pyridazinylamino group, pyrimidylamino group, Pirajiruamino group, triazyl amino group, phenyl -C 1 -C 12 alkylamino groups, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylamino groups, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylamino group, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino group, 1-naphthyl-C 1 -C 12 alkylamino group, 2-naphthyl-C 1 -C 12 alkylamino group and the like.

置換シリル基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリル基があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリ−i−プロピルシリル基、t−ブチルシリルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが例示される。
Examples of the substituted silyl group include a silyl group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group. About 3 to 30 carbon atoms. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent.
Trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-n-propylsilyl group, tri-i-propylsilyl group, t-butylsilyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, tri-p-xylylsilyl group, tribenzylsilyl group, diphenylmethyl Examples include silyl group, t-butyldiphenylsilyl group, dimethylphenylsilyl group and the like.

置換シリルオキシ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリルオキシ基(H3SiO-)があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
置換シリルオキシ基としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリ−n−プロピルシリルオキシ基、トリ−i−プロピルシリルオキシ基、t−ブチルシリルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基などが例示される。
Examples of the substituted silyloxy group include a silyloxy group (H 3 SiO—) substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group. The number is usually about 1 to 60, preferably 3 to 30 carbon atoms. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent.
Examples of the substituted silyloxy group include trimethylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, tri-n-propylsilyloxy group, tri-i-propylsilyloxy group, t-butylsilyldimethylsilyloxy group, triphenylsilyloxy group, tri- Examples thereof include a p-xylylsilyloxy group, a tribenzylsilyloxy group, a diphenylmethylsilyloxy group, a t-butyldiphenylsilyloxy group, and a dimethylphenylsilyloxy group.

置換シリルチオ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリルチオ基(H3SiS-)
があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
置換シリルチオ基としては、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリ−n−プロピルシリルチオ基、トリ−i−プロピルシリルチオ基、t−ブチルシリルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、t−ブチルジフェニルシリルチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基などが例示される。
As the substituted silylthio group, a silylthio group (H 3 SiS—) substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a monovalent heterocyclic group
The number of carbons is usually about 1 to 60, and preferably 3 to 30 carbons. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent.
Examples of the substituted silylthio group include trimethylsilylthio group, triethylsilylthio group, tri-n-propylsilylthio group, tri-i-propylsilylthio group, t-butylsilyldimethylsilylthio group, triphenylsilylthio group, tri- Examples thereof include a p-xylylsilylthio group, a tribenzylsilylthio group, a diphenylmethylsilylthio group, a t-butyldiphenylsilylthio group, and a dimethylphenylsilylthio group.

置換シリルアミノ基としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基および1価の複素環基から選ばれる1〜6個の基で置換されたシリルアミノ基(H3SiNH-または((H3Si)2N-)があげられ、炭素数は通常1〜120程度であり、好ましくは炭素数3〜60である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
置換シリルアミノ基としては、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリ−n−プロピルシリルアミノ基、トリ−i−プロピルシリルアミノ基、t−ブチルシリルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ−p−キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、t−ブチルジフェニルシリルアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基、ジ(トリメチルシリル)アミノ基、ジ(トリエチルシリル)アミノ基、ジ(トリ−n−プロピルシリル)アミノ基、ジ(トリ−i−プロピルシリル)アミノ基、ジ(t−ブチルシリルジメチルシリル)アミノ基、ジ(トリフェニルシリル)アミノ基、ジ(トリ−p−キシリルシリル)アミノ基、ジ(トリベンジルシリル)アミノ基、ジ(ジフェニルメチルシリル)アミノ基、ジ(t−ブチルジフェニルシリル)アミノ基、ジ(ジメチルフェニルシリル)アミノ基などが例示される。
Examples of the substituted silylamino group include a silylamino group (H 3 SiNH— or ((H 3 Si) 2 ) substituted with 1 to 6 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group, and a monovalent heterocyclic group. N-), usually having about 1 to 120 carbon atoms, preferably 3 to 60 carbon atoms, wherein the alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group is a substituent. You may have.
Examples of the substituted silylamino group include trimethylsilylamino group, triethylsilylamino group, tri-n-propylsilylamino group, tri-i-propylsilylamino group, t-butylsilyldimethylsilylamino group, triphenylsilylamino group, tri- p-xylylsilylamino group, tribenzylsilylamino group, diphenylmethylsilylamino group, t-butyldiphenylsilylamino group, dimethylphenylsilylamino group, di (trimethylsilyl) amino group, di (triethylsilyl) amino group, di (Tri-n-propylsilyl) amino group, di (tri-i-propylsilyl) amino group, di (t-butylsilyldimethylsilyl) amino group, di (triphenylsilyl) amino group, di (tri-p- Xylylsilyl) amino group, di (tribenzylsilyl) Amino group, di (diphenylmethyl silyl) amino, di (t-butyldiphenylsilyl) amino group, di (dimethylphenylsilyl) and amino groups.

1価の複素環基とは、複素環化合物から水素原子1個を除いた残りの原子団をいい、炭素数は通常2〜60程度であり、具体的には、チエニル基、C1〜C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1〜C12アルキルピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾール基、チアジアゾール基などが例示される。 The monovalent heterocyclic group refers to a remaining atomic group obtained by removing one hydrogen atom from a heterocyclic compound, and usually has about 2 to 60 carbon atoms. Specifically, a thienyl group, C 1 to C Examples include 12 alkylthienyl groups, pyrrolyl groups, furyl groups, pyridyl groups, C 1 -C 12 alkylpyridyl groups, imidazolyl groups, pyrazolyl groups, triazolyl groups, oxazolyl groups, thiazole groups, thiadiazole groups, and the like.

ヘテロアリールオキシ基とは、複素環化合物から水素原子1個を酸素原子で置換した基をいい、Q1-O−で示される。Q1は1価の複素環基を表す。炭素数は通常2〜60程度であり、具体的には、チエニルオキシ基、C1〜C12アルキルチエニルオキシ基、ピロリルオキシ基、フリルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1〜C12アルキルピリジルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾールオキシ基、チアジアゾールオキシ基などが例示される。 The heteroaryloxy group refers to a group in which one hydrogen atom is substituted with an oxygen atom from a heterocyclic compound, and is represented by Q 1 —O—. Q 1 represents a monovalent heterocyclic group. The number of carbon atoms is usually about 2 to 60, specifically, thienyloxy group, C 1 -C 12 alkyl thienyl group, pyrrolyloxy group, furyloxy group, pyridyloxy group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl group And imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, triazolyloxy group, oxazolyloxy group, thiazoleoxy group, thiadiazoleoxy group, and the like.

ヘテロアリールチオ基とは、複素環化合物から水素原子1個を硫黄原子で置換した基をいい、Q2−S−で示される。Q2は1価の複素環基を表す。炭素数は、通常2〜60程度で、具体的には、チエニルメルカプト基、C1〜C12アルキルチエニルメルカプト基、ピロリルメルカプト基、フリルメルカプト基、ピリジルメルカプト基、C1〜C12アルキルピリジルメルカプト基、イミダゾリルメルカプト基、ピラゾリルメルカプト基、トリアゾリルメルカプト基、オキサゾリルメルカプト基、チアゾールメルカプト基、チアジアゾールメルカプト基などが例示される。 The heteroarylthio group refers to a group obtained by substituting one hydrogen atom with a sulfur atom from a heterocyclic compound, and is represented by Q 2 —S—. Q 2 represents a monovalent heterocyclic group. The number of carbon atoms is usually about 2 to 60, specifically, thienylmercapto group, C 1 -C 12 alkyl thienylmercapto group, pyrrolyl mercapto group, a furyl mercapto group, pyridyl mercapto group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl Examples include a mercapto group, an imidazolyl mercapto group, a pyrazolyl mercapto group, a triazolyl mercapto group, an oxazolyl mercapto group, a thiazole mercapto group, and a thiadiazole mercapto group.

ヘテロアリールオキシカルボニル基とは、複素環化合物から水素原子1個をオキシカルボニル基で置換した基をいい、Q3-O(C=O)−で示される。Q3は1価の複素環基を表す。炭素数は通常2〜60程度であり、具体的には、チエニルオキシカルボニル基、C1〜C12アルキルチエニルオキシカルボニル基、ピロリルオキシカルボニル基、フリルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、C1〜C12アルキルピリジルオキシカルボニル基、イミダゾリルオキシカルボニル基、ピラゾリルオキシカルボニル基、トリアゾリルオキシカルボニル基、オキサゾリルオキシカルボニル基、チアゾールオキシカルボニル基、チアジアゾールオキシカルボニル基などが例示される。 The heteroaryloxycarbonyl group refers to a group obtained by substituting one hydrogen atom from a heterocyclic compound with an oxycarbonyl group, and is represented by Q 3 —O (C═O) —. Q 3 represents a monovalent heterocyclic group. The number of carbon atoms is usually about 2 to 60, specifically, thienyl oxycarbonyl group, C 1 -C 12 alkyl thienyl alkyloxycarbonyl group, pyrrolyl oxycarbonyl group, furyloxy group, pyridyloxy carbonyl group, C 1 -C 12 alkyl pyridyloxycarbonyl group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, benzotriazolyl-oxy group, benzoxazolyl oxycarbonyl group, thiazole oxycarbonyl group, etc. thiadiazoleoxy carbonyl groups.

アリールアルケニル基、アリールエチニル基におけるアリール基としては、上記のアリール基に例示の基が挙げられる。アリールアルケニル基におけるアルケニル基は、炭素数は通常2〜20程度であり、ビニル基、1−プロピレニル基、2−プロピレニル基、3−プロピレニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、シクロヘキセニル基、1,3−ブタジエニル基などが例示される。   Examples of the aryl group in the arylalkenyl group and arylethynyl group include the groups exemplified in the above aryl group. The alkenyl group in the arylalkenyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms, and is a vinyl group, 1-propylenyl group, 2-propylenyl group, 3-propylenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl. Group, cyclohexenyl group, 1,3-butadienyl group and the like are exemplified.

式(1)、(2)におけるA1は、−Z1−、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−を表し、Z1、Z2、およびZ3は、それぞれ独立に、O、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z4およびZ5は、それぞれ独立に、N、B、P、C(R9)またはSi(R10)
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基を表す。ただし、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成していてもよい。)を表す。
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10における、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基の定義、具体例は前記と同じである。
A 1 in formulas (1) and (2) represents -Z 1- , -Z 2 -Z 3 -or -Z 4 = Z 5- , and Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently , O, S, C (═O), S (═O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), and Z 4 and Z 5 are each independently N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ).
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group , Alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, amino group, substituted amino group Substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, arylethynyl group, carboxyl group, alkyloxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycal It represents an alkenyl group, or a cyano group. However, R 1 and R 2, R 3 and R 4 represents a bond to each other may form a ring.).
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 , halogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group , Arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, The definition and specific examples of the substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group and arylethynyl group are the same as described above.

ただし式(1)において、Ar2とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr2環上の互いに隣接する原子隣に結合し、式(2)においてAr3とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr3環の互いに隣接する原子上に結合する。 However, in Formula (1), Ar 2 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 2 ring, and Formula (2) In which Ar 3 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, and Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 3 ring.

1のうち、-Z1- としては、具体的には下記に例示の基が挙げられる。

Figure 2005132829

Figure 2005132829
Specific examples of -Z 1-in A 1 include the groups exemplified below.

Figure 2005132829

Figure 2005132829

1において、−Z2−Z3−としては、下記(16)、(17)、(18)に例示の基が挙げられる。 In A 1 , examples of —Z 2 —Z 3 — include groups exemplified in the following (16), (17), and (18).


Figure 2005132829

(16)
Figure 2005132829

(16)


Figure 2005132829

Figure 2005132829


Figure 2005132829

Figure 2005132829

1において、−Z4=Z5−としては、以下の(19)、(20)に例示の基が挙げられる。 In A 1 , examples of —Z 4 = Z 5 — include groups exemplified in the following (19) and (20).


Figure 2005132829

Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

また、式(1)および(2)中、X1、X2、X3およびX4は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(1)におけるX1、X2、X3の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれ、式(2)における、X1、X2、X3およびX4の少なくとも一つはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれる。 In the formulas (1) and (2), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an arylalkyl sulfonate group, a borate ester group, — B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro Represents at least one of X 1 , X 2 , and X 3 in formula (1) is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate group, or —B (OH) 2 , Monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group Phosphonate methyl group, cyanomethyl group, selected from a formyl group and a vinyl group, in the formula (2), at least one halogen atom X 1, X 2, X 3 and X 4, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, an aryl It is selected from an alkyl sulfonate group, a borate group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group.

ここに、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、よう素が例示され、好ましくは、塩素、臭素またはヨウ素である。   Here, examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine, preferably chlorine, bromine and iodine.

アルキルスルホネート基としては、メタンスルホネート基、エタンスルホネート基、トリフルオロメタンスルホネート基などが例示され、アリールスルホネート基としては、ベンゼンスルホネート基、p−トルエンスルホネート基などが例示され、アリールアルキルスルホネート基としては、ベンジルスルホネート基などが例示される。   Examples of the alkyl sulfonate group include a methane sulfonate group, an ethane sulfonate group, and a trifluoromethane sulfonate group. Examples of the aryl sulfonate group include a benzene sulfonate group and a p-toluene sulfonate group. Examples of the aryl alkyl sulfonate group include Examples include a benzyl sulfonate group.

ホウ酸エステル基としては、下記式で示される基が例示される。

Figure 2005132829
Examples of the borate group include groups represented by the following formula.

Figure 2005132829

モノハロゲン化メチル基としては、フッ化メチル基、塩化メチル基、臭化メチル基、ヨウ化メチル基が例示される。 Examples of the monohalogenated methyl group include a methyl fluoride group, a methyl chloride group, a methyl bromide group, and a methyl iodide group.

スルホニウムメチル基としては、下記式で示される基が例示される。
−CH2SMe2X、−CH2SPh2X (Xはハロゲン原子を示す。)
Examples of the sulfonium methyl group include groups represented by the following formula.
-CH2SMe 2 X, -CH2SPh 2 X ( X represents a halogen atom.)

ホスホニウムメチル基としては、下記式で示される基が例示される。
−CH2PPh3X (Xはハロゲン原子を示す。)
Examples of the phosphonium methyl group include groups represented by the following formula.
-CH2PPh 3 X (X represents a halogen atom.)

ホスホネートメチル基としては、下記式で示される基が例示される。
−CH2PO(OR’)2
(R’はアルキル基、アリール基またはアリールアルキル基を示す。)
Examples of the phosphonate methyl group include groups represented by the following formula.
-CH2PO (OR ') 2
(R ′ represents an alkyl group, an aryl group or an arylalkyl group.)

上記式(1)または(2)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、縮合反応をおこなった後に縮合反応性官能基前駆体を官能基変換し、更に縮合反応をおこなうことにより位置選択的な置換基導入や重合反応をおこなうことができる。
なお、縮合反応性官能基としては、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、またはビニル基が挙げられ、縮合反応性官能基前駆体とは、官能基変換をおこなうことにより縮合反応性官能基に変換できる官能基を指し、具体的には、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基が挙げられる。
When the compound represented by the above formula (1) or (2) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, the condensation-reactive functional group precursor is converted into a functional group after performing the condensation reaction. Furthermore, regioselective substituent introduction and polymerization reaction can be carried out by further conducting a condensation reaction.
Condensation reactive functional groups include halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups, boric acid ester groups, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl groups, sulfonium methyl groups, phosphonium methyl groups. Group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, or vinyl group, and the condensation-reactive functional group precursor refers to a functional group that can be converted to a condensation-reactive functional group by performing functional group conversion. Specifically, a hydroxyl group, an alkyloxy group, an acyloxy group, a substituted silyloxy group, an amino group or a nitro group can be mentioned.

また、縮合反応性官能基前駆体を縮合反応性官能基へと変換する方法としては、縮合反応性官能基前駆体が水酸基の場合、塩基の存在下、アルキルスルホン酸無水物または塩化アルキルスルホニルと反応させることによりアルキルスルホネート基へと変換することができる。同様にして対応するスルホン酸無水物または塩化スルホニルを用いることにより、アリールスルホネート、アリールアルキルスルホネート基へと変換することができる。   In addition, as a method for converting the condensation-reactive functional group precursor into a condensation-reactive functional group, when the condensation-reactive functional group precursor is a hydroxyl group, an alkylsulfonic acid anhydride or an alkylsulfonyl chloride is used in the presence of a base. It can convert into the alkyl sulfonate group by making it react. Similarly, by using a corresponding sulfonic anhydride or sulfonyl chloride, it can be converted into an aryl sulfonate group or an aryl alkyl sulfonate group.

縮合反応性官能基前駆体がアルキルオキシ基の場合、三臭化ホウ素などを用いて水酸基へと変換した後に、上記の方法を用いてアルキルスルホネート基、アリールスルホネートまたはアリールアルキルスルホネート基へと変換することができる。   When the condensation-reactive functional group precursor is an alkyloxy group, it is converted to a hydroxyl group using boron tribromide or the like, and then converted to an alkyl sulfonate group, aryl sulfonate or arylalkyl sulfonate group using the above method. be able to.

縮合反応性官能基前駆体がアシルオキシ基の場合、塩基性条件での加水分解または還元剤との反応で水酸基へと変換した後に、上記の方法を用いてアルキルスルホネート基、アリールスルホネートまたはアリールアルキルスルホネート基へと変換することができる。   When the condensation-reactive functional group precursor is an acyloxy group, it is converted to a hydroxyl group by hydrolysis or reaction with a reducing agent under basic conditions, and then the alkyl sulfonate group, aryl sulfonate or aryl alkyl sulfonate is used by the above method. Can be converted to a radical.

縮合反応性官能基前駆体が置換シリルオキシ基の場合、酸性条件での加水分解、塩基性条件での加水分解、フッ化物イオンとの反応で水酸基へと変換した後に、上記の方法を用いてアルキルスルホネート基、アリールスルホネートまたはアリールアルキルスルホネート基へと変換することができる。   When the condensation-reactive functional group precursor is a substituted silyloxy group, it is converted into a hydroxyl group by hydrolysis under acidic conditions, hydrolysis under basic conditions, or reaction with fluoride ions. It can be converted to a sulfonate group, an aryl sulfonate or an arylalkyl sulfonate group.

縮合反応性官能基前駆体がアミノ基の場合、Sandmeyer反応により、ハロゲン原子へと変換することができる。   When the condensation-reactive functional group precursor is an amino group, it can be converted to a halogen atom by Sandmeyer reaction.

縮合反応性官能基前駆体がニトロ基の場合、還元剤との反応でアミノ基へと変換した後に、上記の方法を用いてハロゲン原子へと変換することができる。   When the condensation-reactive functional group precursor is a nitro group, it can be converted to an amino group by reaction with a reducing agent, and then converted to a halogen atom using the above method.

上記式(1)または(2)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、該化合物をポリマーにした時の発光強度の観点から、A1が、O、C(R1)(R2)、N(R5)またはB(R6)である場合が好ましい。 When the compound represented by the above formula (1) or (2) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, from the viewpoint of light emission intensity when the compound is made into a polymer, A 1 is , O, C (R 1 ) (R 2 ), N (R 5 ) or B (R 6 ) is preferred.

また、ポリマーにした時の発光強度の観点から、−Z2−Z3−のうち、Z2とZ3が互いに異なるものまたは−Z4=Z5−表される場合も好ましい。具体的には、上記式(16)、(17)、(18)、(19)または(20)に例示の基が挙げられる。 Further, from the viewpoint of the emission intensity when it is made into a polymer, it is also preferable that Z 2 and Z 3 are different from each other in —Z 2 —Z 3 — or that —Z 4 = Z 5 — is represented. Specific examples include groups exemplified in the above formula (16), (17), (18), (19) or (20).

中でも、A1がO−C(=O)、O−C(R1)(R2)、S−C(R1)(R2)、S(=O)−C(R1)(R2)、SO2−C(R1)(R2)、N(R5)−C(=O)またはN=C(R9)である場合、より好ましい。具体的には、上記式(18)および(20)に例示の基が挙げられる。 Among them, A 1 is OC (═O), OC (R 1 ) (R 2 ), SC (R 1 ) (R 2 ), S (═O) —C (R 1 ) (R 2 ), SO 2 —C (R 1 ) (R 2 ), N (R 5 ) —C (═O) or N═C (R 9 ) is more preferred. Specific examples include groups exemplified in the above formulas (18) and (20).

また、式(1)におけるX1、X2、X3の全てが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる場合、式(2)におけるX1、X2、X3およびX4の全てがハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる化合物である場合、直接重合に供すると分岐ポリマーを与えることから好ましい。
In addition, all of X 1 , X 2 and X 3 in the formula (1) are halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups, borate ester groups, —B (OH) 2 , monohalogenated When selected from a methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group, all of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in the formula (2) are halogen atoms, Alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, aryl alkyl sulfonate group, borate ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl If it is a compound selected from the group, it is directly subjected to polymerization Preferable to give a branched polymer.

中でも、縮合反応の反応部位の制御が可能なことから、(1)式においてX1、X2、X3のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合および(2)式においてX1、X2、X3、X4のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合が好ましい。 Among them, since the reaction site of the condensation reaction can be controlled, in the formula (1), when at least one of X 1 , X 2 , and X 3 is a different functional group from the others, and in the formula (2), X 1 , It is preferable that at least one of X 2 , X 3 and X 4 is a functional group different from the others.

中でも、X1、X2、X3のうち少なくとも1つがハロゲン原子でかつ、X1、X2、X3のうち少なくとも1つがスルホネート基である場合が好ましい。ここでスルホネート基とはアルキルスルホネート基、アリールスルホネートまたはアリールアルキルスルホネート基を表す。 Of these, X 1, and at least one halogen atom of X 2, X 3, X 1 , X 2, at least one of X 3 is preferably be a sulfonate group. Here, the sulfonate group represents an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group or an arylalkyl sulfonate group.

該化合物をポリマーにした時の発光強度の観点から、A1が、O、S、S(=O)またはSO2である場合が好ましく、ポリマーにした時の電荷輸送性の観点から、A1が、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)もしくはP(=O)(R8)である場合が好ましい。 From the viewpoint of emission intensity when the compound is made into a polymer, A 1 is preferably O, S, S (═O) or SO 2. From the viewpoint of charge transportability when made into a polymer, A 1 Is C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ) Some cases are preferred.

また、高分子LEDとして用いる場合、ポリマーにした時の発光強度の観点から、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−表される場合も好ましい。具体的には、上記式(16)、(17)、(18)、(19)または(20)に例示の基が挙げられる。 Further, when used as a polymer LED, from the viewpoint of emission intensity when a polymer is used, it is also preferable that -Z 2 -Z 3 -or -Z 4 = Z 5 -is expressed. Specific examples include groups exemplified in the above formula (16), (17), (18), (19) or (20).

中でも、A1がO−C(=O)、O−C(R1)(R2)、S−C(R1)(R2)、S(=O)−C(R1)(R2)、SO2−C(R1)(R2)、N(R5)−C(=O)またはN=C(R9)である場合、より好ましい。具体的には、上記式(18)または(20)に例示の基が挙げられる。 Among them, A 1 is OC (═O), OC (R 1 ) (R 2 ), SC (R 1 ) (R 2 ), S (═O) —C (R 1 ) (R 2 ), SO 2 —C (R 1 ) (R 2 ), N (R 5 ) —C (═O) or N═C (R 9 ) is more preferred. Specific examples include the groups exemplified in the above formula (18) or (20).

式(1)で示される化合物としては、下記(21)、(22)の化合物が例示される。   Examples of the compound represented by the formula (1) include the following compounds (21) and (22).


Figure 2005132829

Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

式(2)で示される化合物としては、下記(23)、(24)の化合物が例示される。   Examples of the compound represented by the formula (2) include the following compounds (23) and (24).


Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

Figure 2005132829

中でも、上記式(1)においてAr1およびAr2が芳香族炭化水素の場合、または上記式(2)においてAr1およびAr3が芳香族炭化水素の場合、化合物の安定性の観点から好ましい。 Among them, when Ar 1 and Ar 2 are aromatic hydrocarbons in the above formula (1), or when Ar 1 and Ar 3 are aromatic hydrocarbons in the above formula (2), it is preferable from the viewpoint of stability of the compound.

特に、下記式(1−1)または(2−1)で表される場合、化合物の安定性の観点から好ましい。   In particular, when represented by the following formula (1-1) or (2-1), it is preferable from the viewpoint of stability of the compound.


Figure 2005132829

式中、A1、X1、X2、X3およびX4は上記と同じ。ベンゼン環上に置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基が挙げられる。
Figure 2005132829

In the formula, A 1 , X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are the same as above. The benzene ring may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include an ethynyl group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, and a cyano group.

(1)または(2)で示される化合物の合成法について述べる。

Figure 2005132829


上記式(1)または(2)で示される化合物は、上記式(1−2)で示される化合物をハロゲン化する方法などにより製造することができる。X1’およびX3’はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基もしくはビニル基、またはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基もしくはビニル基に変換可能な官能基を表す。中でも、X1’およびX3は電子供与基が好ましい。
以下に合成法を例示する。

Figure 2005132829

A method for synthesizing the compound represented by (1) or (2) will be described.

Figure 2005132829


The compound represented by the above formula (1) or (2) can be produced by a method of halogenating the compound represented by the above formula (1-2). X 1 ′ and X 3 ′ each independently represent a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, Phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group or vinyl group, or halogen atom, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, aryl alkyl sulfonate group, borate ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl Represents a functional group which can be converted into a group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group or vinyl group. Among these, X 1 ′ and X 3 are preferably electron donating groups.
The synthesis method is illustrated below.

Figure 2005132829

次に、式(5)または(6)で示される化合物について述べる。

Figure 2005132829
Next, the compound represented by formula (5) or (6) will be described.

Figure 2005132829

式中、A1およびX3は、前記と同じ意味を表し、Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は、それぞれ独立に3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表し、該Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
ここに、3価の芳香族炭化水素基、3価の複素環基、Ar4、Ar5、Ar6およびAr7が有していてもよい置換基等 の定義、具体例等は、式(1)、(2)におけるそれらの定義、具体例等と同様である。
In the formula, A 1 and X 3 represent the same meaning as described above, and Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 each independently represent a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group. , Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may combine to form a ring.
Here, the definitions, specific examples, etc. of the trivalent aromatic hydrocarbon group, trivalent heterocyclic group, substituents that Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 may have are represented by the formula ( The definitions and specific examples in 1) and (2) are the same.

また、X9、X10、X11およびX12は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(5)におけるX9、X10およびX3の少なくとも一つが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれ、式(6)における、X9、X10、X11およびX12の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれる。
ここに、X9、X10、X11およびX12における、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、の定義、具体例等は、式(1)、(2)におけるそれらの定義、具体例等と同様である。
X 9 , X 10 , X 11 and X 12 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , monohalogenated methyl Represents a group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro group, X in formula (5) 9 , at least one of X 10 and X 3 is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, Phosphonium methyl group, phosphonate methyl Group, cyanomethyl group, selected from a formyl group and a vinyl group, in the formula (6), at least one of X 9, X 10, X 11 and X 12 is a halogen atom, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, arylalkyl A sulfonate group, a borate group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group are selected.
Here, in X 9 , X 10 , X 11 and X 12 , a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, The definitions and specific examples of sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, alkyloxy group, acyloxy group, and substituted silyloxy group are the same as those definitions and specific examples in formulas (1) and (2). is there.

上記式(5)または(6)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、縮合反応をおこなった後に縮合反応性官能基前駆体を官能基変換し、更に縮合反応をおこなうことにより位置選択的な置換基導入や重合反応をおこなうことができる。 When the compound represented by the above formula (5) or (6) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, the condensation-reactive functional group precursor is converted into a functional group after performing the condensation reaction. Furthermore, regioselective substituent introduction and polymerization reaction can be carried out by further conducting a condensation reaction.

上記式(5)または(6)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、該化合物をポリマーにした時の発光強度の観点から、A1がO、S、S(=O)、SO2またはSi(R3)(R4)、N(R5)である場合が好ましい。 When the compound represented by the above formula (5) or (6) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, from the viewpoint of light emission intensity when the compound is made into a polymer, A 1 is A case where O, S, S (═O), SO 2, Si (R 3 ) (R 4 ), or N (R 5 ) is preferable.

また、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−で表される場合も好ましい。具体的には、上記式(16)、(17)、(18)、(19)または(20)に例示の基が挙げられる。 Further, -Z 2 -Z 3 - or -Z 4 = Z 5 - is also preferable if represented by. Specific examples include groups exemplified in the above formula (16), (17), (18), (19) or (20).

中でも、A1がO−C(=O)、O−C(R1)(R2)、N(R5)−C(=O)またはN=C(R9)である場合が好ましい。 Among them, A 1 is O-C (= O), O-C (R 1) (R 2), N (R 5) -C (= O) or a N = C (R 9) is preferred.

また、式(5)におけるX1、X2およびX3の全てが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる場合、式(6)におけるX1、X2、X3およびX4の全てがハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれる場合、直接重合に供すると分岐ポリマーを与えることから好ましい。 Further, all of X 1 , X 2 and X 3 in the formula (5) are halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups, borate ester groups, —B (OH) 2 , monohalogenated When selected from a methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group, all of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in formula (6) are halogen atoms, Alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, aryl alkyl sulfonate group, borate ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group and vinyl When selected from the group, if directly subjected to polymerization It preferred to give Toki polymer.

中でも、縮合反応の反応部位の制御が可能なことから、(5)式においてX3、X9、X10のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合および(6)式においてX9、X10、X11、X12のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合が好ましい。 Among them, since the reaction site of the condensation reaction can be controlled, in the formula (5), when at least one of X 3 , X 9 and X 10 is a different functional group and in the formula (6), X 9 , It is preferable that at least one of X 10 , X 11 and X 12 is a functional group different from the others.

また、ポリマーにした時の発光強度の観点からA1がO、S、S(=O)、SO2またはSi(R3)(R4)、N(R5)である場合が好ましい。 From the viewpoint of the emission intensity when polymerized, it is preferable that A 1 is O, S, S (═O), SO 2, Si (R 3 ) (R 4 ), or N (R 5 ).

また、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−表される場合も好ましい。具体的には、上記式(16)、(17)、(18)、(19)または(20)に例示の基が挙げられる。 It is also preferred that -Z 2 -Z 3 -or -Z 4 = Z 5 -is expressed. Specific examples include groups exemplified in the above formula (16), (17), (18), (19) or (20).

中でも、A1がO−C(=O)、O−C(R1)(R2)、N(R5)−C(=O)またはN=C(R9)である場合が好ましい。 Among them, A 1 is O-C (= O), O-C (R 1) (R 2), N (R 5) -C (= O) or a N = C (R 9) is preferred.

式(5)で示される化合物としては、下記(25)および(26)に例示の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (5) include compounds exemplified in the following (25) and (26).


Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

Figure 2005132829

式(6)で示される化合物としては、下記(27)および(28)に例示の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (6) include compounds exemplified in the following (27) and (28).


Figure 2005132829

Figure 2005132829


Figure 2005132829

Figure 2005132829

中でも、上記式(5)または(6)においてAr4およびAr5が芳香族炭化水素の場合、化合物の安定性の観点から好ましい。 Among these, in the above formula (5) or (6), when Ar 4 and Ar 5 are aromatic hydrocarbons, it is preferable from the viewpoint of the stability of the compound.

特に、下記式(5−1)または(6−1)で表される場合、化合物の安定性の観点から好ましい。

Figure 2005132829
In particular, when represented by the following formula (5-1) or (6-1), it is preferable from the viewpoint of stability of the compound.

Figure 2005132829

式中、Ar6、Ar7、A1、X3、X9、X10、X11およびX12は上記と同じ。ベンゼン環上に置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基が挙げられる。 In the formula, Ar 6 , Ar 7 , A 1 , X 3 , X 9 , X 10 , X 11 and X 12 are the same as above. The benzene ring may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include an ethynyl group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, and a cyano group.

次に(5)式で表される化合物の合成法について述べる。

Figure 2005132829


上記式(5)で示される化合物は、上記式(5−2)で示される化合物と(5−3)で示される化合物1当量をクロスカップリングさせた後に、X3’、X9’およびX10’をそれぞれX3、X9およびX10へと変換する方法などにより製造することができる。式中、A1、Ar4、Ar5およびAr6は、上記と同じ意味を表す。X3’、X9’およびX10はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基もしくはビニル基、またはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基もしくはビニル基に変換可能な官能基を表す。X30およびX31は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、トリアルキルスズ基、ホウ酸エステル基または−B(OH)2を表す。
クロスカップリングの方法としては、Suzukiカップリング、Grignardカップリング、Stilleカップリングなどが例示される。X9およびX10に変換可能な官能基としては、例えば、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基などが例示される。官能基変換の方法としては、上記の通りである。以下に合成法を例示する。

Figure 2005132829

Next, a method for synthesizing the compound represented by the formula (5) will be described.

Figure 2005132829


After the compound represented by the above formula (5) is cross-coupled between the compound represented by the above formula (5-2) and 1 equivalent of the compound represented by (5-3), X 3 ′ , X 9 ′ and It can be produced by a method of converting X 10 ′ to X 3 , X 9 and X 10 , respectively. In the formula, A 1 , Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 represent the same meaning as described above. X 3 ′ , X 9 ′ and X 10 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, or a sulfonium methyl group. Group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group or vinyl group, or halogen atom, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, aryl alkyl sulfonate group, boric acid ester group, -B (OH) 2 , monohalogen Represents a functional group that can be converted into a methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group or vinyl group. X 30 and X 31 each independently represent a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a trialkyl tin group, a borate group or —B (OH) 2 .
Examples of the cross coupling method include Suzuki coupling, Grignard coupling, Stille coupling, and the like. Examples of functional groups that can be converted to X 9 and X 10 include hydroxyl groups, alkyloxy groups, acyloxy groups, substituted silyloxy groups, amino groups, and nitro groups. The functional group conversion method is as described above. The synthesis method is illustrated below.

Figure 2005132829

次に(6)式で表される化合物の合成法について述べる。

Figure 2005132829


上記式(6)で示される化合物は、例えば上記式(5−4)で示される化合物と(6−2)で示される化合物をクロスカップリングさせた後に、X9’、X10、X11およびX12をそれぞれX9、X10、X11およびX12へと変換する方法などにより製造することができる。クロスカップリングの方法としては、上記と同じ方法が挙げられる。また、(6)で示される化合物は、(5−2)で示される化合物と(5−3)で示される化合物2当量とを反応させた後にX9’およびX10’をそれぞれX9およびX10変換する方法などによっても製造することができる。

Figure 2005132829

Next, a method for synthesizing the compound represented by the formula (6) will be described.

Figure 2005132829


The compound represented by the above formula (6) is obtained by, for example, cross-coupling the compound represented by the above formula (5-4) with the compound represented by (6-2), and then X 9 ′ , X 10 , X 11 And X 12 can be produced by a method of converting X 9 , X 10 , X 11 and X 12 respectively. Examples of the cross coupling method include the same methods as described above. In addition, the compound represented by (6) is obtained by reacting the compound represented by (5-2) with 2 equivalents of the compound represented by (5-3), and then converting X 9 ′ and X 10 ′ to X 9 and it can also be produced by a method of X 10 conversion.

Figure 2005132829

次に、式(9)、(10)または(11)で示される化合物について述べる。

Figure 2005132829
Next, the compound represented by formula (9), (10) or (11) will be described.

Figure 2005132829

式中、Ar4およびAr5は、前記と同じ意味を表し、Ar8、Ar9およびAr10はそれぞれ独立にアリーレン基または2価の複素環基を表し、該Ar4、Ar5、Ar8、Ar9およびAr10は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が直接結合して環を形成していてもよい。 In the formula, Ar 4 and Ar 5 represent the same meaning as described above, Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and the Ar 4 , Ar 5 , Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may be bonded to form a ring, and Ar 9 and Ar 10 are substituted. When it has a group, they may be bonded to form a ring, and Ar 9 and Ar 10 may be directly bonded to form a ring.

ここにアリーレン基とは、芳香族炭化水素化合物から2つの水素原子を除いた残りの原子団をいい、通常炭素数6〜60、好ましくは6〜20である。なお、芳香族炭化水素基に置換基を有していてもよいが、芳香族炭化水素基の炭素数には置換基の炭素数は含まれない。芳香族炭化水素化合物、置換基については、前記式(1)における3価の芳香族炭化水素基について例示の化合物、基が例示される。
2価の複素環基とは、複素環化合物から2つの水素原子を除いた残りの原子団をいい、通常炭素数3〜60、好ましくは3〜20である。なお、複素環基上に置換基を有していてもよい。複素環化合物、該置換基としては、前記式(1)における3価の複素環基について例示の化合物、基が例示される。
Here, the arylene group refers to a remaining atomic group obtained by removing two hydrogen atoms from an aromatic hydrocarbon compound, and usually has 6 to 60 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms. Note that the aromatic hydrocarbon group may have a substituent, but the carbon number of the aromatic hydrocarbon group does not include the carbon number of the substituent. About an aromatic hydrocarbon compound and a substituent, the compound and group illustrated about the trivalent aromatic hydrocarbon group in the said Formula (1) are illustrated.
A bivalent heterocyclic group means the remaining atomic group remove | excluding two hydrogen atoms from the heterocyclic compound, and it is C3-C60 normally, Preferably it is 3-20. In addition, you may have a substituent on the heterocyclic group. Examples of the heterocyclic compound and the substituent include compounds and groups exemplified for the trivalent heterocyclic group in the formula (1).

式中、
2は、下記式のいずれかで表される。

Figure 2005132829
式中、Z6はB、PまたはP(=O)を表し、Z7はC(R9)、Si(R10)、N、B、PまたはP(=O)を表し、Z8はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z9はCまたはSiを表し、Z10はN、B、P、C(R9)またはSi(R10)を表す。(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。) Where
A 2 is represented by one of the following formulas.

Figure 2005132829
In the formula, Z 6 represents B, P or P (═O), Z 7 represents C (R 9 ), Si (R 10 ), N, B, P or P (═O), and Z 8 represents O, S, C (= O ), S (= O), SO 2, C (R 1) (R 2), Si (R 3) (R 4), N (R 5), B (R 6) , P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), Z 9 represents C or Si, Z 10 represents N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ). . (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)

3は、下記式のいずれかで表される。


Figure 2005132829
式中、Z11はCまたはSiを表し、Z12はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)もしくはP(=O)(R8)を表し、Z13およびZ14はそれぞれ独立にC(R9)、Si(R10)、B、N、PまたはP(=O)を表す。Z15およびZ16はそれぞれ独立にCまたはSiを表す。(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。) A 3 is represented by one of the following formulas.


Figure 2005132829
In the formula, Z 11 represents C or Si, and Z 12 represents O, S, C (═O), S (═O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) ( R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), and Z 13 and Z 14 are each independently C (R 9 ), Si (R 10 ), B, N, P or P (═O) is represented. Z 15 and Z 16 each independently represent C or Si. (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)

4は、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、置換アミノ基、置換シリル基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基またはアリールエチニル基を表す。ただし、式(9)においてAr5とA2はAr4環の互いに隣接する原子に結合し、Ar4とA2はAr5環の互いに隣接する原子に結合する。 A 4 is a hydrogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, substituted amino group, substituted silyl group, monovalent group Represents a heterocyclic group, a heteroaryloxy group, a heteroarylthio group, an arylalkenyl group or an arylethynyl group. However, in Formula (9), Ar 5 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 4 ring, and Ar 4 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 5 ring.

式中、X18、X19、X20、X21およびX22は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(9)におけるX18、X19およびX20の少なくとも一つはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、およびビニル基から選ばれ、式(10)におけるX18、X21およびX22の少なくとも一つはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、およびビニル基から選ばれ、式(11)におけるX18、X19、X21およびX22の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、およびビニル基から選ばれる。 In the formula, X 18 , X 19 , X 20 , X 21 and X 22 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an arylalkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , Monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro group, 9) At least one of X 18 , X 19 and X 20 is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, Sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate Selected from a tomethyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group, and at least one of X 18 , X 21, and X 22 in the formula (10) is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an arylalkyl sulfonate group, X 18 in formula (11) selected from borate group, —B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, and vinyl group. , X 19 , X 21 and X 22 are each a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium Methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate It is selected from a methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group.

2で表される基としては、具体的には以下に例示の基が挙げられる。

Figure 2005132829
Specific examples of the group represented by A 2 include the following groups.

Figure 2005132829

3で表される基としては、具体的には以下に例示の基が挙げられる。

Figure 2005132829
Specific examples of the group represented by A 3 include the following groups.

Figure 2005132829

上記式(9)、(10)または(11)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、縮合反応をおこなった後に縮合反応性官能基前駆体を官能基変換し、更に縮合反応をおこなうことにより位置選択的な置換基導入や重合反応をおこなうことができる。 When the compound represented by the above formula (9), (10) or (11) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, a condensation-reactive functional group precursor is obtained after performing a condensation reaction. The functional group can be converted into a functional group and a condensation reaction can be performed to introduce a regioselective substituent or a polymerization reaction.

上記式(9)、(10)または(11)で示される化合物が、縮合反応性官能基と縮合反応性官能基前駆体とを有する場合、また、ポリマーにした時の発光強度の観点から、A2がB、PまたはP(=O)である場合が好ましい。 When the compound represented by the above formula (9), (10) or (11) has a condensation-reactive functional group and a condensation-reactive functional group precursor, and from the viewpoint of emission intensity when converted into a polymer, The case where A 2 is B, P or P (═O) is preferred.

また、A2が下記式で表される場合も好ましい。

Figure 2005132829

式中、Z7、Z8、Z9およびZ10は上記と同じ意味を表す。 It is also preferred that A 2 is represented by the following formula.

Figure 2005132829

In the formula, Z 7 , Z 8 , Z 9 and Z 10 represent the same meaning as described above.


上記式(10)または(11)で示される化合物は、また、ポリマーにした時の発光強度の観点から、A3が下記に示す4価の基である場合が好ましい。

Figure 2005132829

In the compound represented by the above formula (10) or (11), A 3 is preferably a tetravalent group shown below from the viewpoint of emission intensity when converted into a polymer.

Figure 2005132829

また、式(9)におけるX18、X19およびX20の全てがハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる場合、式(10)におけるX18、X21およびX22の全てがハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる場合、式(11)におけるX18、X19、X21およびX22の全てが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基から選ばれる場合、直接重合に供すると分岐ポリマーを与えることから好ましい。 In the formula (9), X 18 , X 19 and X 20 are all halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups, borate ester groups, —B (OH) 2 , monohalogenated methyl Group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, all of X 18 , X 21 and X 22 in formula (10) are halogen atoms, alkyl sulfonate groups, Aryl sulfonate group, arylalkyl sulfonate group, borate ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group If, X in the formula (11) 18, 19, all of X 21 and X 22 is a halogen atom, alkyl sulfonate group, aryl sulfonate group, arylalkyl sulfonate group, borate group, -B (OH) 2, monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, phosphonium When it is selected from a methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group, it is preferable because it provides a branched polymer when directly subjected to polymerization.

中でも、縮合反応の反応部位の制御が可能なことから、(9)式においてX18、X19、X20のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合、(10)式においてX18、X21、X22のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合および(11)式においてX18、X19、X21、X22のうち少なくとも1つが他と異なる官能基である場合が好ましい。 Above all, if because it can control of the reaction site of the condensation reaction, where at least one other different functional groups of X 18, X 19, X 20 in (9), X 18 in (10), It is preferable that at least one of X 21 and X 22 is a functional group different from the other and that in the formula (11), at least one of X 18 , X 19 , X 21 and X 22 is a functional group different from the other. .

また、ポリマーにした時の発光強度の観点から、A2がB、PまたはP(=O)である場合が好ましい。 Further, from the viewpoint of light emission intensity when a polymer is used, it is preferable that A 2 is B, P or P (═O).

また、A2が下記式で表される場合も好ましい。

Figure 2005132829

式中、Z7、Z8、Z9およびZ10は上記と同じ意味を表す。 It is also preferred that A 2 is represented by the following formula.

Figure 2005132829

In the formula, Z 7 , Z 8 , Z 9 and Z 10 represent the same meaning as described above.

上記式(10)または(11)で示される化合物は、また、ポリマーにした時の発光強度の観点から、A3が下記に示す4価の基である場合が好ましい。

Figure 2005132829
In the compound represented by the above formula (10) or (11), A 3 is preferably a tetravalent group shown below from the viewpoint of emission intensity when converted into a polymer.

Figure 2005132829

式(9)で示される化合物としては、下記(29)および(30)に例示の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (9) include compounds exemplified in the following (29) and (30).


Figure 2005132829

(29)
Figure 2005132829

(29)


Figure 2005132829

(30)
Figure 2005132829

(30)

式(10)で示される化合物としては、下記(31)および(32)に例示の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (10) include compounds exemplified in the following (31) and (32).


Figure 2005132829

(31)
Figure 2005132829

(31)

Figure 2005132829

(32)
Figure 2005132829

(32)

式(11)で示される化合物としては、下記(33)および(34)に例示の化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (11) include compounds exemplified in the following (33) and (34).



Figure 2005132829

(33)

Figure 2005132829

(33)


Figure 2005132829

(34)
Figure 2005132829

(34)

中でも、上記式(9)、(10)または(11)においてAr4およびAr5が芳香族炭化水素の場合、化合物の安定性の観点から好ましい。 Among these, when Ar 4 and Ar 5 are aromatic hydrocarbons in the above formula (9), (10) or (11), it is preferable from the viewpoint of the stability of the compound.

特に、下記式(9−1)、(10−1)または(11−1)で表される場合、化合物の安定性の観点から好ましい。   In particular, when represented by the following formula (9-1), (10-1) or (11-1), it is preferable from the viewpoint of the stability of the compound.


Figure 2005132829

Figure 2005132829

式中、Ar8、Ar9、Ar10、A2、A3、A4、X18、X19、X20、X21およびX22は上記と同じ。ベンゼン環上に置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基が挙げられる。 In the formula, Ar 8 , Ar 9 , Ar 10 , A 2 , A 3 , A 4 , X 18 , X 19 , X 20 , X 21 and X 22 are the same as above. The benzene ring may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include an ethynyl group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, and a cyano group.

次に上記式(9)、(10)または(11)で表される化合物の製造方法について述べる。

Figure 2005132829


上記式(9)、(10)または(11)で示される化合物は、例えば対応する有機リチウム試薬またはGrignard試薬と上記式(9−2)、(10−2)または(11−2)とそれぞれ反応させた後、酸触媒存在下に反応させる方法などにより製造することができる。以下に製造方法を例示する。

Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

Next, a method for producing the compound represented by the above formula (9), (10) or (11) will be described.

Figure 2005132829


The compound represented by the above formula (9), (10) or (11) includes, for example, the corresponding organolithium reagent or Grignard reagent and the above formula (9-2), (10-2) or (11-2), respectively. After the reaction, it can be produced by a method of reacting in the presence of an acid catalyst. The production method is illustrated below.

Figure 2005132829


Figure 2005132829


Figure 2005132829

次に、式(15)で示される化合物について述べる。

Figure 2005132829
Next, the compound represented by formula (15) will be described.

Figure 2005132829

式中、Ar4、Ar5、A1およびX3は、前記と同じ意味を表す。A5は、ホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、窒素原子、リン原子、砒素原子、a価の芳香族炭化水素基、a価の複素環基または金属錯体構造を有するa価の基を表す。aは3または4を表す。複数あるAr4、Ar5、A1およびX10は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the formula, Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 3 represent the same meaning as described above. A 5 is boron atom, aluminum atom, gallium atom, silicon atom, germanium atom, nitrogen atom, phosphorus atom, arsenic atom, a-valent aromatic hydrocarbon group, a-valent heterocyclic group or metal complex structure a Represents a valent group. a represents 3 or 4. A plurality of Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 10 may be the same or different from each other.

ここに、a価の芳香族炭化水素基、a価の複素環基の定義、具体例は、前記の3価の芳香族炭化水素基、4価の芳香族炭化水素基、3価の複素環基、4価の複素環基の説明におけるそれらの定義、具体例と同様である。   Here, definitions of a-valent aromatic hydrocarbon group and a-valent heterocyclic group, specific examples are the above-mentioned trivalent aromatic hydrocarbon group, tetravalent aromatic hydrocarbon group, trivalent heterocyclic ring. The definitions and specific examples in the explanation of the group and the tetravalent heterocyclic group are the same.

また、金属錯体構造を有するa価の基とは、有機配位子を有する金属錯体の有機配位子から水素原子をa個除いた残りのa価の基である。該有機配位子の炭素数は、通常4〜60程度であり、例えば、8−キノリノールおよびその誘導体、ベンゾキノリノールおよびその誘導体、2−フェニル−ピリジンおよびその誘導体、2−フェニル−ベンゾチアゾールおよびその誘導体、2−フェニル−ベンゾキサゾールおよびその誘導体、ポルフィリンおよびその誘導体などが挙げられる。
また、該錯体の中心金属としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、ベリリウム、イリジウム、白金、金、ユーロピウム、テルビウムなどが挙げられる。
有機配位子を有する金属錯体としては、低分子の蛍光材料、燐光材料として公知の金属錯体、三重項発光錯体などが挙げられる。
The a-valent group having a metal complex structure is a remaining a-valent group obtained by removing a hydrogen atom from an organic ligand of a metal complex having an organic ligand. The carbon number of the organic ligand is usually about 4 to 60. For example, 8-quinolinol and derivatives thereof, benzoquinolinol and derivatives thereof, 2-phenyl-pyridine and derivatives thereof, 2-phenyl-benzothiazole and derivatives thereof. Derivatives, 2-phenyl-benzoxazole and its derivatives, porphyrin and its derivatives and the like.
Examples of the central metal of the complex include aluminum, zinc, beryllium, iridium, platinum, gold, europium, and terbium.
Examples of the metal complex having an organic ligand include a low-molecular fluorescent material, a metal complex known as a phosphorescent material, and a triplet light-emitting complex.

金属錯体構造を有するa価の基としては、具体的には、下記に例示の基が挙げられる。なお、金属錯体構造を有するa価の基上に置換基を有していてもよいが、複素環基の炭素数には置換基の炭素数は含まれない。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基が挙げられる。
これら置換基の定義、具体例は、前記と同様である。

Figure 2005132829

Figure 2005132829

Figure 2005132829

Specific examples of the a-valent group having a metal complex structure include the following groups. In addition, you may have a substituent on the avalent group which has a metal complex structure, However, Carbon number of a substituent is not contained in carbon number of a heterocyclic group. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include an ethynyl group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an arylalkyloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, and a cyano group.
The definition and specific examples of these substituents are the same as described above.

Figure 2005132829

Figure 2005132829

Figure 2005132829

ポリマーにした時の発光強度の観点から、A1がO、S、S(=O)、SO2、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)、P(=O)(R8)、
−O−C(=O)−、−O−C(R1)(R2)−、−N(R5)−C(=O)−または −N=C(R9)−である場合が好ましい。
From the viewpoint of light emission intensity when polymerized, A 1 is O, S, S (═O), SO 2 , Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ), P (═O) (R 8 ),
When —O—C (═O) —, —O—C (R 1 ) (R 2 ) —, —N (R 5 ) —C (═O) — or —N═C (R 9 ) — Is preferred.

式(15)で示される化合物としては、下記(35)および(36)に例示の化合物が挙げられる。

Figure 2005132829

Figure 2005132829

(35) Examples of the compound represented by the formula (15) include compounds exemplified in the following (35) and (36).

Figure 2005132829

Figure 2005132829

(35)


Figure 2005132829

Figure 2005132829

(36)
Figure 2005132829

Figure 2005132829

(36)

中でも、上記式(15)においてAr4およびAr5が芳香族炭化水素である場合、化合物の安定性の観点から好ましい。
特に、下記式(15−1)で表される場合、化合物の安定性の観点から好ましい。
Among these, when Ar4 and Ar5 are aromatic hydrocarbons in the above formula (15), it is preferable from the viewpoint of the stability of the compound.
In particular, when represented by the following formula (15-1), it is preferable from the viewpoint of the stability of the compound.


Figure 2005132829

Figure 2005132829

式中、A1、A5、X3およびaは上記と同じ。ベンゼン環上に置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基またはシアノ基が挙げられる。 In the formula, A 1 , A 5 , X 3 and a are the same as above. The benzene ring may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring. Substituents include alkyl groups, alkyloxy groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups, arylalkyl groups, arylalkyloxy groups, arylalkylthio groups, acyl groups, acyloxy groups, amide groups, and acid imide groups. , Imine residue, amino group, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, aryl Examples include ethynyl group, carboxyl group, and cyano group.

次に(15)式で表される化合物の製造方法について述べる。A5がホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、リン原子または砒素原子である場合、下記式(15−2)と(15−3)とを反応させる方法などにより製造することができる。式中、A1、A5、Ar4、Ar5およびX3は上記と同じ。Mはリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、マグネシウム塩を表す。X33はハロゲン原子を表す。

Figure 2005132829


以下に製造方法を例示する。

Figure 2005132829


5がa価の芳香族炭化水素基、a価の複素環基または金属錯体構造を有するa価の基である場合、(15−4)で示される化合物と(15−5)で示される化合物とのクロスカップリングさせる方法などにより製造することができる。式中、A1、A5、Ar4、Ar5およびX3は上記と同じ。X34およびX35はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、トリアルキルスズ基、ホウ酸エステル基または−B(OH)2を表す。クロスカップリングの方法としては、Suzukiカップリング、Grignardカップリング、Stilleカップリングなどが例示される。

Figure 2005132829



以下に製造方法を例示する。

Figure 2005132829

Next, a method for producing the compound represented by the formula (15) will be described. When A 5 is a boron atom, an aluminum atom, a gallium atom, a silicon atom, a germanium atom, a phosphorus atom or an arsenic atom, it is produced by a method of reacting the following formulas (15-2) and (15-3) Can do. In the formula, A 1 , A 5 , Ar 4 , Ar 5 and X 3 are the same as above. M represents a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, or a magnesium salt. X 33 represents a halogen atom.

Figure 2005132829


The production method is illustrated below.

Figure 2005132829


When A 5 is an a-valent aromatic hydrocarbon group, an a-valent heterocyclic group or an a-valent group having a metal complex structure, the compound represented by (15-4) and (15-5) It can be produced by a method of cross coupling with a compound. In the formula, A 1 , A 5 , Ar 4 , Ar 5 and X 3 are the same as above. X 34 and X 35 each independently represent a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a trialkyl tin group, a borate group or —B (OH) 2 . Examples of the cross coupling method include Suzuki coupling, Grignard coupling, Stille coupling, and the like.

Figure 2005132829



The production method is illustrated below.

Figure 2005132829

次に本発明の化合物の用途について説明する。本発明の化合物はX1〜X22の縮合反応により、医・農薬中間体や有機電子材料、およびそれらの中間体として用いることができる。   Next, the use of the compound of the present invention will be described. The compound of the present invention can be used as a medical / pesticidal intermediate, an organic electronic material, or an intermediate thereof by a condensation reaction of X1 to X22.

縮合反応の方法としては、ビニレン基を介して結合する場合には、例えば特開平5−202355号公報に記載の方法により製造し得る。縮合反応性官能基を2つ以上有する場合、縮合重合反応としても用いることができる。
すなわち、〔1〕アルデヒド基を有する化合物とホスホニウム塩基を有する化合物とのWittig反応、〔2〕ビニル基を有する化合物とハロゲン原子を有する化合物とのHeck反応〔3〕アルデヒド基を有する化合物とアルキルホスホネート基を有する化合物とのHorner−Wadsworth−Emmons反応〔4〕ホルミル基を有する化合物とシアノ基を有する化合物とのKnoevenagel反応〔5〕ホルミル基を2つ以上有する化合物のMcMurry反応などの方法が例示される。
上記〔1〕〜〔5〕の反応について以下に式で示す。
As a method for the condensation reaction, in the case of bonding via a vinylene group, it can be produced, for example, by the method described in JP-A-5-202355. When it has two or more condensation-reactive functional groups, it can also be used as a condensation polymerization reaction.
[1] Wittig reaction between a compound having an aldehyde group and a compound having a phosphonium base, [2] Heck reaction between a compound having a vinyl group and a compound having a halogen atom [3] A compound having an aldehyde group and an alkylphosphonate Horner-Wadsworth-Emmons reaction with a compound having a group [4] Knoevenagel reaction between a compound having a formyl group and a compound having a cyano group [5] A method such as McMurry reaction of a compound having two or more formyl groups The
The reactions [1] to [5] are shown by the following formulas.

本発明の化合物を縮合重合反応に供することにより、分岐状オリゴマー、分岐状ポリマ―を製造することができる。   A branched oligomer or branched polymer can be produced by subjecting the compound of the present invention to a condensation polymerization reaction.

〔1〕

Figure 2005132829
[1]

Figure 2005132829

〔2〕

Figure 2005132829
[2]

Figure 2005132829

〔3〕

Figure 2005132829
[3]

Figure 2005132829

〔4〕

Figure 2005132829
[4]

Figure 2005132829

〔5〕

Figure 2005132829
[5]

Figure 2005132829

また、直接結合を形成する縮合反応の方法としては、例えば〔6〕Suzukiカップリング反応、〔7〕Grignardカップリング反応、〔8〕Ni(0)触媒による縮合反応などが例示される。
上記〔6〕〜〔8〕までの重合法について、以下に式で示す。
Examples of the condensation reaction method for forming a direct bond include [6] Suzuki coupling reaction, [7] Grignard coupling reaction, and [8] Ni (0) catalyst condensation reaction.
The polymerization methods [6] to [8] are shown by the following formulas.

〔6〕

Figure 2005132829
[6]

Figure 2005132829

〔7〕

Figure 2005132829
[7]

Figure 2005132829

〔8〕

Figure 2005132829
[8]

Figure 2005132829

反応の方法としては、本発明の化合物を、必要に応じ有機溶媒に溶解し、例えばアルカリや適当な触媒を用い、有機溶媒の融点以上沸点以下で、反応させることができる。例えば、“オルガニック リアクションズ(Organic Reactions)”,第14巻,270−490頁,ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.),1965年、“オルガニック リアクションズ(Organic Reactions)”,第27巻,345−390頁,ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.),1982年、“オルガニック シンセシス(Organic Syntheses)”,コレクティブ第6巻(Collective Volume VI),407−411頁,ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.),1988年、ケミカル レビュー(Chem.Rev.),第95巻,2457頁(1995年)、ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(J.Organomet.Chem.),第576巻,147頁(1999年)、ジャーナル オブ プラクティカル ケミストリー(J.Prakt.Chem.),第336巻,247頁(1994年)、マクロモレキュラー ケミストリー マクロモレキュラー シンポジウム(Makromol.Chem.,Macromol.Symp.),第12巻,229頁(1987年)などに記載の公知の方法を用いることができる。 As a reaction method, the compound of the present invention can be dissolved in an organic solvent as necessary, and reacted, for example, using an alkali or a suitable catalyst at a melting point or higher and a boiling point or lower of the organic solvent. For example, “Organic Reactions”, Vol. 14, pages 270-490, John Wiley & Sons, Inc., 1965, “Organic Reactions”, Vol. 27, 345-390, John Wiley & Sons, Inc., 1982, "Organic Synthesis", Collective Volume VI, 407-411, John Wiley and Sons (407-411). John Wiley & Sons, Inc.), 1988, Chem. Rev., 95, 24. 7 (1995), Journal of Organometallic Chemistry (J. Organomet. Chem.), 576, 147 (1999), Journal of Practical Chemistry (J. Prakt. Chem.), 336, 247 (1994), Macromolecular Chemistry Macromolecular Symposium (Macromol. Chem., Macromol. Symp.), Vol. 12, p. 229 (1987), etc. can be used.

有機溶媒としては、用いる化合物や反応によっても異なるが、一般に副反応を抑制するために、用いる溶媒は十分に脱酸素処理を施し、不活性雰囲気化で反応を進行させることが好ましい。また、同様に脱水処理を行うことが好ましい。(但し、Suzukiカップリング反応のような水との2相系での反応の場合にはその限りではない。)   The organic solvent varies depending on the compound and reaction to be used, but it is generally preferable that the solvent to be used is sufficiently deoxygenated and the reaction proceeds in an inert atmosphere in order to suppress side reactions. Similarly, it is preferable to perform a dehydration treatment. (However, this is not the case in the case of a two-phase reaction with water such as the Suzuki coupling reaction.)

反応させるために適宜アルカリや適当な触媒を添加する。これらは用いる反応に応じて選択すればよい。該アルカリまたは触媒は、反応に用いる溶媒に十分に溶解するものが好ましい。アルカリまたは触媒を混合する方法としては、反応液をアルゴンや窒素などの不活性雰囲気下で攪拌しながらゆっくりとアルカリまたは触媒の溶液を添加するか、逆にアルカリまたは触媒の溶液に反応液をゆっくりと添加する方法が例示される。また合成後、再沈精製、クロマトグラフィーによる分別等の通常の方法により精製することができる。   In order to make it react, an alkali and a suitable catalyst are added suitably. These may be selected according to the reaction used. The alkali or catalyst is preferably one that is sufficiently dissolved in the solvent used in the reaction. As a method of mixing the alkali or catalyst, slowly add the alkali or catalyst solution while stirring the reaction solution under an inert atmosphere such as argon or nitrogen, or conversely, slowly add the reaction solution to the alkali or catalyst solution. And the method of adding. Moreover, it can refine | purify by normal methods, such as reprecipitation refinement | purification and the fractionation by chromatography, after a synthesis | combination.

より具体的に、反応条件について述べると、Wittig反応、Horner反応、Knoevengel反応などの場合は、単量体の官能基に対して当量以上、好ましくは1〜3当量のアルカリを用いて反応させる。アルカリとしては、特に限定されないが、例えば、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、ナトリウムエチラート、リチウムメチラートなどの金属アルコラートや、水素化ナトリウムなどのハイドライド試薬、ナトリウムアミド等のアミド類等を用いることができる。溶媒としては、 N、N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン等が用いられる。反応の温度は、通常は室温から150℃程度で反応を進行させることができる。反応時間は、例えば、5分間〜40時間であるが、十分に重合が進行する時間であればよく、また反応が終了した後に長時間放置する必要はないので、好ましくは10分間〜24時間である。反応の際の濃度は、希薄すぎると反応の効率が悪く、濃すぎると反応の制御が難しくなるので、約0.01wt%〜溶解する最大濃度の範囲で適宜選択すればよく、通常は、0.1wt%〜20wt%の範囲である。Heck反応の場合は、パラジウム触媒を用い、トリエチルアミンなどの塩基の存在下で、単量体を反応させる。N、N−ジメチルホルムアミドやN−メチルピロリドンなどの比較的沸点の高い溶媒を用い、反応温度は、80〜160℃程度、反応時間は、1時間から100時間程度である。   More specifically, the reaction conditions will be described. In the case of Wittig reaction, Horner reaction, Knoevengel reaction, etc., the reaction is carried out using an equivalent or more, preferably 1 to 3 equivalents of alkali with respect to the functional group of the monomer. Examples of the alkali include, but are not limited to, metal alcoholates such as potassium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, sodium ethylate and lithium methylate, hydride reagents such as sodium hydride, and amides such as sodium amide. Etc. can be used. As the solvent, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, dioxane, toluene and the like are used. The reaction can be allowed to proceed at a reaction temperature of usually from room temperature to about 150 ° C. The reaction time is, for example, 5 minutes to 40 hours, but may be any time that allows sufficient polymerization to proceed, and it is not necessary to leave the reaction for a long time after the reaction is completed. is there. If the reaction concentration is too dilute, the reaction efficiency is poor. If the concentration is too high, it becomes difficult to control the reaction. Therefore, the concentration may be appropriately selected within the range of about 0.01 wt% to the maximum concentration to be dissolved. The range is from 1 wt% to 20 wt%. In the case of the Heck reaction, a monomer is reacted using a palladium catalyst in the presence of a base such as triethylamine. A relatively high boiling point solvent such as N, N-dimethylformamide or N-methylpyrrolidone is used, the reaction temperature is about 80 to 160 ° C., and the reaction time is about 1 to 100 hours.

Suzukiカップリング反応の場合は、触媒として、例えばパラジウム[テトラキス(トリフェニルホスフィン)]、パラジウムアセテート類などを用い、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化バリウム等の無機塩基、トリエチルアミン等の有機塩基、フッ化セシウムなどの無機塩を単量体に対して当量以上、好ましくは1〜10当量加えて反応させる。無機塩を水溶液として、2相系で反応させてもよい。溶媒としては、 N、N−ジメチルホルムアミド、トルエン、ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどが例示される。溶媒にもよるが50〜160℃程度の温度が好適に用いられる。溶媒の沸点近くまで昇温し、環流させてもよい。反応時間は1時間から200時間程度である。   In the case of the Suzuki coupling reaction, for example, palladium [tetrakis (triphenylphosphine)] or palladium acetate is used as a catalyst, an inorganic base such as potassium carbonate, sodium carbonate, or barium hydroxide; an organic base such as triethylamine; An inorganic salt such as cesium iodide is added in an amount of not less than an equivalent amount, preferably 1 to 10 equivalents, relative to the monomer. An inorganic salt may be used as an aqueous solution and reacted in a two-phase system. Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, toluene, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and the like. Although depending on the solvent, a temperature of about 50 to 160 ° C. is preferably used. The temperature may be raised to near the boiling point of the solvent and refluxed. The reaction time is about 1 hour to 200 hours.

Grignard反応の場合は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒中でハロゲン化物と金属Mgとを反応させてGrignard試薬溶液とし、これと別に用意した単量体溶液とを混合し、ニッケルまたはパラジウム触媒を過剰反応に注意しながら添加した後に昇温して環流させながら反応させる方法が例示される。Grignard試薬は単量体に対して当量以上、好ましくは1〜1.5当量、より好ましくは1〜1.2当量用いる。これら以外の方法で重合する場合も、公知の方法に従って反応させることができる。   In the case of the Grignard reaction, a halide and metal Mg are reacted in an ether solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethoxyethane or the like to form a Grignard reagent solution, and a monomer solution prepared separately is mixed with nickel. Alternatively, a method is exemplified in which a palladium catalyst is added while paying attention to excess reaction, and then the reaction is carried out while heating at reflux. The Grignard reagent is used in an equivalent amount or more, preferably 1 to 1.5 equivalents, more preferably 1 to 1.2 equivalents, relative to the monomer. Also in the case of polymerizing by a method other than these, the reaction can be carried out according to a known method.

上記の方法で合成した縮合反応化合物、オリゴマー、デンドリマーおよび高分子化合物は医・農薬や有機電子材料、およびそれらの中間体として用いることができる。   The condensation reaction compounds, oligomers, dendrimers and polymer compounds synthesized by the above method can be used as medicines / agrochemicals, organic electronic materials, and intermediates thereof.

上記の方法で合成したオリゴマー、デンドリマー、高分子化合物は電子素子用の材料としても用いることができ、高分子LED用発光材料および電荷輸送材料、有機トランジスタ用の有機半導体、レーザー用色素、有機太陽電池用材料などとしても用いることができる。   Oligomers, dendrimers, and polymer compounds synthesized by the above methods can also be used as materials for electronic devices. Light emitting materials and charge transport materials for polymer LEDs, organic semiconductors for organic transistors, dyes for lasers, organic solar It can also be used as a battery material.

次に上記の方法で合成したオリゴマー、デンドリマー、高分子化合物の用途について説明する。上記の方法で合成したオリゴマー、デンドリマー、高分子化合物は、固体状態で蛍光または燐光を有し、高分子発光体(高分子量の発光材料)として用いることができる。また、該高分子化合物は優れた電子輸送能を有しており、高分子LED用材料や電荷輸送材料として好適に用いることができる。
該高分子発光体を用いた高分子LEDは低電圧、高効率で駆動できる高性能の高分子LEDである。
従って、該高分子LEDは液晶ディスプレイのバックライト、または照明用としての曲面状や平面状の光源、セグメントタイプの表示素子、ドットマトリックスのフラットパネルディスプレイ等の装置に好ましく使用できる。
また、上記の方法で合成したオリゴマー、デンドリマー、高分子化合物はレーザー用色素、有機太陽電池用材料、有機トランジスタ用の有機半導体、発光性薄膜、導電性薄膜、有機半導体薄膜などの伝導性薄膜用材料としても用いることができる。
Next, uses of the oligomer, dendrimer and polymer compound synthesized by the above method will be described. The oligomer, dendrimer, and polymer compound synthesized by the above method have fluorescence or phosphorescence in a solid state, and can be used as a polymer light emitter (high molecular weight light emitting material). Further, the polymer compound has an excellent electron transport ability, and can be suitably used as a polymer LED material or a charge transport material.
The polymer LED using the polymer light emitter is a high-performance polymer LED that can be driven with low voltage and high efficiency.
Therefore, the polymer LED can be preferably used for a backlight of a liquid crystal display, or a device such as a curved or flat light source for illumination, a segment type display element, a dot matrix flat panel display.
In addition, oligomers, dendrimers, and polymer compounds synthesized by the above methods are used for conductive thin films such as laser dyes, organic solar cell materials, organic semiconductors for organic transistors, light-emitting thin films, conductive thin films, and organic semiconductor thin films. It can also be used as a material.

以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Examples will be shown below for illustrating the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

合成例1 (化合物Aの合成)

Figure 2005132829

化合物A
原料である2,2’,5,5’−テトラメトキシ−1,1’−ビフェニルは、1−ブロモ−2,5−ジメトキシベンゼンからゼロ価ニッケルを用いたカップリング反応にて合成した。
不活性雰囲気下の三つ口フラスコに2,2’,5,5’−テトラメトキシ−1,1’−ビフェニル(7.0g、26mmmol)を入れ、脱水N,N−ジメチルホルムアミド(100ml)に溶解した。フラスコを氷浴で冷却しながら、滴下ロートからN−クロロスクシンイミド(6.8g、52mmol)の脱水N,N−ジメチルホルムアミド(70ml)を15分かけて滴下した。滴下終了後ゆっくりと攪拌しながらゆっくりと室温へ戻し、1日攪拌した。
反応液に水(300ml)を加えて、析出した沈殿をろ別回収した。得られた沈殿をトルエン/ヘキサンで再結晶し目的物を得た(収量 5.8g)。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ3.74(s、6H)、3.87(s、6H)、6.85(s、2H)、7.02(s、2H) Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound A)

Figure 2005132829

Compound A
The raw material 2,2 ′, 5,5′-tetramethoxy-1,1′-biphenyl was synthesized from 1-bromo-2,5-dimethoxybenzene by a coupling reaction using zerovalent nickel.
Put 2,2 ', 5,5'-tetramethoxy-1,1'-biphenyl (7.0 g, 26 mmol) in a three-necked flask under inert atmosphere and dissolve in dehydrated N, N-dimethylformamide (100 ml). did. While the flask was cooled in an ice bath, dehydrated N, N-dimethylformamide (70 ml) of N-chlorosuccinimide (6.8 g, 52 mmol) was added dropwise from a dropping funnel over 15 minutes. After the completion of dropping, the mixture was slowly returned to room temperature with stirring and stirred for 1 day.
Water (300 ml) was added to the reaction solution, and the deposited precipitate was collected by filtration. The resulting precipitate was recrystallized from toluene / hexane to obtain the desired product (yield 5.8 g).
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 3.74 (s, 6H), 3.87 (s, 6H), 6.85 (s, 2H), 7.02 (s, 2H)

合成例2 (化合物Bの合成)

Figure 2005132829

化合物B
不活性雰囲気下の三つ口フラスコに化合物A(5.8g、17mmmol)を入れ、脱水塩化メチレン(100ml)に溶解した。フラスコを氷浴で冷却しながら、滴下ロートから三臭化ホウ素の塩化メチレン溶液(1mol/L、50ml)をの30分かけて滴下した。滴下終了後ゆっくりと攪拌しながらゆっくりと室温へ戻し、一夜攪拌した。
反応液から酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗いした後、溶媒を留去して目的物を得た(収量 4.9g)。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ6.64(s、2H)、6.82(s、2H)、8.9〜9.1(br、2H)、9.37(s、2H)。 Synthesis Example 2 (Synthesis of Compound B)

Figure 2005132829

Compound B
Compound A (5.8 g, 17 mmol) was placed in a three-necked flask under an inert atmosphere and dissolved in dehydrated methylene chloride (100 ml). While cooling the flask in an ice bath, a solution of boron tribromide in methylene chloride (1 mol / L, 50 ml) was added dropwise from a dropping funnel over 30 minutes. After completion of dropping, the mixture was slowly returned to room temperature while stirring slowly and stirred overnight.
The reaction solution was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with water, and then the solvent was distilled off to obtain the desired product (yield 4.9 g).
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 6.64 (s, 2H), 6.82 (s, 2H), 8.9 to 9.1 (br, 2H), 9.37 (s, 2H).

実施例1 (化合物Cの合成)

Figure 2005132829

化合物C
不活性雰囲気下の三つ口フラスコに化合物B(4.8g、17mmmol)、ゼオライト(6.7g;Zeolite HSZ 360HUA(Tosoh))およびモレキュラーシーブスで乾燥したo−ジクロロベンゼン(170ml)を加えた。オイルバスで加熱(バス温180℃)しながら13時間攪拌した。反応液を室温付近まで冷却し、ヘキサン(200ml)を加えた。析出したろ別し、ヘキサンで洗浄・乾燥した。沈殿から酢酸エチルで抽出し、その溶液をシリカゲルのショートカラムでボトムカットした後、溶媒を留去して、目的物を得た(収量3.5g)。
MSスペクトル:[M-H]- 267.0 Example 1 (Synthesis of Compound C)

Figure 2005132829

Compound C
Compound B (4.8 g, 17 mmol), zeolite (6.7 g; Zeolite HSZ 360HUA (Tosoh)) and o-dichlorobenzene dried with molecular sieves (170 ml) were added to a three-necked flask under an inert atmosphere. The mixture was stirred for 13 hours while heating in an oil bath (bath temperature of 180 ° C.). The reaction solution was cooled to around room temperature, and hexane (200 ml) was added. The deposited precipitate was separated, washed with hexane and dried. The precipitate was extracted with ethyl acetate, and the solution was bottom-cut with a silica gel short column, and then the solvent was distilled off to obtain the desired product (yield 3.5 g).
MS spectrum: [MH] - 267.0

実施例2 (化合物Dの合成)

Figure 2005132829

化合物D
不活性雰囲気下の三つ口フラスコに化合物C(4.2g)、4−N,N−ジメチルアミノピリジン(5.7g)入れ、脱水塩化メチレン(40ml)に溶解した。フラスコを氷浴で冷やしながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物(11g)を30分かけて滴下した。そのままゆっくりと室温まで昇温し5時間攪拌した。トルエンを加えてろ過し、ろ液をシリカゲルのショートカラムでボトムカットした後、溶媒を留去した。得られた固体をトルエン/ヘキサン系で再結晶し目的物を得た(7.6g)。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ7.80(s、2H)、7.93(s、2H)。 Example 2 (Synthesis of Compound D)

Figure 2005132829

Compound D
Compound C (4.2 g) and 4-N, N-dimethylaminopyridine (5.7 g) were placed in a three-necked flask under an inert atmosphere and dissolved in dehydrated methylene chloride (40 ml). While the flask was cooled in an ice bath, trifluoromethanesulfonic anhydride (11 g) was added dropwise over 30 minutes. The mixture was slowly warmed up to room temperature and stirred for 5 hours. Toluene was added for filtration, and the filtrate was bottom cut with a short column of silica gel, and then the solvent was distilled off. The obtained solid was recrystallized from a toluene / hexane system to obtain the desired product (7.6 g).
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 7.80 (s, 2H), 7.93 (s, 2H).

合成例3 (化合物Eの合成)

Figure 2005132829

化合物E
不活性雰囲気下1lの四つ口フラスコに2,8−ジブロモジベンゾチオフェン 7gとTHF 280mlを入れ、室温で撹拌、溶かした後、−78℃まで冷却した。n−ブチルリチウム 29ml(1.6モルヘキサン溶液)を滴下した。滴下終了後、温度を保持したまま2時間撹拌し、トリメトキシボロン酸 13gを滴下した。滴下終了後、ゆっくり室温まで戻した。3時間室温で撹拌後、TLCで原料の消失を確認した。5%硫酸 100mlを加えて反応を終了させ、室温で12時間撹拌した。水を加えて洗浄し、有機層を抽出した。溶媒を酢酸エチルに置換した後、30%過酸化水素水 5mlを加え、40℃で5時間撹拌した。その後有機層を抽出し、10%硫酸アンモニウム鉄(II)水溶液で洗浄後乾燥、溶媒を除去することにより、茶色の固体 4.43gを得た。
MS(APCI(−)):(M−H)- 215 Synthesis Example 3 (Synthesis of Compound E)

Figure 2005132829

Compound E
Under an inert atmosphere, 7 g of 2,8-dibromodibenzothiophene and 280 ml of THF were placed in a 1 l four-necked flask, stirred and dissolved at room temperature, and then cooled to -78 ° C. 29 ml of n-butyllithium (1.6 molar hexane solution) was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours while maintaining the temperature, and 13 g of trimethoxyboronic acid was added dropwise. After completion of dropping, the temperature was slowly returned to room temperature. After stirring at room temperature for 3 hours, disappearance of the raw material was confirmed by TLC. The reaction was terminated by adding 100 ml of 5% sulfuric acid and stirred at room temperature for 12 hours. Water was added for washing, and the organic layer was extracted. After replacing the solvent with ethyl acetate, 5 ml of 30% aqueous hydrogen peroxide was added and stirred at 40 ° C. for 5 hours. Thereafter, the organic layer was extracted, washed with a 10% aqueous solution of ammonium iron (II) sulfate, dried and the solvent was removed to obtain 4.43 g of a brown solid.
MS (APCI (-)) :( M-H) - 215

合成例4 (化合物Fの合成)

Figure 2005132829

化合物F
不活性雰囲気下で200mlの三つ口フラスコに化合物E 4.43gと臭化n−オクチル 25.1g、および炭酸カリウム 12.5g(23.5mmol)を入れ、溶媒としてメチルイソブチルケトン 50mlを加えて125℃で6時間加熱還流した。反応終了後、溶媒を除き、クロロホルムと水で分離、有機層を抽出し、さらに水で2回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラム(展開溶媒:トルエン/シクロヘキサン=1/10)で精製することにより、8.49gの化合物Fを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.91(t、6H)、1.31〜1.90(m、24H)、4.08(t、4H)、7.07(dd、2H)、7.55(d、2H)、7.68(d、2H) Synthesis Example 4 (Synthesis of Compound F)

Figure 2005132829

Compound F
Under an inert atmosphere, 4.43 g of compound E, 25.1 g of n-octyl bromide, and 12.5 g (23.5 mmol) of potassium carbonate were placed in a 200 ml three-necked flask, and 50 ml of methyl isobutyl ketone was added as a solvent. The mixture was heated to reflux at 125 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the solvent was removed, the organic layer was extracted with chloroform and water, and further washed twice with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed with a silica gel column (developing solvent: toluene / cyclohexane = 1/10) to obtain 8.49 g of Compound F.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.91 (t, 6H), 1.31-1.90 (m, 24H), 4.08 (t, 4H), 7.07 (dd, 2H), 7.55 (d, 2H), 7 .68 (d, 2H)

合成例5 (化合物Gの合成)

Figure 2005132829

化合物G
100ml三つ口フラスコに化合物F 6.67gと酢酸 40mlを入れ、オイルバスでバス温度140℃まで昇温した。続いて、30%過酸化水素水 13mlを冷却管から加え、1時間強く撹拌した後、冷水180mlに注いで反応を終了させた。クロロホルムで抽出、乾燥後溶媒を除去することによって、6.96gの化合物Gを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.90(t、6H)、1.26〜1.87(m、24H)、4.06(t、4H)、7.19(dd、2H)、7.69(d、2H)、7.84(d、2H)
MS(APCI(+)):(M+H)+ 473 Synthesis Example 5 (Synthesis of Compound G)

Figure 2005132829

Compound G
A 100 ml three-necked flask was charged with 6.67 g of compound F and 40 ml of acetic acid, and the temperature was raised to 140 ° C. in an oil bath. Subsequently, 13 ml of 30% aqueous hydrogen peroxide was added from the condenser, and after vigorously stirring for 1 hour, the reaction was terminated by pouring into 180 ml of cold water. 6.96 g of compound G was obtained by removing the solvent after extraction with chloroform and drying.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.90 (t, 6H), 1.26 to 1.87 (m, 24H), 4.06 (t, 4H), 7.19 (dd, 2H), 7.69 (d, 2H), 7 .84 (d, 2H)
MS (APCI (+)): (M + H) <+> 473

実施例3 (化合物Hの合成)

Figure 2005132829

化合物H
不活性雰囲気下200ml四つ口フラスコに化合物G 3.96gと酢酸/クロロホルム=1:1混合液 15mlを加え、70℃で撹拌し、溶解させた。続いて、臭素 6.02gを上記の溶媒 3mlに溶かして加え、3時間撹拌した。チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて未反応の臭素を除き、クロロホルムと水で分離、有機層を抽出、乾燥した。溶媒を除去し、シリカゲルカラム(展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン=1/4)で精製することにより、4.46gの化合物Hを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.95(t、6H)、1.30〜1.99(m、24H)、4.19(t、4H)、7.04(s、2H)、7.89(s、2H)
MS(FD+)M+ 630 Example 3 (Synthesis of Compound H)

Figure 2005132829

Compound H
Under an inert atmosphere, 3.96 g of Compound G and 15 ml of a mixed solution of acetic acid / chloroform = 1: 1 were added to a 200 ml four-necked flask and stirred at 70 ° C. to dissolve. Subsequently, 6.02 g of bromine was dissolved in 3 ml of the above solvent, and the mixture was stirred for 3 hours. An aqueous sodium thiosulfate solution was added to remove unreacted bromine, and the mixture was separated with chloroform and water, and the organic layer was extracted and dried. The solvent was removed, and purification was performed with a silica gel column (developing solvent: chloroform / hexane = 1/4) to obtain 4.46 g of Compound H.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.95 (t, 6H), 1.30 to 1.99 (m, 24H), 4.19 (t, 4H), 7.04 (s, 2H), 7.89 (s, 2H)
MS (FD + ) M + 630

実施例4 (化合物Iの合成)

Figure 2005132829

化合物I
不活性雰囲気下200ml三つ口フラスコに化合物H 3.9gとジエチルエーテル 50mlを入れ、40℃まで昇温、撹拌した。水素化アルミニウムリチウム 1.17gを少量ずつ加え、5時間反応させた。水を少量ずつ加えることによって過剰な水素化アルミニウムリチウムを分解し、36%塩酸 5.7mlで洗浄した。クロロホルム、水で分離、有機層を抽出後乾燥した。シリカゲルカラム(展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン=1/5)で精製することにより、1.8gの化合物Iを得た。
1H−NMR(300MHz/CDCl3):
δ0.90(t、6H)、1.26〜1.97(m、24H)、4.15(t、4H)、7.45(s、2H)、7.94(s、2H)
MS(FD+)M+ 598 Example 4 Synthesis of Compound I

Figure 2005132829

Compound I
Under an inert atmosphere, 3.9 g of Compound H and 50 ml of diethyl ether were placed in a 200 ml three-necked flask, heated to 40 ° C. and stirred. Lithium aluminum hydride 1.17 g was added little by little and allowed to react for 5 hours. Excess lithium aluminum hydride was decomposed by adding water little by little and washed with 5.7 ml of 36% hydrochloric acid. Separated with chloroform and water, the organic layer was extracted and dried. By purification with a silica gel column (developing solvent: chloroform / hexane = 1/5), 1.8 g of Compound I was obtained.
1 H-NMR (300 MHz / CDCl 3 ):
δ 0.90 (t, 6H), 1.26 to 1.97 (m, 24H), 4.15 (t, 4H), 7.45 (s, 2H), 7.94 (s, 2H)
MS (FD + ) M + 598

実施例5 (化合物Jの合成)

Figure 2005132829

化合物J
化合物Iをジクロロメタンに溶解し、三臭化ホウ素を加え攪拌した。反応終了後、水を加え、水相を酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去すると化合物Jが得られる。 Example 5 (Synthesis of Compound J)

Figure 2005132829

Compound J
Compound I was dissolved in dichloromethane, and boron tribromide was added and stirred. After completion of the reaction, water is added, the aqueous phase is extracted with ethyl acetate, and the solvent is distilled off to obtain compound J.

実施例6 (化合物Kの合成)

Figure 2005132829

化合物J
化合物Iをジクロロメタンに溶解し、三臭化ホウ素を加え攪拌した。反応終了後、水を加え、水相を酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去すると化合物Jが得られる。 Example 6 (Synthesis of Compound K)

Figure 2005132829

Compound J
Compound I was dissolved in dichloromethane, and boron tribromide was added and stirred. After completion of the reaction, water is added, the aqueous phase is extracted with ethyl acetate, and the solvent is distilled off to obtain compound J.

合成例6(化合物Kの合成)

Figure 2005132829





化合物K
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、ジベンゾフラン3.00 gをとり、60 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン8.2 mlを加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム54 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液)を10分で滴下した。室温まで昇温し、4時間攪拌した後、-78 ℃に冷却し、トリメトキシボラン7.1 mlを一度に加えた。室温まで昇温し、4時間攪拌した。0 ℃まで冷却し、30%過酸化水素水20 mlを30分で滴下した。滴下後、1時間攪拌し、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液20 mlを20分で滴下した。室温で3時間攪拌した後、1 N塩酸を加え酸性にし、100 mlのジエチルエーテルで3回抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、3.76 gの化合物Kを得た。
1H-NMR(CD3OD, 300MHz):δ7.46(2H, d), 7.18(2H, t), 6.97(2H,d)
MS(ESI-negative, KCl添加)m/z:199.1([M-H]-) Synthesis Example 6 (Synthesis of Compound K)

Figure 2005132829





Compound K
After replacing the 500 ml three-necked flask with argon, 3.00 g of dibenzofuran was taken and dissolved in 60 ml of dehydrated diethyl ether, and 8.2 ml of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was added. After cooling to −78 ° C., 54 ml of s-butyllithium (0.99 M cyclohexane / hexane solution) was added dropwise over 10 minutes. The mixture was warmed to room temperature, stirred for 4 hours, cooled to −78 ° C., and 7.1 ml of trimethoxyborane was added all at once. The mixture was warmed to room temperature and stirred for 4 hours. The mixture was cooled to 0 ° C., and 20 ml of 30% aqueous hydrogen peroxide was added dropwise over 30 minutes. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 1 hour, and 20 ml of a saturated aqueous sodium hydrogen sulfite solution was added dropwise over 20 minutes. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours, acidified with 1N hydrochloric acid, and extracted three times with 100 ml of diethyl ether. After drying with sodium sulfate, 3.76 g of compound K was obtained.
1 H-NMR (CD3OD, 300 MHz): δ 7.46 (2H, d), 7.18 (2H, t), 6.97 (2H, d)
MS (ESI-negative, KCl added) m / z: 199.1 ([MH] - )

合成例7(化合物Lの合成)

Figure 2005132829


化合物L
100 ml-3口フラスコを窒素置換した後、化合物K0.50 gをとり、18 mlの脱水DMFに溶解させ、炭酸カリウム0.80 g、1-ブロモオクタン0.9 mlを加えた。バス温120 ℃で2時間攪拌した後放冷し、水50 ml加えて50 mlのトルエンで3回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物L 0.90gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ7.50(2H, d), 7.22(2H, t), 6.97(2H, d), 4.24(4H, t), 1.96〜1.87(4H, m), 1.58〜1.48(4H, m), 1.43〜1.30(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz)δ146.0, 145.6, 126.4, 123.6, 113.0, 111.3, 69.7, 32.1, 29.7, 29.6, 29.5, 26.3, 23.0, 14.4.
MS(APCI-positive)m/z:425.3([M+H]+). Synthesis Example 7 (Synthesis of Compound L)

Figure 2005132829


Compound L
After the 100 ml three-necked flask was purged with nitrogen, 0.50 g of compound K was taken and dissolved in 18 ml of dehydrated DMF, and 0.80 g of potassium carbonate and 0.9 ml of 1-bromooctane were added. The mixture was stirred at a bath temperature of 120 ° C. for 2 hours, allowed to cool, added with 50 ml of water, and extracted three times with 50 ml of toluene. The organic phases were combined, filtered through silica gel, and then the solvent was distilled off to obtain 0.90 g of compound L.
1 H-NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 7.50 (2H, d), 7.22 (2H, t), 6.97 (2H, d), 4.24 (4H, t), 1.96 to 1.87 (4H, m ), 1.58 to 1.48 (4H, m), 1.43 to 1.30 (16H, m), 0.89 (6H, t).
13 C-NMR (CDCl 3, 300 MHz) δ 146.0, 145.6, 126.4, 123.6, 113.0, 111.3, 69.7, 32.1, 29.7, 29.6, 29.5, 26.3, 23.0, 14 .Four.
MS (APCI-positive) m / z: 425.3 ([M + H] + ).

実施例7(化合物Mの合成)

Figure 2005132829

化合物M
100 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、化合物L0.83 gをとり、17 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン0.8 mlを加え、-78 ℃に冷却した。s-ブチルリチウム5.1 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液)を5分間で滴下し、滴下後10分攪拌した後、冷浴をはずし、室温にて4時間攪拌した後、-78 ℃に冷却した。この溶液に1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン0.7 mlを5 mlのジエチルエーテルに溶解した溶液を5分で滴下した。5分攪拌後、冷浴をはずし、室温にて3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10 ml加えて水相を10 mlのトルエンで2回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物M 1.10 gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ 7.47(2H, d), 7.39(2H, d), 4.47(4H, t), 1.92〜1.83(4H, m), 1.61〜1.51(4H, m), 1.40〜1.25(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz):δ147.7, 142.3, 128.3, 125.9, 115.3, 114.1, 74.1, 32.1, 30.5, 29.7, 29.6, 26.3, 23.0, 14.4.
MS(ESI-positive):m/z:619.0, 621.0, 622.5([M+H]+). Example 7 (Synthesis of Compound M)

Figure 2005132829

Compound M
After the 100 ml three-necked flask was purged with argon, 0.83 g of compound L was taken and dissolved in 17 ml of dehydrated diethyl ether, 0.8 ml of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was added, and −78 Cooled to ° C. After dropwise addition of 5.1 ml of s-butyllithium (0.99 M cyclohexane / hexane solution) over 5 minutes and stirring for 10 minutes, the cooling bath was removed and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours and then cooled to -78 ° C. did. To this solution, a solution prepared by dissolving 0.7 ml of 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane in 5 ml of diethyl ether was added dropwise over 5 minutes. After stirring for 5 minutes, the cold bath was removed and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (10 ml) was added, and the aqueous phase was extracted twice with 10 ml of toluene. The organic phases were combined, filtered through silica gel, and then the solvent was distilled off to obtain 1.10 g of compound M.
1 H-NMR (CDCl 3, 300 MHz): δ 7.47 (2H, d), 7.39 (2H, d), 4.47 (4H, t), 1.92 to 1.83 (4H, m), 1.61 to 1 .51 (4H, m), 1.40 to 1.25 (16H, m), 0.89 (6H, t).
13 C-NMR (CDCl 3, 300 MHz): δ 147.7, 142.3, 128.3, 125.9, 115.3, 114.1, 74.1, 32.1, 30.5, 29.7, 29.6, 26.3, 23.0, 14.4.
MS (ESI-positive): m / z: 619.0, 621.0, 622.5 ([M + H] + ).

実施例8(化合物Nの合成)

Figure 2005132829

化合物N
実施例5、6と同様の処理をおこなうことにより化合物Nを合成することができる。 Example 8 (Synthesis of Compound N)

Figure 2005132829

Compound N
Compound N can be synthesized by the same treatment as in Examples 5 and 6.

合成例8(化合物Oの合成)

Figure 2005132829

化合物O
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、ジベンゾチオフェン5.00 gをとり、100 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン12.5 mlを加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム82 mlを10分で滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した後、-78℃に冷却し、トリメトキシボラン11 mlを一度に加えた。室温まで昇温し、1.5時間攪拌した。0 ℃まで冷却し、30%過酸化水素水30 mlを20分で滴下した。滴下後、1時間攪拌し、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液30 mlを10分で滴下した。室温で3時間攪拌した後、1N塩酸を加え酸性にし、100 mlのジエチルエーテルで3回抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、6.31 gの粗生成物を得た。トルエン:エタノール=5:1混合溶媒から2回再結晶することにより化合物O 0.61gを得た。
1H-NMR(CD3OD, 300MHz)δ 7.69(2H, d), 7.31(2H, t), 6.90(2H, d).
MS(ESI-negative, KCl添加)m/z:215.1([M-H]-). Synthesis Example 8 (Synthesis of Compound O)

Figure 2005132829

Compound O
After replacing the 500 ml three-neck flask with argon, 5.00 g of dibenzothiophene was taken and dissolved in 100 ml of dehydrated diethyl ether, and 12.5 ml of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was added. After cooling to −78 ° C., 82 ml of s-butyllithium was added dropwise over 10 minutes. The mixture was warmed to room temperature, stirred for 3 hours, cooled to -78 ° C, and 11 ml of trimethoxyborane was added at once. The mixture was warmed to room temperature and stirred for 1.5 hours. The mixture was cooled to 0 ° C., and 30 ml of 30% hydrogen peroxide was added dropwise over 20 minutes. After dropping, the mixture was stirred for 1 hour, and 30 ml of a saturated aqueous solution of sodium bisulfite was added dropwise over 10 minutes. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours, acidified with 1N hydrochloric acid and extracted three times with 100 ml of diethyl ether. After drying with sodium sulfate, 6.31 g of crude product was obtained. Recrystallization from a mixed solvent of toluene: ethanol = 5: 1 twice gave 0.61 g of compound O.
1 H-NMR (CD3OD, 300 MHz) δ 7.69 (2H, d), 7.31 (2H, t), 6.90 (2H, d).
MS (ESI-negative, KCl added) m / z: 215.1 ([MH] ).

合成例9(化合物Pの合成)

Figure 2005132829

化合物P
100 ml-3口フラスコを窒素置換した後、化合物O 0.50gをとり、14 mlの脱水DMFに溶解させ、炭酸カリウム0.86 g、1-ブロモオクタン0.9 mlを加えた。バス温120 ℃で2時間攪拌した後放冷し、水50 ml加えて50 mlのトルエンで3回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物P 0.95gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 7.69(2H, d), 7.35(2H, t), 6.86(2H, d), 4.14(4H, t), 1.92〜1.82(4H, m), 1.54〜1.47(4H, m), 1.42〜1.30(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz)δ154.6, 138.0, 129.2, 125.8, 114.5, 107.9, 68.9, 32.2, 29.7, 29.6, 26.4, 23.0, 14.5. Synthesis Example 9 (Synthesis of Compound P)

Figure 2005132829

Compound P
The 100 ml three-necked flask was purged with nitrogen, 0.50 g of compound O was taken, dissolved in 14 ml of dehydrated DMF, and 0.86 g of potassium carbonate and 0.9 ml of 1-bromooctane were added. The mixture was stirred at a bath temperature of 120 ° C. for 2 hours and then allowed to cool. The organic phases were combined, filtered through silica gel, and then the solvent was distilled off to obtain 0.95 g of compound P.
1 H-NMR (CDCl 3, 300 MHz) δ 7.69 (2H, d), 7.35 (2H, t), 6.86 (2H, d), 4.14 (4H, t), 1.92 to 1.82 (4H, m), 1.54 to 1.47 (4H, m), 1.42 to 1.30 (16H, m), 0.89 (6H, t).
13 C-NMR (CDCl 3, 300 MHz) δ154.6, 138.0, 129.2, 125.8, 114.5, 107.9, 68.9, 32.2, 29.7, 29.6, 26.4, 23.0, 14.5.

実施例9(化合物Qの合成)

Figure 2005132829

化合物Q
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、化合物P 9.00gをとり、180 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン8.7 mlを加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム57 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液)を10分で滴下した。徐々に室温まで昇温した後、5時間還流した後、-78 ℃に冷却し、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン8 mlを40 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解した溶液を30分で滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100 ml加え、100 mlのヘキサンで2回抽出した。シリカゲルショートカラムを通した後、溶媒を留去することにより、化合物Q 11.20gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 7,62(2H, d), 7.56(2H, d), 4.20(4H, t), 1.96〜1.84(4H, m), 1.64〜1.48(4H, m), 1.40〜1.25(16H, m), 0.90 (6H, t).
MS(APPI−positive)m/z:600, 598, 596([M]+).
Example 9 (Synthesis of Compound Q)

Figure 2005132829

Compound Q
After replacing the 500 ml three-necked flask with argon, 9.00 g of compound P was taken and dissolved in 180 ml of dehydrated diethyl ether, and 8.7 ml of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was added. After cooling to −78 ° C., 57 ml of s-butyllithium (0.99 M cyclohexane / hexane solution) was added dropwise over 10 minutes. After gradually warming to room temperature, refluxed for 5 hours, cooled to -78 ° C, and dissolved 8 ml of 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane in 40 ml of dehydrated diethyl ether The solution was added dropwise over 30 minutes. The mixture was warmed to room temperature and stirred for 3 hours. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (100 ml) was added, and the mixture was extracted twice with 100 ml of hexane. After passing through a silica gel short column, the solvent was distilled off to obtain 11.20 g of Compound Q.
1 H-NMR (CDCl 3, 300 MHz) δ 7,62 (2H, d), 7.56 (2H, d), 4.20 (4H, t), 1.96 to 1.84 (4H, m), 1.64 to 1.48 (4H, m), 1.40 to 1.25 (16H, m), 0.90 (6H, t).
MS (APPI-positive) m / z: 600, 598, 596 ([M] + ).

実施例10(化合物Sの合成)

Figure 2005132829

50ml2口フラスコを窒素置換した後、化合物R(特開2004−168999に開示)100mg(0.15mmol)と1,3−ジクロロ−5−ヨードベンゼン120mg(0.44mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)10mg(0.01mmol)を取り、1mlのトルエンに溶解させた。1M炭酸カリウム水溶液を1ml加え、還流下、20時間攪拌した。分液し、有機相を水、飽和食塩水で洗浄後、溶媒を留去し、粗生成物を得た。
MS(ESI−negative)m/z:729([M+Cl]-).
Example 10 (Synthesis of Compound S)

Figure 2005132829

After replacing the nitrogen in the 50 ml two-necked flask, 100 mg (0.15 mmol) of Compound R (disclosed in JP-A-2004-168999), 120 mg (0.44 mmol) of 1,3-dichloro-5-iodobenzene, tetrakis (triphenylphosphine) 10 mg (0.01 mmol) of palladium (0) was taken and dissolved in 1 ml of toluene. 1 ml of 1M aqueous potassium carbonate solution was added, and the mixture was stirred for 20 hours under reflux. After liquid separation, the organic phase was washed with water and saturated brine, and then the solvent was distilled off to obtain a crude product.
MS (ESI-negative) m / z: 729 ([M + Cl] - ).

実施例11(化合物Vの合成)

Figure 2005132829

化合物T(特開2004−168999に開示)をジクロロメタン溶媒中、三臭化ホウ素で処理することにより、化合物Uが得られる。化合物Uを実施例2と同様の処理をおこない、化合物Vを得ることができる。
Example 11 (Synthesis of Compound V)
Figure 2005132829

Compound U (disclosed in JP 2004-168999 A) is treated with boron tribromide in dichloromethane solvent to give compound U. Compound V can be obtained by treating compound U in the same manner as in Example 2.

実施例12(化合物Wの合成)

Figure 2005132829

上記で合成した化合物IをTHF溶媒中、−78℃で1当量のn−ブチルリチウムで処理した後、1/4当量の四塩化ケイ素と反応させることにより化合物Wが得られる。



Example 12 (Synthesis of Compound W)

Figure 2005132829

The compound I synthesized above is treated with 1 equivalent of n-butyllithium at −78 ° C. in a THF solvent, and then reacted with 1/4 equivalent of silicon tetrachloride to give compound W.



Claims (7)

下記式(1)または(2)で示される芳香族化合物。

Figure 2005132829
[式中、Ar1およびAr3は、それぞれ独立に、4価の芳香族炭化水素基または4価の複素環基を表す。Ar2は、3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表し、該
Ar1、Ar2およびAr3は置換基を有していてもよく、Ar1およびAr2が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar1およびAr3が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
また、A1は、−Z1−、−Z2−Z3−または−Z4=Z5−を表し、Z1、Z2、およびZ3は、それぞれ独立に、O、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z4およびZ5は、それぞれ独立に、N、B、P、C(R9)またはSi(R10)
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、アミノ基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールエチニル基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールアルキルオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基またはシアノ基を表す。ただし、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成していてもよい。)を表す。ただし式(1)において、Ar2とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr2環上の互いに隣接する原子に結合し、式(2)においてAr3とA1はAr1環上の互いに隣接する原子に結合し、Ar1とA1はAr3環の互いに隣接する原子上に結合する。
また、X1、X2、X3およびX4は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(1)におけるX1、X2、およびX3の少なくとも一つ並びに式(2)における、X1、X2、X3およびX4の少なくとも一つはハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれる。〕
An aromatic compound represented by the following formula (1) or (2).

Figure 2005132829
[Wherein, Ar 1 and Ar 3 each independently represents a tetravalent aromatic hydrocarbon group or a tetravalent heterocyclic group. Ar 2 represents a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group, and Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 may have a substituent, and Ar 1 and Ar 2 are a substituent. When they have, they may combine to form a ring, and when Ar 1 and Ar 3 have a substituent, they may combine to form a ring.
A 1 represents -Z 1- , -Z 2 -Z 3 -or -Z 4 = Z 5- , and Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently O, S, C ( = O), S (= O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) Or P (═O) (R 8 ), and Z 4 and Z 5 are each independently N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ).
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkyloxy group , Alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, imine residue, amino group, substituted amino group Substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, arylethynyl group, carboxyl group, alkyloxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, arylalkyloxycarbonyl group, heteroaryloxycal It represents an alkenyl group, or a cyano group. However, R 1 and R 2, R 3 and R 4 represents a bond to each other may form a ring.). However, in Formula (1), Ar 2 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 2 ring, and in Formula (2), Ar 3 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 1 ring, and Ar 1 and A 1 are bonded to adjacent atoms on the Ar 3 ring.
X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , or a monohalogenated methyl Represents a group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group, vinyl group, hydroxyl group, alkyloxy group, acyloxy group, substituted silyloxy group, amino group or nitro group, X in formula (1) 1 , at least one of X 2 and X 3 and at least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in formula (2) is a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group , borate group, -B (OH) 2, methyl monohalide group Sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, selected from cyanomethyl group, a formyl group and a vinyl group. ]
式(1)におけるX1、X2およびX3の全て並びに式(2)におけるX1、X2、X3およびX4の全てがハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれることを特徴とする請求項1記載の芳香族化合物。 All of X 1 , X 2 and X 3 in formula (1) and all of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in formula (2) are halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups. , Boric acid ester group, —B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, sulfonium methyl group, phosphonium methyl group, phosphonate methyl group, cyanomethyl group, formyl group and vinyl group, The aromatic compound described. 下記式(5)または(6)で示される芳香族化合物。

Figure 2005132829

〔式中、A1およびX3は、前記と同じ意味を表し、Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は、それぞれ独立に3価の芳香族炭化水素基または3価の複素環基を表し、該Ar4、Ar5、Ar6およびAr7は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
9、X10、X11およびX12は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(5)におけるX9、X10およびX3の少なくとも一つ並びに式(6)における、X9、X10、X11およびX12の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基またはビニル基である。〕
An aromatic compound represented by the following formula (5) or (6).

Figure 2005132829

[Wherein, A 1 and X 3 represent the same meaning as described above, and Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 each independently represent a trivalent aromatic hydrocarbon group or a trivalent heterocyclic group. The Ar 4 , Ar 5 , Ar 6 and Ar 7 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may be bonded to form a ring. .
X 9 , X 10 , X 11 and X 12 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a borate ester group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, Represents a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, a vinyl group, a hydroxyl group, an alkyloxy group, an acyloxy group, a substituted silyloxy group, an amino group or a nitro group, and X 9 in formula (5), At least one of X 10 and X 3 and at least one of X 9 , X 10 , X 11 and X 12 in formula (6) are a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl alkyl sulfonate group, a boron Acid ester group, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl group, A sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group or a vinyl group. ]
式(5)におけるX9、X10およびX3の全て並びに、式(6)における、X9、X10、X11およびX12の全てが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれることを特徴とする請求項3記載の芳香族化合物。 All of X 9 , X 10 and X 3 in formula (5) and all of X 9 , X 10 , X 11 and X 12 in formula (6) are a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an aryl It is selected from alkylsulfonate groups, borate groups, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl groups, sulfonium methyl groups, phosphonium methyl groups, phosphonate methyl groups, cyanomethyl groups, formyl groups and vinyl groups. The aromatic compound according to claim 3. 下記式(9)、(10)または(11)で示される芳香族化合物。

Figure 2005132829

[式中、Ar4およびAr5は、前記と同じ意味を表し、Ar8、Ar9およびAr10はそれぞれ独立にアリーレン基または2価の複素環基を表し、該Ar4、Ar5、Ar8、Ar9およびAr10は置換基を有していてもよく、Ar4およびAr5が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が置換基を有する場合、それらが結合して環を形成していてもよく、Ar9およびAr10が直接結合して環を形成していてもよい。
また、A2は、下記式

Figure 2005132829

(式中、Z6はB、PまたはP(=O)を表し、Z7はC(R9)、Si(R10)、N、B、PまたはP(=O)を表し、Z8はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z9はCまたはSiを表し、Z10はN、B、P、C(R9)またはSi(R10)を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。)
のいずれかを表し、
3は、下記式


Figure 2005132829

(式中、Z11はCまたはSiを表し、Z12はO、S、C(=O)、S(=O)、SO2、C(R1)(R2)、Si(R3)(R4)、N(R5)、B(R6)、P(R7)またはP(=O)(R8)を表し、Z13およびZ14はそれぞれ独立にC(R9)、Si(R10)、B、N、PまたはP(=O)を表し、Z15およびZ16はそれぞれ独立にCまたはSiを表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は前記と同じ意味を表す。)
のいずれかを表し、
4は、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、置換アミノ基、置換シリル基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基またはアリールエチニル基を表す。ただし、式(9)においてAr5とA2はAr4環の互いに隣接する原子に結合し、Ar4とA2はAr5環の互いに隣接する原子に結合する。
また、X18、X19、X20、X21およびX22は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基、ビニル基、水酸基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、置換シリルオキシ基、アミノ基またはニトロ基を表し、式(9)におけるX18、X19およびX20の少なくとも一つ、式(10)におけるX18、X21およびX22の少なくとも一つ、並びに式(11)におけるX18、X19、X21およびX22の少なくとも一つは、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基から選ばれる。]
An aromatic compound represented by the following formula (9), (10) or (11).

Figure 2005132829

[Wherein Ar 4 and Ar 5 represent the same meaning as described above, and Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and the Ar 4 , Ar 5 , Ar 8 , Ar 9 and Ar 10 may have a substituent, and when Ar 4 and Ar 5 have a substituent, they may be bonded to form a ring, and Ar 9 and Ar 10 are When it has a substituent, they may be bonded to form a ring, or Ar 9 and Ar 10 may be directly bonded to form a ring.
A 2 is the following formula:

Figure 2005132829

(Wherein Z 6 represents B, P or P (═O), Z 7 represents C (R 9 ), Si (R 10 ), N, B, P or P (═O); Z 8 Are O, S, C (═O), S (═O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ) (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), Z 9 represents C or Si, Z 10 represents N, B, P, C (R 9 ) or Si (R 10 ). R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)
Represents one of the following:
A 3 is the following formula


Figure 2005132829

(In the formula, Z 11 represents C or Si, and Z 12 represents O, S, C (═O), S (═O), SO 2 , C (R 1 ) (R 2 ), Si (R 3 ). (R 4 ), N (R 5 ), B (R 6 ), P (R 7 ) or P (═O) (R 8 ), and Z 13 and Z 14 are each independently C (R 9 ), Represents Si (R 10 ), B, N, P or P (═O), Z 15 and Z 16 each independently represent C or Si, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meaning as described above.)
Represents one of the following:
A 4 is a hydrogen atom, alkyl group, alkyloxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkyloxy group, arylalkylthio group, substituted amino group, substituted silyl group, monovalent group Represents a heterocyclic group, a heteroaryloxy group, a heteroarylthio group, an arylalkenyl group or an arylethynyl group. However, in Formula (9), Ar 5 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 4 ring, and Ar 4 and A 2 are bonded to adjacent atoms of the Ar 5 ring.
X 18 , X 19 , X 20 , X 21 and X 22 are each independently a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an arylalkyl sulfonate group, a borate group, —B (OH) 2 , mono A halogenated methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, a vinyl group, a hydroxyl group, an alkyloxy group, an acyloxy group, a substituted silyloxy group, an amino group or a nitro group, ) At least one of X 18 , X 19 and X 20 , at least one of X 18 , X 21 and X 22 in formula (10), and X 18 , X 19 , X 21 and X 22 in formula (11) At least one of a halogen atom, an alkyl sulfonate group, an aryl sulfonate group, an arylalkyl A sulfonate group, a borate group, —B (OH) 2 , a monohalogenated methyl group, a sulfonium methyl group, a phosphonium methyl group, a phosphonate methyl group, a cyanomethyl group, a formyl group, and a vinyl group are selected. ]
式(9)におけるX18、X19およびX20の全て、並びに式(10)におけるX18、X21およびX22の全て並びに式(11)におけるX18、X19、X21およびX22の全てが、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基、アリールアルキルスルホネート基、ホウ酸エステル基、−B(OH)2、モノハロゲン化メチル基、スルホニウムメチル基、ホスホニウムメチル基、ホスホネートメチル基、シアノメチル基、ホルミル基およびビニル基であることを特徴とする請求項5記載の芳香族化合物。 All of X 18 , X 19 and X 20 in Formula (9), and all of X 18 , X 21 and X 22 in Formula (10) and X 18 , X 19 , X 21 and X 22 in Formula (11) All are halogen atoms, alkyl sulfonate groups, aryl sulfonate groups, aryl alkyl sulfonate groups, borate ester groups, -B (OH) 2 , monohalogenated methyl groups, sulfonium methyl groups, phosphonium methyl groups, phosphonate methyl groups, cyanomethyl 6. The aromatic compound according to claim 5, which is a group, a formyl group or a vinyl group. 下記式(15)で示される芳香族化合物。

Figure 2005132829

(式中、Ar4、Ar5、A1およびX3は、前記と同じ意味を表す。A5は、ホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、窒素原子、リン原子、砒素原子、a価の芳香族炭化水素基、a価の複素環基または金属錯体構造を有するa価の基を表す。aは3または4を表す。複数あるAr4、Ar5、A1およびX10は、互いに同一であっても異なっていてもよい。)

An aromatic compound represented by the following formula (15).

Figure 2005132829

(Wherein Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 3 represent the same meaning as described above. A 5 represents a boron atom, an aluminum atom, a gallium atom, a silicon atom, a germanium atom, a nitrogen atom, a phosphorus atom, and arsenic. An atom, an a-valent aromatic hydrocarbon group, an a-valent heterocyclic group or an a-valent group having a metal complex structure, wherein a represents 3 or 4. Plural Ar 4 , Ar 5 , A 1 and X 10 may be the same as or different from each other.

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