JP2005125764A - Scratch-resistant moisture protective parylene layer - Google Patents

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Den Bergh Rudy Van
ルディ・ヴァン・デン・ベルグ
Thomas Cabes
トーマス・カベス
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To keep its moisture repellency or moisture protective characteristics by improving adhesive properties of an organic layer on a p-xylylene (parylene) layer to make a sheet or a foil containing a layer unit having the parylene layer scratch-resistant. <P>SOLUTION: In the sheet or the foil containing the layer unit divided into at least two layers, namely, a layer A being the p-xylylene (parylene) layer, and layers B existing on both sides of the layer A if necessary, it comprises an organic coating with at least one kind of phosphate compounds. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はパリレン層とそれに隣接する優れた耐スクラッチ性を示す有機層の間の接着性を改良するための解決策に関する。   The present invention relates to a solution for improving the adhesion between a parylene layer and an adjacent organic layer exhibiting excellent scratch resistance.

特に本発明は前記パリレン層がパネル支持体上に被覆されるときに耐スクラッチ性層の改良された接着性に関する。   In particular, the present invention relates to improved adhesion of the scratch resistant layer when the parylene layer is coated on a panel support.

特に本発明は好ましくは極めて湿分感受性を有するCsBr:Eu燐光体(前記燐光体層はその上部に保護層として被覆された湿分保護パリレン層で被覆される)を有する燐光体シート又はパネル、及びかかる燐光体シート又はパネルの製造方法に関する。   In particular, the present invention preferably comprises a phosphor sheet or panel having a highly moisture sensitive CsBr: Eu phosphor, said phosphor layer being coated with a moisture protective parylene layer coated thereon as a protective layer, And a method of manufacturing such a phosphor sheet or panel.

燐光体の良く知られた用途はX線像の生成にある。従来の放射線写真システムではX線放射線写真は対象物を通って像に従って透過されかついわゆる増感スクリーン(X線変換スクリーン)において対応する強度の光に変換されるX線によって得られ、そこでは燐光体粒子は透過されたX線を吸収し、それらを可視光及び/又は紫外線に変換する。写真フィルムはX線の直接衝撃に対してより可視光及び/又は紫外線に対しての方が感度が高い。   A well-known use of phosphors is in the generation of X-ray images. In conventional radiographic systems, X-ray radiographs are obtained by X-rays which are transmitted image-wise through an object and converted into corresponding intensity light in a so-called intensifying screen (X-ray conversion screen), in which phosphorescence is obtained. Body particles absorb the transmitted X-rays and convert them into visible light and / or ultraviolet light. Photographic films are more sensitive to visible light and / or ultraviolet light than to direct impact of X-rays.

例えばUS−A 3859527に開示されているようにX線パターンを記録及び再現する別の方法によれば、光刺激性燐光体として知られる特殊なタイプの燐光体が使用され、それはパネルに含まれ、パターンに従って変調された入射X線ビームに露光され、その結果としてX線放射線パターンに含まれるエネルギーを一次的に貯蔵する。露光後ある間隔で、可視光又は赤外光のビームがパネルを走査し、貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激する。その光は検出されて逐次電気信号に変換され、その信号は処理されて可視像を生成しうる。この目的のため、燐光体は入射X線エネルギーをできるだけ多く貯蔵し、走査ビームによって刺激されるまで貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出するようにすべきである。これは“デジタル放射線写真”又は“コンピュータ放射線写真”と称される。   According to another method for recording and reproducing X-ray patterns, for example as disclosed in US Pat. No. 3,895,527, a special type of phosphor known as a photostimulable phosphor is used, which is included in the panel. Exposure to an incident X-ray beam modulated according to the pattern, resulting in a temporary storage of the energy contained in the X-ray radiation pattern. At intervals after exposure, a beam of visible or infrared light scans the panel, stimulating the emission of stored energy as light. The light can be detected and sequentially converted into an electrical signal, which can be processed to produce a visible image. For this purpose, the phosphor should store as much of the incident x-ray energy as possible and release as little of the stored energy until stimulated by the scanning beam. This is referred to as “digital radiography” or “computer radiography”.

両方の種類の放射線写真では吸湿性について悩まされる必要なしでそのスピード及び像品質に基づいて使用される燐光体を選択できることが好ましい。   For both types of radiographs, it is preferable to be able to select the phosphor to be used based on its speed and image quality without having to worry about hygroscopicity.

それゆえ、直接放射線写真又はコンピュータ放射線写真に使用する場合でも水蒸気不透過性の燐光体パネルを製造する可能性を持つことが大いに望まれる。US−A 4741993では支持体上に少なくとも一つの刺激性燐光体層及び刺激性燐光体層上に与えられた保護層を有する放射線像貯蔵パネルが開示され、そこでは保護層は少なくとも二つの層を含み、25℃の吸着等温線上の90%の相対湿度の下でのそれらの水分率は0.5%以上異なる。本発明によれば、良好な耐湿性を有しかつ長期間使用することができる放射線像貯蔵パネルが得られる。US−A 4741993に開示されたような保護層は良好な湿分保護を与えるが、さらに良好な耐湿性を有する燐光体パネルを提供する必要性がなお存在する。   It is therefore highly desirable to have the potential to produce water vapor impermeable phosphor panels even when used for direct radiography or computer radiography. US-A 4749933 discloses a radiation image storage panel having at least one stimulable phosphor layer on a support and a protective layer provided on the stimulable phosphor layer, wherein the protective layer comprises at least two layers. And their moisture content under 90% relative humidity on the adsorption isotherm at 25 ° C. differs by more than 0.5%. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the radiation image storage panel which has favorable moisture resistance and can be used for a long period of time is obtained. Although a protective layer as disclosed in US-A 4749933 provides good moisture protection, there is still a need to provide a phosphor panel with even better moisture resistance.

吸湿性光刺激性燐光体スクリーン層の湿分保護層としてのパリレン層の使用が例えばEP−A 1286362及びEP−A 1286365に開示されている。また、DE−A 19625912及びGB−A 2287864においてもパリレン層を含有する燐光体スクリーンが開示されている。   The use of a parylene layer as a moisture protective layer for a hygroscopic photostimulable phosphor screen layer is disclosed, for example, in EP-A 1286362 and EP-A 1286365. DE-A 19625912 and GB-A 2287864 also disclose phosphor screens containing a parylene layer.

上の開示に従って作られたスクリーンは実際、極めて良好な全体品質に対して許容可能なスクリーンを生じるが、使用中良好な耐湿性及び良好な物理的損傷に対する抵抗性、特に耐スクラッチ性を組み合わせて有する燐光体スクリーンに対する必要性がなお存在する。この問題は所望のCsBrベースの燐光体プレートの頻繁な使用後により多く提起され、その結果としてその像品質は時間の関数として低下される。プレートが清浄されなければならないとき又はそれらがカセットから取り出されるとき、吸湿性CsBrベースの燐光体に対して湿分に対する適切な保護を通常与えるパリレン層は損傷を受けるかもしれない。なぜならばパリレンは極めて低い耐スクラッチ性しか有しておらず、結果として像プレートの安定性問題を再び生じるからである。   Screens made according to the above disclosure actually produce acceptable screens for very good overall quality, but combine good moisture resistance and good resistance to physical damage during use, especially scratch resistance There is still a need for a phosphor screen with. This problem is raised more after frequent use of the desired CsBr-based phosphor plate, with the result that its image quality is reduced as a function of time. When the plates must be cleaned or when they are removed from the cassette, the parylene layer that normally provides adequate protection against moisture for the hygroscopic CsBr-based phosphor may be damaged. This is because parylene has a very low scratch resistance, resulting in the image plate stability problem again.

例えばEP−A 1286364に記載されているようにパリレン層上への層の被覆は極めて望ましい。耐スクラッチ性層として物理的損傷に対して燐光体プレートをさらに本質的に防止するために前記パリレン層上に被覆されたその放射線硬化ポリマー層から、長期間の頻繁な使用で、パリレン被覆に対する有機又は無機ポリマー層の接着性が低下することが知られている。結果として接着性の問題は像プレートの寿命中に、特に頻繁な使用の後に起こりうる。   The coating of a layer on a parylene layer is highly desirable, for example as described in EP-A 1286364. From its radiation-cured polymer layer coated on the parylene layer to further essentially prevent the phosphor plate against physical damage as a scratch-resistant layer, it can be used for a long period of frequent use in an organic to parylene coating. Or it is known that the adhesiveness of an inorganic polymer layer will fall. As a result, adhesion problems can occur during the life of the image plate, especially after frequent use.

本発明の目的はパリレン層を有する層ユニットを含むシート又は箔を耐スクラッチ性にするためにp−キシリレン(パリレン)層上への有機層の接着性を改良し、かくしてその湿分反発性又は湿分保護特性が維持されることである。   The object of the present invention is to improve the adhesion of the organic layer on the p-xylylene (parylene) layer in order to make the sheet or foil comprising a layer unit having a parylene layer scratch resistant, and thus its moisture repellency or Moisture protection properties are maintained.

特に本発明の目的は長期の頻繁な使用及び再使用後であっても湿分に対する保護に加えて優れた耐スクラッチ性を与えるパネル、特に燐光体スクリーン又はパネルを提供することである。   In particular, it is an object of the present invention to provide a panel, in particular a phosphor screen or panel, which provides excellent scratch resistance in addition to protection against moisture, even after prolonged and frequent use and reuse.

さらに本発明の目的は極めて湿分感受性で光刺激性のドープされたアルカリハロゲン化物燐光体で被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの場合であっても、貯蔵燐光体パネルの前記頻繁な再使用後に像品質の損失を防止すること、特に優れた耐スクラッチ性を有するそのための結合剤のない貯蔵燐光体パネルを提供することである。   It is a further object of the present invention to provide the above-mentioned frequent use of storage phosphor panels, even in the case of storage phosphor panels having a phosphor layer coated with highly moisture sensitive and photostimulable doped alkali halide phosphors. It is intended to prevent loss of image quality after extensive reuse, in particular to provide a storage phosphor panel without a binder therefor which has excellent scratch resistance.

本発明のさらなる目的はp−キシリレン(パリレン)ポリマー層上への有機被覆の接着性を改良するための方法及びかかる保護最外層ユニットで被覆された燐光体層を有するプレート又はパネルを製造する方法を提供することである。   A further object of the present invention is a method for improving the adhesion of an organic coating onto a p-xylylene (parylene) polymer layer and a method for producing a plate or panel having a phosphor layer coated with such a protective outermost layer unit. Is to provide.

上述の目的は独立請求項1に規定された特別な特徴を有する、p−キシリレン(パリレン)ポリマー層上への有機被覆の層ユニットを含むシート又は箔を提供することによって及び前記p−キシリレン(パリレン)ポリマー層上への有機被覆の接着性を改良するための方法を適用することによって実現される。本発明の好ましい例のための特別な特徴は前記シート又は箔で被覆されたパネル、特に燐光体パネル、並びにかかるシート、箔又はパネルを製造するための方法に関して従属請求項に開示されている。   The object mentioned above is by providing a sheet or foil comprising a layer unit of organic coating on a p-xylylene (parylene) polymer layer having the special characteristics defined in independent claim 1 and said p-xylylene ( This is achieved by applying a method for improving the adhesion of the organic coating on the (parylene) polymer layer. Specific features for preferred embodiments of the invention are disclosed in the dependent claims with respect to said sheets or foil-coated panels, in particular phosphor panels, and methods for producing such sheets, foils or panels.

本発明のさらなる利点及び特別な例は以下の記載から明らかになるだろう。   Further advantages and specific examples of the present invention will become apparent from the description below.

本発明によるシート又は箔は少なくとも二つの層、即ちパリレンの層である層A及び所望により層Aの両側上に存在する層B、に分割された層ユニットを含み(その場合においてB−A−Bの三層ユニットとして二つのB層の間にA層がある)、下記一般式(I)による少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含むことを特徴とする:

Figure 2005125764
式中、R,R及びRの各々は同じか又は異なり、水素、飽和又は不飽和、置換又は非置換脂肪族基及び置換又は非置換芳香族基からなる群から選択される。
全ての三つのR置換基に対する水素の同時存在は除外されることは明らかである。なぜならばその場合において一般式(I)はもはや有機燐酸エステルではなく、燐酸自体を表すからである。さらに有機又は無機(通常アルカリ金属)塩も述べられる。 The sheet or foil according to the invention comprises a layer unit divided into at least two layers, namely layer A which is a parylene layer and optionally layer B which is present on both sides of layer A (in this case B-A- A three-layer unit of B with an A layer between two B layers), characterized in that it comprises at least one phosphate compound according to the following general formula (I):
Figure 2005125764
Wherein each of R 1 , R 2 and R 3 is the same or different and is selected from the group consisting of hydrogen, saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted aliphatic groups and substituted or unsubstituted aromatic groups.
Obviously, the simultaneous presence of hydrogen for all three R substituents is excluded. This is because in that case the general formula (I) is no longer an organic phosphoric ester, but phosphoric acid itself. Furthermore, organic or inorganic (usually alkali metal) salts are also mentioned.

層配置A−Bにおけるシート又は箔は湿分感受性対象物ごとにパッケージを形成するために極めて有用であり、そこでは有利には前記箔は対象物と接触するA層及び周囲の雰囲気と接触するB層を有し、それはパリレン湿分バリヤーを不可逆的に損傷しうるスクラッチ及び湿分から保護されるべきである。あるいは、層配置B−A−Bにおけるシート又は箔は周囲雰囲気からだけでなく、例えば包装される対象物の鋭い縁からも損傷するスクラッチに対する特別な保護として推奨されてもよい。   Sheets or foils in the layer arrangement AB are very useful for forming a package for each moisture sensitive object, wherein preferably the foil is in contact with the A layer in contact with the object and the surrounding atmosphere. It has a B layer, which should be protected from scratches and moisture that can irreversibly damage the parylene moisture barrier. Alternatively, the sheets or foils in the layer arrangement B-A-B may be recommended as extra protection against scratches that are damaged not only from the ambient atmosphere but also from, for example, the sharp edges of the object to be packaged.

本発明によれば層Bを有するシート又は箔はメタクリルエチルホスフェート、アクリルエチルホスフェート、ジメタクリルエチルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ジアクリルエチルホスフェート、メタクリルプロピルホスフェート、アクリルプロピルホスフェート、ジメタクリルプロピルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ドデシルポリエチレングリコールホスフェート、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、モノアルキルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、ジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、2−(ホスホノキシ)エチル−2−プロペノエート、4−(ホスホノキシ)ブチル−2−プロペノエート、及びホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート、トリス−アクリロイル−オキシエチルホスフェート、ノニルフェノールエトキシレートホスフェート、フェノールエトキシレートホスフェート、ジエチル(エトキシカルボニル−メタン)ホスホネート、エトキシル化脂肪アルコールホスフェート、エトキシル化トリデシルホスフェート混合物、モノ、ジ、トリ−トリデシルエチレングリコールホスフェートの混合物、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、ジエチルエチルホスホネート、ジメチルプロピルホスホネート、ジエチルN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノメチルホスホネート、ホスホン酸メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)エステル、P,P′−ジオキシド、ホスホン酸、メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)メチル、メチルエステル、P−オキシド、トリエチルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、イソ−デシルジフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソブチル化トリフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート及びトリクレシルホスフェートからなる化合物の群(これらに限定されない)から選択される少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含む。   According to the invention, the sheet or foil with layer B is methacrylic ethyl phosphate, acrylic ethyl phosphate, dimethacrylic ethyl phosphate, methacrylic ethyl methacrylpropyl phosphate, diacrylic ethyl phosphate, methacrylpropyl phosphate, acrylpropyl phosphate, dimethacrylpropyl phosphate, Methacrylethyl methacrylpropyl phosphate, dodecyl polyethylene glycol phosphate, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, monoalkylphenyl polyethylene glycol phosphate, dioctylphenyl polyethylene glycol phosphate, 2- (phosphonoxy) ethyl-2-propenoate, 4- (phosphonoxy) butyl-2 -Propenoate and phosphine Nicobis (oxy-2,1-ethanediyl) -di-2-propenoate, tris-acryloyl-oxyethyl phosphate, nonylphenol ethoxylate phosphate, phenol ethoxylate phosphate, diethyl (ethoxycarbonyl-methane) phosphonate, ethoxylated fatty alcohol phosphate, Ethoxylated tridecyl phosphate mixture, mono, di, tri-tridecyl ethylene glycol phosphate mixture, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, diethyl ethyl phosphonate, dimethyl propyl phosphonate, diethyl N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethyl Phosphonate, methyl phosphonate (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) Steal, P, P′-dioxide, phosphonic acid, methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) methyl, methyl ester, P-oxide, triethyl phosphate, 2 A group of compounds consisting of ethylhexyl diphenyl phosphate, iso-decyl diphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isobutylated triphenyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate and tricresyl phosphate At least one phosphate compound selected from (but not limited to).

上述のB層における燐酸エステルとして使用するために好適な脂肪族エステル化合物の典型例はメタクリルエチルホスフェート、アクリルエチルホスフェート、ジメタクリルエチルホスフェート、ジアクリルエチルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ドデシルポリエチレングリコールホスフェート及びポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェートである。   Typical examples of aliphatic ester compounds suitable for use as the phosphate ester in layer B above are methacrylic ethyl phosphate, acrylic ethyl phosphate, dimethacrylic ethyl phosphate, diacrylic ethyl phosphate, methacrylic ethyl methacrylpropyl phosphate, dodecyl polyethylene glycol phosphate. And polyethylene glycol tridecyl ether phosphate.

上述のB層における燐酸エステルとして使用するために好適な芳香族エステル化合物の典型例はモノアルキルフェニルポリエチレングリコールホスフェート(RHODIA CHEMIE、フランスからの“RHODAFAC RE870”として知られる)及びジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェート(RHODIAからの“RHODAFAC RM710”として知られる);ノニルフェノールエトキシレートホスフェートエステル(CAS No.68412−53−3)及びフェノールエトキシレートホスフェートエステル(CAS No.39464−70−5)である。   Typical examples of aromatic ester compounds suitable for use as the phosphate ester in layer B above are monoalkyl phenyl polyethylene glycol phosphate (RHODIA CHEMIE, known as “RHODAFAC RE870” from France) and dioctyl phenyl polyethylene glycol phosphate ( "RHODAFAC RM710" from RHODIA); nonylphenol ethoxylate phosphate ester (CAS No. 68415-253) and phenol ethoxylate phosphate ester (CAS No. 39464-70-5).

上述のB層における燐酸エステルとして使用するために好適な飽和エステル化合物の典型例は2−(ホスホノキシ)エチル−2−プロペノエート(CAS No.32120−16−4)、4−(ホスホノキシ)ブチル−2−プロペノエート(CAS No.110507−31−8)、ホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート(CAS No.40074−34−8)及びトリス−アクリロイル−オキシエチルホスフェート(CAS No.35057−49−9)である。   Typical examples of saturated ester compounds suitable for use as the phosphate ester in layer B above are 2- (phosphonoxy) ethyl-2-propenoate (CAS No. 32120-16-4), 4- (phosphonoxy) butyl-2 -Propenoate (CAS No. 110507-31-8), phosphinicobis (oxy-2,1-ethanediyl) -di-2-propenoate (CAS No. 40074-34-8) and tris-acryloyl-oxyethyl phosphate (CAS No. 35057-49-9).

上述の本発明の層配置に使用するために好適な他の良く知られたホスフェートエステルはPHOSBRITE(登録商標)156,171,193,261,265,271,272及び951のようなRHODIAからの商品;RHODAFAC(登録商標)RA500(CAS No.68130−47−2)及びRHODAFAC(登録商標)ASI80;ジエチル(エトキシカルボニルメタン)ホスホネート;エトキシル化脂肪アルコールホスフェートLUBROPHOS(登録商標)RD/510−E;エトキシル化トリデシルホスフェート混合物RHODAFAC(登録商標)RS−610E;モノ、ジ、トリ−トリデシルエチレングリコールホスフェートの混合物;ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェートRHODAFAC(登録商標)RS410、ジエチルエチルホスホネート(CAS No.765−79−6)、ジメチルプロピルホスホネート(CAS No.18755−43−6)、ジエチルN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノメチルホスホネート(CAS No.2781−11−5)、ホスホン酸メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)エステル、P,P′−ジオキシド(CAS No.42595−45−9)、ホスホン酸、メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)メチル、メチルエステル、P−オキシド(CAS No.41203−81−0)、及びトリエチルホスフェート(CAS No.78−40−4)である。   Other well known phosphate esters suitable for use in the layer arrangement of the present invention described above are commercial products from RHODIA such as PHOSBRITE® 156, 171, 193, 261, 265, 271, 272 and 951. RHODAFAC® RA500 (CAS No. 68130-47-2) and RHODAFAC® ASI80; diethyl (ethoxycarbonylmethane) phosphonate; ethoxylated fatty alcohol phosphate LUBROPOS® RD / 510-E; ethoxyl Tridecyl phosphate mixture RHODAFAC® RS-610E; mixture of mono, di, tri-tridecyl ethylene glycol phosphate; polyethylene glycol tridecyl ether phosphate R ODAFAC® RS410, diethyl ethyl phosphonate (CAS No. 765-79-6), dimethylpropyl phosphonate (CAS No. 18755-43-6), diethyl N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethyl phosphonate (CAS No. 2781-11-5), phosphonic acid methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) ester, P, P'-dioxide (CAS No. 42595-45-9), phosphonic acid, methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) methyl, methyl ester, P-oxide (CAS No. 41203-81). -0), and triethyl phosphate (CAS No. 78-40-4).

上述の本発明の層配置に使用するために好適なアルキルアリールホスフェートは例えば2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート(PHOSFLEX(登録商標)362として知られる)及びイソデシルジフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)390であり、PHOSFLEXの商標を有する製品はAkzo NV,Arnhem、オランダによって製造される。   Suitable alkylaryl phosphates for use in the layer arrangement of the present invention described above are, for example, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate (known as PHOSFLEX® 362) and isodecyl diphenyl phosphate PHOSFLEX® 390, PHOSFLEX Products with the trademark are manufactured by Akzo NV, Arnhem, The Netherlands.

上述の本発明の層配置に使用するために好適なトリアリールホスフェートは例えばイソプロピル化トリフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)31L、イソプロピル化トリフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)41L、イソブチル化トリフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)71B、トリフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)TPP、クレシルジフェニルホスフェートPHOSFLEX(登録商標)CDP及びトリクレシルホスフェート(CAS No.1330−78−5)であるが、PHOSFLEX(登録商標)として知られるトリブチルホスフェートはアルキルホスフェートの好適な例である。さらに特に有用な製品はPHOSFLEX(登録商標)A314、PHOSFLEX(登録商標)A318、PHOSFLEX(登録商標)A319、PHOSFLEX(登録商標)A321及びPHOSFLEX(登録商標)A327である。   Suitable triaryl phosphates for use in the layer arrangement of the present invention described above include, for example, isopropylated triphenyl phosphate PHOSFLEX® 31L, isopropylated triphenyl phosphate PHOSFLEX® 41L, isobutylated triphenyl phosphate PHOSFLEX ( Registered trademark 71B, triphenyl phosphate PHOSFLEX® TPP, cresyl diphenyl phosphate PHOSFLEX® CDP and tricresyl phosphate (CAS No. 1330-78-5), but as PHOSFLEX® Known tributyl phosphate is a preferred example of an alkyl phosphate. Further particularly useful products are PHOSFLEX (R) A314, PHOSFLEX (R) A318, PHOSFLEX (R) A319, PHOSFLEX (R) A321 and PHOSFLEX (R) A327.

本発明によればシート又は箔を有するパネルが提供され、そこでは上で開示されたような層ユニットは保護層配置として支持体の少なくとも一つの側上に存在する。その支持体は公知のいかなる支持体であることもできる:箔、繊維(例えばカーボンファイバー補強樹脂シート、特にそれらの各々がカーボンファイバー補強樹脂シートのカーボンファイバーの方向が互いに異なるような方向で配置されかつ耐熱性樹脂で含浸されたカーボンファイバーを含むもの)、及び粒子を使用することができる。無機非金属支持体として化学補強ガラス又は結晶ガラスを使用することができる。使用のために好適な無機金属支持体は例えばアルミニウム、チタン、鉛、鉄、銅、鋼、モリブデン、ベリリウムの支持体の如き金属支持体;酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉛、酸化銅、酸化ベリリウム、酸化マンガン、酸化タングステン、酸化バナジウム、及び酸化シリコンの支持体の如き金属及び非金属酸化物の支持体である。   In accordance with the present invention, a panel having a sheet or foil is provided, wherein a layer unit as disclosed above is present on at least one side of the support as a protective layer arrangement. The support can be any known support: foil, fiber (eg carbon fiber reinforced resin sheet, in particular each of which is arranged in a direction in which the directions of the carbon fibers of the carbon fiber reinforced resin sheet are different from each other). And those containing carbon fibers impregnated with a heat resistant resin) and particles. Chemically reinforced glass or crystalline glass can be used as the inorganic non-metallic support. Suitable inorganic metal supports for use are metal supports such as aluminum, titanium, lead, iron, copper, steel, molybdenum, beryllium supports; aluminum oxide, titanium oxide, lead oxide, copper oxide, beryllium oxide Metal and non-metal oxide supports such as manganese oxide, tungsten oxide, vanadium oxide, and silicon oxide supports.

有機支持体としてポリイミドシート、エポキシ化合物及び様々な組成物、ポリエーテル、ポリエステル及びポリカーボネート組成物の熱可塑性及び熱硬化性化合物を使用してもよいが、これに限定されない。上述のように保護層ユニット又は配置を適用する前に洗浄及び脱脂に関する清浄手順に支持体を供することが推奨される。   The organic support may include, but is not limited to, polyimide sheets, epoxy compounds and various compositions, polyethers, polyesters and polycarbonate compositions of thermoplastic and thermosetting compounds. It is recommended that the support be subjected to a cleaning procedure for cleaning and degreasing before applying the protective layer unit or arrangement as described above.

本発明のようなシート又は箔を有する、かくして湿分及びスクラッチから保護されたパネルはEP−A 0226193及び対応するUS−A 4784881に開示されているように前述の支持体材料とパリレン層(もし存在するなら支持体と燐光体層の間)の間の接着剤として燐酸エステルプライマーを有することが有利であるかもしれない。接着を促進する燐酸エステルプライマーは支持体表面とp−キシレンポリマーの間の“橋”として作用できることがそこに示されている。例えば二価のp−キシリレンラジカルはChemical Technology,Third Edition,Vol 24,pages 746−747(1984)のKirk−OthmerのEncyclopediaに記載された被覆手順のように、支持体上でほとんど即座に凝縮及び重合し、それによって緻密で均一な被覆フィルムを形成する。溶媒は利用された接着を促進する燐酸エステル化合物の関数として変化してもよい。好適な溶媒は例えばあらゆる体積比のアルコール、ケトン、トルエン、アルキルアセテートであり、それらに限定されない。かかる溶液では燐酸エステル化合物の量は使用される溶媒によって0.05〜50重量%で変化してもよい。好ましい濃度は例えば0.1〜20重量%の濃度である。支持体は溶液中への支持体の直接含浸又は浸漬、又はスプレーなどの従来技術に従ってかかる溶液で処理されてもよい。溶媒はほとんどの場合において使用される溶媒の特性によって、室温又はそれより高い温度での蒸発によって支持体からさらに除去される。   Panels having sheets or foils according to the invention, thus protected from moisture and scratches, can be obtained from the aforementioned support material and parylene layer (if disclosed in EP-A 0226193 and the corresponding US-A 4784881). It may be advantageous to have a phosphate primer as an adhesive between the support and the phosphor layer (if present). It has been shown therein that a phosphate ester primer that promotes adhesion can act as a “bridge” between the support surface and the p-xylene polymer. For example, the divalent p-xylylene radical condenses almost immediately on the support, as in the coating procedure described in Kirk-Othmer's Encyclopedia in Chemical Technology, Third Edition, Vol 24, pages 746-747 (1984). And polymerize, thereby forming a dense and uniform coating film. The solvent may vary as a function of the phosphate compound that promotes the adhesion utilized. Suitable solvents include, but are not limited to, alcohols, ketones, toluene, alkyl acetates of any volume ratio. In such a solution, the amount of the phosphoric ester compound may vary from 0.05 to 50% by weight depending on the solvent used. A preferable concentration is, for example, a concentration of 0.1 to 20% by weight. The support may be treated with such a solution according to conventional techniques such as direct impregnation or immersion of the support in solution or spraying. The solvent is further removed from the support by evaporation at room temperature or higher depending on the nature of the solvent used in most cases.

しかしながら、本発明に従って、パネル、シート、プレート又はスクリーンの燐光体層がかかる層ユニットで被覆され、前記層ユニットが燐光体層と周囲空気の間のバリヤーとして作用するとき、湿分保護に加えて、改良された接着性及びスクラッチ感受性の減少を得ることは全く予期されなかった。前記シート、プレート又はスクリーンの前記燐光体層は支持体上に存在し、ほとんどの場合においてその支持体上に被覆されるので支持された層、シート、プレート又はスクリーンであるが、代わりにそれは前記支持体との接触にもたらし、さらにその後その上に積層又は接着される前に自己支持ユニットとして作られてもよい。   However, according to the present invention, when the phosphor layer of a panel, sheet, plate or screen is coated with such a layer unit, and said layer unit acts as a barrier between the phosphor layer and the ambient air, in addition to moisture protection It was totally unexpected to obtain improved adhesion and reduced scratch sensitivity. The phosphor layer of the sheet, plate or screen is present on the support and in most cases is coated on the support so it is a supported layer, sheet, plate or screen, but instead it is It may be made as a self-supporting unit before it is brought into contact with the support and then laminated or glued onto it.

本発明によれば、燐光体層、シート、プレート又はスクリーンが主要表面及び縁を有し、前記燐光体層に最も近い前記パリレン層Aが前記パリレンがパリレンC、パリレンD及びパリレンHTからなる群から選択される層であるパネルが提供される。   According to the invention, the phosphor layer, sheet, plate or screen has a major surface and an edge, and the parylene layer A closest to the phosphor layer is the group in which the parylene consists of parylene C, parylene D and parylene HT. A panel is provided that is a layer selected from:

燐光体層、シート、スクリーン又はパネルはかくして支持され、通常前記支持体の一つの側に存在する。但し、支持体の同じ側上に上で開示されているような保護層ユニットが存在し、そこでは燐光体層、シート、スクリーン又はパネルにより近い層Aはそのユニットの内部層として存在し、一方層Bは前記層Aより前記支持体から遠い最外層として存在する。燐光体パネルは通常、湿分に対して不透過性の支持体を有するので、燐光体が全く存在しない、その反対側上にパリレン層を持つことは要求されない。しかしながら、同じ又は異なる(例えば層厚さ及び/又は燐光体組成の異なる)燐光体層が存在する特定の用途の使用のために、支持体の反対側上と同じ保護層ユニットを用いる方法でその燐光体層を保護することが推奨される。両側被覆された燐光体層配置はその特別な場合において湿分及びスクラッチに対して両燐光体層を保護する二つの層ユニットの間に挟まれる。その場合において好ましい例では、保護層はパリレンの寸法を拡張し、そこではパリレン層は縁に沿って湿分が侵入するのを避けるために縁で溶融される。さらに例えばスプレー被覆又は浸漬被覆によって上述のような燐酸エステル化合物を有する層Bによって縁で被覆することはスクラッチに対する保護のために高く推奨される。   The phosphor layer, sheet, screen or panel is thus supported and is usually on one side of the support. However, there is a protective layer unit as disclosed above on the same side of the support, where layer A closer to the phosphor layer, sheet, screen or panel is present as an internal layer of that unit, while The layer B exists as the outermost layer farther from the support than the layer A. Since the phosphor panel usually has a support that is impermeable to moisture, it is not required to have a parylene layer on the opposite side where no phosphor is present. However, for use in certain applications where the same or different (e.g., different layer thickness and / or phosphor composition) phosphor layers are present, the method uses the same protective layer unit on the opposite side of the support. It is recommended to protect the phosphor layer. The double-coated phosphor layer arrangement is sandwiched between two layer units that protect both phosphor layers against moisture and scratches in that special case. In that case, in a preferred example, the protective layer expands the dimensions of the parylene, where the parylene layer is melted at the edges to avoid moisture ingress along the edges. Furthermore, it is highly recommended for protection against scratches to be coated at the edge with layer B having a phosphate ester compound as described above, for example by spray coating or dip coating.

本発明によればパネルは前記燐光体層の前記主要表面より大きな表面を有する支持体をさらに含み、従って前記燐光体層は前記支持体の一部分を解放し、前記層Aは前記燐光体層によって解放された前記支持体の前記一部分の少なくとも一部をカバーする。層Aと接触する層Bは所望により前記支持体のその解放部分をカバーする。   According to the invention, the panel further comprises a support having a surface that is larger than the major surface of the phosphor layer, so that the phosphor layer releases a portion of the support and the layer A is defined by the phosphor layer. Covering at least a portion of the portion of the released support. Layer B in contact with layer A optionally covers that open portion of the support.

前述のようなパネルについて本発明によれば、好ましい例において層Aは0.05μm〜20μm、より好ましくは1μm〜10μmの範囲の厚さを有する。   According to the present invention for a panel as described above, in a preferred example, layer A has a thickness in the range of 0.05 μm to 20 μm, more preferably 1 μm to 10 μm.

さらに前述のようなパネルについて本発明によれば、その好ましい例において最外層として存在する層Bは厚さtを有し、テーバ摩耗試験(サンドペーパP220、荷重250g、500サイクル)において前記厚さtの最大10%を失う。   Further, according to the present invention for the panel as described above, the layer B existing as the outermost layer in the preferred example has a thickness t, and the thickness t in the Taber abrasion test (sandpaper P220, load 250 g, 500 cycles). Lose up to 10% of

本発明によるパネルでは前記層Bは放射線硬化又は熱硬化ポリマー層であることが好ましい。前記層Bの被覆溶液における燐酸エステル化合物の一般的濃度は全く与えられない。なぜならばそれは前記エステルの反応性に強く依存するからである:例えばアクリレートエステルのような極めて反応性のエステルは平均濃度を超える量で存在してもよい。   In the panel according to the invention, the layer B is preferably a radiation-cured or thermoset polymer layer. No general concentration of phosphate compound in the coating solution of layer B is given. This is because it is highly dependent on the reactivity of the ester: highly reactive esters such as acrylate esters may be present in an amount above the average concentration.

上述の有利な効果は一方の側を湿分保護パレリン層と接触し、他方の側を周囲空気と接触する最外耐スクラッチ性層のラッカーに燐酸エステル化合物を加えることによって実現される。前記最外層と燐光体層の間の湿分保護パリレン層の方への最外保護層の接着性はそれによってかなり改善され、さらに燐酸エステル化合物の存在は実際、トップコート層の耐スクラッチ性をかなり改善する。   The above-mentioned advantageous effects are realized by adding a phosphate ester compound to the lacquer of the outermost scratch-resistant layer, one side in contact with the moisture protective pareline layer and the other side in contact with ambient air. The adhesion of the outermost protective layer to the moisture protective parylene layer between the outermost layer and the phosphor layer is thereby considerably improved, and the presence of the phosphate ester compound actually improves the scratch resistance of the topcoat layer. It improves considerably.

本発明によれば(シンチレータパネルにおけるシンチレータ又は増感スクリーンにおける従来公知の即発燐光体層とは対照的に)“貯蔵燐光体層”とも称される光刺激性燐光体層であるパネルが好ましい。但し、本発明は即発燐光体層にも適用される。なぜならばアルカリハロゲン化物即発燐光体及びシンチレータも極めて湿分感受性だからである。湿分に対して保護する最外層として保護パリレン層を有する貯蔵燐光体パネルは実際、使用中湿分に対する耐性を徐々に失う:それはさらに、層が自動パネル取扱い装置に使用されるときに極めて容易に物理的損傷を受けるか又は簡単に摩耗し、従って使用中、不十分な耐スクラッチ性の結果として湿分耐性も消失するように見える。パリレン層の上部に本発明の層配置におけるように保護層を適用することによって、パネルの物理的摩耗が十分に防止され、従ってパネルの使用寿命が延ばされることを見出した。但し、その層の被覆溶液では少なくとも一種の燐酸エステル化合物が前に開示されているように存在することが条件である。以下に本発明の特別な貯蔵燐光体パネルに使用される特別な層に関するさらなる詳細が与えられる。   According to the present invention, a panel that is a photostimulable phosphor layer, also referred to as a “storage phosphor layer” (as opposed to a conventionally known prompt phosphor layer in a scintillator or intensifying screen in a scintillator panel) is preferred. However, the present invention is also applied to prompt phosphor layers. This is because alkali halide prompt phosphors and scintillators are also very moisture sensitive. Storage phosphor panels that have a protective parylene layer as the outermost layer that protects against moisture, in fact, gradually loses resistance to moisture during use: it is also very easy when the layer is used in automatic panel handling equipment It appears to be physically damaged or easily worn, and therefore loses moisture resistance as a result of insufficient scratch resistance during use. It has been found that by applying a protective layer on top of the parylene layer as in the layer arrangement of the present invention, the physical wear of the panel is sufficiently prevented and therefore the service life of the panel is extended. Provided that at least one phosphate compound is present in the coating solution for that layer as previously disclosed. The following provides further details regarding the special layers used in the special storage phosphor panels of the present invention.

本発明の燐光体パネルにおける層A
本発明の燐光体パネルの層Aの製造に使用するために好ましいポリマーはポリ(p−キシリレン)、ポリ(p−2−クロロキシリレン)、ポリ(p−2,6−ジクロロキシリレン)及びフルオロ置換ポリ(p−キシリレン)である。
Layer A in the phosphor panel of the invention
Preferred polymers for use in the manufacture of layer A of the phosphor panel of the present invention are poly (p-xylylene), poly (p-2-chloroxylylene), poly (p-2,6-dichloroxylylene) and Fluoro-substituted poly (p-xylylene).

本発明の保護層に使用するために最も好ましいポリマーは真空蒸着された、好ましくは化学真空蒸着されたポリ−p−キシリレンフィルムである。ポリ−p−キシリレンは10〜10000の範囲の繰り返し単位を有し、各繰り返し単位は置換された又は置換されていない芳香族核基を有する。各置換基(もし存在するなら)は同じであっても異なってもよく、芳香族核について通常置換されることができるいかなる不活性有機又は無機基であることができる。かかる置換基の例はアルキル、アリール、アルケニル、アミノ、シアノ、カルボキシル、アルコキシ、ヒドロキシルアルキル、カルバルコキシ及び同種の基並びにヒドロキシル、ニトロ、ハロゲン及び他の同種の基の如き無機イオン(それらは芳香族核で通常置換可能である)である。特に好ましい置換基はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル基の如き低級アルキル基の如き単純な炭化水素基及び特に塩素、臭素、沃素及びフッ素のようなハロゲン基並びにシアノ基及び水素である。   The most preferred polymer for use in the protective layer of the present invention is a vacuum-deposited, preferably chemical vacuum-deposited poly-p-xylylene film. Poly-p-xylylene has repeating units in the range of 10 to 10,000, each repeating unit having a substituted or unsubstituted aromatic nucleus group. Each substituent (if present) can be the same or different and can be any inert organic or inorganic group that can normally be substituted for the aromatic nucleus. Examples of such substituents are alkyl, aryl, alkenyl, amino, cyano, carboxyl, alkoxy, hydroxylalkyl, carbalkoxy and similar groups and inorganic ions such as hydroxyl, nitro, halogen and other similar groups (they are aromatic nuclei). And can usually be substituted). Particularly preferred substituents are simple hydrocarbon groups such as lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl groups and especially halogen groups such as chlorine, bromine, iodine and fluorine, and cyano groups and hydrogen.

塩基性薬剤として商標“PARYLENE”の下でUNION CARBIDE Co.によって販売される商業的に入手可能なジ−p−キシリレン組成物が好ましい。燐光体層スクリーン又はシートをカバーする耐湿性保護層のための好ましい組成物は置換されていない“PARYLENE N”、モノクロロ置換された“PARYLENE C”、ジクロロ置換された“PARYLENE D”及び“PARYLENE HT”(完全にフッ素置換されたタイプのPARYLENE N。他の“パリレン”とは反対に400℃の温度までの耐熱性及び紫外線抵抗性を有し、耐湿性は“PARYLENE C”の耐湿性と同じものをもたらす:“High Performance Coating for Electronics Resist Hydrocarbons and High Temperature”(Guy Hall著、Specialty Coating Systems,Indianapolis,www.scscookson.comによって入手可能)についての記述参照)である。技術報告はSpecialty Coating Systems,Cookson Companyによって例えば“Solvent Resistance of the parylenes”についてのものとして入手可能であり、そこではパリレンN,C及びDについての幅広い種類の有機溶媒の効果が調査されている。本発明の燐光体パネルの層Aの製造に使用するために最も好ましいポリマーはポリ(p−2−クロロキシリレン)、即ちPARYLENE Cフィルム、ポリ(p−2,6−ジクロロキシリレン)、即ちPARYLENE Dフィルム及び“PARYLENE HT”(完全にフッ素置換されたタイプのPARYLENE N)である。パリレンは様々な源から入手可能であり、一般に印刷回路板、センサー、及び他の電気及び電子装置を保護するために使用される。パリレンが燐光体層に適用される特定の方法は本発明の部分を全く形成しないが、化学蒸着(CVD)によってパリレン層を適用することが好ましい。そうするための方法はEP−A 1286362,EP−A 1286363,EP−A 1286364及びEP−A 1286365に開示されている。蒸着の方法は基本的には下記のように行う:

Figure 2005125764
UNION CARBIDE Co. under the trademark “PARYLENE” as a basic drug. Commercially available di-p-xylylene compositions sold by Preferred compositions for the moisture resistant protective layer covering the phosphor layer screen or sheet are unsubstituted "PARYLENE N", monochloro substituted "PARYLENE C", dichloro substituted "PARYLENE D" and "PARYLENE HT". "(Fully fluorine-substituted type PARYLENE N. Contrary to other" Parylene ", it has heat resistance up to 400 ° C and UV resistance, and moisture resistance is the same as" PARYLENE C ". Brings things: “High Performance Coating for Electronics Resisting Hydrocarbons and High Temperature” by Guy Hall, Specialty Coating Systems, Indianapoli , Possible) see description of) obtained by Www.Scscookson.Com. Technical reports are available by the Specialty Coating Systems, Cookson Company, for example on “Solvent Resistance of the parallels” where the effects of a wide variety of organic solvents on Parylene N, C and D are being investigated. The most preferred polymers for use in the preparation of layer A of the phosphor panel of the present invention are poly (p-2-chloroxylylene), i.e. PARYLENE C film, poly (p-2,6-dichloroxylylene), i.e. PARYLENE D film and “PARYLENE HT” (PARYLENE N of a fully fluorinated type). Parylene is available from a variety of sources and is commonly used to protect printed circuit boards, sensors, and other electrical and electronic devices. Although the particular method in which parylene is applied to the phosphor layer does not form any part of the present invention, it is preferred to apply the parylene layer by chemical vapor deposition (CVD). Methods for doing so are disclosed in EP-A 1286362, EP-A 1286363, EP-A 1286364 and EP-A 1286365. The deposition method is basically as follows:
Figure 2005125764

好適なダイマー−例えばPARYLENE Nの蒸着のための(シクロ−ジ(p−キシレン)、PARYLENE Cの蒸着のためのシクロ−ジ(p−2−クロロキシレン)又はPARYLENE D蒸着のためのシクロ−ジ(p−2,6−ジクロロキシレン)−は加熱され、二つのラジカルに分解される。これらのラジカルは燐光体層上に蒸着され、そこでそれらは重合してポリマー層を形成する。パリレン層(PARYLENE N,C又はDのいずれか)の化学蒸着は幾つかの利点を有する:
− 層はピンホールなしで蒸着される
− バリヤー層は燐光体層の主表面上に蒸着されるだけでなく、縁上にも蒸着され、かくして燐光体層の封止が完了する。
好ましくは層Aは本発明の燐光体パネルにおいて燐光体層に密接している。
Suitable dimers-for example for the deposition of PARYLENE N (cyclo-di (p-xylene), cyclo-di (p-2-chloroxylene) for the deposition of PARYLENE C) or cyclo-di for the deposition of PARYLENE D (P-2,6-dichloroxylene)-is heated and decomposed into two radicals, which are deposited on the phosphor layer where they polymerize to form a polymer layer. Chemical vapor deposition of PARYLENE N, C or D) has several advantages:
The layer is deposited without pinholes. The barrier layer is not only deposited on the main surface of the phosphor layer, but also on the edges, thus completing the sealing of the phosphor layer.
Preferably layer A is in intimate contact with the phosphor layer in the phosphor panel of the present invention.

本発明の燐光体スクリーンにおける層B
本発明の燐光体スクリーンにおける層Bは保護層を燐光体スクリーンに適用する公知のいかなるポリマー層であることもできる。但し、前記層Bは少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含むことが条件である。本発明による好ましい例では前記燐酸エステル化合物は前に開示された化合物の群から選択される。層Bはニトロセルロース、エチルセルロース又はセルロースアセテート又はポリ(メタ)アクリル樹脂の如きフィルム形成有機溶媒溶解性ポリマーを含有する被覆溶液を直接適用し、蒸発によって溶媒を除去することによって燐光体パネル上に被覆されることができる。別の技術によれば、クリアで、薄く、タフで、フレキシブルで、寸法的に安定したポリアミドフィルムが公開されたEP−A 392474に記載されているように燐光体パネルに結合される。
Layer B in the phosphor screen of the present invention
Layer B in the phosphor screen of the present invention can be any known polymer layer that applies a protective layer to the phosphor screen. However, the condition is that the layer B contains at least one phosphate ester compound. In a preferred example according to the invention, the phosphate compound is selected from the group of compounds disclosed previously. Layer B is coated on the phosphor panel by directly applying a coating solution containing a film-forming organic solvent soluble polymer such as nitrocellulose, ethyl cellulose or cellulose acetate or poly (meth) acrylic resin and removing the solvent by evaporation. Can be done. According to another technique, a clear, thin, tough, flexible, dimensionally stable polyamide film is bonded to a phosphor panel as described in published EP-A 392474.

好ましい例では、層Bは放射線硬化性組成物で生成される。かくして本発明によれば放射線硬化ポリマー層を与えられる。X線変換スクリーンにおける保護上部層としての放射線硬化性被覆の使用は例えばEP−A 209358及びJP−A 86176900及びUS−A 4893021に記載されている。例えば、保護層は光開始剤の助けでフリーラジカル重合によって重合されるモノマー及び/又はプレポリマーによって形成されるUV硬化樹脂組成物を含む。モノマー化合物は使用したプレポリマーのための溶媒であることが好ましい。   In a preferred example, layer B is made of a radiation curable composition. Thus, according to the present invention, a radiation curable polymer layer is provided. The use of radiation curable coatings as protective top layers in X-ray conversion screens is described, for example, in EP-A 209358 and JP-A 86176900 and US-A 48933021. For example, the protective layer comprises a UV curable resin composition formed by monomers and / or prepolymers polymerized by free radical polymerization with the aid of a photoinitiator. The monomer compound is preferably a solvent for the prepolymer used.

本発明による保護被覆を形成するために極めて有用な放射線硬化性組成物は主成分として:(1)架橋性プレポリマー又はオリゴマー又は架橋性プレポリマー又はオリゴマーの混合物、(2)反応性希釈モノマー又は反応性希釈モノマーの混合物、及び(3)UV硬化性配合の場合には光開始剤を含有する。全被覆組成物について計算するとこれらの主成分の通常量はプレポリマーについて30−100重量%、反応性希釈剤について10−70重量%及び光開始剤について0−10重量%である。プレポリマーのために非反応性有機溶媒を存在させてもよく、それはスプレー被覆又は浸漬被覆の場合のように要求される。   Radiation curable compositions that are very useful for forming protective coatings according to the invention are as main components: (1) crosslinkable prepolymers or oligomers or mixtures of crosslinkable prepolymers or oligomers, (2) reactive diluent monomers or Contains a mixture of reactive diluent monomers, and (3) a photoinitiator in the case of UV curable formulations. Calculated for the total coating composition, the usual amounts of these main components are 30-100% by weight for the prepolymer, 10-70% by weight for the reactive diluent and 0-10% by weight for the photoinitiator. A non-reactive organic solvent may be present for the prepolymer, which is required as in the case of spray coating or dip coating.

例えばEP−A 510753に開示された組成物のような公知のいかなる放射線硬化性組成物も使用することができるが、完成した保護層がフッ素化部分を含むようにフッ素化化合物を含有する被覆溶液を有することが極めて有益である。   Any known radiation curable composition can be used, for example the composition disclosed in EP-A 510735, but the coating solution contains a fluorinated compound so that the finished protective layer contains a fluorinated moiety. It is extremely beneficial to have

望まれるように本発明の燐光体パネルの層Bは良好な摩耗性を有する、周囲空気と接触する最外層である。層Bの摩耗性は回転要素CALIBRASE CS10F、サンドペーパP220、及び各要素上に250gの荷重でTELEDYNE TABER 5130摩耗試験機(Taber Industries,New York,米国の商標)を使用してテーバー摩耗試験において試験される。本発明によれば層Bの百分率厚さ損失は500サイクル後に測定されることができる。好ましくは層Bは上述の試験においてその厚さの最大10%を失う。もし望むなら又は必要なら、本発明の層Bは移動適性をさらに改善し、静電特性を調整するためにスペーシング粒子を含んでもよい。摩擦低減ポリマービーズの形の好適なスペーシング剤は固体ポリスチレン、固体ポリアルキレン及び固体有機フッ素化ポリマーからなる群から選択される。好ましくはスペーシング剤はフッ素化部分を含むビーズである。かかるビーズはUS−A 4059768に記載されている。貯蔵燐光体スクリーンを読むために使用される走査装置の構成においてますますコンパクトな装置への傾向があり、従って(移動する)貯蔵燐光体スクリーンと走査装置の機械的(移動)部分の間の距離が極めて小さくなりうる(例えば10〜100μm)。   As desired, layer B of the phosphor panel of the present invention is the outermost layer in contact with ambient air with good wear. Layer B wearability was tested in a Taber abrasion test using a rotating element CALIBRASE CS10F, sandpaper P220, and a TELEDYNE TABER 5130 abrasion tester (Taber Industries, New York, US trademark) with a load of 250 g on each element. The According to the present invention, the percentage thickness loss of layer B can be measured after 500 cycles. Preferably layer B loses up to 10% of its thickness in the test described above. If desired or necessary, layer B of the present invention may contain spacing particles to further improve mobility and adjust electrostatic properties. Suitable spacing agents in the form of friction reducing polymer beads are selected from the group consisting of solid polystyrene, solid polyalkylenes and solid organic fluorinated polymers. Preferably the spacing agent is a bead comprising a fluorinated moiety. Such beads are described in US-A 4,059,768. There is a trend towards increasingly compact devices in the construction of scanning devices used to read storage phosphor screens, and thus the distance between the (moving) storage phosphor screen and the mechanical (moving) portion of the scanning device Can be very small (eg, 10-100 μm).

そして本発明による層Bを持つ貯蔵燐光体スクリーンが突出するビーズを有するとき、ビーズが走査装置の機械的部分に触れないこと及び貯蔵パネルが走査装置における移動中いくらかよろめきを示すときであってもこの通りであることが重要である。それゆえ本発明の貯蔵燐光体スクリーンにおけるスペーシング粒子として使用されるビーズは5μm≦dv50≦25μmであるような体積平均直径dv50及び1≦dv50/dn50≦1.20であるような数平均直径dn50を有することが好ましい。さらにビーズは好ましくは本発明の貯蔵パネル上に層Bの厚さtに適応され、従って前記ポリマービーズは1.25≦dv50/t≦4.0の体積平均直径dv50を有する。 And when the storage phosphor screen with layer B according to the invention has protruding beads, even if the beads do not touch the mechanical part of the scanning device and the storage panel shows some stagger during movement in the scanning device. It is important that this is true. Therefore, the beads used as spacing particles in the storage phosphor screen of the present invention have a volume average diameter dv50 such that 5 μm ≦ d v50 ≦ 25 μm and 1 ≦ d v50 / dn 50 ≦ 1.20. It preferably has a number average diameter dn50 . More beads are preferably adapted to the thickness t of the layer B on the storage panel of the present invention, therefore the polymer beads have a 1.25 ≦ d v50 /t≦4.0 volume average diameter d v50.

本発明の燐光体パネルにおける貯蔵燐光体層
本発明のパネルにおける貯蔵燐光体層は公知のいかなる光刺激性燐光体を含んでもよい。本発明によるパネルにおける燐光体層はポリマー結合剤に混合された燐光体を含む層並びに結合剤のない燐光体層であってもよい。本発明による保護層を有する燐光体パネルは吸湿性燐光体を含んでもよい。本発明によるパネルは好ましくは光刺激性燐光体層を有し、その層は結合剤のない光刺激性燐光体を含む。本発明による好ましいパネルは前記結合剤のない光刺激性燐光体がWO 01/03156に記載されたようなCsX:Eu刺激性燐光体(XはBr及びClからなる群から選択されるハロゲン化物を表す)であるパネルである。マトリックス化合物としてのCsX及びドーパントとしてのEuに加えて、さらなる不純物要素を不純物としてであるか否かにかかわらず燐光体組成物に存在させてもよい。結合剤のないCsX:Eu刺激性燐光体層は間隙によって分離された針状燐光体粒子を含む。前記間隙はEP−A 1316969及び1347460に述べられているように規定された範囲まで充填されてもよい。像シャープネスのためには前記燐光体粒子はEP−A 1349177に記載されているようにナノ結晶染料で着色されてもよい。
Storage phosphor layer in the phosphor panel of the present invention The storage phosphor layer in the panel of the present invention may comprise any known photostimulable phosphor. The phosphor layer in the panel according to the invention may be a layer containing a phosphor mixed with a polymer binder as well as a phosphor layer without a binder. A phosphor panel having a protective layer according to the present invention may comprise a hygroscopic phosphor. The panel according to the invention preferably has a photostimulable phosphor layer, which layer comprises a photostimulable phosphor without binder. A preferred panel according to the invention is a CsX: Eu stimulable phosphor as described in WO 01/03156 (X is a halide selected from the group consisting of Br and Cl). Panel). In addition to CsX as the matrix compound and Eu as the dopant, further impurity elements may be present in the phosphor composition, whether or not as impurities. The binderless CsX: Eu stimulable phosphor layer comprises acicular phosphor particles separated by a gap. The gap may be filled to the specified range as described in EP-A 1316969 and 1347460. For image sharpness, the phosphor particles may be colored with nanocrystalline dyes as described in EP-A 1349177.

間隙によって分離される針状燐光体結晶を有するかかる燐光体層上に極めて低い水透過性を有する層Aが付着されるとき、この層Aが化学真空蒸着パリレン層であり、一方かかる層が針状結晶の表面をカバーするだけでなく、針状結晶間の間隙に入って縁をカバーし、燐光体針状結晶の縁を湿分に対して完全に保護することが好ましい。本発明の燐光体パネルは例えばUS−A 5334842及びUS−A 5340661に記載されているもののような縁補強を含んでもよい。   When layer A having very low water permeability is deposited on such a phosphor layer having needle-like phosphor crystals separated by a gap, this layer A is a chemical vacuum deposited parylene layer, while such a layer is a needle In addition to covering the surface of the needle-like crystals, it is preferable to enter the gap between the needle-like crystals to cover the edges and to completely protect the edges of the phosphor needle-like crystals against moisture. The phosphor panels of the present invention may include edge reinforcement such as those described in US-A 5,334,842 and US-A 5,340,661.

本発明の燐光体パネルは自己支持パネル並びに支持体を含むパネルであることができる。この支持体は公知のいかなる支持体であることもできるが、スクリーンの所望の高い耐湿性のため、極めて低い水蒸気透過性を有する支持体が好ましく使用される。好ましい支持体は陽極酸化されたアルミニウムの支持体及びEP−A 1316971及びEP−A 1316972に開示されたような支持体である。   The phosphor panel of the present invention can be a self-supporting panel as well as a panel comprising a support. The support can be any known support, but a support having a very low water vapor permeability is preferably used because of the desired high moisture resistance of the screen. Preferred supports are anodized aluminum supports and supports as disclosed in EP-A 1316971 and EP-A 1316972.

本発明の特別な例では燐光体層の表面は支持体の表面より小さく、従って燐光体層は支持体の縁に到達しない。燐光体層の主表面より大きい表面を有する支持体を有し、従って燐光体層が支持体の部分を開放し、層A及び層Bを含む保護層が燐光体層によって開放された支持体の部分を少なくとも一部カバーするパネルは前に既に開示したように本発明の特別な例を表わす。かかる構成の利点は燐光体層の縁がパネルの使用中、例えば走査装置における移動中に装置の機械的部分に接触せず、容易に損傷されることが少ないという事実にある。この構成の別の利点は特別な縁補強が全く必要ないことである。但し、もし望むなら、さらなる縁補強を適用することができる。燐光体層の表面が支持体の表面より小さく、従って燐光体層が支持体の縁に到達しない燐光体パネルの構成は本発明の特別な例を表わすが、かかる構成は公知のいかなる保護層でカバーされたいかなる燐光体パネルを製造するためにも有益でありうる。   In a particular example of the invention, the surface of the phosphor layer is smaller than the surface of the support, so that the phosphor layer does not reach the edge of the support. Of the support having a surface having a surface larger than the main surface of the phosphor layer, so that the phosphor layer opens a portion of the support and the protective layer comprising layers A and B is opened by the phosphor layer. A panel that at least partially covers a portion represents a particular example of the present invention as previously disclosed. The advantage of such a configuration lies in the fact that the edges of the phosphor layer do not touch the mechanical parts of the device during use of the panel, for example during movement in the scanning device, and are less easily damaged. Another advantage of this configuration is that no special edge reinforcement is required. However, additional edge reinforcement can be applied if desired. A phosphor panel configuration where the surface of the phosphor layer is smaller than the surface of the support, and therefore the phosphor layer does not reach the edge of the support, represents a particular example of the present invention; It may be beneficial to produce any covered phosphor panel.

支持体材料と燐光体層の間にパリレン層が存在する場合には、カバーされた支持体の表面粗さは表面粗さが減少する(好ましくは0.5以下、より好ましくは1.0以下)につれて良好な滑らかさを示し、それは小さな直径を有する柱状結晶又は針状結晶を蒸着するのに有利であることができ、それによって蒸着された光刺激性燐光体層の表面積の単位平方あたりの前記針状結晶の改良された充填密度及び改良されたシャープネス又は解像度に導く。かかる柱状、針状又は円柱状燐光体の寸法についてのさらなる詳細はEP−A 1359204に開示されている。   When a parylene layer is present between the support material and the phosphor layer, the surface roughness of the covered support is reduced (preferably 0.5 or less, more preferably 1.0 or less). ) Which shows good smoothness, which can be advantageous for depositing columnar crystals or needle-like crystals with small diameters, whereby the surface area of the deposited photostimulable phosphor layer per unit square This leads to improved packing density and improved sharpness or resolution of the needle-like crystals. Further details on the dimensions of such columnar, acicular or cylindrical phosphors are disclosed in EP-A 1359204.

本発明は少なくとも一種の燐酸エステル化合物を有機被覆溶液に加える工程によってp−キシリレン(パリレン)ポリマー層上への有機被覆の接着性を改良するための方法をさらに包含し、前記少なくとも一種の燐酸エステル化合物が下記一般式(I)によって表され、ここではメタクリルエチルホスフェート、アクリルエチルホスフェート、ジメタクリルエチルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ジアクリルエチルホスフェート、メタクリルプロピルホスフェート、アクリルプロピルホスフェート、ジメタクリルプロピルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ドデシルポリエチレングリコールホスフェート、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、モノアルキルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、ジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、2−(ホスホノキシ)エチル−2−プロペノエート、4−(ホスホノキシ)ブチル−2−プロペノエート、及びホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート、トリス−アクリロイル−オキシエチルホスフェート、ノニルフェノールエトキシレートホスフェート、フェノールエトキシレートホスフェート、ジエチル(エトキシカルボニル−メタン)ホスホネート、エトキシル化脂肪アルコールホスフェート、エトキシル化トリデシルホスフェート混合物、モノ、ジ、トリ−トリデシルエチレングリコールホスフェートの混合物、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、ジエチルエチルホスホネート、ジメチルプロピルホスホネート、ジエチルN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノメチルホスホネート、ホスホン酸メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)エステル、P,P′−ジオキシド、ホスホン酸、メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)メチル、メチルエステル、P−オキシド、トリエチルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、イソ−デシルジフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソブチル化トリフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート及びトリクレシルホスフェート(これらに限定されない)からなる化合物の群から選択されるものとして特定される。   The present invention further includes a method for improving the adhesion of an organic coating on a p-xylylene (parylene) polymer layer by adding at least one phosphate ester compound to the organic coating solution, the at least one phosphate ester The compound is represented by the following general formula (I), in which methacrylethyl phosphate, acrylethyl phosphate, dimethacrylethyl phosphate, methacrylethyl methacrylpropyl phosphate, diacrylethyl phosphate, methacrylpropyl phosphate, acrylpropyl phosphate, dimethacrylpropyl phosphate , Methacrylethyl methacrylate propyl phosphate, dodecyl polyethylene glycol phosphate, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, monoa Quilphenyl polyethylene glycol phosphate, dioctyl phenyl polyethylene glycol phosphate, 2- (phosphonoxy) ethyl-2-propenoate, 4- (phosphonoxy) butyl-2-propenoate, and phosphinicobis (oxy-2,1-ethanediyl) -di-2- Propenoate, tris-acryloyl-oxyethyl phosphate, nonylphenol ethoxylate phosphate, phenol ethoxylate phosphate, diethyl (ethoxycarbonyl-methane) phosphonate, ethoxylated fatty alcohol phosphate, ethoxylated tridecyl phosphate mixture, mono, di, tri-tridecyl A mixture of ethylene glycol phosphate, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, die Ruethylphosphonate, dimethylpropylphosphonate, diethyl N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethylphosphonate, methyl phosphonate (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl ) Ester, P, P′-dioxide, phosphonic acid, methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) methyl, methyl ester, P-oxide, triethyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, iso-decyl diphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isobutylated triphenyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate And tricresyl phosphate, which is specified as being selected from the group of compounds consisting of (but not limited to).

本発明は下記工程を含む結合剤のない燐光体パネルの製造方法をさらに包含する:
− 所望によりパリレン層で被覆された、支持体を与える;
− CsX:Eu燐光体(但し、XはBr及びClからなる群から選択されるハロゲン化物を表す)を蒸着し、それによって前記(所望により被覆された)支持体上に結合剤のない燐光体層を形成する;
− 化学蒸着によって前記結合剤のない燐光体層上にパリレンの層を適用し、それによって層Aを形成する;
− 少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含む放射線硬化性溶液を前記層Aの上に適用する;
− UV及び/又は電子ビーム露光によって前記パネルを硬化し、それによって層Bを形成する。
The present invention further includes a method of making a binderless phosphor panel comprising the following steps:
-Providing a support, optionally coated with a parylene layer;
CsX: Eu phosphor, where X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl, and thereby a binderless phosphor on said (optionally coated) support Forming a layer;
Applying a layer of parylene onto the binder-free phosphor layer by chemical vapor deposition, thereby forming layer A;
Applying a radiation curable solution comprising at least one phosphate compound on said layer A;
Curing the panel by UV and / or electron beam exposure, thereby forming layer B;

本発明の有利な効果として燐光体像形成プレートの物理的安定性が像品質が長期間の頻繁な使用で変化されないという点で最も厳しい条件を満たすことが証明された。   As an advantageous effect of the present invention, it has been demonstrated that the physical stability of the phosphor imaging plate meets the most stringent conditions in that the image quality does not change with long term frequent use.

パリレン層上に適用される有機被覆における燐酸エステル化合物の使用による接着性の改良は頻繁な再使用後であっても極めて長い期間にわたって信頼性のある放射線写真像形成プレートに明らかに導く。   The improved adhesion due to the use of phosphate compounds in organic coatings applied on the parylene layer clearly leads to reliable radiographic imaging plates over a very long period even after frequent reuse.

実施例
本発明は以下にその好ましい例と関連して記載されるが、本発明をそれらの例に限定することを意図しないことは理解されるだろう。
EXAMPLES While the present invention will be described below in connection with preferred examples thereof, it will be understood that it is not intended to limit the invention to those examples.

第一実験において、CsBr:EuスクリーンがCsBr及びEuOBrの熱蒸着によって作られた。それゆえCsBrはEuOBrと混合され、蒸着チャンバー内の容器に置かれた。燐光体は1.5mmの厚さ及び40mmの直径を有するガラスディスク上に蒸着された。容器と支持体の間の距離は10cmであった。蒸発中、支持体は12r.p.m.で回転された。 In the first experiment , a CsBr: Eu screen was made by thermal evaporation of CsBr and EuOBr. CsBr was therefore mixed with EuOBr and placed in a container within the deposition chamber. The phosphor was deposited on a glass disk having a thickness of 1.5 mm and a diameter of 40 mm. The distance between the container and the support was 10 cm. During evaporation, the support is 12r. p. m. It was rotated by.

出発材料を伴う容器は750℃の温度に加熱された。蒸発開始前にチャンバーは4×10−5mbarの圧力に排気された。蒸発プロセス中、Arはチャンバーに導入され、支持体の温度は150℃であり、Ar圧力は2.2Paであった。蒸発されたスクリーンにおけるEu濃度はX線螢光で測定され、800p.p.m.のオーダーであった。 The vessel with the starting material was heated to a temperature of 750 ° C. The chamber was evacuated to a pressure of 4 × 10 −5 mbar before the start of evaporation. During the evaporation process, Ar was introduced into the chamber, the support temperature was 150 ° C., and the Ar pressure was 2.2 Pa. The Eu concentration in the evaporated screen is measured by X-ray fluorescence and is 800 p. p. m. It was an order.

スクリーンは4つの試験スクリーンを作るために4つの部分に分割された:
1.第一部分上には保護層は全く適用されなかった
2.第二部分上に放射線硬化性溶液をスクリーン印刷によって適用し、次いでUV線硬化をして10μmの厚さを有する保護層(本発明の層B)を生成した。本発明の層Bを生成するためのこれらの放射線硬化性溶液の組成の例は以下に記載される。
3.第三部分上にパリレンCの層を公知のGorham法で化学蒸着によって蒸着し、8μm厚の層(本発明の層A)を与えた。
4.第四部分上に第三部分上のようなパリレンCの層を適用し、その上に第二部分上のような放射線硬化層を適用した。このスクリーンにおいて本発明の層A及びBの両方がかくして存在する。
The screen was divided into four parts to make four test screens :
1. No protective layer was applied on the first part.
2. A radiation curable solution was applied by screen printing on the second part, followed by UV curing to produce a protective layer ( layer B 1 of the present invention) having a thickness of 10 μm. Examples of the composition of these radiation curable solutions for producing layer B of the present invention are described below.
3. A layer of Parylene C was deposited on the third part by chemical vapor deposition according to the known Gorham method to give an 8 μm thick layer ( layer A of the present invention).
4). A layer of Parylene C as on the third part was applied on the fourth part, and a radiation cured layer as on the second part was applied thereon. In this screen both layers A and B of the invention are thus present.

スクリーンの品質は24時間水に四つの試験スクリーンを浸漬し、スクリーンの物理的一体性をチェックし、可能ならスピード性能をチェックすることによって試験された。さらに表面強度は回転要素CALIBRASE CS10F、サンドペーパP220、各要素上に荷重250gを有するTELEDYNE TABER 5130摩耗試験機で試験された。   Screen quality was tested by immersing four test screens in water for 24 hours, checking the physical integrity of the screens, and if possible checking the speed performance. Furthermore, the surface strength was tested on a rotating element CALIBRASE CS10F, sandpaper P220, TELEDYNE TABER 5130 abrasion tester with a load of 250 g on each element.

層の厚さ損失の百分率を500サイクル後に測定した。結果は以下の表1にまとめられる。

Figure 2005125764
The percentage of layer thickness loss was measured after 500 cycles. The results are summarized in Table 1 below.
Figure 2005125764

第二実験では、燐酸エステルを使用するとき接着性の改良を研究するために様々な適用技術によってアルミニウム支持体上にCVD蒸着されたパリレンC層上に幾つかの被覆溶液を適用した。 In a second experiment , several coating solutions were applied on the Parylene C layer deposited on the aluminum support by various application techniques to study adhesion improvements when using phosphate esters.

適用A:5.0gの(MMA−コ−BMA)−コポリマーを25.0gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレートに溶解した。この溶液に、25.0gのBASFのLaromer TMPTA及び45.0gのEbecryl 1290、UCBのヘキサ官能ウレタンアクリレートを加え、均質化した。これに、3.0%のMONSANTOからのModaflowを加え、パリレン層上への分散を増大した。4.0gのCIBA(ドイツ)からのDarocur 1173及び4.0gのベンゾフェノンをUV硬化のための開始剤としてラッカーに溶解した。被覆溶液をスクリーン印刷によって適用し、200mW/cmの強度を有するUV硬化によって重合した。 Application A: 5.0 g of (MMA-co-BMA) -copolymer was dissolved in 25.0 g of 1,6-hexanediol diacrylate. To this solution, 25.0 g BASF Laromer TMPTA and 45.0 g Ebecryl 1290, UCB hexafunctional urethane acrylate were added and homogenized. To this, 3.0% Modaflow from MONSANTO was added to increase the dispersion on the parylene layer. 4.0 g Darocur 1173 from CIBA (Germany) and 4.0 g benzophenone were dissolved in the lacquer as initiator for UV curing. The coating solution was applied by screen printing and polymerized by UV curing with an intensity of 200 mW / cm 2 .

適用B:適用Aに使用された溶液の20.0gに、5.0gのRHODIAのRhodafac RM710、ジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェートを“パリレン接着性改良”剤として加えた。被覆溶液を適用し、適用Aのように硬化した。   Application B: To 20.0 g of the solution used in Application A, 5.0 g of RHODIAC Rhodafac RM710, dioctylphenyl polyethylene glycol phosphate was added as a “Parylene Adhesion Improving” agent. The coating solution was applied and cured as in Application A.

適用C:(MMA−コ−BMA)−コポリマー、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びヘキサ官能ウレタンアクリレートを含有する適用Aのオリゴマー被覆溶液の20.0gに、0.1gの3Mからのフッ素系界面活性剤を加えて分散性及び層均一性を増大し、0.8gのDarocur 1173及び0.8gのベンゾフェノンを加えてUV露光によるラジカル重合を可能にした。燐酸エステルとして、2.0gのジポリオキシエチレントリデシルエーテルホスフェートを被覆溶液に溶解した。その粘度を減少し、スプレーを可能にするために、40%のメチルエチルケトン、30%のメチルイソブチルケトン及び30%のメトキシプロパノールの溶媒混合物を加えるとクリアで低粘稠性の5%のオリゴマー被覆溶液になった。この溶液をパリレン層上へスプレーし、その後高温下で溶媒を蒸発し、UV硬化することによって被覆を形成した。   Application C: 0.1 g to 20.0 g of the oligomer coating solution of Application A containing (MMA-co-BMA) -copolymer, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate and hexafunctional urethane acrylate A 3% fluorosurfactant from 3M was added to increase dispersibility and layer uniformity, and 0.8 g Darocur 1173 and 0.8 g benzophenone were added to allow radical polymerization by UV exposure. As the phosphate ester, 2.0 g of dipolyoxyethylene tridecyl ether phosphate was dissolved in the coating solution. A clear, low-viscosity 5% oligomer coating solution with the addition of a solvent mixture of 40% methyl ethyl ketone, 30% methyl isobutyl ketone and 30% methoxy propanol to reduce its viscosity and enable spraying Became. This solution was sprayed onto the parylene layer, after which the coating was formed by evaporating the solvent at high temperature and UV curing.

適用D:10gのZENECAからのNeocryl B−725を、60gの50%トリメチロールプロパントリアクリレート/40%ポリ(オキシ−1,2−エタンジイル−ヒドロ−(1−オキソ−2−プロフェニルオキシ))−エーテル/10% 2−エチル−2(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオールの混合物に溶解し、その後30.0gのヘキサ官能ウレタンアクリレート及び20.0gのシロキサザンを500gのメチルエチルケトン及び380gのジエチルケトンとともに加えてクリアで低粘稠性の溶液(5mPa.sの粘度)を得た。浸漬被覆及びUV硬化による適用後にパリレン層への接着性を増大するため、5.0gのRHODIAからのRhodafac RS410及び15.0gのホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート、アクリル化燐酸ジエステルを被覆溶液に加えた。UV開始剤は4.0%の1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン及び2.0%のベンゾフェノンであった。   Application D: 10 g Neocryl B-725 from ZENECA, 60 g 50% trimethylolpropane triacrylate / 40% poly (oxy-1,2-ethanediyl-hydro- (1-oxo-2-propenyloxy)) Dissolve in a mixture of ether / 10% 2-ethyl-2 (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, then 30.0 g hexafunctional urethane acrylate and 20.0 g siloxazan with 500 g methyl ethyl ketone and 380 g diethyl A clear, low-viscosity solution (5 mPa.s viscosity) was obtained with the addition of ketone. To increase adhesion to the parylene layer after application by dip coating and UV curing, Rhodafac RS410 from 5.0 g RHODIA and 15.0 g phosphinicobis (oxy-2,1-ethanediyl) -di-2-propenoate, Acrylic phosphate diester was added to the coating solution. The UV initiator was 4.0% 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone and 2.0% benzophenone.

適用E:ポリシロキサザン及びウレタンアクリレートの溶液をパリレン層上にスプレーし、60℃の雰囲気湿分の影響下で20時間硬化し、6μmの耐摩耗性の、クリアで、もろくない、良好な接着性を有する層を得た。適用されたポリマー溶液は7.5gのポリ(オキシ−1,2−エタンジイル−ヒドロ−(1−オキソ−2−プロフェニルオキシ))−エーテル、2.5gの2−エチル−2(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、5.0gのSartomer SR238、15.0gのEbecryl 1290及び60.0gのKION Corp.,Columbus,米国からのKion ML33/C33の混合物だった。これらのオリゴマーは400gのメチルエチルケトン、150gのメチルイソブチルケトン及び150gのメトキシプロパノールの混合物に溶解した。良好な熱硬化層を得るために、ターシャリブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネートを5重量%の割合で溶液に加えた。接着促進剤として、モノ(アルキルフェニルポリエチレングリコール)−ホスフェートを5重量%の割合で加えた。層のレベリングは0.25重量%のBYK ChemieからのBYK UV3500を加えることによって改良された。   Application E: A solution of polysiloxazan and urethane acrylate is sprayed onto the parylene layer, cured for 20 hours under the influence of atmospheric moisture at 60 ° C., 6 μm wear resistance, clear, not brittle, good adhesion A layer having properties was obtained. The polymer solution applied was 7.5 g poly (oxy-1,2-ethanediyl-hydro- (1-oxo-2-propenyloxy))-ether, 2.5 g 2-ethyl-2 (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 5.0 g Sartomer SR238, 15.0 g Ebecryl 1290 and 60.0 g KION Corp. , Columbus, USA Kion ML33 / C33 mixture. These oligomers were dissolved in a mixture of 400 g methyl ethyl ketone, 150 g methyl isobutyl ketone and 150 g methoxypropanol. In order to obtain a good thermosetting layer, tertiary butyl peroxy-2-ethylhexyl carbonate was added to the solution in a proportion of 5% by weight. As an adhesion promoter, mono (alkylphenyl polyethylene glycol) -phosphate was added in a proportion of 5% by weight. Layer leveling was improved by adding 0.25 wt% BYK UV3500 from BYK Chemie.

パリレン層上への適用された保護層の接着はBRAIVE INSTRUMENTS、ベルギーによって供給されるカッターを用いた標準規格ASTM D3359−D3002/DIN53151/ISO 2409によるクロスカット接着試験によって評価した。試験は同じ供給者からの対応するテープで実施された。   The adhesion of the applied protective layer on the parylene layer was evaluated by a cross-cut adhesion test according to standard ASTM D3359-D3002 / DIN53151 / ISO 2409 using a cutter supplied by BRAIVE INSTRUMENTS, Belgium. The test was performed with corresponding tape from the same supplier.

保護層の耐摩耗性はCalibrase CS10F要素及び各要素上に250gの荷重を有するTeledyne Taber 5130摩耗試験器で試験された。   The abrasion resistance of the protective layer was tested with a Calibele CS10F element and a Teledyne Taber 5130 abrasion tester with a 250 g load on each element.

層の質量損失(ミリグラム)は100サイクル後に測定された。摩耗領域は全ての試験について一定であった。   Layer mass loss (in milligrams) was measured after 100 cycles. The wear area was constant for all tests.

結果は以下の表2にまとめられる。

Figure 2005125764
The results are summarized in Table 2 below.
Figure 2005125764

湿分保護パリレン層上への最外層の被覆溶液において燐酸エステルを利用することによって接着性が強く増大されることは明らかである。保護層の耐摩耗性に対する悪影響は全く観察されず、従って本発明の目的は十分に達成された。   It is clear that the adhesion is strongly increased by utilizing phosphate esters in the outermost coating solution on the moisture-protected parylene layer. No adverse effect on the abrasion resistance of the protective layer was observed, so the object of the present invention was fully achieved.

本発明の好ましい例を詳細に記載したが、添付の特許請求の範囲に規定された発明の範囲から逸脱せずに多数の変更がそこでなしうることは当業者に明らかであろう。   While preferred examples of the present invention have been described in detail, it will be apparent to those skilled in the art that numerous changes can be made therein without departing from the scope of the invention as defined in the appended claims.

Claims (9)

少なくとも二つの層、即ちp−キシリレン(パリレン)の層である層A及び所望により層Aの両側上に存在する層B、に分割された層ユニットを含むシート又は箔において、下記一般式(I)による少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含むことを特徴とするシート又は箔:
Figure 2005125764
式中、R,R及びRの各々は同じか又は異なり、水素、飽和又は不飽和、置換又は非置換脂肪族基及び置換又は非置換芳香族基からなる群から選択される。
In a sheet or foil comprising a layer unit divided into at least two layers, namely layer A which is a layer of p-xylylene (parylene) and optionally layer B present on both sides of layer A, the following general formula (I A sheet or foil comprising at least one phosphate ester compound according to
Figure 2005125764
Wherein each of R 1 , R 2 and R 3 is the same or different and is selected from the group consisting of hydrogen, saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted aliphatic groups and substituted or unsubstituted aromatic groups.
前記燐酸エステル化合物がメタクリルエチルホスフェート、アクリルエチルホスフェート、ジメタクリルエチルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ジアクリルエチルホスフェート、メタクリルプロピルホスフェート、アクリルプロピルホスフェート、ジメタクリルプロピルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ドデシルポリエチレングリコールホスフェート、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、モノアルキルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、ジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、2−(ホスホノキシ)エチル−2−プロペノエート、4−(ホスホノキシ)ブチル−2−プロペノエート、及びホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート、トリス−アクリロイル−オキシエチルホスフェート、ノニルフェノールエトキシレートホスフェート、フェノールエトキシレートホスフェート、ジエチル(エトキシカルボニル−メタン)ホスホネート、エトキシル化脂肪アルコールホスフェート、エトキシル化トリデシルホスフェート混合物、モノ、ジ、トリ−トリデシルエチレングリコールホスフェートの混合物、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、ジエチルエチルホスホネート、ジメチルプロピルホスホネート、ジエチルN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノメチルホスホネート、ホスホン酸メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)エステル、P,P′−ジオキシド、ホスホン酸、メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)メチル、メチルエステル、P−オキシド、トリエチルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、イソ−デシルジフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソブチル化トリフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート及びトリクレシルホスフェートからなる化合物の群から選択される請求項1に記載の保護シート又は箔。   The phosphoric acid ester compound is methacrylic ethyl phosphate, acrylic ethyl phosphate, dimethacrylic ethyl phosphate, methacrylic ethyl methacryl propyl phosphate, diacrylic ethyl phosphate, methacryl propyl phosphate, acryl propyl phosphate, dimethacryl propyl phosphate, methacryl ethyl methacryl propyl phosphate, dodecyl polyethylene Glycol phosphate, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, monoalkylphenyl polyethylene glycol phosphate, dioctylphenyl polyethylene glycol phosphate, 2- (phosphonoxy) ethyl-2-propenoate, 4- (phosphonoxy) butyl-2-propenoate, and phosphinico bis (ox -2,1-ethanediyl) -di-2-propenoate, tris-acryloyl-oxyethyl phosphate, nonylphenol ethoxylate phosphate, phenol ethoxylate phosphate, diethyl (ethoxycarbonyl-methane) phosphonate, ethoxylated fatty alcohol phosphate, ethoxylated tri Decyl phosphate mixture, mono, di, tri-tridecyl ethylene glycol phosphate mixture, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, diethyl ethyl phosphonate, dimethyl propyl phosphonate, diethyl N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethyl phosphonate, phosphone Acid methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) ester, P, P Dioxide, phosphonic acid, methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) methyl, methyl ester, P-oxide, triethyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, iso Claims selected from the group consisting of decyl diphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isobutylated triphenyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate and tricresyl phosphate The protective sheet or foil according to 1. 前記層ユニットが支持体の少なくとも一つの側上に存在し、燐光体シート、プレート又はスクリーンが前記支持体と前記層ユニットの間に存在する請求項1又は2に記載の保護シート又は箔を有するパネル。   3. The protective sheet or foil according to claim 1 or 2, wherein the layer unit is present on at least one side of the support, and a phosphor sheet, plate or screen is present between the support and the layer unit. panel. 前記層Bが最外層であり、厚さtを有し、そしてテーバー摩耗試験(サンドペーパP220、荷重250g、500サイクル)において前記厚さtの最大10%を失う請求項3に記載のパネル。   The panel according to claim 3, wherein the layer B is the outermost layer, has a thickness t, and loses up to 10% of the thickness t in a Taber abrasion test (sandpaper P220, load 250g, 500 cycles). 前記燐光体シートが結合剤のない光刺激性燐光体を含む請求項3又は4に記載のパネル。   5. A panel according to claim 3 or 4, wherein the phosphor sheet comprises a photostimulable phosphor without a binder. 前記結合剤のない光刺激性燐光体がCsX:Eu刺激性燐光体であり、XがBr及びClからなる群から選択されるハロゲン化物を表す請求項5に記載のパネル。   6. The panel of claim 5, wherein the binderless photostimulable phosphor is a CsX: Eu stimulable phosphor and X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl. 少なくとも一種の燐酸エステル化合物を有機被覆溶液に加える工程によってp−キシリレン(パリレン)ポリマー層上への有機被覆の接着性を改良するための方法であって、前記少なくとも一種の燐酸エステル化合物が下記一般式(I)によって表される方法:
Figure 2005125764
式中、R,R及びRの各々は同じか又は異なり、水素、飽和又は不飽和、置換又は非置換脂肪族基及び置換又は非置換芳香族基からなる群から選択される。
A method for improving the adhesion of an organic coating onto a p-xylylene (parylene) polymer layer by adding at least one phosphate ester compound to an organic coating solution, wherein the at least one phosphate ester compound is Method represented by formula (I):
Figure 2005125764
Wherein each of R 1 , R 2 and R 3 is the same or different and is selected from the group consisting of hydrogen, saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted aliphatic groups and substituted or unsubstituted aromatic groups.
前記燐酸エステル化合物が前記燐酸エステル化合物がメタクリルエチルホスフェート、アクリルエチルホスフェート、ジメタクリルエチルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ジアクリルエチルホスフェート、メタクリルプロピルホスフェート、アクリルプロピルホスフェート、ジメタクリルプロピルホスフェート、メタクリルエチルメタクリルプロピルホスフェート、ドデシルポリエチレングリコールホスフェート、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、モノアルキルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、ジオクチルフェニルポリエチレングリコールホスフェート、2−(ホスホノキシ)エチル−2−プロペノエート、4−(ホスホノキシ)ブチル−2−プロペノエート、及びホスフィニコビス(オキシ−2,1−エタンジイル)−ジ−2−プロペノエート、トリス−アクリロイル−オキシエチルホスフェート、ノニルフェノールエトキシレートホスフェート、フェノールエトキシレートホスフェート、ジエチル(エトキシカルボニル−メタン)ホスホネート、エトキシル化脂肪アルコールホスフェート、エトキシル化トリデシルホスフェート混合物、モノ、ジ、トリ−トリデシルエチレングリコールホスフェートの混合物、ポリエチレングリコールトリデシルエーテルホスフェート、ジエチルエチルホスホネート、ジメチルプロピルホスホネート、ジエチルN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノメチルホスホネート、ホスホン酸メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)エステル、P,P′−ジオキシド、ホスホン酸、メチル(5−メチル−2−メチル−1,3,2−ジオキサホスホリナン−5−イル)メチル、メチルエステル、P−オキシド、トリエチルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、イソ−デシルジフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、イソブチル化トリフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレシルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート及びトリクレシルホスフェートからなる化合物の群から選択される請求項7に記載の方法。   The phosphoric acid ester compound is the above-mentioned phosphoric acid ester compound is methacrylic ethyl phosphate, acryl ethyl phosphate, dimethacryl ethyl phosphate, methacryl ethyl methacrylate propyl phosphate, diacryl ethyl phosphate, methacryl propyl phosphate, acrylic propyl phosphate, dimethacryl propyl phosphate, methacryl ethyl methacrylate Propyl phosphate, dodecyl polyethylene glycol phosphate, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, monoalkylphenyl polyethylene glycol phosphate, dioctylphenyl polyethylene glycol phosphate, 2- (phosphonoxy) ethyl-2-propenoate, 4- (phosphonoxy) butyl-2-propenoate, And Phosphinicobis (oxy-2,1-ethanediyl) -di-2-propenoate, tris-acryloyl-oxyethyl phosphate, nonylphenol ethoxylate phosphate, phenol ethoxylate phosphate, diethyl (ethoxycarbonyl-methane) phosphonate, ethoxylated fatty alcohol phosphate, Ethoxylated tridecyl phosphate mixture, mono, di, tri-tridecyl ethylene glycol phosphate mixture, polyethylene glycol tridecyl ether phosphate, diethyl ethyl phosphonate, dimethyl propyl phosphonate, diethyl N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethyl Phosphonate, methyl phosphonate (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinane-5 Yl) ester, P, P'-dioxide, phosphonic acid, methyl (5-methyl-2-methyl-1,3,2-dioxaphosphorinan-5-yl) methyl, methyl ester, P-oxide, triethyl phosphate , 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, iso-decyl diphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isopropylated triphenyl phosphate, isobutylated triphenyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate and tricresyl phosphate The method of claim 7, selected from the group of 下記工程を含む結合剤のない燐光体パネルの製造方法:
− 支持体を与える;
− CsX:Eu燐光体(但し、XはBr及びClからなる群から選択されるハロゲン化物を表す)を蒸着し、それによって前記支持体上に結合剤のない燐光体層を形成する;
− 化学蒸着によって前記結合剤のない燐光体層上にパリレンの層を適用し、それによって層Aを形成する;
− 少なくとも一種の燐酸エステル化合物を含む放射線硬化性溶液を前記層Aの上に適用する;
− UV及び/又は電子ビーム露光によって前記パネルを硬化し、それによって層Bを形成する。
A method for producing a binderless phosphor panel comprising the following steps:
-Providing a support;
Depositing CsX: Eu phosphor, wherein X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl, thereby forming a binder-free phosphor layer on said support;
Applying a layer of parylene onto the binder-free phosphor layer by chemical vapor deposition, thereby forming layer A;
Applying a radiation curable solution comprising at least one phosphate compound on said layer A;
Curing the panel by UV and / or electron beam exposure, thereby forming layer B;
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