JP2005116968A - Optical semiconductor coupling device - Google Patents

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Motonari Aki
元成 秋
Yasushi Maeda
泰志 前田
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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical semiconductor coupling device which attains driving at a low voltage. <P>SOLUTION: The device includes a light emitting device and a light receiving device to receive light from the light emitting device, and an In compound semiconductor is used for the light emitting device. Enough drive is obtained at a voltage range of 0.8 to 1.0V in which light is not emitted by conventional GaAs or GaAlAs, due to low forward voltage characteristics obtained by a low band gap. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は光半導体結合素子、いわゆるフォトカプラに関する。   The present invention relates to an optical semiconductor coupling element, a so-called photocoupler.

この発明に関連する背景技術としては、2次側の負荷を検出して待機時と通常電源動作時とに切り替える手段を備え、待機時には1次側に設けたスイッチング素子をオン・オフ制御して間欠発振を行い、通常電源動作時には間欠発振を停止して通常の電源動を行い、トータル的に消費電力を低減することができるスイッチング電源回路が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−275857号公報
As background art related to the present invention, there is provided means for detecting a load on the secondary side and switching between standby mode and normal power supply operation, and switching on and off the switching element provided on the primary side during standby mode. A switching power supply circuit that performs intermittent oscillation, stops normal oscillation during normal power supply operation, performs normal power supply operation, and can reduce power consumption in total is known (see, for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 11-275857

パソコンのCPUやモバイル機器では、電子回路および電子部品の低電圧化が求めらているが、フォトカプラのような光半導体結合素子も同様である。
特にフォトカプラにおいては、パワー系スイッチチング素子側に配置される出力受光素子側に比べて、入力発光ダイオード側はコントロールICなどの低電圧対応が進む部品の周辺に配置されることが多い。従って、フォトカプラは、出力側より入力側の低電圧化が求められている。
In personal computer CPUs and mobile devices, there is a demand for lower voltages in electronic circuits and electronic components, but the same applies to optical semiconductor coupling elements such as photocouplers.
In particular, in the photocoupler, the input light emitting diode side is often arranged around a component that is adapted to low voltage, such as a control IC, as compared with the output light receiving element side arranged on the power system switching element side. Therefore, the photocoupler is required to have a lower voltage on the input side than on the output side.

例えば、図1に示されるようなスイッチング電源のフォトカプラ1の周辺回路において、2次側シャントレギュレーター5に接続されるフォトカプラ1の発光ダイオード2を駆動する電圧VFには、出力電圧Voからシャントレギュレーター5とその他周辺部品、つまり、入力抵抗6にかかる電圧を差し引いた分があてられることとなる。 For example, in the peripheral circuit of the photocoupler 1 of the switching power supply as shown in Figure 1, the voltage V F for driving the light emitting diode 2 of the photocoupler 1 connected to the secondary shunt regulator 5, the output voltage Vo The amount obtained by subtracting the voltage applied to the shunt regulator 5 and other peripheral components, that is, the input resistor 6, is applied.

シャントレギュレーター5を一般的な内部ブロック図で描くと、図1は図2のようになり、シャントレギュレーター5はトランジスタ8とオペアンプ9と基準電圧電源10で表される。入力側発光ダイオード2以外のシャントレギュレーター5の周辺部品を無視した場合、出力電圧Voは、Vo=VF+VBE+Vrefで表される。 When the shunt regulator 5 is drawn in a general internal block diagram, FIG. 1 is as shown in FIG. 2, and the shunt regulator 5 is represented by a transistor 8, an operational amplifier 9, and a reference voltage power supply 10. When the peripheral components of the shunt regulator 5 other than the light emitting diode 2 on the input side are ignored, the output voltage Vo is expressed by Vo = V F + V BE + Vref.

ここで、VFはフォトカプラ1の入力駆動電圧、VBEはシャントレギュレーターのトランジスタ8のベース-エミッタ間電圧、Vrefは基準電圧電源10の電圧を表わす。また、分割抵抗7を構成するR1,R2は、出力電圧Voに対してVo≒(1+R1/R2)×Vrefで与えるものとする。 Here, V F represents the input drive voltage of the photocoupler 1, V BE represents the base-emitter voltage of the transistor 8 of the shunt regulator, and Vref represents the voltage of the reference voltage power supply 10. Further, R1 and R2 constituting the dividing resistor 7 are given by Vo≈ (1 + R1 / R2) × Vref with respect to the output voltage Vo.

そこで、3.3V以下の出力電圧が必要な場合、Vrefは原理的に約1.26V以下に抑えることはできない。従って、フォトカプラ1の入力側、つまり発光ダイオード2の駆動電圧VFに、VoからVBEとVrefを差し引いた値が求められるため、その他設計の裕度を見た場合、1.0V以下の駆動電圧VFが必要になることになる。 Therefore, when an output voltage of 3.3V or lower is required, Vref cannot be suppressed to about 1.26V or lower in principle. Therefore, since the value obtained by subtracting V BE and Vref from Vo is calculated on the input side of photocoupler 1, that is, the driving voltage V F of light emitting diode 2, driving of 1.0 V or less is considered when looking at other design margins. The voltage V F will be required.

また、フォトカプラ1において発光ダイオード2を発光させ、受信側のフォトトランジスタ3を十分に駆動させるためには、一般的に発光ダイオード2には、IF=5〜20mA程度の入力電流が必要となるが、従来、主に使用されているフォトカプラ1はGaAsもしくはGaAlAsを材料とするので、その順電圧VFは1.2〜1.7Vであり、所望の電圧よりも高い値となる。 Further, in order to cause the light-emitting diode 2 to emit light in the photocoupler 1 and to sufficiently drive the phototransistor 3 on the receiving side, the light-emitting diode 2 generally requires an input current of about I F = 5 to 20 mA. made, but conventional, mainly because photocoupler 1 used is a GaAs or GaAlAs and materials, its forward voltage V F is 1.2~1.7V, a value higher than the desired voltage.

前述のような電源回路における低出力電圧を実現するために、低電圧駆動が可能なフォトカプラを実現させる場合、入力側の発光ダイオード2に求められるのは、所望の低い電圧で受光素子3を十分に駆動させる光量を発光できることである。   When realizing a photocoupler that can be driven at a low voltage in order to realize a low output voltage in the power supply circuit as described above, the light-emitting diode 2 on the input side is required to have the light-receiving element 3 at a desired low voltage. It is possible to emit a sufficient amount of light to be driven.

従来、主に用いられているGaAsもしくはGaAlAs等の発光ダイオードの材料は、シリコンを材料とした受光素子に対して受光効率が高い波長帯と、材料としての手軽さが選択の理由となっている。   Conventionally, the light emitting diode materials such as GaAs or GaAlAs that are mainly used are the reason why the wavelength band with high light receiving efficiency and the ease of material are selected for the light receiving element made of silicon. .

ところが、駆動電圧となる発光ダイオード2の順電圧VFは物理的に直接遷移型の半導体のバンドギャップの大きさによって決まってしまう。そして、そのバンドギャップの大きさは半導体材料とその組成比にて決定されてしまうため、従来よく使われているGaAsもしくはGaAlAsでは、1.0V以下という所望の低い順電圧VFが得られない。 However, the forward voltage V F of the light emitting diode 2 as a driving voltage is thus determined by the size of the band gap of the physically direct transition type semiconductor. The size of the band gap for would be determined by the composition ratio of the semiconductor material, the GaAs or GaAlAs is often used conventionally not obtained desired low forward voltage V F of less 1.0 V.

例えば、高い順電圧が求められる場合は、シリコンを材料とした受光素子はエネルギーの高い短波長光を受けることが可能となるが、低い順電圧が求められる場合は、エネルギーの低い長波長光が発せられるため、その光の大半はシリコンを材料とした受光素子に吸収されることなく透過していくこととなる。   For example, when a high forward voltage is required, a light receiving element made of silicon can receive high-energy short-wavelength light, but when a low forward voltage is required, low-energy long-wavelength light can be received. Since the light is emitted, most of the light is transmitted without being absorbed by the light receiving element made of silicon.

この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、発光素子としてIn化合物半導体を用い、低電圧駆動化を図ることが可能な光半導体結合素子を提供するものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides an optical semiconductor coupling element that uses an In compound semiconductor as a light emitting element and can be driven at a low voltage.

この発明は、発光素子と、発光素子からの光を受光する受光素子とを備え、発光素子にIn化合物半導体を用いたことを特徴とする光半導体結合素子を提供するものである。   The present invention provides an optical semiconductor coupling element including a light emitting element and a light receiving element that receives light from the light emitting element, and using an In compound semiconductor for the light emitting element.

この発明によれば、発光素子にIn化合物半導体を用いるので、その低いバンドギャップによる低い順電圧特性により、従来のGaAsもしくはGaAlAsでは発光しない0.8〜1.0Vの電圧領域で十分に駆動することができる。   According to the present invention, since the In compound semiconductor is used for the light emitting element, the low forward voltage characteristic due to the low band gap enables sufficient driving in a voltage range of 0.8 to 1.0 V that does not emit light with conventional GaAs or GaAlAs. .

この発明による光半導体結合素子は、発光素子からの光を受光する受光素子とを備え、発光素子の材料としてInを用いたことを特徴とするものである。
また、受光素子の材料としてInを用いてもよい。つまり、発光素子から発せられた長波長領域(1200〜1800nm)を受光するために、受光素子の素材として、GaInAsに代表されるIn化合物半導体を用いることが好ましい。
An optical semiconductor coupling element according to the present invention includes a light receiving element that receives light from a light emitting element, and uses In as a material of the light emitting element.
Further, In may be used as the material of the light receiving element. That is, in order to receive a long wavelength region (1200 to 1800 nm) emitted from the light emitting element, it is preferable to use an In compound semiconductor typified by GaInAs as a material of the light receiving element.

特にGaInAsを用いたフォトダイオードは光ファイバー通信の受光素子として、ファイバー中にて減衰率が少ない1300nmや1550nmの近赤外光の受信に用いられており、長波長光の受光素子として好適である。   In particular, a photodiode using GaInAs is used as a light-receiving element for optical fiber communication, and is used for receiving near-infrared light of 1300 nm or 1550 nm with a low attenuation factor in the fiber, and is suitable as a light-receiving element for long wavelength light.

次に、発光素子をレーザダイオードとし、発光素子から受光素子への光路中に波長変換部材料を備えるようにしてもよい。例えば、β-BaB2O4やLiB3O4等の非線型結晶からなる波長変換部材を発光素子と受光素子の間の光路に設けると、SHG(Second Harmonic Generation/第2高調波発生)により、波長変換部材を通過したコヒーレント光は1/2の波長に変換される。
これにより、レーザダイオードとして、例えば近赤外光を出射するGaInAsPレーザダイオードを用いると、受光素子として1000nm以下の波長帯の受信に使用される従来のシリコン受光素子をそのまま用いることができる。
Next, the light emitting element may be a laser diode, and the wavelength conversion material may be provided in the optical path from the light emitting element to the light receiving element. For example, if a wavelength conversion member made of a nonlinear crystal such as β-BaB2O4 or LiB3O4 is provided in the optical path between the light emitting element and the light receiving element, it passes through the wavelength conversion member due to SHG (Second Harmonic Generation). The coherent light is converted to a half wavelength.
Thus, when a GaInAsP laser diode that emits near-infrared light, for example, is used as the laser diode, a conventional silicon light receiving element used for reception in a wavelength band of 1000 nm or less can be used as it is.

また、波長変換部材を、受光素子の受光領域上に、薄膜状にして設置することにより、受発光素子間の中間に挿入した場合に比べて、波長変換部材に対する光の入射角度が安定し、安定した特性を確保することができる。   In addition, by installing the wavelength conversion member in a thin film on the light receiving region of the light receiving element, the incident angle of light with respect to the wavelength converting member is stabilized compared to the case where it is inserted between the light receiving and emitting elements, Stable characteristics can be ensured.

受光素子は裏面に反射層を形成することが好ましい。これによってIn化合物半導体の長波長光の受光効率を高めることができる。
受光素子は、受光領域に、メッシュ構造の電磁ノイズ除去部材を有することが好ましい。それによって、受光領域周辺に発生する電場の急峻な変動によるノイズ電流が除去される。
The light receiving element preferably has a reflective layer on the back surface. Thereby, the light receiving efficiency of the long wavelength light of the In compound semiconductor can be increased.
The light receiving element preferably has an electromagnetic noise removing member having a mesh structure in the light receiving region. As a result, the noise current due to the steep fluctuation of the electric field generated around the light receiving region is removed.

実施例
以下、本発明の低入力駆動の光半導体結合素子(以下、フォトカプラという)の実施例を添付図面に従って詳述する。
図3は本発明による低入力電圧駆動のフォトカプラの全体の構成を示す断面図である。発光素子(チップ)11および受光素子(チップ)12はそれぞれリードフレーム15,15aに搭載され、ボンデングワイヤ17,17aによりリードフレーム15,15aに接続されている。保護用の透明シリコーン樹脂16に覆われた発光素子11と受光素子12とは、透光性樹脂13と遮光性樹脂14とで覆われ、両者は電気的に絶縁されている。発光素子11にて電気的信号を光信号に変換し、受光素子12に伝達する。そして、受光素子12に到達した光信号は電気信号に変換されるようになっている。
図4は図3に示すフォトカプラの等価回路であり、フォトカプラは同図に示すように、発光素子11と、受光素子12と、トランジスタ19から構成されている。
Embodiments of an optical semiconductor coupling element (hereinafter referred to as a photocoupler) of low input driving according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the overall configuration of a low input voltage driven photocoupler according to the present invention. The light emitting element (chip) 11 and the light receiving element (chip) 12 are mounted on lead frames 15 and 15a, respectively, and are connected to the lead frames 15 and 15a by bonding wires 17 and 17a. The light-emitting element 11 and the light-receiving element 12 covered with the protective transparent silicone resin 16 are covered with the light-transmitting resin 13 and the light-shielding resin 14, and both are electrically insulated. The light emitting element 11 converts an electrical signal into an optical signal and transmits it to the light receiving element 12. The optical signal reaching the light receiving element 12 is converted into an electrical signal.
FIG. 4 is an equivalent circuit of the photocoupler shown in FIG. 3, and the photocoupler includes a light emitting element 11, a light receiving element 12, and a transistor 19, as shown in FIG.

《実施例1》
図5はこの発明の実施例1を示す要部断面図である。同図には、図3の発光素子11としてn-InP基板101上にGaInAsの活性層20を成長させ、その上にp-InP層103と電極層104を形成した発光ダイオード20が示されている。
この場合、発光ダイオード20の駆動電圧は、0.8〜1.0Vとなる。また、発光ダイオード20より発せられた従来より長い波長(1200〜1800nm)の光を受光するために、受光素子12として、図5に示すように電極層23の上に形成されたIn化合物半導体からなるフォトダイオード21を用いている。In化合物半導体としては、GaInAs、GaInNAs、GaInAsP半導体が挙げられる。この実施例では、フォトダイオード21をIn化合物半導体にて形成し、出力段のトランジスタ19(図4)はシリコンで形成するものとするが、それらは1つのチップ上に組み込まれたモノリシックなものでも、ディスクリートに構成されフォトカプラの内部にて金属ワイヤ等にて結合されたものであってもよい。
Example 1
FIG. 5 is a cross-sectional view of the principal part showing Embodiment 1 of the present invention. 3 shows a light emitting diode 20 in which a GaInAs active layer 20 is grown on an n-InP substrate 101 and a p-InP layer 103 and an electrode layer 104 are formed thereon as the light emitting element 11 of FIG. Yes.
In this case, the driving voltage of the light emitting diode 20 is 0.8 to 1.0V. Further, in order to receive light having a longer wavelength (1200 to 1800 nm) emitted from the light emitting diode 20, the light receiving element 12 is made of an In compound semiconductor formed on the electrode layer 23 as shown in FIG. A photodiode 21 is used. Examples of In compound semiconductors include GaInAs, GaInNAs, and GaInAsP semiconductors. In this embodiment, the photodiode 21 is formed of an In compound semiconductor, and the transistor 19 (FIG. 4) at the output stage is formed of silicon. However, they may be monolithic integrated on one chip. Alternatively, it may be configured discretely and coupled with a metal wire or the like inside the photocoupler.

《実施例2》
図6は実施例2を示す図5対応図であり、図3に示す発光素子11としてGaInAsPレーザダイオード20aを、受光素子12としてシリコンを材料とするフォトダイオード21aを用い、受発光素子間にβ-BaB2O4又はLiB3O4等の非線型結晶からなる波長変換部材22を挿入している。なお、波長変換部材22はリードフレーム15a上に支持部材22a,22bによって支持される。また、レーザダイオード20aは、n-InP基板201上に、n-InGaAsP層202、InGaAsP活性層203、p-InGaAsP層204、p-InP層205、および電極層206を順に積層したものである。
Example 2
6 is a diagram corresponding to FIG. 5 showing Example 2, using a GaInAsP laser diode 20a as the light-emitting element 11 shown in FIG. 3, a photodiode 21a made of silicon as the light-receiving element 12, and β between the light-emitting and receiving elements. A wavelength conversion member 22 made of a non-linear crystal such as -BaB2O4 or LiB3O4 is inserted. The wavelength conversion member 22 is supported on the lead frame 15a by support members 22a and 22b. In the laser diode 20a, an n-InGaAsP layer 202, an InGaAsP active layer 203, a p-InGaAsP layer 204, a p-InP layer 205, and an electrode layer 206 are sequentially stacked on an n-InP substrate 201.

レーザダイオード20aから発せられた従来より長い波長(1200〜1800nm)のコヒーレント光は、SHG(Second Harmonic Generation/第2高調波発生)により、波長変換部材22において1/2の波長(600〜900nm)となり、シリコンを材料とするフォトダイオード21aにて受光するには十分な波長となる。   The coherent light emitted from the laser diode 20a having a longer wavelength (1200 to 1800 nm) than the conventional wavelength is half the wavelength (600 to 900 nm) in the wavelength conversion member 22 by SHG (Second Harmonic Generation). Thus, the wavelength is sufficient for light reception by the photodiode 21a made of silicon.

《実施例3》
図7は実施例3を示す図6対応図であり、図6における波長変換部材22を、フォトダイオード21aの表面の受光領域上に形成したものである。その他の構成は図6と同等である。レーザダイオード20aから発せられた従来より長い波長(1200〜1800nm)のコヒーレント光は、SHG(Second Harmonic Generation/第2高調波発生)により、変換部材22を通して1/2の波長(600〜900nm)となり、フォトダイオード21aにて受光される。
Example 3
FIG. 7 is a view corresponding to FIG. 6 showing Example 3, in which the wavelength conversion member 22 in FIG. 6 is formed on the light receiving region on the surface of the photodiode 21a. Other configurations are the same as those in FIG. The coherent light emitted from the laser diode 20a with a longer wavelength (1200 to 1800 nm) becomes half the wavelength (600 to 900 nm) through the conversion member 22 due to SHG (Second Harmonic Generation). The light is received by the photodiode 21a.

《実施例4》
図8は実施例4を示す図5対応図であり、図5におけるフォトダイオード21の裏面の電極層23を反射層23aで置換したものでる。その他の構成は図5のものと同等である。反射層23aは、Al又はAgを材料とし、フォトダイオード21に接する面は鏡面に仕上げられている。
発光ダイオード20から発せられた光はフォトダイオード21に受光され、フォトダイオード21を通過した光は反射層23aにより再びフォトダイオード21へ反射されるので、フォトダイオード21の受光効率を高めることができる。
Example 4
FIG. 8 is a diagram corresponding to FIG. 5 showing Example 4, in which the electrode layer 23 on the back surface of the photodiode 21 in FIG. 5 is replaced with a reflective layer 23a. Other configurations are the same as those in FIG. The reflective layer 23a is made of Al or Ag, and the surface in contact with the photodiode 21 is finished to be a mirror surface.
The light emitted from the light emitting diode 20 is received by the photodiode 21, and the light that has passed through the photodiode 21 is reflected again to the photodiode 21 by the reflection layer 23a, so that the light receiving efficiency of the photodiode 21 can be increased.

《実施例5》
図9は実施例5を示す図5対応図であり、フォトダイオード21の表面に、エミッタ電位のシールド配線24が、メッシュ状に設けられている。図10は、シールド配線24をフォトダイオード21の上方から見た平面図である。その他の構成は図5に示すものと同等である。フォトダイオード21の受光領域周辺に発生した電場の急峻な変動よるノイズ電流がエミッタ端子を通してチップ外に排出される。
シールド配線24のメッシュ状構造において、メッシュの間隔は狭い程、ノイズ吸収性能が上がるが、受光量が低下するので、それらを考慮した適正な間隔に設定される。
また、シールド配線24の材料については、Alのような電気伝導度が高い金属や半金属を用いることが細線化の点から望ましい。
Example 5
FIG. 9 is a diagram corresponding to FIG. 5 illustrating the fifth embodiment. On the surface of the photodiode 21, a shield wiring 24 having an emitter potential is provided in a mesh shape. FIG. 10 is a plan view of the shield wiring 24 viewed from above the photodiode 21. FIG. Other configurations are the same as those shown in FIG. Noise current caused by a sharp fluctuation of the electric field generated around the light receiving region of the photodiode 21 is discharged out of the chip through the emitter terminal.
In the mesh-like structure of the shield wiring 24, the smaller the mesh interval, the higher the noise absorption performance, but the amount of received light decreases.
In addition, as a material of the shield wiring 24, it is desirable to use a metal or a semimetal having a high electric conductivity such as Al from the viewpoint of thinning.

従来のフォトカプラの周辺回路を示す結線図である。It is a connection diagram which shows the peripheral circuit of the conventional photocoupler. 図2の要部を等価回路で示した結線図である。FIG. 3 is a connection diagram illustrating the main part of FIG. 2 with an equivalent circuit. この発明によるフォトカプラの全体構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the whole structure of the photocoupler by this invention. 図3に示すフォトカプラの等価回路図である。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of the photocoupler shown in FIG. この発明の実施例1の要部断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part of Embodiment 1 of the present invention. この発明の実施例2の要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of Embodiment 2 of the present invention. この発明の実施例3の要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of Embodiment 3 of the present invention. この発明の実施例4の要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of Embodiment 4 of the present invention. この発明の実施例5の要部断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part of Embodiment 5 of the present invention. 図9の実施例の要部上面図である。FIG. 10 is a top view of the main part of the embodiment of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

11 受光素子
12 受光素子
13 透光性樹脂
14 遮光性樹脂
15 リードフレーム
15a リードフレーム
16 透明シリコーン樹脂
17 ボンデングワイヤ
17a ボンデングワイヤ
22 波長変換部材
23 電極層
23a 反射層
24 シールド配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Light receiving element 12 Light receiving element 13 Translucent resin 14 Light blocking resin 15 Lead frame 15a Lead frame 16 Transparent silicone resin 17 Bonding wire 17a Bonding wire 22 Wavelength conversion member 23 Electrode layer 23a Reflective layer 24 Shield wiring

Claims (6)

発光素子と、発光素子からの光を受光する受光素子とを備え、発光素子にIn化合物半導体を用いたことを特徴とする光半導体結合素子。   An optical semiconductor coupling element comprising: a light emitting element; and a light receiving element for receiving light from the light emitting element, wherein an In compound semiconductor is used for the light emitting element. 受光素子にIn化合物半導体を用いたことを特徴とする請求項1記載の光半導体結合素子。   2. The optical semiconductor coupling element according to claim 1, wherein an In compound semiconductor is used for the light receiving element. 発光素子がレーザダイオードであり、発光素子から受光素子への光路中に波長変換部材料をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の光半導体結合素子。   2. The optical semiconductor coupling element according to claim 1, wherein the light emitting element is a laser diode, and further comprises a wavelength conversion portion material in an optical path from the light emitting element to the light receiving element. 波長変換部材が受光素子の受光領域に設置されることを特徴とする請求項3記載の光半導体結合素子。   4. The optical semiconductor coupling element according to claim 3, wherein the wavelength conversion member is installed in a light receiving region of the light receiving element. 受光素子は表面に受光領域を、裏面に反射層を備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の光半導体結合素子。   5. The optical semiconductor coupling element according to claim 1, wherein the light receiving element includes a light receiving region on a front surface and a reflective layer on a back surface. 受光素子は、受光領域に電磁ノイズ除去用メッシュ構造部材が形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の光半導体結合素子。
6. The optical semiconductor coupling element according to claim 1, wherein the light receiving element has a mesh structure member for removing electromagnetic noise formed in a light receiving region.
JP2003352603A 2003-10-10 2003-10-10 Optical semiconductor coupling device Pending JP2005116968A (en)

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