JP2005116067A - Method for manufacturing optical information medium - Google Patents

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Shinichi Kato
慎一 加藤
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical information medium which is nearly unchanged in warpage by lapse of time and thermal storage, and sufficiently satisfies a standard for a radial tilt. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the optical information medium comprises sticking together an information substrate having a recording layer or pits capable of recording information by irradiation with a laser beam and a protective substrate. The method has a process of subjecting the protective substrate to heat treatment at 60 to 90°C. The heat treatment time is preferably specified to 5 to 300 minutes. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光情報媒体の製造方法であって、特に、DVD等の貼り合わせ型の光情報媒体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical information medium, and more particularly to a method for manufacturing a bonded optical information medium such as a DVD.

文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生する高密度の光情報媒体(DVD)、また一回もしくは複数回の情報記録が可能な光情報媒体(DVD−RもしくはDVD−RW)に対する高密度化の要請は増大しつつある。かかる光情報媒体では、最短ピットおよびトラックピッチをCDの半分以下にしたりする等の他、光情報媒体を2層に貼り合わせることにより情報記録の高密度化が図られている。
このような貼り合わせタイプの光情報媒体は、基板上に記録層もしくはピット、反射層、保護層等を有する積層体(情報基板)同士を、保護層の面同士で接着させた構造としたり、上記1の積層体と記録層等を設けない保護基板(ダミー基板)とを貼り合わせた構造が知られている。
A high-density optical information medium (DVD) for recording and reproducing large amounts of character information, image information, audio information, etc., and an optical information medium (DVD-R or DVD-RW) capable of recording information once or multiple times The demand for higher density is increasing. In such an optical information medium, in addition to making the shortest pit and track pitch less than half of the CD or the like, the information recording density is increased by bonding the optical information medium in two layers.
Such a bonded type optical information medium has a structure in which laminates (information substrates) having a recording layer or pits, a reflective layer, a protective layer, etc. on a substrate are bonded to each other between the surfaces of the protective layer, There is known a structure in which the laminate 1 described above and a protective substrate (dummy substrate) not provided with a recording layer or the like are bonded together.

そして、このような貼り合わせタイプの光情報媒体において、情報基板には、経時やサーモ保存(80℃、ドライ、24時間)による反り変化やジッターの経時劣化を抑えるため、熱処理を施すことが知られている(例えば、特許文献1参照。)。このように熱処理を施した情報基板と熱処理を施さない保護基板とを貼り合わせると、経時やサーモ保存により反り(ラジアルチルト、面ぶれ)が変化し、ラジアルチルトの規格を満足しなくなってしまうという問題がある。これは、成形時の残留歪みが経時により緩和されるためと考えられる。
特開2000−276787号公報
In such a bonded optical information medium, it is known that the information substrate is subjected to heat treatment in order to suppress warpage change due to aging and thermo storage (80 ° C., dry, 24 hours) and deterioration of jitter over time. (For example, refer to Patent Document 1). When an information substrate subjected to heat treatment and a protective substrate not subjected to heat treatment are bonded together in this way, warpage (radial tilt, surface blur) changes due to aging or thermo storage, and the standard of radial tilt is not satisfied. There's a problem. This is considered because the residual distortion at the time of shaping | molding is relieve | moderated with time.
JP 2000-276787 A

本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、経時やサーモ保存による反りの変化が少なく、ラジアルチルトの規格を十分に満足する光情報媒体の製造が可能な光情報媒体の製造方法を提供することにある。
This invention is made | formed in view of the said problem, and makes it a subject to achieve the following objectives. That is,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical information medium that can manufacture an optical information medium that is less likely to change in warp due to aging or thermo storage and sufficiently satisfies the radial tilt standard.

上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本発明者は、下記本発明により当該目的を達成できることを見出した。
すなわち本発明は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせる光情報媒体の製造方法であって、前記保護基板に60〜90℃の温度で熱処理を施す工程を有することを特徴とする光情報媒体の製造方法である。
前記熱処理時間としては、5〜300分とすることが好ましい。
さらに、記録層形成後の前記情報基板に、前記保護基板に施す熱処理と同じ熱処理を施す工程を設けることが好ましい。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the object can be achieved by the following present invention.
That is, the present invention is a method for manufacturing an optical information medium in which an information substrate having a recording layer or pits capable of recording information by laser light irradiation and a protective substrate are bonded to each other, and the protective substrate has a temperature of 60 to 90 ° C. An optical information medium manufacturing method comprising a step of performing a heat treatment at a temperature.
The heat treatment time is preferably 5 to 300 minutes.
Furthermore, it is preferable to provide a step of performing the same heat treatment as the heat treatment applied to the protective substrate on the information substrate after forming the recording layer.

本発明によれば、経時やサーモ保存による反りの変化が少なく、ラジアルチルトの規格を十分に満足する光情報媒体の製造が可能な光情報媒体の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing an optical information medium that can manufacture an optical information medium that is less likely to change in warp due to aging or thermo storage and sufficiently satisfies the radial tilt standard.

本発明の光情報媒体の製造方法は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせる光情報媒体の製造方法であって、前記保護基板に、60〜90℃の温度で熱処理を施す工程を有することを特徴としている。以下、先ず、本発明の光情報媒体の製造方法により製造される光情報媒体について説明する。   The method for producing an optical information medium of the present invention is a method for producing an optical information medium in which an information substrate having a recording layer or pits capable of recording information by laser light irradiation and a protective substrate are bonded to each other. And a step of performing a heat treatment at a temperature of 60 to 90 ° C. Hereinafter, an optical information medium manufactured by the method for manufacturing an optical information medium of the present invention will be described first.

<光情報媒体>
本発明に係る光情報媒体は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせてなる。情報基板には、必要に応じて、光反射層、保護層等が設けられる。
すなわち、本発明に係る光情報媒体は、レーザー光により情報の記録および再生が可能な記録層を有する光情報媒体や、レーザー光により再生可能な情報が記録された記録部(ピット)を有する光情報媒体に適用することができる。
なお、前者はDVD−R、DVD−RW等の情報の書き込みが可能な追記型もしくは書き換え可能型の光情報媒体であり、後者はDVD−ROM等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体である。
<Optical information media>
The optical information medium according to the present invention is formed by laminating an information substrate having a recording layer or pits capable of recording information by laser light irradiation and a protective substrate. The information substrate is provided with a light reflection layer, a protective layer, or the like as necessary.
That is, the optical information medium according to the present invention includes an optical information medium having a recording layer capable of recording and reproducing information by laser light, and a light having a recording portion (pit) in which information reproducible by laser light is recorded. It can be applied to information media.
The former is a write-once or rewritable optical information medium such as DVD-R or DVD-RW, and the latter is an optical information medium in which information is written in advance such as a DVD-ROM. .

DVD−ROM等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体では、少なくとも情報基板の貼り合わせ面には、ピットが形成されている。また、保護基板は、情報基板と同様にピットが形成されている構成としてもよく、いわゆるダミー基板としてピットを形成しない構成としてもよい。
以下、DVD−R、DVD−RW等の光情報媒体を例に、本発明に使用される上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
In an optical information medium in which information is written in advance, such as a DVD-ROM, pits are formed at least on the bonding surface of the information substrate. Further, the protective substrate may have a configuration in which pits are formed in the same manner as the information substrate, or may have a configuration in which pits are not formed as a so-called dummy substrate.
Hereinafter, the substrate and each layer used in the present invention will be described using optical information media such as DVD-R and DVD-RW as examples. Note that the layer configuration, materials, and the like are merely examples, and the present invention is not limited to these.

[情報基板、保護基板]
情報基板及び保護基板としては、従来の光情報媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、0.5〜1.2mmとすることが好ましく、0.6〜1.1mmとすることがより好ましい。
[Information board, protective board]
As the information substrate and the protective substrate, various materials used as substrate materials for conventional optical information media can be arbitrarily selected and used.
Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.
Among the above materials, amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price. Further, the thickness of the substrate is preferably 0.5 to 1.2 mm, and more preferably 0.6 to 1.1 mm.

情報基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(プリグルーブ)が形成されている。
プリグルーブのトラックピッチは、300〜900nmの範囲とすること好ましく、350〜850nmとすることがより好ましく、400〜800nmとすることがさらに好ましい。
300nm未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、900nmを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ(溝深さ)は、80〜200nmの範囲とすることが好ましく、110〜180nmとすることがより好ましく、110〜160nmとすることがさらに好ましい。
80nm未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、200nmを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
さらに、プリグルーブの半値幅は、200〜400nmの範囲とすることが好ましく、230〜380nmとすることがより好ましく、250〜350nmとすることがさらに好ましい。
200nm未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、400nmを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
The information substrate is formed with unevenness (pregroove) representing information such as a guide groove for tracking or an address signal.
The track pitch of the pregroove is preferably in the range of 300 to 900 nm, more preferably 350 to 850 nm, and still more preferably 400 to 800 nm.
If the thickness is less than 300 nm, it is difficult to form the pregroove accurately, and a crosstalk problem may occur. If the thickness exceeds 900 nm, the recording density may decrease.
The pregroove depth (groove depth) is preferably in the range of 80 to 200 nm, more preferably 110 to 180 nm, and even more preferably 110 to 160 nm.
If it is less than 80 nm, a sufficient recording modulation degree may not be obtained, and if it exceeds 200 nm, the reflectivity may be significantly lowered.
Furthermore, the half width of the pregroove is preferably in the range of 200 to 400 nm, more preferably 230 to 380 nm, and even more preferably 250 to 350 nm.
If the thickness is less than 200 nm, the grooves may not be sufficiently transferred at the time of molding or the recording error rate may be increased. If the thickness exceeds 400 nm, the pits formed at the time of recording spread and cause crosstalk. Or a sufficient degree of modulation may not be obtained.

[記録層]
DVD−Rの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは30〜300nmの範囲にあり、より好ましくは50〜200nmの範囲にある。
[Recording layer]
In the case of DVD-R, the dye used in the recording layer is not particularly limited, but examples of usable dyes include cyanine dyes, phthalocyanine dyes, imidazoquinoxaline dyes, pyrylium / thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squarylium dyes. Dyes, metal complex salt dyes such as Ni, Cr, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, aminium dyes / diimonium dyes And nitroso compounds. Among these dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, oxonol dyes and imidazoquinoxaline dyes are preferable.
The recording layer may be a single layer or a multilayer. The recording layer generally has a thickness of 20 to 500 nm, preferably 30 to 300 nm, and more preferably 50 to 200 nm.

DVD−RWの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも2つの状態をとり得る少なくともAg、Al、Te、Sbからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
In the case of DVD-RW, the recording layer is preferably made of a phase change type optical recording material composed of at least Ag, Al, Te, and Sb that can take at least two states of a crystalline state and an amorphous state. Such a recording layer can be formed by a known method.
A known dielectric layer is formed on the recording layer as necessary.

[光反射層]
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、70%以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Au、Ag、Alあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Au、Agあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲とし、50〜200nmの範囲とすることが好ましい。
[Light reflection layer]
For the light reflection layer, a light reflective material having a high reflectance with respect to laser light is used. The reflectance is preferably 70% or more.
As a light reflective material having a high reflectance, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd , Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and semi-metals or stainless steel. These light reflecting materials may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds or as an alloy. Among these, Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel are preferable. Particularly preferred is Au, Ag, Al or an alloy thereof, and most preferred is Au, Ag or an alloy thereof.
The thickness of the light reflecting layer is generally in the range of 10 to 300 nm, and preferably in the range of 50 to 200 nm.

[保護層]
反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、DVD−R型の光情報媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層の材料としては、SiO2、MgF2、SnO2、Si34などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を用いることができる。保護層の層厚は、一般には0.1〜100μmの範囲にある。
[Protective layer]
A protective layer is preferably provided on the reflective layer or the recording layer for the purpose of physically and chemically protecting the recording layer and the like. Note that in the case of adopting the same form as in the case of manufacturing a DVD-R type optical information medium, that is, a structure in which two substrates are bonded with the recording layer inside, it is not always necessary to provide a protective layer. As a material for the protective layer, inorganic substances such as SiO 2 , MgF 2 , SnO 2 , and Si 3 N 4 , organic substances such as thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable resins can be used. The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm.

また、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて、例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよい。
光透過層としては、レーザー波長で90%以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
上記光透過層は、従来公知の方法により形成することができ、光透過層の厚さは、2〜50nmとすることが好ましい。
Further, for example, a light transmission layer for improving adhesion to the recording layer may be provided between the reflective layer and the recording layer in accordance with the characteristics of the recording layer.
Any material can be used as the light transmission layer as long as it has a transmittance of 90% or more at the laser wavelength.
The light transmission layer can be formed by a conventionally known method, and the thickness of the light transmission layer is preferably 2 to 50 nm.

保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、SD−347(大日本インキ化学工業(株)製)、SD−694(大日本インキ化学工業(株)製)、SKCD1051(SKC社製)等を使用することができる。保護層の厚さは、1〜200μmの範囲が好ましく、50〜150μmの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する(透過率:90%以上)ほどに透明であることを意味する。
The protective layer prevents moisture from entering and scratching. The material constituting the protective layer is preferably an ultraviolet curable resin, a visible light curable resin, a thermosetting resin, silicon dioxide, or the like, and more preferably an ultraviolet curable resin. Examples of the ultraviolet curable resin include ultraviolet curable resins such as “SD-640” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Further, SD-347 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), SD-694 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), SKCD1051 (manufactured by SKC), and the like can be used. The thickness of the protective layer is preferably in the range of 1 to 200 μm, and more preferably in the range of 50 to 150 μm.
In addition, the protective layer is required to have transparency in a layer configuration used as a laser optical path. Here, “transparency” means that the recording light and the reproduction light are so transparent that the light is transmitted (transmittance: 90% or more).

<光情報媒体の製造方法>
以上の光情報媒体を製造し得る本発明の光情報媒体の製造方法について以下に詳述する。
<Optical information medium manufacturing method>
The method for producing an optical information medium of the present invention capable of producing the above optical information medium will be described in detail below.

[情報基板、保護基板の成形]
情報基板、保護基板の成形は、前述の基板材料を用い、射出成形、圧縮成形、又は射出圧縮成形によって行うことができる。また、スタンパーを油圧プレス機のモールディングダイスの片側に取り付け、溶融点付近まで加熱した樹脂をプレス加工することにより圧縮成形することもできる。
[Formation of information boards and protective boards]
The information substrate and the protective substrate can be formed by injection molding, compression molding, or injection compression molding using the aforementioned substrate material. Alternatively, the stamper can be compression-molded by attaching a stamper to one side of a molding die of a hydraulic press machine and pressing the resin heated to the vicinity of the melting point.

[記録層の形成]
記録層は、上記色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して色素溶液を調製し、次いでこの色素溶液を基板(情報基板)のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。
塗布法として、スピンコート法を適用する際の温度は、23℃以上とすることが好ましく、25℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく35℃とする。
23℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚(記録層の厚み)が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
[Formation of recording layer]
The recording layer is prepared by dissolving the recording material such as the dye in a suitable solvent together with a binder and the like, and then applying the dye solution to the surface of the substrate (information substrate) on which the pregroove is formed. It is formed by drying after forming a coating film.
As a coating method, the temperature when applying the spin coating method is preferably 23 ° C. or higher, and more preferably 25 ° C. or higher. The upper limit of the temperature is not particularly limited, but the temperature needs to be lower than the flash point of the solvent, and preferably 35 ° C.
When the temperature is lower than 23 ° C., the drying of the solvent becomes slow, and the target dye film thickness (recording layer thickness) cannot be obtained, or the coating and drying time becomes long, and the productivity may decrease.

また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。   As a method for dissolving the recording substance or the like, a method such as ultrasonic treatment, homogenizer, or heating can be applied.

色素溶液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができる。   Solvents for preparing the dye solution include esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform; Amides such as dimethylformamide; Hydrocarbons such as methylcyclohexane; Ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane; Alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol diacetone alcohol; 2,2,3,3-tetra Fluorine solvents such as fluoropropanol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; It can gel.

上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。   The above solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the recording material used. Various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be further added to the coating solution depending on the purpose.

記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、および同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
The recording layer can contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the recording layer.
As the antifading agent, a singlet oxygen quencher is generally used. As the singlet oxygen quencher, those described in publications such as known patent specifications can be used.
Specific examples thereof include JP-A Nos. 58-175893, 59-81194, 60-18387, 60-19586, 60-19587, and 60-35054. 60-36190, 60-36191, 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, JP-A-60-47069, JP-A-63-209995, JP-A-4-25492, JP-B-1-38680, JP-A-6-26028, etc., German Patent 350399, and Japan Examples include those described in Chemical Society Journal, October 1992, page 1141.

前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。   The amount of the antifading agent such as the singlet oxygen quencher used is usually in the range of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 45% by weight, based on the amount of the compound for recording. More preferably, it is the range of 3-40 mass%, Most preferably, it is the range of 5-25 mass%.

褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平2−300288号、同3−224793号、及び同4−146189号等の各公報に記載されている。   Representative examples of the antifading agent include nitroso compounds, metal complexes, diimmonium salts, and aminium salts. Examples of these are described in, for example, JP-A-2-300288, JP-A-3-224793, and JP-A-4-146189.

前記結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素100質量部に対して0.2〜20質量部、好ましくは、0.5〜10質量部、更に好ましくは1〜5質量部である。   Examples of the binder include natural organic polymer substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyisobutylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resins And a synthetic organic polymer such as an initial condensate of a thermosetting resin. When the binder is used, the amount of the binder used is generally 0.2 to 20 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the dye. It is.

塗布温度としては、20〜40℃であれば特に問題はないが、好ましくは25〜35℃、さらに好ましくは27〜33℃である。また、塗布時の相対湿度としは、20〜60%RHであればよく、好ましくは30〜50%RH、さらに好ましくは35〜45%RHである。   The application temperature is 20 to 40 ° C., but there is no particular problem, but it is preferably 25 to 35 ° C., more preferably 27 to 33 ° C. The relative humidity at the time of application may be 20 to 60% RH, preferably 30 to 50% RH, and more preferably 35 to 45% RH.

[光反射層の形成]
光反射層は、例えば、上記反射性物質を、蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。本発明においては、保存性を向上させる目的、或いは外観を変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよく、2種以上の材料を多層に積層してもよい。
[Formation of light reflection layer]
The light reflecting layer can be formed on the recording layer, for example, by vapor deposition, sputtering or ion plating of the reflective material. In the present invention, for the purpose of improving storage stability or changing the appearance, the reflective layer may be formed by laminating the above materials as a single layer or by laminating two or more materials in multiple layers.

[保護層の形成]
保護層は、無機物質の場合は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により、有機物質の場合は、プラスチックフィルムのラミネート、溶剤に溶解した塗布液の塗布乾燥等により形成することができる。あるいは保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを、接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
[Formation of protective layer]
In the case of an inorganic substance, the protective layer can be formed by a method such as vacuum vapor deposition, sputtering, or coating. In the case of an organic substance, the protective layer can be formed by laminating a plastic film, coating and drying a coating solution dissolved in a solvent, or the like. Alternatively, the protective layer can be formed, for example, by laminating a film obtained by extrusion of plastic on the reflective layer via an adhesive. In the case of a thermoplastic resin or a thermosetting resin, it can also be formed by dissolving these in a suitable solvent to prepare a coating solution, and then applying and drying the coating solution. In the case of a UV curable resin, it can also be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, coating the coating solution, and curing it by irradiating with UV light. In these coating liquids, various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added according to the purpose.

ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器(好ましくは、UV照射器)を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はmsec以下が好ましく、μsec以下がより好ましい。1パルスの照射光量は特に制限されないが、3kW/cm2以下が好ましく、2kW/cm2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、20回以下が好ましく、10回以下がより好ましい
In order to prevent warping of the disk, it is preferable to irradiate the coating film with ultraviolet rays using a pulsed light irradiator (preferably a UV irradiator). The pulse interval is preferably msec or less, and more preferably μsec or less. 1 pulse irradiation light amount is not particularly limited, and is preferably 3 kW / cm 2 or less, 2 kW / cm 2 or less being more preferred.
Further, the number of times of irradiation is not particularly limited, but is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less.

[保護基板の熱処理]
本発明の光情報媒体の製造方法においては、前記保護基板に60〜90℃の熱処理を施す工程を有する。当該熱処理を施すことにより、経時やサーモ保存による反りを少なくすることができ、ラジアルチルトの規格を十分に満足する光情報媒体が得られる。熱処理の温度が60℃未満では熱処理の効果が得られず、90℃を超えると保護基板が変形してしまう。熱処理温度としては、70〜90℃とすることが好ましく、75〜85℃とすることがより好ましい。
なお、当該工程は保護基板成形後72時間以内に設けることが好ましい。
[Heat treatment of protective substrate]
The method for producing an optical information medium of the present invention includes a step of performing a heat treatment at 60 to 90 ° C. on the protective substrate. By performing the heat treatment, warpage due to aging or thermo storage can be reduced, and an optical information medium that sufficiently satisfies the radial tilt standard can be obtained. If the temperature of the heat treatment is less than 60 ° C., the effect of the heat treatment cannot be obtained, and if it exceeds 90 ° C., the protective substrate is deformed. As heat processing temperature, it is preferable to set it as 70-90 degreeC, and it is more preferable to set it as 75-85 degreeC.
In addition, it is preferable to provide the said process within 72 hours after formation of a protective substrate.

熱処理を施す時間としては、5〜300分とすることが好ましく、30〜240分とすることがより好ましく、60〜210分とすることがさらに好ましい。熱処理時間を5〜300分とすることにより、十分に熱処理による効果を発揮することができる。   The time for performing the heat treatment is preferably 5 to 300 minutes, more preferably 30 to 240 minutes, and still more preferably 60 to 210 minutes. By setting the heat treatment time to 5 to 300 minutes, the effect of the heat treatment can be sufficiently exhibited.

本発明においては、前記情報基板にも、前記保護基板に施す熱処理と同じ熱処理を施すことが好ましい。情報基板にも熱処理を施すことにより、ジッターの経時劣化を防止することができる。   In the present invention, the information substrate is preferably subjected to the same heat treatment as the heat treatment applied to the protective substrate. By subjecting the information substrate to heat treatment, it is possible to prevent the deterioration of jitter over time.

[情報基板と保護基板との貼り合わせ]
情報基板と保護基板との貼り合わせには、種々の接着剤を使用することができる。例えば、情報基板の保護層上に紫外線硬化樹脂(大日本インキ化学工業(株)製SD640等)をスピンコート法によって、20〜60μmの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、保護基板を載置し、保護基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
[Bonding of information board and protective board]
Various adhesives can be used for bonding the information substrate and the protective substrate. For example, an ultraviolet curable resin (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd. SD640 or the like) is applied on the protective layer of the information substrate to a thickness of 20 to 60 μm by spin coating to form an adhesive layer. A protective substrate is placed on the formed adhesive layer, and the ultraviolet curable resin is cured by being irradiated with ultraviolet rays from the protective substrate and bonded together.

本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The present invention will be specifically described with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
射出成型機(住友重機械工業(株)製)を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ(溝深さ150nm、溝幅300nm、トラックピッチ0.74μm)および凹部を有する外径120mm、内径15mm、厚さ0.6mmの透明な基板(情報基板)を作製した。同様にして、保護基板を作製した。
(Example 1)
Using an injection molding machine (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), polycarbonate resin is mixed with a spiral groove (groove depth 150 nm, groove width 300 nm, track pitch 0.74 μm) and an outer diameter of 120 mm and an inner diameter having recesses. A transparent substrate (information substrate) having a thickness of 15 mm and a thickness of 0.6 mm was produced. Similarly, a protective substrate was produced.

作製した保護基板に対し、日本エアーテック社製、クリーンドライサーモにて80℃ドライ3時間の条件で熱処理を施した。   The produced protective substrate was heat-treated under a condition of 80 ° C. dry for 3 hours using a clean dry thermo made by Nippon Airtech.

下記化学式で表わされる色素A0.25gおよび色素B0.06gをフッ素アルコール(2,2,3,3テトラフルオロプロパノール溶剤)30gに混合し、1時間超音波処理を施して溶解し、色素塗布液を調製した。   0.25 g of dye A represented by the following chemical formula and 0.06 g of dye B are mixed with 30 g of fluoroalcohol (2,2,3,3 tetrafluoropropanol solvent), subjected to ultrasonic treatment for 1 hour to dissolve, and a dye coating solution is obtained. Prepared.

Figure 2005116067
・・・色素A
Figure 2005116067
... Dye A

Figure 2005116067
・・・色素B
Figure 2005116067
... Dye B

温度25℃、相対湿度45%RHにて、調製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記情報基板のグルーブが形成されている面に塗布し、厚さ80nmの記録層を形成した。   At a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 45% RH, the prepared dye coating solution was applied to the surface of the information substrate on which the groove was formed by a spin coating method to form a recording layer having a thickness of 80 nm.

記録層を形成した情報基板に対して、前記保護基板と同一の条件で熱処理を施した。   The information substrate on which the recording layer was formed was heat treated under the same conditions as the protective substrate.

次いで、形成した記録層上に、DCマグネトロンスパッタにより銀をスパッタリングして、厚さ80nmの光反射層を形成した。   Next, silver was sputtered on the formed recording layer by DC magnetron sputtering to form a light reflecting layer having a thickness of 80 nm.

以上のようにして記録層および光反射層が形成された情報基板をスピンコーターにセットし、UV硬化接着剤を前記光反射層上に塗布し60rpmでスピンコートした。そして、情報基板上に保護基板をかぶせ、さらに4400rpmで回転させてUV硬化接着剤を2枚の基板の間に充填した。
貼り合わせ後の基板を別のターンテーブルに移し、該ターンテーブルとともにUV照射部に移動させUV光を照射してUV硬化接着剤を硬化させ、2枚の基板を接着して光ディスク(光情報媒体)を作製した。
The information substrate on which the recording layer and the light reflecting layer were formed as described above was set on a spin coater, and a UV curable adhesive was applied onto the light reflecting layer and spin coated at 60 rpm. Then, a protective substrate was placed on the information substrate, and further rotated at 4400 rpm, and a UV curable adhesive was filled between the two substrates.
The bonded substrate is transferred to another turntable, moved to the UV irradiation unit together with the turntable, irradiated with UV light to cure the UV curing adhesive, and the two substrates are bonded to each other to form an optical disc (optical information medium). ) Was produced.

(比較例1)
保護基板に熱処理を施さなかったこと以外は実施例1と同様にして光ディスクを作製した。
(Comparative Example 1)
An optical disc was produced in the same manner as in Example 1 except that the protective substrate was not heat-treated.

[評価]
実施例1及び比較例1で作製した光ディスクに対し、貼り合わせ直後、貼り合わせから4日後、及び80℃ドライ24時間保存(サーモ保存)後のラジアルチルト値を、光ディスク機械特性測定機(DLD4000(ジャパン・イー・エム社製)にて測定した。それぞれのラジアルチルト値の最大値及び最小値を表1に示す。
[Evaluation]
For the optical disks produced in Example 1 and Comparative Example 1, the radial tilt value immediately after bonding, 4 days after bonding, and 80 ° C. dry storage for 24 hours (thermo storage) was measured using an optical disk mechanical property measuring machine (DLD4000 ( Table 1 shows the maximum value and the minimum value of each radial tilt value.

Figure 2005116067
Figure 2005116067

表1より、保護基板に熱処理を施した実施例1の光ディスクは、貼り合わせ直後、貼り合わせから4日後、及び80℃ドライ24時間保存後のいずれの時点においても、ラジアルチルト値(最大値、最小値)に変化がなく、反りが少なかったことが分かる。これに対して、比較例1の光ディスクは、各測定時点におけるラジアルチルト値の変化が非常に大きく、光ディスクの反りが発生した。   From Table 1, the optical disk of Example 1 in which the protective substrate was heat-treated immediately after bonding, 4 days after bonding, and at any time point after storage at 80 ° C. for 24 hours, the radial tilt value (maximum value, It can be seen that there was no change in the (minimum value) and there was little warpage. In contrast, the optical disc of Comparative Example 1 had a very large change in the radial tilt value at each measurement point, and the optical disc was warped.

Claims (3)

レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせる光情報媒体の製造方法であって、
前記保護基板に60〜90℃の温度で熱処理を施す工程を有することを特徴とする光情報媒体の製造方法。
A method for producing an optical information medium in which an information substrate having a recording layer or pits capable of recording information by laser light irradiation and a protective substrate are bonded together,
A method for producing an optical information medium, comprising a step of heat-treating the protective substrate at a temperature of 60 to 90 ° C.
前記熱処理時間が5〜300分であることを特徴とする請求項1に記載の光情報媒体の製造方法。   The method of manufacturing an optical information medium according to claim 1, wherein the heat treatment time is 5 to 300 minutes. さらに、記録層形成後の前記情報基板に、前記保護基板に施す熱処理と同じ熱処理を施す工程を有することを特徴とする請求項1または2に記載の光情報媒体の製造方法。   The method of manufacturing an optical information medium according to claim 1, further comprising a step of performing a heat treatment on the information substrate after forming the recording layer, the same heat treatment as that performed on the protective substrate.
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