JP2005105313A - Plating structure and plating method for sliding member - Google Patents
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Description
本発明は、摺動部材のめっき構造およびめっき方法に関する。 The present invention relates to a plating structure and a plating method for a sliding member.
表面に硬質のクロム層を析出させる汎用の硬質クロムめっき処理によれば、得られるクロム層に金属素地に達するクラックが多数存在し、そのままでは、腐食原因となる媒体が金属素地に到達して腐食が発生するようになる。そこで従来、腐食環境で使用される摺動部材に対しては、一般に前処理としてニッケルめっきや銅めっきを施してクロムめっき層と同程度の膜厚の下地を形成し、この下地の上に硬質クロムめっきを施すようにしていた。しかし、このような対策によれば、めっき処理を工程を変えて2回行わなければならないため、工程増加による製造コストの上昇が避けられないようになる。 According to the general-purpose hard chromium plating process that deposits a hard chromium layer on the surface, there are many cracks that reach the metal substrate in the resulting chromium layer, and as it is, the medium that causes corrosion reaches the metal substrate and corrodes it. Will occur. Therefore, conventionally, for sliding members used in corrosive environments, nickel plating or copper plating is generally applied as a pretreatment to form a base with a film thickness comparable to that of the chromium plating layer, and hard on this base Chrome plating was applied. However, according to such a countermeasure, since the plating process must be performed twice while changing the process, an increase in manufacturing cost due to an increase in the process cannot be avoided.
一方、パルス電流を利用して、いわゆるパルスめっき処理を行うことで、クラックのないクロム層を形成できることが既に確認されており(例えば、特許文献1参照)、この方法によれば、耐食性に優れた摺動部材を1工程処理で得ることができるようになる。しかしながら、このパルスめっき処理によれば、熱履歴を受けるとクロム層に大きなクラック(マクロクラック)が発生し易いという問題があり、熱履歴を受ける部品への適用は断念せざるを得ないものとなっていた。 On the other hand, it has already been confirmed that a chromium layer without cracks can be formed by performing a so-called pulse plating process using a pulse current (see, for example, Patent Document 1). According to this method, the corrosion resistance is excellent. The sliding member can be obtained in a single process. However, according to this pulse plating treatment, there is a problem that a large crack (macro crack) is likely to occur in the chromium layer when it receives a thermal history, and application to a component that receives the thermal history must be given up. It was.
そこで、本発明者等は、上記マクロクラック発生について鋭意検討した結果、パルス条件を調整して、クロム層に100MPa以上の圧縮残留応力を付与することで、上記した熱履歴に起因するクラック発生を防止できることを見出し、既に、特許文献2で明らかにしている。この特許文献2に記載される発明では、クラックのない(クラックフリー)クロム層を下地として、該クロム層上にクラックを有する上クロム層を設けてもよいとしている。この場合、下クロム層の硬さを最大限に高くして耐摩耗性の向上を図ることができることに加え、上クロム層に存在するクラックを油溜りとして機能させて摺動抵抗の低減を図ることができ、耐食性に優れた下地クロム層(クラックフリー)と相俟って、耐久性に富む摺動部材が得られるようになる。
Therefore, as a result of intensive studies on the occurrence of macro cracks, the present inventors have adjusted the pulse conditions and applied a compressive residual stress of 100 MPa or more to the chromium layer, so that cracks caused by the thermal history described above can be generated. It has been found that it can be prevented and has already been clarified in
しかしながら、上記特許文献2に記載されるようにクラックフリーのクロム層上にクラックを有するクロム層を積層形成した摺動部材によれば、摺動部材の全体にわたってめっき層の厚さを均一にすることが困難で、寸法精度の厳しい部分が存在する場合には、要求される寸法精度を満足できない虞があった。
However, according to the sliding member in which the chromium layer having cracks is formed on the crack-free chromium layer as described in
本発明は、上記した従来の問題点に鑑みてなされたもので、その課題とするところは、耐食性、耐摩耗性および摺動特性はもちろん寸法精度の面でも十分満足する特性を有する摺動部材のめっき構造を提供し、併せてこのめっき構造を効率よくかつ安定して得ることができるめっき方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and the object of the present invention is to provide a sliding member having sufficiently satisfactory characteristics in terms of dimensional accuracy as well as corrosion resistance, wear resistance and sliding characteristics. It is another object of the present invention to provide a plating method capable of efficiently and stably obtaining this plating structure.
上記課題を解決するため、本発明に係る摺動部材のめっき構造は、摺動部および非摺動部を有する摺動部材のめっき構造であって、前記摺動部および非摺動部を含む全体にめっき処理を施すことにより形成された、クラックのない第1クロム層と、前記摺動部にめっき処理を施すことにより前記第1クロム層上に形成された、クラックを有する第2クロム層とを備えていることを特徴とする。この場合、前記めっき層の厚さは、第1クロム層よりも第2クロム層の方が厚いことが望ましい。このように構成しためっき構造によれば、クラックのない第1クロム層が全体に設けられているので、耐食性は十分となる。また、摺動部には、前記第1クロム層上にクラックを有する第2クロム層が設けられているので、耐摩耗性も十分となりかつ摺動特性も満足する。しかも、非摺動部はクラックのない第1クロムのみが設けられているので、寸法精度の保証も十分となる。 In order to solve the above-described problems, a sliding member plating structure according to the present invention is a sliding member plating structure having a sliding portion and a non-sliding portion, and includes the sliding portion and the non-sliding portion. A crack-free first chromium layer formed by plating the whole and a cracked second chromium layer formed on the first chromium layer by plating the sliding portion. It is characterized by having. In this case, it is desirable that the plating layer is thicker in the second chromium layer than in the first chromium layer. According to the plating structure configured in this way, the first chromium layer without cracks is provided on the entire surface, so that the corrosion resistance is sufficient. Further, since the second chromium layer having cracks is provided on the first chromium layer, the sliding portion has sufficient wear resistance and also satisfies the sliding characteristics. In addition, since the non-sliding portion is provided with only the first chrome without cracks, the dimensional accuracy is sufficiently guaranteed.
本めっき構造において、上記摺動部材の種類は任意であり、例えば、シリンダ装置用のピストンロッドである構成とすることができる。この場合、上記非摺動部は組付相手に対する取付用ねじ部を含むものとなる。 In the present plating structure, the type of the sliding member is arbitrary, and for example, it can be configured as a piston rod for a cylinder device. In this case, the non-sliding portion includes a mounting screw portion for the assembly counterpart.
上記課題を解決するため、本発明に係る摺動部材のめっき方法は、摺動部および非摺動部を有する摺動部材のめっき方法であって、めっき浴中で電気めっきを行って、前記摺動部および非摺動部の全体に第1クロム層を形成する第1めっき工程と、該第1めっき工程後、前記非摺動部をマスキングして、同じめっき浴中で電気めっきを行って、前記摺動部の第1クロム層上に第2クロム層を形成する第2めっき工程とからなることを特徴とする。本めっき方法において、第1めっき工程をパルス電流を利用して行い、第2めっき工程をパルス条件を変えてまたは直流電流を利用して行うことことができる。 In order to solve the above problems, a plating method for a sliding member according to the present invention is a plating method for a sliding member having a sliding portion and a non-sliding portion, wherein electroplating is performed in a plating bath, A first plating step for forming a first chromium layer on the entire sliding portion and non-sliding portion, and after the first plating step, the non-sliding portion is masked and electroplated in the same plating bath. And a second plating step of forming a second chromium layer on the first chromium layer of the sliding portion. In the present plating method, the first plating step can be performed by using a pulse current, and the second plating step can be performed by changing a pulse condition or by using a direct current.
本発明に係る摺動部材のめっき構造によれば、耐食性、耐摩耗性および摺動特性はもちろん寸法精度の面でも十分満足する特性を有する摺動部材が得られる。
また、本発明に係る摺動部材のめっき方法によれば、同じめっき浴を用いて効率よくかつ安定してめっき処理を行うことができる。
According to the plating structure of the sliding member according to the present invention, a sliding member having characteristics sufficiently satisfactory not only in terms of corrosion resistance, wear resistance and sliding characteristics but also in terms of dimensional accuracy can be obtained.
Moreover, according to the plating method of the sliding member which concerns on this invention, it can plate-process efficiently and stably using the same plating bath.
以下、本発明を実施するための最良の形態を図面も参照して説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
本実施形態においては、摺動部材として、油圧緩衝器(シリンダ装置)用のピストンロッドを選択している。このピストンロッドは、図2に示すように、ロッドガイドおよびシール部材(オイルシール、Oリング等)を摺動可能に挿通する摺動部1の一端側にピストンを嵌合保持するためのピストン嵌合部2を備えると共に、この摺動部1の他端側にアウタシェル(組付相手)を取付けるための中間ねじ部3と、外部に曝される小径軸部4と車体(組付相手)への取付用先端ねじ部5とを順に備えている。このようなピストンロッド6において、その摺動部1は耐摩耗性および耐食性に優れていることに加え、良好な摺動特性を有することが、ピストン嵌合部2は寸法精度の高いことが、小径軸部4は耐食性に優れていることが、中間ねじ部3と先端ねじ部5とは耐食性に優れかつ寸法精度の高いことがそれぞれ要求される。なお、ピストン嵌合部2には、ピストンを締付け固定するためのナットを螺着させるねじ部2aが付設されている。
In this embodiment, a piston rod for a hydraulic shock absorber (cylinder device) is selected as the sliding member. As shown in FIG. 2, the piston rod has a piston fitting for fitting and holding the piston on one end side of a sliding
そこで、本実施形態においては、先ず、ピストン嵌合部2を除く全体に後述のめっき処理を施すことにより、図1に示すように、基材(鋼材)Mの表面に、クラックFを有しない(クラックフリーの)第1クロム層S1 を形成し、その後、摺動部1に対してのみ後述のめっき処理を施すことにより、同じく図1に示すように、前記第1クロム層S1 上にクラックFを有する第2クロム層S2 を形成している。すなわち、非摺動部である中間ねじ部3、小径軸部4および先端ねじ部5はクラックフリーの第1クロム層S1 のみを有するめっき構造となっているのに対し、摺動部1はクラックフリーの第1クロム層S1 上にクラックを有する第2クロム層S2 を積層しためっき構造となっている。ここで、クラックフリーの第1クロム層S1 の厚さt1 は2〜5μm程度、クラックを有する第2クロム層S2 の厚さt2 は20〜40μm程度となっている。また、第1クロム層S1 は、望ましくは100MPa 以上の圧縮残留応力を有し、かつその結晶子の大きさが9nm以上、16nm未満の範囲に収まる構成とし、第2クロム層S2 は、望ましくは100MPa 未満の圧縮残留応力または引張残留応力を有し、かつその結晶子の大きさが9nm未満となるように形成されている。
Therefore, in the present embodiment, first, the entire surface excluding the
上記しためっき構造を有するピストンロッド(摺動部材)6は、クラックフリーの第1クロム層S1 がその全体に設けられているので、摺動部1、小径軸部4およびねじ部3、5を含むほぼ全体の耐食性は十分となる。また、この第1クロム層S1 は圧縮残留応力が付与され、かつ結晶子も小さいので、広範な熱履歴を経てもクラック発生が防止され、優れた耐食性を維持する。しかも、この第1クロム層S1 は比較的薄く形成されているので、非摺動部である中間ねじ部3および先端ねじ部5の寸法精度は交差内に収まり、組付相手(アウタシェル側、車体側)におけるボルト(図示せず)との組付けに不具合が生じることはない。一方、摺動部1は、前記第1クロム層S1 上にクラックを有する比較的厚い第2クロム層S2 を設けためっき構造となっているので、前記第1クロム層S1 によって耐摩耗性は十分となり、かつ前記第2クロム層S2 のクラックによ油溜機能によって摺動特性も満足する。
Since the piston rod (sliding member) 6 having the above-described plating structure is provided with the crack-free first chromium layer S 1 , the sliding
本実施形態において、上記しためっき構造を得るには、後述のめっき装置(図5および6)を用い、先ず、有機スルフォン酸を含むめっき浴中で、パルス電流を利用しためっき処理(以下、これをパルスめっき処理という)を行い、続いて、同じめっき浴内で直流電流を利用しためっき処理(以下、これを汎用めっき処理という)を行うようにする。この場合、前記有機スルフォン酸を含むめっき浴としては、図3に示す成分組成のものを用いるのが望ましい。このめっき浴は、特公昭63−32874号公報に記載されたものと実質同じものであり、クロム酸と硫酸根とをベースとして有機スルフォン酸を1〜18g/L 好適には1.5〜12g/L含んでいる。 In this embodiment, in order to obtain the above-described plating structure, a plating process using a pulse current (hereinafter referred to as “this”) is first used in a plating bath containing organic sulfonic acid using a plating apparatus (FIGS. 5 and 6) described later. Is referred to as pulse plating treatment), and subsequently, plating treatment using direct current (hereinafter referred to as general-purpose plating treatment) is performed in the same plating bath. In this case, as the plating bath containing the organic sulfonic acid, it is desirable to use the component composition shown in FIG. This plating bath is substantially the same as that described in Japanese Patent Publication No. 63-32874, and based on chromic acid and sulfate radicals, 1-18 g / L, preferably 1.5-12 g of organic sulfonic acid. / L included.
また、パルスめっき処理に際して印加するパルス電流の波形としては、図4に示すように最大電流密度IUと最小電流密度ILとの間を交番し、かつ最大電流密度IUと最小電流密度ILとに所定時間T1、T2保持する形態となっている。最小電流密度ILは、ここではゼロ(オフ)に設定しているが、最大電流密度Iuとゼロとの間の任意の値に設定してもよいことはもちろんである。また、保持時間T1およびT2については、同一の値に設定しても異なる値に設定してもよい。 As the waveform of the pulse current applied during pulse plating process, alternating between a maximum current density I U and the minimum current density I L as shown in FIG. 4, and the maximum current density I U and the minimum current density I The predetermined time T 1 and T 2 are held at L. Here, the minimum current density I L is set to zero (off), but may be set to any value between the maximum current density Iu and zero. Also, the holding times T 1 and T 2 may be set to the same value or different values.
ここで、上記めっき処理を行うためのめっき装置は、図5および6に示すように、上記した有機スルフォン酸を含むめっき浴10を収容したバッチ処理槽11を備えている。このバッチ処理槽11内には、円筒状の導体ケース12が紙面垂直方向へ配列して複数設置され、一方、このバッチ処理槽11の上方には、下端部に上記ピストンロッド6(図2)を吊下支持する導体吊具13を備えたハンガー14が各導体ケース12に対向して複数配設されている。バッチ処理槽11の上方にはまた、陰極ブスバ15と陽極ブスバ16とが配設されており、陰極ブスバ15には前記ハンガー14の導体吊具13が、陽極ブスバ16には前記導体ケース12がそれぞれ連結されている。ハンガー14は、図示を略す昇降手段により昇降動作するようになっており、この動きに陰極ブスバ15も追従する。17は、パルス電流と直流電流とを切替可能な整流器であり、この整流器17と前記陰極ブスバ14および陽極ブスバ15との間は配線18、19により接続されている。
Here, as shown in FIGS. 5 and 6, the plating apparatus for performing the plating treatment includes a
上記ハンガー15の下の導体吊具13は、ここでは、その下端部に前記ピストンロッド6のピストン嵌合部2を収納可能な収納穴20を有する構造となっている。ピストンロッド6は、そのピストン嵌合部2を前記収納穴20内に納めた状態で、該収納穴20の周りの壁を通してねじ込んだねじ部材21により、導体吊具16に脱着可能に吊下支持されるようになっている。
Here, the
本めっき装置において、上記バッチ処理槽11の底部には、その底面を一段下げた溝部22が形成されており、この溝部22内には、ピストンロッド6の非摺動部である中間ねじ部3、小径軸部4および先端ねじ部5をマスキングするための円筒状マスキング治具23が直立して配置されている。マスキング治具23は、図6に示すように、前記ピストンロッド6の非摺動部を完全に覆うに足る十分な長さを有しており、図示を略す駆動手段により昇降動作する昇降板24の上に、ハンガー14に吊下されたピストンロッド6と同心をなすように該ピストンロッド6と同じ数だけ配置されている。マスキング治具23は、図5に示すように、常時はピストンロッド6に干渉しない待機位置に位置決めされており、昇降板24の上昇に応じて前記ピストンロッド6の非摺動部に嵌合される。
In the present plating apparatus, a
上記しためっき装置によりめっき処理を行うには、予めハンガー14を上昇端に位置決めし、この状態で、その導体吊具13の収納穴20にピストンロッド6のピストン嵌合部2を差込み、ねじ部材21をねじ込んで各ハンガー14にピストンロッド6を吊下支持させる。次に、図示を略す昇降手段の作動により各ハンガー14を陰極ブスバ15と一体的に下降させ、図5に示すように各ピストンロッド6を対応する導体ケース12内に挿入させる。この時、マスキング治具23は待機位置に位置決めされており、ピストンロッド6は、ピストン嵌合部2を除く全体がめっき浴10中に浸漬され、これにてピストンロッド6のセットは完了する。
In order to perform the plating process by the above-described plating apparatus, the
上記ピストンロッド6のセット完了により、先ず、陰極ブスバ15が正極、陽極ブスバ16が負極となるように整流器17を切替え、所定の直流電流をピストンロッド1と導体ケース12との間に流し、いわゆる電解エッチング(逆電解)を行ってピストンロッド6の表面を洗浄する。次に、陰極ブスバ15が負極、陽極ブスバ16が正極となるように整流器17を切替え、前記図4に示したパルス電流の波形でパルスめっき処理(第1めっき工程)を行う。このパルスめっき処理により、ピストン嵌合部2を除くピストンロッド6の全体に、クラックフリーの第1クロム層S1 (図1)が所定の厚さに形成される。
When the
そして、上記パルスめっき処理が終了したら、一旦、整流器17からの電流供給を遮断し、昇降板24を上昇させて各マスキング治具23により、ピストンロッド6の非摺動部である中間ねじ部3、小径軸部4および先端ねじ部5をマスキングする。その後、整流器17を直流側に切替え、直流電流により汎用めっき処理(第2めっき工程)を行う。すると、ピストンロッド6の摺動部1には、上記クラックフリーの第1クロム層S1 上にクラックを有する第2クロム層S2 (図1)が所定の厚さに積層形成され、これにより、摺動部1のみに2層のめっき構造を有し、非摺動部にクラックフリーの1層のめっき構造を有するピストンロッド6が完成する。
When the pulse plating process is completed, the current supply from the
なお、上記実施形態においては、第2クロム層S2の形成に直流電流を用いたが、クラックを有するクロム層は、図2に示したパルス条件(電流値、時間等)を変えても形成できるので、この第2クロム層S2の形成には、汎用めっき処理に代えてパルスめっき処理を行うようにしてもよい。
また、めっき方法としては、上記図5に示しためっき装置によるバッチ式処理に代えて、同じめっき浴中でピストンロッド(摺動部材)を連続に移動させて行う連続処理を採用してもよいことはもちろんである。
In the above embodiment, a direct current is used to form the second chromium layer S 2. However, the chromium layer having cracks is formed even if the pulse conditions (current value, time, etc.) shown in FIG. 2 are changed. Therefore, the second chromium layer S 2 may be formed by pulse plating instead of general-purpose plating.
In addition, as a plating method, instead of the batch processing by the plating apparatus shown in FIG. 5, a continuous processing in which the piston rod (sliding member) is continuously moved in the same plating bath may be adopted. Of course.
S1 第1クロム層(クラックなし)
S2 第2クロム層(クラックあり)
F クラック
1 摺動部
3 中間ねじ部(非摺動部)
4 小径軸部(非摺動部)
5 先端ねじ部(非摺動部)
6 ピストンロッド(摺動部材)
10 めっき浴
11 バッチ処理槽
12 導体ケース
13 ハンガー
17 整流器
S 1 1st chrome layer (no crack)
S 2nd chrome layer (with cracks)
4 Small-diameter shaft (non-sliding part)
5 Tip screw part (non-sliding part)
6 Piston rod (sliding member)
DESCRIPTION OF
Claims (5)
The sliding member plating method according to claim 4, wherein the first plating step is performed using a pulse current, and the second plating step is performed using a pulsed current or a direct current.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003337728A JP2005105313A (en) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | Plating structure and plating method for sliding member |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2003337728A Pending JP2005105313A (en) | 2003-09-29 | 2003-09-29 | Plating structure and plating method for sliding member |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2005105313A (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20051228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20060104 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20071003 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071130 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080109 |