JP2005089790A - Seamless belt substrate, production method therefor, and seamless belt for heat fixing - Google Patents

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信二 植田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost and simple seamless belt substrate having excellent heat resistance, high durability, and resistance to bending, and in which occurrence of kinks or the like can be prevented despite a thin film, and to provide its production method. <P>SOLUTION: In the seamless belt substrate, the main component in the material of the substrate is a nickel metal comprising ≥5 wt.% cobalt, and its hardness Hv is 450 to 550. The seamless belt substrate is formed so that compressive stress satisfies the electrodeposition stress of 0 to -5 kg/mm<SP>2</SP>. Both the end parts are cut by the peripheries of roller edges confronted each other, and the cutting level difference is ≤0.05 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、画像形成装置で使用される加熱定着用のシームレスベルト基体、該基体の製造方法及びシームレスベルトに関する。   The present invention relates to a seamless belt substrate for heat fixing used in an image forming apparatus, a method for producing the substrate, and a seamless belt.

電子写真方式や静電記録方式の複写機、ファクシミリ、レーザービームプリンタなどの画像形成装置においては、一般に、(1)感光体表面を一様かつ均一に帯電する工程、(2)像露光を行って、感光体表面に静電潜像を形成する工程、(3)静電潜像にトナーを付着させて、トナー像を形成する工程、(4)感光体上のトナー像を転写紙やOHPシートなどの転写材上に転写する工程、(5)転写材上のトナー像を加熱定着する工程を含む一連の工程によって、画像が形成される。トナーとしては、結着樹脂と着色剤とを含有する着色粒子が用いられている。トナー像の定着は、通常、転写材上のトナー像を加熱加圧して、トナーを溶融または軟化させて転写材上に固着させることにより行われている。   In image forming apparatuses such as electrophotographic and electrostatic recording copying machines, facsimiles, and laser beam printers, in general, (1) a process for uniformly and uniformly charging the surface of a photoconductor, and (2) image exposure are performed. A step of forming an electrostatic latent image on the surface of the photoconductor, (3) a step of forming a toner image by attaching toner to the electrostatic latent image, and (4) transferring the toner image on the photoconductor to transfer paper or OHP. An image is formed by a series of steps including a step of transferring onto a transfer material such as a sheet, and (5) a step of heating and fixing the toner image on the transfer material. As the toner, colored particles containing a binder resin and a colorant are used. The fixing of the toner image is usually performed by heating and pressurizing the toner image on the transfer material to melt or soften the toner and fix it on the transfer material.

近年、装置の小型化、省エネルギー化、印字・複写の高速化などの要求に応えるために、従来使用されてきたローラ部材に代えて、無端状ベルト部材(エンドレスベルト)を用いることが行なわれている。従来の定着ローラでは、電源を投入した後、定着ローラ内に内蔵する加熱手段により、その表面を定着温度にまで加熱するのに比較的長時間を必要とするため、複写機などの画像形成装置の使用に待ち時間が生じるという問題があった。これに対して、無端状ベルト部材からなる定着ベルトには、その内面に接触する加熱手段を配置することにより、薄い定着ベルトを介するだけで、転写材上のトナー像をほぼ直接的に加熱して定着させることができるため、電源投入後の待ち時間をなくすことができるという利点がある。また無端状金属ベルト基材を用いた定着ベルトでは、電磁誘導加熱方式を適用することもできる。   In recent years, endless belt members (endless belts) have been used in place of conventionally used roller members in order to meet the demands for downsizing, energy saving, printing and copying speeds, and the like. Yes. In the conventional fixing roller, since it takes a relatively long time to heat the surface to the fixing temperature by the heating means built in the fixing roller after the power is turned on, an image forming apparatus such as a copying machine There was a problem that waiting time occurred in the use of. In contrast, a fixing belt made of an endless belt member is provided with a heating means that comes into contact with the inner surface of the fixing belt, so that the toner image on the transfer material is heated almost directly only through the thin fixing belt. Therefore, there is an advantage that the waiting time after power-on can be eliminated. An electromagnetic induction heating method can also be applied to a fixing belt using an endless metal belt base material.

このような定着ベルトとして、ふっ素樹脂の離型層が形成されたシームレスベルトが加熱定着用に使用されている。このシームレスベルトの基体として電気鋳造製のものが使用されるが、画像形成装置内で160〜180℃の加熱温度で定着プロセスが繰り返されて使用されると亀裂を起こして破断するという欠点を有している。   As such a fixing belt, a seamless belt in which a release layer of a fluororesin is formed is used for heat fixing. The seamless belt base is made of electrocasting, but has the disadvantage that it breaks and breaks when the fixing process is repeated at a heating temperature of 160 to 180 ° C. in the image forming apparatus. doing.

この亀裂、破断の原因としては、電気鋳造液組成中に硫黄が数%含まれ、電析されるニッケル膜中にも硫黄が0.01〜0.04%程度含有されるため、230℃の熱が連続して加わると脆くなり易くなる硫黄脆性を生じることが挙げられる。さらに、シームレスベルト基体上に形成されるふっ素樹脂の離型層を形成する際の焼成条件が340〜360℃の高温下で、保持時間15〜20分であるため硫黄脆性を生じることが挙げられる。   The cause of the cracks and fractures is that the electrocasting liquid composition contains several percent sulfur, and the nickel film to be electrodeposited contains about 0.01 to 0.04% sulfur. It is mentioned that when heat is continuously applied, sulfur embrittlement that easily becomes brittle occurs. Furthermore, since the baking conditions for forming the release layer of the fluororesin formed on the seamless belt substrate are at a high temperature of 340 to 360 ° C. and a holding time of 15 to 20 minutes, sulfur brittleness is caused. .

次に、この繰り返し使用により、亀裂、破断が起こること、及びふっ素樹脂の離型層が形成されたシームレスベルトが加熱定着用に使用されるようになったことについて、図1に基づいて具体的に説明する。
図1は、画像形成装置に組込まれる加熱定着ユニットの構成の一例を示す図面である。
図1に示す加熱定着ユニット1においては、感光体を使用した画像形成装置の画像形成部2でトナー画像が記録紙3に形成され、転写ベルト4上を搬送されてシリコンゴム被覆製の加熱ローラー5とシリコンゴム被覆製の定着ローラー6で張られた定着ベルト7にシリコンゴム被覆製の加圧ローラー8が押圧され、5〜8mm幅に形成されるニップ部9を通過する際、加圧加熱されてトナー画像が定着され、排紙ローラー10で外部トレイに搬送され分配収納される。
Next, it is concretely based on FIG. 1 that cracks and breaks occur due to repeated use, and that a seamless belt on which a release layer of fluororesin is formed is used for heat fixing. Explained.
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a heat fixing unit incorporated in an image forming apparatus.
In the heat fixing unit 1 shown in FIG. 1, a toner image is formed on a recording paper 3 by an image forming unit 2 of an image forming apparatus using a photoconductor, and is conveyed on a transfer belt 4 to be a heating roller made of silicon rubber. 5 and a pressure roller 8 made of silicon rubber coating are pressed against a fixing belt 7 stretched by a fixing roller 6 made of silicon rubber coating, and are heated under pressure when passing through a nip portion 9 having a width of 5 to 8 mm. Then, the toner image is fixed, conveyed to the external tray by the paper discharge roller 10, and distributed and stored.

ここで、記録紙3に未定着トナー画像を定着させるには少なくとも150〜160℃が必要である。更に、ニップ部9を幅5〜8mmにし、記録紙上のトナーを加圧加熱し溶融浸透させることにより、トナー画像の定着が行なわれる。その際、使用される記録紙3の厚みにより熱容量が異なることから、170〜180℃に定着温度が設定される。定着に必要な熱の供給は、加熱ローラー5のハロゲンヒーター12より熱供給され、加熱温度はニップ部9の進入部の温度センサー11で検出される。尚、定着ローラー6と加圧ローラー8にも予熱用にハロゲンヒーターを備えて熱供給し、定着ベルト7の温度の立ち上がり時間を短くして効率良く定着する機種もある。   Here, at least 150 to 160 ° C. is required to fix the unfixed toner image on the recording paper 3. Further, the toner image is fixed by setting the nip portion 9 to a width of 5 to 8 mm and pressurizing and heating the toner on the recording paper to melt and penetrate the toner. At this time, since the heat capacity varies depending on the thickness of the recording paper 3 to be used, the fixing temperature is set to 170 to 180 ° C. The heat necessary for fixing is supplied from the halogen heater 12 of the heating roller 5, and the heating temperature is detected by the temperature sensor 11 at the entrance of the nip portion 9. There is also a model in which the fixing roller 6 and the pressure roller 8 are also provided with a halogen heater for preheating and supplied with heat to shorten the rise time of the temperature of the fixing belt 7 and efficiently fix.

定着ベルト7へのハロゲンヒーター12による熱供給は、加熱ローラー5のアルミ基体13の表面に被覆された0.1〜0.2mmのシリコンゴム層14を通して供給され、シームレスベルト基体15を加熱し、その上層に被覆された0.05〜0.1mmのシリコンゴム層16及び10〜15μmのフッ素樹脂層17を加熱することにより、170〜180℃の定着温度に設定される。   Heat supply by the halogen heater 12 to the fixing belt 7 is supplied through a 0.1 to 0.2 mm silicon rubber layer 14 coated on the surface of the aluminum base 13 of the heating roller 5 to heat the seamless belt base 15, The fixing temperature of 170 to 180 ° C. is set by heating the 0.05 to 0.1 mm silicon rubber layer 16 and the 10 to 15 μm fluororesin layer 17 coated on the upper layer.

しかし、170〜180℃という定着温度は定常時のもので、画像形成装置の立上げ時には200℃以上にもなることがあるので、電気鋳造で形成されたニッケル単体を基体とする定着ベルトでは、耐久性において硫黄脆性を伴うような脆さが発生し易く、亀裂となって破損し易いため加熱定着用には不向きであると考えられていた。ところが、画像形成装置のカラー化に伴いトナーの発色性などから定着加熱温度や加圧力が低減されると共に、ベルト部材を用いてニップ部9の幅を多く取れることから、ニッケルを基体とするシームレスベルトを用いた定着方法が要求されるようになり、ニッケルを主成分とするシームレスベルト基体の改良が試みられてきた。即ち、熱定着用シームレスベルトの基体として、ニッケルを主成分とする電気鋳造製の基体を用いる場合は、ニッケルを合金化して電着し、耐熱性の向上、屈曲に対して耐性のある薄い膜でもキンク等の発生を防止することが試みられてきた。   However, since the fixing temperature of 170 to 180 ° C. is a steady one and may be 200 ° C. or more when the image forming apparatus is started up, in a fixing belt based on a nickel simple substance formed by electroforming, In terms of durability, brittleness accompanied by sulfur brittleness is likely to occur, and cracks tend to break, and it has been considered unsuitable for heat fixing. However, with the colorization of the image forming apparatus, the fixing heating temperature and the applied pressure are reduced due to the color development property of the toner and the width of the nip portion 9 can be increased using a belt member. A fixing method using a belt has been demanded, and an attempt has been made to improve a seamless belt base mainly composed of nickel. That is, when a base made of electrocasting mainly composed of nickel is used as the base of the seamless belt for heat fixing, nickel is alloyed and electrodeposited to improve heat resistance and be a thin film resistant to bending However, attempts have been made to prevent the occurrence of kinks and the like.

これらの問題を解決するための基体として、例えば、特開平09−34286号公報(特許文献1)、特開2001−225134号公報(特許文献2)、特開2002−206188号公報(特許文献3)、特開2002−241984号公報(特許文献4)、特開2002−258648号公報(特許文献5)に開示された電気鋳造製の基体がある。   As a substrate for solving these problems, for example, JP 09-34286 A (Patent Document 1), JP 2001-225134 A (Patent Document 2), JP 2002-206188 A (Patent Document 3). ), Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-241984 (Patent Document 4), and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-258648 (Patent Document 5).

特許文献1には、記録媒体上の未定着トナー画像を圧熱定着するためのニップ部を加圧部材との間に形成して循環周回することが可能な定着ベルトであって、マンガン0.05〜0.6重量%を含むニッケル・マンガン合金からなるマイクロビッカース硬度が450〜650の無端状電鑄シートを基体として形成された電子写真装置用無端定着ベルトが開示されている。特許文献1の無端定着ベルトは、高熱伝導性、高剛性を備え、耐熱性、耐疲労性にも優れた長寿命の金属性電子写真装置用定着ベルト、並びにかかる定着ベルトを利用し、これを組み込んだ定着装置であって耐久性が高いという利点を有する。   Patent Document 1 discloses a fixing belt capable of circulating around a nip portion between a pressure member and a nip portion for pressure-fixing an unfixed toner image on a recording medium. An endless fixing belt for an electrophotographic apparatus is disclosed which is formed by using an endless electric sheet having a micro Vickers hardness of 450 to 650 made of a nickel-manganese alloy containing 0.5 to 0.6% by weight as a base. The endless fixing belt of Patent Document 1 uses a long-life fixing belt for a metal electrophotographic apparatus having high thermal conductivity, high rigidity, excellent heat resistance and fatigue resistance, and such a fixing belt. The fixing device incorporated has the advantage of high durability.

しかし、特許文献1の無端定着ベルトには、電気鋳造方法によりニッケル金属を主体として合金を形成する場合に、標準電極電位(イオン化列を定量化したもの)が、マンガン−1.18V、ニッケル−0.25Vであり、両者の電位差が0.93と大きく、マンガンが電着し易い傾向が強く、このため通常のニッケル電鋳の電流密度4〜5A/dmより大きく電流密度を7A/dmにする必要がある。その結果、形成される電析膜の表面に突起欠陥が発生し成長し易く、また、連続的に生産する電解浴では液組成の管理がし難いという欠点がある。 However, in the endless fixing belt of Patent Document 1, when an alloy is mainly formed of nickel metal by an electroforming method, the standard electrode potential (quantized ionization sequence) is manganese-1.18V, nickel- 0.25V, the potential difference between them is as large as 0.93, and manganese is more likely to be electrodeposited. Therefore, the current density is higher than the current density of 4-5 A / dm 2 of ordinary nickel electroforming, and the current density is 7 A / dm 2. 2 is required. As a result, there is a defect that protrusion defects are generated on the surface of the electrodeposited film to be formed and are easily grown, and that the liquid composition is difficult to manage in an electrolytic bath produced continuously.

特許文献2には、感光体及び定着用金属円筒材質として熱伝導性や耐久性の高い金属材料を用い、更にこの金属材料を回転塑性加工法であるスピニング加工法により、ベルトあるいはスリーブとして使用可能な肉厚0.03乃至0.09mmの金属円筒に加工することが開示されている。特許文献2によれば、電子写真方式のプリンター及び複写機において、より小型化が可能であり、トナーの定着に必要な時間を短縮でき、電力消費が少なく、かつ、スイッチを入れて瞬時に複写がスタートできる感光体及び定着用金属円筒を提供できるという利点がある。   In Patent Document 2, a metal material having high thermal conductivity and durability is used as the material of the photosensitive member and the fixing metal cylinder. Further, this metal material can be used as a belt or a sleeve by a spinning method which is a rotational plastic processing method. It is disclosed to process a metal cylinder having a thickness of 0.03 to 0.09 mm. According to Patent Document 2, it is possible to further reduce the size of electrophotographic printers and copiers, shorten the time required for toner fixing, reduce power consumption, and turn on a switch to instantly copy. There is an advantage that it is possible to provide a photoreceptor and a fixing metal cylinder capable of starting the process.

しかし、特許文献2の定着用金属円筒は、ニッケル電鋳して得る薄膜の加工方法をスピニング加工方法で形成し、ニッケル電鋳薄膜のもつ材料組織の欠点を加工形成方法で替えるので、塑性加工による加工硬化や歪取りのため焼鈍を施さなければならず、加熱定着用シームレスベルトとなる20〜30μmの薄い基体を取り扱う際の僅かな折れ曲がりによるキンク等が発生し易く、取扱いが困難で生産性に欠けるという欠点がある。   However, the fixing metal cylinder of Patent Document 2 is formed by a spinning method as a thin film processing method obtained by nickel electroforming, and the defect of the material structure of the nickel electroformed thin film is changed by the processing method. It must be annealed for work-hardening and distortion removal due to heat treatment, and kinks due to slight bending when handling a thin substrate of 20 to 30 μm, which becomes a seamless belt for heat fixing, are likely to occur, making handling difficult and productivity Has the disadvantage of lacking.

特許文献3は、加熱処理や高温条件下での硬度及び強度の低下が極めて小さく、耐久性が顕著に優れた電鋳ニッケルベルトを提供すること、また、電鋳ニッケルベルトを基材とする耐熱性及び耐久性に優れた被覆ニッケルベルト及びその製造方法を提供するもので、X線回折により測定した(111)面でのピーク強度に対する(200)面でのピーク強度の比で表される結晶配向面の強度比が0.6以上である電鋳ニッケルベルト、並びに電鋳ニッケルベルトを金属ベルト基材とする被覆ニッケルベルトとその製造方法が開示されている。   Patent Document 3 provides an electroformed nickel belt that is extremely low in hardness and strength under heat treatment and high-temperature conditions, and has outstanding durability. A coated nickel belt excellent in durability and durability and a method for producing the same, and a crystal represented by a ratio of the peak intensity on the (200) plane to the peak intensity on the (111) plane measured by X-ray diffraction An electroformed nickel belt having an orientation plane strength ratio of 0.6 or more, a coated nickel belt using the electroformed nickel belt as a metal belt substrate, and a method for producing the same are disclosed.

特許文献3の被覆ニッケルベルトには、耐熱性を有する電鋳ニッケルベルトを形成する際に、X線回折でのピーク強度を解析して(111)面でのピーク強度が大きくなると結晶構造がランダムとなり、(200)面でのピーク強度が大きくなるほど層状配向を示す傾向を利用することから、電鋳ニッケルベルトの耐屈曲性が向上し、耐熱性も良好となり、高度の耐久性を達成できるという利点がある。   In the coated nickel belt of Patent Document 3, when forming an electroformed nickel belt having heat resistance, when the peak intensity in the (111) plane is increased by analyzing the peak intensity in X-ray diffraction, the crystal structure is random. Since the tendency to show layered orientation increases as the peak intensity on the (200) plane increases, the bending resistance of the electroformed nickel belt is improved, heat resistance is improved, and high durability can be achieved. There are advantages.

しかし、特許文献3の被覆ニッケルベルトには、層状配向の電析膜の形成が低電流領域で、膜厚の析出が0.4〜0.6μm/分で行なわれるため、画像形成装置内でニッケルベルトとして通常使用される膜厚30〜35μmを得るためには50分以上の電鋳時間が必要なので、析出膜厚0.8〜1.0μm/分の場合と比べ、高精度で高価格な電鋳金属母型の製作数、設備スペース、設備コスト、ユーティリティ等の増大の増大を招くという欠点がある。   However, in the coated nickel belt of Patent Document 3, the layered electrodeposition film is formed in a low current region and the film thickness is deposited at 0.4 to 0.6 μm / min. Electroforming time of 50 minutes or more is required to obtain a film thickness of 30 to 35 μm, which is normally used as a nickel belt, so it is more accurate and expensive than the case of a deposited film thickness of 0.8 to 1.0 μm / min. There is a drawback in that the number of manufacturing electrocast metal molds, equipment space, equipment costs, utilities, etc. increase.

特許文献4には、周期表の2族、3族、4族及び5族に属する少なくとも一種の金属元素を質量分率で10〜1万ppmの割合で含有させた電鋳ニッケルベルト、さらにマンガンを0.01〜0.50質量%含有させた電鋳ニッケルベルト、さらに硫黄含有量が0.05質量%以下の電鋳ニッケルベルト、さらに結晶転移温度が340℃以上の電鋳ニッケルベルト、さらにX線回折により測定した(111)面でのピーク強度に対する(200)面でのピーク強度の比で表される結晶配向面の強度比が0.6以上の電鋳ニッケルベルト、さらにビカース硬度が300〜480であって、230℃で2日間の熱老化試験後のビカース硬度変化率が絶対値で10%以下である電鋳ニッケルベルトが開示されている。特許文献4の電鋳ニッケルベルトには、加熱処理や高温条件下での硬度及び強度の低下が極めて小さく、耐久性が顕著に優れているという利点がある。   Patent Document 4 discloses an electroformed nickel belt containing at least one metal element belonging to Groups 2, 3, 4, and 5 of the periodic table in a mass fraction of 10 to 10,000 ppm, and further manganese. An electroformed nickel belt containing 0.01 to 0.50% by mass, an electroformed nickel belt having a sulfur content of 0.05% by mass or less, an electroformed nickel belt having a crystal transition temperature of 340 ° C. or higher, and An electroformed nickel belt having an intensity ratio of the crystal orientation plane represented by the ratio of the peak intensity at the (200) plane to the peak intensity at the (111) plane measured by X-ray diffraction is 0.6 or more, and the Vickers hardness is There is disclosed an electroformed nickel belt having a Vickers hardness change rate of 300 to 480 and an absolute value of 10% or less after a heat aging test at 230 ° C. for 2 days. The electroformed nickel belt of Patent Document 4 has the advantage that the decrease in hardness and strength under heat treatment and high temperature conditions is extremely small and the durability is remarkably excellent.

しかし、特許文献4の電鋳ニッケルベルトには、特許文献3の被覆ニッケルベルトと同様に、高精度で高価格な電鋳金属母型の製作数、設備スペース、設備コスト、ユーティリティ等の増大の増大を招くという欠点がある。   However, in the electrocast nickel belt of Patent Document 4, like the coated nickel belt of Patent Document 3, there is an increase in the number of high-accuracy and high-priced electroformed metal masters, equipment space, equipment costs, utilities, etc. There is a disadvantage that it increases.

特許文献5には、離型層とニッケル電鋳の金属層とを有し、ニッケル電鋳が、結晶配向比I(200)/I(111)3以上の(200)面優先成長の結晶配向性を有し、マイクロビッカース硬度280〜450の定着ベルトが開示されている。特許文献5の定着ベルトは高耐久性であり、このベルトを用いると、小熱容量の加熱体を利用した低エネルギー加熱が可能な像加熱装置、高耐久性で信頼性の高い像加熱装置を提供することができる。   Patent Document 5 has a release layer and a nickel electroformed metal layer, and the nickel electroforming has a crystal orientation of (200) plane priority growth with a crystal orientation ratio of I (200) / I (111) 3 or higher. And a fixing belt having a micro Vickers hardness of 280 to 450 is disclosed. The fixing belt of Patent Document 5 has high durability, and when this belt is used, an image heating apparatus capable of low-energy heating using a heating body having a small heat capacity, and a highly durable and reliable image heating apparatus are provided. can do.

しかし、特許文献5の定着ベルトには、特許文献3、4の被覆ニッケルベルトと同様に、高精度で高価格な電鋳金属母型の製作数、設備スペース、設備コスト、ユーティリティ等の増大の増大を招くという欠点がある。   However, in the fixing belt of Patent Document 5, like the coated nickel belts of Patent Documents 3 and 4, there is an increase in the number of high-precision, high-priced electroformed metal masters, equipment space, equipment costs, utilities, etc. There is a disadvantage that it increases.

このように、従来のシームレスベルト基体は、高温下での耐久性が改良された場合であっても、安価且つ簡便に製造するこという点において、未だ充分なものではなかった。従って、高温下での耐久性に優れると共に、安価且つ簡便に製造できるシームレスベルト基体を提供することが期待されている。具体的には、ニッケルを合金化して電着し、耐熱性の向上、屈曲に対して耐性のある薄い膜でもキンク等が発生しないシームレスベルト基体が要求され、更に、電鋳液の組成管理の容易な液を用いて電析膜の離型を容易とすることや、キンク等の発生を防止するために金属母型の外径を使用してシームレスベルト基体を生産することが要求されている。   As described above, even if the conventional seamless belt substrate is improved in durability at high temperatures, it has not yet been sufficient in terms of inexpensive and simple production. Therefore, it is expected to provide a seamless belt substrate that is excellent in durability at high temperatures and that can be manufactured inexpensively and easily. Specifically, nickel is alloyed and electrodeposited to improve heat resistance, and a seamless belt substrate that does not generate kinks or the like even with a thin film resistant to bending is required. It is required to produce a seamless belt substrate using an outer diameter of a metal matrix in order to facilitate the release of an electrodeposited film using an easy liquid and to prevent the occurrence of kinks and the like. .

特開平09−34286号公報JP 09-34286 A 特開2001−225134号公報JP 2001-225134 A 特開2002−206188号公報JP 2002-206188 A 特開2002−241984号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-241984 特開2002−258648号公報JP 2002-258648 A

本発明は、前記従来の問題を解決し、耐熱性に優れ、高耐久性で、屈曲に対して耐性のある薄い膜でもキンク等の発生を防止することができると共に、安価且つ簡便に製造することができるシームレスベルト基体、及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and can prevent the occurrence of kinks and the like even with a thin film having excellent heat resistance, high durability, and resistance to bending, and is manufactured inexpensively and easily. An object of the present invention is to provide a seamless belt substrate that can be manufactured, and a method for manufacturing the same.

本発明によれば、以下に示すシームレスベルト基体、シームレスベルト基体の製造方法、加熱定着用シームレスベルトが提供される。
〔1〕基体材質の主成分がコバルト5重量%以上を含有するニッケル金属であり、硬度Hvが450〜550であり、電着応力が0〜−5kg/mmの圧縮応力となるように形成され、両端部が対向するローラー刃周縁で切断されており、その切断段差が0.05mm以下であることを特徴とするニッケルコバルト合金からなるシームレスベルト基体。
〔2〕膜厚が25〜30μmであることを特徴とする前記〔1〕に記載のシームレスベルト基体。
〔3〕前記〔1〕又は〔2〕に記載のシームレスベルト基体を、スルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法で形成する特徴とするシームレスベルト基体の製造方法。
〔4〕該スルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法において、スルファミン酸ニッケル450〜550g/lの液中にスルファミン酸コバルト10〜15g/lを含む電解液を用いて、4〜5A/dmの電解電流密度で基体を作製することを特徴とする前記〔3〕に記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔5〕該電解液に、析出膜の圧縮応力調整剤としてサッカリン50〜100ppmを添加することを特徴とする前記〔4〕に記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔6〕電解液中へのニッケル及びコバルトイオンの供給に可溶性陽極を用い、該可溶性陽極のニッケル陽極板に電流密度4〜5A/dmの電解電流を連続供給し、該可溶性陽極のコバルト陽極板に電界液中のコバルトイオンの組成比に対応して電解電流を調整供給することを特徴とする前記〔1〕又は〔5〕に記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔7〕該可溶性陽極が、7〜10mmのペレット状活性陽極を用いて形成されるニッケルコバルト合金からなることを特徴とする前記〔6〕に記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔8〕外径表面粗さがRz0.1μm以下、外径真直度10μm以下に鏡面加工された金属母型の外径面を使用してシームレスベルト基体を形成することを特徴とする前記〔3〕〜〔7〕のいずれかに記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔9〕該金属母型に、シームレスベルト幅となる範囲が膜厚3μm以下となるよう両端の電析膜を切り落とす切断部を設けることを特徴とする前記〔8〕に記載のシームレスベルト基体の製造方法。
〔10〕前記〔1〕又は〔2〕に記載のシームレスベルト基体又は前記〔3〕〜〔9〕のいずれかに記載の製造方法により製造されたシームレスベルト基体上に、シリコンゴム及びフッ素ゴムを順じ被覆焼成して形成されたことを特徴とする加熱定着用シームレスベルト。
〔11〕画像形成装置で使用される部材幅となる両端が、対向するローラー刃周縁で切断段差0.05mm以下に切断加工されていることを特徴とする前記〔9〕に記載の加熱定着用シームレスベルト。
According to the present invention, there are provided a seamless belt substrate, a method for producing the seamless belt substrate, and a seamless belt for heat fixing described below.
[1] The base material is nickel metal containing 5% by weight or more of cobalt, the hardness Hv is 450 to 550, and the electrodeposition stress is a compressive stress of 0 to -5 kg / mm 2. A seamless belt substrate made of a nickel-cobalt alloy, characterized in that both end portions are cut at the peripheral edges of the opposing roller blades, and the cutting step is 0.05 mm or less.
[2] The seamless belt substrate according to [1], wherein the film thickness is 25 to 30 μm.
[3] A method for producing a seamless belt substrate, wherein the seamless belt substrate according to [1] or [2] is formed by a nickel sulfamate / cobalt bath electroforming method.
[4] In the sulfamate nickel cobalt bath electroforming method, using an electrolytic solution containing cobalt sulfamate 10 to 15 g / l in the liquid of nickel sulfamate 450~550g / l, of 4~5A / dm 2 The method for producing a seamless belt substrate according to [3], wherein the substrate is produced with an electrolytic current density.
[5] The method for producing a seamless belt substrate according to [4], wherein 50 to 100 ppm of saccharin is added to the electrolytic solution as a compressive stress adjusting agent for the deposited film.
[6] A soluble anode is used to supply nickel and cobalt ions into the electrolytic solution, an electrolytic current having a current density of 4 to 5 A / dm 2 is continuously supplied to the nickel anode plate of the soluble anode, and the cobalt anode of the soluble anode The method for producing a seamless belt substrate according to [1] or [5], wherein an electrolytic current is adjusted and supplied to the plate in accordance with a composition ratio of cobalt ions in the electrolysis solution.
[7] The method for producing a seamless belt substrate according to [6], wherein the soluble anode is made of a nickel-cobalt alloy formed using a 7 to 10 mm pellet-shaped active anode.
[8] The seamless belt base is formed by using an outer diameter surface of a metal matrix that is mirror-finished so that the outer diameter surface roughness is Rz 0.1 μm or less and the outer diameter straightness is 10 μm or less. ] The manufacturing method of the seamless belt base | substrate in any one of [7].
[9] The seamless belt substrate according to [8], wherein the metal matrix is provided with cut portions for cutting off the electrodeposited films at both ends so that the range of the seamless belt width is 3 μm or less. Production method.
[10] Silicon rubber and fluororubber are formed on the seamless belt substrate according to [1] or [2] or the seamless belt substrate manufactured by the manufacturing method according to any of [3] to [9]. A seamless belt for heat fixing, which is formed by sequentially coating and firing.
[11] The heat fixing apparatus according to [9], wherein both ends serving as a member width used in the image forming apparatus are cut into a cutting step of 0.05 mm or less at the peripheral edge of the roller roller facing each other. Seamless belt.

請求項1に係わる発明によれば、画像形成装置の加熱定着用シームレスベルト基体材質の主成分となるニッケル金属中に耐熱性を向上させるコバルト5重量%以上を含有させて、ニッケル単体より硬度をHv450〜550の範囲に硬化させ、電着応力は0〜−5kg/mm範囲の圧縮応力で形成し、基体の両端部を対向するローラー刃周縁で切断して段差を0.05mm以下に形成することで、焼成温度340〜360℃、焼成時間20分の条件下で、機能性皮膜としてフッ素樹脂製の離型層を形成する際の耐熱性が向上し、画像形成装置内での加熱定着時に繰り返される160〜180℃の熱ストレスにも耐熱性が向上し、シームレスベルト基体の硬度Hv450〜550の範囲では、加熱定着装置で形成される定着ニップを所定幅に確保でき、基体の耐久性において発生する端部からの亀裂損傷は基体の両端部を対向するローラー刃周縁で切断して切断段差0.05mm以下とすることで亀裂開始のきっかけ、及び、切断時の加工熱による熱的脆性が低減されて耐久性が確保される。また、電着応力を0〜−5kg/mm範囲の圧縮応力で形成することにより、金属母型の外径を使用して容易に離型生産する事が出来る。
請求項2に係わる発明によれば、膜厚をニッケル単体からなる基体より薄めに形成することにより、硬化させた分の柔軟性を持たせ、膜の表と裏での屈曲負荷を軽減して耐久性を確保できる。
請求項3に係わる発明によれば、シームレスベルト基体をスルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法で形成することにより、3μm以内の均一な膜厚分布のシームレスベルト基体を得る事ができ、加熱定着用に必要な可撓性のある硬度Hv450〜550、ニッケル単体より膜厚を薄めに形成しても取扱い時にキンク等の折れ曲りの発生し難い硬度を持った25〜30μmの膜厚の耐熱性に優れるシームレスベルト基体を得ることができる。
請求項4に係わる発明によれば、電気鋳造液の組成をスルファミン酸ニッケル450〜550g/lの液中にスルファミン酸コバルト10〜15g/lを含む電鋳液で、電解電流密度4〜5A/dmで電析することにより、膜厚析出量が0.8〜1.0μm/分となり、シームレスベルト基体を得るために30分程度の製造時間で処理でき、高精度で高価格な電鋳金属母型の製作数、設備スペース、設備コスト、ユーティリティ等を増大させることなく生産できる。
また、ニッケル金属中にコバルト5重量%以上を含有する電析膜となるので、膜の硬度を上げて薄めに形成することができ、屈曲性が確保できて耐熱性の向上したニッケル・コバルト合金からなるシームレスベルト基体を得ることができる。
請求項5に係わる発明によれば、応力調整剤としてサッカリン50〜100ppmを添加したスルファミン酸ニッケル・コバルト電気鋳造液からニッケル・コバルト合金シームレスベルト基体を形成することにより、電析膜に電着応力0〜−5kg/mm範囲の圧縮応力が容易に働き、膜中への硫黄含有量が少量となる。
また、圧縮応力で膜を形成するため、金属母型の外径表面の使用と、膜厚分布の幅を小さくして製造が可能な電極となる陽極板を金属母型の外周に配置することにより、25〜30μmで、膜厚分布3μm以下の一定の膜厚を得る為の装置構成上のレイアウトが容易となる。また、電析膜を金属母型から圧縮応力を利用して容易に離型する事ができる。
請求項6に係わる発明によれば、ニッケル金属中にコバルト5重量%以上を含有させる為の液組成を、スルファミン酸ニッケルとスルファミン酸コバルトの比が30/1〜40/1の範囲となるように調整して電解することにより、生産と伴に比較的電着し易いコバルト成分の消耗が速いため、電解液中にニッケル陽極板及びコバルト陽極板を配置し、ニッケル陽極板には電析膜の膜厚25〜30μmを得るための主電解電流となる電流密度4〜5A/dmを連続して供給することにより、電析膜厚の形成を確保し、コバルト陽極板には消耗するコバルトイオン補給のため電界液中のコバルトイオンの組成比に対応して電流密度を調整して供給することにより、生産に伴うコバルト成分の補給が安定して供給することができ、液組成が大きく変動することを抑制でき、液の分析管理の回数が軽減され、容易な液組成の管理の下でニッケル・コバルト合金からなるシームレスベルト基体を得ることができる。
請求項7に係わる発明によれば、電析膜の形成及びイオン補給の陽極板に、活性陽極としてφ7〜10mmのペレットを使用することにより、活性陽極表面積を大きく取れ、溶解速度が電析電流に追従して安定となり、また、電気鋳造液中の陽極溶解促進剤として臭化ニッケル等のハロゲン化物添加量を低減でき、シームレスベルト基体を電析形成するための金属母型の表面に腐食による微細な孔食が発生するのを抑制でき、金属母型の長期使用を可能としてニッケル・コバルト合金からなるシームレスベルト基体を得ることができる。
請求項8に係わる発明によれば、電析膜に電着応力0〜−5kg/mm範囲の圧縮応力を持たせ、外径表面粗さがRz0.1μm以下、外径真直度10μm以下に鏡面加工された金属母型の外径面を使用して生産することにより、φ50mm以上の内径を持つ電析膜の離型が容易になり、耐熱性が向上したニッケルコバルト合金からなるシームレスベルト基体の生産が可能となる。
請求項8に係わる発明によれば、金属母型のシームレスベルト基体幅となる両端の膜厚分布3μ以上となる範囲の電析膜を切り落とす切断部を設けることにより、ローラー刃周縁を使用した切断工程でシームレスベルト幅に切断する際に、シームレスベルトの切り始めと、きり終わりの片寄りが少なくなり、使用時の切断段差からのひび割れを抑制できる切断段差を0.05mm以下とすることができる。また、金属母型外径表面と切り落とされて残った電析膜とに圧縮応力に基づく隙間が形成され圧縮空気を吹付けての離型を容易にすることができる。
請求項10に係わる発明によれば、コバルト5重量%以上を含むシームレスベルト基体に、シリコンゴム層を被覆し、その上層にフッ素樹脂層を温度340〜360℃、時間20分で焼成して形成しても繰返し使用時のヒビ割れが生じ難くなり、また、画像形成装置での定着加熱用シームレスベルトとして定着加熱温度を通常160〜180℃、または、使用する記録用紙の厚みによっては180〜200℃に加熱温度で使用されても、ニッケル単体より耐熱性があり、優れた耐久性を示す。
請求項11に係わる発明によれば、コバルト5重量%以上を含むニッケル・コバルト合金からなるシームレスベルト基体を、機能性皮膜形成前、または、シリコンゴム層を被覆後に、その上層にフッ素樹脂層を焼成して形成した定着加熱用シームレスベルトとしてから画像形成装置で使用される部材幅となる両端を対向するローラー刃周縁で切断し、切断段差0.05mm以下とすることにより、繰返し使用時の亀裂の発生を防ぎ、切断加工で発熱が非常に少ないことから熱脆性を生じる温度と成らないため、耐久性における問題が生じ難くなる。
According to the first aspect of the present invention, the nickel metal, which is the main component of the heat-fixing seamless belt substrate material of the image forming apparatus, contains 5% by weight or more of cobalt for improving heat resistance, so that the hardness is higher than that of nickel alone. cured in the range of Hv450~550, electrodeposition stress is formed by the compressive stress of 0~-5kg / mm 2 range, forming a step by cutting with a roller blade periphery facing the opposite ends of the base body to 0.05mm or less This improves the heat resistance when forming a release layer made of a fluororesin as a functional film under conditions of a baking temperature of 340 to 360 ° C. and a baking time of 20 minutes, and heat fixing in the image forming apparatus The heat resistance is improved even when heat stress of 160 to 180 ° C. is repeated, and the fixing nip formed by the heat fixing device has a predetermined width in the range of the hardness Hv 450 to 550 of the seamless belt substrate. Crack damage from the edge that occurs in the durability of the substrate can be ensured by cutting the both ends of the substrate at the peripheral edge of the opposing roller blade to a cutting step of 0.05 mm or less. Thermal brittleness due to the processing heat is reduced, and durability is ensured. Further, by forming the electrodeposition stress with a compressive stress in the range of 0 to −5 kg / mm 2 , mold release can be easily performed using the outer diameter of the metal matrix.
According to the invention according to claim 2, by forming the film thickness thinner than the base made of nickel alone, the flexibility of the cured portion is given, and the bending load on the front and back of the film is reduced. Durability can be secured.
According to the invention of claim 3, by forming the seamless belt substrate by the nickel sulfamate / cobalt bath electrocasting method, a seamless belt substrate having a uniform film thickness distribution of 3 μm or less can be obtained. Flexible hardness Hv450-550 necessary for the heat treatment, and heat resistance of 25-30 μm film thickness with hardness that does not easily cause bending such as kinks during handling even if the film thickness is made thinner than nickel alone An excellent seamless belt substrate can be obtained.
According to the invention of claim 4, the electrocasting liquid composition is an electroforming liquid containing 10 to 15 g / l of cobalt sulfamate in a liquid of nickel sulfamate 450 to 550 g / l, and an electrolysis current density of 4 to 5 A / Electrodeposition at dm 2 results in a film deposition amount of 0.8 to 1.0 μm / min, which can be processed in a manufacturing time of about 30 minutes to obtain a seamless belt substrate, and is highly accurate and expensive electroforming It can be produced without increasing the number of metal molds, equipment space, equipment costs, utilities, etc.
In addition, since it is an electrodeposited film containing 5% by weight or more of cobalt in nickel metal, it can be formed thin by increasing the hardness of the film, and it can be flexibly secured and has improved heat resistance. A seamless belt substrate can be obtained.
According to the invention according to claim 5, by forming a nickel-cobalt alloy seamless belt substrate from a nickel-cobalt sulfamate electroforming solution to which 50 to 100 ppm of saccharin is added as a stress adjusting agent, electrodeposition stress is applied to the electrodeposited film. A compressive stress in the range of 0 to -5 kg / mm 2 works easily, and the sulfur content in the film becomes small.
In addition, in order to form a film with compressive stress, use of the outer surface of the metal matrix and an anode plate that can be manufactured by reducing the width of the film thickness distribution are arranged on the outer periphery of the metal matrix. Therefore, the layout on the apparatus configuration for obtaining a constant film thickness of 25 to 30 μm and a film thickness distribution of 3 μm or less is facilitated. In addition, the electrodeposited film can be easily released from the metal matrix using compressive stress.
According to the invention concerning claim 6, the ratio of nickel sulfamate to cobalt sulfamate is in the range of 30/1 to 40/1 in the liquid composition for containing 5 wt% or more of cobalt in nickel metal. Since the cobalt component, which is relatively easily electrodeposited during production, is consumed quickly by adjusting to electrolysis, a nickel anode plate and a cobalt anode plate are arranged in the electrolytic solution. By continuously supplying a current density of 4 to 5 A / dm 2 which is a main electrolysis current for obtaining a film thickness of 25 to 30 μm, it is possible to ensure the formation of an electrodeposited film thickness and to consume cobalt in the cobalt anode plate. By supplying the current density by adjusting the current density according to the composition ratio of cobalt ions in the electrolysis solution for replenishment of ions, the replenishment of cobalt components accompanying production can be stably supplied, and the liquid composition is large. Can be suppressed to vary, is reduced the number of analytical control of the liquid, it is possible to obtain a seamless belt base made of nickel-cobalt alloy under the control of easy liquid composition.
According to the invention according to claim 7, by using pellets having a diameter of 7 to 10 mm as active anodes for the formation of electrodeposited films and ion replenishment anode plates, the active anode surface area can be increased, and the dissolution rate is reduced by the electrodeposition current. The amount of added halide such as nickel bromide can be reduced as an anodic dissolution accelerator in electroforming liquid, and the surface of the metal matrix for electrodepositing a seamless belt substrate is caused by corrosion. The occurrence of fine pitting corrosion can be suppressed, and the metal matrix can be used for a long time, and a seamless belt substrate made of a nickel-cobalt alloy can be obtained.
According to the invention of claim 8, the electrodeposited film is subjected to compressive stress in the range of electrodeposition stress of 0 to -5 kg / mm 2 so that the outer diameter surface roughness is Rz 0.1 μm or less and the outer diameter straightness is 10 μm or less. Seamless belt base made of nickel-cobalt alloy with improved heat resistance, which makes it easy to release the electrodeposited film with an inner diameter of φ50mm or more by producing it using the outer surface of the mirror-finished metal matrix Can be produced.
According to the invention according to claim 8, the cutting using the roller blade periphery is provided by providing the cutting part for cutting off the electrodeposited film in the range of the film thickness distribution of 3 μm or more at both ends which becomes the width of the seamless belt base of the metal matrix. When cutting to the seamless belt width in the process, the deviation of the start and end of the seamless belt is reduced, and the cutting step that can suppress cracks from the cutting step during use can be made 0.05 mm or less. . Further, a gap based on a compressive stress is formed between the outer surface of the metal matrix and the electrodeposited film that has been cut off, so that release by blowing compressed air can be facilitated.
According to the invention of claim 10, a seamless belt substrate containing 5% by weight or more of cobalt is coated with a silicon rubber layer, and a fluororesin layer is fired at a temperature of 340 to 360 ° C. for 20 minutes. Even when used repeatedly, cracks are less likely to occur, and the fixing heating temperature is usually 160 to 180 ° C. as a seamless belt for fixing and heating in the image forming apparatus, or 180 to 200 depending on the thickness of the recording paper used. Even when used at a heating temperature of ℃, it is more heat resistant than nickel alone and exhibits excellent durability.
According to the invention of claim 11, a seamless belt substrate made of a nickel-cobalt alloy containing 5% by weight or more of cobalt is coated with a fluororesin layer on the upper layer before the functional film is formed or after the silicon rubber layer is coated. Cracks in repeated use by cutting the both ends of the member width used in the image forming apparatus at the periphery of the opposing roller blades to a cutting step of 0.05 mm or less as a seamless belt for fixing and heating formed by firing. Since the generation of heat is prevented and the temperature at which heat embrittlement occurs is not reached because the heat generated by cutting is very small, a problem in durability is less likely to occur.

本発明のシームレスベルト基体においては、基体材質の主成分がコバルト5重量%以上を含有するニッケル金属であり、硬度Hvが450〜550であり、電着応力が0〜−5kg/mmの圧縮応力となるように形成され、両端部が対向するローラー刃周縁で切断されており、その切断段差が0.05mm以下である。本発明のシームレスベルト基体は、基体材質の主成分となるニッケル金属中にコバルト5重量%以上を含有するので耐熱性が向上し、フッ素樹脂製の離型層を形成する際の耐熱性が向上し、画像形成装置内での加熱定着時に繰り返される160〜180℃の熱ストレスにも耐熱性が向上する。また、シームレスベルト基体の硬度Hvが450〜550の範囲内なので、加熱定着装置で形成される定着ニップを所定幅に確保できる。また、基体の両端部が対向するローラー刃周縁で切断して切断段差0.05mm以下に形成されているので、亀裂開始のきっかけとなる端部からの亀裂損傷が発生しにくく、耐久性にすぐれており、切断時の加工熱による熱的脆性が低減されて耐久性が確保される。また、電着応力が0〜−5kg/mm範囲となるような圧縮応力で形成されているので、金属母型の外径を使用して容易に離型生産する事が出来る。 In the seamless belt substrate of the present invention, the main component of the substrate material is nickel metal containing 5 wt% or more of cobalt, the hardness Hv is 450 to 550, and the electrodeposition stress is 0 to −5 kg / mm 2 . It forms so that it may become stress, and it cut | disconnects by the roller blade periphery which both ends oppose, The cutting | disconnection level | step difference is 0.05 mm or less. The seamless belt substrate of the present invention contains 5% by weight or more of cobalt in nickel metal, which is the main component of the substrate material, so that the heat resistance is improved and the heat resistance when forming a release layer made of fluororesin is improved. In addition, the heat resistance is improved even when heat stress of 160 to 180 ° C. is repeated during heat fixing in the image forming apparatus. Further, since the hardness Hv of the seamless belt substrate is in the range of 450 to 550, the fixing nip formed by the heat fixing device can be secured to a predetermined width. In addition, since both ends of the substrate are cut at the peripheral edge of the opposing roller blade to form a cutting step of 0.05 mm or less, crack damage from the end that triggers crack initiation is unlikely to occur, and excellent durability is achieved. Therefore, thermal brittleness due to processing heat at the time of cutting is reduced, and durability is ensured. In addition, since the electrodeposition stress is formed with a compressive stress in the range of 0 to -5 kg / mm 2 , mold release can be easily performed using the outer diameter of the metal matrix.

本発明のシームレスベルト基体の膜厚は25〜30μmが好ましい。このように、膜厚がニッケル単体からなる基体より薄めに形成されていると、硬化させても柔軟性が保たれ、膜の表と裏での屈曲負荷が軽減されて耐久性が確保される。   The film thickness of the seamless belt substrate of the present invention is preferably 25 to 30 μm. In this way, when the film thickness is made thinner than the base made of nickel alone, the flexibility is maintained even if it is cured, the bending load on the front and back of the film is reduced, and durability is ensured. .

本発明のシームレスベルト基体はスルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法で形成することが好ましい。次に、図2に基づいて、スルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法について具体的に説明する。なお図2は、5重量%以上のコバルトを含むニッケル・コバルト製シームレスベルト基体の形成及び、その基体上への機能性皮膜の被覆と画像形成装置に必要な部材幅に切断する製造工程を表したものである。   The seamless belt substrate of the present invention is preferably formed by a nickel sulfamate / cobalt bath electroforming method. Next, the nickel sulfamate / cobalt bath electroforming method will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 shows the production process of forming a nickel-cobalt seamless belt substrate containing 5% by weight or more of cobalt, coating the functional film on the substrate, and cutting the member to a width required for the image forming apparatus. It is a thing.

図2に示すスルファミン酸ニッケル・コバルト電気鋳造工程18では、キャリヤ19に着脱可能に取付された円筒状金属母型20を待機位置21に搬送し、工程Aで円筒状金属母型20の表面を研摩布22で研摩洗浄して電析膜を電着させるために表面を活性化する。
次いで、工程Bで純水とスポンジ23による洗浄と、円筒状金属母型20を搬送時に表面が乾燥しないように、40℃まで電鋳工程前加温を行なう。
次いで、工程Cで、スルファミン酸ニッケル450〜550g/lの液中にスルファミン酸コバルト10〜15g/lと、析出膜の圧縮応力調整剤としてサッカリン50〜100ppmが添加された液温55〜60℃の電解液を用い、電解液のエアー攪拌の効果を高め、また、電解液中の異物から電析膜表面に突起等の発生を防止するためのイオン透過性の隔膜カソードケース24を用い、隔膜カソードケース24の中芯で円筒状金属母型20を6〜10rpmで回転させ、4〜5A/dmの電解電流密度の電流を供給し、約1μm/分の電析時間で25〜30μmの膜厚を作製する。
In the nickel sulfamate / cobalt electroforming step 18 shown in FIG. 2, the cylindrical metal mold 20 detachably attached to the carrier 19 is transported to the standby position 21, and the surface of the cylindrical metal mold 20 is moved in the process A. The surface is activated in order to polish and deposit the electrodeposition film by polishing with a polishing cloth 22.
Next, in step B, cleaning with pure water and sponge 23 and heating before electroforming to 40 ° C. are performed so that the surface of the cylindrical metal mold 20 is not dried when it is conveyed.
Next, in Step C, a liquid temperature of 55 to 60 ° C. in which cobalt sulfamate 10 to 15 g / l and saccharin 50 to 100 ppm as a compressive stress adjusting agent for the deposited film were added in a nickel sulfamate 450 to 550 g / l liquid. An ion-permeable diaphragm cathode case 24 is used to enhance the effect of air stirring of the electrolyte, and to prevent the formation of protrusions on the surface of the electrodeposited film from foreign matter in the electrolyte. The cylindrical metal matrix 20 is rotated at 6 to 10 rpm at the center of the cathode case 24 to supply an electric current having an electrolytic current density of 4 to 5 A / dm 2, and an electrodeposition time of about 1 μm / min is 25 to 30 μm. A film thickness is produced.

こうして得られた膜厚はニッケル単体のものより4〜5μm薄く形成される。繰返しの屈曲性に対して柔軟性を持たせるためである。繰返し行なわれる電鋳による金属イオンの補給は、可溶性陽極の活性ニッケルペレットをアノードバック25に投入し、同じく可溶性陽極の活性コバルトペレットをアノードバック26に投入して、活性ニッケルペレットの投入されたアノードバック25に膜厚形成のため4〜5A/dmの電解電流密度となる電流を円筒状金属母型20との間に供給することにより行なわれる。活性コバルトペレットの投入されたアノードバック26には、電解液の組成比に応じた電流として1/30〜1/40の電解電流を供給することで、スルファミン酸コバルト塩をコバルト金属イオンとして補給する回数を軽減でき、管理が容易となり、電解液のコバルト金属イオンの変動を抑制することができる。 The film thickness thus obtained is 4-5 μm thinner than that of nickel alone. This is to provide flexibility for repeated bendability. The replenishment of metal ions by electroforming is performed by supplying active nickel pellets of a soluble anode into the anode back 25, and similarly supplying active cobalt pellets of a soluble anode into the anode back 26, and an anode into which the active nickel pellets are charged. This is performed by supplying a current to the back metal 25 with an electrolytic current density of 4 to 5 A / dm 2 to form a film thickness between the back metal 25 and the cylindrical metal matrix 20. By supplying an electrolytic current of 1/30 to 1/40 as the current corresponding to the composition ratio of the electrolytic solution to the anode back 26 into which the active cobalt pellets are charged, cobalt sulfamate is replenished as cobalt metal ions. The number of times can be reduced, management becomes easy, and fluctuations in cobalt metal ions in the electrolyte can be suppressed.

次いで、工程Dで円筒状金属母型20と電析膜に付着した電解液を洗浄除去し、工程Eでは円筒状金属母型20の表面に形成された電析膜の純水洗浄と乾燥のため60〜70℃の加温を行ない、引き上げ時にエアーナイフ等で洗浄水を切ってシミの無いよう乾燥させる。
次いで、工程Fで円筒状金属母型20の3μm以上の膜厚分布となった電析膜の両端の外径表面に離型用治具27を取付けてクランプし、円筒状金属母型20の両端部に形成された20〜30mm幅の電析膜の膜厚増大部28を、周囲を絶縁した尖状形状の剥離開始部29から円周方向に手作業により矢印方向に引き剥がして切り落とし、離型用治具27を開放して高圧のエアーを切り離された両端部の円筒状金属母型20と電析膜との間に吹付けて除ゞに剥離し、全体を離型し、受け治具30のクッションスポンジ31上に落下させて取り出す。
Next, in Step D, the electrolytic solution adhering to the cylindrical metal matrix 20 and the electrodeposited film is washed away, and in Step E, the electrodeposited film formed on the surface of the cylindrical metal matrix 20 is washed with pure water and dried. Therefore, heating is performed at 60 to 70 ° C., and the water is dried with an air knife or the like at the time of pulling up so that there is no stain.
Next, a release tool 27 is attached and clamped to the outer diameter surfaces at both ends of the electrodeposited film having a thickness distribution of 3 μm or more of the cylindrical metal mold 20 in the process F, and the cylindrical metal mold 20 is clamped. The film thickness increasing portion 28 of the electrodeposited film having a width of 20 to 30 mm formed on both ends is manually peeled off in the direction of the arrow from the pointed-shaped peeling start portion 29 that is insulated around, and cut off. The mold 27 for release is opened and the high-pressure air is cut off between the cylindrical metal matrix 20 and the electrodeposited film at both ends, and is peeled away to remove the entire mold. It is dropped onto the cushion sponge 31 of the jig 30 and taken out.

上記工程A〜Fを経ることによりシームレスベルト基体を製造すれば、膜厚25〜30μmの基体が形成される。この基体はニッケル単体のものより4〜5μm薄く、繰返しの屈曲性に対して柔軟性を有し、5重量%以上のコバルトを含むニッケル・コバルト合金製のシームレスベルト基体の場合において問題となるキンク等の微小な折れ曲りを発生させることがないを耐久性に優れるものである。本発明によれば、かかる基体を生産性良く製造することができる。   If a seamless belt substrate is manufactured through the steps A to F, a substrate having a film thickness of 25 to 30 μm is formed. This base is 4-5 μm thinner than a single nickel, flexible against repeated bendability, and a kink that poses a problem in the case of a nickel-cobalt alloy seamless belt base containing 5% by weight or more of cobalt. It is excellent in durability without generating such a minute bend. According to the present invention, such a substrate can be manufactured with high productivity.

次いで、受け治具30に落下させて取り出された電析膜32は、画像形成装置のシームレスベルト基体として、感光体としての感光層の塗布、加熱定着用シームレスベルトとしてシリコンゴム層及びシリコンゴム層形成後ふっ素樹脂層等の機能性皮膜を被覆され、画像形成装置に必要な幅に切断工程33で切断される。また、機能性皮膜に押出し成形のチューブを用いて被覆形成する場合は切断工程33に先に送られ、所定の画像形成部材幅とし、切断段差0.05mm以下としてから機能性皮膜が被覆形成される。   Next, the electrodeposited film 32 dropped on the receiving jig 30 and taken out is used as a seamless belt substrate of the image forming apparatus, as a photosensitive layer as a photosensitive member, and as a seamless belt for heat fixing, a silicon rubber layer and a silicon rubber layer. After the formation, a functional film such as a fluororesin layer is coated and cut in a cutting step 33 to a width necessary for the image forming apparatus. In addition, when the functional coating is formed by using an extruded tube, the functional coating is formed after being sent to the cutting step 33 first to obtain a predetermined image forming member width and a cutting step of 0.05 mm or less. The

切断工程33では、上下に対向する超硬性の金属ローラーを用い、機能性皮膜の形成されたシームレスベルト34を、下ローラー35に挿入して乗せ、待機していた上ローラー36を下ローラー35上に移動させて、対向するローラー刃周縁でシームレスベルト34の両端を回転させながら全周を切断する。切り終わり部37は加熱定着用シームレスベルト及びその基体では段差を0.05mm以下にして形成し、裏側に寄り止めガイド等を必要に応じ形成される。   In the cutting step 33, a super hard metal roller facing up and down is used, and the seamless belt 34 with the functional film formed is inserted into the lower roller 35 and placed, and the upper roller 36 that has been waiting is placed on the lower roller 35. And the entire circumference is cut while rotating both ends of the seamless belt 34 at the opposite roller blade periphery. The cut end portion 37 is formed with a step difference of 0.05 mm or less in the heat fixing seamless belt and its base, and a detent guide or the like is formed on the back side as necessary.

この切り終わり部37に0.1mm以上の段差を生じたままの加熱定着用のふっ素樹脂被覆シームレスベルトとして画像形成装置で使用すると、繰り返しの屈曲負荷により、段差部が亀裂の起点となって疲労破断し易くなり耐久性を低下させるものとなる。   When used in an image forming apparatus as a fluororesin-coated seamless belt for heating and fixing with a level difference of 0.1 mm or more at the cut end 37, the level difference becomes fatigued as a starting point of cracking due to repeated bending loads. It becomes easy to break and lowers durability.

この切断工程を経た加熱定着用シームレスベルトは、切断時に両切断面が特に硫黄脆性等の脆さを発現する高温とは成らないため、耐久性を低下させることがなく作製される。   The heat-fixing seamless belt that has undergone this cutting step is produced without lowering the durability because both cut surfaces do not have a high temperature that expresses brittleness such as sulfur embrittlement at the time of cutting.

尚、画像形成装置における記録紙の耐刷性は通常4〜5万枚の範囲になっているため、シームレスベルト基体としては1〜2倍の寿命が必要である。構造上破損しても安全であれば機能性被膜寿命と同等の寿命であってもかまわないが、金属膜を使用したシームレスベルトでは、破損すると破断面が鋭く、思わぬ障害を起こすのでシームレスベルト基体の耐久性を上げておく必要がある。   Since the printing durability of the recording paper in the image forming apparatus is usually in the range of 40 to 50,000 sheets, the life of the seamless belt substrate is required to be 1 to 2 times. If it is safe even if it is structurally damaged, the life may be the same as the functional film life. However, with a seamless belt using a metal film, if it breaks, the fracture surface becomes sharp, causing unexpected damage, so the seamless belt It is necessary to increase the durability of the substrate.

実施例1、2
前述した方法により、ニッケルとコバルトを含むスルファミン酸電鋳液から形成された膜厚25〜30μm、硬度HV450〜550で、電着応力0〜−5kg/mmの範囲の圧縮応力を持つコバルト5重量%以上を含むニッケル・コバルトシームレスベルト基体を作製した。次いで、前述した方法により、該基体上に、シリコンゴム0.05〜0.1mmを被覆し、その上に材質がPFAふっ素樹脂より低温焼成可能なFEPふっ素樹脂10〜15μmを温度340、360℃各20分で焼成被覆し、両端部を画像形成装置に必要な幅300mmに切断工程33の上下対向ローラー刃周縁で切断し、両端部の切断段差が0.05mm以下の加熱定着用シームレスベルトを2種類、実施例1、実施例2として作製した。
Examples 1 and 2
Cobalt 5 having a film thickness of 25 to 30 μm, hardness HV 450 to 550, and a compressive stress in the range of 0 to −5 kg / mm 2 , formed from a sulfamic acid electroforming solution containing nickel and cobalt by the above-described method. A nickel-cobalt seamless belt substrate containing at least wt% was prepared. Next, by the above-described method, 0.05 to 0.1 mm of silicon rubber is coated on the substrate, and FEP fluorine resin 10 to 15 μm, which can be fired at a lower temperature than PFA fluorine resin, is formed thereon at a temperature of 340 and 360 ° C. A heat-fixing seamless belt having a width of 300 mm necessary for the image forming apparatus and cut at both edges of the upper and lower opposing roller blades in the cutting step 33 and having a cutting step at both ends of 0.05 mm or less. Two types were prepared as Example 1 and Example 2.

得られたシームレスベルトを、図3に示す画像形成装置と同じニップ幅を形成したレイアウトの耐久テスト機38に組み込み、外径25mmのシリコンゴム被覆の定着ローラー39、外径25mmのシリコンゴム被覆の加熱ローラー40、外径30mmのシリコンゴム被覆の定着加圧ローラー41により加圧力10〜15kgfを与え、600Wハロゲンヒーター42により加熱定着用シームレスベルト43の基体温度をサーミスタ44により検出調整し、160〜180℃の温度に加熱し、定着加圧ローラー41の表面温度を400Wハロゲンヒーター45によりサーミスタ46を用いて検出調整し100〜120℃に加熱し、加熱定着用シームレスベルト43を線速100mm/秒で、A4耐刷枚数5万枚相当を回転駆動させた。   The obtained seamless belt is incorporated into an endurance tester 38 having a layout in which the same nip width as that of the image forming apparatus shown in FIG. 3 is formed, and a fixing roller 39 coated with a silicone rubber having an outer diameter of 25 mm and a silicone rubber coated having an outer diameter of 25 mm. A heating roller 40 and a silicon rubber-coated fixing pressure roller 41 having an outer diameter of 30 mm are applied with a pressure of 10 to 15 kgf, and a 600 W halogen heater 42 is used to detect and adjust the substrate temperature of the heating and fixing seamless belt 43 with a thermistor 44. The surface temperature of the fixing pressure roller 41 is detected and adjusted using a thermistor 46 with a 400 W halogen heater 45 and heated to 100 to 120 ° C., and the heating and fixing seamless belt 43 is set to a linear speed of 100 mm / second. Then, the A4 printing durability equivalent to 50,000 sheets was driven to rotate.

5万枚相当の耐刷枚数で、2種類のシームレスベルトとも、亀裂のきっかけとなる基体の両端部の段差からは図4(a)に示すような亀裂の発生はなく、5万枚相当の耐刷数でも画像形成幅内の離型層に亀裂は発生せず、加熱定着用ふっ素樹脂被覆シームレスベルトとしての基体の機能としてA4耐刷枚数5万枚相当以上を満足するものであった。   With the number of printing durability equivalent to 50,000 sheets, the two types of seamless belts do not generate cracks as shown in FIG. No cracks occurred in the release layer within the image forming width even with the number of printings, and the function of the substrate as a fluororesin-coated seamless belt for heat fixing satisfied an A4 printing number equivalent to 50,000 sheets or more.

比較例1、2
コバルトを含まないスルファミン酸ニッケル電鋳液を用いたこと以外は、実施例と同様に、膜厚30〜35μm、硬度HV450〜500で、電着応力0〜−5kg/mmの範囲の圧縮応力を持つコバルトを含むシームレスベルト基体を作製した。次いで、該基体上に、シリコンゴム0.05〜0.1mmを被覆し、その上に材質がPFAより低温焼成可能なFEPふっ素樹脂10〜15μmを焼成温度340、360℃各20分で焼成被覆し、両端部を画像形成装置に必要な幅300mmに切断工程33の上下対向ローラー刃周縁で切断し、両端部の切断段差を0.05mm以下とした加熱定着用シームレスベルトを2種類、比較例1、比較例2として作製した。
Comparative Examples 1 and 2
Except that a nickel sulfamate electroforming solution containing no cobalt was used, as in the examples, the film thickness was 30 to 35 μm, the hardness was HV 450 to 500, and the compressive stress was in the range of electrodeposition stress 0 to −5 kg / mm 2. A seamless belt substrate containing cobalt having the following structure was prepared. Next, 0.05 to 0.1 mm of silicon rubber is coated on the substrate, and 10 to 15 μm of FEP fluororesin, which can be fired at a lower temperature than PFA, is fired and coated at a firing temperature of 340 and 360 ° C. for 20 minutes. Then, two types of seamless belts for heat-fixing, in which both end portions are cut to the width of 300 mm necessary for the image forming apparatus at the periphery of the upper and lower opposing roller blades in the cutting step 33, and the cutting step at both end portions is 0.05 mm or less, comparative example 1 and produced as Comparative Example 2.

得られたシームレスベルトを、実施例と同様に、図3に示す画像形成装置と同じニップ幅を形成したレイアウトの耐久テスト機38に組み込み、外径25mmのシリコンゴム被覆の定着ローラー39、外径25mmのシリコンゴム被覆の加熱ローラー40、外径30mmのシリコンゴム被覆の定着加圧ローラー41により加圧力10〜15kgfを与え、600Wハロゲンヒーター42により加熱定着用シームレスベルト43の基体温度をサーミスタ44により検出調整し、160〜180℃の温度に加熱し、定着加圧ローラー41の表面温度を400Wハロゲンヒーター45によりサーミスタ46を用いて検出調整し100〜120℃に加熱し、加熱定着用シームレスベルト43を線速100mm/秒で、A4耐刷枚数5万枚相当を回転駆動させた。   The obtained seamless belt was incorporated into a durability test machine 38 having a layout having the same nip width as that of the image forming apparatus shown in FIG. A pressing force of 10 to 15 kgf is applied by a heating roller 40 of 25 mm silicon rubber coating and a fixing pressure roller 41 of silicon rubber coating of an outer diameter of 30 mm, and the substrate temperature of the seamless belt 43 for heating and fixing is controlled by a thermistor 44 by a 600 W halogen heater 42. Detection and adjustment, heating to a temperature of 160 to 180 ° C., detection and adjustment of the surface temperature of the fixing pressure roller 41 using a thermistor 46 by a 400 W halogen heater 45, heating to a temperature of 100 to 120 ° C. Rotating at a linear speed of 100 mm / sec. It was.

2種類のシームレスベルトとも基体の両端部の段差からは、図4(a)に示すような亀裂の発生はないが、3〜4万枚相当の耐刷数で、基体の側面部に図4(b)に示すような亀裂状のスジが2種類とも発生し始め、4.5万枚相当の耐刷数でスジが拡大し、スジ部内が切断された状態となった。
亀裂のきっかけとなり易い基体両端部の段差が0.05mm以下に加工処理がなされていても、加熱定着用ふっ素樹脂被覆シームレスベルトとして加工形成されると、ニッケル単独の電鋳製基体では、A4耐刷枚数5万枚相当以上は満足出来することができないと判断される。
In both types of seamless belts, cracks as shown in FIG. 4 (a) do not occur from the steps at both ends of the substrate, but the number of printings corresponding to 30,000 to 40,000 is shown in FIG. Both types of crack-like streaks as shown in (b) began to occur, the streaks expanded at a printing durability equivalent to 45,000 sheets, and the inside of the streaks was cut.
Even if the step at both ends of the substrate, which is likely to cause cracking, is processed to a thickness of 0.05 mm or less, if it is processed and formed as a fluororesin-coated seamless belt for heat fixing, the electroformed substrate made of nickel alone has an A4 resistance. It is judged that more than 50,000 copies cannot be satisfied.

実施例と比較例の差異をまとめて表1に示す。   Table 1 summarizes the differences between the examples and comparative examples.

Figure 2005089790
<実施例の電気鋳造液組成>
スルファミン酸ニッケル:450〜550g/l
スルファミン酸コバルト:10〜15g/l
液温:55〜60℃
pH:3〜4(ホウ酸40g/l添加)
圧縮応力調整剤:サッカリン(スルフォベンズイミドナトリウム)50〜100ppm
臭化ニッケル:1〜2g/l
界面活性剤:0.1g/l(アルキルベンゼンスルフォン酸塩)
<比較例の電気鋳造液組成>
スルファミン酸ニッケル:450〜550g/l
液温:55〜60℃
pH:3〜4(ホウ酸40g/l添加)
圧縮応力調整剤:サッカリン(スルフォベンズイミドナトリウム)50〜100ppm
ナフタレントリスルフォン酸ナトリウム:1200〜1500ppm
臭化ニッケル:1〜2g/l
界面活性剤:0.1g/l(アルキルベンゼンスルフォン酸塩)
Figure 2005089790
<Electrocasting liquid composition of the example>
Nickel sulfamate: 450-550 g / l
Cobalt sulfamate: 10-15 g / l
Liquid temperature: 55-60 degreeC
pH: 3-4 (40 g / l of boric acid added)
Compressive stress modifier: Saccharin (sulfobenzimide sodium) 50-100 ppm
Nickel bromide: 1-2 g / l
Surfactant: 0.1 g / l (alkylbenzene sulfonate)
<Composite electroforming solution composition>
Nickel sulfamate: 450-550 g / l
Liquid temperature: 55-60 degreeC
pH: 3-4 (40 g / l of boric acid added)
Compressive stress modifier: Saccharin (sulfobenzimide sodium) 50-100 ppm
Naphthalene sodium lisulfonate: 1200-1500ppm
Nickel bromide: 1-2 g / l
Surfactant: 0.1 g / l (alkylbenzene sulfonate)

画像形成装置に組込まれる加熱定着ユニットの構成の一例を示す図面である。2 is a diagram illustrating an example of a configuration of a heat fixing unit incorporated in an image forming apparatus. 5重量%以上のコバルトを含むニッケル・コバルト製シームレスベルト基体の形成及び、その基体上への機能性皮膜の被覆と画像形成装置に必要な部材幅に切断する製造工程の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing process cut | disconnected to the formation of the nickel-cobalt seamless belt base | substrate containing 5 weight% or more of cobalt, the coating of the functional film on the base | substrate, and a member width required for an image forming apparatus. 耐久テスト機の説明図である。It is explanatory drawing of an endurance test machine. (a)基体の両端部の段差に発生した亀裂の説明図である。(b)基体の側面部に発生した亀裂の説明図である。(A) It is explanatory drawing of the crack which generate | occur | produced in the level | step difference of the both ends of a base | substrate. (B) It is explanatory drawing of the crack which generate | occur | produced in the side part of the base | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1 加熱定着ユニット 21 待機位置
2 画像形成部 22 研摩布
3 記録紙 23 スポンジ
4 転写ベルト 24 隔膜カソードケース
5 加熱ローラー 25 活性ニッケルペレット入りアノードバッグ
6 定着ローラー 26 活性コバルトペレット入りアノードバッグ
7 定着ベルト 27 離型用治具
8 加圧ローラー 28 膜厚増大部
9 ニップ部 29 剥離開始部
10 排紙ローラー 30 受け治具
11 温度センサー 31 クッションスポンジ
12 ハロゲンヒーター 32 電析膜
13 アルミ基体 33 切断工程
14 シリコンゴム層 34 シームレスベルト
15 シームレスベルト基体 35 下ローラー
16 シリコンゴム層(16) 36 上ローラー
17 フッ素樹脂層 37 切り終わり部
18 電気鋳造工程 38 耐久テスト機
19 キャリヤ 39 シリコンゴム被覆定着ローラー
20 円筒状金属母型 40 シリコンゴム被覆加熱ローラー
41 シリコンゴム被覆定着加圧ローラー
42 600Wハロゲンヒーター
43 加熱定着用シームレスベルト
44 サーミスタ
45 400Wハロゲンヒーター
46 サーミスタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heat fixing unit 21 Standby position 2 Image formation part 22 Abrasive cloth 3 Recording paper 23 Sponge 4 Transfer belt 24 Diaphragm cathode case 5 Heating roller 25 Anode bag containing active nickel pellet 6 Fixing roller 26 Anode bag containing active cobalt pellet 7 Fixing belt 27 Mold release tool 8 Pressure roller 28 Thickness increasing part 9 Nip part 29 Peeling start part 10 Paper discharge roller 30 Receiving jig 11 Temperature sensor 31 Cushion sponge 12 Halogen heater 32 Electrodeposition film 13 Aluminum substrate 33 Cutting process 14 Silicon Rubber layer 34 Seamless belt 15 Seamless belt base 35 Lower roller 16 Silicon rubber layer (16) 36 Upper roller 17 Fluoropolymer layer 37 Cutting end 18 Electroforming process 38 Durability tester 19 Carrier 39 Kongomu coated fixing roller 20 cylindrical metal matrix 40 silicone rubber-coated heating roller 41 silicone rubber covered fixing pressure roller 42 600W halogen heater 43 heat-fixing seamless belt 44 thermistor 45 400W halogen heater 46 Thermistor

Claims (11)

基体材質の主成分がコバルト5重量%以上を含有するニッケル金属であり、硬度Hvが450〜550であり、電着応力が0〜−5kg/mmの圧縮応力となるように形成され、両端部が対向するローラー刃周縁で切断されており、その切断段差が0.05mm以下であることを特徴とするニッケルコバルト合金からなるシームレスベルト基体。 The main component of the base material is nickel metal containing 5% by weight or more of cobalt, the hardness Hv is 450 to 550, and the electrodeposition stress is formed to be a compressive stress of 0 to -5 kg / mm 2. A seamless belt substrate made of a nickel-cobalt alloy, wherein the portions are cut at the peripheral edges of the opposing roller blades, and the cutting step is 0.05 mm or less. 膜厚が25〜30μmであることを特徴とする請求項1に記載のシームレスベルト基体。   The seamless belt substrate according to claim 1, wherein the film thickness is 25 to 30 μm. 請求項1又は2に記載のシームレスベルト基体を、スルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法で形成する特徴とするシームレスベルト基体の製造方法。   A method for producing a seamless belt substrate, comprising forming the seamless belt substrate according to claim 1 or 2 by a nickel sulfamate / cobalt bath electroforming method. 該スルファミン酸ニッケル・コバルト浴電気鋳造法において、スルファミン酸ニッケル450〜550g/lの液中にスルファミン酸コバルト10〜15g/lを含む電解液を用いて、4〜5A/dmの電解電流密度で基体を作製することを特徴とする請求項3に記載のシームレスベルト基体の製造方法。 In the nickel sulfamate / cobalt bath electrocasting method, an electrolytic current density of 4 to 5 A / dm 2 is obtained using an electrolytic solution containing 10 to 15 g / l of cobalt sulfamate in a liquid of 450 to 550 g / l of nickel sulfamate. The method for producing a seamless belt substrate according to claim 3, wherein the substrate is produced by a step. 該電解液に、析出膜の圧縮応力調整剤としてサッカリン50〜100ppmを添加することを特徴とする請求項4に記載のシームレスベルト基体の製造方法。   The method for producing a seamless belt substrate according to claim 4, wherein 50 to 100 ppm of saccharin is added to the electrolytic solution as a compressive stress adjusting agent for the deposited film. 電解液中へのニッケル及びコバルトイオンの供給に可溶性陽極を用い、該可溶性陽極のニッケル陽極板に電流密度4〜5A/dmの電解電流を連続供給し、該可溶性陽極のコバルト陽極板に電界液中のコバルトイオンの組成比に対応して電解電流を調整供給することを特徴とする請求項4又は5に記載のシームレスベルト基体の製造方法。 A soluble anode is used to supply nickel and cobalt ions into the electrolyte, an electrolytic current having a current density of 4 to 5 A / dm 2 is continuously supplied to the nickel anode plate of the soluble anode, and an electric field is applied to the cobalt anode plate of the soluble anode. 6. The process for producing a seamless belt substrate according to claim 4, wherein the electrolytic current is adjusted and supplied in accordance with the composition ratio of cobalt ions in the liquid. 該可溶性陽極が、7〜10mmのペレット状活性陽極を用いて形成されるニッケルコバルト合金からなることを特徴とする請求項6に記載のシームレスベルト基体の製造方法。   The method for producing a seamless belt substrate according to claim 6, wherein the soluble anode is made of a nickel-cobalt alloy formed using a 7 to 10 mm pellet-shaped active anode. 外径表面粗さがRz0.1μm以下、外径真直度10μm以下に鏡面加工された金属母型の外径面を使用してシームレスベルト基体を形成することを特徴とする請求項3〜7のいずれかに記載のシームレスベルト基体の製造方法。   8. The seamless belt base is formed by using an outer diameter surface of a metal matrix that is mirror-finished with an outer diameter surface roughness of Rz 0.1 μm or less and an outer diameter straightness of 10 μm or less. The method for producing a seamless belt substrate according to any one of the above. 該金属母型に、シームレスベルト幅となる範囲が膜厚3μm以下となるよう両端の電析膜を切り落とす切断部を設けることを特徴とする請求項8に記載のシームレスベルト基体の製造方法。   9. The method for producing a seamless belt substrate according to claim 8, wherein the metal matrix is provided with cut portions for cutting off the electrodeposited films at both ends so that the range of the seamless belt width is 3 μm or less. 請求項1又は2に記載のシームレスベルト基体又は請求項3〜9のいずれかに記載の製造方法により製造されたシームレスベルト基体上に、シリコンゴム及びフッ素ゴムを順じ被覆焼成して形成されたことを特徴とする加熱定着用シームレスベルト。   It was formed by coating and firing silicon rubber and fluororubber in order on the seamless belt substrate according to claim 1 or 2 or the seamless belt substrate produced by the production method according to any one of claims 3 to 9. A seamless belt for heat fixing characterized by the above. 画像形成装置で使用される部材幅となる両端が、対向するローラー刃周縁で切断段差0.05mm以下に切断加工されていることを特徴とする請求項9に記載の加熱定着用シームレスベルト。   10. The seamless belt for heat fixing according to claim 9, wherein both ends of a member width used in the image forming apparatus are cut into a cutting step of 0.05 mm or less at the periphery of the opposing roller blades.
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