JP2005073210A - 高周波電力増幅回路 - Google Patents

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富男 古屋
Takashi Soga
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Abstract

【課題】 最終段の増幅用素子としてInGaP−HBTを用いた高周波電力増幅回路において、高出力時に負荷が急に軽くなってコレクタ電圧が上昇しても素子が破壊に至るのを回避できるようにする。
【解決手段】 高周波電力増幅回路の最終段の増幅用トランジスタ(Q3)としてInGaP−HBTを用い、そのバイアス電圧が出力電力検出信号と出力レベル指定信号との誤差電圧に応じた制御電圧(Vapc)を生成する回路(260)からの電圧に基づいて制御されるようにした高周波電力増幅回路(RFパワーモジュール)において、上記増幅用トランジスタに印加される電源電圧を検出して電源電圧がある電圧よりも高い場合や制御電圧(Vapc)がある電圧よりも高い場合に、最終段の増幅用トランジスタのバイアス電圧が高くなりすぎないように抑える制御電圧抑制回路(100)を設けるようにした。
【選択図】 図1

Description

本発明は、携帯電話機等の無線通信装置を構成する高周波電力増幅回路における負荷変動による増幅用トランジスタの破壊防止に適用して有効な技術に関し、例えば最終段の増幅用素子としてInGaP−HBT(ヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ)を用いた高周波電力増幅回路に利用して有効な技術に関する。
携帯電話機等の無線通信装置(移動体通信装置)の送信側出力部には、MOSFET(電界効果トランジスタ)やGaAs−MESFET、InGaP−HBT等の半導体増幅素子を用いた高周波電力増幅回路(一般には多段構成にされる)が組み込まれている。
この種の高周波電力増幅回路は、一般に、増幅用トランジスタとそのバイアス回路などを含んだ半導体チップが、表面や内部にプリント配線が施されたセラミック基板のような絶縁基板に他の半導体チップや容量などのディスクリート部品とともに実装されて、上記プリント配線やボンディングワイヤで各部品が所定の役割を果たすように結合されることであたかも一つの電子部品として扱えるように構成されることが多い。この電子部品は一般にRFパワーモジュールと呼ばれる。
ところで、携帯電話機では基地局からのパワーレベル指示情報によって基地局から遠い時は出力電力(送信パワー)を高め基地局に近い時は出力電力を低くするように周囲環境に合わせた出力電力制御を行ない、他の携帯電話機との間で混信を生じさせないようにシステムが構成される。
従来、GSM(Global System for Mobile Communication)方式の携帯電話機における送信側出力段のRFパワーモジュールには、出力のDCレベルをカップラ等により検出し、出力レベル指定信号(Vramp)と比較して各段の増幅用トランジスタの入力バイアス電圧を生成するバイアス回路にフィードバックをかけて通話に必要な出力電力となるように制御するAPC(Automatic Power Control)回路が設けられているものがある(例えば特許文献1参照)。
特開2000−151310号公報
本発明者等は、RFパワーモジュールの小型化を図るために最終段の増幅用素子として小型で高出力のInGaP−HBT(ヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ)を使用することを検討した。しかしながら、上記InGaP−HBTは、高出力時に負荷が急に軽くなるとそのコレクタ電圧が上昇して電源電圧よりも高くなりコレクタ−基板間やコレクタ−ベース間のPN接合が破壊されるおそれがあるという課題があることが分かった。負荷が急に軽くなるとコレクタ電圧が上昇するのは、HBTのコレクタ端子がインピーダンス整合のためのインダクタを介して電源電圧端子に接続されているためである。
現在の携帯電話機の多くはリチウムイオン電池などの充電式の二次電池を電源として使用しているが、リチウムイオン電池は、充電直後は4.7Vのような比較的高い電圧値であるがその後徐々にレベルが下がり、必要最小限のパワーが得られるレベルまで消耗した場合には2.9Vのようなかなり低い電圧値まで下がってしまう。
携帯電話機では、一般に再充電が必要になる直前の2.9Vのような電圧においても充分なパワーが得られるように増幅用トランジスタのベース端子やゲート端子のバイアス電圧が制御される。そのため、特に充電直後は電池からRFパワーモジュールへ印加される電源電圧が高いので、高出力時に負荷が急に軽くなるとそのコレクタ電圧の上昇も大きくなり一層コレクタ−基板間やコレクタ−ベース間のPN接合が破壊され易くなる。
本発明の目的は、少なくとも最終段の増幅用素子としてInGaP−HBTを用いた高周波電力増幅回路において、高出力時に負荷が急に軽くなってコレクタ電圧が上昇しても素子が破壊に至るのを回避できるようにすることにある。
本発明の他の目的は、小型で信頼性の高い高周波電力増幅回路および無線通信システムを提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、高周波電力増幅回路の最終段の増幅用トランジスタとしてInGaP−HBTを用い、そのバイアス電圧が出力電力検出信号と出力レベル指定信号との誤差電圧に応じた制御電圧(Vapc)を生成する回路からの電圧に基づいて制御されるようにした高周波電力増幅回路(RFパワーモジュール)において、上記増幅用トランジスタに印加される電源電圧を検出して電源電圧がある所定の電圧よりも高い場合には、最終段の増幅用トランジスタのバイアス電圧が高くなりすぎないように抑える制御電圧抑制回路を設けるようにしたものである。また、望ましくは、制御電圧自身が所定の電圧よりも高い場合には電圧を制限するリミッタ機能を制御電圧抑制回路を設ける。
上記した手段によれば、電源電圧がある所定の電圧よりも高くなると、最終段の増幅用トランジスタの制御端子(ベース端子)に印加されるバイアス電圧が減圧されるため、高出力時の出力電力が抑えられ負荷が急に軽くなっても最終段の増幅用トランジスタのコレクタ電圧が極端に上昇するのが防止される。また、制御電圧がある程度高くなるとリミッタ機能が働いて電圧が制限される。そのため、最終段の増幅用トランジスタが破壊に至るのを回避できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
すなわち、本発明に従うと、最終段の増幅用素子としてInGaP−HBTのような化合物半導体トランジスタを用いた高周波電力増幅回路において、高出力時に負荷が急に軽くなってコレクタ電圧もしくはドレイン電圧が上昇しても素子が破壊に至るのを回避することができる。これにより、小型で信頼性の高い高周波電力増幅回路(RFパワーモジュール)および無線通信システムを実現することができるという効果がある。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図1は、本発明に係る高周波電力増幅回路に用いられる制御電圧抑制回路の一実施例を示す。本実施例の制御電圧抑制回路は、出力電力のレベルをカップラ等により検出し、出力レベル指定信号(Vramp)と比較して高周波電力増幅回路のバイアス回路にフィードバックをかけて通話に必要な出力電力となるように制御するAPC回路から出力される制御電圧Vapcのレベルを抑制するものである
図1の制御電圧抑制回路100は、電源電圧Vccが例えば3.5Vのような所定のレベル以上になっているときにバイアス回路に供給される制御電圧Vapcのレベルを下げる減圧回路部110と、出力レベル指定信号(Vramp)に応じて制御電圧Vapcが高くされた時にバイアス回路に供給される制御電圧VapcLを制限する電圧制限回路部120とからなる。ここで、電源電圧Vccは、リチウム電池などのバッテリから供給される電圧である。
減圧回路部110は、互いにソースが共通接続された一対の差動MOSトランジスタM2,M3と、M2,M3の共通ソースと接地点との間に接続された定電流源CI1と、M2のドレイン端子と電源電圧端子との間に直列に接続されたMOSトランジスタM1および抵抗R2と、M3のドレイン端子と電源電圧端子との間に直列に接続されたMOSトランジスタM4および抵抗R1と、抵抗R1とトランジスタM4との接続ノードNaと接地点との間に接続された定電流源CI2と、接続ノードNaと接地点との間に定電流源CI2と並列に直列接続されたMOSトランジスタM5およびM6と、所定の電流IAが入力される電流入力端子Iinと接地点との間に接続されたMOSトランジスタM7と、M7と並列に接続された抵抗R3とから構成されている。
上記MOSトランジスタM1とM3はそれぞれゲートとドレインが結合されダイオードとして作用する。M4とM5はカレントミラー接続され素子サイズ(W/L)の比に応じた電流が流され、M6とM7もカレントミラー接続され素子サイズ(W/L)の比に応じた電流が流される。ここで、WはMOSトランジスタのゲート幅、Lはゲート長である。特に制限されるものでないが、この実施例では、M1とM4の素子サイズ、M2とM3の素子サイズ、M4とM5の素子サイズはそれぞれ同一にされ、M6とM7の素子サイズは異なるように設定されている。
この実施例の減圧回路部110においては、電源電圧Vccが3.5Vよりも低い時はMOSトランジスタM4がオフし、電源電圧Vccが3.5Vよりも高い時はMOSトランジスタM4がオンするように、抵抗R1,R2の抵抗値r1,r2および定電流源CI1,CI2の電流値が設定されている。以下、減圧回路部110の動作を、Vcc<3.5Vの時とVcc≧3.5Vの時に分けて説明する。なお、ここでは、抵抗R1,R2に流れる電流をそれぞれI1,I2、MOSトランジスタM4,M5に流れる電流をI3、M7に流れる電流をI4とする。
Vcc<3.5Vの時、MOSトランジスタM4がオフであるため、M6,M7もオフし、電流I3,I4は「0」である。そのため、電流入力端子Iinより入力された電流IAがそのまま抵抗R3に流され、抵抗R3とトランジスタM7の接続ノードNcの電位Vrefは、Vref=R3・IA=一定となる。
一方、Vcc≧3.5Vの時は、ノードNaの電位VAが電源電圧Vccに追従して高くなり、ノードNaとNbの電位差VA−VBがMOSトランジスタM4のしきい値電圧Vthよりも高くなってM4がオンする。そのため、MOSトランジスタM5にはM4と同一の電流I3が流れ、M6,M7にも電流I3,I4が流されるようになる。これによって、入力端子Iinより入力された電流IAの一部がM7に引き抜かれ、抵抗R3に流される電流Irefが減少して抵抗R3とトランジスタM7の接続ノードNcの電位Vrefは、Vref=R3・(IA−I4)となり電源電圧Vccが高くなるほどVrefは低くなる。
図2には、実施例の制御電圧抑制回路100における電源電圧Vccの変化に対するノードNaとNbの電位差VA−VBの変化と、抵抗R1,R2の電流I1,I2の変化を示す。図2より、ノードNaとNbの電位差VA−VBがM4のしきい値電圧Vth(=0.75V)まではI1=I2であるが、VA−VBがVthよりも高くなると電流I1が次第に増加しI2は次第に減少することが分かる。
図3には、電源電圧Vccが変化したときのMOSトランジスタM7の電流I4および抵抗R3の電流Irefの変化と、ノードNcの電位Vrefの変化を示す。図3より、電源電圧Vccが3.5V以下ではI4,Iref,Vrefはそれぞれ一定であるが、Vccが3.5Vよりも高くなると電流I4が次第に増加しIrefは次第に減少してVrefが下がることが分かる。この実施例の回路では、Vrefが低くなる割合は、抵抗R1,R2の比およびMOSトランジスタM6,M7のサイズ比によって変えることができる。また、ノードNcの電位Vrefのレベルは抵抗R3の抵抗値で設定することができる。
電圧制限回路部120は、互いにソースが共通接続された一対の差動MOSトランジスタM10,M11と、M10,M11の共通ソースと接地点との間に接続された定電流源CI3と、M10,M11のドレイン端子と電源電圧端子との間に接続されたアクティブ負荷MOSトランジスタM8,M9と、M9とM11の接続ノードNdにゲート端子が接続されドレイン端子が電源電圧端子に接続されたソース・フォロワ型MOSトランジスタM12と、電源電圧端子と接地点との間にM12と直列に接続された定電流源CI4と、M12と定電流源CI4との接続ノードNeにゲート端子が接続されドレイン端子が出力端子OUTにまたソース端子が接地点に接続されたMOSトランジスタM13と、制御電圧入力端子VINと出力端子OUTとの間に接続された抵抗R4と、出力端子OUTと接地点との間に接続された抵抗R5とから構成されている。そして、上記差動MOSトランジスタM10のゲート端子に上記減圧回路部110のノードNcの電圧Vrefが印加され、他方の差動MOSトランジスタM11のゲート端子に出力端子OUTの電圧VapcLが印加されている。
この実施例の電圧制限回路部120は、M8,M9に流れる電流をI5,I6、M13,M12に流れる電流をI7,I8とすると、出力電圧VapcLが減圧回路部110からの電圧Vrefよりも低い時はI5>I6となって、M12,M13がオフ状態にされることで、出力端子OUTには入力電圧Vapcを抵抗R4,R5の抵抗比で分割したVapc・R5/(R4+R5)が電圧VapcLとして出力され、出力電圧VapcLが減圧回路部110からの電圧Vrefよりも高くなるとI5=I6となって、M12,M13がオン状態にされることで、出力電圧VapcLがVrefにクランプされ、VapcL=Vrefとなる。
これによって、電圧制限回路部120は、VapcL<Vrefのときは入力制御電圧Vapcに比例した電圧電圧VapcLを出力し、VapcL≧VrefのときはVrefにクランプされた電圧VapcLを出力するように動作する。ここで、Vrefは前述したように、電源電圧Vccに依存してVccが高くなるほど低くなる電圧であるため、クランプ電圧も電源電圧Vccが高くなるほど低くなる。
図4には、実施例の電圧制限回路部120における入力制御電圧Vapcの変化に対するトランジスタM8,M9,M13,M12に流れる電流I5,I6,I7,I8の変化を、また図5には、入力制御電圧Vapcの変化に対するトランジスタM13の電流I7と出力電圧VapcLの変化を示す。図4より、入力制御電圧Vapcが1.9V以下では、I5>I6,I8=0であり、Vapcが1.9Vを超えるとI5=I6,I8=80μAでI7が次第に多くなることが分かる。また、図5より、入力制御電圧Vapcが約2Vまでは出力電圧VapcLはVapcに比例して増加し、2Vを超えると出力電圧VapcLは一定(=Vref)になることが分かる。
図6は、上記実施例の制御電圧抑制回路を適用して好適な高周波電力増幅回路の実施例の概略構成を示す。本実施例の高周波電力増幅回路は、特に制限されるものでないが、複数の半導体チップと容量などのディスクリート部品がセラミック基板のような絶縁基板上に実装されたモジュールとして構成される。ただし、複数の半導体チップとディスクリート部品で構成する代わりに1つの半導体集積回路と若干の外付け部品で構成することも可能である。本明細書においては、かかる半導体集積回路と上記RFパワーモジュールを総称して高周波電力増幅回路と称する。
図6の実施例の高周波電力増幅回路(RFパワーモジュール)は、3段の増幅段211、212、213が縦続接続されてなるパワーアンプ部210と、該パワーアンプ部210の各増幅段211、212、213のトランジスタQ1〜Q3の制御端子(ゲート端子もしくはベース端子)にバイアス電圧Vb1,Vb2,Vb3を印加するバイアス回路230とから構成されている。特に制限されるものでないが、この実施例のパワーアンプ部210の各増幅段211、212、213は、初段の増幅段211はMOSFET Q1により、また2段目と3段目の増幅段212と213はInGaP−HBTによって構成されている。
初段FET Q1のドレイン端子と電源電圧端子Vccとの間、2段目のHBT Q2のコレクタ端子と電源電圧端子Vccとの間、3段目のHBT Q3のコレクタ端子と電源電圧端子Vccとの間、にはそれぞれインピーダンス整合用のインダクタンス素子L1,L2,L3が接続されている。また、入力端子と初段FET Q1のゲート端子の間、初段FET Q1のドレイン端子と2段目のHBT Q2のベース端子との間、2段目のHBT Q2のコレクタ端子と2段目のHBT Q2のベース端子との間、3段目のHBT Q3のコレクタ端子と出力端子との間、にはそれぞれ直流成分を遮断する容量素子CDC1,CDC2,CDC3,CDC4が接続されている。
この実施例の高周波電力増幅回路は、出力電力Poutを検出するカップラ240からの信号を検波して振幅レベルを検出するための検波回路250と、該検波回路250の出力と図示しないベースバンド回路などから供給される出力レベル指定信号Vrampとを比較して電位差に応じた電圧Vapcを出力する誤差アンプ260を備え、該誤差アンプ260と前記バイアス回路230との間に、図1に示されているような制御電圧抑制回路100が設けられている。
そして、この制御電圧抑制回路100で抑制された制御電圧VapcLがバイアス回路230に供給され、バイアス回路230により各増幅段211〜213のバイアス電圧Vb1〜Vb3が生成されてパワーアンプ部210の利得が制御されるように構成されている。バイアス回路230は、制御電圧VapcLに基づいて各増幅段211〜213のトランジスタQ1〜Q3に所望の比率でアイドル電流が流れるように適切なバイアス電圧Vb1〜Vb3を生成して供給する。
このようなフィードバックループにより、実施例の高周波電力増幅回路はその出力Poutが出力レベル指定信号Vrampに応じたレベルになるように制御される。さらに、この実施例では上記制御電圧抑制回路100により、電源電圧Vccが高い時にバイアス回路230に供給される制御電圧VapcLが高くなり過ぎないように制限される。上記検波回路250と誤差アンプ260と制御電圧抑制回路100とによりいわゆるAPC回路が構成される。
なお、バイアス回路230は、抵抗素子を用いた単純な抵抗分圧回路により構成しても良いし、例えば図7に示すように、電圧−電流変換回路を用いて制御電圧VapcLを一旦電流に変換し、その電流を基準にしてカレントミラー回路などを用いて所定の比を有する電流を生成し、それを再び電圧に変換して各段のバイアス電圧Vb1〜Vb3として供給するようにしても良い。
図7のバイアス回路230は、上記制御電圧抑制回路100からの制御電圧VapcLを受けてそれに比例した電流を流す電圧−電流変換用アンプAMP1と、該アンプAMP1の出力MOSFET Q11とゲート共通接続されたMOSFET Q12,Q13と、これらのMOSFET Q12,Q13と直列に接続されたダイオード接続のMOSFET Q22,Q23と、MOSFET Q12,Q13のドレイン端子に非反転入力端子が接続されてボルテージフォロワとして動作するアンプAMP2,AMP3と、アンプAMP3の出力電圧を分圧する抵抗R11〜R14などから構成されている。
このバイアス回路では、アンプAMP1の出力MOSFET Q11とMOSFET Q12,Q13のW/L(ゲート幅/ゲート長)が1:m:nのような比に設定されることにより、MOSFET Q12,Q13にMOSFET Q11に流れる電流のそれぞれm倍、n倍の電流が流され、その電流が電圧に変換され、ボルテージフォロワとして動作するアンプAMP2,AMP3に供給される。そして、アンプAMP2によりMOSFET Q12のドレイン電圧は初段の増幅用トランジスタQ1のバイアス電圧Vb1として出力される。
一方、MOSFET Q13のドレイン電圧はアンプAMP3を介して抵抗R11〜R14からなる抵抗分割回路により分圧されて、2段目と3段目の増幅用トランジスタQ2,Q3のバイアス電圧Vb2,Vb3として出力される。この実施例の場合、バイアス電圧Vb2とVb3は共通のアンプAMP3の出力を抵抗分割して生成されるため、入力制御電圧VapcLの最小レベルから最大レベルまで同じ比率で変化する電圧となる。これに対し、バイアス電圧Vb1は別個のアンプAMP2により生成されるため、バイアス電圧Vb2,Vb3とは異なる比率で変化される。MOSFET Q12,Q13と並列にサイズの異なる別のMOSFET Q14(図示略)とそのドレイン端子に接続された別個のアンプを設けて、それぞれ異なる比率で変化するバイアス電圧Vb2,Vb3を生成するように構成しても良い。
また、各増幅段211〜213のトランジスタQ1〜Q3に対応してカレントミラー接続されたトランジスタを設け、これらのトランジスタに上記MOSFET Q12,Q13,Q14により各段ごとに生成された電流を流してQ1〜Q3のベース端子(もしくはゲート端子)にバイアスを与えるように構成しても良い。このような構成のバイアス回路230は公知であるので、具体的な回路の図示と説明は省略する。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、前記実施例では、制御電圧抑制回路100が、電源電圧Vccを監視してVccがある電圧(例えば3.5V)よりも高い時は制御電圧Vapcのレベルを下げる減圧回路部110と、制御電圧Vapcを監視してVapcがある電圧(Vref)よりも高い時はバイアス回路に供給される制御電圧VapcLを制限する電圧制限回路部120とから構成されているが、減圧回路部110のみからなる回路としても良い。
これによって、制御電圧抑制回路100の回路規模を小さくすることができるとともに、減圧回路部110によって充電直後のような電源電圧が高い時にパワーを抑えて消費電力を減らすことができる。その結果、この高周波電力増幅回路を使用した携帯電話機等の無線通信システムにおける1回のバッテリ充電による通話可能時間および最大待受け時間を長くすることができる。
また、前記実施例では、2段目と3段目の増幅用トランジスタとしてInGaP−HBTを用いるとしたが、3段目のみInGaP−HBTで構成されている場合にも適用することができる。また、実施例ではパワーアンプ部が3段接続されているが、2段構成あるいは4段以上であっても良い。さらに、前記実施例では、増幅用トランジスタがInGaP−HBTで構成されている場合について説明したが、増幅用トランジスタがGaAs−HBTやGaAsMESFET、HEMT(High Electron Mobility Transistor)等他の化合物半導体トランジスタで構成されている場合にも本発明を適用することで同様な効果を得ることができる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野である携帯電話機等の無線通信装置を構成する高周波電力増幅回路に適用した場合について説明したが、本発明は無線LANを構成する高周波電力増幅回路に適用することも可能である。
本発明に係る高周波電力増幅回路に用いられる制御電圧抑制回路の一実施例を示す回路図である。 実施例の制御電圧抑制回路における電源電圧Vccと回路の内部ノードの電圧および内部電流との関係を示すグラフである。 実施例の制御電圧抑制回路における電源電圧Vccと回路内部の基準電圧および内部電流との関係を示すグラフである。 実施例の制御電圧抑制回路における入力電圧Vapcと回路の内部電流との関係を示すグラフである。 実施例の制御電圧抑制回路における入力電圧Vapcと生成される出力電力制御電圧VapcLとの関係を示すグラフである。 本発明を適用して好適な高周波電力増幅回路(RFパワーモジュール)の一例を示す回路構成図である。 バイアス回路の一例を示す回路構成図である。
符号の説明
100 制御電圧抑制回路
110 減圧回路部
120 電圧制限回路部
210 パワーアンプ部
211〜213 増幅段
230 バイアス回路
240 カップラ
250 検波回路
260 誤差アンプ

Claims (5)

  1. 増幅用トランジスタを含む複数の増幅段が縦続接続され、少なくとも最終段の増幅用トランジスタが化合物半導体トランジスタにより構成されている電力増幅回路と、制御電圧に基づいて前記増幅用トランジスタの制御端子に印加されるバイアス電圧を生成するバイアス回路とを備えた高周波電力増幅回路であって、前記増幅用トランジスタに印加される電源電圧を検出して電源電圧が所定の電圧よりも高い場合に、最終段の増幅用トランジスタのバイアス電圧を抑える制御電圧抑制回路を備えることを特徴とする高周波電力増幅回路。
  2. 供給された出力制御電圧が所定の電位よりも高い場合に前記バイアス回路へ供給する前記制御電圧を制限する電圧制限回路を備えることを特徴とする請求項1に記載の高周波電力増幅回路。
  3. 前記制御電圧抑制回路は前記電源電圧が高くなるほど低くなる基準電圧を発生するようにされ、前記電圧制限回路は供給された出力制御電圧が所定の電位よりも高い場合に前記バイアス回路へ供給する前記制御電圧を前記基準電圧に制限することを特徴とする請求項2に記載の高周波電力増幅回路。
  4. 前記最終段の増幅用トランジスタはInGaPヘテロ接合バイポーラ・トランジスタであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高周波電力増幅回路。
  5. 前記電源電圧は二次電池から供給される電圧であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高周波電力増幅回路。
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