JP2005059307A - Manufacturing method of sheet with cured resin layer - Google Patents

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JP2005059307A JP2003290610A JP2003290610A JP2005059307A JP 2005059307 A JP2005059307 A JP 2005059307A JP 2003290610 A JP2003290610 A JP 2003290610A JP 2003290610 A JP2003290610 A JP 2003290610A JP 2005059307 A JP2005059307 A JP 2005059307A
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Koichi Nakamura
公一 中村
Norikatsu Ono
典克 小野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a sheet with a cured resin layer constituted so as not only to form the cured resin layer having required properties to the surface of a base material sheet, which is easily deteriorated by an electron beam, by the irradiation with the electron beam but also to suppress the deterioration of the base material sheet. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of the sheet 10 with the cured resin layer, an uncured resin layer comprising an electron beam-curable resin composition is provided on the surface of the base material sheet 1 easily deteriorated by the electron beam so that the thickness of the uncured resin layer after curing becomes 1-20 μm. Subsequently, the uncured resin layer is irradiated with the electron beam of an accelerated voltage of 150 kV or below and cured not only to form a cured resin layer 2 but also to set the color difference of the base material sheet after the irradiation with the electron beam with respect to that of the base material sheet before irradiation to ▵E of 0.6 or below in an L<SP>*</SP>a<SP>*</SP>b<SP>*</SP>color system. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、硬化樹脂層付きシートの製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、電子線易劣化性基材シートの表面に設けられた電子線硬化型の未硬化樹脂層に、電子線を照射して、該未硬化樹脂層を硬化させ、所要の性能を有する硬化樹脂層を形成させると共に、前記基材シートの劣化を効果的に抑制する、硬化樹脂層付きシートの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a sheet with a cured resin layer. More specifically, the present invention is directed to irradiating an electron beam to an electron beam curable uncured resin layer provided on the surface of an electron beam easily degradable substrate sheet to cure the uncured resin layer, The present invention relates to a method for producing a sheet with a cured resin layer, in which a cured resin layer having the above performance is formed and the deterioration of the base sheet is effectively suppressed.

近年、多官能反応性オリゴマーを主成分として用い、電離放射線[紫外線(UV)などの活性光や電子線(EB)等]照射により開始される重合を利用した架橋・硬化反応は、従来の溶媒を含む塗工膜の乾燥方法や、加熱による架橋・硬化反応と比較して、省資源、省エネルギー、環境保全、省スペース、生産性などの面から有利である。
したがって、UV・EB硬化技術は、これまで様々な分野で利用されている。このUV・EB硬化技術が利用されている分野を大きく分類すると、(1)コーティング、(2)印刷インキ、(3)電子材料、(4)接着剤である。前記(1)のコーティングの主な用途は、木工製品、塩ビタイル、プラスチックフィルム、金属薄膜や金属缶、携帯電話などの表面ハードコートなどである。前記(2)の印刷インキの主な用途は、オフセットインキ、フレキソインキ、シールインキ、スクリーンインキ、オーバープリントニス(OPV)などである。
In recent years, cross-linking and curing reactions using polyfunctional reactive oligomers as a main component and polymerization initiated by irradiation with ionizing radiation [actinic light such as ultraviolet (UV) or electron beam (EB)] have been used in conventional solvents. Compared with the drying method of the coating film containing and the crosslinking / curing reaction by heating, it is advantageous in terms of resource saving, energy saving, environmental conservation, space saving, productivity and the like.
Therefore, the UV / EB curing technology has been used in various fields so far. The fields in which this UV / EB curing technology is used are roughly classified into (1) coating, (2) printing ink, (3) electronic material, and (4) adhesive. The main applications of the coating (1) are woodwork products, PVC tiles, plastic films, metal thin films, metal cans, surface hard coats such as mobile phones, and the like. The main uses of the printing ink (2) are offset ink, flexo ink, seal ink, screen ink, overprint varnish (OPV) and the like.

また、前記(3)の電子材料の主な用途は、ドライフィルムレジスト、液状レジスト、電着レジスト、カラーフィルター用着色レジスト、ソルダーマスク、層間絶縁膜、液晶ディスプレー用プリズムシート、TFT画素電極、シール材、スペーサー、表面保護ハードコート等、プラズマディスプレーの隔壁(リブ)、石英光ファイバーの表面被覆、光ディスク(CD、MD、DVDなど)の表面ハードコートなどである。前記(4)の接着剤の主な用途は、光学レンズ類や光ピックアップレンズの接着、光ディスク(CD、MD、DVDなど)の接着などである。また、ほかには離型紙、3次元加工によるさまざまな型材や人体模型の造形などにも利用されている。
ところで、EB硬化反応系は、UV硬化反応系に比べて、以下に示すような優れた特徴を有している。EBは、光エネルギーと比較してエネルギーが飛躍的に高く、塗膜の透明性や膜厚に影響されずに硬化反応がよく進行するため、硬化塗膜は優れた性質を示す。例えば、EB硬化性材料では、光硬化では不可欠な光重合開始剤や増感剤の添加は不要である。したがって、EB硬化反応系では、光硬化反応系の場合のような硬化塗膜からの未反応の光重合開始剤や増感剤のマイグレーションが生じない。さらに、EB硬化技術においては、多官能反応性オリゴマーや重合性モノマー類として、アクリレート類よりも優れた性質を有するメタクリレート類を使用することができる。また、EB硬化反応系ではオリゴマー類の紙やプラスチック基材へのグラフト重合なども進行するため、UV硬化反応系と比較すると基材に対して優れた接着性を示すことも知られている。
The main applications of the electronic material (3) are dry film resist, liquid resist, electrodeposition resist, colored resist for color filter, solder mask, interlayer insulating film, prism sheet for liquid crystal display, TFT pixel electrode, seal Materials, spacers, surface protective hard coats, plasma display partition walls (ribs), quartz optical fiber surface coatings, optical disk (CD, MD, DVD, etc.) surface hard coats, and the like. The main applications of the adhesive (4) are adhesion of optical lenses and optical pickup lenses, adhesion of optical disks (CD, MD, DVD, etc.), and the like. In addition, it is also used for release paper, various mold materials by three-dimensional processing, and modeling of human models.
By the way, the EB curing reaction system has the following superior characteristics as compared with the UV curing reaction system. EB has a significantly higher energy than light energy, and the cured reaction proceeds well without being affected by the transparency and film thickness of the coating film, so that the cured coating film exhibits excellent properties. For example, in the case of an EB curable material, it is not necessary to add a photopolymerization initiator or a sensitizer essential for photocuring. Therefore, in the EB curing reaction system, migration of unreacted photopolymerization initiator and sensitizer from the cured coating film as in the case of the photocuring reaction system does not occur. Further, in the EB curing technique, methacrylates having properties superior to acrylates can be used as polyfunctional reactive oligomers and polymerizable monomers. Further, in the EB curing reaction system, graft polymerization of oligomers to paper or plastic substrate also proceeds, so that it is also known that it exhibits excellent adhesion to the substrate as compared with the UV curing reaction system.

しかしながら、EB硬化技術は、このような優れた特徴を有しているものの、わが国での利用分野は、UV硬化技術と比較して、これまで少ないのが実状であった。その理由は、これまで、EB照射装置は比較的高価格であり、取り扱いがUV照射装置ほど簡便でなく、設置に広いスペースが必要なこと、さらに、加速電圧が150〜300kVと高く、基材が分子レベルでの損傷、乃至は変質により劣化を受けるおそれがあることなどであった。しかし最近、比較的低価格で、取り扱いの簡便な卓上型の、超低加速EB照射装置(例えば、加速電圧80〜110kV、30〜70kV)が開発されており、今後は、UV硬化技術と同様の応用展開が期待されている。
EB硬化反応を利用した技術としては、例えば電子線硬化型樹脂を用いた耐候性ハードコート塗膜(例えば、特許文献1参照)、電子線硬化型樹脂を表面に有する化粧材の製造方法(例えば、特許文献2参照)、化粧シート及びその製造方法(例えば、特許文献3参照)などが開示されている。
このようなEB硬化技術においては、前述のように、UV硬化塗膜よりも優れた性質を有する硬化塗膜を得ることができるものの、EBのエネルギーは、光エネルギーよりもはるかに高いために、塗膜内で吸収されない照射エネルギーによって、基材が劣化する危険性がある。前記の超低加速EB装置を用いることにより、従来のEB照射装置と異なり、照射エネルギーの大部分が塗膜内に吸収されるために、塗膜を効率よく硬化させ、かつ基材の劣化を抑えることができるが、ポリカーボネート系樹脂や紙基材などを用いた電子線易劣化性基材シートを使用する場合には、やはり劣化の問題が生じることがある。斯かる基材シートは、電子線照射による劣化により、引張強度の低下等の強度低下、脆化による変形時(後加工や成形の際)の破断等の問題につながる。
However, although the EB curing technology has such excellent characteristics, the actual field of use in Japan is far less than that of the UV curing technology. The reason is that, until now, the EB irradiation apparatus is relatively expensive, the handling is not as simple as the UV irradiation apparatus, a large space is required for installation, and the acceleration voltage is as high as 150 to 300 kV. However, there is a risk of deterioration due to damage or alteration at the molecular level. Recently, however, a desktop type ultra-low acceleration EB irradiation device (for example, acceleration voltage 80 to 110 kV, 30 to 70 kV) has been developed at a relatively low price and easy to handle. Is expected to be applied.
As a technique using EB curing reaction, for example, a weather-resistant hard coat coating film using an electron beam curable resin (see, for example, Patent Document 1), a method for producing a cosmetic material having an electron beam curable resin on the surface (for example, , Patent Document 2), a decorative sheet and a manufacturing method thereof (see, for example, Patent Document 3), and the like.
In such an EB curing technique, as described above, a cured coating having properties superior to those of a UV cured coating can be obtained, but the energy of EB is much higher than the light energy. There is a risk of deterioration of the substrate due to irradiation energy that is not absorbed in the coating. By using the ultra-low acceleration EB apparatus, unlike the conventional EB irradiation apparatus, most of the irradiation energy is absorbed in the coating film, so that the coating film is efficiently cured and the base material is deteriorated. Although it can be suppressed, when an electron beam easily degradable substrate sheet using a polycarbonate-based resin, a paper substrate or the like is used, a problem of degradation may still occur. Such a base sheet leads to problems such as a decrease in strength such as a decrease in tensile strength due to deterioration due to electron beam irradiation, and a breakage during deformation due to embrittlement (after processing or molding).

特開平5−57235号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-57235 特開平9−131564号公報JP-A-9-131564 特開2001−232743号公報JP 2001-232743 A

本発明は、このような状況下で、電子線易劣化性基材シートの表面に設けられた電子線硬化型の未硬化樹脂層に、電子線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、所要の性能を有する硬化樹脂層を形成させると共に、前記基材シートの劣化を効果的に抑制する、硬化樹脂層付きシートの製造方法を提供することを目的とするものである。   Under such circumstances, the present invention irradiates an electron beam curable uncured resin layer provided on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet to cure the uncured resin layer. An object of the present invention is to provide a method for producing a sheet with a cured resin layer, in which a cured resin layer having a required performance is formed and deterioration of the base sheet is effectively suppressed.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、電子線易劣化性基材シートの電子線照射による劣化と色差との間に相関が有ることを見出した。そして、電子線易劣化性基材シートの表面に設けられた所定の厚さを有する電子線硬化型樹脂組成物層に、加速電圧がある値以下の電子線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、硬化樹脂層を形成させると共に、電子線照射前に対する照射後の該基材シートの色差を、L***表色系でΔEがある値以下とすることにより、その目的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that there is a correlation between the deterioration of the electron beam easily degradable base sheet due to electron beam irradiation and the color difference. Then, the uncured resin layer is formed by irradiating an electron beam curable resin composition layer having a predetermined thickness provided on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet with an electron beam having a certain acceleration voltage or less. And the cured resin layer is formed, and the color difference of the base sheet after irradiation with respect to before irradiation with the electron beam is set to a value equal to or smaller than ΔE in the L * a * b * color system. Found that it can be achieved. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明は、
(1)電子線易劣化性基材シートの表面に、電子線硬化型樹脂組成物からなる未硬化樹脂層を、硬化後の厚さが1〜20μmになるように設け、次いで上記未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧150kV以下で照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、硬化樹脂層を形成させると共に、電子線照射前に対する照射後の基材シートの色差を、L***表色系でΔEが0.6以下とすることを特徴とする硬化樹脂層付きシートの製造方法、
(2)電子線易劣化性基材シートが、該基材シートに電子線を加速電圧150kV、照射線量5Mradの条件で照射した場合、照射前に対する照射後の色差が、L***表色系でΔE0.6以上のものである上記(1)の硬化樹脂層付きシートの製造方法、
(3)電子線易劣化性基材シートが、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂及び塩化ビニル系樹脂の中から選ばれたプラスチックを基材とするシート、又は紙基材である上記(1)又は(2)の硬化樹脂層付きシートの製造方法、
(4)未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧70〜95kVで照射する上記(1)、(2)又は(3)の硬化樹脂層付きシートの製造方法、及び
(5)電子線硬化型樹脂組成物が、電子線硬化成分として、多官能ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー及び多官能重合性モノマーを含むものである上記(1)ないし(4)のいずれかの硬化樹脂層付きシートの製造方法、
を提供するものである。
That is, the present invention
(1) An uncured resin layer made of an electron beam curable resin composition is provided on the surface of an electron beam easily degradable substrate sheet so that the thickness after curing is 1 to 20 μm, and then the uncured resin The layer is irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 150 kV or less to cure the uncured resin layer to form a cured resin layer, and the color difference of the substrate sheet after irradiation with respect to before the electron beam irradiation is expressed as L * a *. a method for producing a sheet with a cured resin layer, wherein b * color system and ΔE is 0.6 or less,
(2) When the electron beam easily degradable substrate sheet is irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 5 Mrad, the color difference after irradiation with respect to the pre-irradiation is L * a * b *. The method for producing a sheet with a cured resin layer according to the above (1), which has a color system of ΔE 0.6 or more,
(3) The above (1), wherein the electron beam easily degradable substrate sheet is a sheet based on a plastic selected from polycarbonate resin, triacetyl cellulose resin and vinyl chloride resin, or a paper substrate. ) Or (2) a method for producing a sheet with a cured resin layer,
(4) The method for producing a sheet with a cured resin layer according to (1), (2) or (3) above, wherein the uncured resin layer is irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 70 to 95 kV, and (5) an electron beam curable type. The method for producing a sheet with a cured resin layer according to any one of the above (1) to (4), wherein the resin composition comprises a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer and a polyfunctional polymerizable monomer as an electron beam curing component,
Is to provide.

本発明の方法によれば、電子線易劣化性基材シートの表面に、電子線の照射により所要の性能を有する硬化樹脂層を形成し得ると共に、上記基材シートの劣化を効果的に抑制することができ、品質の良好な硬化樹脂層付きシートを効率よく製造することができる。   According to the method of the present invention, a cured resin layer having a required performance can be formed on the surface of an electron beam easily degradable substrate sheet by irradiation with an electron beam, and the deterioration of the substrate sheet is effectively suppressed. Therefore, a sheet with a cured resin layer having good quality can be efficiently produced.

本発明の硬化樹脂層付きシートの製造方法においては、基材シートとして、電子線易劣化性基材シートが用いられる。この電子線易劣化性基材シートは、電子線の照射により劣化しやすい基材シートのことであり、劣化の目安として、本発明においては、一般に、該基材シートに電子線を加速電圧150kV、照射線量5Mradの条件で照射した場合、照射前に対する照射後の色差が、L***表色系でΔE0.6以上のものが用いられる。ここで、L***表色系とは、国際照明委員会(CIE)で定めた表色系のことであり、ΔEが0.6の場合、通常の人が視覚的に色差を判断できる限界と云われている。したがって、ΔEが0.6以上のものは、黄変を確認でき、電子線易劣化性ということができる。基材シートとして、例えばポリエチレンテレフタレートシートなどの電子線難劣化性基材シートを用いた場合、電子線が照射されても黄変(劣化)が起こりにくく、本発明の方法は無意味となる。 In the manufacturing method of the sheet | seat with a cured resin layer of this invention, an electron beam easily deteriorated base material sheet is used as a base material sheet. This electron beam easily degradable substrate sheet is a substrate sheet that is easily deteriorated by irradiation with an electron beam. As a measure of deterioration, in the present invention, generally, an electron beam is applied to the substrate sheet at an acceleration voltage of 150 kV. When irradiation is performed under the condition of an irradiation dose of 5 Mrad, a color difference after irradiation with respect to before irradiation is L * a * b * color system having ΔE0.6 or more. Here, the L * a * b * color system is a color system defined by the International Commission on Illumination (CIE). When ΔE is 0.6, an ordinary person visually shows a color difference. It is said that it can be judged. Therefore, when ΔE is 0.6 or more, yellowing can be confirmed and it can be said that electron beam is easily deteriorated. When an electron beam hardly degradable substrate sheet such as a polyethylene terephthalate sheet is used as the substrate sheet, yellowing (deterioration) hardly occurs even when irradiated with an electron beam, and the method of the present invention is meaningless.

当該電子線易劣化性基材シートにおける前記照射条件でのΔEの上限については特に限定されないが、一般的には8.0程度であり、好ましいΔEは1.0〜6.0の範囲である。
当該電子線易劣化性基材シートとしては、従来硬化樹脂層付きシートの基材シートとして使用されているものの中から、前記照射条件でのΔEが0.6以上である基材シートを適宜選択して用いることができる。このような電子線易劣化性基材シートとしては、例えばポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂及び塩化ビニル系樹脂の中から選ばれたプラスチックを基材とするシート、又は紙基材などが挙げられる。ここで、紙基材としては、例えば薄葉紙、クラフト紙、上質紙、リンター紙、バライタ紙、硫酸紙、和紙などが用いられる。これらの紙基材のパルプとしては、針葉樹パルプ(蝦夷松、赤松、樅、ヘムロック、スプルース等)、広葉樹パルプ(楢、ブナ、樺、ユーカリ等)等が用いられる。表面平滑性、地合の均一性の点では、広葉樹パルプが好ましく、紙の強度が高い点では、針葉樹パルプが好ましい。また、針葉樹パルプと広葉樹パルプとの混抄でもよい。また、紙基材は、紙基材の繊維間ないしは他層と紙基材との層間強度を強化したり、ケバ立ち防止のため、これら紙基材に、更に、アクリル樹脂、スチレンブタジエンゴム、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂を添加(抄造後樹脂含浸、又は抄造時に内填)させたものでもよい。例えば、紙間強化紙、含浸紙等である。これらの電子線易劣化性基材シートには、必要に応じて、絵柄の印刷、金属膜の蒸着、シート中への着色剤の添加、凹凸模様のエンボス加工等の装飾処理を施しても良い。
The upper limit of ΔE under the irradiation condition in the electron beam easily degradable substrate sheet is not particularly limited, but is generally about 8.0, and preferable ΔE is in the range of 1.0 to 6.0. .
As the electron beam easily degradable substrate sheet, a substrate sheet having ΔE of 0.6 or more under the irradiation conditions is appropriately selected from those conventionally used as a substrate sheet of a sheet with a cured resin layer. Can be used. Examples of such an electron beam easily degradable substrate sheet include a sheet based on a plastic selected from polycarbonate resin, triacetyl cellulose resin and vinyl chloride resin, or a paper substrate. It is done. Here, as the paper base material, for example, thin paper, kraft paper, high quality paper, linter paper, baryta paper, sulfuric acid paper, Japanese paper and the like are used. As these paper-based pulps, softwood pulp (such as pine, red pine, cocoon, hemlock, and spruce), hardwood pulp (such as cocoon, beech, cocoon, and eucalyptus) are used. In terms of surface smoothness and formation uniformity, hardwood pulp is preferred, and in terms of high paper strength, softwood pulp is preferred. Further, a mixed paper of softwood pulp and hardwood pulp may be used. In addition, the paper base material is used to reinforce the interlaminar strength between the fibers of the paper base material or between the paper base material and the paper base material. A resin such as a melamine resin or a urethane resin may be added (resin impregnation after paper making or embedded during paper making). For example, inter-paper reinforced paper, impregnated paper and the like. These electron beam easily degradable substrate sheets may be subjected to decorative treatment such as pattern printing, metal film deposition, colorant addition to the sheet, and embossing of uneven patterns, as necessary. .

また、電子線易劣化性基材シートとして、前記のプラスチックを素材とするシートを用いる場合には、その上に設けられる硬化樹脂層との密着性を向上させる目的で所望により、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの中で一般にコロナ放電処理法が効果および操作性などの面から、好ましく用いられる。
当該電子線易劣化性基材シートの厚さについては特に制限はないが、プラスチックを素材とするシートを用いる場合には、厚さは、通常20〜150μm程度、好ましくは30〜100μmの範囲であり、紙基材を用いる場合には、坪量は、通常20〜150g/m2程度、好ましくは30〜100g/m2の範囲である。
In addition, when a sheet made of the above-mentioned plastic is used as the electron beam easily degradable base sheet, an oxidation method or unevenness is optionally used for the purpose of improving the adhesion with the cured resin layer provided thereon. Surface treatment can be performed by a chemical method or the like. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include sand blast method and solvent treatment method. Is mentioned. Of these, the corona discharge treatment method is generally preferably used from the viewpoints of effects and operability.
Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the said electron beam easily degradable base material sheet, When using the sheet | seat which uses a plastic as a raw material, thickness is about 20-150 micrometers normally, Preferably it is the range of 30-100 micrometers. Yes, when using a paper substrate, the basis weight is usually about 20 to 150 g / m 2 , preferably 30 to 100 g / m 2 .

本発明の方法においては、まず、前記電子線易劣化性基材シートの表面に、電子線硬化型樹脂組成物からなる未硬化樹脂層を設け、次いでこの未硬化樹脂層に電子線を照射して、該未硬化樹脂層を硬化させ、硬化樹脂層を形成させる。
前記電子線硬化型樹脂組成物は、電子線硬化成分として、重合性オリゴマー(乃至はプレポリマー)、重合性モノマーのいづれかを少なくとも含むものである。前記重合性オリゴマーとしては、従来電子線硬化型樹脂組成物に慣用されている重合性オリゴマーの中から適宜選択して用いることができる。このような重合性オリゴマーとしては、例えばエポキシ(メタ)アクリレート系、ウレタン(メタ)アクリレート系、ポリエステル(メタ)アクリレート系、ポリエーテル(メタ)アクリレート系などが挙げられる。ここで、エポキシ(メタ)アクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ(メタ)アクリレート系オリゴマーを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーも用いることができる。ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエステル(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル(メタ)アクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
In the method of the present invention, first, an uncured resin layer comprising an electron beam curable resin composition is provided on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet, and then the uncured resin layer is irradiated with an electron beam. Then, the uncured resin layer is cured to form a cured resin layer.
The electron beam curable resin composition contains at least one of a polymerizable oligomer (or prepolymer) and a polymerizable monomer as an electron beam curable component. As said polymerizable oligomer, it can select from the polymerizable oligomer conventionally conventionally used for the electron beam curable resin composition, and can use it. Examples of such polymerizable oligomers include epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and polyether (meth) acrylates. Here, the epoxy (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolak type epoxy resin and esterifying it. . Further, a carboxyl-modified epoxy (meth) acrylate oligomer obtained by partially modifying this epoxy (meth) acrylate oligomer with a dibasic carboxylic acid anhydride can also be used. The urethane (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by reaction of polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate with (meth) acrylic acid. Examples of polyester (meth) acrylate oligomers include esterification of hydroxyl groups of polyester oligomers having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of polycarboxylic acid and polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a carboxylic acid with (meth) acrylic acid. The polyether (meth) acrylate oligomer can be obtained by esterifying the hydroxyl group of the polyether polyol with (meth) acrylic acid.

さらに、重合性オリゴマーとしては、他にポリブタジエンオリゴマーの側鎖に(メタ)アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン(メタ)アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン(メタ)アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂(メタ)アクリレート系オリゴマーなどがある。
これらの重合性オリゴマーは、多官能重合性オリゴマーが好ましく、得られる硬化樹脂層付きシートの用途に応じて、適宜選択して用いられる。例えば、硬化性、硬度、耐熱性、電気特性などが要求される分野では、主にエポキシ(メタ)アクリレート系が使用され、柔軟性、強靭性、耐摩耗性、耐薬品性などが要求される分野では、主にウレタン(メタ)アクリレート系が使用される。また、低粘度、ハンドリング性、低価格などが要求される分野では、主にポリエステル(メタ)アクリレート系やポリエーテル(メタ)アクリレート系が使用され、アルカリ現像性、硬度、耐熱性などが要求されるソルダーレジストなどの分野では、主にカルボキシル変性型のエポキシ(メタ)アクリレート系が使用される。本発明においては、特に多官能ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーが好ましい。
Furthermore, other polymerizable oligomers include polybutadiene (meth) acrylate oligomers with high hydrophobicity that have (meth) acrylate groups in the side chain of polybutadiene oligomers, and silicone (meth) acrylate oligomers that have polysiloxane bonds in the main chain. There are aminoplast resin (meth) acrylate oligomers obtained by modifying aminoplast resins having many reactive groups in small molecules.
These polymerizable oligomers are preferably polyfunctional polymerizable oligomers, and are appropriately selected and used according to the use of the resulting sheet with a cured resin layer. For example, in fields where curability, hardness, heat resistance, electrical properties, etc. are required, epoxy (meth) acrylate is mainly used, and flexibility, toughness, wear resistance, chemical resistance, etc. are required. In the field, mainly urethane (meth) acrylates are used. In fields where low viscosity, handling properties, and low prices are required, polyester (meth) acrylate and polyether (meth) acrylate are mainly used, and alkali developability, hardness, heat resistance, etc. are required. In the field of solder resist and the like, carboxyl-modified epoxy (meth) acrylate is mainly used. In the present invention, a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer is particularly preferable.

なお、本発明において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを指し、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を指す。
前記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)で測定した標準ポリメチルメタクリレート換算の値で、好ましくは500〜100,000、より好ましくは1,000〜70,000、さらに好ましくは3,000〜40,000の範囲で選定される。
この重合性オリゴマーは、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
この重合性オリゴマーは、いずれも比較的粘度が高く、また、分子量が増加するに伴い、その粘度が上昇する。したがって、この重合性オリゴマーを単独で硬化させると、架橋反応が十分に進行しない場合や、逆に架橋密度が高くなり、硬化物が脆くなる場合がある。したがって、本発明においては、粘度調整、架橋反応の促進、硬化物の架橋密度の調整などのために、必要に応じ単官能重合性モノマーや多官能重合性モノマーを用いることができるが、特に多官能重合性モノマーが好ましい。
In the present invention, (meth) acrylate refers to acrylate or methacrylate, and (meth) acrylic acid refers to acrylic acid or methacrylic acid.
The weight average molecular weight of the polymerizable oligomer is a standard polymethyl methacrylate conversion value measured by gel permeation chromatography method (GPC method), preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 70,000. More preferably, it is selected in the range of 3,000 to 40,000.
This polymerizable oligomer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
All of these polymerizable oligomers have a relatively high viscosity, and the viscosity increases as the molecular weight increases. Therefore, if this polymerizable oligomer is cured alone, the crosslinking reaction may not proceed sufficiently, or conversely, the crosslinking density may increase and the cured product may become brittle. Accordingly, in the present invention, a monofunctional polymerizable monomer or a polyfunctional polymerizable monomer can be used as necessary for adjusting the viscosity, promoting the crosslinking reaction, adjusting the crosslinking density of the cured product, and the like. Functional polymerizable monomers are preferred.

ここで、単官能重合性モノマーとしては、例えばシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。一方、多官能重合性モノマーとしては、例えば1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの重合性モノマーは一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   Here, examples of the monofunctional polymerizable monomer include cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and the like. On the other hand, examples of the polyfunctional polymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth). Acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) Acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) Examples thereof include acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These polymerizable monomers may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

本発明においては、電子線硬化型樹脂組成物は、必須成分として電子線硬化成分である多官能ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー及び多官能重合性モノマーを含むものが好ましい。また、この電子線硬化型樹脂組成物には、得られる硬化樹脂層の所望物性に応じて、各種添加剤を配合することができる。この添加剤としては、例えば耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、溶剤、着色剤などが挙げられる。
ここで、耐候性改善剤としては、紫外線吸収剤や光安定剤を用いることができる。紫外線吸収剤は、無機系、有機系のいずれでもよく、無機系紫外線吸収剤としては、平均粒径が5〜120nm程度の二酸化チタンや酸化亜鉛などを好ましく用いることができる。また、有機系紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、具体的には、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコールの3−[3−(ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオン酸エステルなどが挙げられる。一方、光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系、具体的には2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2’−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートなどが挙げられる。また、紫外線吸収剤や光安定剤として、分子内に(メタ)アクリロイル基などの重合性基を有する反応性の紫外線吸収剤や光安定剤を用いることもできる。
In the present invention, the electron beam curable resin composition preferably contains a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer and a polyfunctional polymerizable monomer, which are electron beam curable components, as essential components. Moreover, various additives can be mix | blended with this electron beam curable resin composition according to the desired physical property of the cured resin layer obtained. Examples of this additive include a weather resistance improver, an abrasion resistance improver, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, an infrared absorber, an antistatic agent, an adhesion improver, a leveling agent, a thixotropic agent, a coupling agent, A plasticizer, an antifoamer, a filler, a solvent, a coloring agent, etc. are mentioned.
Here, as the weather resistance improving agent, an ultraviolet absorber or a light stabilizer can be used. The ultraviolet absorber may be either inorganic or organic, and as the inorganic ultraviolet absorber, titanium dioxide or zinc oxide having an average particle diameter of about 5 to 120 nm can be preferably used. Moreover, as an organic type ultraviolet absorber, benzotriazole type, for example, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-) is specifically mentioned. Amylphenyl) benzotriazole, 3- [3- (benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionic acid ester of polyethylene glycol, and the like. On the other hand, examples of the light stabilizer include hindered amines, specifically 2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2′-n-butylmalonate bis (1,2,2). , 6,6-pentamethyl-4-piperidyl), bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)- 1,2,3,4-butanetetracarboxylate and the like. Further, as the ultraviolet absorber or light stabilizer, a reactive ultraviolet absorber or light stabilizer having a polymerizable group such as a (meth) acryloyl group in the molecule can be used.

耐摩耗性向上剤としては、例えば無機物ではα−アルミナ、シリカ、酸化クロム、酸化鉄、ダイヤモンド、黒鉛等の球状粒子が挙げられる。粒子形状は、球、多角形、鱗片形等であるが、球状が好ましい。有機物では架橋アクリル樹脂等の合成樹脂ビーズが挙げられる。粒径は、通常膜厚の30〜200%程度とする。これらの中でも球状のα−アルミナは、硬度が高く、耐摩耗性の向上に対する効果が大きいこと、また、球状の粒子を比較的得やすい点で特に好ましいものである。
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、p−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、t−ブチルカテコールなどが、架橋剤としては、例えばポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物などが用いられる。
充填剤としては、例えば硫酸バリウム、タルク、クレー、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウムなどが用いられる。
着色剤としては、例えばキナワリドンレッド、イソイソドリノンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラックなどの公知の着色用顔料などが用いられる。
赤外線吸収剤としては、例えば、ジチオール系金属錯体、フタロシアニン系化合物、ジインモニウム化合物等が用いられる。
Examples of the wear resistance improver include spherical particles such as α-alumina, silica, chromium oxide, iron oxide, diamond, and graphite. The particle shape is a sphere, a polygon, a scale shape or the like, but a sphere is preferable. For organic materials, synthetic resin beads such as cross-linked acrylic resins can be used. The particle size is usually about 30 to 200% of the film thickness. Among these, spherical α-alumina is particularly preferable because it has high hardness and a large effect on improving wear resistance, and it is relatively easy to obtain spherical particles.
Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-benzoquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and t-butylcatechol. Examples of the crosslinking agent include a polyisocyanate compound, an epoxy compound, a metal chelate compound, an aziridine compound, and an oxazoline compound. Used.
As the filler, for example, barium sulfate, talc, clay, calcium carbonate, aluminum hydroxide and the like are used.
As the colorant, for example, known coloring pigments such as quinawalidone red, isoisodolinone yellow, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, titanium oxide, and carbon black are used.
As the infrared absorber, for example, a dithiol metal complex, a phthalocyanine compound, a diimmonium compound, or the like is used.

本発明においては、前記の電子線硬化成分である重合性オリゴマーや重合性モノマー、及び各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電子線硬化型樹脂組成物からなる塗工液を調製する。この塗工液の粘度は、後述の塗工方式により、電子線易劣化性基材シートの表面に未硬化樹脂層を形成し得る粘度であればよく、特に制限はない
本発明においては、このようにして調製された塗工液を、前述の電子線易劣化性基材シートの表面に、硬化後の厚さが1〜20μmになるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコートなどの公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗工し、未硬化樹脂層を形成させる。硬化後の厚さが1μm未満では所望の機能を有する硬化樹脂層が得られにくく、20μmを超えると電子線照射による架橋・硬化が不十分となる場合がある。硬化後の厚さは、好ましくは2〜10μm程度である。
In the present invention, the polymerizable oligomer or polymerizable monomer, which is the electron beam curing component, and various additives are homogeneously mixed at a predetermined ratio, respectively, and a coating liquid comprising an electron beam curable resin composition is prepared. Prepare. The viscosity of the coating solution may be a viscosity that can form an uncured resin layer on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet by a coating method described later, and in the present invention, there is no particular limitation. Gravure coating, bar coating, roll coating, reverse roll so that the coating liquid prepared in this way has a thickness of 1 to 20 μm after curing on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet. It coats by well-known systems, such as a coat and a comma coat, preferably a gravure coat, and forms an uncured resin layer. When the thickness after curing is less than 1 μm, it is difficult to obtain a cured resin layer having a desired function, and when it exceeds 20 μm, crosslinking and curing by electron beam irradiation may be insufficient. The thickness after curing is preferably about 2 to 10 μm.

本発明においては、このようにして形成された未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧150kV以下で照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、硬化樹脂層を形成させると共に、電子線照射前に対する照射後の基材シートの色差を、L***表色系でΔEが0.6以下とする。電子線照射前に対する照射後の基材シートの色差ΔEが、L***表色系で0.6を超える場合は、基材シートが、電子線により劣化を受けたことを示し、本発明の目的が達せられない。上記ΔEは小さいほどよいが、通常0.1〜0.6程度である。
照射する電子線の加速電圧が150kVを超えると樹脂層を透過した電子線が基材シートを劣化し、上記ΔEが0.6以下とならず、本発明の目的が達せられない。電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加する。したがって、電子線の透過深さと樹脂層の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、基材シートへの余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による基材シートの劣化を最小限にとどめることができる。このように、最適な加速電圧は、樹脂層の厚さに左右されるので、硬化後の厚さが、好ましい範囲の2〜10μm程度である場合には、加速電圧は70〜95kVの範囲が好ましい。
In the present invention, the uncured resin layer thus formed is irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 150 kV or less to cure the uncured resin layer, thereby forming a cured resin layer, and before the electron beam irradiation. The color difference of the base material sheet after irradiation with respect to is set to ΔE of 0.6 or less in the L * a * b * color system. When the color difference ΔE of the base material sheet after irradiation with respect to before the electron beam irradiation exceeds 0.6 in the L * a * b * color system, it indicates that the base material sheet has been deteriorated by the electron beam, The object of the present invention cannot be achieved. The smaller ΔE is better, but it is usually about 0.1 to 0.6.
When the accelerating voltage of the electron beam to be irradiated exceeds 150 kV, the electron beam transmitted through the resin layer deteriorates the base sheet, and the above ΔE does not become 0.6 or less, and the object of the present invention cannot be achieved. In the electron beam irradiation, the transmission capability increases as the acceleration voltage increases. Therefore, by selecting the accelerating voltage so that the penetration depth of the electron beam and the thickness of the resin layer are substantially equal, it is possible to suppress the irradiation of the extra electron beam to the base sheet, and the excess electron beam It is possible to minimize the deterioration of the base sheet due to the above. Thus, the optimum acceleration voltage depends on the thickness of the resin layer. Therefore, when the thickness after curing is about 2 to 10 μm, which is a preferable range, the acceleration voltage is in the range of 70 to 95 kV. preferable.

また、照射線量は、樹脂層の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常0.5〜30Mrad、好ましくは1〜5Mradの範囲で選定される。
さらに、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。
このようにして、電子線易劣化性基材シートの表面に、電子線照射による硬化樹脂層を形成させることができる。該硬化樹脂層には、得られる硬化樹脂層付きシートの用途に応じて、各種の添加剤を添加して各種の機能、例えば、高硬度で耐擦傷性を有する、いわゆるハードコート機能、防曇コート機能、防汚コート機能、防眩コート機能、反射防止コート機能、紫外線遮蔽コート機能、赤外線遮蔽コート機能などを付与することができる。
Further, the irradiation dose is preferably an amount at which the crosslink density of the resin layer is saturated, and is usually selected in the range of 0.5 to 30 Mrad, preferably 1 to 5 Mrad.
Further, the electron beam source is not particularly limited. For example, various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. Can be used.
Thus, the cured resin layer by electron beam irradiation can be formed on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet. Depending on the intended use of the resulting cured resin layered sheet, various additives may be added to the cured resin layer for various functions, for example, high hardness and scratch resistance, so-called hard coat function, antifogging A coating function, an antifouling coating function, an antiglare coating function, an antireflection coating function, an ultraviolet shielding coating function, an infrared shielding coating function, and the like can be imparted.

図1は、本発明の方法により製造される硬化樹脂層付きシートの一例の断面図である。硬化樹脂層付きシート10は、電子線易劣化性基材シート1の表面に、電子線照射により架橋・硬化してなる硬化樹脂層2が設けられた構造を有している。
前記硬化樹脂層付きシートにおいては、基材シートの硬化樹脂層とは反対側の面に、所望により粘着剤層を介して剥離シートを設けることができる。
上記粘着剤を構成する粘着剤としては特に制限はなく、従来公知のものの中から、任意のものを適宣選択して用いることができる。例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤及びポリエステル系粘着剤などを用いることができる。これらの中で、一般的にはアクリル系粘着剤、及びゴム系粘着剤がよく用いられるが、耐候性を考慮するとアクリル系粘着剤が好ましい。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of a sheet with a cured resin layer produced by the method of the present invention. The sheet | seat 10 with a cured resin layer has the structure where the cured resin layer 2 formed by bridge | crosslinking and hardening | curing by electron beam irradiation was provided in the surface of the electron beam easily-degradable base material sheet 1. FIG.
In the said sheet | seat with a cured resin layer, a peeling sheet can be provided in the surface on the opposite side to the cured resin layer of a base material sheet through an adhesive layer if desired.
There is no restriction | limiting in particular as an adhesive which comprises the said adhesive, Arbitrary things can be selected and used suitably from conventionally well-known things. For example, an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a silicone adhesive, a polyurethane adhesive, a polyester adhesive, and the like can be used. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives and rubber-based pressure-sensitive adhesives are generally used, but acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable in consideration of weather resistance.

上記アクリル系粘着剤としては、主成分として、例えば(メタ)アクリル酸エステル単独重合体、(メタ)アクリル酸エステル単位二種以上を含む共重合体及び(メタ)アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体の中から選ばれた少なくとも1種を含有するものが用いられる。尚、此処で(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸、又はメタクリル酸のことを意味する。
また、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などの中から選ばれた少なくとも1種を含有するものが用いられる。
これらの粘着剤には、所望に応じて、架橋剤、粘着付与剤、酸化防止剤、充填剤などを配合することができる。
当該硬化樹脂層付きシートにおいては、上記粘着剤は、基材シートに直接塗布して粘着剤層を設け、その上に剥離シートをその剥離剤層が接するように貼着してもよいし、剥離シートの剥離剤層上に粘着剤を塗布して粘着剤層を設けたのち、これを基材シートに貼着し、該粘着剤層を転写してもよい。この場合、剥離シートはそのまま付着させておく。基材シートに設けられる粘着剤層の厚みは、通常5〜80μm、好ましくは、10〜60μmの範囲で選定される。
As said acrylic adhesive, as a main component, (meth) acrylic acid ester homopolymer, the copolymer containing 2 or more types of (meth) acrylic acid ester units, and (meth) acrylic acid ester and other functionality, for example What contains at least 1 sort (s) chosen from the copolymer with a monomer is used. Here, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid.
As the rubber-based adhesive, the main component is, for example, natural rubber, polyisoprene rubber, polyisobutylene, polybutadiene rubber, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, etc. Those containing at least one selected are used.
These pressure-sensitive adhesives can be blended with a crosslinking agent, a tackifier, an antioxidant, a filler and the like as desired.
In the sheet with the cured resin layer, the pressure-sensitive adhesive may be directly applied to the base material sheet to provide a pressure-sensitive adhesive layer, and the release sheet may be adhered thereon so that the release agent layer is in contact therewith, After applying an adhesive on the release agent layer of the release sheet to provide an adhesive layer, the adhesive layer may be attached to a substrate sheet to transfer the adhesive layer. In this case, the release sheet is left as it is. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer provided on the base sheet is usually 5 to 80 μm, preferably 10 to 60 μm.

上記剥離シートとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗布したものなどが挙げられる。この剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20〜150μm程度である。
図2は、本発明の方法により製造される硬化樹脂層付きシートの別の例の断面図である。硬化樹脂層付きシート20は、電子線易劣化性基材シート1の一方の面に、電子線照射により架橋・硬化してなる硬化樹脂層2が設けられていると共に、他方の面に、粘着剤層3を介して、剥離シート4が貼着された構造を有している。
Examples of the release sheet include paper such as glassine paper, coated paper, and laminated paper, and various plastic films coated with a release agent such as silicone resin. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of this peeling sheet, Usually, it is about 20-150 micrometers.
FIG. 2 is a cross-sectional view of another example of a sheet with a cured resin layer produced by the method of the present invention. The cured resin layer-attached sheet 20 is provided with a cured resin layer 2 that is crosslinked and cured by electron beam irradiation on one surface of the electron beam easily degradable substrate sheet 1 and has an adhesive on the other surface. It has a structure in which a release sheet 4 is adhered via an agent layer 3.

本発明の方法で得られた硬化樹脂層付きシートは、その硬化樹脂層の機能、例えばハードコート機能、防曇コート機能、防汚コート機能、防眩コート機能、反射防止コート機能、紫外線遮蔽コート機能、赤外線遮蔽コート機能などを利用して、各種用途に用いることができる。具体的な用途としては、建築物内装材や建具、家具などの表面材;建築物の窓ガラスや窓用プラスチックボードの内側表面貼付材や外側表面貼付材;各種ディスプレイの防眩性、反射防止性表面保護フィルム、近赤外線遮断フィルター等;自動車や各種輸送機器のボディーや窓ガラス、道路の標識、ロードサイド看板、高速道路などの遮音板、カーブミラーなどに対する貼付材などが挙げられる。   The sheet with a cured resin layer obtained by the method of the present invention has functions of the cured resin layer, such as a hard coat function, an antifogging coat function, an antifouling coating function, an antiglare coating function, an antireflection coating function, and an ultraviolet shielding coating. It can be used for various applications by utilizing the function, infrared shielding coating function, and the like. Specific applications include surface materials for building interior materials, fittings, furniture, etc .; inner and outer surface adhesives for building window glass and plastic boards for windows; anti-glare and anti-reflection for various displays Surface protection film, near-infrared shielding filter, etc .; body and window glass of automobiles and various transportation equipment, road signs, roadside signboards, sound insulation boards for expressways, patch materials for curved mirrors, and the like.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例において作製した硬化樹脂層付きシートの物生は、下記の要領に従って求めた。
(1)溶着性
JIS K5400に準拠し、ロータリーカッターにて1mm角の碁盤目100マスを付け、25mm幅のセロハン粘着テープを圧着させたのち、90度の剥離試験を実施した。100マスのうちの残存膜数を数えることにより、蜜着性の評価を行った。
(2)スチールウール硬度
スチールウール#0000にて、硬化樹脂層の表面を、荷重4.9N(500g)で1500回往復擦りつけた際の傷の付き方を、全く傷が付かない場合を5、基材に用いたポリカーボネートフィルムと同等に傷が付いた場合を1とし、かつその間を4,3,2に分け、5段階で評価した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited at all by this example.
In addition, the physical property of the sheet | seat with a cured resin layer produced in each example was calculated | required according to the following point.
(1) Weldability In accordance with JIS K5400, a 100 mm grid with 1 mm square was attached with a rotary cutter, and a cellophane adhesive tape with a width of 25 mm was pressure-bonded, and then a 90 degree peel test was performed. The wettability was evaluated by counting the number of remaining films in 100 squares.
(2) Steel Wool Hardness When the surface of the cured resin layer is rubbed back and forth 1500 times with a load of 4.9 N (500 g) with steel wool # 0000 5 The case where the film was scratched in the same manner as the polycarbonate film used for the base material was set to 1, and the interval was divided into 4, 3 and 2, and was evaluated in 5 stages.

実施例1
基材である厚さ100μmのポリカーボネートフィルム[三菱エンジニアリングプラスチック社製、商品名「ユーピロン・シート」、ビスフェノールA系]の表面に、電子線硬化型樹脂塗料[ザ・インクテック社製、商品名「EB−HC(E)」、15官能ウレタンアクリレート系オリゴマーと2官能アクリレート系モノマーを質量比8:2の割合で含有]を、硬化後の厚さが6μmになるようにバーコート法にて塗工し、未硬化樹脂層を設けた。
なお、上記ポリカーボネートフィルムは、それに電子線を加速電圧150kV、照射線量5Mradの条件で照射した場合、照射前に対する照射後の色差が、L***表色系で△E1.1であった。
次いで、電子線照射装置[岩崎電気■製、商品名「アイライトビーム」]を用い、前
記未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧80kV、照射線量5Mradの条件で照射し、架橋・硬化させ、硬化樹脂層を形成することにより、硬化樹脂層付きシートを作製した。
この硬化樹脂層付きシートについて、蜜着性、スチールウール硬度を測定すると共に、硬化樹脂層を剥がし、基材シートの電子線照射前に対する照射後の色差△Eを、L***表色系で求めた。その結果を第1表に示す。
Example 1
On the surface of a polycarbonate film of 100 μm thickness (made by Mitsubishi Engineering Plastics, trade name “Iupilon Sheet”, bisphenol A), which is a base material, an electron beam curable resin paint [made by The Inktec, trade name “ EB-HC (E) ”, containing 15 functional urethane acrylate oligomer and bifunctional acrylate monomer in a mass ratio of 8: 2] by a bar coating method so that the thickness after curing is 6 μm. And an uncured resin layer was provided.
When the polycarbonate film was irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 5 Mrad, the color difference after irradiation with respect to before irradiation was ΔE1.1 in the L * a * b * color system. It was.
Next, using an electron beam irradiation apparatus [manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., trade name “eyelight beam”], the uncured resin layer is irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 80 kV and an irradiation dose of 5 Mrad to be crosslinked and cured. A sheet with a cured resin layer was produced by forming a cured resin layer.
The sheet with the cured resin layer was measured for wettability and steel wool hardness, and the cured resin layer was peeled off, and the color difference ΔE after irradiation of the base sheet before electron beam irradiation was calculated using the L * a * b * table. Obtained by color system. The results are shown in Table 1.

比較例1
実施例1において、電子線の加速電圧を170kVに変更した以外は、実施例1と同様な操作を行った。結果を第1表に示す。
Comparative Example 1
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the acceleration voltage of the electron beam was changed to 170 kV. The results are shown in Table 1.

Figure 2005059307
Figure 2005059307

第1表から明らかなように、実施例1及び比較例1は、いずれも蜜着性、スチールウール硬度は、同程度に良好であるが、比較例1は、実施例1に比べて△Eが大きく、基材シートが劣化していることが分かる。   As is apparent from Table 1, both Example 1 and Comparative Example 1 have good adhesion and steel wool hardness, but Comparative Example 1 has ΔE as compared with Example 1. It can be seen that the base sheet is deteriorated.

本発明によれば、電子線易劣化性基材シートの表面に電子線の照射により、所要の機能をもつ性能に優れた硬化樹脂層を、上記基材シートに損傷を与えることなく、効率よく形成することができる。このようにして得られた硬化樹脂層付きシートは、その硬化樹脂層がもつ機能を利用して、各種物品の表面貼付用などとして好適に用いることができる。   According to the present invention, by irradiating the surface of an electron beam easily degradable substrate sheet with an electron beam, a cured resin layer having a required function and excellent performance can be efficiently obtained without damaging the substrate sheet. Can be formed. The sheet with a cured resin layer thus obtained can be suitably used for surface sticking of various articles by utilizing the function of the cured resin layer.

本発明の方法で製造される硬化樹脂層付きシートの一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the sheet | seat with a cured resin layer manufactured with the method of this invention. 本発明の方法で製造される硬化樹脂層付きシートの別の例の断面図である。It is sectional drawing of another example of the sheet | seat with a cured resin layer manufactured with the method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 電子線易劣化性基材シート
2 硬化樹脂層
3 粘着剤層
4 剥離シート
10、20 硬化樹脂層付きシート

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron beam easily-degradable base material sheet 2 Cured resin layer 3 Adhesive layer 4 Release sheet 10, 20 Sheet with cured resin layer

Claims (5)

電子線易劣化性基材シートの表面に、電子線硬化型樹脂組成物からなる未硬化樹脂層を、硬化後の厚さが1〜20μmになるように設け、次いで上記未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧150kV以下で照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、硬化樹脂層を形成させると共に、電子線照射前に対する照射後の基材シートの色差を、L***表色系でΔEが0.6以下とすることを特徴とする硬化樹脂層付きシートの製造方法。 An uncured resin layer made of an electron beam curable resin composition is provided on the surface of the electron beam easily degradable substrate sheet so that the thickness after curing is 1 to 20 μm, and then the uncured resin layer is The uncured resin layer is cured by irradiating with an electron beam at an acceleration voltage of 150 kV or less to form a cured resin layer, and the color difference of the substrate sheet after irradiation with respect to before irradiation with the electron beam is represented by an L * a * b * table. A method for producing a sheet with a cured resin layer, wherein ΔE is 0.6 or less in a color system. 電子線易劣化性基材シートが、該基材シートに電子線を加速電圧150kV、照射線量5Mradの条件で照射した場合、照射前に対する照射後の色差が、L***表色系でΔE0.6以上のものである請求項1記載の硬化樹脂層付きシートの製造方法。 When the electron beam easily degradable substrate sheet is irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 5 Mrad, the color difference after irradiation with respect to before irradiation is L * a * b * color system. The method for producing a sheet with a cured resin layer according to claim 1, wherein ΔE is 0.6 or more. 電子線易劣化性基材シートが、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂及び塩化ビニル系樹脂の中から選ばれたプラスチックを素材とするシート、又は紙基材である請求項1又は2記載の硬化樹脂層付きシートの製造方法。 3. The electron beam easily degradable base sheet is a sheet made of a plastic selected from a polycarbonate resin, a triacetyl cellulose resin and a vinyl chloride resin, or a paper base. A method for producing a sheet with a cured resin layer. 未硬化樹脂層に、電子線を加速電圧70〜95kVで照射する請求項1,2又は3記載の硬化樹脂層付きシートの製造方法。 The manufacturing method of the sheet | seat with a cured resin layer of Claim 1, 2 or 3 which irradiates an electron beam with an acceleration voltage of 70-95 kV to an uncured resin layer. 電子線硬化型樹脂組成物が、電子線硬化成分として、多官能ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー及び多官能重合性モノマーを含むものである請求項1ないし4のいずれかに記載の硬化樹脂層付きシートの製造方法。

The sheet with a cured resin layer according to any one of claims 1 to 4, wherein the electron beam curable resin composition contains a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer and a polyfunctional polymerizable monomer as an electron beam curing component. Production method.

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101224647B (en) * 2007-01-18 2012-11-21 琳得科株式会社 Hard coating film
CN111436182A (en) * 2019-01-11 2020-07-21 太阳油墨制造株式会社 Laminated structure, dry film, cured product thereof, and electronic component
CN112384656A (en) * 2018-06-29 2021-02-19 国立大学法人大阪大学 Method for producing paper

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101224647B (en) * 2007-01-18 2012-11-21 琳得科株式会社 Hard coating film
CN112384656A (en) * 2018-06-29 2021-02-19 国立大学法人大阪大学 Method for producing paper
JPWO2020004639A1 (en) * 2018-06-29 2021-07-08 国立大学法人大阪大学 Paper manufacturing method
EP3816346A4 (en) * 2018-06-29 2022-03-16 Osaka University Method for producing paper
JP7113463B2 (en) 2018-06-29 2022-08-05 国立大学法人大阪大学 paper manufacturing method
US11634867B2 (en) 2018-06-29 2023-04-25 Osaka University Method for producing paper
CN111436182A (en) * 2019-01-11 2020-07-21 太阳油墨制造株式会社 Laminated structure, dry film, cured product thereof, and electronic component

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