JP2005058887A - Waste water treatment apparatus using high-voltage pulse - Google Patents

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JP2005058887A JP2003291183A JP2003291183A JP2005058887A JP 2005058887 A JP2005058887 A JP 2005058887A JP 2003291183 A JP2003291183 A JP 2003291183A JP 2003291183 A JP2003291183 A JP 2003291183A JP 2005058887 A JP2005058887 A JP 2005058887A
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Masamichi Asano
昌道 浅野
Tatsufumi Aoi
辰史 青井
Masayuki Tabata
雅之 田畑
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waste water treatment apparatus using a high-voltage pulse which can treat organic substances at high removal rates in a short time even in the case of waste water containing a high concentration of the organic substances, and enables a high-efficiency treatment by improving a reaction efficiency in a decomposition reaction regions of the organic substances. <P>SOLUTION: In the waste water treatment apparatus, a treatment tank 2 having a cathode nozzle 3 connected to a high-voltage pulse power source 5 is installed, the cathode nozzle 3 is covered with an insulator 15 so that its tip end is exposed, gas is supplied between the cathode nozzle and an anode 4 while applying the high-voltage pulse between them to generate bubble discharge 14 in the waste water, and the organic substances are decomposed and removed by oxidative radicals produced in the waste water 1. The cathode nozzle has a double pipe structure provided with a gas passage guide 16, and is structured so that the gas flows through its outer periphery-side space. A mesh 18 for gas flow straightening is installed in a gas passage 17, and a rotating flow generation nozzle 20 is equipped for liquid innovation. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、し尿、下水、埋立て浸出水、食品加工廃液、及び工場廃液等の有機性物質含有廃水を対象とした廃水処理に関し、特に電気化学的に有機性物質を分解除去する高電圧パルス処理を利用した廃水処理装置に関する。   The present invention relates to wastewater treatment for organic material-containing wastewater such as human waste, sewage, landfill leachate, food processing wastewater, and factory wastewater, and more particularly, a high-voltage pulse for electrochemically decomposing and removing organic materials. The present invention relates to a wastewater treatment apparatus using treatment.

従来、有機性物質を含む廃水の処理は、主として活性汚泥法、間欠曝気消化法、脱窒法等によって行われている。しかしながら、これらの方法はいずれも生物分解法であるため、処理されるべき廃水が難分解性の有機性物質を多量に含有している場合、大量の水を加えることにより該廃水を希釈しなければならず、廃水の処理量を増大させることとなるため、電力消費量の増大及び廃水処理コスト高を生じていた。また、生物分解のための長い反応時間(数日〜数週間)が必要となるという問題点を有していた。   Conventionally, treatment of wastewater containing organic substances is mainly performed by an activated sludge method, an intermittent aeration digestion method, a denitrification method, or the like. However, since all of these methods are biodegradation methods, if the wastewater to be treated contains a large amount of hardly decomposed organic substances, the wastewater must be diluted by adding a large amount of water. As a result, the amount of wastewater to be treated is increased, resulting in an increase in power consumption and high wastewater treatment costs. In addition, a long reaction time (several days to several weeks) for biodegradation is required.

このような問題点を改善する目的で、近年、電気化学的な処理装置の開発が活発に行われている。電気化学的な廃水処理としては、米国特許第5464513号公報(特許文献1)等に開示されるように、有機性物質含有廃水を水中高圧パルス放電処理することにより該有機性物質を分解処理する方法が挙げられる。
かかる方法は、高圧パルス放電により殺菌を行なうとともに、放電により発生する酸化物により有機性物質を分解する方法であり、薬品を使用することなく、かつ汚泥を発生しないという利点を有している。
また、特開平10−323674号(特許文献2)では、有機物含有水を高圧パルス放電処理装置において高圧パルス放電処理し、発生する活性酸素種により、溶解性有機物分子の凝集、懸濁物粒子の表面荷電の中和などの反応を引き起こさせて、懸濁物質の凝集性を高め、これにより固液分離と組み合わせて効率よく汚濁物を分離する廃水処理方法を提案している。
In recent years, electrochemical processing apparatuses have been actively developed for the purpose of improving such problems. As the electrochemical wastewater treatment, as disclosed in US Pat. No. 5,464,513 (Patent Document 1) and the like, the organic substance is decomposed by subjecting the organic substance-containing wastewater to underwater high-pressure pulse discharge treatment. A method is mentioned.
Such a method is a method of sterilizing by high-pressure pulse discharge and decomposing an organic substance by an oxide generated by the discharge, and has an advantage that no sludge is generated without using chemicals.
Further, in JP-A-10-323684 (Patent Document 2), organic substance-containing water is subjected to high-pressure pulse discharge treatment in a high-pressure pulse discharge treatment apparatus, and soluble organic matter molecules are aggregated and suspended particles are generated by the active oxygen species generated. A wastewater treatment method has been proposed in which a reaction such as neutralization of the surface charge is caused to increase the cohesiveness of the suspended solids, thereby efficiently separating the contaminants in combination with solid-liquid separation.

さらに、電気化学反応を効率よく行なう処理として、図9に示すように、有機性物質を含有する廃水を保持した処理槽02内に陽極04と陰極03を対向させて配置し、ガスタンク06より両電極間に気泡13を発生させながら、高電圧パルス電源5より該電極間に高電圧パルスを印加し、水中高圧パルス放電処理することにより有機性物質を分解する装置がある。これは、例えば特開2001−293478公報(特許文献3)に開示されるように、前記ガスタンク06をオゾン発生器とし、オゾンからなる気泡を処理槽02内に導入する処理装置などが挙げられる。   Further, as a process for efficiently performing the electrochemical reaction, as shown in FIG. 9, the anode 04 and the cathode 03 are arranged opposite to each other in a treatment tank 02 holding waste water containing an organic substance. There is an apparatus for decomposing an organic substance by generating a bubble 13 between electrodes while applying a high voltage pulse between the electrodes from a high voltage pulse power source 5 and performing a high-pressure pulse discharge treatment in water. For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-293478 (Patent Document 3), there is a processing apparatus that uses the gas tank 06 as an ozone generator and introduces bubbles made of ozone into the processing tank 02.

これらの処理は、前記電極間に印加した高電圧パルスにより気泡存在域に電界が形成され、気泡内での放電(気泡放電)、及び気泡から液に、電極から液に延びた液中放電が生じ、酸化力の大きいOHラジカル(ヒドロキシラジカル)等の酸化ラジカルが発生し、該酸化ラジカルにより廃水中の有機性物質の分解が促進される作用を利用した方法である。さらに、特許文献3では前記気泡としてオゾンを用いていることから、気泡放電若しくは液中放電によりオゾンを原料としてOHラジカルが発生し易くなり、有機性物質の分解が促進されることとなる。   In these treatments, an electric field is formed in the bubble existence region by a high voltage pulse applied between the electrodes, and discharge in the bubble (bubble discharge) and in-liquid discharge extending from the bubble to the liquid and from the electrode to the liquid are generated. This is a method utilizing the action of generating and generating oxidative radicals such as OH radicals (hydroxy radicals) having high oxidizing power and promoting the decomposition of organic substances in wastewater by the oxidative radicals. Furthermore, in Patent Document 3, since ozone is used as the bubbles, OH radicals are likely to be generated using ozone as a raw material by bubble discharge or submerged discharge, and decomposition of organic substances is promoted.

また、OHラジカル及びOラジカル(酸素ラジカル)等の酸化ラジカルの発生効率を向上させる方法として、特表2002−539860公報(特許文献4)では、ラジカル発生用電極間に印加する電場を特定の条件とし、かつ一の電極を形成する金属酸化物表面と廃水とを長時間接触させるようにした処理方法が提案されている。具体的には、一の電極を形成する二酸化チタンで内面被膜した管状部材と、軸線上に保持された他の電極を形成する負極ロッドから構成されるラジカル発生部に廃水を通過させ、廃水中の有機性物質を酸化分解する。このとき、電極間の直流電圧勾配を0.2〜6KV/cm、周波数を10kHz〜150kHz、パルス電流密度を5μm/cm2〜50mA/cm2である矩形波形という条件に設定している。
これらの処理法により、ある程度の電力消費量並びに廃水処理コストの低減や、反応時間の短縮化が図られるようになってきた。
As a method for improving the generation efficiency of oxidation radicals such as OH radicals and O radicals (oxygen radicals), Japanese Patent Application Publication No. 2002-539860 (Patent Document 4) specifies an electric field applied between radical generation electrodes as a specific condition. In addition, a treatment method has been proposed in which the metal oxide surface forming one electrode and the waste water are brought into contact with each other for a long time. Specifically, the wastewater is passed through a radical generating part composed of a tubular member coated with titanium dioxide that forms one electrode and a negative electrode rod that forms another electrode held on the axis, Oxidative decomposition of organic substances. At this time, the DC voltage gradient between the electrodes is set to a rectangular waveform with a voltage of 0.2 to 6 KV / cm, a frequency of 10 kHz to 150 kHz, and a pulse current density of 5 μm / cm 2 to 50 mA / cm 2 .
By these treatment methods, a certain amount of power consumption and wastewater treatment costs have been reduced, and reaction time has been shortened.

米国特許第5464513号公報US Pat. No. 5,464,513 特開平10−323674号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-323684 特開2001−293478公報JP 2001-293478 A 特表2002−538960公報Special table 2002-538960 gazette

しかし、特許文献1乃至3等に開示される処理法では低濃度の有機性物質を含む廃水の処理には適しているが、水中放電を生じさせるために高電圧が必要となる。また高濃度の有機性物質を含有する廃水の場合は導電率が高いため、高電圧を印加するためには大電力の供給が必要で処理効率が悪化するという問題があり、実用化に際してはさらに分解性能を向上させる必要が生じていた。
また、特許文献2では、分解処理でなく凝集処理であるため固液分離、沈殿槽等の装置が必要となり設備が大型化するとともに、凝集物の後処理が必要となり処理が煩雑化する。
また、特許文献3等のようにオゾンを利用して電気的処理を行なう場合には、高濃度の有機性物質を含有する廃水であっても比較的高除去率で有機性物質を処理可能であるが、オゾンは人体に有害であるため取り扱いが困難であるとともに、オゾンが高価であるためランニングコストが嵩むという問題を有している。
However, although the treatment methods disclosed in Patent Documents 1 to 3 and the like are suitable for treatment of wastewater containing a low concentration of organic substances, a high voltage is required to cause underwater discharge. In the case of wastewater containing a high concentration of organic substances, the conductivity is high, so there is a problem that a high power supply is required to apply a high voltage and the processing efficiency is deteriorated. There was a need to improve the decomposition performance.
Moreover, in patent document 2, since it is not a decomposition | disassembly process but an aggregation process, apparatuses, such as a solid-liquid separation and a sedimentation tank, are needed, an installation enlarges and the post-process of an aggregate is needed and a process becomes complicated.
In addition, when electrical treatment is performed using ozone as in Patent Document 3, organic substances can be treated with a relatively high removal rate even for wastewater containing a high concentration of organic substances. However, since ozone is harmful to the human body, it is difficult to handle, and since ozone is expensive, running costs increase.

さらにまた、特許文献4の処理方法では電極表面から発生するラジカルを利用しているため、被処理水が例えばし尿、下水若しくは工場廃液等の有機性物質含有廃水である場合、廃水中に含まれるSS(浮遊物質)が電極表面に付着し電極表面活性が変化して処理性能が大きく変動するという問題点があった。
従って本発明はかかる従来技術の問題に鑑み、高濃度の有機性物質を含有する廃水であっても有機性物質を短時間でかつ高除去率で以って処理可能であるとともに、有機性物質の分解反応領域における反応効率を向上させて高効率処理を可能とした高電圧パルスを利用した廃水処理装置を提供することを目的とする。
Furthermore, since the radical generated from the electrode surface is used in the treatment method of Patent Document 4, when the water to be treated is waste water containing organic substances such as human waste, sewage, or factory waste liquid, it is included in the waste water. There is a problem that SS (floating substance) adheres to the electrode surface, and the electrode surface activity changes to greatly change the processing performance.
Therefore, in view of the problems of the prior art, the present invention can treat an organic substance in a short time with a high removal rate even if it is wastewater containing a high concentration of the organic substance. An object of the present invention is to provide a wastewater treatment apparatus using a high-voltage pulse that improves the reaction efficiency in the decomposition reaction region of the gas and enables high-efficiency treatment.

そこで、本発明はかかる課題を解決するために、
高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽を備え、該処理槽内で廃水に高電圧パルス処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該廃水中の有機性物質を分解処理する廃水処理装置において、
前記処理槽に廃水を供給する廃水供給手段と、電気導電体で形成された気体供給ノズルを備えた気体供給手段とを設け、
前記気体供給ノズルを前記高電圧パルス電源に接続するとともに、該ノズル先端が露出するようにノズル外周を絶縁被覆し、
一の電極を形成する前記気体供給ノズルと他方の電極との間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して、廃水中に気泡放電を発生させる構成としたことを特徴とする。
Therefore, in order to solve this problem, the present invention provides:
Wastewater comprising a treatment tank having a pair of electrodes connected to a high-voltage pulse power source, subjecting wastewater to high-voltage pulse treatment in the treatment tank, and decomposing organic substances in the wastewater by the generated oxidation radicals In the processing device,
A waste water supply means for supplying waste water to the treatment tank; and a gas supply means having a gas supply nozzle formed of an electric conductor;
The gas supply nozzle is connected to the high voltage pulse power source, and the nozzle periphery is insulated so that the nozzle tip is exposed,
A feature is that gas is supplied while applying a high voltage pulse between the gas supply nozzle forming one electrode and the other electrode to generate bubble discharge in the wastewater.

かかる発明によれば、非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルを効率良く発生させることができるため、高濃度の有機性物質を含有する廃水であっても高除去率で以って処理すること可能となり、処理水性状を向上させることができる。
また、気体供給ノズルを陰極とし、該ノズルの先端を露出させ絶縁体で被覆させるとともに、該陰極の先端から気泡を発生させることにより、廃水中に生じた気泡に直接電界を印加することができ、気泡放電を容易に発生させることができる。したがって、高導電率を有する廃水に対しても安定にかつ液体放電よりも低電圧にて放電を行なうことができる。
また、気体と廃水とを独立して制御することができるため、気液混合系に比べて放電を安定に制御することが可能となる。
According to this invention, since it is possible to efficiently generate oxidized radicals having very strong oxidizing power, even wastewater containing a high concentration of organic substances can be treated with a high removal rate. This makes it possible to improve the treatment water quality.
In addition, an electric field can be directly applied to the bubbles generated in the wastewater by using the gas supply nozzle as a cathode, exposing the tip of the nozzle to cover with an insulator, and generating bubbles from the tip of the cathode. Bubble discharge can be easily generated. Therefore, it is possible to discharge the wastewater having high conductivity stably and at a lower voltage than the liquid discharge.
Moreover, since gas and wastewater can be controlled independently, it becomes possible to control discharge more stably than in a gas-liquid mixing system.

また本発明は、前記気体供給ノズルを介して廃水中に噴出する気体の流路を、前記ノズルの開口縁近傍から集中して気体が噴出するような気体流路構造としたことを特徴とし、好適には前記気体供給ノズルを2重管構造とし、前記気体流路構造を前記気体が該ノズルの外周側間隙を通って前記開口縁近傍から集中して噴出する構造とする。
これにより、放電を開始し易い高電界強度領域に気泡を安定して供給することができ、酸化ラジカルの生成反応効率が向上する。
Further, the present invention is characterized in that the gas flow path ejected into the wastewater through the gas supply nozzle has a gas flow path structure in which gas is concentrated and concentrated from the vicinity of the opening edge of the nozzle, Preferably, the gas supply nozzle has a double pipe structure, and the gas flow path structure has a structure in which the gas is concentrated and ejected from the vicinity of the opening edge through a gap on the outer peripheral side of the nozzle.
Thereby, bubbles can be stably supplied to a high electric field strength region where discharge is easily started, and the generation reaction efficiency of oxidized radicals is improved.

また、前記気体供給ノズルを介して廃水中に噴出する気体の流路上に、気体整流用網目状部材を設けたことを特徴とする。
これにより、前記気体流路が偏心することを防止できるとともに、気体流路上で発生した圧力脈動を抑制することができる。さらに、気体が網目状部材を通過するので、微小な気泡を高電界強度領域に供給することができ、気泡放電が発生し易い雰囲気を形成することができる。従って、放電にて有機性物質の分解に有効な酸化ラジカルがより容易に生成されるので、廃水を効率的に分解処理することが可能となる。
Further, the present invention is characterized in that a gas rectifying mesh member is provided on a flow path of gas ejected into the wastewater through the gas supply nozzle.
Thereby, it is possible to prevent the gas flow path from being eccentric, and to suppress pressure pulsation generated on the gas flow path. Further, since the gas passes through the mesh member, minute bubbles can be supplied to the high electric field strength region, and an atmosphere in which bubble discharge easily occurs can be formed. Therefore, the oxidation radical effective for the decomposition of the organic substance is more easily generated by the discharge, so that the waste water can be efficiently decomposed.

また、前記気体供給ノズルの先端外側に絶縁材からなる気体滞留部を付設し、高電界強度領域に気泡を滞留させる構成としたことを特徴とする。
これにより、前記気泡を確実に高電界強度領域に滞留させることが可能となり、従来よりも、より低電圧にて安定した放電を行なうことができる。その結果、該放電にて有機分解に有効な酸化ラジカルがより容易に生成されるので、廃水を効率的に分解処理することが可能となる。
In addition, a gas retention portion made of an insulating material is provided outside the tip of the gas supply nozzle so that bubbles are retained in the high electric field strength region.
As a result, the bubbles can be reliably retained in the high electric field strength region, and stable discharge can be performed at a lower voltage than in the prior art. As a result, oxidation radicals effective for organic decomposition are more easily generated by the discharge, so that waste water can be efficiently decomposed.

また、前記気体供給ノズル外周の酸化ラジカル生成領域に存在する廃水を更新する手段を備えたことを特徴とする。
このとき、前記廃水更新手段が、前記気体供給ノズルを包皮するごとく設けられた旋回流生成ノズルであり、該旋回流生成ノズルにより該ノズル外周面に沿って前記酸化ラジカル生成領域の廃水が旋回するように構成することが好ましい。
一般に、高電圧パルスによる放電反応を起点とする反応は、気体中の励起分解や該励起体の溶液との反応、また高速電子の溶液への衝突、さらには金属酸化物処理を施した電極表面反応等で発生する酸化ラジカルが寄与するが、いずれも液表面層数〜数10μm程度の表面近傍の領域で起こるものである。そのため、系全体の反応は通常は拡散により支配されている。
そこで、放電が接するラジカル生成領域の廃水を更新させることにより、常に未反応の領域を放電反応面に接近させることができるので、反応効率を向上させることができる。
Further, the present invention is characterized in that there is provided means for renewing waste water existing in the oxidized radical generation region on the outer periphery of the gas supply nozzle.
At this time, the waste water update means is a swirl flow generation nozzle provided so as to cover the gas supply nozzle, and the swirl flow generation nozzle swirls waste water in the oxidation radical generation region along the outer peripheral surface of the nozzle. It is preferable to configure as described above.
In general, the reaction starting from a discharge reaction by a high voltage pulse is performed by excitation decomposition in a gas, reaction of the exciter with a solution, collision of high-speed electrons with the solution, or metal oxide-treated electrode surface. Oxidized radicals generated by reaction or the like contribute, but all occur in a region near the surface of the number of liquid surface layers to about several tens of μm. Therefore, the reaction of the whole system is usually governed by diffusion.
Therefore, by updating the waste water in the radical generation region that is in contact with the discharge, the unreacted region can always be brought closer to the discharge reaction surface, so that the reaction efficiency can be improved.

さらに、前記気体が、酸素富化ガス又は塩素含有ガス、若しくはこれらの混合ガスであることを特徴とする。
かかる発明では、酸素富化ガスを用いることにより、放電にてO3、Oラジカル、O2−イオンなど酸化力の強い活性酸化種が効率的に発生し、有機性物質の分解性能を向上させることができ、また、塩素含有ガスを用いることにより、放電にてClラジカルが効率的に発生し、有機性物質の分解性能を向上させることができる。
Furthermore, the gas is an oxygen-enriched gas, a chlorine-containing gas, or a mixed gas thereof.
In this invention, by using the oxygen-enriched gas, active oxidizing species having strong oxidizing power such as O 3 , O radicals, and O 2− ions are efficiently generated in the discharge, thereby improving the decomposition performance of organic substances. In addition, by using a chlorine-containing gas, Cl radicals are efficiently generated in the discharge, and the decomposition performance of the organic substance can be improved.

以上記載のごとく本発明によれば、高濃度の有機性物質を含有する廃水であっても短時間でかつ高除去率で以って処理可能であるとともに、有機性物質の分解反応領域における反応効率を向上させることにより高効率処理が可能となる。
即ち、陰極ノズルの先端を露出させ絶縁体で被覆させるとともに、該陰極の先端から気泡を発生させることにより、廃水中に生じた気泡に直接電界を印加することができ、気泡放電を容易に発生させることができる。従って、高導電率を有する廃水に対しても安定にかつ液体放電よりも低電圧にて放電を行なうことができる。
また、気体流路構造を、前記ノズルの開口縁近傍から集中して気体が噴出するような構造とすることにより、放電を開始し易い高電界強度領域に気泡を安定して供給することができ、酸化ラジカルの生成反応効率が向上する。
As described above, according to the present invention, even wastewater containing a high concentration of an organic substance can be treated in a short time with a high removal rate, and the reaction in the decomposition reaction region of the organic substance High efficiency processing is possible by improving the efficiency.
That is, the tip of the cathode nozzle is exposed and covered with an insulator, and bubbles are generated from the tip of the cathode, so that an electric field can be directly applied to the bubbles generated in the wastewater, and bubble discharge is easily generated. Can be made. Therefore, it is possible to discharge the wastewater having high conductivity stably and at a lower voltage than the liquid discharge.
Further, by making the gas flow path structure such that gas is concentrated from the vicinity of the opening edge of the nozzle, bubbles can be stably supplied to a high electric field strength region where discharge is likely to start. , Oxidation radical generation reaction efficiency is improved.

また、気体流路上に、気体整流用網目状部材を設けることにより、前記気体流路が偏心することを防止できるとともに、気体流路上で発生した圧力脈動を抑制することができる。さらに、気体が網目状部材を通過するので、微小な気泡が生成され気泡放電が発生し易い雰囲気を形成することができる。
さらに、放電が接するラジカル生成領域の廃水を更新させる構造とすることにより、常に未反応の領域を放電反応面に接近させることができるので、反応効率を向上させることができる。
Further, by providing a gas rectifying mesh member on the gas flow path, it is possible to prevent the gas flow path from being eccentric and to suppress pressure pulsation generated on the gas flow path. Furthermore, since the gas passes through the mesh member, an atmosphere in which minute bubbles are generated and bubble discharge is likely to occur can be formed.
Furthermore, by adopting a structure in which the wastewater in the radical generation region that is in contact with the discharge is renewed, the unreacted region can always be brought closer to the discharge reaction surface, so that the reaction efficiency can be improved.

以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に過ぎない。
図1は本発明に係る第1実施形態の廃水処理装置の構成図、図2は第1実施形態におけるOHラジカル蛍光強度の経時変化を示すグラフ、図3は第1実施形態におけるH2O2濃度の経時変化を示すグラフ、図4、5及び図7、8は夫々本発明の第2、3及び第4、5実施形態に係る廃水処理装置の構成図である。
Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in this embodiment are not intended to limit the scope of the present invention unless otherwise specified, but are merely illustrative examples. Not too much.
FIG. 1 is a configuration diagram of a wastewater treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a graph showing a change with time of OH radical fluorescence intensity in the first embodiment, and FIG. 3 is H 2 O 2 in the first embodiment. The graphs showing the change over time in concentration, FIGS. 4, 5 and 7, 8 are configuration diagrams of the wastewater treatment apparatus according to the second, third, fourth and fifth embodiments of the present invention, respectively.

まず、図1を参照して本発明に係る第1実施形態の廃水処理装置を説明する。
図1によれば、有機性廃水1を保持する処理槽2内には、気体供給機構を兼用する陰極ノズル(気体供給ノズル)3及び陽極4が配置されている。前記陽極4は液体供給口に配設しても良い。両電極には高電圧パルス電源5が接続され、処理条件に適合したパルス電力が供給される。かかる処理槽2には、ガスタンク6に貯留された気体を、ガス供給配管7を通じて前記陰極ノズル3より処理槽内の廃水1に導入する気体供給機構が具備されている。該気体供給機構により所望の種類及び量の気体が処理槽2内に導入され、廃水1中に気泡を生成する。尚、該ガスタンク6はコンプレッサで代替することも可能である。
First, a wastewater treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
According to FIG. 1, a cathode nozzle (gas supply nozzle) 3 and an anode 4 that also serve as a gas supply mechanism are arranged in a treatment tank 2 that holds the organic waste water 1. The anode 4 may be disposed at the liquid supply port. A high voltage pulse power source 5 is connected to both electrodes, and pulse power suitable for processing conditions is supplied. The treatment tank 2 is provided with a gas supply mechanism for introducing the gas stored in the gas tank 6 from the cathode nozzle 3 to the waste water 1 in the treatment tank through the gas supply pipe 7. A desired type and amount of gas is introduced into the treatment tank 2 by the gas supply mechanism, and bubbles are generated in the waste water 1. The gas tank 6 can be replaced with a compressor.

前記処理槽2は、液供給管8及び液供給ノズル9からなる廃水供給機構を介して前処理槽10と、また液排出管11からなる廃水排出機構を介して後処理槽12と夫々接続される。前記前処理槽10は、廃水中の夾雑物を除去するスクリーンなどを用いることができ、また前記後処理槽12は好気性発酵処理、嫌気性発酵処理等の生物処理槽などを用いることができる。
前記気体供給機構、廃水供給機構及び廃水排出機構は夫々バルブ等の液量制御手段を具備することにより適宜供給量及び排出量を調整可能な構成とする。このように、前記気体供給機構、廃水供給機構及び廃水排出機構は夫々独立制御可能な構成となっている。かかる構成により処理槽2内には気体と液体とが別個に供給され、処理槽2内で混合される。
さらに、前記処理槽2内の廃水1は前記陰極ノズル3からの気泡13により撹拌状態となっているが、撹拌翼、廃水循環手段(不図示)等の機械的撹拌手段を設ける構成としても良い。
The treatment tank 2 is connected to a pretreatment tank 10 via a wastewater supply mechanism comprising a liquid supply pipe 8 and a liquid supply nozzle 9 and to a post-treatment tank 12 via a wastewater discharge mechanism comprising a liquid discharge pipe 11. The The pretreatment tank 10 can use a screen for removing impurities in wastewater, and the posttreatment tank 12 can use a biological treatment tank such as an aerobic fermentation process and an anaerobic fermentation process. .
Each of the gas supply mechanism, the waste water supply mechanism, and the waste water discharge mechanism is configured to be able to adjust the supply amount and the discharge amount as appropriate by providing liquid amount control means such as valves. As described above, the gas supply mechanism, the waste water supply mechanism, and the waste water discharge mechanism can be independently controlled. With this configuration, gas and liquid are separately supplied into the processing tank 2 and mixed in the processing tank 2.
Further, although the waste water 1 in the treatment tank 2 is in a stirring state by the bubbles 13 from the cathode nozzle 3, a mechanical stirring means such as a stirring blade and a waste water circulation means (not shown) may be provided. .

また、本実施形態では、前記陰極ノズル3を一の電極(陰極3)とし、これと対向させて他方の電極(陽極4)を配置し、該電極が処理槽外部に設けられた高電圧パルス電源5に夫々接続されている。前記陰極ノズル3は金属導電体からなり、該ノズル外周表面を絶縁体15により絶縁被覆すると共に陰極ノズル3の端部のみを被覆露出させている。処理槽自体を陽極として機能させてもよい(他の実施形態においても同じ)。
かかる構成を有する処理槽2にて前記高電圧パルス電源5により両電極間にパルスを含む高周波電圧を印加することにより、廃水1中に生じた気泡13で放電14を発生させている。そして、気泡放電により酸化ラジカルを生成し、廃水中の有機性物質を分解処理する。
In the present embodiment, the cathode nozzle 3 is used as one electrode (cathode 3), the other electrode (anode 4) is disposed opposite to the electrode, and the high voltage pulse is provided outside the processing tank. Each is connected to a power source 5. The cathode nozzle 3 is made of a metal conductor, and the outer peripheral surface of the nozzle is covered with an insulator 15 and only the end of the cathode nozzle 3 is covered and exposed. The treatment tank itself may function as an anode (the same applies to other embodiments).
In the treatment tank 2 having such a configuration, a high frequency voltage including a pulse is applied between the two electrodes by the high voltage pulse power source 5, thereby generating a discharge 14 with the bubbles 13 generated in the waste water 1. And an oxidation radical is produced | generated by bubble discharge and the organic substance in wastewater is decomposed | disassembled.

このように、前記した構成の電極を用いることにより、廃水中に生じた気泡に直接電界を印加することができる。そして、この電界により気泡放電を発生させることができるため、高導電率廃水に対しても安定にかつ液体放電よりも低電圧にて放電を行なうことができる。特に、前記陰極ノズル3のうち処理槽内廃水と接する部分以外を絶縁し、当該部のみを電気的に露出させることにより、大きな電流を流すことなく気泡に効果的に電圧を印加させることができる。
また、前記気体と廃水の供給量を独立して制御することが可能となるため、従来のように気液混合系に直接電界を印加する場合と比較して放電を安定して制御することができる。
As described above, by using the electrode having the above-described configuration, an electric field can be directly applied to bubbles generated in wastewater. And since this electric field can generate a bubble discharge, it is possible to discharge stably even at a high conductivity wastewater at a lower voltage than a liquid discharge. In particular, by insulating the portion of the cathode nozzle 3 other than the portion in contact with the waste water in the treatment tank and electrically exposing only the portion, it is possible to effectively apply a voltage to the bubbles without flowing a large current. .
In addition, since the supply amount of the gas and the waste water can be controlled independently, it is possible to control the discharge stably as compared with the case where an electric field is directly applied to the gas-liquid mixing system as in the past. it can.

その結果、該放電にて有機性物質の分解に有効なOHラジカル、Oラジカル(酸素ラジカル)等の酸化ラジカルが、気体中の励起分解や該励起体の溶液との反応、また高速電子の溶液への衝突、さらに金属酸化物処理を施した電極表面反応等を通じて容易に生成される。
有機性物質の分解に有効な反応生成物であるOHラジカル、H2O2は、下記反応式(1)、(2)により生成される。
O → H +・OH +e ・・・(1)
2・OH → H ・・・(2)
前記反応式により生成されたOHラジカル、またはOラジカル等の非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルや、該酸化ラジカルにより生成した過酸化水素は、有機性物質と反応し、最終的にはCOとして排出される。
このように、かかる実施形態によれば酸化ラジカルの生成効率を向上させることができるため、廃水を高効率でもって処理可能である。
As a result, oxidation radicals such as OH radicals and O radicals (oxygen radicals) that are effective for decomposing organic substances in the discharge are excited and decomposed in the gas, reacted with the solution of the exciter, or a solution of fast electrons. It is easily generated through collision with the electrode, reaction of the electrode surface treated with metal oxide, and the like.
OH radicals and H 2 O 2 which are reaction products effective for decomposing organic substances are generated by the following reaction formulas (1) and (2).
H 2 O → H + + · OH + e (1)
2.OH → H 2 O 2 (2)
Oxidized radicals having very strong oxidizing power, such as OH radicals or O radicals generated by the above reaction formula, and hydrogen peroxide generated by the oxidized radicals react with an organic substance, and finally CO2. 2 is discharged.
Thus, according to this embodiment, since the generation efficiency of oxidation radicals can be improved, wastewater can be treated with high efficiency.

次に、前記第1実施形態における具体的な実施例(第1実施例)を以下に説明する。
かかる実施例における処理装置は、前記処理槽2として容積約0.5Lのビーカ容器を用い、前記陰極ノズル3であるチタンパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周を絶縁体のテフロン(登録商標)で被覆した電極、及び陽極4であるチタンパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を前記容器内に同軸状に配置し、処理対象液として蒸留水に塩化ナトリウムを溶解させた模擬液(液導電率2S/m)を使用した。また、別にOH生成量に比例した蛍光を得るための試薬としてクマリンを加えた液を使用し、OHラジカルと選択的に下記反応式(3)を起し、蛍光を発することを利用し確認した。
Next, a specific example (first example) in the first embodiment will be described below.
In the processing apparatus in this embodiment, a beaker container having a volume of about 0.5 L is used as the processing tank 2, and the outer periphery of the titanium pipe (outer diameter φ10 mm × inner diameter φ8 mm) as the cathode nozzle 3 is an insulating Teflon (registered trademark). A simulated liquid (liquid conductivity) in which a titanium pipe (outside diameter φ60 mm × inside diameter φ54 mm) as an anode 4 and an anode 4 are coaxially arranged in the vessel and sodium chloride is dissolved in distilled water as a liquid to be treated. 2S / m) was used. In addition, using a solution added with coumarin as a reagent for obtaining fluorescence proportional to the amount of OH produced, the following reaction formula (3) was selectively generated with OH radicals, and confirmed by using fluorescence. .

Figure 2005058887
Figure 2005058887

前記処理装置を利用した処理方法は、前記陰極ノズルに大気圧エアを1〜2L/分供給し、一定時間毎に陰極ノズルと陽極との間に高電圧パルス電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
比較例として、図9に示した従来技術と同様の装置構成により処理を行った。該比較例では前記実施例と同等の処理対象液を保持したビーカ容器内に、図1に示した本実施例と同様の電極を配置し、陰極ノズルに気体を供給せず、別途ガスタンクより電極間に気泡を発生させながら前記実施例と同様の高電圧パルスを印加し、処理を実施した。
In the processing method using the processing apparatus, atmospheric air is supplied to the cathode nozzle at 1 to 2 L / min, and a voltage of 2 kV and a pulse width of about 1 μs are supplied from the high voltage pulse power source between the cathode nozzle and the anode at regular intervals. The pulse high voltage was applied at a repetition frequency of 1 kHz.
As a comparative example, processing was performed with the same apparatus configuration as that of the conventional technique shown in FIG. In this comparative example, an electrode similar to that of the present embodiment shown in FIG. 1 is disposed in a beaker container holding a liquid to be processed equivalent to that of the above embodiment, gas is not supplied to the cathode nozzle, and an electrode is separately supplied from a gas tank. The process was carried out by applying the same high voltage pulse as in the above example while generating bubbles in between.

前記実施例と比較例との作用の差異を図2及び図3に示す。図2は本実施例と比較例より得られた廃水中のOHラジカル濃度の経時変化を示し、図3はH2O2濃度の経時変化を示す。これによれば、図2、3に示すように、本実施例では有機分解に有効な反応生成物であるH2O2、OHラジカルを得ることが出来た。これに対して、比較例ではH2O2、OHラジカルが得られなかった。
さらに、図1と同様の構成において、処理対象液としてし尿にポリ塩化アルミニウム(PAC)を加え、SS(浮遊物質)を沈殿除去した上澄み液を使用して、本実施例と同様の処理を実施した場合のトータルカーボン量(TOC)の計測結果を下記表1に示す。
Differences in the operation between the embodiment and the comparative example are shown in FIGS. FIG. 2 shows the change over time of the OH radical concentration in the wastewater obtained from this example and the comparative example, and FIG. 3 shows the change over time of the H 2 O 2 concentration. According to this, as shown in FIGS. 2 and 3, in this example, H 2 O 2 and OH radicals, which are reaction products effective for organic decomposition, could be obtained. In contrast, in the comparative example, H 2 O 2 and OH radicals were not obtained.
Further, in the same configuration as in FIG. 1, the same treatment as in this embodiment is performed using a supernatant obtained by adding polyaluminum chloride (PAC) to human urine as a treatment target solution and precipitating and removing SS (floating matter). Table 1 shows the measurement results of the total carbon amount (TOC).

Figure 2005058887
Figure 2005058887

前記表1から明らかなように、本実施例の構成にてTOCが減少していることが示され、有機性物質が分解されていることが明白となった。
なお、本願に記述した効果を得るに際してこれらの寸法、材料仕様に限定されるものではない。経験的には陰極ノズル寸法φ2〜φ15mm、電圧として、1〜5kV、パルス幅0.2〜5μs、前記繰り返し周波数0.1〜10kHzの範囲であることが好ましい。
As is clear from Table 1, it was shown that the TOC decreased in the configuration of this example, and it became clear that the organic substance was decomposed.
In addition, when acquiring the effect described in this application, it is not limited to these dimensions and material specifications. Empirically, it is preferable that the cathode nozzle size is φ2 to φ15 mm, the voltage is 1 to 5 kV, the pulse width is 0.2 to 5 μs, and the repetition frequency is 0.1 to 10 kHz.

図4に本発明の第2実施形態に係る処理装置を示す。かかる処理装置は、前記第1実施形態と同様に、処理槽2内に陰極ノズル3、陽極4、及びこれらに電圧を印加する高電圧パルス電源5、気体供給機構であるガスタンク6及びガス供給配管7、廃水供給機構である液供給管8及び液供給ノズル9、前処理槽10、液排出管11、後処理槽12、前記陰極ノズル3を先端部を露出させた状態で被覆する絶縁体15、とを具備した構成を有している。
さらにかかる第2実施形態では、前記陰極ノズル3を介して廃水1中に噴出する気体の流路を、前記ノズルの開口縁近傍から集中して気体が噴出する気体流路構造17としている。
FIG. 4 shows a processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. Similar to the first embodiment, such a processing apparatus includes a cathode nozzle 3 and an anode 4 in the processing tank 2, a high voltage pulse power source 5 for applying a voltage to these, a gas tank 6 as a gas supply mechanism, and a gas supply pipe. 7. Insulator 15 which covers the liquid supply pipe 8 and the liquid supply nozzle 9 which are the waste water supply mechanism, the pretreatment tank 10, the liquid discharge pipe 11, the posttreatment tank 12, and the cathode nozzle 3 with the tip portion exposed. , And have the structure provided.
Further, in the second embodiment, the gas flow path ejected into the waste water 1 through the cathode nozzle 3 is the gas flow path structure 17 in which gas is concentrated from the vicinity of the opening edge of the nozzle.

即ち、本実施形態では前記ガスタンク6よりガス供給配管7を経て処理槽側に送られてきた気体を、前記陰極ノズル3の端部に集中させる構造としている。好適には、図4に示されるように、前記陰極ノズル3を2重管構造とし、前記気体流路構造17を前記気体が該ノズルの外周側間隙を通って前記開口縁近傍から集中して噴出するような構造とすると良い。
これにより、放電を開始し易い高電界強度領域に気泡を安定して供給することができ、酸化ラジカルの生成反応効率が向上する。
That is, in this embodiment, the gas sent from the gas tank 6 to the treatment tank side through the gas supply pipe 7 is concentrated at the end of the cathode nozzle 3. Preferably, as shown in FIG. 4, the cathode nozzle 3 has a double tube structure, and the gas flow path structure 17 is concentrated in the vicinity of the opening edge through the gap on the outer peripheral side of the nozzle. A structure that erupts is good.
Thereby, bubbles can be stably supplied to a high electric field strength region where discharge is easily started, and the generation reaction efficiency of oxidized radicals is improved.

また、図5に示される本第3実施形態に係る処理装置は、前記第1実施形態とほぼ同様の構成を有しており、処理槽2、陰極ノズル3、陽極4、高電圧パルス電源5、ガスタンク6、ガス供給配管7、液供給管8、液供給ノズル9、前処理槽10、液排出管11、後処理槽12、絶縁体15を備えている。
さらに本第3実施形態では、前記第2実施形態と同様にガス流路ガイド16を備えるとともに、前記陰極ノズル3内の気体流路17上に、ドーナツリング状の網目状部材である気体整流用メッシュ18を具備した構成としている。
これにより、該気体流路17が偏心することを防止できるとともに、気体流路17の上流側で発生した圧力脈動を抑制することができる。
また、ガスタンク6より供給される気体が、前記整流用メッシュ18を通過するので、直径1mm以下の微小な気泡を高電界強度領域に供給することができる。
絶縁破壊電圧を表すパッシェンの法則によると、空気を中心とした気体の最小火花電圧を与える条件は下記数式(1)により得られる。
The processing apparatus according to the third embodiment shown in FIG. 5 has substantially the same configuration as that of the first embodiment, and includes a processing tank 2, a cathode nozzle 3, an anode 4, and a high voltage pulse power source 5. A gas tank 6, a gas supply pipe 7, a liquid supply pipe 8, a liquid supply nozzle 9, a pretreatment tank 10, a liquid discharge pipe 11, a posttreatment tank 12, and an insulator 15.
Further, in the third embodiment, a gas flow guide 16 is provided as in the second embodiment, and a gas rectifier that is a donut ring-shaped mesh member is provided on the gas flow channel 17 in the cathode nozzle 3. The mesh 18 is provided.
Thereby, it is possible to prevent the gas flow path 17 from being eccentric, and to suppress pressure pulsation generated on the upstream side of the gas flow path 17.
Moreover, since the gas supplied from the gas tank 6 passes through the rectifying mesh 18, minute bubbles having a diameter of 1 mm or less can be supplied to the high electric field strength region.
According to Paschen's law representing the dielectric breakdown voltage, the condition that gives the minimum spark voltage of gas centered on air is obtained by the following mathematical formula (1).

Figure 2005058887
Figure 2005058887

これによれば、大気圧(760mmTorr)での最小火花電圧を与えるdは約4〜50μmとなるので、通常、ノズルから供給される気泡(直径数mm程度)に対して直径1mm以下の微小な気泡の方が放電が発生し易いことがわかる。
従って、前記整流用メッシュ18により直径1mm以下の微小な気泡にて放電を行なうことにより、低電圧にて安定した放電処理が可能となる。その結果、該放電にて有機性物質の分解に有効な前記ラジカルがより容易に生成されるので、廃水を効率的に分解処理することが可能となる。
According to this, d which gives the minimum spark voltage at atmospheric pressure (760 mmTorr) is about 4 to 50 μm, so that it is usually a minute one having a diameter of 1 mm or less with respect to bubbles (about several mm in diameter) supplied from the nozzle. It can be seen that discharge is more likely to occur in bubbles.
Therefore, by performing discharge with fine bubbles having a diameter of 1 mm or less by the rectifying mesh 18, a stable discharge process can be performed at a low voltage. As a result, the radicals effective for the decomposition of the organic substance are more easily generated by the discharge, so that the waste water can be efficiently decomposed.

図6は本発明の第4実施形態に係る処理装置を示す。かかる処理装置は、前記第1実施形態とほぼ同様の構成を有しており、処理槽2、陰極ノズル3、陽極4、高電圧パルス電源5、ガスタンク6、ガス供給配管7、液供給管8、液供給ノズル9、前処理槽10、液排出管11、後処理槽12、絶縁体15を備えている。
また、前記陰極ノズル3の先端外側に絶縁材からなる気体滞留ガイド19を付設し、高電界強度領域に気泡を集中させる構成としている。
即ち、電界強度の高い陰極ノズル3端部に気泡13を集中させることができるように、陰極ノズル3の絶縁露出部付近で高電界強度を有する領域に気体滞留部を設ける構成としている。
FIG. 6 shows a processing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. The processing apparatus has substantially the same configuration as that of the first embodiment, and includes a processing tank 2, a cathode nozzle 3, an anode 4, a high voltage pulse power source 5, a gas tank 6, a gas supply pipe 7, and a liquid supply pipe 8. , A liquid supply nozzle 9, a pretreatment tank 10, a liquid discharge pipe 11, a posttreatment tank 12, and an insulator 15.
Further, a gas retention guide 19 made of an insulating material is provided outside the tip of the cathode nozzle 3 so that bubbles are concentrated in the high electric field strength region.
That is, the gas retention portion is provided in a region having a high electric field strength in the vicinity of the insulating exposed portion of the cathode nozzle 3 so that the bubbles 13 can be concentrated on the end portion of the cathode nozzle 3 having a high electric field strength.

これにより、放電開始し易い高電界強度領域に気泡13を安定して滞留させることができる。さらに、前記第2実施形態に示したガス流路ガイド16及び整流用メッシュ18の機構を具備した構成とすることにより、気泡を確実に高電界強度領域に滞留させることが可能となる。そのため、従来よりも、より低電圧にて安定した放電を行なうことができる。その結果、該放電にて有機分解に有効な前記ラジカルがより容易に生成されるので、廃水を効率的に分解処理することが可能となる。   Thereby, the bubbles 13 can be stably retained in the high electric field strength region where discharge is easily started. Furthermore, by using the structure including the gas flow path guide 16 and the rectifying mesh 18 shown in the second embodiment, it is possible to reliably retain bubbles in the high electric field strength region. Therefore, stable discharge can be performed at a lower voltage than in the prior art. As a result, the radicals effective for organic decomposition are more easily generated by the discharge, so that the waste water can be efficiently decomposed.

次に、前記図5及び図6に示した第3、第4実施形態における具体的な実施例(第3実施例、第4実施例)を夫々以下に示す。
まず、第3実施例では、処理槽2として容積約0.5Lのビーカ容器を用い、前記陰極ノズル3であるチタンパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周を絶縁体のテフロンで被覆した管の内側にφ8mm×φ4mm×厚さ5mmのプラスティック繊維状のガス整流用メッシュ18を挟む形でガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極4としてチタンパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、前記容器内に同軸状に設置した。処理対象液としてし尿にPACを加えてSSを沈殿除去した上澄み液を使用した。かかる処理装置を用いた処理方法として、陰極ノズルに大気圧エアを供給し、SUS陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L//分供給しながら、一定時間、陰極ノズルと陽極との間に高電圧パルス電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
Next, specific examples (third example and fourth example) in the third and fourth embodiments shown in FIGS. 5 and 6 are shown below.
First, in the third embodiment, a beaker container having a volume of about 0.5 L is used as the processing tank 2, and the outer periphery of the titanium pipe (outer diameter φ10 mm × inner diameter φ8 mm) as the cathode nozzle 3 is covered with an insulating Teflon. A glass pipe (outside diameter φ4 mm x inside diameter φ2 mm) is placed inside a plastic fiber gas rectifying mesh 18 of φ8 mm x φ4 mm x thickness 5 mm inside, and a titanium pipe (outside diameter φ60 mm x inside diameter φ54 mm) as the anode 4 Was installed coaxially in the container. A supernatant liquid obtained by adding PAC to human urine and removing SS by precipitation was used as a liquid to be treated. As a processing method using such a processing apparatus, atmospheric pressure air is supplied to the cathode nozzle, and air is supplied to the gap flow path between the SUS cathode inner side and the glass outer periphery at a rate of 1 to 2 L / min. A pulse high voltage with a voltage of 2 kV and a pulse width of about 1 μs was applied between the anode and the anode at a frequency of 1 kHz from a high voltage pulse power source.

また、第4実施例は、処理槽2として容積約0.5Lのビーカ容器を用い、前記陰極ノズル3としてチタンパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)を使用し、該チタンパイプの外周を絶縁体のテフロンで被覆した管の外側にアクリルパイプ(外径φ16mm×内径φ15mm×長さ5mm)を配置し、陽極4としてチタンパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、前記容器内にこれらを同軸状に設置した。処理対象液及び処理方法は前記第3実施例と同様の方法にて実施した。   In the fourth embodiment, a beaker container having a volume of about 0.5 L is used as the treatment tank 2, a titanium pipe (outer diameter φ10 mm × inner diameter φ8 mm) is used as the cathode nozzle 3, and the outer periphery of the titanium pipe is made of an insulator. An acrylic pipe (outside diameter φ16 mm x inside diameter φ15 mm x length 5 mm) is placed outside the tube covered with Teflon, and a titanium pipe (outside diameter φ60 mm x inside diameter φ54 mm) is used as the anode 4, and these are coaxial in the container. Installed. The liquid to be treated and the treatment method were the same as those in the third example.

ここで、図7に、電圧印加周波数1kHzに対して、高電圧パルス印加時の放電電流の計測値から求めた放電頻度を示す。これによれば、図5、6の構成とすることにより、該構成を採用しない場合と比較して、放電が安定し放電頻度が増加することが明らかとなった。
また下記表2に、前記第2乃至第4実施形態における第2乃至第3実施例により放電処理を実施した場合のトータルカーボン量(TOC)の計測結果を示す。表2から明らかなように、前記第2乃至第4実施例にてTOCが減少していることが示され、効果的に有機分解されていることが明白となった。
Here, FIG. 7 shows the discharge frequency obtained from the measured value of the discharge current when the high voltage pulse is applied with respect to the voltage application frequency of 1 kHz. According to this, it has been clarified that the configuration shown in FIGS. 5 and 6 stabilizes the discharge and increases the discharge frequency compared to the case where the configuration is not adopted.
Table 2 below shows the measurement results of the total carbon amount (TOC) when the discharge treatment is performed according to the second to third examples of the second to fourth embodiments. As is clear from Table 2, it was shown that the TOC decreased in the second to fourth examples, and it was clear that organic decomposition was effectively carried out.

Figure 2005058887
Figure 2005058887

図8は本発明の第5実施形態に係る処理装置を示す。かかる処理装置は、前記第1実施形態と同様に、処理槽2、陰極ノズル3、陽極4、高電圧パルス電源5、ガスタンク6、ガス供給配管7、液供給管8、液供給ノズル9、前処理槽10、液排出管11、後処理槽12、絶縁体15を備えている。また前記第2実施形態と同様にガス流路ガイド16を具備した構成としている。
さらに、本第5実施形態では、前記陰極ノズル3の外周で酸化ラジカルが最も生成し易い酸化ラジカル生成領域に存在する廃水を更新する手段を備えている。
かかる廃水更新手段は、例えば図8に示されるように、前記陰極ノズル3を包皮するごとく付設された旋回流生成ノズル20と、該ノズル20に廃水を供給する旋回液流入管21とから構成される。該旋回流生成ノズル20により該ノズル外周面に沿って前記酸化ラジカル生成領域の廃水が旋回し、廃水が更新される構成となっている。
FIG. 8 shows a processing apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. Similar to the first embodiment, the processing apparatus includes a processing tank 2, a cathode nozzle 3, an anode 4, a high voltage pulse power source 5, a gas tank 6, a gas supply pipe 7, a liquid supply pipe 8, a liquid supply nozzle 9, a front A treatment tank 10, a liquid discharge pipe 11, a post-treatment tank 12, and an insulator 15 are provided. Moreover, it is set as the structure which comprised the gas flow path guide 16 similarly to the said 2nd Embodiment.
Further, in the fifth embodiment, there is provided means for renewing the waste water existing in the oxidized radical generating region where the oxidized radical is most easily generated on the outer periphery of the cathode nozzle 3.
For example, as shown in FIG. 8, the waste water renewing means includes a swirl flow generating nozzle 20 attached to cover the cathode nozzle 3 and a swirl liquid inflow pipe 21 for supplying waste water to the nozzle 20. The The swirl flow generation nozzle 20 swirls waste water in the oxidation radical generation region along the outer peripheral surface of the nozzle, and the waste water is renewed.

一般に、高電圧パルスによる放電反応を起点とする反応は、気体中の励起分解や該励起体の溶液との反応、また高速電子の溶液への衝突、さらには金属酸化物処理を施した電極表面反応等で発生する酸化ラジカルが寄与するが、いずれも液表面層数〜数10μm程度の表面近傍の領域で起こるものである。
そのため、系全体の反応は通常は拡散により支配されている。そこで、放電が接するラジカル生成領域の廃水を更新させることにより、常に未反応の領域を放電反応面に接近させることができるので、反応効率を向上させることができるのである。
In general, the reaction starting from a discharge reaction by a high voltage pulse is performed by excitation decomposition in a gas, reaction of the exciter with a solution, collision of high-speed electrons with the solution, or metal oxide-treated electrode surface. Oxidized radicals generated by reaction or the like contribute, but all occur in a region near the surface of the number of liquid surface layers to about several tens of μm.
Therefore, the reaction of the whole system is usually governed by diffusion. Therefore, by updating the wastewater in the radical generation region that is in contact with the discharge, the unreacted region can always be brought closer to the discharge reaction surface, so that the reaction efficiency can be improved.

次に、前記第5実施形態の具体的な実施例(第5実施例)につき説明する。かかる実施例では、処理槽2として容積約0.5Lのビーカ容器を用い、前記陰極ノズル3であるチタンパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)の外側にアクリルパイプ(外径φ30mm×内径φ15mm)を配置し、前記陽極4としてチタンパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、前記容器内に同軸状に設置した。アクリルパイプには内径周方向にφ3mmの液噴出し口を設けた。
処理対象液として、し尿にPACを加えてSSを沈殿除去した上澄み液を使用した。
Next, a specific example (fifth example) of the fifth embodiment will be described. In this embodiment, a beaker container having a volume of about 0.5 L is used as the treatment tank 2 and an acrylic pipe (outer diameter φ30 mm × inner diameter φ15 mm) is arranged outside the titanium pipe (outer diameter φ10 mm × inner diameter φ8 mm) as the cathode nozzle 3. Then, a titanium pipe (outer diameter φ60 mm × inner diameter φ54 mm) was used as the anode 4 and was installed coaxially in the container. The acrylic pipe was provided with a liquid ejection port having a diameter of 3 mm in the circumferential direction of the inner diameter.
As a treatment target liquid, a supernatant liquid obtained by adding PAC to human waste and precipitating and removing SS was used.

前記処理装置を用いた処理方法として、前記陰極ノズルに大気圧エアを供給し、チタン陰極内側とガラス外周との隙間にエアを1〜2L/分供給しながら、前記液を流量0.2〜1L/分アクリルパイプ内筒に沿う旋回流として液供給した。
電力条件は、一定時間、陰極と陽極間に高電圧電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
下記表3に前記実施例における処理を実施した場合のトータルカーボン量(TOC)の計測結果を示す。かかる表3から明らかなように、本実施例の構成にてTOCが減少していることが示され、有機性物質が分解されていることが明白となった。
As a processing method using the processing apparatus, atmospheric pressure air is supplied to the cathode nozzle, and the liquid is supplied at a flow rate of 0.2 to 1 L / min while supplying air to the gap between the inner side of the titanium cathode and the outer periphery of the glass at 1 to 2 L / min. The liquid was supplied as a swirl flow along the inner acrylic pipe.
As for the power condition, a pulse high voltage having a voltage of 2 kV and a pulse width of about 1 μs was repeatedly applied at a frequency of 1 kHz between a cathode and an anode for a certain time.
Table 3 below shows the measurement result of the total carbon content (TOC) when the processing in the above-described example was performed. As apparent from Table 3, it was shown that the TOC decreased in the configuration of this example, and it became clear that the organic substance was decomposed.

Figure 2005058887
Figure 2005058887

さらに、これらの実施形態において、前記気体供給機構は独立制御可能であり、所望の反応ラジカルを生成するために必要な任意のガス種、例えば、空気、酸素富化ガス、塩素含有ガス若しくはこれらの混合ガスなどを選択供給することが可能である。この場合、酸素富化ガスを用いることにより、放電にてO3、Oラジカル、O2−イオンなど酸化力の強い活性酸化種を効率的に発生させることができ、有機性物質の分解性能を向上させることができる。
また、塩素含有ガスを用いることにより、放電にてClラジカルを効率的に発生させることができ、有機性物質の分解性能を向上させることができる。
Furthermore, in these embodiments, the gas supply mechanism is independently controllable, and any gas species necessary to generate the desired reactive radical, such as air, oxygen-enriched gas, chlorine-containing gas or these It is possible to selectively supply a mixed gas or the like. In this case, by using an oxygen-enriched gas, active oxidizing species having strong oxidizing power such as O 3 , O radicals, and O 2− ions can be efficiently generated by discharge, and the decomposition performance of organic substances can be improved. Can be improved.
Further, by using a chlorine-containing gas, Cl radicals can be efficiently generated by discharge, and the decomposition performance of the organic substance can be improved.

このように、前記気体として酸素富化ガスを用いた実施例につき説明する。装置構成は、図1に示した第1実施形態と同様の構成とした。処理槽2として容積約0.5Lのビーカ容器を用い、前記陰極ノズル3としてチタンパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)、陽極4としてチタンパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、これらの電極を前記容器内に同軸状に配置した。処理対象液は、し尿にPACを加えてSSを沈殿除去した上澄み液を使用した。但し、処理方法として、陰極ノズル3に純酸素ガス(純度99.9%)を1〜2L/分供給し、一定時間に陰極と陽極間に高電圧パルス電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
下記表4に前記実施例における処理を実施した場合のトータルカーボン量(TOC)の計測結果を示す。比較例として、気体に大気圧エアを供給した場合の結果も併せて示しているが、本表から明らかなように、本実施例の構成にてTOCが減少していることが示され、有機性物質が分解されていることが明白となった。
Thus, an example using an oxygen-enriched gas as the gas will be described. The apparatus configuration is the same as that of the first embodiment shown in FIG. A beaker container having a volume of about 0.5 L is used as the treatment tank 2, a titanium pipe (outer diameter φ10 mm × inner diameter φ8 mm) is used as the cathode nozzle 3, and a titanium pipe (outer diameter φ60 mm × inner diameter φ54 mm) is used as the anode 4. Was coaxially arranged in the container. As the treatment target liquid, a supernatant liquid obtained by adding PAC to human waste and precipitating SS was used. However, as a treatment method, pure oxygen gas (purity 99.9%) is supplied to the cathode nozzle 3 in an amount of 1 to 2 L / min, and a pulse height of 2 kV and a pulse width of about 1 μs from a high voltage pulse power source is provided between the cathode and the anode for a fixed time. The voltage was applied repeatedly at a frequency of 1 kHz.
Table 4 below shows the measurement result of the total carbon amount (TOC) when the treatment in the above-described example is performed. As a comparative example, the result of supplying atmospheric pressure air to the gas is also shown. As is clear from this table, it is shown that the TOC is reduced in the configuration of this example, and organic It became clear that the chemical substance was decomposed.

Figure 2005058887
Figure 2005058887

処理槽自体を陽極として機能させることにより、処理効率を向上させ大容量の廃水を対象とする廃水処理場に適用することもできる。   By making the treatment tank itself function as an anode, the treatment efficiency can be improved and the treatment tank can be applied to a wastewater treatment plant for large-capacity wastewater.

本発明に係る第1実施形態の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the waste water treatment apparatus of 1st Embodiment which concerns on this invention. 本第1実施形態におけるOHラジカル蛍光強度の経時変化を示すグラフである。It is a graph which shows a time-dependent change of the OH radical fluorescence intensity in the 1st embodiment. 本第1実施形態におけるH2O2濃度の経時変化を示すグラフである。This is a graph showing the time course of concentration of H 2 O 2 in the first embodiment. 本発明に係る第2実施形態の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the wastewater treatment apparatus of 2nd Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る第3実施形態の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the waste water treatment apparatus of 3rd Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る第4実施形態の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the waste water treatment apparatus of 4th Embodiment which concerns on this invention. 図5、図6における放電頻度を示した図である。It is the figure which showed the discharge frequency in FIG. 5, FIG. 本発明に係る第5実施形態の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the wastewater treatment apparatus of 5th Embodiment which concerns on this invention. 従来の廃水処理装置の構成図である。It is a block diagram of the conventional wastewater treatment apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

2 処理槽
3 陰極ノズル
4 陽極
5 高電圧パルス電源
6 ガスタンク
13 気泡
14 放電
15 絶縁被膜
16 ガス流路ガイド
17 ガス流路
18 整流用メッシュ
19 気泡滞留ガイド
20 旋回流生成ノズル
21 旋回液流入管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Processing tank 3 Cathode nozzle 4 Anode 5 High voltage pulse power supply 6 Gas tank 13 Bubble 14 Discharge 15 Insulation coating 16 Gas flow guide 17 Gas flow guide 18 Rectification mesh 19 Bubble retention guide 20 Swirling flow generation nozzle 21

Claims (8)

高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽を備え、該処理槽内で廃水に高電圧パルス処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該廃水中の有機性物質を分解処理する廃水処理装置において、
前記処理槽に廃水を供給する廃水供給手段と、電気導電体で形成された気体供給ノズルを備えた気体供給手段とを設け、
前記気体供給ノズルを前記高電圧パルス電源に接続するとともに、該ノズル先端が露出するようにノズル外周を絶縁被覆し、
一の電極を形成する前記気体供給ノズルと他方の電極との間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して、廃水中に気泡放電を発生させる構成としたことを特徴とする高電圧パルスを利用した廃水処理装置。
Wastewater comprising a treatment tank having a pair of electrodes connected to a high-voltage pulse power source, subjecting wastewater to high-voltage pulse treatment in the treatment tank, and decomposing organic substances in the wastewater by the generated oxidation radicals In the processing device,
A waste water supply means for supplying waste water to the treatment tank; and a gas supply means having a gas supply nozzle formed of an electric conductor;
The gas supply nozzle is connected to the high voltage pulse power source, and the nozzle periphery is insulated so that the nozzle tip is exposed,
A high voltage pulse characterized in that a gas discharge is generated in waste water by supplying a gas while applying a high voltage pulse between the gas supply nozzle forming the one electrode and the other electrode. Waste water treatment equipment using
前記気体供給ノズルを介して廃水中に噴出する気体の流路を、前記ノズルの開口縁近傍から集中して気体が噴出するような気体流路構造としたことを特徴とする請求項1記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   2. The gas flow path structure in which the gas flow path that is ejected into the wastewater through the gas supply nozzle is configured to be concentrated from the vicinity of the opening edge of the nozzle and the gas is ejected. Wastewater treatment equipment using high voltage pulses. 前記気体供給ノズルを2重管構造とし、前記気体流路構造を前記気体が該ノズルの外周側間隙を通って前記開口縁近傍から集中して噴出する構造としたことを特徴とする請求項2記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The gas supply nozzle has a double pipe structure, and the gas flow path structure has a structure in which the gas is concentrated and ejected from the vicinity of the opening edge through a gap on the outer peripheral side of the nozzle. Waste water treatment equipment using the described high voltage pulse. 前記気体供給ノズルを介して廃水中に噴出する気体の流路上に、気体整流用網目状部材を設けたことを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The wastewater using high voltage pulses according to any one of claims 1 to 3, wherein a mesh member for gas rectification is provided on a flow path of gas ejected into the wastewater through the gas supply nozzle. Processing equipment. 前記気体供給ノズルの先端外側に絶縁材からなる気体滞留部を付設し、高電界強度領域に気泡を滞留させる構成としたことを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The high voltage pulse according to any one of claims 1 to 4, wherein a gas retaining portion made of an insulating material is provided outside the tip of the gas supply nozzle so that bubbles are retained in a high electric field strength region. Waste water treatment equipment using 前記気体供給ノズル外周の酸化ラジカル生成領域に存在する廃水を更新する手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The wastewater treatment apparatus using high voltage pulses according to any one of claims 1 to 4, further comprising means for renewing wastewater existing in an oxidized radical generation region on an outer periphery of the gas supply nozzle. 前記廃水更新手段が、前記気体供給ノズルを包皮するごとく設けられた旋回流生成ノズルであり、該旋回流生成ノズルにより該ノズル外周面に沿って前記酸化ラジカル生成領域の廃水が旋回するように構成したことを特徴とする請求項6記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The waste water renewing means is a swirl flow generation nozzle provided so as to cover the gas supply nozzle, and the swirl flow generation nozzle is configured to swirl waste water in the oxidation radical generation region along the outer peripheral surface of the nozzle. The wastewater treatment apparatus using the high voltage pulse according to claim 6. 前記気体が、酸素富化ガス又は塩素含有ガス、若しくはこれらの混合ガスであることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の高電圧パルスを利用した廃水処理装置。   The wastewater treatment apparatus using a high-voltage pulse according to any one of claims 1 to 6, wherein the gas is an oxygen-enriched gas, a chlorine-containing gas, or a mixed gas thereof.
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