JP2005044427A - Semiconductor storage device - Google Patents

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JP2005044427A
JP2005044427A JP2003202129A JP2003202129A JP2005044427A JP 2005044427 A JP2005044427 A JP 2005044427A JP 2003202129 A JP2003202129 A JP 2003202129A JP 2003202129 A JP2003202129 A JP 2003202129A JP 2005044427 A JP2005044427 A JP 2005044427A
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Japan
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cell
bit
ecc circuit
cell group
defective
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JP2003202129A
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Japanese (ja)
Inventor
Azuma Suzuki
東 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device which has an ECC (Error Check and Correct) function and a defect-relieving function and reduces the number of redundancy cells. <P>SOLUTION: The semiconductor storage device 1 stores a p-bit error correction signal for ECC in a redundancy cell group 4 and serves as a memory with the ECC function which corrects an error of n-bit data stored in a main cell group 2 in an ECC circuit 6, when the ECC circuit is turned on. The storage device 1 uses the redundancy cell group 4 as spare cells for relieving defective cells and serves as a defective cell relieving memory which relieves a maximum number p of defective cells among a number n of data bit cells storing n-bit data by means of a defective cell relieving part 7 in the main cell group 2, when the ECC circuit is turned off. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に誤り訂正または不良セル救済のために使用した冗長セル群を有する半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体記憶装置の使用時の信頼性を高めるために、半導体記憶装置にデータ信号の他に誤り訂正符号を格納し、半導体記憶装置に搭載したECC(ErrorCheck and Correct)回路を使用することにより、偶発的に発生したデータ信号の誤りを訂正した上で出力する手段が用いられている。
【0003】
これにより、例えば、16ビットのデータに5ビットの誤り訂正符号を付加することで、この16ビットのデータ中に発生した1ビットの誤りを訂正して出力することができる。
【0004】
一方、半導体記憶装置の製造時に発生する不良セルを救済するために、予め冗長セルと不良セル救済回路を設けておき、製品出荷テスト時に不良セルが発見された場合には、不良セル救済回路により不良セルを冗長セルに置き換えて良品にする手段が用いられている。
【0005】
そこで、これら両方の手段を用いて、効率的な欠陥の救済が可能な半導体装置が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0006】
【特許文献1】
特開平10−326497号公報(第3−4頁、図1)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これら両方の手段をともに用いる場合、本来のメモリセルの他に、ECC用の誤り訂正符号を格納するための冗長セルと不良救済用の冗長セルをともに設ける必要があり、半導体記憶装置のチップサイズの増大を招く。
【0008】
また、ユーザによっては、ECC機能のみを必要とするケースや不良セル救済機能のみを必要とするケースもある。あるいは、ECCの誤り訂正能力を強化したいという要求もある。
【0009】
特に、カスタムLSIにユーザの仕様に応じたメモリを組み込むエンベデッドメモリの場合、多種多様の半導体記憶装置をユーザの要求に応じて直ちに提供する必要がある。このとき、冗長セルの効率的な活用、歩留りの向上が求められる。
【0010】
そこで、本発明の目的は、ECC機能と不良救済機能を備え、冗長セルの数を抑えた半導体記憶装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様によれば、nビットデータを格納するデータ主セル群と、pビットの冗長セル群と、前記nビットデータに発生した誤りを訂正する機能を有するECC回路と、前記主セル群中の不良セルの救済の実行を行なう機能を有する不良セル救済部とを備え、前記ECC回路により、前記冗長セル群をECC用のpビットの誤り訂正符号の格納に用いたことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【0012】
また、本発明の別の態様によれば、nビットデータを格納するデータ主セル群と、pビットの冗長セル群と、前記nビットデータに発生した誤りを訂正する機能を有するECC回路と、前記主セル群中の不良セルの救済の実行を行なう機能を有する不良セル救済部とを備え、前記不良セル救済部により、前記主セル群の一部を前記冗長セル群の少なくとも一部に置き換えたことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【0013】
また、本発明のさらに別の態様によれば、2mビットデータを格納する主セル群と、前記2mビットデータに発生した誤りをmビット単位で訂正する第1のECC回路、2mビット単位で訂正する第2のECC回路および前記第1のECC回路と前記第2のECC回路のいずれかに切り替える誤り訂正ビット長切り替え手段を有するECC回路部と、2qビットの冗長セル群と、前記主セル群中の不良セルの救済の実行が可能な不良セル救済部とを備え、前記ECC回路部を前記第1のECC回路に切り替え、mビットデータに対するqビットの誤り訂正符号を前記冗長セル群に2組格納して前記2mビットデータの誤り訂正をmビット単位で行なうことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【0014】
また、本発明のさらに別の態様によれば、2mビットデータを格納する主セル群と、前記2mビットデータに発生した誤りをmビット単位で訂正する第1のECC回路、2mビット単位で訂正する第2のECC回路および前記第1のECC回路と前記第2のECC回路のいずれかに切り替える誤り訂正ビット長切り替え手段を有するECC回路部と、2qビットの冗長セル群と、前記主セル群中の不良セルの救済の実行が可能な不良セル救済部とを備え、前記ECC回路部を前記第2のECC回路に切り替え、2mビットデータに対するr(r<2q)ビットの誤り訂正符号を前記冗長セル群に格納して2mビット単位のECC機能付で2mビットデータ中の最大(2q―r)個の不良セルの救済を行なうことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。
【0016】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【0017】
半導体記憶装置1は、メモリ機能部として、nビットデータを複数格納する主セル群2と、主セル群2の出力を増幅するディセーブルフューズ付センスアンプ群3と、nビットデータ用のpビット誤り訂正符号の格納またはp個の不良救済用セルとしての使用が可能な冗長セル群4と、冗長セル群4の出力を増幅するセンスアンプ群5とを有している。
【0018】
また、半導体記憶装置1には、主セル群2から読み出されたnビットデータ中の1ビットの誤りを訂正を行なうECC回路を含むECC回路部6と、主セル群2の中の不良セルを冗長セル群4の中のセルに切り替えることを可能にする不良セル救済部7と、nビットデータを外部へ出力するための入出力回路8が搭載されている。
【0019】
ECC回路部6には、ECCのON/OFF制御信号が入力されており、ECC回路を動作させるか、動作させないかを切り替えることができる。このECCのON/OFF制御信号は、半導体記憶装置1の外部から与えてもよいし、半導体記憶装置1の内部でON、OFFいずれかに固定して与えてもよい。
【0020】
半導体記憶装置1の内部で固定的に与える場合は、例えば、半導体記憶装置1の製造時の配線工程に使うガラスマスクをオプションとし、ECCのON/OFF制御信号のON、OFFによってガラスマスクを取り替え、ECCのON/OFF制御信号の電位を切り替えるようにしておく。
【0021】
ECCのON/OFF制御信号がONのときは、ECC回路部6が動作し、半導体記憶装置1は、ECC機能付メモリとして動作する。このとき、冗長セル群4には、nビットデータに対するpビットの誤り訂正符号を格納するようにする。
【0022】
なお、データのビット数nがn=2と表わされるときには、データのビット数nと誤り訂正符号のビット数pの間には、p=(k+1)の関係がある。したがって、例えば、n=16=2のときは、p=5となる。
【0023】
一方、ECCのON/OFF制御信号がOFFのときは、ECC回路部6を非動作とした上で、不良セル救済部7を使用可能とする。この場合、上記誤り訂正符号の格納用に用いた冗長セル群4のセルを不良救済用セルとして用いる。これにより、半導体記憶装置1は、nビットデータを格納するデータビットセル中の最大p個の不良セルの救済が可能な不良救済可能メモリとして動作する。
【0024】
図2は、不良セル救済部7と周辺ブロックとの接続の例を示す回路接続図である。この例では、データビット数nを16、冗長セル数pを5としている。また、図を見やすくするため、主セル群2の中の1組の16ビットデータセル21と冗長セル群4の中の1組の5ビット冗長セル41のみを記している。
【0025】
不良セル救済部7には、不良セル救済時に導通動作を行なうセル切り替え回路71が16個含まれており、それぞれのセル切り替え回路71の一端は、16ビットデータセル21の各セル(D1〜D16)からディセーブルフューズ付センスアンプ群3を介して出力される出力R1〜R16にそれぞれ接続されている。
【0026】
一方、セル切り替え回路71の他端は、5ビット冗長セル41の各セル(P1〜P5)からセンスアンプ群4を介して出力される出力ラインのいずれかに接続されている。
【0027】
図2の例では、センスアンプ群4を介して冗長セルP1から出力されるラインは、R1〜R3に接続されるセル切り替え回路71に共通に接続されている。以下、冗長セルP2はR4〜R6、冗長セルP3はR7〜R9、冗長セルP4はR10〜R12、冗長セルP5はR13〜R16のそれぞれに接続されるセル切り替え回路71にそれぞれ共通に接続されている。
【0028】
このような接続により、16ビットデータセル21に不良セルが発生した場合、セル切り替え回路71を動作させて、その不良セルを冗長セルと置き換えることができる。
【0029】
このとき、データセルD1〜D3のいずれか1個に発生した不良セルは冗長セルP1に、データセルD4〜D6のいずれか1個に発生した不良セルは冗長セルP2に、データセルD7〜D9のいずれか1個に発生した不良セルは冗長セルP3に、データセルD10〜D12のいずれか1個に発生した不良セルは冗長セルP4に、データセルD13〜D16のいずれか1個に発生した不良セルは冗長セルP5に置き換えられる。
【0030】
なお、データセルD1〜D16と冗長セルP1〜P5との対応関係は、この例に限るものではなく、任意に設定することができる。
【0031】
図3は、本発明の実施の形態で用いるセル切り替え回路71の回路の例を示す回路図である。
【0032】
1組のPチャネルMOSFET711とNチャネルMOSFET712はアナログスイッチを構成しており、そのゲート端子の電位により、ソース−ドレイン端子間の導通が制御されている。
【0033】
PチャネルMOSFET711のゲート端子は、フューズ713を介して電源端子に接続され、また高抵抗714を介して接地端子に接続されている。そのため、通常、PチャネルMOSFET711のゲート端子には電源電位が与えられている。他方、NチャネルMOSFET712のゲート端子には、インバータ715を介して、PチャネルMOSFET711のゲート端子とは反対電位の接地電位が与えられている。
【0034】
これにより、通常、PチャネルMOSFET711およびNチャネルMOSFET712はOFFしており、アナログスイッチとしては非導通状態である。
【0035】
一方、フューズ713が切断されると、PチャネルMOSFET711のゲート端子には接地電位が与えられるようになり、NチャネルMOSFET712のゲート端子には、電源電位が与えられるようになる。
【0036】
そのため、PチャネルMOSFET711およびNチャネルMOSFET712がONとなり、アナログスイッチとしては導通状態となる。
【0037】
図4は、本発明の実施の形態で用いるディセーブルフューズ端子付センスアンプの回路の例を示す回路図である。
【0038】
センスアンプ31にはイネーブル端子が付いており、このイネーブル端子は、ディセーブルフューズ32を介して電源端子に接続され、また、高抵抗を介して接地端子に接続されている。
【0039】
したがって、通常イネーブル端子には電源電位が与えられており、このとき、センスアンプ31は出力イネーブル状態である。
【0040】
一方、ディセーブルフューズ32が切断されたときには、イネーブル端子が接地電位となり、センスアンプ31は出力ディセーブル状態となる。
【0041】
図5は、本実施の形態における不良セル救済の様子の例を示す回路接続図である。この図5は、図2の回路接続のうち冗長セルP1に関わる部分だけを抜き出したものである。また、セル切り替え回路71およびディセーブルフューズ端子付センスアンプ群3については、図3および図4で示した回路例を用いて図示している。その際、回路要素にそれぞれ、サフィクス−1、−2、−3を付けて図3および図4との対応を示している。なお、冗長セルP1の出力には、センスアンプ群4の中の1つのセンスアンプであるセンスアンプ4―1が接続されている。
【0042】
図5では、データセルD1が不良であるときの救済の様子が示されている。データセルD1の不良を救済するときには、このセルに対応するセル切り替え回路71―1のフューズ713―1をレーザカッタなどにより切断する。すると、PチャネルMOSFET711―1およびNチャネルMOSFET712―1がONし、そのソース−ドレイン端子間が導通状態となる。
【0043】
同時に、ディセーブルフューズ32―1も切断し、センスアンプ31―1を出力ディセーブル状態にする。
【0044】
これにより、出力ラインR1には、データセルD1の代わりに冗長セルP1の出力が出力されるようになり、データセルD1の不良が救済される。
【0045】
このような本実施の形態の半導体記憶装置1によれば、ECCのON/OFFを切り替え、それに応じて冗長セルの利用形態を変えることにより、ECC機能付メモリまたは不良救済機能付メモリを提供することが可能となる。
【0046】
(第2の実施の形態)
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
【0047】
本実施の形態の半導体記憶装置11は、2mビットのデータをmビットずつに区切り、それぞれのmビット単位でデータの誤り訂正できるようにしたものである。したがって、本実施の形態の半導体記憶装置11は、第1の実施の形態の半導体記憶装置1に比べて2倍の誤り訂正能力を有している。
【0048】
ただし、誤り訂正のビット長は切り替えることができ、第1の実施の形態の半導体記憶装置1と同様2mビット全体での誤り訂正も可能である。
【0049】
本実施の形態の半導体記憶装置11も第1の実施の形態の半導体記憶装置1と同様、メモリ機能部として、2mビットデータを複数格納する主セル群12と、主セル群12の出力を増幅するディセーブルフューズ付センスアンプ群13と、2mビットデータのmビット単位での誤り訂正を行なうためのqビット誤り訂正符号を2組格納することが可能な冗長セル群14と、冗長セル群14の出力を増幅するセンスアンプ群15とを有している。
【0050】
また、半導体記憶装置11には、主セル群12から読み出された2mビットデータをmビット単位で誤り訂正を行なう第1のECC回路(図示せず)と上記2mビットデータを2mビット単位で誤り訂正を行なう第2のECC回路(図示せず)を含むECC回路部16と、主セル群12の中の不良セルを冗長セル群14の中のセルに切り替えることを可能にする不良セル救済部17と、2mビットデータを外部へ出力するための入出力回路18が搭載されている。
【0051】
ECC回路部16には、誤り訂正ビット長切り替え信号が入力されており、mビット単位で誤り訂正を行なうか、2mビット単位で誤り訂正を行なうかを切り替えることができる。この誤り訂正ビット長切り替え信号は、半導体記憶装置11の外部から与えてもよいし、半導体記憶装置11の内部でmビット単位とするか、2mビット単位にするかを固定的に与えてもよい。
【0052】
半導体記憶装置11の内部で固定的に与える場合は、例えば、半導体記憶装置11の製造時の配線工程に使うガラスマスクをオプションとし、使用する誤り訂正ビット長によってガラスマスクを取り替え、誤り訂正ビット長切り替え信号の電位を切り替えるようにしておく。
【0053】
なお、本実施の形態においても、不良セル救済部17には、図3に示すセル切り替え回路71を用い、ディセーブルフューズ付センスアンプ群13に含まれるディセーブルフューズ付センスアンプには、図4に示すものを用いる。
【0054】
図7は、半導体記憶装置11における誤り訂正ビット長の切り替えと不良救済の様子を示す説明図である。ここでは、16ビットデータの場合を例にとって説明する。
【0055】
図7(a)は、主セル群12の中の1組のデータビットセルと冗長セル群14の中の1組の冗長セルの構成を示す模式図である。16ビットセルデータセル121を8ビット単位でエラー訂正する場合、8ビットデータセル121―1と8ビットデータセル121―2に分けて処理するものとする。
【0056】
8ビット単位でエラー訂正を行なう場合、8=2であるので、必要なエラー訂正符号のビット数qは、先に記した式よりq=(3+1)=4となる。
【0057】
したがって、1組の冗長セルとしてはこの2倍の8個のセルが必要となる。図7(a)では、この1組の冗長セルを8ビット冗長セル141と表わし、これを4ビット冗長セル141―1と4ビット冗長セル141―2に2分して、それぞれ8ビットデータセル121―1と8ビットデータセル121―2に対応するエラー訂正符号とする。
【0058】
図7(b)は、図7(a)に示すデータを用いて8ビット単位のエラー訂正を行なうときのデータの流れを示す模式図である。
【0059】
8ビットデータセル121―1のデータと4ビット冗長セル141―1のデータは、それぞれディセーブルフューズ端子付きセンスアンプ群13―1とセンスアンプ群15―1を介して8ビットECC回路16―1に送られ、8ビット単位のエラー訂正処理が行なわれる。
【0060】
同様に、8ビットデータセル121―2のデータと4ビット冗長セル141―2のデータは、それぞれディセーブルフューズ端子付きセンスアンプ群13―2とセンスアンプ群15―2を介して8ビットECC回路16―2に送られ、8ビット単位のエラー訂正処理が行なわれる。
【0061】
そして、8ビットECC回路16―1の出力と8ビットECC回路16―2の出力が連結され、エラー訂正後の16ビットデータが得られる。
【0062】
次に、図7(c)は、16ビットセルデータセル121を16ビット単位でエラー訂正する場合のデータの流れを示す模式図である。
【0063】
16ビット単位でエラー訂正を行なうときに必要なエラー訂正符号のビット数をrとすると、16=2であるのでr=(4+1)=5となる。
【0064】
したがって、この場合、8ビット冗長セル141のうち、5ビット冗長セル141―3だけを誤り訂正符号に使用すればよい。そして、ここでは、残りの3ビット冗長セル141―4を16ビットセルデータセル121の不良セル救済用セルとして用いるようにしたものである。
【0065】
この3ビット冗長セル141―4は、不良セル救済部17に備えられた16個のセル切り替え回路71のいずれかの一端に接続され、16個のセル切り替え回路71の他端は、ディセーブルフューズ端子付きセンスアンプ群13を介して出力される16ビットセルデータセル121のデータセルD1〜D16にそれぞれ接続される。
【0066】
なお、3ビット冗長セル141―4の各セルを16個のセル切り替え回路71のいずれに接続するかは、任意に定めることができる。
【0067】
一方、5ビット冗長セル141―3は、16ビットECC回路16―3に接続され、16ビットデータのエラー訂正処理に用いられる。そして、16ビットECC回路16―3からエラー訂正処理後の16ビットデータが得られる。
【0068】
ここで、mビット単位でエラー訂正を行なうときの冗長セル数2qと2mビット単位でエラー訂正を行なうときの冗長セル数rの関係を述べる。
【0069】
先に述べたように、m=2と表わされるとき、エラー訂正符号のビット数qは、q=(k+1)と表わされる。したがって、このときの冗長セル数2qは、2q=2(k+1)=(2k+2)となる。
【0070】
他方、2mビット単位でエラー訂正処理を行うときは、2m=2k+1であるので、r=(k+1+1)=(k+2)となる。
【0071】
したがって、その差は、2q−r=(2k+2)−(k+2)=kとなる。すなわち、2mビットのデータをmビットずつエラー訂正処理を行なうときに比べて、2mビット単位でエラー訂正を行なうときには、冗長セルにk個の余剰セルが生じることになる。
【0072】
そこで、このk個の余剰セルを不良救済用のスペアセルに用いることが可能である。
【0073】
このような本実施の形態の半導体記憶装置11によれば、ECCの誤り訂正ビット長を切り替え、それに応じて冗長セルの利用形態を変えることにより、通常よりも誤り訂正能力の高いECC機能付メモリ、または誤り訂正能力は通常であるがECC機能と不良救済機能が付いたメモリを提供することが可能となる。
【0074】
【発明の効果】
本発明の半導体記憶装置によれば、例えば製造段階では同じ回路構成としておき、出荷の直前に冗長セルをECC用の誤り訂正符号格納用または不良救済用に設定することができる。したがって、冗長セルを有効活用し、その数を抑え、また製造歩留りを向上させることができる。また、同じ回路構成でありながら異なる誤り訂正能力を持つメモリとして使い分けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る不良セル救済部の周辺との接続の例を示す回路接続図。
【図3】本発明の実施の形態に係るセル切り替え回路の例を示す回路図。
【図4】本発明の実施の形態に係るディセーブルフューズ付センスアンプの例を示す回路図。
【図5】本発明の第1の実施の形態に係る不良セル救済部の不良セル救済の様子の例を示す回路接続図。
【図6】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図。
【図7】本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置における誤り訂正ビット長の切り替えと不良救済の様子を示す説明図。
【符号の説明】
1、11 半導体記憶装置
2、12 主セル群
3、13 ディセーブルフューズ付センスアンプ群
4、14 冗長セル群
5、15 センスアンプ群
6、16 ECC回路部
16−1、16−2 8ビットECC回路
16−3 16ビットECC回路
7、17 不良救済部
8、18 入出力回路
21、121 16ビットデータセル
121−1、121−2 8ビットデータセル
31 センスアンプ
32 ディセーブルフューズ
33 高抵抗
41 5ビット冗長セル
141 8ビット冗長セル
141−1、141−2 4ビット冗長セル
141−3 5ビット冗長セル
141−4 3ビット冗長セル
71 セル切り替え回路
711 PチャネルMOSFET
712 NチャネルMOSFET
713 フューズ
714 高抵抗
715 インバータ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a redundant cell group used for error correction or defective cell repair.
[0002]
[Prior art]
In order to improve reliability when using the semiconductor memory device, an error correction code is stored in addition to the data signal in the semiconductor memory device, and an ECC (Error Check and Correct) circuit mounted on the semiconductor memory device is used. Means for outputting the data signal after correcting the error of the generated data signal is used.
[0003]
Thus, for example, by adding a 5-bit error correction code to 16-bit data, it is possible to correct and output a 1-bit error generated in the 16-bit data.
[0004]
On the other hand, a redundant cell and a defective cell repair circuit are provided in advance to repair defective cells generated during the manufacture of a semiconductor memory device. If a defective cell is found during a product shipment test, Means are used to replace defective cells with redundant cells to make them non-defective.
[0005]
Therefore, a semiconductor device that can efficiently repair defects using both of these means has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-326497 (page 3-4, FIG. 1)
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, when both of these means are used together, it is necessary to provide a redundant cell for storing an error correction code for ECC and a redundant cell for failure relief in addition to the original memory cell. This increases the chip size.
[0008]
Some users require only the ECC function or only the defective cell repair function. Alternatively, there is a demand for enhancing ECC error correction capability.
[0009]
In particular, in the case of an embedded memory in which a memory according to a user's specifications is incorporated in a custom LSI, it is necessary to immediately provide a wide variety of semiconductor memory devices according to the user's request. At this time, efficient use of redundant cells and improvement in yield are required.
[0010]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having an ECC function and a defect relieving function and having a reduced number of redundant cells.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
According to one aspect of the present invention, a data main cell group storing n-bit data, a p-bit redundant cell group, an ECC circuit having a function of correcting an error occurring in the n-bit data, and the main cell A defective cell remedy unit having a function of executing the remedy of defective cells in the group, and the ECC circuit uses the redundant cell group for storing p-bit error correction codes for ECC. A semiconductor memory device is provided.
[0012]
According to another aspect of the present invention, a data main cell group for storing n-bit data, a p-bit redundant cell group, an ECC circuit having a function of correcting an error generated in the n-bit data, A defective cell repair unit having a function of executing repair of defective cells in the main cell group, wherein the defective cell repair unit replaces a part of the main cell group with at least a part of the redundant cell group A semiconductor memory device is provided.
[0013]
According to still another aspect of the present invention, a main cell group for storing 2m-bit data and a first ECC circuit for correcting an error occurring in the 2m-bit data in m-bit units are corrected in 2m-bit units. ECC circuit unit having error correction bit length switching means for switching to any one of the second ECC circuit, the first ECC circuit, and the second ECC circuit, a 2q-bit redundant cell group, and the main cell group A defective cell repair unit capable of repairing defective cells therein, switching the ECC circuit unit to the first ECC circuit, and applying a q-bit error correction code for m-bit data to the redundant cell group. There is provided a semiconductor memory device which is stored in a set and performs error correction of the 2m-bit data in units of m bits.
[0014]
According to still another aspect of the present invention, a main cell group for storing 2m-bit data and a first ECC circuit for correcting an error occurring in the 2m-bit data in m-bit units are corrected in 2m-bit units. ECC circuit unit having error correction bit length switching means for switching to any one of the second ECC circuit, the first ECC circuit, and the second ECC circuit, a 2q-bit redundant cell group, and the main cell group A defective cell repair unit capable of executing repair of defective cells therein, switching the ECC circuit unit to the second ECC circuit, and providing an error correction code of r (r <2q) bits for 2m-bit data. What is claimed is: 1. A semiconductor memory device which stores in a redundant cell group and repairs a maximum of (2q-r) defective cells in 2m bit data with an ECC function in 2m bit units It is subjected.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0016]
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.
[0017]
The semiconductor memory device 1 includes a main cell group 2 that stores a plurality of n-bit data, a sense amplifier group 3 with a disable fuse that amplifies the output of the main cell group 2, and a p-bit for n-bit data. It has a redundant cell group 4 that can store an error correction code or can be used as p defective repair cells, and a sense amplifier group 5 that amplifies the output of the redundant cell group 4.
[0018]
In addition, the semiconductor memory device 1 includes an ECC circuit unit 6 including an ECC circuit that corrects a 1-bit error in n-bit data read from the main cell group 2, and a defective cell in the main cell group 2. Are mounted on the defective cell remedy section 7 that enables switching to a cell in the redundant cell group 4 and an input / output circuit 8 for outputting n-bit data to the outside.
[0019]
The ECC circuit unit 6 receives an ECC ON / OFF control signal, and can switch whether the ECC circuit is operated or not. The ECC ON / OFF control signal may be given from the outside of the semiconductor memory device 1 or may be given fixedly to either ON or OFF inside the semiconductor memory device 1.
[0020]
In the case where the semiconductor memory device 1 is provided in a fixed manner, for example, a glass mask used in a wiring process at the time of manufacturing the semiconductor memory device 1 is an option, and the glass mask is replaced by ON / OFF of an ECC ON / OFF control signal. The potential of the ECC ON / OFF control signal is switched.
[0021]
When the ECC ON / OFF control signal is ON, the ECC circuit unit 6 operates, and the semiconductor memory device 1 operates as a memory with an ECC function. At this time, the redundant cell group 4 stores a p-bit error correction code for n-bit data.
[0022]
Incidentally, when the number of bits of data n is expressed as n = 2 k, while the number of bits p of the bit number n and the error correction code data, a relationship of p = (k + 1). Thus, for example, when the n = 16 = 2 4, the p = 5.
[0023]
On the other hand, when the ECC ON / OFF control signal is OFF, the defective cell relieving unit 7 can be used after the ECC circuit unit 6 is not operated. In this case, the cells of the redundant cell group 4 used for storing the error correction code are used as defective relief cells. As a result, the semiconductor memory device 1 operates as a defective repairable memory capable of repairing a maximum of p defective cells in the data bit cells storing n-bit data.
[0024]
FIG. 2 is a circuit connection diagram showing an example of connection between the defective cell repair unit 7 and the peripheral block. In this example, the number of data bits n is 16 and the number of redundant cells p is 5. For the sake of clarity, only one set of 16-bit data cells 21 in the main cell group 2 and one set of 5-bit redundant cells 41 in the redundant cell group 4 are shown.
[0025]
The defective cell repair unit 7 includes sixteen cell switching circuits 71 that perform conduction when defective cells are repaired. One end of each cell switching circuit 71 is connected to each cell (D1 to D16) of the 16-bit data cell 21. ) To outputs R1 to R16 output through the sense amplifier group 3 with disable fuse.
[0026]
On the other hand, the other end of the cell switching circuit 71 is connected to one of output lines output from each cell (P1 to P5) of the 5-bit redundant cell 41 via the sense amplifier group 4.
[0027]
In the example of FIG. 2, the line output from the redundant cell P1 via the sense amplifier group 4 is commonly connected to the cell switching circuit 71 connected to R1 to R3. Hereinafter, the redundant cell P2 is commonly connected to the cell switching circuit 71 connected to R4 to R6, the redundant cell P3 is R7 to R9, the redundant cell P4 is R10 to R12, and the redundant cell P5 is connected to each of R13 to R16. Yes.
[0028]
With this connection, when a defective cell is generated in the 16-bit data cell 21, the cell switching circuit 71 can be operated to replace the defective cell with a redundant cell.
[0029]
At this time, a defective cell generated in any one of the data cells D1 to D3 is in the redundant cell P1, a defective cell generated in any one of the data cells D4 to D6 is in the redundant cell P2, and the data cells D7 to D9. The defective cell generated in any one of the data cells is generated in the redundant cell P3, the defective cell generated in any one of the data cells D10 to D12 is generated in the redundant cell P4, and any one of the data cells D13 to D16 is generated. The defective cell is replaced with a redundant cell P5.
[0030]
The correspondence relationship between the data cells D1 to D16 and the redundant cells P1 to P5 is not limited to this example, and can be set arbitrarily.
[0031]
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of the cell switching circuit 71 used in the embodiment of the present invention.
[0032]
A pair of P-channel MOSFET 711 and N-channel MOSFET 712 constitutes an analog switch, and conduction between the source and drain terminals is controlled by the potential of the gate terminal.
[0033]
The gate terminal of the P-channel MOSFET 711 is connected to the power supply terminal via the fuse 713 and is connected to the ground terminal via the high resistance 714. Therefore, normally, the power supply potential is applied to the gate terminal of the P-channel MOSFET 711. On the other hand, a ground potential opposite to that of the gate terminal of the P-channel MOSFET 711 is applied to the gate terminal of the N-channel MOSFET 712 via the inverter 715.
[0034]
As a result, the P-channel MOSFET 711 and the N-channel MOSFET 712 are normally OFF and are in a non-conductive state as an analog switch.
[0035]
On the other hand, when the fuse 713 is cut, a ground potential is applied to the gate terminal of the P-channel MOSFET 711, and a power supply potential is applied to the gate terminal of the N-channel MOSFET 712.
[0036]
Therefore, the P-channel MOSFET 711 and the N-channel MOSFET 712 are turned on, and the analog switch is in a conductive state.
[0037]
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a circuit of a sense amplifier with a disable fuse terminal used in the embodiment of the present invention.
[0038]
The sense amplifier 31 has an enable terminal, and this enable terminal is connected to a power supply terminal via a disable fuse 32, and is connected to a ground terminal via a high resistance.
[0039]
Therefore, the power supply potential is applied to the normal enable terminal, and at this time, the sense amplifier 31 is in the output enable state.
[0040]
On the other hand, when the disable fuse 32 is disconnected, the enable terminal is at the ground potential, and the sense amplifier 31 is in the output disable state.
[0041]
FIG. 5 is a circuit connection diagram showing an example of how a defective cell is repaired in the present embodiment. FIG. 5 shows only the portion related to the redundant cell P1 in the circuit connection of FIG. In addition, the cell switching circuit 71 and the sense amplifier group 3 with the disable fuse terminal are illustrated using the circuit examples shown in FIGS. At this time, suffixes 1, -2, and -3 are attached to the circuit elements, respectively, to show the correspondence with FIGS. Note that a sense amplifier 4-1 which is one sense amplifier in the sense amplifier group 4 is connected to the output of the redundant cell P1.
[0042]
FIG. 5 shows a state of relief when the data cell D1 is defective. When the defect of the data cell D1 is remedied, the fuse 713-1 of the cell switching circuit 71-1 corresponding to this cell is cut by a laser cutter or the like. Then, the P-channel MOSFET 711-1 and the N-channel MOSFET 712-1 are turned on, and the source-drain terminals are in a conductive state.
[0043]
At the same time, the disable fuse 32-1 is disconnected, and the sense amplifier 31-1 is set in the output disable state.
[0044]
As a result, the output of the redundant cell P1 is output to the output line R1 instead of the data cell D1, and the defect of the data cell D1 is relieved.
[0045]
According to the semiconductor memory device 1 of this embodiment as described above, an ECC function-equipped memory or a defect-relief function-equipped memory is provided by switching on / off of the ECC and changing the utilization form of the redundant cell accordingly. It becomes possible.
[0046]
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.
[0047]
The semiconductor memory device 11 according to the present embodiment is configured such that 2 m-bit data is divided into m bits and data errors can be corrected in units of m bits. Therefore, the semiconductor memory device 11 of this embodiment has twice the error correction capability as compared with the semiconductor memory device 1 of the first embodiment.
[0048]
However, the bit length of error correction can be switched, and error correction with 2 m bits as a whole is possible as in the semiconductor memory device 1 of the first embodiment.
[0049]
Similarly to the semiconductor memory device 1 of the first embodiment, the semiconductor memory device 11 of the present embodiment also functions as a memory function unit, which amplifies the main cell group 12 storing a plurality of 2m-bit data and the output of the main cell group 12 A sense amplifier group with disable fuse 13, a redundant cell group 14 capable of storing two sets of q-bit error correction codes for performing error correction in units of m bits of 2 m-bit data, and redundant cell group 14 And a sense amplifier group 15 for amplifying the output.
[0050]
The semiconductor memory device 11 also includes a first ECC circuit (not shown) that performs error correction on the 2m-bit data read from the main cell group 12 in units of m bits and the 2m-bit data in units of 2m bits. An ECC circuit unit 16 including a second ECC circuit (not shown) that performs error correction, and a defective cell remedy that enables a defective cell in the main cell group 12 to be switched to a cell in the redundant cell group 14. The unit 17 and an input / output circuit 18 for outputting 2m-bit data to the outside are mounted.
[0051]
The ECC circuit unit 16 is supplied with an error correction bit length switching signal, and can switch between error correction in m bit units and error correction in 2 m bit units. This error correction bit length switching signal may be given from the outside of the semiconductor memory device 11, or may be fixedly given as to whether it is in m bit units or 2 m bit units inside the semiconductor memory device 11. .
[0052]
In the case where the semiconductor memory device 11 is fixedly provided, for example, a glass mask used in a wiring process at the time of manufacturing the semiconductor memory device 11 is an option, and the glass mask is replaced with an error correction bit length to be used. The potential of the switching signal is switched.
[0053]
Also in the present embodiment, the cell switching circuit 71 shown in FIG. 3 is used for the defective cell remedy unit 17, and the sense amplifier with disable fuse included in the sense amplifier group 13 with disable fuse is shown in FIG. Use what is shown in.
[0054]
FIG. 7 is an explanatory diagram showing how the error correction bit length is switched and defect repair is performed in the semiconductor memory device 11. Here, a case of 16-bit data will be described as an example.
[0055]
FIG. 7A is a schematic diagram showing the configuration of one set of data bit cells in the main cell group 12 and one set of redundant cells in the redundant cell group 14. When error correction is performed on the 16-bit cell data cell 121 in units of 8 bits, the processing is divided into the 8-bit data cell 121-1 and the 8-bit data cell 121-2.
[0056]
When error correction is performed in units of 8 bits, since 8 = 2 3 , the number of bits q of the required error correction code is q = (3 + 1) = 4 according to the formula described above.
[0057]
Therefore, eight redundant cells are required for a set of redundant cells. In FIG. 7A, this set of redundant cells is represented as an 8-bit redundant cell 141, which is divided into a 4-bit redundant cell 141-1 and a 4-bit redundant cell 141-2, and an 8-bit data cell, respectively. Error correction codes corresponding to 121-1 and 8-bit data cell 121-2 are used.
[0058]
FIG. 7B is a schematic diagram showing a data flow when performing error correction in units of 8 bits using the data shown in FIG.
[0059]
The data of the 8-bit data cell 121-1 and the data of the 4-bit redundant cell 141-1 are respectively sent to the 8-bit ECC circuit 16-1 via the sense amplifier group 13-1 and the sense amplifier group 15-1 having a disable fuse terminal. And error correction processing in units of 8 bits is performed.
[0060]
Similarly, the data of the 8-bit data cell 121-2 and the data of the 4-bit redundant cell 141-2 are respectively sent to the 8-bit ECC circuit via the sense amplifier group 13-2 with the disable fuse terminal and the sense amplifier group 15-2. 16-2 and error correction processing in units of 8 bits is performed.
[0061]
Then, the output of the 8-bit ECC circuit 16-1 and the output of the 8-bit ECC circuit 16-2 are connected, and 16-bit data after error correction is obtained.
[0062]
Next, FIG. 7C is a schematic diagram showing a data flow when error correction is performed on the 16-bit cell data cell 121 in units of 16 bits.
[0063]
If the number of bits of the error correction code is required when performing error correction in units of 16 bits and r, it becomes r = (4 + 1) = 5 since it is 16 = 2 4.
[0064]
Therefore, in this case, only the 5-bit redundant cell 141-3 among the 8-bit redundant cell 141 may be used for the error correction code. Here, the remaining 3-bit redundant cells 141-4 are used as defective cell relief cells of the 16-bit cell data cell 121.
[0065]
The 3-bit redundant cell 141-4 is connected to one end of 16 cell switching circuits 71 provided in the defective cell repair unit 17, and the other end of the 16 cell switching circuits 71 is a disable fuse. The data cells D1 to D16 of the 16-bit cell data cell 121 output through the sense amplifier group with terminal 13 are connected to each other.
[0066]
It is possible to arbitrarily determine which of the 16 cell switching circuits 71 each cell of the 3-bit redundant cell 141-4 is connected to.
[0067]
On the other hand, the 5-bit redundant cell 141-3 is connected to the 16-bit ECC circuit 16-3 and used for error correction processing of 16-bit data. Then, 16-bit data after error correction processing is obtained from the 16-bit ECC circuit 16-3.
[0068]
Here, the relationship between the number of redundant cells 2q when error correction is performed in units of m bits and the number of redundant cells r when error correction is performed in units of 2m bits will be described.
[0069]
As described above, when m = 2 k , the number of bits q of the error correction code is represented as q = (k + 1). Therefore, the number of redundant cells 2q at this time is 2q = 2 (k + 1) = (2k + 2).
[0070]
On the other hand, when error correction processing is performed in units of 2m bits, since 2m = 2k + 1 , r = (k + 1 + 1) = (k + 2).
[0071]
Therefore, the difference is 2q−r = (2k + 2) − (k + 2) = k. That is, when error correction processing is performed in units of 2 m bits as compared with the case where error correction processing is performed on 2 m bits of data for each m bits, k redundant cells are generated in the redundant cells.
[0072]
Therefore, these k surplus cells can be used as spare cells for defect relief.
[0073]
According to the semiconductor memory device 11 of the present embodiment as described above, the ECC function memory having higher error correction capability than usual by switching the ECC error correction bit length and changing the use form of the redundant cell accordingly. Alternatively, it is possible to provide a memory having an error correction capability but an ECC function and a defect relief function.
[0074]
【The invention's effect】
According to the semiconductor memory device of the present invention, for example, the same circuit configuration can be used in the manufacturing stage, and the redundant cells can be set for storing error correction codes for ECC or for repairing defects immediately before shipment. Therefore, the redundant cells can be effectively used, the number thereof can be suppressed, and the manufacturing yield can be improved. Moreover, it can be used properly as a memory having the same circuit configuration but different error correction capability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit connection diagram showing an example of connection with the periphery of the defective cell repair portion according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a cell switching circuit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a sense amplifier with a disable fuse according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a circuit connection diagram showing an example of a defective cell remedy state of the defective cell remedy section according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a state of error correction bit length switching and defect relief in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention;
[Explanation of symbols]
1, 11 Semiconductor memory device 2, 12 Main cell group 3, 13 Sense amplifier group 4 with disable fuse 4, 14 Redundant cell group 5, 15 Sense amplifier group 6, 16 ECC circuit unit 16-1, 16-2 8-bit ECC Circuit 16-3 16-bit ECC circuit 7, 17 Defective relief unit 8, 18 Input / output circuit 21, 121 16-bit data cell 121-1, 121-2 8-bit data cell 31 Sense amplifier 32 Disable fuse 33 High resistance 41 5 Bit redundant cell 141 8-bit redundant cell 141-1, 141-2 4-bit redundant cell 141-3 5-bit redundant cell 141-4 3-bit redundant cell 71 Cell switching circuit 711 P-channel MOSFET
712 N-channel MOSFET
713 fuse 714 high resistance 715 inverter

Claims (13)

nビットデータを格納するデータ主セル群と、
pビットの冗長セル群と、
前記nビットデータに発生した誤りを訂正する機能を有するECC回路と、
前記主セル群中の不良セルの救済の実行を行なう機能を有する不良セル救済部とを備え、
前記ECC回路により、前記冗長セル群をECC用のpビットの誤り訂正符号の格納に用いたことを特徴とする半導体記憶装置。
a data main cell group for storing n-bit data;
a p-bit redundant cell group;
An ECC circuit having a function of correcting an error generated in the n-bit data;
A defective cell relief section having a function of performing relief of defective cells in the main cell group,
A semiconductor memory device characterized in that the ECC circuit uses the redundant cell group to store a p-bit error correction code for ECC.
前記ECC回路をONさせる制御信号が、外部端子から入力されることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a control signal for turning on the ECC circuit is input from an external terminal. 前記ECC回路をONさせる制御信号が、その内部で固定的に与えられることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a control signal for turning on the ECC circuit is fixedly provided therein. 前記不良セル救済部は、前記主セル群中の不良セルを冗長セルに切り替える切り替えスイッチとフューズとからなるセル切り替え回路を備え、前記ECC回路がONであるときは、前記フューズの通電状態を保持して前記セル切り替えスイッチを非導通とすることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。The defective cell relief unit includes a cell switching circuit including a changeover switch for switching a defective cell in the main cell group to a redundant cell and a fuse, and maintains an energized state of the fuse when the ECC circuit is ON. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the cell changeover switch is turned off. nビットデータを格納するデータ主セル群と、
pビットの冗長セル群と、
前記nビットデータに発生した誤りを訂正する機能を有するECC回路と、
前記主セル群中の不良セルの救済の実行を行なう機能を有する不良セル救済部とを備え、
前記不良セル救済部により、前記主セル群の一部を前記冗長セル群の少なくとも一部に置き換えたことを特徴とする半導体記憶装置。
a data main cell group for storing n-bit data;
a p-bit redundant cell group;
An ECC circuit having a function of correcting an error generated in the n-bit data;
A defective cell relief section having a function of performing relief of defective cells in the main cell group,
A semiconductor memory device according to claim 1, wherein a part of the main cell group is replaced with at least a part of the redundant cell group by the defective cell repair unit.
前記ECC回路をOFFさせる制御信号が、外部端子から入力されることを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein a control signal for turning off the ECC circuit is input from an external terminal. 前記ECC回路をOFFさせる制御信号が、その内部で固定的に与えられることを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein a control signal for turning off the ECC circuit is fixedly provided therein. 前記不良セル救済部は、前記主セル群中の不良セルを冗長セルに切り替える切り替えスイッチとフューズとからなるセル切り替え回路を備え、前記ECC回路がOFFであるときに、前記フューズの切断により前記セル切り替えスイッチを導通させることを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。The defective cell repair unit includes a cell switching circuit including a changeover switch for switching a defective cell in the main cell group to a redundant cell and a fuse. When the ECC circuit is OFF, the cell is disconnected by cutting the fuse. 6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the changeover switch is turned on. 2mビットデータを格納する主セル群と、
前記2mビットデータに発生した誤りをmビット単位で訂正する第1のECC回路、2mビット単位で訂正する第2のECC回路および前記第1のECC回路と前記第2のECC回路のいずれかに切り替える誤り訂正ビット長切り替え手段を有するECC回路部と、
2qビットの冗長セル群と、
前記主セル群中の不良セルの救済の実行が可能な不良セル救済部とを備え、
前記ECC回路部を前記第1のECC回路に切り替え、mビットデータに対するqビットの誤り訂正符号を前記冗長セル群に2組格納して前記2mビットデータの誤り訂正をmビット単位で行なうことを特徴とする半導体記憶装置。
A main cell group for storing 2 m-bit data;
Any one of a first ECC circuit that corrects an error occurring in the 2m-bit data in units of m bits, a second ECC circuit that corrects an error in units of 2m bits, and the first ECC circuit and the second ECC circuit. An ECC circuit unit having error correction bit length switching means for switching;
A 2q-bit redundant cell group;
A defective cell relief unit capable of performing relief of defective cells in the main cell group,
The ECC circuit unit is switched to the first ECC circuit, two sets of q-bit error correction codes for m-bit data are stored in the redundant cell group, and error correction of the 2m-bit data is performed in units of m bits. A semiconductor memory device.
2mビットデータを格納する主セル群と、
前記2mビットデータに発生した誤りをmビット単位で訂正する第1のECC回路、2mビット単位で訂正する第2のECC回路および前記第1のECC回路と前記第2のECC回路のいずれかに切り替える誤り訂正ビット長切り替え手段を有するECC回路部と、
2qビットの冗長セル群と、
前記主セル群中の不良セルの救済の実行が可能な不良セル救済部とを備え、
前記ECC回路部を前記第2のECC回路に切り替え、2mビットデータに対するr(r<2q)ビットの誤り訂正符号を前記冗長セル群に格納して2mビット単位のECC機能付で2mビットデータ中の最大(2q―r)個の不良セルの救済を行なうことを特徴とする半導体記憶装置。
A main cell group for storing 2 m-bit data;
Any one of a first ECC circuit that corrects an error occurring in the 2m-bit data in units of m bits, a second ECC circuit that corrects an error in units of 2m bits, and the first ECC circuit and the second ECC circuit. An ECC circuit unit having error correction bit length switching means for switching;
A 2q-bit redundant cell group;
A defective cell relief unit capable of performing relief of defective cells in the main cell group,
The ECC circuit unit is switched to the second ECC circuit, and an error correction code of r (r <2q) bits for 2m-bit data is stored in the redundant cell group, and 2m-bit data with an ECC function in 2m-bit units A maximum of (2q−r) defective cells are repaired.
前記誤り訂正ビット長切り替え手段への制御信号が、外部端子から与えられるることを特徴とする請求項9または10に記載の半導体記憶装置。11. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein a control signal to the error correction bit length switching means is given from an external terminal. 前記誤り訂正ビット長切り替え手段への制御信号が、その内部で固定的に与えられることを特徴とする請求項9または10に記載の半導体記憶装置。11. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein a control signal to said error correction bit length switching means is fixedly given therein. 前記不良セル救済部は、前記主セル群中の不良セルを冗長セルに切り替える切り替えスイッチとフューズとからなるセル切り替え回路を備え、前記フューズの切断により前記セル切り替えスイッチを導通させることを特徴とする請求項10に記載の半導体記憶装置。The defective cell repair unit includes a cell switching circuit including a changeover switch for switching a defective cell in the main cell group to a redundant cell and a fuse, and electrically connects the cell changeover switch by cutting the fuse. The semiconductor memory device according to claim 10.
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