JP2005037433A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having high sensitivity, low fog, and excellent image preservability, and an image forming method, in which silver iodide is employed in high concentration. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material has an image forming layer containing a non-photosensitive silver salt, photosensitive silver halide, a binder, and a reducing agent, wherein ≥40 mol% of the photosensitive silver halide is silver iodide and the photosensitive silver halide contains silver thiocyanate. The image forming method is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【００７５】
一般式（１）において、Ｙは窒素原子又は硫黄原子の少なくとも一方を含有する５−７員複素環を形成するのに必要非金属原子群を表す。Ｙにより形成される複素環は飽和であっても不飽和であってもよく、置換基を有していてもよい。Ｙにより形成される複素環上の置換基は、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００７６】
Ｙにより形成される窒素原子又は硫黄原子の少なくとも一方を含有する５−７員複素環の例としては、チオフェン、ピロール、ピリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドール、イソインドール、インドリジン、キノリン、イソキノリン、ベンゾイミダゾール、１Ｈ−イミダゾール、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、１，８−ナフチリジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、アクリジン、フェナントリジン、１，１０−フェナントロリン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、１，２，４−トリアジン、１，３，５−トリアジン、ピロリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、インドリン、イソインドリンなどを挙げることができる。
【００７７】
これらの環は置換基を有していてもよく、好ましい例として、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基又はその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基若しくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシ若しくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル，アリール，又はヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシ若しくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキル若しくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、メルカプト基、（アルキル，アリール，又はヘテロ環）チオ基、（アルキル，アリール，又はヘテロ環）ジチオ基、（アルキル又はアリール）スルホニル基、（アルキル又はアリール）スルフィニル基、スルホ基又はその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基又はその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。なおここで活性メチン基とは２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また塩とは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。Ｙにより形成される複素環には他の環が更に縮合していても良い。
【００７８】
一般式（１）で表される化合物は含窒素複素環化合物であることが好ましく、その共役酸のテトラヒドロフラン／水（３／２）混合溶液中での２５℃での酸解離定数（ｐＫａ）が３ないし８であることが好ましい。より好ましくは、該酸解離定数（ｐＫａ）は４ないし７である。
一般式（１）で表される化合物は、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環（フタラジンのような縮合ピリダジンを含む）を有することが好ましく、少なくとも一つのメルカプト基を置換基として有することもまた好ましい。一般式（１）で表される化合物は、ピリジン環、フタラジン環を有することが特に好ましい。
【００７９】
一般式（２）において、Ｚは水素原子又は置換基を表す。 ｎは１ないし２の整数を表し、ｎが１のとき、ＳとＺとは二重結合で結合していることを表し、ｎが２のとき、Ｓと二個のＺとはそれぞれ単結合で結合していることを表す。ｎが１のとき、Ｚが水素原子を表すことはない。ｎが２のとき、二個のＺは同一であっても異なっていても良いが、二個のＺのいずれもが水素原子を表すことはない。また、Ｚは炭素原子でＳと単結合又は二重結合を形成していることが好ましい。
ｎが１のとき、Ｚの例としては、メチレン、エチリデン、ビニリデン基などが挙げられるが、これらの基は、更に置換基を有していても良く、一般式（１）のＹにより形成される複素環の置換基を例として挙げることができる。置換基を有するＺがＳに組み合わされた例としては、チオ尿素、テトラメチルチオ尿素、Ｎ−エチル−Ｎ’−プロピルチオ尿素、、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオ尿素、などを挙げることができる。
ｎが２のとき、Ｚで表される置換基としては、アルキル基（ビシクロアルキル基などのシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（ビシクロアルケニル基などのシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基などが例として挙げられる。
【００８０】
更に詳しくは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換若しくは無置換の、芳香族性基若しくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５若しくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、が挙げられる。上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に置換されていても良い。複合置換基の例としてはヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエチルチオエチル基、ジメチルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
【００８１】
一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（３）で表されるピリジン誘導体であることが好ましい。
【００８２】
【化２】

【００８３】
一般式（３）において、Ｒ^２１−Ｒ^２５は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^２１−Ｒ^２５で表される置換基の例としては、一般式（１）のＹにより形成される複素環の置換基を挙げることができる。一般式（３）で表される化合物が置換基を有する場合、好ましい置換位置は、Ｒ^２２−Ｒ^２４である。Ｒ^２１−Ｒ^２５は互いに結合して、飽和又は不飽和の環を形成していてもよい。
【００８４】
一般式（３）で表される化合物は、その共役酸のテトラヒドロフラン／水（３／２）混合溶液中での２５℃での酸解離定数（ｐＫａ）が３ないし８であることが好ましい。より好ましくは、該酸解離定数（ｐＫａ）は４ないし７である。
一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（４）で表されるピリダジン誘導体であることも好ましい。
【００８５】
【化３】

【００８６】
一般式（４）において、Ｒ^４１−Ｒ^４４は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^４１−Ｒ^４４は互いに結合して、飽和又は不飽和の環を形成していてもよい。Ｒ^４１−Ｒ^４４で表される置換基の例としては、一般式（１）のＹにより形成される複素環の置換基を挙げることができるが、更に好ましい基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基ならびにベンゾ縮環によるフタラジン環の形成が挙げられる。一般式（４）で表される化合物の窒素原子の隣接炭素にヒドロキシル基が置換した場合には、ピリダジノンとの間に平衡が存在する。
一般式（４）で表される化合物は、フタラジン環を形成していることが特に好ましく、このフタラジン環は更に、置換基を有していても良い。フタラジン環の好ましい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基などが挙げられる。
【００８７】
一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（４）で表されるピリダジン誘導体であることも好ましい。
【００８８】
【化４】

【００８９】
一般式（５）―（７）において、Ｒ^５１−Ｒ^５２、Ｒ^６１−Ｒ^６２、Ｒ^７１−Ｒ^７３は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^５１−Ｒ^５２、Ｒ^６１−Ｒ^６２、Ｒ^７２で表される置換基の例としては、一般式（１）のＹにより形成される複素環の置換基を挙げることができる。Ｒ^７１、Ｒ^７２で表される置換基の例としては、アルキル基（ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（ビシクロアルケニル基等のシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基などを挙げることができる。、Ｒ^５１−Ｒ^５２、Ｒ^６１−Ｒ^６２、Ｒ^７１−Ｒ^７３は、それぞれ互いに結合して、飽和又は不飽和の環を形成していてもよい。
【００９０】
一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（８）又は（９）で表される化合物であることが好ましい。
【００９１】
【化５】

【００９２】
一般式（８）―（９）において、Ｒ^８１−Ｒ^８５、Ｒ^９１−Ｒ^９２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。Ｒ^８１−Ｒ^８５、Ｒ^９１−Ｒ^９２で表される置換基としては、アルキル基（ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（ビシクロアルケニル基等のシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基などが例として挙げられる。
【００９３】
Ｌで表される２価の連結基は、好ましくは１ないし６原子分、さらに好ましくは１ないし３原子分の長さの連結基であり、更に置換基を有していてもよい。好ましい例としては−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２−などを挙げることができる。ｍは０又は１を表す。
【００９４】
以下に、一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物の好ましい例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
。
【００９５】
【化６】

【００９６】
【化７】

【００９７】
【化８】

【００９８】
【化９】

【００９９】
【化１０】

【０１００】
【化１１】

【０１０１】
【化１２】

【０１０２】
【化１３】

【０１０３】
【化１４】

【０１０４】
【化１５】

【０１０５】
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、従来知られている色調剤の機能を果たす場合は、色調剤と共通の化合物であることもできる。本発明におけるヨウ化銀錯形成剤が色調剤としての機能を有しない場合は、色調剤とともに併用して用いることができる。例えば、本発明における一般式（４）で示されるピリダジン誘導体の中には（例えばフタラジン）、色調剤として知られている化合物が存在する。しかしおながら、フタラジン化合物は色調剤として熱現像感光材料で有効であることは知られていたが、本発明におけるヨウ化銀錯形成剤の機能を有することは全く知られていないし、また、ヨウ化銀錯形成剤の機能を有する化合物自体の認識も存在していなかったので、その機能を期待されることもなかった。フタラジン化合物を色調剤として用いる場合は、フタラジン単独で用いても良いし、異なるフタラジン誘導体を混合して用いることもできる。
【０１０６】
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤が、熱現像感光材料の生保存安定性に悪影響を与えず、かつ画像形成反応を妨害せずに有効に作用するためには、熱現像のために加熱されるまでは感光性ハロゲン化銀に作用せず、加熱された後、実質的に熱現像に対して影響が出ない段階より作用することが望ましい。そのためには、本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、固体状態で膜中に存在させるなど、感光性ハロゲン化銀とは分離した状態で膜中に存在せしめることが好ましい。隣接層に添加することも好ましい。本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、常温以下の温度では、固体で熱現像温度に加熱された時に融解するように化合物融点が適切な範囲にある化合物、あるいは融点調節剤の混合による融点の調節などの手段を組み合わせて用いるのが好ましい。
【０１０７】
本発明において、画像保存性、特に、光照射下での画像保存性が大きく改良されるためには、熱現像後の感光性ハロゲン化銀の紫外可視吸収スペクトルの吸収強度が熱現像前と比較して８０％以下であることが好ましく、４０％以下であることが更に好ましく、２０％以下であることが特に好ましい。最も好ましくは１０％以下である。
【０１０８】
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
【０１０９】
また、固体微粒子分散法としては、本発明におけるヨウ化銀錯形成剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール）、界面活性剤（例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物）などのアニオン性界面活性剤）を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するＺｒ等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが、通常は１ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲である。感材中のＺｒの含有量が銀１ｇ当たり０．５ｍｇ以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤（例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩）を含有させることが好ましい。
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は固体分散物として使用することが好ましい。
【０１１０】
本発明におけるヨウ化銀錯形成剤は、感光性ハロゲン化銀に対して、１〜５０００モル％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜１０００モル％の範囲で、更に好ましくは５０〜３００モル％の範囲である。
【０１１１】
（ハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する化合物）
本発明においては、分子内に銀への吸着基と還元基を有する化合物（以下、「吸着性レドックス化合物」と称する場合あり）、又はその前駆体を含有させることが好ましい。当該化合物は下記式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。
【０１１２】
式（Ｉ） Ａ−（Ｗ）ｎ−Ｂ
［式（Ｉ）中、Ａはハロゲン化銀に吸着可能な基（以後、吸着基と呼ぶ）を表し、Ｗは２価の連結基を表し、ｎは０又は１を表し、Ｂは還元基を表す。］
【０１１３】
式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、又はハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基（又はその塩）、チオン基（−Ｃ（＝Ｓ）−）、窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、又はエチニル基等が挙げられる。
【０１１４】
吸着基としてメルカプト基（又はその塩）とは、メルカプト基（又はその塩）そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基（又はその塩）の置換したヘテロ環基又はアリール基又はアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも５員〜７員の、単環若しくは縮合環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていても良い。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋等）、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていても良い。
吸着基としてチオン基とは、鎖状若しくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、又は配位結合で銀イオンに配位し得る、’−Ｓ−’基又は’−Ｓｅ−’基又は’−Ｔｅ−’基又は’＝Ｎ−’基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。
吸着基としてスルフィド基又はジスルフィド基とは、’−Ｓ−’又は’−Ｓ−Ｓ−’の部分構造を有する基すべてが挙げられる。
吸着基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基又は４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。
吸着基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。
【０１１５】
さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書ｐ４〜ｐ７に記載されているものが挙げられる。
【０１１６】
式（Ｉ）中、Ａで表される吸着基として好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、２−メルカプト−５−アミノチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズイミダゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基など）、又はイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）であり、さらに好ましい吸着基は２−メルカプトベンズイミダゾール基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基である。
【０１１７】
式（Ｉ）中、Ｗは２価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される２価の連結基が利用できる。具体的には炭素数１〜２０のアルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等）、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基（例えばフェニレン基、ナフチレン基等）、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_１−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでＲ_１は水素原子、アルキル基、ヘテロ環基、アリール基を表わす。
Ｗで表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。
【０１１８】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの３重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類（レダクトン誘導体を含む）、アニリン類、フェノール類（クロマン−６−オール類、２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、及びハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む）、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、３−ピラゾリドン類等から水素原子を１つ除去した残基が挙げられる。もちろん、これらは任意の置換基を有していても良い。
【０１１９】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」（１５０−２０８頁、技報堂出版）や日本化学会編著「実験化学講座」第４版（９巻２８２−３４４頁、丸善）に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール：ｐＨ６．５、ブリトン−ロビンソン緩衝液（Ｂｒｉｔｔｏｎ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ ｂｕｆｆｅｒ）＝１０％：９０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極（ＲＤＥ）を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、２５℃、１０００回転／分、２０ｍＶ／秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位（Ｅ１／２）を求めることができる。
本発明におけるＢで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−０．３Ｖ〜約１．０Ｖの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−０．１Ｖ〜約０．８Ｖの範囲であり、特に好ましくは約０〜約０．７Ｖの範囲である。
【０１２０】
式（Ｉ）中、Ｂで表される還元基は好ましくはヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類、フェノール類、アシルヒドラジン類、カルバモイルヒドラジン類、３−ピラゾリドン類から水素原子を１つ除去した残基である。
【０１２１】
以下にＢで表される還元基の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。ここで＊印は式（Ｉ）において、Ａ又はＷと結合する位置を示す。
【０１２２】
【化１６】

【０１２３】
本発明における式（Ｉ）の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基又はポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平１−１００５３０号に記載のものが挙げられる。
【０１２４】
本発明における式（Ｉ）の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明における式（Ｉ）の化合物の分子量は好ましくは１００〜１００００の間であり、より好ましくは１２０〜１０００の間であり、特に好ましくは１５０〜５００の間である。
【０１２５】
以下に本発明における式（Ｉ）の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２６】
【化１７】

【０１２７】
【化１８】

【０１２８】
【化１９】

【０１２９】
【化２０】

【０１３０】
【化２１】

【０１３１】
【化２２】

【０１３２】
【化２３】

【０１３３】
【化２４】

【０１３４】
感光性ハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する化合物の前駆体を、熱現像感光材料に添加しても良い。前駆体とは、熱現像時に結合が外れて、上記吸着性レドックス化合物を発生させる化合物である。このような化合物であれば特に制限はない。好ましく用いられる前駆体としては、吸着性レドックス化合物の還元基の部位を脱離可能性基でブロックした化合物が挙げられ、該脱離可能性基が熱現像により外れるものである。
【０１３５】
これらの化合物は公知の方法にならって容易に合成することが出来る。
本発明における式（Ｉ）の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に２種以上の化合物を用いることも好ましい。２種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。
【０１３６】
本発明における式（Ｉ）の化合物は、ハロゲン化銀乳剤層に添加されることが好ましく、乳剤調製時に添加することがより好ましい。乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。また乳剤層に使用するのが好ましいが、乳剤層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀１モル当たり、１×１０^−６〜１モル、好ましくは１×１０^−５〜５×１０^−１モルさらに好ましくは１×１０^−４〜１×１０^−１モルである。
【０１３７】
本発明における式（Ｉ）の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸又は塩基によってｐＨを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。
【０１３８】
（１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子以上の電子を放出し得る化合物）
本発明における熱現像感光材料は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。
【０１３９】
本発明の熱現像感光材料に含有される１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子以上の電子を放出し得る化合物とは、以下のタイプ１〜５から選ばれる化合物である。
【０１４０】
（タイプ１）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ２）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう１電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上有する化合物。
（タイプ３）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに１電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ４）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに１電子若しくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ５）
Ｘ−Ｙで表される化合物においてＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物。
【０１４１】
上記タイプ１及びタイプ３〜５の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、又は「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。タイプ１〜４の化合物はより好ましくは「２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。
【０１４２】
タイプ１〜５の化合物について詳細に説明する。
タイプ１の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。タイプ１の化合物は１電子酸化されて１電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上（好ましくは３電子以上）の電子を放出し得る化合物である。
【０１４３】
タイプ１の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（１）、一般式（２）又は一般式（３）で表される。
【０１４４】
一般式（Ａ）
【化２５】

【０１４５】
一般式（Ｂ）
【化２６】

【０１４６】
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１１は脱離基を表す。Ｒ_１１２は水素原子又は置換基を表す。Ｒ_１１１は炭素原子（Ｃ）及びＲＥＤ_１１と共に、５員若しくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、若しくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
【０１４７】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１２は脱離基を表す。Ｒ_１２１及びＲ_１２２は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、又はＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１４８】
これら一般式（Ａ）又は一般式（Ｂ）で表される化合物は、ＲＥＤ_１１又はＲＥＤ_１２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_１１又はＬ_１２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１４９】
一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）
【化２７】

【０１５０】
一般式（１）においてＺ_１は窒素原子及びベンゼン環の２つの炭素原子と共に６員環を形成し得る原子団を表し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_Ｎ１はそれぞれ水素原子又は置換基を表し、Ｘ_１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_１は０〜３の整数を表し、Ｌ_１は脱離基を表す。一般式（２）においてＥＤ_２１は電子供与性基を表し、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４はそれぞれ水素原子又は置換基を表し、Ｘ_２１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_２１は０〜３の整数を表し、Ｌ_２１は脱離基を表す。Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１及びＥＤ_２１は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式（３）においてＲ_３２、Ｒ_３３、Ｒ_３１、Ｒ_Ｎ３１、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂはそれぞれ水素原子又は置換基を表し、Ｌ_３１は脱離基を表す。但しＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａ及びＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。
【０１５１】
これら化合物は１電子酸化された後、自発的にＬ_１、Ｌ_２１、又はＬ_３１を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【０１５２】
以下、先ず一般式（Ａ）で表される化合物について詳しく説明する。
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１で表される１電子酸化され得る還元性基は、後述するＲ_１１１と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の１価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子１個を除いた２価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基（アニリノ基、ナフチルアミノ基等）、ヘテロ環アミノ基（ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等）、アルキルチオ基、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、ヘテロ環オキシ基、アリール基（フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等）、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基（５員〜７員の、単環若しくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも１つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる）である（以後、便宜上ＲＥＤ_１１は１価基名として記述する）。ＲＥＤ_１１は置換基を有していてもよい。
【０１５３】
本発明において置換基とは、特に説明がない限り、以下の基から選ばれる置換基を意味する。ハロゲン原子、アルキル基（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基又はその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基若しくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシ若しくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリール、又はヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシ若しくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキル若しくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、（アルキル、アリール、又はヘテロ環）チオ基、（アルキル又はアリール）スルホニル基、（アルキル又はアリール）スルフィニル基、スルホ基又はその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基又はその塩、リン酸アミド若しくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【０１５４】
ＲＥＤ_１１として好ましくは、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）である。これらが置換基を有する時、置換基として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基である。
但しＲＥＤ_１１がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。ここに「電子供与性基」とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環若しくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など）、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基（ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基などで環状のアミノ基とも呼べる基）である。ここで活性メチン基とは２つの「電子求引性基」で置換されたメチン基を意味し、ここに「電子求引性基」とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【０１５５】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、具体的にはカルボキシ基若しくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、又はＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す。ここにシリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、任意の置換基を有していてもよい。
【０１５６】
Ｌ_１１がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはアルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン（特にＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋イオン）が最も好ましい。
【０１５７】
Ｌ_１１が−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す時、ここにＲ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに任意の置換基を有していてもよい。但し、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３のうち１つが水素原子若しくはアルキル基を表す時、残る２つが水素原子若しくはアルキル基を表すことはない。Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基（特にフェニル基）、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては１，３−ジチオラン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル基、Ｎ−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、Ｎ−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−２−イル基などが挙げられる。
−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基が、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式（Ａ）からＬ_１１を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
【０１５８】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、好ましくはカルボキシ基又はその塩、及び水素原子である。より好ましくはカルボキシ基又はその塩である。
【０１５９】
Ｌ_１１が水素原子を表す時、一般式（Ａ）で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。この塩基部位の作用により、一般式（Ａ）で表される化合物が酸化された後、Ｌ_１１で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。
【０１６０】
ここに塩基とは、具体的に約１〜約１０のｐＫａを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類（ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など）、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類（活性メチレンアニオンなど）、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート（−ＣＯＯ⁻）、サルフェート（−ＳＯ_３ ⁻）、又はアミンオキシド（＞Ｎ^＋（Ｏ⁻）−）などが挙げられる。好ましくは約１〜約８のｐＫａを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、又はアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これら塩基は、任意の位置で一般式（Ａ）で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｒ_１１１、Ｒ_１１２の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。
【０１６１】
一般式（Ａ）においてＲ_１１２は水素原子又は炭素原子に置換可能な置換基を表す。但しＲ_１１２がＬ_１１と同じ基を表すことはない。
Ｒ_１１２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基（フェニル基など）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など）、ヒドロキシ基、アルキルチオ基（メチルチオ基、ブチルチオ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
【０１６２】
一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造とは、５員若しくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体若しくはオクタヒドロ体に相当する環構造で、ここにヒドロ体とは、芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）に内在する炭素−炭素２重結合（又は炭素−窒素２重結合）が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは２つの、ヘキサヒドロ体とは３つの、オクタヒドロ体とは４つの、炭素−炭素２重結合（又は炭素−窒素２重結合）が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
具体的には、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環及びオキサゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、及びテトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環、オクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。これらの環構造は任意の置換基を有していてもよい。
【０１６３】
Ｒ_１１１が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。
【０１６４】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２、Ｌ_１２は、それぞれ一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｌ_１１に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、ＲＥＤ_１２は下記の環状構造を形成する場合以外は１価基であり、具体的にはＲＥＤ_１１で記載した１価基名の基が挙げられる。Ｒ_１２１及びＲ_１２２は一般式（Ａ）のＲ_１１２に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、又はＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１６５】
一般式（Ｂ）においてＥＤ_１２で表される電子供与性基とは、ＲＥＤ_１１がアリール基を表すときの置換基として説明した電子供与性基と同じものである。ＥＤ_１２として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環若しくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、及びこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、及びこれら電子供与性基で置換されたフェニル基（例えばｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ジアルキルアミノフェニル基、ｏ，ｐ−ジアルコキシフェニル基等）がより好ましい。
【０１６６】
一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２２とＲ_１２１、又はＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環若しくはヘテロ環であって、５員〜７員環の単環又は縮合環で、置換若しくは無置換の環状構造である。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、その具体例としては、一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造の例として挙げたものに加えて、ピロリン環、イミダゾリン環、チアゾリン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インダン環、モルホリン環、インドリン環、テトラヒドロ−１，４−オキサジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−オキサジン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。ＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、ＥＤ_１２は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。Ｒ_１２２とＲ_１２１とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。
【０１６７】
次に一般式（１）〜（３）について説明する。
一般式（１）〜（３）においてＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１は、一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１は、一般式（Ａ）のＬ_１１について説明した中で具体例として挙げた基と同じ脱離基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｘ_１、Ｘ_２１で表される置換基としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１が置換基を有する時の置換基の例と同じであり、好ましい範囲も同じである。ｍ_１、ｍ_２１は好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０又は１である。
【０１６８】
Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１が置換基を表す時、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに任意の置換基を有していてもよい。Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１は水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。
【０１６９】
Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｒ_３３、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂが置換基を表す時、置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。
【０１７０】
一般式（１）においてＺ_１が形成する６員環は、一般式（１）のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。これらは置換基を有していてもよい。
【０１７１】
一般式（２）においてＥＤ_２１は、一般式（Ｂ）のＥＤ_１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０１７２】
一般式（２）においてＲ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１及びＥＤ_２１のいずれか２つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここでＲ_Ｎ２１とＸ_２１が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した５員〜７員の非芳香族の炭素環若しくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、２，３−ジヒドロ−５，６−ベンゾ−１，４−チアジン環などが挙げられる。好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。
【０１７３】
一般式（３）においてＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａ及びＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。ここに芳香族環とはアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）及び芳香族ヘテロ環基（例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など）であり、アリール基が好ましい。該芳香族環基は任意の置換基を有していてもよい。
一般式（３）においてＲ_ａ及びＲ_ｂは、互いに結合して芳香族環（特にフェニル基）を形成する場合が好ましい。
【０１７４】
一般式（３）においてＲ_３２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにＲ_３２がヒドロキシ基を表す時、同時にＲ_３３が「電子求引性基」を表す場合も好ましい例の１つである。ここに「電子求引性基」とは、先に説明したものと同じであり、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。
【０１７５】
次にタイプ２の化合物について説明する。
タイプ２の化合物において「結合開裂反応」とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
【０１７６】
タイプ２の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上（好ましくは２〜６つ、より好ましくは２〜４つ）有する化合物である。より好ましくは２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基の数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４が良い。吸着性基については後述する。
【０１７７】
タイプ２の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ｃ）で表される。
【０１７８】
一般式（Ｃ）
【化２８】

【０１７９】
ここに一般式（Ｃ）で表される化合物は、ＲＥＤ_２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を１つ放出し得る化合物である。
【０１８０】
一般式（Ｃ）においてＲＥＤ_２は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｌ_２は一般式（Ａ）のＬ_１１について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。なおＬ_２がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。Ｒ_２１、Ｒ_２２は水素原子又は置換基を表し、これらは一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。ＲＥＤ_２とＲ_２１とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１８１】
ここで形成される環構造とは、５員〜７員の、単環若しくは縮合環の、非芳香族の炭素環又はヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。但し該環構造が、芳香族環又は芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体若しくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。環構造として好ましくは、芳香族環又は芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば２−ピロリン環、２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，４−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、好ましくは２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などであり、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、１，２−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。
【０１８２】
次にタイプ３の化合物について説明する。
タイプ３の化合物において「結合形成過程」とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
【０１８３】
タイプ３の化合物は好ましくは、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位（炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位）と反応して結合を形成した後に、さらに１電子若しくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。
【０１８４】
さらに詳細に述べるとタイプ３の化合物は、１電子酸化されて生成するその１電子酸化体（カチオンラジカル種、又はそこからプロトンの脱離により生成する中性のラジカル種）が、同じ分子内に共存する上記反応性基と反応し、結合を形成して、分子内に新たに環構造を有するラジカル種を生成する。そしてこのラジカル種から、直接若しくはプロトンの脱離を伴って、２電子目の電子が放出される特徴を有している。
そしてさらにタイプ３の化合物の中には、そうして生成した２電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接プロトンの移動を伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する場合がある。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに直接２電子酸化体から、さらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する能力を有しているものも含まれる。
【０１８５】
タイプ３の化合物は好ましくは、一般式（Ｄ）で表される。
【０１８６】
一般式（Ｄ）
【化２９】

【０１８７】
一般式（Ｄ）においてＲＥＤ_３は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｙ_３はＲＥＤ_３が１電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。Ｌ_３はＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表す。
【０１８８】
ＲＥＤ_３は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基（特に含窒素ヘテロ環基が好ましい）であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、３，４−メチレンジオキシフェニル−１−イル基などが好ましい。
ＲＥＤ_３として特に好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基である。
【０１８９】
ここでＲＥＤ_３がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。「電子供与性基」は先に説明したものと同じである。
【０１９０】
ＲＥＤ_３がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１９１】
Ｙ_３で表される炭素−炭素２重結合部位を含む有機基（例えばビニル基）が置換基を有するとき、その置換基として好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、及びこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【０１９２】
なおここで炭素−炭素２重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Ｙ_３は右記部分構造：＞Ｃ_１＝Ｃ_２（−ＯＨ）−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造：＞Ｃ_１Ｈ−Ｃ_２（＝Ｏ）−となっていても良い。さらにこの場合に、該Ｃ_１炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Ｙ_３は「活性メチレン基」又は「活性メチン基」の部分構造を有することになる。このような活性メチレン基又は活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。
【０１９３】
Ｙ_３で表される炭素−炭素３重結合部位を含む有機基（例えばエチニル基）が置換基を有するとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましい。
【０１９４】
Ｙ_３が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基（特にフェニル基が好ましい）又はインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよい）、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。
【０１９５】
Ｙ_３がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン環基、４−キノロン環基などが挙げられる。
【０１９６】
Ｙ_３で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。さらに好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。ここに炭素−炭素２重結合部位は少なくとも１つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。
【０１９７】
Ｙ_３で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、ＲＥＤ_３で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式（Ｄ）で表される化合物の好ましい例である。
【０１９８】
Ｌ_３は、ＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、−Ｐ（＝Ｏ）−の各基の単独、又はこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにＲ_Ｎは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Ｌ_３で表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。Ｌ_３で表される連結基は、ＲＥＤ_３及びＹ_３で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の１個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
Ｌ_３の好ましい例としては、単結合、アルキレン基（特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基）、アリーレン基（特にフェニレン基）、−Ｃ（＝Ｏ）−基、−Ｏ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（アルキル基）−基、及びこれらの基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。
【０１９９】
Ｌ_３で表される基は、ＲＥＤ_３が酸化されて生成するカチオンラジカル種（Ｘ^＋・）、又はそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種（Ｘ・）と、Ｙ_３で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、Ｌ_３を含めて３〜７員の環状構造を形成しうることが好ましい。この為にはラジカル種（Ｘ^＋・又はＸ・）、Ｙで表される反応性基、及びＬが、３〜７個の原子団で連結されていることが好ましい。
【０２００】
次にタイプ４の化合物について説明する。
タイプ４の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が１電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに１電子若しくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。ここで言う環構造の開裂反応とは、下記で表される形式のものを意味する。
【０２０１】
【化３０】

【０２０２】
式中、化合物ａはタイプ４の化合物を表す。化合物ａ中、Ｄは還元性基を表し、Ｘ、Ｙは環構造中の１電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物ａが１電子酸化されて、１電子酸化体ｂを生成する。ここからＤ−Ｘの単結合が２重結合になると同時にＸ−Ｙの結合が切断され開環体ｃが生成する。あるいはまた１電子酸化体ｂからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体ｄが生成し、ここから同様に開環体ｅを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体ｃ又はｅから、引き続きさらに１つ以上の電子が放出される点にこれらの化合物の特徴がある。
【０２０３】
タイプ４の化合物が有する環構造とは、３〜７員環の炭素環又はヘテロ環であり、単環若しくは縮環の、飽和若しくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは３員環あるいは４員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は任意の置換基を有していても良い。
【０２０４】
タイプ４の化合物は好ましくは一般式（Ｅ）又は（Ｆ）で表される。
【０２０５】
一般式（Ｅ）
【化３１】

【０２０６】
一般式（Ｆ）
【化３２】

【０２０７】
一般式（Ｅ）及び一般式（Ｆ）においてＲＥＤ_４１及びＲＥＤ_４２は、それぞれ一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｒ_４０〜Ｒ_４４及びＲ_４５〜Ｒ_４９は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。一般式（Ｆ）においてＺ_４２は、−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−、−ＮＲ_４２３−、又はＯ−を表す。ここにＲ_４２０、Ｒ_４２１は、それぞれ水素原子又は置換基を表し、Ｒ_４２３は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
【０２０８】
一般式（Ｅ）及び一般式（Ｆ）においてＲ_４０及びＲ_４５は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基がより好ましい。Ｒ_４１〜Ｒ_４４及びＲ_４６〜Ｒ_４９として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【０２０９】
Ｒ_４１〜Ｒ_４４は、これらのうち少なくとも１つがドナー性基である場合と、Ｒ_４１とＲ_４２、あるいはＲ_４３とＲ_４４がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基であり且つ、Ｒ_４１〜Ｒ_４４の中でドナー性基でない基が水素原子又はアルキル基である場合である。
【０２１０】
ここで言うドナー性基とは、「電子供与性基」、又は少なくとも１つの「電子供与性基」で置換されたアリール基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環若しくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも１つの電子供与性基で置換されたフェニル基が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環若しくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（インドール環、ピロール環、カルバゾール環など）、電子供与性基で置換されたフェニル基（３つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基又はアルキルアミノ基又はアリールアミノ基で置換されたフェニル基など）が用いられる。特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環若しくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（特に３−インドリル基）、電子供与性基で置換されたフェニル基（特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基又はアリールアミノ基で置換されたフェニル基）が用いられる。
【０２１１】
Ｚ_４２として好ましくは−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−又はＮＲ_４２３−であり、より好ましくは−ＮＲ_４２３−である。Ｒ_４２０、Ｒ_４２１は好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。Ｒ_４２３は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基である。
【０２１２】
Ｒ_４０〜Ｒ_４９及びＲ_４２０、Ｒ_４２１、Ｒ_４２３の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が４０以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数３０以下で、特に好ましくは総炭素数１５以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位（ＲＥＤ_４１、ＲＥＤ_４２あるいはＺ_４２）と結合して環を形成していても良い。
【０２１３】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物において、ハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、又はハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基（又はその塩）、チオン基（−Ｃ（＝Ｓ）−）、窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、又はエチニル基である。但し、本発明におけるタイプ２の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。
【０２１４】
吸着性基としてメルカプト基（又はその塩）とは、メルカプト基（又はその塩）そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基（又はその塩）の置換したヘテロ環基又はアリール基又はアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、５員〜７員の、単環若しくは縮合環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基（例えば１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート環基）が好ましい。アリール基としてはフェニル基又はナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数１〜３０の直鎖又は分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋等）、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０２１５】
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基（ここでは−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−基）、及び該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状若しくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−２−チオン基、オキサゾリジン−２−チオン基、２−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、２−チオキソ−オキサゾリジン−４−オン基などが挙げられる。
【０２１６】
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない（チオン基のα位に水素原子を持たない）、鎖状若しくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【０２１７】
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、又は配位結合で銀イオンに配位し得る、’−Ｓ−’基又は’−Ｓｅ−’基又は’−Ｔｅ−’基又は’＝Ｎ−’基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【０２１８】
吸着性基としてスルフィド基とは、’−Ｓ−’の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル（又はアルキレン）−Ｓ−アルキル（又はアルキレン）、アリール（又はアリーレン）−Ｓ−アルキル（又はアルキレン）、アリール（又はアリーレン）−Ｓ−アリール（又はアリーレン）の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−Ｓ−Ｓ−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、１，３−ジチオラン環又は１，２−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環（チオモルホリン環）などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル（又はアルキレン）−Ｓ−アルキル（又はアルキレン）の部分構造を有する基である。
【０２１９】
吸着性基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基又は４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団（例えばシアニン発色団）の一部となることはない。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基及びイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基及びイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
【０２２０】
吸着性基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
【０２２１】
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に記載されているものが挙げられる。
【０２２２】
本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズオキサゾール基、２−メルカプトベンズチアゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基など）、又はイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）である。特に好ましくは、５−メルカプトテトラゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、及びベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、及び５−メルカプトテトラゾール基である。
【０２２３】
これらの化合物のうち、分子内に２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。ここにメルカプト基（−ＳＨ）は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基若しくはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など）を分子内に２つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、２つ以上のメルカプト基又はチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えばジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基）を、１つ以上有していてもよい。
【０２２４】
２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基（ジメルカプト置換含窒素へテロ環基など）の例としては、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−オキサゾール基、２，７−ジメルカプト−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（１，５−Ａ）−ピリミジン、２，６，８−トリメルカプトプリン、６，８−ジメルカプトプリン、３，５，７−トリメルカプト−ｓ−トリアゾロトリアジン、４，６−ジメルカプトピラゾロピリミジン、２，５−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基が特に好ましい。
【０２２５】
吸着性基は一般式（Ａ）〜（Ｆ）及び一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。
【０２２６】
分光増感色素の部分構造とは分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子又は置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は一般式（Ａ）〜（Ｆ）及び一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム３６５４４、１９９４年９月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、若しくはＦ．Ｍ．ＨａｍｅｒのＴｈｅ Ｃｙａｎｉｎｅ ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ， Ｎｅｗ ｙｐｒｋ， １９６４）に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平１１−９５３５５号（米国特許６，０５４，２６０号）の明細書７〜１４頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。
【０２２７】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物は、その総炭素数が１０〜６０の範囲のものが好ましい。より好ましくは１５〜５０、さらに好ましくは１８〜４０であり、特に好ましくは１８〜３０である。
【０２２８】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子、あるいはタイプによっては２電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その１電子目の酸化電位は、約１．４Ｖ以下が好ましく、さらには１．０Ｖ以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは０Ｖより高く、より好ましくは０．３Ｖより高い。従って酸化電位は好ましくは約０〜約１．４Ｖ、より好ましくは約０．３〜約１．０Ｖの範囲である。
【０２２９】
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル：水（０．１Ｍの過塩素酸リチウムを含む）＝８０％：２０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極（ＳＣＥ）を参照電極に用いて、２５℃で、０．１Ｖ／秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対ＳＣＥをとる。
【０２３０】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−０．５Ｖ〜−２Ｖであり、より好ましくは−０．７Ｖ〜−２Ｖであり、さらに好ましくは−０．９Ｖ〜−１．６Ｖである。
【０２３１】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに２電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。２電子目の酸化電位と３電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。
【０２３２】
次にタイプ５の化合物について説明する。
タイプ５の化合物はＸ−Ｙで表され、ここにＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物である。この様なタイプ５の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
【０２３３】
【化３３】

【０２３４】
タイプ５の化合物は好ましくはその酸化電位が０〜１．４Ｖであり、より好ましくは０．３Ｖ〜１．０Ｖである。また上記反応式において生成するラジカルＸ・の酸化電位は−０．７Ｖ〜−２．０Ｖであることが好ましく、−０．９Ｖ〜−１．６Ｖがより好ましい。
【０２３５】
タイプ５の化合物は、好ましくは一般式（Ｇ）で表される。
【０２３６】
一般式（Ｇ）
【化３４】

【０２３７】
一般式（Ｇ）においてＲＥＤ_０は還元性基を表し、Ｌ_０は脱離基を表し、Ｒ_０及びＲ_００は水素原子又は置換基を表す。ＲＥＤ_０とＲ_０、及びＲ_０とＲ_００とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。ＲＥＤ_０は一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０及びＲ_００は一般式（Ｃ）のＲ_２１及びＲ_２２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しＲ_０及びＲ_００が、水素原子を除いて、Ｌ_０と同義の基を表すことはない。ＲＥＤ_０とＲ_０とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２とＲ_２１が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０とＲ_００とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。一般式（Ｇ）においてＬ_０は、一般式（Ｃ）のＬ_２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
【０２３８】
一般式（Ｇ）で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、若しくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、Ｌ_０がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に２つ以上有することはない。但しここで吸着性基としてのスルフィド基は、Ｌ_０に依らず、これを２つ以上有していてもよい。
【０２３９】
一般式（Ｇ）で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明におけるタイプ１〜４の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に「ハロゲン化銀吸着基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
一般式（Ｇ）で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明におけるタイプ１〜４の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じであるが、同時に特開平１１−９５３５５号の明細書７〜１４頁に「光吸収性基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【０２４０】
以下に本発明におけるタイプ１〜５の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２４１】
【化３５】

【０２４２】
【化３６】

【０２４３】
【化３７】

【０２４４】
【化３８】

【０２４５】
本発明におけるタイプ１〜４の化合物は、それぞれ特願２００２−１９２３７３号、特願２００２−１８８５３７号、特願２００２−１８８５３６号、特願２００１−２７２１３７号、特願２００２−１９２３７４号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明におけるタイプ１〜４の化合物の具体例として挙げることができる。また本発明におけるタイプ１〜４の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。
【０２４６】
本発明におけるタイプ５の化合物の具体例としては、さらに特開平９−２１１７６９号（２８〜３２頁の表Ｅ及び表Ｆに記載の化合物ＰＭＴ−１〜Ｓ−３７）、特開平９−２１１７７４号、特開平１１−９５３５５号（化合物ＩＮＶ１〜３６）、特表２００１−５００９９６号（化合物１〜７４、８０〜８７、９２〜１２２）、米国特許５，７４７，２３５号、米国特許５，７４７，２３６号、欧州特許７８６６９２Ａ１号（化合物ＩＮＶ１〜３５）、欧州特許８９３７３２Ａ１号、米国特許６，０５４，２６０号、米国特許５，９９４，０５１号などの特許に記載の「１光子２電子増感剤」又は「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。
【０２４７】
本発明におけるタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することもできる。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時（化学増感開始直前から終了直後）、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。
【０２４８】
本発明におけるタイプ１〜５の化合物は水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、ｐＨを高く又は低くした方が溶解度が上がる化合物については、ｐＨを高く又は低くして溶解し、これを添加しても良い。
【０２４９】
本発明におけるタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する画像形成層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。これらの化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀１モル当り、１×１０^−９〜５×１０^−１モル、更に好ましくは１×１０^−８〜５×１０^−２モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
【０２５０】
（現像促進剤）
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開２０００−２６７２２２号明細書や特開２０００−３３０２３４号明細書等に記載の一般式（Ａ）で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平２００１−９２０７５記載の一般式（ＩＩ）で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平１０−６２８９５号明細書や特開平１１−１５１１６号明細書等に記載の一般式（Ｉ）、特開２００２−１５６７２７号の一般式（Ｄ）や特開２００２−２７８０１７号明細書に記載の一般式（１）で表されるヒドラジン系の化合物、特開２００１−２６４９２９号明細書に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して０．１〜２０モル％の範囲で使用され、好ましくは０．５〜１０モル％の範囲で、より好ましくは１〜５モル％の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物または乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開２００２−１５６７２７号明細書に記載の一般式（Ｄ）で表されるヒドラジン系の化合物および特開２００１−２６４９２９号明細書に記載されている一般式（２）で表されるフェノール系またはナフトール系の化合物がより好ましい。
【０２５１】
本発明の特に好ましい現像促進剤は下記一般式（Ａ−１）および（Ａ−２）で表される化合物である。
一般式（Ａ−１）
Ｑ_１−ＮＨＮＨ−Ｑ_２
（式中、Ｑ_１は炭素原子で−ＮＨＮＨ−Ｑ_２と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Ｑ_２はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。）
【０２５２】
一般式（Ａ−１）において、Ｑ_１で表される芳香族基またはヘテロ環基としては５〜７員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、１，２，４−トリアジン環、１，３，５−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，２，５−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，２，５−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。
【０２５３】
これらの環は置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙げることができる。
【０２５４】
Ｑ_２で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ−｛３−（２，４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）プロピル｝カルバモイル、Ｎ−（２−ヘキシルデシル）カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−（４−ドデシルオキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）カルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、Ｎ−３−ピリジルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイルが挙げられる。
【０２５５】
Ｑ_２で表されるアシル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、２−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、２−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、４−ドデシルオキシベンゾイル、２−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Ｑ２で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数２〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。
【０２５６】
Ｑ_２で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数７〜５０、より好ましくは炭素数７〜４０のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、４−オクチルオキシフェノキシカルボニル、２−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、４−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Ｑ２で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、２−ヘキサデシルスルホニル、３−ドデシルオキシプロピルスルホニル、２−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニルスルホニル、４−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。
【０２５７】
Ｑ_２で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数０〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル、Ｎ−｛３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル｝スルファモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）スルファモイル、Ｎ−（２−テトラデシルオキシフェニル）スルファモイルが挙げられる。Ｑ_２で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のＱ_１で表される５〜７員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０２５８】
次に、式（Ａ−１）で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Ｑ_１としては５〜６員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Ｑ_２はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。
【０２５９】
一般式（Ａ−２）
【０２６０】
【化３９】

【０２６１】
一般式（Ａ−２）においてＲ_１はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。Ｒ_２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。Ｒ_３、Ｒ_４はそれぞれ一般式（Ａ−１）の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。Ｒ_３とＲ_４は互いに連結して縮合環を形成してもよい。
Ｒ_１は好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、シクロヘキシル基など）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンソイルアミノ基、メチルウレイド基、４−シアノフェニルウレイド基など）、カルバモイル基（ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−クロロフェニルカルバモイル基、２，４−ジクロロフェニルカルバモイル基など）でアシルアミノ基（ウレイド基、ウレタン基を含む）がより好ましい。Ｒ２は好ましくはハロゲン原子（より好ましくは塩素原子、臭素原子）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基など）である。
Ｒ_３は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。Ｒ_４は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基またはアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はＲ_１と同様である。Ｒ_４がアシルアミノ基である場合Ｒ_４はＲ_３と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。
【０２６２】
一般式（Ａ−２）においてＲ_３とＲ_４が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式（Ａ−１）で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式（Ａ−２）がナフトール系の化合物であるとき、Ｒ_１はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。Ｒ_２はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
【０２６３】
以下、本発明の現像促進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２６４】
【化４０】

【０２６５】
（フタル酸、及びその誘導体）
本発明においてはヨウ化銀錯形成剤とともに、フタル酸、及びその誘導体より選ばれる化合物を含有するのが好ましい。本発明に用いられるフタル酸、及びその誘導体としては、下記の一般式（ＰＨ）で表される化合物が好ましい。
【０２６６】
【化４１】

【０２６７】
式中、Ｔはハロゲン原子（フッ素、臭素、ヨウド）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基を表し、ｋは０〜４の整数を表す。ｋが２以上の時、複数のｋは互いに同一であっても異なっても良い。ｋは０〜２が好ましく、０，１がより好ましい。
【０２６８】
一般式（ＰＨ）の化合物は、酸のままで用いても良いし、あるいは塗布液への添加の容易性、ｐＨの調整の点から適当な塩にして用いても良い。塩としては、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルカリ土類金属塩、アミン塩などを用いることができる。好ましいのは、アルカリ金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋなど）、アンモニウム塩である。
【０２６９】
以下に、本発明に用いられるフタル酸、及びその誘導体の具体例を挙げるが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
【０２７０】
【化４２】

【０２７１】
本発明においては、フタル酸、及びその誘導体は塗布される銀１モル当たり、１．０×１０^−４モル〜１モル、好ましくは１．０×１０^−３モル〜０．５モル、より好ましくは２．０×１０^−３モル〜０．２モルである。
【０２７２】
（有機銀塩の説明）
本発明に用いる非感光性有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００４８〜００４９、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の）長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。有機銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、これらの混合物などを含む。本発明においては、これら有機銀塩の中でも、ベヘン酸銀含有率５０モル％以上１００モル％以下の有機酸銀を用いることが好ましい。特にベヘン酸銀含有率は７５モル％以上９８モル％以下であることが好ましい。
【０２７３】
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状でもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からａ、ｂ、ｃとした（ｃはｂと同じであってもよい。）とき、短い方の数値ａ、ｂで計算し、次のようにしてｘを求める。
ｘ＝ｂ／ａ
【０２７４】
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは１５≧ｘ（平均）≧１．５である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。
【０２７５】
りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μｍ以上０．３μｍ以下が好ましく０．１μｍ以上０．２３μｍ以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、さらに好ましくは１以上３以下、特に好ましくは１以上２以下である。
【０２７６】
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の１００分率が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下であることを指す。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差から求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率（変動係数）が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ（体積加重平均直径）から求めることができる。
【０２７７】
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平１０−６２８９９号、欧州特許公開第０８０３７６３Ａ１号、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号、特開２００１−１６３８２７号、特開２００１−１６３８８９〜９０号、同１１−２０３４１３号、特願２０００−９００９３号、同２０００−１９５６２１号、同２０００−１９１２２６号、同２０００−２１３８１３号、同２０００−２１４１５５号、同２０００−１９１２２６号等を参考にすることができる。
【０２７８】
本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造することが可能である。混合する際に２種以上の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。
【０２７９】
本発明における有機銀塩は、所望の量で使用できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ^２が好ましく、さらに好ましくは１〜３ｇ／ｍ^２である。特に好ましく１．２〜２．５ｇ／ｍ^２である。
【０２８０】
（還元剤の説明）
本発明の熱現像感光材料は、有機銀塩のための還元剤を含む。該還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できる任意の物質（好ましくは有機物）でよい。該還元剤の例は、特開平１１−６５０２１号、段落番号００４３〜００４５や、欧州特許０８０３７６４号、ｐ．７、３４行〜ｐ．１８、１２行に記載されている。
【０２８１】
本発明に用いられる好ましい還元剤は、フェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤、あるいはビスフェノール系還元剤である。特に次の一般式（Ｒ）で表される化合物が好ましい。
【０２８２】
一般式（Ｒ）
【化４３】

【０２８３】
一般式（Ｒ）においては、Ｒ^１１及びＲ^１１’は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ^１２及びＲ^１２’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Ｌは−Ｓ−基又はＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ^１及びＸ^１’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。
【０２８４】
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ^１１及びＲ^１１’
Ｒ^１１及びＲ^１１’は各々独立に置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
【０２８５】
２）Ｒ^１２及びＲ^１２’、Ｘ^１及びＸ^１’
Ｒ^１２及びＲ^１２’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。
Ｘ^１及びＸ^１’は、各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。
それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
【０２８６】
３）Ｌ
Ｌは−Ｓ−基又はＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。
Ｒ^１３の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、１−エチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基などがあげられる。
【０２８７】
アルキル基の置換基の例はＲ^１１の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
【０２８８】
４）好ましい置換基
Ｒ^１１及びＲ^１１’として、好ましくは炭素数３〜１５の２級又は３級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチルシクロプロピル基などがあげられる。Ｒ^１１及びＲ^１１’としてより好ましくは炭素数４〜１２の３級アルキル基で、その中でもｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
【０２８９】
Ｒ^１２及びＲ^１２’として好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基である。
【０２９０】
Ｘ^１及びＸ^１’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
【０２９１】
Ｌは好ましくは−ＣＨＲ^１３−基である。
【０２９２】
Ｒ^１３として好ましくは水素原子又は炭素数１〜１５のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，４，４−トリメチルペンチル基が好ましい。Ｒ^１３として特に好ましいのは水素原子、メチル基、プロピル基又はイソプロピル基である。
【０２９３】
Ｒ^１３が水素原子である場合、Ｒ^１２及びＲ^１２’は好ましくは炭素数２〜５のアルキル基であり、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。
【０２９４】
Ｒ^１３が炭素数１〜８の１級又は２級のアルキル基である場合、Ｒ^１２及びＲ^１２’はメチル基が好ましい。Ｒ^１３の炭素数１〜８の１級又は２級のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基が更に好ましい。
【０２９５】
Ｒ^１１、Ｒ^１１’及びＲ^１２、Ｒ^１２’とがいずれもメチル基である場合、Ｒ^１３は２級のアルキル基であることが好ましい。この場合、Ｒ^１３の２級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、１−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。
【０２９６】
上記還元剤は、Ｒ^１１、Ｒ^１１’及びＲ^１２及びＲ^１２’、及びＲ^１３の組合せにより、種々の熱現像性能が異なる。２種以上の還元剤を種々の混合比率で併用することによってこれらの熱現像性能を調製することができるので、目的によっては還元剤を２種類以上組み合わせて使用することが好ましい。
【０２９７】
以下に、本発明にかかる一般式（Ｒ）で表される化合物をはじめとする還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２９８】
【化４４】

【０２９９】
【化４５】

【０３００】
【化４６】

【０３０１】
特に（Ｒ−１）〜（Ｒ−２０）に示すような化合物であることが好ましい。
【０３０２】
本発明において還元剤の添加量は０．０１〜５．０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．１〜３．０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、画像形成層を有する面の銀１モルに対しては５〜５０モル％含まれることが好ましく、１０〜４０モル％で含まれることがさらに好ましい。
【０３０３】
本発明にかかる還元剤は、有機銀塩、及び感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層、及びその隣接層に添加することができるが、画像形成層に含有させることがより好ましい。
【０３０４】
本発明にかかる還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
【０３０５】
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
【０３０６】
また、固体微粒子分散法としては、還元剤を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。好ましくは、サンドミルを使った分散方法である。尚、その際に保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール）、界面活性剤（例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物）などのアニオン性界面活性剤）を用いてもよい。水分散物には防腐剤（例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩）を含有させることができる。
【０３０７】
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ０．０１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜１μｍの微粒子して添加するのが好ましい。本発明においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
【０３０８】
（水素結合性化合物の説明）
本発明では、還元剤の芳香族性の水酸基（−ＯＨ）、又はアミノ基を有する場合はアミノ基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することも可能である。
【０３０９】
水素結合を形成しうる基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、３級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレタン基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレイド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）を有する化合物である。
【０３１０】
本発明で、特に好ましい水素結合性化合物は下記一般式（Ｄ）で表される化合物である。
【０３１１】
一般式（Ｄ）
【化４７】

【０３１２】
一般式（Ｄ）においてＲ^２１ないしＲ^２３は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基又はヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
【０３１３】
Ｒ^２１ないしＲ^２３が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基又はアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−オクチル基、フェニル基、４−アルコキシフェニル基、４−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
【０３１４】
Ｒ^２１ないしＲ^２３のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、２−フェノキシプロピル基などがあげられる。
【０３１５】
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−オクチルフェニル基、４−アニシジル基、３，５−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
【０３１６】
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【０３１７】
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
【０３１８】
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等が挙げられる。
【０３１９】
Ｒ^２１ないしＲ^２３としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではＲ^２１ないしＲ^２３のうち少なくとも一つ以上がアルキル基又はアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手することができるという点ではＲ^２１ないしＲ^２３が同一の基である場合が好ましい。
【０３２０】
以下に本発明における一般式（Ｄ）の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３２１】
【化４８】

【０３２２】
【化４９】

【０３２３】
水素結合性化合物の具体例は上述の他に、欧州特許１０９６３１０号明細書、特開２００２−１５６７２７号、特開２００２−３１８４３１号に記載のものがあげられる。
【０３２４】
本発明における水素結合性化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができる。これらの化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基を有する化合物と水素結合による錯体を形成しており、還元剤と本発明における一般式（Ａ）の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
【０３２５】
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明における水素結合性化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
【０３２６】
本発明における水素結合性化合物は、還元剤に対して、１〜２００モル％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜１５０モル％の範囲で、さらに好ましくは３０〜１００モル％の範囲である。
【０３２７】
（バインダーの説明）
本発明における有機銀塩含有層のバインダーは、いかなるポリマーであってもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ（ビニルアルコール）類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ（ビニルピロリドン）類、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）類、ポリ（メチルメタクリル酸）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（メタクリル酸）類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（オレフィン）類、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。バインダーは水又は有機溶媒又はエマルションから被覆形成してもよい。
【０３２８】
本発明では、有機銀塩を含有する層のバインダーのガラス転移温度は１０℃以上８０℃以下であることが好ましく、２０℃〜７０℃であることがより好ましく、２３℃以上６５℃以下であることが更に好ましい。
【０３２９】
なお、本明細書においてＴｇは下記の式で計算される。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ）
【０３３０】
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの重量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。
尚、各モノマーの単独重合体ガラスの転移温度の値（Ｔｇｉ）はＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）（Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ， Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ著（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９８９））の値を採用した。
【０３３１】
バインダーとなるポリマーは単独種で用いてもよいし、必要に応じて２種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が２０℃以上のものとガラス転移温度が２０℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Ｔｇの異なるポリマーを２種以上ブレンドして使用する場合には、その重量平均Ｔｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【０３３２】
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の３０質量％以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒（水溶媒）に可溶又は分散可能である場合に、特に２５℃６０％ＲＨでの平衡含水率が２質量％以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。
最も好ましい形態は、イオン伝導度が２．５ｍＳ／ｃｍ以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
【０３３３】
ここでいう前記ポリマーが可溶又は分散可能である水系溶媒とは、水又は水に７０質量％以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。
水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドなどを挙げることができる。
【０３３４】
また「２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率」とは、２５℃６０％ＲＨの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの重量Ｗ１と２５℃で絶乾状態にあるポリマーの重量Ｗ０を用いて以下のように表すことができる。
２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率＝｛（Ｗ１−Ｗ０）／Ｗ０｝×１００（質量％）
含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座１４、高分子材料試験法（高分子学会編、地人書館）を参考にすることができる。
【０３３５】
本発明におけるバインダーポリマーの２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率は、２質量％以下であることが好ましいが、より好ましくは０．０１質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上１質量％以下が望ましい。
【０３３６】
本発明におけるバインダーは、水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態又はミセルを形成して分散しているものなどがあるが、いずれも好ましい。分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【０３３７】
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ（エステル）類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリ（ウレタン）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（オレフィン）類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。
【０３３８】
これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜２０００００がよい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。
【０３３９】
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量％、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Ｔｇはガラス転移温度を表す。
【０３４０】
Ｐ−１；−ＭＭＡ（７０）−ＥＡ（２７）−ＭＡＡ（３）−のラテックス（分子量３７０００、Ｔｇ６１℃）
Ｐ−２；−ＭＭＡ（７０）−２ＥＨＡ（２０）−Ｓｔ（５）−ＡＡ（５）−のラテックス（分子量４００００、Ｔｇ５９℃）
Ｐ−３；−Ｓｔ（５０）−Ｂｕ（４７）−ＭＡＡ（３）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ−１７℃）
Ｐ−４；−Ｓｔ（６８）−Ｂｕ（２９）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ１７℃）
Ｐ−５；−Ｓｔ（７１）−Ｂｕ（２６）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２４℃）
Ｐ−６；−Ｓｔ（７０）−Ｂｕ（２７）−ＩＡ（３）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−７；−Ｓｔ（７５）−Ｂｕ（２４）−ＡＡ（１）−のラテックス（架橋性、Ｔｇ２９℃）
Ｐ−８；−Ｓｔ（６０）−Ｂｕ（３５）−ＤＶＢ（３）−ＭＡＡ（２）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−９；−Ｓｔ（７０）−Ｂｕ（２５）−ＤＶＢ（２）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性）
Ｐ−１０；−ＶＣ（５０）−ＭＭＡ（２０）−ＥＡ（２０）−ＡＮ（５）−ＡＡ（５）−のラテックス（分子量８００００）
Ｐ−１１；−ＶＤＣ（８５）−ＭＭＡ（５）−ＥＡ（５）−ＭＡＡ（５）−のラテックス（分子量６７０００）
Ｐ−１２；−Ｅｔ（９０）−ＭＡＡ（１０）−のラテックス（分子量１２０００）
Ｐ−１３；−Ｓｔ（７０）−２ＥＨＡ（２７）−ＡＡ（３）のラテックス（分子量１３００００、Ｔｇ４３℃）
Ｐ−１４；−ＭＭＡ（６３）−ＥＡ（３５）−ＡＡ（２）のラテックス（分子量３３０００、Ｔｇ４７℃）
Ｐ−１５；−Ｓｔ（７０．５）−Ｂｕ（２６．５）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２３℃）
Ｐ−１６；−Ｓｔ（６９．５）−Ｂｕ（２７．５）−ＡＡ（３）−のラテックス（架橋性，Ｔｇ２０．５℃）
【０３４１】
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。ＭＭＡ；メチルメタクリレート、ＥＡ；エチルアクリレート、ＭＡＡ；メタクリル酸、２ＥＨＡ；２−エチルヘキシルアクリレート、Ｓｔ；スチレン、Ｂｕ；ブタジエン、ＡＡ；アクリル酸、ＤＶＢ；ジビニルベンゼン、ＶＣ；塩化ビニル、ＡＮ；アクリロニトリル、ＶＤＣ；塩化ビニリデン、Ｅｔ；エチレン、ＩＡ；イタコン酸。
【０３４２】
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンＡ−４６３５，４７１８，４６０１（以上ダイセル化学工業（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ８１１、８１４、８２１、８２０、８５７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（エステル）類の例としては、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０（以上大日本インキ化学（株）製）、ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ（ウレタン）類の例としては、ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、２０、３０、４０（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴム類の例としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６、４１０、４３８Ｃ、２５０７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニル）類の例としては、Ｇ３５１、Ｇ５７６（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニリデン）類の例としては、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以上旭化成工業（株）製）など、ポリ（オレフィン）類の例としては、ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００（以上三井石油化学（株）製）などを挙げることができる。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。
【０３４３】
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との重量比は４０：６０〜９５：５であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は６０〜９９質量％であることが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。
【０３４４】
本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン共重合体のラテックスとしては、前記のＰ−３〜Ｐ−８，１４，１５、市販品であるＬＡＣＳＴＡＲ−３３０７Ｂ、７１３２Ｃ、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６等が挙げられる。
【０３４５】
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には、必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。
【０３４６】
これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下が好ましい。
【０３４７】
本発明における有機銀塩含有層（即ち、画像形成層）は、ポリマーラテックスをバインダーに用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー／有機銀塩の重量比が１／１０〜１０／１、更には１／５〜４／１の範囲が好ましい。
【０３４８】
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層（画像形成層又は乳剤層）でもあり、このような場合の、全バインダー／ハロゲン化銀の重量比は４００〜５、より好ましくは２００〜１０の範囲が好ましい。
【０３４９】
本発明における画像形成層の全バインダー量は、０．２〜３０ｇ／ｍ^２、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ^２の範囲が好ましい。本発明における画像形成層には、架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
【０３５０】
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒（ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。）は、水を３０質量％以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。溶媒の水含有率は５０質量％以上がより好ましく、さらに好ましくは７０質量％以上が良い。
【０３５１】
好ましい溶媒組成の具体例を挙げると、水１００の他、水／メチルアルコール＝９０／１０、水／メチルアルコール＝７０／３０、水／メチルアルコール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メチルアルコール／エチルセロソルブ＝８５／１０／５、水／メチルアルコール／イソプロピルアルコール＝８５／１０／５などがある（数値は質量％）。
【０３５２】
（かぶり防止剤の説明）
本発明はカブリ防止剤として下記一般式（Ｈ）で表される化合物を含有するのが好ましい。
【０３５３】
一般式（Ｈ） Ｑ−（Ｙ）ｎ−Ｃ（Ｚ_１）（Ｚ_２）Ｘ
【０３５４】
一般式（Ｈ）において、Ｑはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、ｎは０又は１を表し、Ｚ_１及びＺ_２はハロゲン原子を表し、Ｘは水素原子又は電子求引性基を表す。
【０３５５】
Ｑは好ましくはハメットの置換基定数σｐが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３，Ｖｏｌ．１６，Ｎｏ．１１，１２０７−１２１６ 等を参考にすることができる。
【０３５６】
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロメチル基（トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２））、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３））、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４））、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。
σｐ値としては好ましくは０．２〜２．０の範囲で、より好ましくは０．４から１．０の範囲である。
【０３５７】
電子求引性基として好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基、カルボキシル基、アルキル又はアリールカルボニル基、及びアリールスルホニル基であり、特に好ましくはカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基であり、カルバモイル基が最も好ましい。
【０３５８】
Ｘは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
【０３５９】
Ｙは好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ−又はＳＯ_２−を表し、より好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−であり、特に好ましくは−ＳＯ_２−である。ｎは、０又は１を表し、好ましくは１である。
【０３６０】
以下に本発明における一般式（Ｈ）の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３６１】
【化５０】

【０３６２】
【化５１】

【０３６３】
本発明における一般式（Ｈ）で表される化合物は、画像形成層の非感光性銀塩１モル当たり、１０^−４〜０．８モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０^−３〜０．１モルの範囲で、さらに好ましくは５×１０^−３〜０．０５モルの範囲で使用することが好ましい。
特に、本発明におけるヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀を用いた場合、十分なかぶり防止効果を得るためにはこの一般式（Ｈ）の化合物の添加量は重要であり、５×１０^−３〜０．０３モルの範囲で使用することが最も好ましい。
【０３６４】
本発明において、一般式（Ｈ）で表される化合物を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられる。
【０３６５】
一般式（Ｈ）で表される化合物の融点は２００℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは１７０℃以下がよい。
【０３６６】
本発明に用いられるその他の有機ポリハロゲン化物として、特開平１１−６５０２１号の段落番号０１１１〜０１１２に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特願平１１−８７２９７号の式（Ｐ）で表される有機ハロゲン化合物、特開平１０−３３９９３４号の一般式（ＩＩ）で表される有機ポリハロゲン化合物、特願平１１−２０５３３０号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。
【０３６７】
（その他のかぶり防止剤の説明）
その他のカブリ防止剤としては特開平１１−６５０２１号段落番号０１１３の水銀（ＩＩ）塩、同号段落番号０１１４の安息香酸類、特開２０００−２０６６４２号のサリチル酸誘導体、特開２０００−２２１６３４号の式（Ｓ）で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平１１−３５２６２４号の請求項９に係るトリアジン化合物、特開平６−１１７９１号の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン等が挙げられる。
【０３６８】
本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤及び安定剤前駆体特開平１０−６２８９９号の段落番号００７０、欧州特許０８０３７６４Ａ１号の第２０頁第５７行〜第２１頁第７行に記載の特許のもの、特開平９−２８１６３７号、同９−３２９８６４号記載の化合物が挙げられる。
【０３６９】
本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭５９−１９３４４７号記載の一般式（ＸＩ）で表される化合物、特公昭５５−１２５８１号記載の化合物、特開昭６０−１５３０３９号記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては画像形成層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。
【０３７０】
アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
【０３７１】
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀１モル当たり１×１０^−６モル以上２モル以下が好ましく、１×１０^−３モル以上０．５モル以下がさらに好ましい。
【０３７２】
（その他の添加剤の説明）
１）メルカプト、ジスルフィド、及びチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平１０−６２８９９号の段落番号００６７〜００６９、特開平１０−１８６５７２号の一般式（Ｉ）で表される化合物及びその具体例として段落番号００３３〜００５２、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第２０ページ第３６〜５６行に記載されている。その中でも特開平９−２９７３６７号、特開平９−３０４８７５号、特開２００１−１００３５８号、特開２００２−３０３９５４号、特開２００２−３０３９５１号等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
【０３７３】
２）色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００５４〜００５５、欧州特許０８０３７６４Ａ１号のｐ．２１，２３行〜４８行、特開２０００−３５６３１７号や特願２０００−１８７２９８号に記載されており、特に、フタラジノン類（フタラジノン、フタラジノン誘導体若しくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノン及び２，３−ジヒドロー１，４−フタラジンジオン）；フタラジノン類とフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウム及びテトラクロロ無水フタル酸）の組み合わせ；フタラジン類（フタラジン、フタラジン誘導体若しくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジン、６−イソプロピルフタラジン、６−ｔ−ブチルフタラジン、６−クロロフタラジン、５．７−ジメトキシフタラジン、及び２，３−ジヒドロフタラジン）が好ましく、特に、ヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀との組み合わせにおいては、フタラジン類とフタル酸類の組み合わせが好ましい。
【０３７４】
好ましいフタラジン類の添加量としては、有機銀塩１モル当たり０．０１モル〜０．３モルであり、さらに好ましくは０．０２〜０．２モル、特に好ましくは０．０２〜０．１モルである。この添加量は、本発明のようなヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀乳剤で課題となっている現像促進においては、重要な要因であり、適正な添加量の選択によって十分な現像性と低いかぶりの両立が可能となる。
【０３７５】
３）可塑剤、潤滑剤
本発明における画像形成層に用いることのできる可塑剤及び潤滑剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１１７に記載されている。滑り剤については特開平１１−８４５７３号段落番号００６１〜００６４や特願平１１−１０６８８１号段落番号００４９〜００６２記載されている。
【０３７６】
４）染料、顔料
本発明における画像形成層には色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料（例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）を用いることができる。これらについてはＷＯ９８／３６３２２号、特開平１０−２６８４６５号、同１１−３３８０９８号等に詳細に記載されている。
【０３７７】
５）超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１１８、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１３６〜０１９３、特願平１１−８７２９７号明細書の式（Ｈ）、式（１）〜（３）、式（Ａ）、（Ｂ）の化合物、特願平１１−９１６５２号明細書記載の一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）の化合物（具体的化合物：化２１〜化２４）、硬調化促進剤については特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１０２、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１９４〜０１９５に記載されている。
【０３７８】
分解して蟻酸や蟻酸塩を発生する物質を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀１モル当たり５ミリモル以下、さらには１ミリモル以下で含有させることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には、五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、メタリン酸（塩）、ピロリン酸（塩）、オルトリン酸（塩）、三リン酸（塩）、四リン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、オルトリン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどが挙げられる。
五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩の使用量（感光材料１ｍ^２あたりの塗布量）は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、０．１〜５００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、０．５〜１００ｍｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０３７９】
（塗布液の調製及び塗布）
本発明における画像形成層塗布液の調製温度は、３０℃以上６５℃以下がよく、さらに好ましい温度は３５℃以上６０℃未満、より好ましい温度は３５℃以上５５℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が３０℃以上６５℃以下で維持されることが好ましい。
【０３８０】
２．層構成、及びその他の構成成分
本発明の熱現像感光材料は、支持体の片面にのみ画像形成層を有する「片面型」であっても、両面に画像形成層を有する両面型であっても良い。
【０３８１】
（両面型熱現像感光材料）
本発明における両面型熱現像感光材料は、Ｘ線増感スクリーンを用いてＸ線画像を記録する画像形成方法に好ましく用いることができる。
この両面型熱現像感光材料を用いる画像形成方法は、少なくとも以下の工程を含むことが好ましい。
（ａ）前記熱現像感光材料を１対のＸ線増感スクリーンの間に設置することにより、像形成用組立体を得る工程、
（ｂ）前記組立体とＸ線源との間に被検体を配置する工程、
（ｃ）前記被検体にエネルギーレベルが、２５ｋＶｐ以上１２５ｋＶｐ以下のＸ線を照射する工程、
（ｄ）前記熱現像感光材料を、前記組立体から取り出す工程、
（ｅ）取り出した熱現像感光材料を、９０℃以上１８０℃以下で加熱する工程。
【０３８２】
本発明における組立体において使用する熱現像感光材料は、Ｘ線によって階段露光し、熱現像して得られる画像が、光学濃度（Ｄ）及び露光量（ｌｏｇＥ）の座標軸単位長の等しい直交座標上の特性曲線において、最小濃度（Ｄｍｉｎ）＋濃度０．１の点と最小濃度（Ｄｍｉｎ）＋濃度０．５の点とで作る平均ガンマ（γ）が０．５〜０．９であり、そして最小濃度（Ｄｍｉｎ）＋濃度１．２の点と最小濃度（Ｄｍｉｎ）＋濃度１．６の点とで作る平均ガンマ（γ）値が３．２〜４．０である特性曲線を有するように調製されていることが好ましい。Ｘ線撮影系において、このような特性曲線を有する熱現像感光材料を用いると、特性曲線の脚部が非常に延びていて、かつ中濃度部ではガンマ値が高いといった優れた写真特性のＸ線画像が得られる。この写真特性により、Ｘ線透過量の少ない縦隔部、心陰影等の低濃度域の描写性が良好になり、かつＸ線透過量の多い肺野部の画像においても視覚し易い濃度となり、またコントラストも良好になるとの利点がある。
軟部組織を撮影する場合には、管電圧４０ｋＶ以下のＸ線を用いて撮影することが好ましい。より好ましくは、３５ｋＶ以下のＸ線である。このような管電圧を用いた場合、軟部組織を視覚しやすい画像として撮影ができる。
【０３８３】
上記のような好ましい特性曲線を有する熱現像感光材料は、たとえば、両側の画像形成層のそれぞれを、互いに異なった感度を持つ二層以上のハロゲン化銀乳剤層から構成するような方法で容易に製造することができる。特に、上層には高感度の乳剤を用い、下層には低感度で硬調な写真特性を有する乳剤を用いて、画像形成層を形成することが好ましい。このような二層からなる画像形成層を用いる場合における各層間のハロゲン化銀乳剤の感度差は１．５倍以上２０倍以下、好ましくは２倍以上１５倍以下である。なお、それぞれの層の形成に用いられる乳剤の量の比率は、用いられる乳剤の感度差及びカバリングパワーにより異なる。一般には、感度差が大きい程、高感度側の乳剤の使用比率を下げる。たとえば、感度差が２倍であるときの好ましい各乳剤の使用比率は、カバリングパワーがほぼ等しい場合には、銀量換算で、高感度乳剤対低感度乳剤として１：２０以上１：５０以下の範囲の値となるように調整される。
【０３８４】
本発明の熱現像感光材料の製造に利用される乳剤増感法や各種添加剤、構成材料等に関しては特に制限はなく、たとえば、特開平２−６８５３９号公報、特開平２−１０３０３７号公報、及び特開平２−１１５８３７号公報に記載の各種の技術を利用することができる。
【０３８５】
クロスオーバーカット（両面感光材料）とアンチハレーション（片面感光材料）の技術としては、特開平２−６８５３９号公報、第１３頁左下欄１行目から同第１４頁左下欄９行目に記載の染料若しくは染料と媒染剤を用いることができる。
【０３８６】
両面型熱現像感光材料の感度について説明する。
Ｘ線増感スクリーンを用い、該Ｘ線増感スクリーンの主発光ピーク波長と同一波長であり、かつ、半値幅が１５±５ｎｍであるＸ線を光源として露光する。このような光を得る方法としては干渉フィルターを組合せたフィルター系を用いる方法が利用できる。この方法によれば、干渉フィルターの組合せにも依存するが、通常、必要な露光量を持ち、かつ半値幅が１５±５ｎｍの光を容易に得ることができる。
予め更正された照度計にて、正しく照度が測定されている上記光線を光源として、ニュートラルフィルターのステップウェッジを通して１秒間、１ｍ離れた感光材料を露光する。
熱現像処理後、支持体に対し露光面の反対側の画像形成層を除去して得られる画像濃度を測定し、カブリ＋濃度０．５が得られる露光量を測定することにより、感光材料の感度が求められる。感度は、ルクス秒で表すことができる。画像形成層を除去するには、アセトン、ＤＭＦ、及びＭＥＫなどの有機溶媒で除去することができる。
【０３８７】
本発明における両面型熱現像感光材料の感度は、０．００５ルクス・秒以上０．０７ルクス・秒以下であることが好ましい。より好ましくは、０．００７ルクス・秒以上０．０５ルクス・秒以下である。
【０３８８】
次に、本発明における蛍光増感紙（放射線増感スクリーン）について説明する。放射線増感スクリーンは、基本構造として、支持体と、その片面に形成された蛍光体層とからなる。蛍光体層は、蛍光体が結合剤（バインダ）中に分散されてなる層である。なお、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支持体に面していない側の表面）には一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。
【０３８９】
本発明において、好ましい蛍光体としては、以下に示すものが挙げられる。
タングステン酸塩系蛍光体（ＣａＷＯ_４、ＭｇＷＯ_４、ＣａＷＯ_４：Ｐｂ等）、テルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光体〔Ｙ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ，Ｇｄ）_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ，Ｇｄ）Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ，Ｔｍ等〕、テルビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体（ＹＰＯ_４：Ｔｂ、ＧｄＰＯ_４：Ｔｂ、ＬａＰＯ_４：Ｔｂ等）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ，Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ，Ｔｍ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＧｄＯＢｒ：Ｔｂ、ＧｄＯＣｌ：Ｔｂ等）、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｍ等）、硫酸バリウム系蛍光体〔ＢａＳＯ_４：Ｐｂ、ＢａＳＯ_４：Ｅｕ^２＋、（Ｂａ，Ｓｒ）ＳＯ_４：Ｅｕ^２＋等〕、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属燐酸塩系蛍光体〔（Ｂａ_２ＰＯ_４）_２：Ｅｕ^２＋、（Ｂａ_２ＰＯ_４）_２：Ｅｕ^２＋等〕、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体〔ＢａＦＣｌ：Ｅｕ^２＋、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ^２＋、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ^２＋，Ｔｂ、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ^２＋，Ｔｂ、ＢａＦ_２・ＢａＣｌ・ＫＣｌ：Ｅｕ^２＋、（Ｂａ，Ｍｇ）Ｆ_２・ＢａＣｌ・ＫＣｌ：Ｅｕ^２＋等〕、沃化物系蛍光体（ＣｓＩ：Ｎａ、ＣｓＩ：Ｔｌ、ＮａＩ、ＫＩ：Ｔｌ等）、硫化物系蛍光体〔ＺｎＳ：Ａｇ（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体（ＨｆＰ_２Ｏ_７：Ｃｕ等）、但し本発明に用いられる蛍光体はこれらに限定されるものではなく、放射線の照射によって可視又は近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用できる。
【０３９０】
本発明で用いる蛍光増感紙は、傾斜粒径構造で蛍光体を充填することが好ましい。特に表面保護層側に大粒径の蛍光体粒子を塗布し、支持体側に小粒径の蛍光体粒子を塗布することが好ましく、小粒径のものは０．５〜２．０μｍで、大粒径のものは１０〜３０μｍの範囲が好ましい。
【０３９１】
（片面型熱現像感光材料）
本発明における片面型熱現像感光材料は、特に乳房撮影用Ｘ線感光材料として用いるのが好ましい。
本目的に用いられる片面型熱現像感光材料は、得られる画像のコントラストを適切な範囲に設計することがが重要である。
【０３９２】
本発明における熱現像感光材料の特性曲線を求める方法について説明する。乳房撮影においては、通常低圧Ｘ線を発するＭｏターゲット管で露光するが、実質的にＧｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂからなる蛍光体を用いた増感スクリーンを用いる場合に限り、タングステン・ターゲット管から生じたＸ線を線源にして距離法によりＸ線露光量を変化させる方法で特性曲線を求めても実質的に変わらない。
【０３９３】
具体的に、この測定には、三相の電力供給で５０ｋＶｐで運転されるタングステン・ターゲット管から生じたＸ線を、厚み３ｍｍのアルミニウム板を透過させたものを用いた。市販のＵＭ−Ｆｉｎｅスクリーンと測定する感材を密着させ、富士写真フィルム（株）社製ＥＣＭＡカセッテに装填した。Ｘ線管球から順番に、カセッテ天板、フィルム、スクリーンとなるように配置してＸ線照射を行った。距離法にてＸ線露光量を変化させ、ｌｏｇＥ＝０．１５の幅でステップ露光した。
【０３９４】
露光後のフィルムは、定められた条件で熱現像される。その後濃度を測定し、照射線露光量の対数を横軸にし、縦軸に光学濃度をとり特性曲線を得る。コントラストは、カブリ＋０．２５とカブリ＋２．０の濃度点を結ぶ直線の傾き（横軸とのなす角をθとして、ｔａｎθ）から求められる。
【０３９５】
次に、感光材料の感度の測定法について説明する。光源としては、両面型熱現像感光材料の場合と同様に、用いられるＸ線増感スクリーンの主発光ピーク波長と同一の波長の単色光が用いられる。露光方法も、両面型熱現像感光材料の場合と同様である。熱現像処理後、得られた画像の濃度を測定し、カブリ＋濃度０．５が得られる露光量を測定することにより、感光材料の感度が求められる。
【０３９６】
本発明における片面型熱現像感光材料の感度は、０．０１ルクス・秒以上０．０７ルクス・秒以下であることが好ましい。より好ましくは、０．０１ルクス・秒以上０．０５ルクス・秒以下である。コントラストは、３．０以上５．０以下であることが好ましい。特に、乳房撮影に用いる場合に、上記範囲内とすることが有効である。
【０３９７】
以下に本発明で用いられる乳房撮影用増感スクリーンに関して、詳しく説明する。乳房撮影用写真組体のＸ線増感スクリーンは、胸部診断用などと比べて高解像度を必要とされる。よって一般に市販されている乳房撮影用のＸ線増感スクリーンはその蛍光体層を着色することによってその解像度を上げている。しかしながらこのような着色はＸ線入射面に対し奥の蛍光体により吸収されたＸ線による発光光を有効に取り出すことができない。本発明におけるＸ線増感スクリーンは、実質的に蛍光体層を着色することなく、さらに十分にＸ線を吸収できるだけの蛍光体を塗布したうえで、必要な高鮮鋭度を得るスクリーンを提供することが必要である。
【０３９８】
このようなスクリーンの目標を達成するためにはその蛍光体の粒子サイズが一定サイズ以下であることが好ましい。蛍光体のサイズの測定法方はコールターカウンター法、電子顕微鏡による観察などにより測定することができる。その蛍光体サイズの球相当直径平均は１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１μｍ以上４μｍ以下である。従来のような蛍光体層を染色する乳房撮影用スクリーンにおいてはこれは重要ではないが、本発明においては重要である。
【０３９９】
またこのようなスクリーンにおいて鮮鋭度を上げるためには蛍光体層のバインダーと蛍光体の重量比において、よりバインダーが少ない方が好ましい。バインダー／蛍光体の重量比は１／５０以上１／２０以下であることが好ましく、さらには１／５０以上１／２５以下であることが好ましい。
【０４００】
バインダーとしては特開平６−７５０９７号公報の第４頁右欄４５行目から同５頁左欄１０行目に記載の公知の物を使用することが出来るが、軟化温度又は融点が３０℃〜１５０℃の熱可塑性エストラマーを単独、あるいは他のバインダーポリマーと共に用いることが好ましい。特に本発明のように鮮鋭度をあげるためにバインダーの少ないスクリーンでは、そのスクリーンの耐久性は悪化するので、これに耐えうるバインダーを選択することは重要である。この解決策としては、十分に柔軟性のあるバインダーを選択することが好ましい。また蛍光体層内に可塑剤等を添加することも好ましく用いられる。熱可塑性エラストマーの例としては、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジエン、エチレン酢酸ビニル、天然ゴム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレン、スチレンーブタジエンゴム、シリコンゴムなどを挙げることができる。これらのうち、特にポリウレタンが好ましい。また蛍光体層の下塗りのバインダーの選択も重要である。アクリル系バインダーが好ましく用いられる。
【０４０１】
またスクリーンは耐傷性・耐汚染性の許す範囲で、その表面保護層が薄いことも好ましい。その表面保護層の厚みは２μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。
【０４０２】
表面保護層の素材はＰＥＴ（特に延伸タイプ）、ＰＥＮ、ナイロン等のフィルムを張り合わせることが出来る。またフッ素系樹脂を溶剤に溶かして塗布することによって表面保護膜を形成することも汚れ防止の観点から好ましく用いられる。好ましいフッ素樹脂の態様については、特開平６−７５０９７号公報の第６頁左欄４行目から同右欄４３行目に詳しい。またこの様に溶剤塗布型で表面保護層を形成できる樹脂としては、フッ素樹脂の他にポリウレタン樹脂、ポリアクリル樹脂、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。
【０４０３】
また蛍光体の充填率が十分に高いことも、高感度でかつ高鮮鋭度のスクリーンを得るためには重要である。具体的には蛍光体の体積充填率が６０％以上８０％以下であることが好ましい。さらに好ましくは６５％以上８０％以下である。ここで本発明のような微粒子の蛍光体で体積充填率を高く保つためには特開平６−７５０９７号公報の第４頁右欄２９行目から同第６頁左欄１行目に記載の蛍光体層を圧縮処理する工程が好ましく用いられる。
【０４０４】
また、本発明に使用される蛍光体は実質的にＧｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂであることが好ましい。ここで、実質的にとは、蛍光体の主成分がＧｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂであるという意味であり、その性能を向上させるための数％程度の添加物や、表面を修飾するためのシリカ等は好ましく用いることができる。またＧｄに代わりに数十％程度以内の割合でＹ、Ｌａ、Ｌｕを混用することも可能である。
【０４０５】
一般に蛍光体はその密度が重いことがＸ線を有効に吸収するため好ましい。乳房撮影用に用いられる線源において好ましいＸ線吸収能をしめすこの様な蛍光体としては、Ｇｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂの他に、ＹＴａＯ_４及びそれに発光中心として各種付活剤を加えたもの、ＣａＷＯ_４、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ等が挙げられる。
【０４０６】
（紫外蛍光スクリーンとの組合せ）
本発明の熱現像感光材料を用いた画像形成方法としては、好ましくは４００ｎｍ以下に主ピークを持つ蛍光体との組み合わせで画像形成する方法を用いることができる。さらに好ましくは３８０ｎｍ以下に主ピークを持つ蛍光体と組み合わせて画像形成する方法が良い。両面感材、片面感材のいずれでも組立て体として用いることができる。４００ｎｍ以下に主発光ピークであるスクリーンは特開平６−１１８０４号、ＷＯ９３／０１５２１号に記載のスクリーンなどが使われるがこれに限られるものではない。紫外線のクロスオーバーカット（両面感光材料）とアンチハレーション（片面感光材料）の技術としては、特開平８−７６３０７号公報に記載の技術を用いることができる。
本発明における熱現像感光材料は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤としては、特開２００２−３２８０９０号に記載の染料が特に好ましい。
【０４０７】
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非画像形成層を有することができる。非画像形成層は、その配置から（ａ）画像形成層の上（支持体よりも遠い側）に設けられる表面保護層、（ｂ）複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、（ｃ）画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、（ｄ）画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
【０４０８】
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、（ａ）又は（ｂ）の層として設けられる。アンチハレーション層は、（ｃ）又は（ｄ）の層として感光材料に設けられる。
【０４０９】
１）表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。表面保護層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１１９〜０１２０、特開２００１−３４８５４６号に記載されている。
【０４１０】
本発明における表面保護層のバインダーとしては、ゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン（例えば新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば新田ゼラチン８０１）など使用することができる。
【０４１１】
ＰＶＡとしては、特開２０００−１７１９３６号の段落番号０００９〜００２０に記載のものがあげられ、完全けん化物のＰＶＡ−１０５、部分けん化物のＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−３３５、変性ポリビニルアルコールのＭＰ−２０３（以上、クラレ（株）製の商品名）などが好ましく挙げられる。
【０４１２】
保護層（１層当たり）のポリビニルアルコール塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜４．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４１３】
表面保護層（１層当たり）の全バインダー（水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む）塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜５．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４１４】
２）アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を画像形成層に対して露光光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーション層については特開平１１−６５０２１号段落番号０１２３〜０１２４、特開平１１−２２３８９８号、同９−２３０５３１号、同１０−３６６９５号、同１０−１０４７７９号、同１１−２３１４５７号、同１１−３５２６２５号、同１１−３５２６２６号等に記載されている。
【０４１５】
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
【０４１６】
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非画像形成層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平１１−２３１４５７号等に記載されている。
【０４１７】
消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度（吸光度）が０．１を越える量で使用する。光学濃度は、０．２〜２であることが好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に０．００１〜１ｇ／ｍ^２程度である。
【０４１８】
なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を０．１以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
【０４１９】
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平１１−３５２６２６号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を３℃以上降下させる物質（例えば、ジフェニルスルホン、４−クロロフェニル（フェニル）スルホン）を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
【０４２０】
３）バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平１１−６５０２１号段落番号０１２８〜０１３０に記載されている。
【０４２１】
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で３００〜４５０ｎｍに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭６２−２１０４５８号、同６３−１０４０４６号、同６３−１０３２３５号、同６３−２０８８４６号、同６３−３０６４３６号、同６３−３１４５３５号、特開平０１−６１７４５号、特開２００１−１００３６３号などに記載されている。このような着色剤は、通常、０．１ｍｇ／ｍ^２〜１ｇ／ｍ^２の範囲で添加され、添加する層としては画像形成層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
【０４２２】
４）マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を表面保護層、及びバック層に添加することが好ましい。マット剤については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１２６〜０１２７に記載されている。
マット剤は感光材料１ｍ^２当たりの塗布量で示した場合、好ましくは１〜４００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは５〜３００ｍｇ／ｍ^２である。
【０４２３】
また、乳剤面のマット度は、画像部に小さな白抜けが生じ、光漏れが発生するいわゆる星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が３０秒以上２０００秒以下が好ましく、特に４０秒以上１５００秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１９「紙及び板紙のベック試験器による平滑度試験方法」及びＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求めることができる。
【０４２４】
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が１２００秒以下１０秒以上が好ましく、８００秒以下２０秒以上が好ましく、さらに好ましくは５００秒以下４０秒以上である。
【０４２５】
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層若しくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。
【０４２６】
５）ポリマーラテックス
本発明における表面保護層やバック層にポリマーラテックスを添加することができる。
このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート（３３．５質量％）／エチルアクリレート（５０質量％）／メタクリル酸（１６．５質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（４７．５質量％）／ブタジエン（４７．５質量％）／イタコン酸（５質量％）コポリマーのラテックス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（５８．９質量％）／２−エチルヘキシルアクリレート（２５．４質量％）／スチレン（８．６質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．１質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（６４．０質量％）／スチレン（９．０質量％）／ブチルアクリレート（２０．０質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．０質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
【０４２７】
ポリマーラテックスは、表面保護層、あるいはバック層の全バインダー（水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む）の１０質量％〜９０質量％用いるのが好ましく、特に２０質量％〜８０質量％が好ましい。
【０４２８】
６）膜面ｐＨ
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面ｐＨが７．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは６．６以下である。その下限には特に制限はないが、３程度である。最も好ましいｐＨ範囲は４〜６．２の範囲である。
【０４２９】
膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面ｐＨの測定方法は、特開２０００−２８４３９９７号明細書の段落番号０１２３に記載されている。
【０４３０】
７）硬膜剤
本発明における画像形成層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著’ＴＨＥ ＴＨＥＯＲＹ ＯＦ ＴＨＥ ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣ ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮ’（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．， Ｉｎｃ．刊、１９７７年刊）７７頁から８７頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）、Ｎ，Ｎ−プロピレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）の他、同書７８頁など記載の多価金属イオン、米国特許４，２８１，０６０号、特開平６−２０８１９３号などのポリイソシアネート類、米国特許４，７９１，０４２号などのエポキシ化合物類、特開昭６２−８９０４８号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
【０４３１】
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
【０４３２】
具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やＮ．Ｈａｒｎｂｙ、Ｍ．Ｆ．Ｅｄｗａｒｄｓ、Ａ．Ｗ．Ｎｉｅｎｏｗ著、高橋幸司訳’液体混合技術’（日刊工業新聞社刊、１９８９年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０４３３】
８）界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１３２に記載されている。
本発明ではフッ素系界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の好ましい具体例は特開平１０−１９７９８５号、特開２０００−１９６８０号、特開２０００−２１４５５４号等に記載されている化合物が挙げられる。また、特開平９−２８１６３６号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明においては、特願２０００−２０６５６０号記載のフッ素系界面活性剤の使用が特に好ましい。
【０４３４】
９）帯電防止剤
また、本発明では、公知の種々の金属酸化物あるいは導電性ポリマーなどを含む帯電防止層を有しても良い。帯電防止層は前述の下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねても良く、また別途設けてもよい。帯電防止層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１３５、特開昭５６−１４３４３０号、同５６−１４３４３１号、同５８−６２６４６号、同５６−１２０５１９号、特開平１１−８４５７３号の段落番号００４０〜００５１、米国特許第５，５７５，９５７号、特開平１１−２２３８９８号の段落番号００７８〜００８４に記載の技術を適用することができる。
【０４３５】
１０）支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
【０４３６】
紫外発光スクリーンと組合せて用いられる熱現感光材料の支持体としては、ＰＥＮを好ましく用いることができる。ただしこれに限定されるものではない。ＰＥＮとしてはポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。本発明にいうポリエチレン−２，６−ナフタレートとは、その繰返し構造単位が実質的にエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート単位から構成されるものであればよく、共重合されないポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートのみならず繰返し構造単位の数の１０％以下、好ましくは５％以下が他の成分で変性されたような共重合体、及び他のポリマーとの混合物、組成物を含むものである。
【０４３７】
ポリエチレン−２，６−ナフタレートはナフタリン−２，６−ジカルボン酸、又はその機能的誘導体、及びエチレングリコール又はその機能的誘導体とを触媒の存在下で適当な反応条件の下に結合せしめることによって合成されるが、本発明にいうポリエチレン−２，６−ナフタレートには、このポリエチレン−２，６−ナフタレートの重合完結前に適当な１種又は２種以上の第三成分（変性剤）を添加し共重合又は混合ポリエステルとしたものであってもよい。適当な第三成分としては、２価のエステル形成官能基を有する化合物、例えばシュウ酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレン−２，７−ジカルボン酸、コハク酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等のジカルボン酸、又はその低級アルキルエステル、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシエトキシ安息香酸の如きオキシカルボン酸、又はその低級アルキルエステル、あるいはプロピレングリコール、トリメチレングリコールの如き２価アルコール類等の化合物があげられる。ポリエチレン−２，６−ナフタレート又はその変性重合体は、例えば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能性化合物によって末端の水酸基及び／又はカルボキシル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例えば極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。
【０４３８】
医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料（例えば、特開平８−２４０８７７号実施例記載の染料−１）で着色されていてもよいし、無着色でもよい。
具体的な支持体の例は、特開平１１−６５０２１同号段落番号０１３４に記載されている。
【０４３９】
支持体には、特開平１１−８４５７４号の水溶性ポリエステル、同１０−１８６５６５号のスチレンブタジエン共重合体、特開２０００−３９６８４号や特願平１１−１０６８８１号段落番号００６３〜００８０の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。
【０４４０】
１１）その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。特開平１１−６５０２１号段落番号０１３３の記載の溶剤を添加しても良い。各種の添加剤は、画像形成層あるいは非画像形成層のいずれかに添加する。それらについてＷＯ９８／３６３２２号、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、特開平１０−１８６５６７号、同１０−１８５６８号等を参考にすることができる。
【０４４１】
１２）塗布方式
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、又は米国特許第２，６８１，２９４号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Ｓｔｅｐｈｅｎ Ｆ． Ｋｉｓｔｌｅｒ、Ｐｅｔｅｒｔ Ｍ． Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ著’ＬＩＱＵＩＤ ＦＩＬＭ ＣＯＡＴＩＮＧ’（ＣＨＡＰＭＡＮ ＆ ＨＡＬＬ社刊、１９９７年）３９９頁から５３６頁記載のエクストルージョンコーティング、又はスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
【０４４２】
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書４２７頁のＦｉｇｕｒｅ １１ｂ．１にある。また、所望により同書３９９頁から５３６頁記載の方法、米国特許第２，７６１，７９１号及び英国特許第８３７，０９５号に記載の方法により２層又はそれ以上の層を同時に被覆することができる。
【０４４３】
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平１１−５２５０９号を参考にすることができる。
本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度０．１Ｓ^−１における粘度は４００ｍＰａ・ｓ以上１００，０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、さらに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上２０，０００ｍＰａ・ｓ以下である。
また、剪断速度１０００Ｓ^−１においては１ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下が好まく、さらに好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上８０ｍＰａ・ｓ以下である。
【０４４４】
１３）包装材料
本発明の熱現像感光材料は、使用される前の保存時に写真性能の変質を防ぐため、あるいはロール状態の製品形態の場合にはカールしたり巻き癖が付くのを防ぐために、酸素透過率及び／又は水分透過率の低い包装材料で密閉包装するのが好ましい。酸素透過率は、２５℃で５０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。水分透過率は、１０ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは５ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。酸素透過率及び／又は水分透過率の低い包装材料の具体例としては、例えば特開平８−２５４７９３号、特開２０００−２０６６５３号に記載されているものを利用することができる。
【０４４５】
１４）その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、ＥＰ８８３０２２Ａ１号、ＷＯ９８／３６３２２号、特開昭５６−６２６４８号、同５８−６２６４４号、特開平９−４３７６６、同９−２８１６３７、同９−２９７３６７号、同９−３０４８６９号、同９−３１１４０５号、同９−３２９８６５号、同１０−１０６６９号、同１０−６２８９９号、同１０−６９０２３号、同１０−１８６５６８号、同１０−９０８２３号、同１０−１７１０６３号、同１０−１８６５６５号、同１０−１８６５６７号、同１０−１８６５６９号〜同１０−１８６５７２号、同１０−１９７９７４号、同１０−１９７９８２号、同１０−１９７９８３号、同１０−１９７９８５号〜同１０−１９７９８７号、同１０−２０７００１号、同１０−２０７００４号、同１０−２２１８０７号、同１０−２８２６０１号、同１０−２８８８２３号、同１０−２８８８２４号、同１０−３０７３６５号、同１０−３１２０３８号、同１０−３３９９３４号、同１１−７１００号、同１１−１５１０５号、同１１−２４２００号、同１１−２４２０１号、同１１−３０８３２号、同１１−８４５７４号、同１１−６５０２１号、同１１−１０９５４７号、同１１−１２５８８０号、同１１−１２９６２９号、同１１−１３３５３６号〜同１１−１３３５３９号、同１１−１３３５４２号、同１１−１３３５４３号、同１１−２２３８９８号、同１１−３５２６２７号、同１１−３０５３７７号、同１１−３０５３７８号、同１１−３０５３８４号、同１１−３０５３８０号、同１１−３１６４３５号、同１１−３２７０７６号、同１１−３３８０９６号、同１１−３３８０９８号、同１１−３３８０９９号、同１１−３４３４２０号、特願２０００−１８７２９８号、同２０００−１０２２９号、同２０００−４７３４５号、同２０００−２０６６４２号、同２０００−９８５３０号、同２０００−９８５３１号、同２０００−１１２０５９号、同２０００−１１２０６０号、同２０００−１１２１０４号、同２０００−１１２０６４号、同２０００−１７１９３６号も挙げられる。
【０４４６】
１５）カラー画像形成
多色カラー熱現像感光材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第４，７０８，９２８号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多色カラー熱現像感光材料の場合、各画像形成層は、一般に、米国特許第４，４６０，６８１号に記載されているように、各画像形成層の間に官能性若しくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
【０４４７】
３．画像形成方法
１）露光
本発明の感光材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。本発明のようにヨウ化銀含有率の高いハロゲン化銀乳剤は、従来はその感度が低くて問題であった。しかし、レーザー光のような高照度で書き込むことで低感度の問題も解消され、しかもより少ないエネルギーで画像記録できることがわかった。このような強い光で短時間に書き込むことによって目標の感度を達成することができる。
【０４４８】
特に最高濃度（Ｄｍａｘ）を出すような露光量を与える場合、感光材料表面の好ましい光量は０．１Ｗ／ｍｍ^２〜１００Ｗ／ｍｍ^２である。より好ましくは０．５Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２であり、最も好ましくは１Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２である。
【０４４９】
本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー（Ａｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄ）、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。好ましく用いられるレーザーは、熱現像感光材料の分光増感色素などの光吸収ピーク波長に対応して決まるが、赤〜赤外発光のＨｅ−Ｎｅレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のＡｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄレーザー、青色半導体レーザーである。近年、特に、ＳＨＧ（Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。レーザー光のピーク波長は、青色の３００ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは４００ｎｍ〜５００ｎｍ、赤〜近赤外の６００ｎｍ〜９００ｎｍ、好ましくは６２０ｎｍ〜８５０ｎｍである。
【０４５０】
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
【０４５１】
２）熱現像
本発明の熱現像感光材料は、いかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１００〜１４０℃である。
現像時間としては１〜６０秒が好ましく、５〜３０秒がさらに好ましく、５〜２０秒が特に好ましい。
【０４５２】
熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平１１−１３３５７２号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを２〜６段に分けて先端部については１〜１０℃程度温度を下げることが好ましい。
【０４５３】
このような方法は特開昭５４−３００３２号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。
【０４５４】
３）システム
露光部及び熱現像部を備えた医療用レーザーイメージャーとして富士メディカルドライイメージャー−ＦＭ−ＤＰＬ及びＤＲＹＰＩＸ７０００を挙げることができる。該システムは、Ｆｕｊｉ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｎｏ．８，ｐａｇｅ３９〜５５に記載されており、それらの技術を利用することができる。また、ＤＩＣＯＭ規格に適合したネットワークシステムとして富士メディカル（株）が提案した「ＡＤ ｎｅｔｗｏｒｋ」の中のレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
【０４５５】
４．本発明の用途
本発明の高ヨウ化銀写真乳剤を用いた熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、ＣＯＭ用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
【０４５６】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４５７】
実施例１
１．ＰＥＴ支持体の作製
１−１．製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロルエタン＝６／４（重量比）中２５℃で測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後１３０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が１７５μｍになるような厚みの未延伸フィルムを作製した。
【０４５８】
これを、周速の異なるロ−ルを用い３．３倍に縦延伸、ついでテンタ−で４．５倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であった。この後、２４０℃で２０秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に４％緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、４ｋｇ／ｃｍ^２で巻き取り、厚み１７５μｍのロ−ルを得た。
【０４５９】
（表面コロナ放電処理）
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機６ＫＶＡモデルを用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ^２の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。
【０４６０】
（下塗り支持体の作製）
（１）下塗層塗布液の作製

【０４６１】

【０４６２】

【０４６３】
上記厚さ１７５μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面（画像形成層面）に上記下塗り塗布液処方▲１▼をワイヤーバーでウエット塗布量が６．６ｍｌ／ｍ^２（片面当たり）になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、ついでこの裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲２▼をワイヤーバーでウエット塗布量が５．７ｍｌ／ｍ^２になるように塗布して１８０℃で５分間乾燥し、更に裏面（バック面）に上記下塗り塗布液処方▲３▼をワイヤーバーでウエット塗布量が７．７ｍｌ／ｍ^２になるように塗布して１８０℃で６分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
【０４６４】
２．バック層
１）バック層塗布液の調製
（塩基プレカーサーの固体微粒子分散液（ａ）の調製）
塩基プレカーサー化合物−１を６４ｇ、デモールＮ（商品名、花王（株））１０ｇ、ジフェニルスルホン２８ｇ、及び蒸留水２２０ｍｌを加えて混合し、混合液を１／４Ｇサンドグラインダーミル（アイメックス（株）製）にてビーズ分散し、平均粒子径０．２μｍの塩基プレカーサー化合物の固体微粒子分散物（ａ）を得た。
【０４６５】
（染料固体微粒子分散液（ａ）の調製）
シアニン染料化合物−１を９．６ｇ、ｐ−ドデシルスルホン酸ナトリウム５．８ｇ、及び蒸留水３０５ｍｌを混合して、混合液を１／４Ｇサンドグラインダーミル（アイメックス（株）製）にてビーズ分散し、平均粒子径０．２μｍの染料微粒子分散物（ａ）を得た。
【０４６６】
（ハレーション防止層塗布液の調製）
ゼラチン１７ｇ、ポリアクリルアミド９．６ｇ、上記の塩基プレカーサーの固体微粒子分散液（ａ）７０ｇ、上記の染料固体微粒子分散液（ａ）を５６ｇ、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒子サイズ８μｍ、粒径標準偏差０．４）１．５ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．０３ｇ、ポリエチレンスルホン酸ナトリウム２．２ｇ、青色染料化合物−１を０．２ｇ、紫外光吸収剤−１を４．２ｇ、及び水８４４ｍｌを混合して、ハレーション防止層塗布液を調製した。
【０４６７】
（バック面保護層塗布液の調製）
容器を４０℃に保温し、ゼラチン５０ｇ、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．２ｇ、Ｎ、Ｎ−エチレンビス（ビニルスルホンアセトアミド）２．４ｇ、ｔ−オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム１ｇ、ベンゾイソチアゾリノン３０ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）３７ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）０．１５ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−３）６４ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−４）３２ｍｇ、アクリル酸／エチルアクリレート共重合体（共重合重量比５／９５）８．８ｇ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）０．６ｇ、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして１．８ｇ、水を９５０ｍｌ混合してバック面保護層塗布液とした。
２）バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液を固体微粒子染料の塗布量が０．０４ｇ／ｍ^２となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が１．７ｇ／ｍ^２となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作製した。
【０４６８】
【０４６９】
３．画像形成層、中間層、表面保護層
３−１．塗布用材料の準備
１）ハロゲン化銀乳剤の調製
（ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）
蒸留水１４２１ｍｌに１０質量％ヨウ化カリウム溶液２．３ｍｌを加え、さらに０．５モル／Ｌ硫酸を３．５ｍｌ、フタル化ゼラチン３６．５ｇ、２，２’−（エチレンジチオ）ジエタノールの５質量％メタノ−ル溶液１６０ｍｌを添加した溶液を、ステンレス製反応壷中で撹拌しながら７８℃に液温を保ち、硝酸銀２２．２２ｇに蒸留水を加え２１８ｍｌに希釈した溶液Ａとヨウ化カリウム３６．６ｇを蒸留水にて３６６ｍｌに希釈した溶液Ｂを、溶液Ａは一定流量で３８分かけて全量添加し、溶液ＢはｐＡｇを１０．２に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。その後、３．５質量％の過酸化水素水溶液を１０ｍｌ添加し、さらにベンゾイミダゾールの１０質量％水溶液を１０．８ｍｌ添加した。さらに、硝酸銀５１．８６ｇに蒸留水を加えて５０８．２ｍｌに希釈した溶液Ｃとヨウ化カリウム６３．９ｇを蒸留水にて６３９ｍｌに希釈した溶液Ｄを、溶液Ｃは一定流量で６０分かけて全量添加し、溶液ＤはｐＡｇを１０．２に維持しながらコントロールダブルジェット法で添加した。銀１モル当たり１×１０^−４モルになるよう六塩化イリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム塩を溶液Ｃ及び溶液Ｄを添加しはじめてから１０分後に全量添加した。また、溶液Ｃの添加終了の４０秒後に六シアン化鉄（ＩＩ）カリウム水溶液を銀１モル当たり３×１０^−４モル全量添加した。０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調整し、攪拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ９．０のハロゲン化銀分散物を作製した。
【０４７０】
このハロゲン化銀乳剤は、純ヨウ化銀乳剤であり、平均投影面積直径１．３５μｍ、平均投影面積直径の変動係数１８．５％、平均厚み０．１１０μｍ、平均アスペクト比１２．２の平板状粒子が全投影面積の７６％以上を占めていた。球相当直径は０．６９μｍであった。Ｘ線粉末回折分析による解析の結果、ヨウ化銀の９０％以上がγ相で存在していた。
【０４７１】
銀１モル相当の上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４０分後に４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀１モルに対して７．６×１０^−５モル加え、さらに５分後にテルル増感剤Ｃをメタノール溶液で銀１モル当たり６．４×１０^−５モル加えて６０分間熟成した。その後、分光増感色素Ａと増感色素Ｂのモル比で３：１のメタノール溶液を銀１モル当たり増感色素ＡとＢの合計として１．２×１０^−３モル加え、１分後にＮ，Ｎ’−ジヒドロキシ− Ｎ’’、Ｎ’’−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀１モル当たり４．８×１０^−３モル、１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１，３，４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^−３モル及び１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀１モルに対して８．５×１０^−３モル添加して、ハロゲン化銀乳剤Ａを作製した。
【０４７２】
（ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製）
ハロゲン化銀乳剤Ａで調製したと同様の平板状粒子ＡｇＩ乳剤１モルを反応容器に入れた。次いで、ダブルジェット添加により、０．５モル／Ｌの臭化カリウム溶液及び０．５モル／ＬのＡｇＮＯ_３溶液を１０ｍｌ／分で１０分間にわたって添加し、実質的に５モル％臭化銀をＡｇＩホスト乳剤上に沈殿させた。操作中、銀電位を＋１００ｍＶに維持した。さらに、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調製し、撹拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ９．０のハロゲン化銀分散物を作製した。
【０４７３】
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４０分後に４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀１モルに対して７．６×１０^−５モル加え、さらに５分後にテルル増感剤Ｃをメタノール溶液で銀１モル当たり６．４×１０^−５モル加えて６０分間熟成した。その後、分光増感色素Ａと増感色素Ｂのモル比で３：１のメタノール溶液を銀１モル当たり増感色素ＡとＢの合計として１．２×１０^−３モル加え、１分後にＮ，Ｎ’−ジヒドロキシ− Ｎ’、Ｎ’’−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀１モル当たり４．８×１０^−３モル、１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１，３，４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^−３モル及び１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀１モルに対して８．５×１０^−３モル添加して、ハロゲン化銀乳剤Ｂを作製した。
【０４７４】
（ハロゲン化銀乳剤Ｃの調製）
ハロゲン化銀乳剤Ａで調製したと同様の平板状粒子ＡｇＩ乳剤１モルを反応容器に入れた。次いで、ダブルジェット添加により、０．５モル／リットルのチオシアン酸カリウム溶液及び０．５モル／リットルのＡｇＮＯ_３溶液を１０ｍｌ／分で１０分間にわたって添加し、実質的に５モル％チオシアン酸銀をＡｇＩホスト乳剤上に沈殿させた。操作中、ｐＡｇは１０．２に維持した。
さらに、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調製し、撹拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ９．０のハロゲン化銀分散物を作製した。
【０４７５】
上記ハロゲン化銀分散物を乳剤Ｂと同様に、色素やテルル増感剤などを順次添加し熟成してハロゲン化銀乳剤Ｃを作製した。
【０４７６】
（ハロゲン化銀乳剤Ｄの調製）
ハロゲン化銀乳剤Ａで調製したと同様の平板状粒子ＡｇＩ乳剤１モルを反応容器に入れた。ｐＡｇは３８℃で測定して１０．２であった。次いで、ダブルジェット添加により、０．２５モル／リットルのＫＢｒ溶液と０．２５モル／リットルのチオシアン酸カリウム水溶液及び０．５モル／リットルのＡｇＮＯ_３溶液を１０ｍｌ／分で１０分間にわたって添加し、実質的に５モル％チオシアン銀と臭化銀の混合物をＡｇＩホスト乳剤上に沈殿させた。操作中、銀電位は＋１００ｍＶに維持した。
次いで、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調製し、撹拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ９．０のハロゲン化銀分散物を作製した。
【０４７７】
上記ハロゲン化銀分散物を乳剤Ｂと同様に、色素やテルル増感剤などを順次添加し熟成してハロゲン化銀乳剤Ｄを作製した。
【０４７８】
（塗布液調製用ハロゲン化銀乳剤の調製）
前記ハロゲン化銀乳剤のいずれかを４０℃にて溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを１質量％水溶液にて銀１モル当たり７×１０^−３モル添加した。
さらに塗布液用混合乳剤１ｋｇあたりハロゲン化銀の含有量が銀として３８．２ｇとなるように加水し、塗布液用混合乳剤１ｋｇあたり０．３４ｇとなるように１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを添加した。さらに、吸着基と還元基を有する化合物として、化合物（１９）をハロゲン化銀１モルあたり２×１０^−３モルになる量を添加した。
【０４７９】
２）脂肪酸銀分散物Ａの調製
＜再結晶ベヘン酸の調製＞
ヘンケル社製ベヘン酸（製品名Ｅｄｅｎｏｒ Ｃ２２−８５Ｒ）１００ｋｇを、１２００ｋｇのイソプロピルアルコールにまぜ、５０℃で溶解し、１０μｍのフィルターで濾過した後、３０℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、３℃／時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、１００ｋｇのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してＧＣ−ＦＩＤ測定をしたところ、ベヘン酸含有率は９６％、それ以外にリグノセリン酸が２％、アラキジン酸が２％、エルカ酸０．００１％含まれていた。
【０４８０】
＜脂肪酸銀分散物の調製＞
再結晶ベヘン酸８８ｋｇ、蒸留水４２２Ｌ、５ｍｏｌ／Ｌ濃度のＮａＯＨ水溶液４９．２Ｌ、ｔ−ブチルアルコール１２０Ｌを混合し、７５℃にて１時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Ｂを得た。別に、硝酸銀４０．４ｋｇの水溶液２０６．２Ｌ（ｐＨ４．０）を用意し、１０℃にて保温した。６３５Ｌの蒸留水と３０Ｌのｔ−ブチルアルコールを入れた反応容器を３０℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ９３分１５秒と９０分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後１１分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後１４分１５秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は３０℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、２重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が７５℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
【０４８１】
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で２０分間撹拌放置し、３０分かけて３５℃に昇温し、その後２１０分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
【０４８２】
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でａ＝０．２１μｍ、ｂ＝０．４μｍ、ｃ＝０．４μｍ、平均アスペクト比２．１、球相当径の変動係数１１％の結晶であった（ａ、ｂ、ｃは本文の規定）。
【０４８３】
乾燥固形分２６０ｋｇ相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２１７）１９．３ｋｇおよび水を添加し、全体量を１０００ｋｇとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー（みづほ工業製：ＰＭ−１０型）で予備分散した。
【０４８４】
次に予備分散済みの原液を分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−６１０、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Ｚ型インタラクションチャンバー使用）の圧力を１１５０ｋｇ／ｃｍ^２に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで１８℃の分散温度に設定した。
【０４８５】
３）還元剤分散物の調製
＜還元剤−１分散物の調製＞
還元剤―１（２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール））１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ−２０３）の１０質量％水溶液１６ｋｇに、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を６０℃で５時間加熱処理し、還元剤―１分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．４０μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
＜還元剤−２分散物の調製＞
還元剤―２（６，６’−ジ−ｔ−ブチル−４，４’−ジメチル−２，２’−ブチリデンジフェノール）１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ−２０３）の１０質量％水溶液１６ｋｇに、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加熱処理し、還元剤―２分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．５０μｍ、最大粒子径１．６μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４８６】
４）水素結合性化合物分散物の調製
＜水素結合性化合物−１分散物の調製＞
水素結合性化合物−１（トリ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィンオキシド）１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバール＜Ｐ−２０３）の１０質量％水溶液１６ｋｇに、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて４時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて水素結合性化合物の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加温し、水素結合性化合物―１分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径０．４５μｍ、最大粒子径１．３μｍ以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４８７】
５）現像促進剤分散物、色調調整剤分散物の調製
＜現像促進剤−１分散物の調製＞
現像促進剤−１を１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ−２０３）の１０質量％水溶液２０ｋｇに、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて現像促進剤の濃度が２０質量％になるように調製し、現像促進剤−１分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径０．４８μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４８８】
現像促進剤−２および色調調整剤−１の固体分散物についても現像促進剤−１と同様の方法により分散し、それぞれ２０質量％、１５質量％の分散液を得た。
【０４８９】
６）ポリハロゲン化合物分散物の調製
＜有機ポリハロゲン化合物−１分散物の調製＞
有機ポリハロゲン化合物―１（トリブロモメタンスルホニルベンゼン）１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ−２０３）の２０質量％水溶液１０ｋｇと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液０．４ｋｇと、水１４ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて５時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が３０質量％になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物―１分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径０．４１μｍ、最大粒子径２．０μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径１０．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４９０】
＜有機ポリハロゲン化合物−２分散物の調製＞
有機ポリハロゲン化合物―２（Ｎ−ブチル−３−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド）１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液２０ｋｇと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液０．４ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて５時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が３０質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で５時間加温し、有機ポリハロゲン化合物―２分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径０．４０μｍ、最大粒子径１．３μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４９１】
７）ヨウ化銀錯形成剤の調製
（化合物Ｎｏ．Ｆ−４４０）
８ｋｇの変性ポリビニルアルコールＭＰ２０３を水１７４．５７ｋｇに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液３．１５ｋｇと化合物Ｎｏ．Ｆ−４４０の７０質量％水溶液１４．２８ｋｇを添加し、化合物Ｎｏ．Ｆ−４４０の５質量％溶液を調製した。
銀モルあたり８モル％の沃化銀錯形成剤を塗布試料に添加した。
【０４９２】
８）メルカプト化合物の調製
＜メルカプト化合物−１水溶液の調製＞
メルカプト化合物―１（１−（３−スルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム塩）７ｇを水９９３ｇに溶解し、０．７質量％の水溶液とした。
【０４９３】
＜メルカプト化合物−２水溶液の調製＞
メルカプト化合物―２（１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール）２０ｇを水９８０ｇに溶解し、２．０質量％の水溶液とした。
【０４９４】
９）顔料−１分散物の調製
ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ６０を６４ｇと花王（株）製デモールＮを６．４ｇに水２５０ｇを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ８００ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて２５時間分散し、水を加えて顔料の濃度が５質量％になるように調製して顔料−１分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径０．２１μｍであった。
【０４９５】
１０）ＳＢＲラテックス液の調製
ＳＢＲラテックスは以下により調整した。
Ｔｇ＝２３℃のＳＢＲラテックスは以下により調製した。
重合開始剤として過硫酸アンモニウム、乳化剤としてアニオン界面活性剤を使用し、スチレン７０．５質量部、ブタジエン２６．５質量部及びアクリル酸３質量部を乳化重合させた後、８０℃で８時間エージングを行った。その後４０℃まで冷却し、アンモニア水によりｐＨ７．０とし、さらに三洋化成（株）製サンデットＢＬを０．２２質量％になるように添加した。次に５質量％水酸化ナトリウム水溶液を添加しｐＨ８．３とし、さらにアンモニア水によりｐＨ８．４になるように調整した。このとき使用したＮａ^＋イオンとＮＨ_４ ^＋イオンのモル比は１：２．３であった。さらに、この液１ｋｇ対してベンゾイソチアゾリンノンナトリウム塩７質量％水溶液を０．１５ｍｌ添加しＳＢＲラテックス液を調製した。
【０４９６】
（ＳＢＲラテックス：−Ｓｔ（７０．５）−Ｂｕ（２６．５）−ＡＡ（３）−のラテックス）
Ｔｇ＝２３℃平均粒径０．１μｍ、濃度４３質量％、２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率０．６質量％、イオン伝導度４．２ｍＳ／ｃｍ（イオン伝導度の測定は東亜電波工業（株）製伝導度計ＣＭ−３０Ｓ使用し、ラテックス原液（４３質量％）を２５℃にて測定）、ｐＨ８．４。
【０４９７】
３−２．塗布液の調製
１）画像形成層塗布液
上記で得た脂肪酸銀分散物Ａ１０００ｇ、水１０４ｍｌに顔料−１分散物３５ｇ、有機ポリハロゲン化合物−１分散物６．３ｇ、有機ポリハロゲン化合物−２分散物２０．７ｇ、ＳＢＲラテックス（Ｔｇ：２３℃）液１０６０ｇ、還元剤−１分散物７５ｇ、還元剤−２分散物７５ｇ、水素結合性化合物−１分散物１０６ｇ、現像促進剤−１分散物４．８ｇ、現像促進剤−２分散物３．０ｇ、色調調整剤−１分散物２．０ｇ、メルカプト化合物−１水溶液９ｍｌ、メルカプト化合物−２水溶液２７ｍｌ、を順次添加し、ヨウ化銀錯体形成剤Ｆ−４４０を銀１モル当たり８モル％を添加した後、塗布直前に塗布液調製用ハロゲン化銀乳剤（表１に表示）を銀量で脂肪酸銀１モル当り０．２５モルになる量を添加し、よく混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液した。塗布銀量は、脂肪酸銀とハロゲン化銀の合計で１．６５ｇ／ｍ^２となるようにした。
【０４９８】
２）中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールＰＶＡ−２０５（クラレ（株）製）１０００ｇ、顔料−１分散物２７２ｇ、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９質量％液４２００ｍｌにエアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を２７ｍｌ、フタル酸二アンモニウム塩の２０質量％水溶液を１３５ｍｌ、総量１００００ｇになるように水を加え、ｐＨが７．５になるようにＮａＯＨで調整して中間層塗布液とし、９．１ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で５８［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４９９】
３）表面保護層第１層塗布液の調製
イナートゼラチン６４ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９．０質量％液１１２ｇ、フタル酸の１５質量％メタノール溶液を３０ｍｌ、４−メチルフタル酸の１０質量％水溶液２３ｍｌ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を２８ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を５ｍｌ、フェノキシエタノール０．５ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．１ｇを加え、総量７５０ｇになるように水を加えて塗布液とし、４質量％のクロムみょうばん２６ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを１８．６ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で２０［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０５００】
４）表面保護層第２層塗布液の調製
イナートゼラチン８０ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス２７．５質量％液１０２ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）の２質量％溶液を５．４ｍｌ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）の２質量％水溶液を５．４ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％溶液を２３ｍｌ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径０．７μｍ、体積加重平均の分布３０％）４ｇ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径３．６μｍ、体積加重平均の分布６０％）２１ｇ、４−メチルフタル酸１．６ｇ、フタル酸４．８ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸４４ｍｌ、ベンゾイソチアゾリノン１０ｍｇに総量６５０ｇとなるよう水を添加して、４質量％のクロムみょうばんと０．６７質量％のフタル酸を含有する水溶液４４５ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを表面保護層塗布液とし、８．３ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター， ６０ｒｐｍ）で１９［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０５０１】
３−３．熱現像感光材料の作製
バック面と反対の面に、下塗り面から画像形成層塗布液、中間層塗布液、表面保護層第１層塗布液、表面保護層第２層塗布液の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。このとき、画像形成層と中間層は３５℃に、表面保護層第１層は３６℃に、表面保護層第２層は３７℃に温度調整した。
【０５０２】
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
支持体は塗布前にイオン風にて除電し、塗布はスピード１６０ｍ／ｍｉｎで行った。塗布乾燥条件は各試料に対して以下の範囲で調整し、もっとも安定した面状が得られる条件に設定した。
コーティングダイ先端と支持体との間隙を０．１０〜０．３０ｍｍ。
減圧室の圧力を大気圧に対して１９６〜８８２Ｐａ低く設定。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度１０〜２０℃の風にて塗布液を冷却。
無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度２３〜４５℃、湿球温度１５〜２１℃の乾燥風で乾燥。
乾燥後、２５℃で湿度４０〜６０％ＲＨで調湿。
引き続き、膜面を７０〜９０℃になるように加熱し、加熱後、膜面を２５℃まで冷却した。
【０５０３】
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で感光性層面側が５５０秒、バック面が１３０秒であった。また、感光層面側の膜面のｐＨを測定したところ６．０であった。
【０５０４】
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が５５０秒、バック面が１３０秒であった。また、画像形成層面側の膜面のｐＨを測定したところ６．０であった。
【０５０５】
以下に本発明における実施例で用いた化合物の化学構造を示す。
【０５０６】
【化５２】

【０５０７】
【化５３】

【０５０８】
【化５４】

【０５０９】
【化５５】

【０５１０】
【化５６】

【０５１１】
【化５７】

【０５１２】
４．写真性能の評価
１）準備
得られた試料は半切サイズに切断し、２５℃５０％ＲＨの環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
（包装材料）
ＰＥＴ１０μｍ／ＰＥ１２μｍ／アルミ箔９μｍ／Ｎｙ１５μｍ／カーボン３質量％を含むポリエチレン５０μｍ；
酸素透過率：０．０２ｍｌ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ、
水分透過率：０．１０ｇ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ。
【０５１３】
試料は富士フイルムメディカル（株）ドライレーザーイメージャーＤＲＹＰＩＸ７０００の露光部に半導体レーザー光源として日亜化学工業のＮＬＨＶ３０００Ｅ半導体レーザーを実装し、ビーム径を１００μｍに絞った。レーザー光の感光材料面での照度を０および１ｍＷ／ｍｍ^２〜１０００ｍＷ／ｍｍ^２の間で変化させて１０^−５秒で露光を行った。レーザー光の発振波長は４０５ｎｍであった。熱現像は３枚のパネルヒーターを１０７℃−１２１℃−１２１℃に設定し、合計１４秒になるように現像した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
【０５１４】
２）評価項目
得られた画像をＭａｃｂｅｔｈ濃度計で濃度測定し露光量の対数に対する濃度の特性曲線を作製した。
（感度）
Ｄｍｉｎの濃度＋１．０の黒化濃度を与える露光量の逆数で感度を表し、試料Ｎｏ．２の感度を１００としてそれに対する相対値で示した。値が大きいほど感度が高いことを示す。
（カブリ（Ｄｍｉｎ））
非画像部の濃度をマクベス濃度計により測定した。
（画像保存性（プリントアウト））
熱現像した試料を、４０℃、相対湿度５０％の環境下で、照度８５０Ｌｕｘの蛍光灯下で３日間暴光した後、Ｄｍｉｎ部のかぶり濃度の増加を評価した。このときの光学濃度をＤｍｉｎ_２とし、蛍光灯下に曝す前のＤｍｉｎ_１との差（ΔＤｍｉｎ）を算出した。
ΔＤｍｉｎ＝Ｄｍｉｎ_２−Ｄｍｉｎ_１
【０５１５】
【表１】

【０５１６】
表１から明らかなように、本発明のチオシアン酸銀を付加した高沃化銀粒子を用いた熱現像感光材料において、単に臭化銀を付加した場合に比べて高い感度と低いカブリで、しかも良好な画像保存性が得られた。これは予想外の好ましい結果であった。
【０５１７】
実施例２
実施例１のハロゲン化銀乳剤ＢとＣと同様に、但しテルル増感剤の代わりに銀１モル当たり、チオ硫酸ナトリウム３２マイクロモルと塩化金酸１６マイクロモルを用いて化学増感を施したハロゲン化銀乳剤Ｂ−２とＣ−２を作製し、実施例１と同様に塗布試料１０、１１を調製して表２の結果を得た。
試料１０の感度を１００とした。
表２から明らかなように、本発明のハロゲン化銀乳剤は金硫黄増感した際のかぶりが低くかつ高感度が得られた。
【０５１８】
【表２】

【０５１９】
実施例３
１）支持体
厚み１７５μｍ、青色染料（１，４−ビス（２，６−ジエチルアニリノアントラキンノン）で青色着色したＰＥＴ支持体の両面に実施例１の処方▲１▼の下塗りを施した。
【０５２０】
２）塗布試料の作製
この支持体の両面に、実施例１の試料３と同じ組成の画像形成層（但し、ハロゲン化銀乳剤Ｃの分光増感色素Ａ，Ｂの代わりに、増感色素−１，２及び３を用いた）、中間層、表面保護層第１層、表面保護層第２層を同時塗布し、乾燥した。すなわち、塗布銀量が脂肪酸銀とハロゲン化銀の合計で１．６５ｇ／ｍ^２の画像形成層を支持体の両面に有する塗布銀量が合計で３．３ｇ／ｍ^２の熱現像感光材料を作製した。
【０５２１】
【化５８】

【０５２２】
３）性能評価
このように準備した両面塗布感光材料を、以下の様に評価した。
富士フイルム（株）社製のＸレイレギュラースクリーンＨＩ−ＳＣＲＥＥＮ Ｂ３（蛍光体としてＣａＷＯ_４を使用。発光ピーク波長４２５ｍ）を２枚使用して、その間に試料を挟み、像形成用組立体を作製した。この組立体に、０．０５秒のＸ線露光を与え、Ｘ線センシトメトリーを行った。使用したＸ線装置は、東芝（株）製の商品名ＤＲＸ−３７２４ＨＤであり、タングステンターゲットを用いた。三相にパルス発生器で８０ｋＶｐの電圧をかけ、人体とほぼ等価な吸収を持つ水７ｃｍのフィルタを通したＸ線を光源とした。距離法にてＸ線露光量を変化させ、ｌｏｇＥ＝０．１５の幅でステップ露光を行なった。露光後に、下記の熱現像処理条件で熱現像処理した。得られた画像の評価を濃度計により行った。
【０５２３】
富士メディカルドライレーザーイメージャーＦＭ−ＤＰ Ｌの熱現像部を改造し、両面から加熱できるようにした熱現像機を製作した。また、熱現像部の搬送ローラーをヒートドラムに変更することによりフィルムシートの搬送が可能になるように改造した。４枚のパネルヒーターを１１２℃−１１８℃−１２０℃−１２０℃に設定し、ヒートドラムの温度は１２０℃に設定した。さらに、搬送速度を速めて合計１４秒になるように設定した。
【０５２４】
一方、富士写真フイルム（株）社製の湿式現像方式のレギュラー感材ＲＸ−Ｕを同じ条件で露光し、富士写真フイルム（株）社製の自動現像処理機ＣＥＰＲＯＳ−Ｍ２、処理液ＣＥ−ＤＦ１で４５秒処理した。
これらの本発明の熱現像感光材料で得られた画像と湿式現像方式で得られた画像の写真性を比較した結果、同等の良好な性能であった。
【０５２５】
実施例４．
（ハロゲン化銀微粒子Ｅの調製）
これは比較乳剤である。
蒸留水１４２０ｍｌにフタル化ゼラチン３６．７ｇを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、４０℃に液温を保ち、硝酸銀２２．２２ｇに蒸留水を加え１９５．６ｍｌに希釈した溶液Ａとヨウ化カリウム２１．８ｇを蒸留水にて容量２１８ｍｌに希釈した溶液Ｂを一定流量で１０分間かけて全量添加した。
【０５２６】
さらに、５分後に硝酸銀５１．８６ｇに蒸留水を加えて３１７．５ｍｌに希釈した溶液Ｃとヨウ化カリウム６０ｇを蒸留水にて容量６００ｍｌに希釈した溶液Ｄを、溶液Ｃは一定流量で１２０分間かけて全量添加し、溶液Ｄは銀電位を＋２２０ｍＶに維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀１モル当たり１×１０^−４モルになるよう六塩化イリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム塩を溶液Ｃおよび溶液Ｄを添加しはじめてから１０分後に全量添加した。また、溶液Ｃの添加終了の５秒後に六シアン化鉄（ＩＩ）カリウム水溶液を銀１モル当たり３×１０^−４モル全量添加した。０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調整し、攪拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、硝酸銀水溶液を添加してｐＡｇ５のハロゲン化銀分散物を作成した。調製できたハロゲン化銀粒子は平均球相当径が０．０３１μｍで球相当径の変動係数が２４％の沃化銀粒子であった。
この乳剤にテルル増感剤（Ｎ−フェニルーＮ−メチルカルバモイルテルリド）を銀１モル当たり０．３ミリモル添加し４５℃で４０分間熟成しハロゲン化銀乳剤Ｅを得た。
【０５２７】
（ハロゲン化銀微粒子Ｆの調製）
これは本発明の乳剤である。
ハロゲン化銀微粒子Ｅと同様に０．０３１μｍの沃化銀粒子を調製したあと、０．２Ｎチオシアン酸カリウム水溶液と０．２Ｎ硝酸銀水溶液とを銀電位を＋１００ｍＶに維持しながら同時に添加し、７モル％のチオシアン酸銀を粒子表面に沈積させた。その後ハロゲン化銀微粒子Ｅと同様にテルル増感を施しハロゲン化銀乳剤Ｆを得た。
【０５２８】
（ハロゲン化銀微粒子Ｇの調製）
これは比較乳剤である。
ハロゲン化銀微粒子Ｅと同様に０．０３１μｍの沃化銀粒子を調製したあと、０．２Ｎヨウ化カリウム水溶液と０．２Ｎ硝酸銀水溶液とを銀電位を＋１００ｍＶに維持しながら同時に添加し、７モル％のヨウ化銀を粒子表面にさらに沈積させた。その後ハロゲン化銀微粒子Ｅと同様にテルル増感を施しハロゲン化銀乳剤Ｇを得た
【０５２９】
（塗布液用ハロゲン化銀乳剤の調製）
上記ハロゲン化銀乳剤を各々溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを１質量％水溶液にて銀１モル当たり７×１０^−３モル、さらに乳剤１ｋｇあたり０．３４ｇとなるように１−（３−メチルウレイド）−５−メルカプトテトラゾールを添加した。
【０５３０】
ついで吸着基と還元基を有する化合物（１９）をそれぞれハロゲン化銀１モルあたり１．５×１０^−３モルになる量を添加した。
【０５３１】
（ＳＢＲラテックスの調製）
実施例１のＳＢＲラテックスの調製と同様にして、モノマーの比率を変更してＴｇ＝１７℃のラテックスを合成した。
【０５３２】
（画像形成層塗布液の調製）
脂肪酸銀分散物１０００ｇ、水２７６ｍｌに顔料−１分散物、有機ポリハロゲン化合物−１分散物、有機ポリハロゲン化合物−２分散物、フタラジン化合物―１溶液、ＳＢＲラテックス（Ｔｇ：１７℃）液、還元剤−１分散物、還元剤−２分散物、水素結合性化合物−１分散物、現像促進剤−１分散物、現像促進剤−２分散物、色調調整剤−１分散物、メルカプト化合物−１水溶液を順次添加し、塗布直前に上記の塗布液用ハロゲン化銀乳剤を添加して良く混合した乳剤層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
これらの混合比率は、下記の各素材の塗布量になるように調整した。
【０５３３】
（塗布試料の作成）
実施例１と同様にして、画像形成層塗布液を上記の塗布液に変更して、試料塗布２０〜２２を作成した。
【０５３４】
画像形成層の各化合物の塗布量（ｇ／ｍ^２）は以下の通りである。
【０５３５】
ベヘン酸銀 ５．２７
顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０） ０．０３６
ポリハロゲン化合物−１ ０．０９
ポリハロゲン化合物−２ ０．１４
フタラジン化合物−１ ０．１８
ＳＢＲラテックス ９．４３
還元剤−１ ０．５５
還元剤−２ ０．２２
水素結合性化合物−１ ０．２８
現像促進剤−１ ０．０２５
現像促進剤−２ ０．０２０
色調調整剤−１ ０．００８
メルカプト化合物−１ ０．００６
ハロゲン化銀（Ａｇとして） ０．０４６
【０５３６】
（正常の評価）
の実施例１と同様に露光現像処理を行い、表３の結果を得た。
感度は試料２０の感度を１００として相対値で表した。
【０５３７】
【表３】

【０５３８】
表３より、微粒子の高沃化銀を用いた熱現像感光材料においても本発明のチオシアン酸銀を付加したハロゲン化銀を用いると低かぶりで高感度が得られることが分かった。これは単に同じ量の沃化銀を付加してサイズを上げた乳剤Ｇではとても得られない感度であった。
【０５３９】
【発明の効果】
本発明により、高ヨウ化銀を用いた熱現像感光材料および画像形成方法であって、高感度で低かぶりの画像保存性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method, and more particularly to a photothermographic material and an image forming method using a silver halide emulsion having a high silver iodide content.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in the medical field and the printing plate making field, dry development of photographic development processing is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. In these fields, digitalization has progressed, and image information is captured in a computer, stored, processed if necessary, and output to a photosensitive material by a laser image setter or laser imager at the required location by communication. However, systems that develop and produce images on the spot are rapidly spreading. As a photosensitive material, it is necessary to form a clear black image that can be recorded by laser exposure with high illuminance and has high resolution and sharpness. As such digital imaging recording materials, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems, but the diagnostic ability is determined like medical images. It is unsatisfactory in terms of image quality (sharpness, graininess, gradation, color tone) and recording speed (sensitivity), and has not yet reached a level that can replace the conventional silver salt film for wet development.
[0003]
On the other hand, a thermal image forming system using an organic silver salt is already known. A photothermographic material is generally an image in which a photosensitive silver halide, a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt) and, if necessary, a toning agent for controlling the color tone of silver are dispersed in a binder matrix. It has a formation layer.
[0004]
The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. As a result, a black silver image is formed in the exposed area. The photothermographic material is disclosed in many documents, and Fuji Medical Dry Imager FM-DPL has been put on the market as a medical image forming system.
[0005]
Such an image forming system using an organic silver salt has no fixing process, and silver halide remains in the film even after heat development.
[0006]
One of them was deterioration in image storage stability after development processing, particularly printout when exposed to light. As a means for improving this printout, a method using silver iodide is known. Compared to silver bromide or silver iodobromide having an iodine content of 5 mol% or less, it has the characteristic of being extremely difficult to print out, and has the possibility of drastically solving this problem. However, the silver iodide grains known so far are extremely insensitive and far below the sensitivity that can be used in real systems. In addition, if a means for preventing recombination of photoelectrons and holes is applied in order to improve the sensitivity, there is a problem that characteristics excellent in printout are lost.
[0007]
As means for increasing the sensitivity of the silver iodide photographic emulsion, in the academic literature, by immersion in a halogen acceptor such as sodium nitrite, pyrogallol, hydroquinone or an aqueous silver nitrate solution, or by sulfur sensitization with pAg7.5, It was known to sensitize. However, the sensitizing effect of these halogen acceptors was very small and extremely insufficient in the photothermographic material targeted by the present invention.
[0008]
Furthermore, although it is a liquid development processing system, higher sensitivity can be obtained by attaching a silver salt by epitaxial growth on the silver halide grains of the host or by having dislocation lines in the silver halide. Are known. Further, it is known that silver chloride, silver bromide and silver thiocyanate are deposited on the tabular silver iodide grains of the host by epitaxial growth, and it is known that silver chloride is particularly preferable.
[0009]
However, the silver halide light-sensitive material currently processed in a liquid generally forms a silver image by reducing the silver halide with a developer (reducing agent) contained in the liquid processing solution, or is produced as a by-product. A color image is formed using an oxidized form of a developer, and the basic reaction is reduction of silver halide by the developer.
On the other hand, in the photothermographic material, the silver halide only forms a latent image by exposure, and the silver halide itself is not reduced by the reducing agent, but is reduced by the non-photosensitive organic silver. Silver ions supplied from salt. The reducing agent is also an ionic reducing agent such as hydroquinone or p-phenylenediamine in the case of liquid current processing, whereas in the case of a photothermographic material, a hindered material generally known as a radical reactant is used. It is a phenol derivative.
[0010]
Thus, the mechanism of the development reaction (reduction reaction) is completely different between the liquid development photosensitive material and the photothermographic material, and the compounds used are completely different. Therefore, it cannot be assumed that what was effective in the current liquid processing is effective for the photothermographic material as it is. Whether the same effect can be obtained or a completely different effect can be expected when applied to a photothermographic material. Furthermore, it was impossible to recall the photothermographic material using a high silver iodide emulsion, and the effect could not be estimated.
[0011]
On the other hand, attempts have been made to apply the photothermographic material to a photographic material. The photographic photosensitive material mentioned here is not for writing image information by scanning exposure with a laser beam or the like, but for recording an image by surface exposure. Conventionally, it is commonly used in the field of wet-developable photosensitive materials, and in medical applications, various plate-making films for printing, such as direct or indirect X-ray films and mammographic films, industrial recording films, and films for photographing with general cameras are known. Yes. For example, a photothermographic material for double-coated X-rays using a blue fluorescent intensifying screen (see, for example, Patent Document 1), a photothermographic material using silver iodobromide tabular grains (for example, Patent Document) 2), or a medical photosensitive material in which tabular grains having a high silver chloride content and having a (100) main plane are coated on both sides of the support are also disclosed in Patent Literature (for example, see Patent Literature 3). ). The double-side coated photothermographic material is also disclosed in other patent documents. Although it is disclosed in Patent Literature that silver chloride, silver bromide and silver thiocyanate are deposited on the tabular silver iodide grains of the host by epitaxial growth, silver chloride is particularly preferred (for example, Patent Literature 4). reference.). However, the specific effect of silver thiocyanate is not disclosed, and it is not disclosed at all that the adhesion of silver thiocyanate gives particularly favorable results in the heat development system as in the present invention.
In these known examples, when fine grain silver halide of 0.1 μm or less is used, haze is not deteriorated, but the sensitivity is low, and it is not practical for photography, while halogen of 0.5 μm or more is used. When silver halide grains were used, the haze deterioration due to the remaining silver halide and the image quality deterioration due to the deterioration of the printout were severe, and it was not practical.
[0012]
Photosensitive materials using tabular grains of silver iodide as silver halide grains are known in the field of wet development, but there are no examples of applications for photothermographic materials. The reason for this is that, as described above, the sensitivity is low, there is no effective sensitizing means, and the technical barrier is further increased in heat development.
[0013]
In order to use such a photosensitive material for photographing, higher sensitivity is required as a photothermographic material, and the image quality such as haze of an obtained image is further increased.
[0014]
[Patent Document 1]
Japanese Patent No. 3229344
[Patent Document 2]
JP 59-142539 A
[Patent Document 3]
JP-A-10-282606
[Patent Document 4]
JP 59-119344 A
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photothermographic material and an image forming method using high silver iodide, the photothermographic material and the image forming method having high sensitivity and low fog preservability. is there.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention has been achieved by the following means.
<1> A photothermographic material having an image forming layer containing a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide, a binder, and a reducing agent, wherein 40 mol% or more of the photosensitive silver halide is iodide. A photothermographic material, wherein the photothermographic material is silver and the photosensitive silver halide contains silver thiocyanate.
<2> The photothermographic material according to <1>, wherein the silver thiocyanate is attached to the surface of the silver iodide grains.
<3> The photothermographic material according to <1> or <2>, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.02 mol% to 50 mol% with respect to the photosensitive silver halide.
<4> The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.05 mol% to 40 mol% with respect to the photosensitive silver halide. material.
<5> The photothermographic material according to any one of <1> to <4>, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.2 mol% to 30 mol% with respect to the photosensitive silver halide. material.
<6> The photothermographic material according to any one of <1> to <5>, wherein 50% or more of the projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more .
<7> The photothermographic material according to <6>, wherein the tabular grains have an average equivalent sphere diameter of 0.3 μm or more and 5.0 μm or less.
<8> The photothermographic material according to <6>, wherein the tabular grains have an average equivalent sphere diameter of 0.5 μm to 3.0 μm.
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <5>, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is 70 nm or less and 5 nm or more.
<10> The photothermographic material according to any one of <1> to <9>, which contains a silver iodide complex forming agent.
<11> The photothermographic material according to any one of <1> to <10>, wherein the photosensitive silver halide contains one epitaxial silver salt containing at least silver chloride and silver bromide.
<12> The photothermographic material according to any one of <1> to <11>, wherein the photosensitive silver halide has a silver iodide content of 80 mol% or more.
<13> The photothermographic material according to any one of <1> to <12>, wherein the photosensitive silver halide has a silver iodide content of 90 mol% or more.
<13> The photosensitive silver halide is subjected to at least one of reduction sensitization, chalcogen sensitization, and gold chalcogen sensitization, according to any one of <1> to <12>, Photothermographic material.
<14> The photothermographic material according to any one of <1> to <13>, wherein the photosensitive silver halide has at least one dislocation line.
<15> The photothermographic material according to any one of <1> to <14>, comprising at least one of a compound having an adsorbing group and a reducing group for photosensitive silver halide and a precursor thereof. .
<16> The photothermographic material according to any one of <1> to <15>, wherein the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one or more electrons. .
<17> The photothermographic material according to any one of <1> to <16>, which contains a development accelerator.
<18> The photothermographic material according to any one of <1> to <17>, which contains at least one of phthalic acid and a phthalic acid derivative.
<19> The photothermographic material according to any one of <1> to <18>, wherein the image forming layer is provided on one side of a support.
<20> The photothermographic material according to any one of <1> to <18>, wherein the image forming layer is provided on both surfaces of a support.
<21> An image forming method comprising forming an image by scanning exposure with a laser beam using the photothermographic material according to any one of <1> to <19>.
<22> An image forming method, wherein the photothermographic material according to any one of <1> to <20> is used to form an image by exposing with an X-ray intensifying screen.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
1. Photothermographic material
The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support. Further, a surface protective layer may be provided on the image forming layer, and a back layer or a back surface protective layer may be provided on the opposite surface.
The configuration of each of these layers and the preferable configuration thereof will be described in detail.
[0018]
(Photosensitive silver halide)
1) Halogen composition
The photosensitive silver halide used in the present invention is a high silver iodide grain having a silver iodide content of 40 mol% or more. The rest of the silver halide composition is not particularly limited, and can be arbitrarily selected from organic silver salts such as silver chloride, silver bromide or silver phosphate.
The high silver iodide grains of the present invention are characterized by containing silver thiocyanate. The silver thiocyanate in the present invention can be present inside or on the surface of the silver halide grains, but is preferably attached to the surface.
In the present invention, by using such high silver iodide grains, a preferable photothermographic material can be designed in which image storage stability after development processing, in particular, an increase in fog due to light irradiation is remarkably small.
[0019]
Further, the photosensitive silver halide used in the present invention preferably has a silver iodide content of 80 mol% or more, and more preferably 90 mol% or more from the viewpoint of image storage stability against light irradiation after processing. .
[0020]
The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Moreover, as a structure in which silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used, those having a 2- to 5-fold structure are preferable, and core-shell grains having a 2- to 4-fold structure can be used more preferably. A core high silver iodide structure having a high silver iodide content in the core part or a shell high silver iodide structure having a high silver iodide content in the shell part can also be preferably used.
[0021]
Silver iodide in the present invention can have any β-phase and γ-phase content. The β phase refers to a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure, and the γ phase refers to a high silver iodide structure having a cubic zinc blend structure. The γ phase content here is C.I. R. It is determined using the method proposed by Berry. This method is determined based on the peak ratio of the silver iodide β phase (100), (101), (002) and the γ phase (111) in the powder X-ray diffraction method. Physical Review, Volume 161, No. 3, p. Reference may be made to 848-851 (1967).
[0022]
2) Particle size and particle shape
For the silver halide of high silver iodide used in the present invention, an arbitrary grain size can be selected.
The photosensitive silver halide in the present invention is preferably a tabular grain. The tabular grains in the present invention preferably have an average sphere equivalent diameter of 0.3 μm to 5.0 μm, and more preferably 0.5 μm to 3.0 μm. The equivalent sphere diameter here means the diameter of a sphere having the same volume as the volume of one silver halide grain. As a measuring method, it can obtain | require by calculating | requiring the particle | grain volume from each projected area and thickness observed with the electron microscope, and converting into the sphere of the same volume as the volume.
The tabular grains in the present invention preferably have an average projected area equivalent diameter of 0.1 μm to 10 μm, and more preferably 0.2 μm to 5 μm.
[0023]
In another preferred embodiment, the photosensitive silver halide in the present invention is a silver iodide fine grain of high silver iodide having a wavelength of 70 nm or less and 5 nm or more, more preferably 50 nm or less and 10 nm or more.
[0024]
In the present invention, silver thiocyanate can be added at any time during the grain preparation process of high silver iodide grains. That is, it may be any step from the start of preparation of the high silver iodide grains to the end of the preparation. Among these, it is preferable to form high silver iodide grains and then attach them to the grain surfaces. In that case, even if it becomes epitaxial growth, it does not need to become clear epitaxial growth. Further, silver thiocyanate may be added simultaneously or sequentially with an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of water-soluble thiocyanate (for example, potassium salt). At that time, it is added by a so-called controlled double jet method for controlling the silver potential. preferable.
[0025]
Alternatively, after separately preparing silver thiocyanate fine particles, the fine silver iodide particles can be added and re-dissolved to adhere to the high silver iodide particles.
[0026]
Silver thiocyanate can be selected in any amount, but it is 0.02 mol% or more and 50 mol% or less, preferably 0.05 mol% or more and 40 mol% or less, particularly preferably based on the high silver iodide host grains. It is 0.2 mol% or more and 30 mol% or less.
[0027]
In the present invention, in addition to silver thiocyanate, other silver salts such as silver bromide, silver chloride, silver phosphate and silver cyanide may be used in combination. Preferably silver bromide can coexist.
[0028]
A silver halide having a high silver iodide content can take a complicated form, but a preferred form is, for example, R.I. L. JENKINS et al. J of Photo. Sci. Vol. 28 (1980) p164-Fig1. FIG. Tabular grains as shown in Fig. 1 are also preferably used. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the [100] plane having high spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of [111] plane and [100] plane in the adsorption of sensitizing dye. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
[0029]
The shape of the silver halide grain in the present invention is a tabular grain.
In the present invention, silver halide having a projected area of 50% or more is obtained by (1) epitaxially growing a silver salt on tabular silver halide grains having an aspect ratio of 2 to 50, or (2) dislocation. It has one or more lines.
Preferably, the silver halide having a projected area of 50% or more is a tabular grain having an aspect ratio of 3 to 30 and more preferably a tabular grain having an aspect ratio of 5 to 20.
[0030]
The terms “epitaxy” and “epitaxial” are used in an art-recognized meaning to indicate that the silver salt is a crystalline form with an orientation controlled by the host tabular grains. The
In order to create a sensitized site on the tabular host grain, a silver salt deposited by epitaxial growth can be used. By controlling the adhesion site by epitaxial growth, selective local sensitization of tabular host grains can be performed. Thus, sensitization sites can be provided at one or more regular sites. “Regular” means that the sensitized sites have a predictable and ordered relationship, preferably with each other, with respect to the main crystal planes of the tabular grains. By controlling the epitaxial adhesion with respect to the main crystal plane of the tabular grains, it is possible to control the number of sensitized sites and the lateral spacing.
[0031]
In particular, it is preferable to control silver salt epitaxy and substantially eliminate epitaxial adhesion in at least a part of the main crystal plane of the tabular host grain. In tabular host grains, silver salt epitaxial deposition tends to occur at the grain edges and / or corners.
When the epitaxial deposition is limited to selected portions of the tabular grains, the sensitivity is improved as compared with the case where the silver salt is randomly deposited on the main surface of the tabular grains by epitaxial growth. The silver salt is adhered to the selected portion within a limited range so that the silver salt is not substantially epitaxially deposited on at least a part of the main crystal plane. The deposition range can be varied over a wide range without departing from the invention. In general, the sensitivity increases as the epitaxial coverage on the main crystal plane decreases. The silver salt deposited by epitaxial growth is preferably less than half of the area of the main crystal plane of the tabular grains, preferably less than 25%. When silver salt is deposited by epitaxial growth at the corners of the tabular silver halide grains, it is preferable to limit the area to less than 10%, more preferably less than 5%, of the area of the main crystal plane of the tabular grains. In some embodiments, epitaxial deposition was observed to begin on the edge surface of the tabular grains. Therefore, depending on conditions, epitaxy is limited to the selected edge portion, and epitaxy on the main crystal plane is effectively eliminated.
[0032]
When particles with latent image centers are fully developed, the location and number of latent image centers cannot be determined. However, if the development is stopped before the development range is expanded from the immediate vicinity of the latent image center and the partially developed particles are enlarged and observed, the partial development site can be clearly seen. These portions generally correspond to the latent image center, and such latent image center generally corresponds to the sensitized portion.
[0033]
The silver salt deposited by epitaxy can be selected from any silver salt that is conventionally known to be epitaxially grown on silver halide grains and to be effective in photography. In particular, the silver salt is preferably selected from those conventionally known to be effective for forming a shell of a core-shell silver halide emulsion. In addition to all known photographically useful silver halides, other silver salts known to be capable of depositing on silver halide grains as silver salts, such as silver thiocyanate, silver cyanide, silver carbonate Silver ferricyanide, silver arsenate or silver arsenite, and silver chromate. Among these, silver chloride or silver bromide is preferable.
[0034]
Depending on the silver salt selected and the intended use, the silver salt can be effectively deposited in the presence of the modifying compound along with the tabular silver halide grains.
From the host grains, iodide can enter the silver salt epitaxy. The host particles can contain anions other than iodine ions up to the solubility limit in silver iodide.
[0035]
The silver halide in the present invention preferably has one or more dislocation lines. More preferred is a silver halide having 5 or more dislocation lines, and particularly preferred is a silver halide having 10 or more dislocation lines.
It is preferable that the tabular grains containing one or more dislocation lines have a projected area of 50% or more, more preferably 80% or more of the total silver halide grains. In particular, it is preferable that the silver halide grains containing 10 or more dislocation lines are 80% or more.
Regarding dislocations in silver halide crystals,
(1) C.I. R Berry, J .; Appl. Phys. , 27, 636 (1956)
(2) C.I. R Berry, D.C. C. Skilman, J.M. Appl. Phys. , 35, 2165 (1964)
(3) J.M. F. Hamilton, Photo. Sci. Eng. 11, 57 (1967)
(4) T. Shiozawa, J. et al. Soc. Photo. Sci. JAP. , 34, 16 (1971)
(5) T. Shiozawa, J. et al. Soc. Photo. Sci. JAP. , 35, 213 (1972)
It is possible to observe dislocations in the crystal by X-ray diffraction or low-temperature transmission electron microscopy, and various dislocations are generated in the crystal by giving strain to the crystal. What happens is described.
[0036]
On the other hand, the effect of dislocations on photographic performance is as follows. C. Fame 11, R.E. B. Flint, and J.M. B. Chanter, J .; Photo. Sci. , 13, 25 (1965), it is shown that in a large-sized high-aspect-ratio silver bromide grain, the place where the latent image nucleus is formed and the defect in the grain are closely related. ing.
JP-A-62-220238 and JP-A-1-201649 disclose tabular silver halide grains into which dislocations are intentionally introduced. Tabular grains with dislocations are superior to photographic characteristics such as sensitivity and reciprocity law compared to tabular grains without dislocations, and it is shown that when these are used in photosensitive materials, they are excellent in sharpness and graininess. ing. However, in these grains, dislocation lines are irregularly introduced at the edges of the tabular grains, and the number of dislocations varies from grain to grain.
[0037]
3) Application amount
In general, in the case of a photothermographic material in which silver halide remains as it is even after heat development, increasing the silver halide coating amount decreases the transparency of the film and is not preferable in terms of image quality. It was limited to a low level. However, in the case of the present invention, the haze of the film caused by silver halide can be reduced by heat development treatment, so that more silver halide can be applied. In this invention, it is more preferable that they are 0.5 mol% or more and 100 mol% or less with respect to 1 mol of silver of a nonphotosensitive organic silver salt, Preferably they are 5 mol% or more and 50 mol% or less.
[0038]
4) Particle formation method
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example using the methods described in Research Disclosure No. 17029 of June 1978 and US Pat. No. 3,700,458. Specifically, there is used a method in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Further, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the method described in JP-A No. 11-352627 and Japanese Patent Application No. 2000-42336 are also preferable.
Regarding the method for forming tabular grains of silver iodide, the methods described in JP-A-59-119350 and 59-119344 are preferably used.
[0039]
5) Heavy metal
The photosensitive silver halide grains in the invention can contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). As the central metal of the group 8 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium and iridium are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is 1 x 10 per mole of silver.^-9From mole to 1 × 10^-3A molar range is preferred. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.
[0040]
In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. As the hexacyano metal complex, [Fe (CN)₆]^4-, [Fe (CN)₆]^3-, [Ru (CN)₆]^4-, [Os (CN)₆]^4-, [Co (CN)₆]^3-, [Rh (CN)₆]^3-, [Ir (CN)₆]^3-, [Cr (CN)₆]^3-, [Re (CN)₆]^3-Etc. In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.
[0041]
The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, tetra (n-butyl) ammonium ions).
[0042]
In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.
[0043]
The amount of hexacyano metal complex added is 1 × 10 5 per mole of silver.^-51 x 10 moles or more^-2Or less, more preferably 1 × 10^-41 x 10 moles or more^-3It is below the mole.
[0044]
In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.
[0045]
The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.
When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. This silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, so that re-dissolution by fine particles can be prevented and silver halide fine particles having a small particle size can be produced. .
[0046]
Further, metal atoms that can be contained in the silver halide grains used in the present invention (for example, [Fe (CN)₆]^4-), Desalting methods and chemical sensitization methods for silver halide emulsions, paragraph numbers 0046 to 0050 of JP-A No. 11-84574, paragraph numbers of paragraph Nos. 0025 to 0031 of JP-A No. 11-65021, and paragraph number 0242 of JP-A No. 11-119374. ~ 0250.
[0047]
6) Gelatin
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. In order to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the organic silver salt-containing coating solution, it is preferable to use low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used at the time of particle formation or dispersion after desalting, but are preferably used at the time of dispersion after desalting.
[0048]
7) Chemical sensitization
The photosensitive silver halide used in the present invention may be non-chemically sensitized, but is preferably chemically sensitized by at least one of a chalcogen sensitizing method, a gold sensitizing method, and a reduction sensitizing method. Examples of the chalcogen sensitizing method include a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method, and a tellurium sensitizing method.
[0049]
In sulfur sensitization, unstable sulfur compounds are used. The unstable sulfur compounds described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, 307105, and the like can be used.
Specifically, thiosulfate (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylthiourea, N-ethyl-N ′-(4-methyl-2-thiazolyl) thiourea, carboxymethyltrimethylthiourea), thioamides (Eg, thioacetamide), rhodanines (eg, diethyl rhodanine, 5-benzylidene-N-ethyl rhodanine), phosphine sulfides (eg, trimethylphosphine sulfide), thiohydantoins, 4-oxo-oxazolidin-2 Known sulfur compounds such as -thiones, disulfides or polysulfides (for example, dimorpholine disulfide, cystine, lenthionine), polythionates, elemental sulfur, and active gelatin can also be used. Particularly preferred are thiosulfates, thioureas and rhodanines.
[0050]
In the selenium sensitization, unstable selenium compounds are used, and Japanese Patent Publication Nos. 43-13489, 44-15748, JP-A-4-25832, 4-109340, 4-271341, and 5-40324. No. 5-11385, Japanese Patent Application No. Hei 4-202415, No. 4-330495, No. 4-333030, No. 5-4203, No. 5-4204, No. 5-1069777, No. 5-236538. Selenium compounds described in JP-A-5-241642, JP-A-5-286916, and the like can be used.
[0051]
Specifically, colloidal metal selenium, selenoureas (eg, N, N-dimethylselenourea, trifluoromethylcarbonyl-trimethylselenourea, acetyl-trimethylselenourea), selenoamides (eg, selenoamide, N, N-diethyl) Phenylselenoamide), phosphine selenides (eg, triphenylphosphine selenide, pentafluorophenyl-triphenylphosphine selenide), selenophosphates (eg, tri-p-tolylselenophosphate, tri-n) -Butylselenophosphate), selenoketones (for example, selenobenzophenone), isoselenocyanates, selenocarboxylic acids, selenoesters, diacyl selenides and the like may be used. Furthermore, non-labile selenium compounds described in JP-B Nos. 46-4553 and 52-34492, such as selenite, selenocyanate, selenazoles, and selenides can also be used. In particular, phosphine selenides, selenoureas and selenocyanates are preferred.
[0052]
In the tellurium sensitization, an unstable tellurium compound is used, and JP-A-4-224595, JP-A-4-271341, JP-A-4-3333043, JP-A-5-303157, JP-A-6-27573, JP-A-6-175258, The unstable tellurium described in JP-A-6-180478, JP-A-6-208186, JP-A-6-208184, JP-A-6-317867, JP-A-7-140579, JP-A-7-301879, JP-A-7-301880, etc. Compounds can be used.
[0053]
Specifically, phosphine tellurides (for example, butyl-diisopropylphosphine telluride, tributylphosphine telluride, tributoxyphosphine telluride, ethoxydiphenylphosphine telluride), diacyl (di) tellurides ( For example, bis (diphenylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride, bis (N-phenyl-N-benzylcarbamoyl) telluride, bis (ethoxycarbonyl) Telluride), telluroureas (for example, N, N′-dimethylethylenetellurourea, N, N′-diphenylethylenetellurourea) telluramides, telluroesters and the like may be used. In particular, diacyl (di) tellurides and phosphine tellurides are preferable. Particularly, compounds described in literatures described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, general formula (II) in JP-A-5-313284, Compounds represented by (III) and (IV) are more preferred.
[0054]
In the chalcogen sensitization in the present invention, selenium sensitization and tellurium sensitization are particularly preferable, and tellurium sensitization is particularly preferable.
[0055]
In gold sensitization, P.I. Gold sensitizers described by Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, No. 307105 can be used. Specifically, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide and the like, in addition to these, U.S. Pat. Nos. 2,642,361, 5,049,484, 5,049,485, 5,169,751, Gold compounds described in Japanese Patent No. 5252455 and Belgian Patent No. 691857 can also be used. P. Precious metals such as platinum, palladium, iridium, etc. other than gold described in Grafkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Momtel, 1987, 5th edition), Research Disclosure 307, 307105 are also used. it can.
[0056]
Although gold sensitization can be used alone, it is preferably used in combination with the chalcogen sensitization described above. Specifically, gold sulfur sensitization, gold selenium sensitization, gold tellurium sensitization, gold sulfur selenium sensitization, gold sulfur tellurium sensitization, gold selenium tellurium sensitization, and gold sulfur selenium tellurium sensitization.
[0057]
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
[0058]
The amount of chalcogen sensitizer used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 per mole of silver halide.^-8-10^-1Moles, preferably 10^-7-10^-2Use moles.
Similarly, the amount of the gold sensitizer used in the present invention varies depending on various conditions, but as a guideline, it is 10 per silver halide.^-7Mol-10^-2Mole, more preferably 10^-6Mol ~ 5x10^-3Is a mole. The environmental conditions for chemically sensitizing this emulsion can be selected under any conditions, but the pAg is 8 or less, preferably 7.0 or less to 6.5 or less, particularly 6.0 or less, and the pAg is 1.5 or less. Above, preferably 2.0 or more, particularly preferably 2.5 or more, pH is 3 to 10, preferably 4 to 9, temperature is 20 to 95 ° C., preferably about 25 to 80 ° C. is there.
[0059]
In the present invention, reduction sensitization can be used in combination with chalcogen sensitization or gold sensitization. In particular, it is preferably used in combination with chalcogen sensitization.
As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, and dimethylamine borane are preferable. In addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. It is preferable to use it. The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is also preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 8 or higher or pAg at 4 or lower, and reduction sensitization by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. Is also preferable.
The amount of reduction sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guideline it is 10 per silver halide.^-7Mol-10^-1Mole, more preferably 10^-6Mol ~ 5x10^-2Is a mole.
[0060]
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method shown in European Patent Publication No. 293,917.
The photosensitive silver halide grains in the invention are preferably chemically sensitized by at least one of gold sensitization and chalcogen sensitization from the viewpoint of designing a high-sensitivity photothermographic material.
[0061]
8) Sensitizing dye
As a sensitizing dye that can be applied to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected. The photothermographic material of the present invention is preferably spectrally sensitized so as to have a spectral sensitivity peak at 600 nm to 900 nm, or 300 nm to 500 nm. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by the general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. Dyes disclosed in Japanese Patent Application No. 0803764A1, page 19, line 38 to page 20, line 35, Japanese Patent Application No. 2000-86865, Japanese Patent Application No. 2000-102560, Japanese Patent Application No. 2000-205399, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more.
[0062]
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and fogging performance.^-6~ 1 mol is preferred, more preferably 10^-4-10^-1Is a mole.
[0063]
In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.
[0064]
9) Combined use of silver halide
The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, Those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. Examples of these technologies include JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841 and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.
[0065]
10) Mixing of silver halide and organic silver salt
The photosensitive silver halide grains in the present invention are particularly preferably formed and chemically sensitized in the absence of a non-photosensitive organic silver salt. This is because sufficient sensitivity may not be achieved by the method of forming silver halide by adding a halogenating agent to the organic silver salt.
As a method of mixing silver halide and organic silver salt, a method of mixing separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt with a high speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Alternatively, there may be mentioned a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide which has been prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. In any method, the effects of the present invention can be preferably obtained.
[0066]
11) Mixing silver halide into coating solution
The preferred addition time of the silver halide to the image forming layer coating solution in the present invention is from 180 minutes before coating to immediately before, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effect is sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0067]
(Compound that substantially reduces visible light absorption derived from photosensitive silver halide after heat development)
In the present invention, it is preferable to contain a compound that substantially reduces the visible light absorption derived from the photosensitive silver halide after heat development compared to before heat development.
In the present invention, it is particularly preferable to use a silver iodide complex-forming agent as a compound that substantially reduces visible light absorption derived from photosensitive silver halide after heat development.
[0068]
The silver iodide complex-forming agent in the present invention may contribute to a Lewis acid-base reaction in which at least one of a nitrogen atom or a sulfur atom in a compound donates an electron to a silver ion as a coordination atom (electron donor: Lewis base). Is possible. The stability of the complex is defined by a sequential stability constant or a total stability constant, but depends on the combination of silver ion, iodine ion, and the silver complexing agent. As a general guideline, a large stability constant can be obtained by means such as a chelate effect due to intramolecular chelate ring formation and an increase in the acid-base dissociation constant of the ligand.
[0069]
Although the mechanism of action of the silver iodide complex-forming agent in the present invention is not clearly elucidated, silver iodide is solubilized by forming a stable complex composed of at least ternary components including iodide ion and silver ion. Estimated. The silver iodide complex-forming agent in the present invention has a poor ability to solubilize silver bromide and silver chloride, but acts specifically on silver iodide.
[0070]
Although the details of the mechanism by which the image storage stability is improved by the silver iodide complex forming agent in the present invention are not clear, at least a part of the photosensitive silver halide and the silver iodide complex forming agent in the present invention are subjected to heat development. This is because a complex is formed by the reaction, and the photosensitivity decreases or disappears, and the image storage stability under light irradiation is considered to be greatly improved. At the same time, it is also a great feature that clear high-quality images can be obtained as a result of the reduction of film turbidity due to silver halide. The turbidity of the film can be confirmed by the decrease in the UV-visible absorption of the spectral absorption spectrum.
[0071]
In the present invention, the ultraviolet-visible absorption spectrum of the photosensitive silver halide can be measured by a transmission method or a reflection method. If the absorption derived from other compounds added to the photothermographic material overlaps with the absorption of the photosensitive silver halide, the difference spectrum or the removal of other compounds with a solvent can be used alone or in combination. The UV-visible absorption spectrum of photosensitive silver halide can be observed.
[0072]
The silver iodide complex-forming agent in the present invention is clearly different from the conventional silver ion complex-forming agent in that the iodide ion is essential for forming a stable complex. Conventional silver ion complexing agents have a dissolution action on salts containing silver ions, such as organic silver salts such as silver bromide, silver chloride, or silver behenate, while silver iodide complex formation in the present invention is performed. The agent has a great feature in that it does not work unless silver iodide is present.
[0073]
A preferable compound as a silver iodide complex forming agent in the present invention is a compound represented by the general formula (1) or the general formula (2).
[0074]
[Chemical 1]

[0075]
In General formula (1), Y represents a nonmetallic atom group required in order to form the 5-7 membered heterocyclic ring containing at least one of a nitrogen atom or a sulfur atom. The heterocyclic ring formed by Y may be saturated or unsaturated, and may have a substituent. The substituents on the heterocycle formed by Y may be bonded to each other to form a ring.
[0076]
Examples of 5-7 membered heterocycles containing at least one of nitrogen or sulfur atoms formed by Y include thiophene, pyrrole, pyridine, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, pyrazine, pyrimidine , Pyridazine, indole, isoindole, indolizine, quinoline, isoquinoline, benzimidazole, 1H-imidazole, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, phthalazine, 1,8-naphthyridine, purine, pteridine, carbazole, acridine, phenanthridine, 1, 10-phenanthroline, phenazine, phenoxazine, phenothiazine, benzothiazole, benzoxazole, benzimidazole, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine, pi Lysine, imidazolidine, may be mentioned pyrazolidine, piperidine, piperazine, morpholine, indoline, isoindoline and the like.
[0077]
These rings may have a substituent, and preferred examples include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (a linear, branched or cyclic alkyl group, Alkyl group, including active methine group), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (regardless of the position of substitution), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl Group, N-acylcarbamoyl group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group or a salt thereof, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, A carbonimidoyl group (Carbonimide group), Rumyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy group or propyleneoxy group unit repeatedly), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group , Sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino Group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, ammonio group, oxamoylamino group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido group, N-acylureido group, N-acylsulfamoylamino group, nitro group, A heterocyclic group containing a nitrogen atom that has been classified (eg, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), isocyano group, imino group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl, Aryl, or heterocyclic) dithio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group, N-sulfonylsulfamoyl group or Examples thereof include salts, phosphino groups, phosphinyl groups, phosphinyloxy groups, phosphinylamino groups, and silyl groups. Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) is meant. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure. The salt means a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion. These substituents may be further substituted with these substituents. The heterocycle formed by Y may be further condensed with another ring.
[0078]
The compound represented by the general formula (1) is preferably a nitrogen-containing heterocyclic compound, and has an acid dissociation constant (pKa) at 25 ° C. in a tetrahydrofuran / water (3/2) mixed solution of the conjugate acid. It is preferably 3 to 8. More preferably, the acid dissociation constant (pKa) is 4-7.
The compound represented by the general formula (1) preferably has a pyridine ring, a pyrimidine ring or a pyridazine ring (including a condensed pyridazine such as phthalazine), and also preferably has at least one mercapto group as a substituent. . The compound represented by the general formula (1) particularly preferably has a pyridine ring or a phthalazine ring.
[0079]
In General formula (2), Z represents a hydrogen atom or a substituent. n represents an integer of 1 to 2; when n is 1, S and Z are bonded by a double bond; when n is 2, S and two Zs are each a single bond Represents that they are connected. When n is 1, Z does not represent a hydrogen atom. When n is 2, two Zs may be the same or different, but neither of the two Zs represents a hydrogen atom. Z is preferably a carbon atom and forms a single bond or a double bond with S.
When n is 1, examples of Z include methylene, ethylidene, vinylidene groups, etc. These groups may further have a substituent, and are formed by Y in the general formula (1). Examples of the heterocyclic substituents are as follows. Examples where Z having a substituent is combined with S include thiourea, tetramethylthiourea, N-ethyl-N′-propylthiourea, N, N′-dimethylthiourea, and the like.
When n is 2, substituents represented by Z include alkyl groups (including cycloalkyl groups such as bicycloalkyl groups), alkenyl groups (including cycloalkenyl groups such as bicycloalkenyl groups), alkynyl groups, aryls Examples include a group, a heterocyclic group, an acyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an imide group.
[0080]
More specifically, an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl). ), A cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl), a bicycloalkyl group (preferably 5 to 30 carbon atoms). Substituted or unsubstituted bicycloalkyl groups such as bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octan-3-yl), alkenyl groups (preferably having 2 carbon atoms) 30 substituted or unsubstituted alkenyl groups such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl Oleyl), an alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group, aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl having 6 to 30 carbon atoms) Groups such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl), heterocyclic groups (preferably 5- or 6-membered substituted or unsubstituted, aromatic or non-aromatic A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from the heterocyclic compound, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms, such as 2-furyl, 2 -Thienyl, 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl), an acyl group (preferably a formyl group, a group having 2 to 30 carbon atoms). Or an unsubstituted alkylcarbonyl group, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heterocyclic carbonyl group bonded to a carbonyl group with a substituted or unsubstituted carbon atom having 4 to 30 carbon atoms, for example, , Acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl, 2-pyridylcarbonyl, 2-furylcarbonyl), an aryloxycarbonyl group (preferably substituted with 7 to 30 carbon atoms or An unsubstituted aryloxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl, o-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrophenoxycarbonyl, pt-butylphenoxycarbonyl), an alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted group having 2 to 30 carbon atoms) Replace An alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl having 1 to 30 carbon atoms such as carbamoyl, N-methyl) Examples thereof include carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl), and an imide group (preferably N-succinimide and N-phthalimide). Among the above substituents, those having a hydrogen atom may be further substituted by removing this. Examples of the composite substituent include hydroxyethoxyethyl group, hydroxyethylthioethyl group, dimethylaminocarbonyl group and the like.
[0081]
The compound represented by the general formula (1) is preferably a pyridine derivative represented by the following general formula (3).
[0082]
[Chemical formula 2]

[0083]
In the general formula (3), R²¹-R²⁵Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R²¹-R²⁵As examples of the substituent represented by formula (1), a heterocyclic substituent formed by Y in the general formula (1) can be given. When the compound represented by the general formula (3) has a substituent, the preferred substitution position is R²²-R²⁴It is. R²¹-R²⁵May be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring.
[0084]
The compound represented by the general formula (3) preferably has an acid dissociation constant (pKa) at 25 ° C. of 3 to 8 in a tetrahydrofuran / water (3/2) mixed solution of the conjugate acid. More preferably, the acid dissociation constant (pKa) is 4-7.
The compound represented by the general formula (1) is also preferably a pyridazine derivative represented by the following general formula (4).
[0085]
[Chemical Formula 3]

[0086]
In the general formula (4), R⁴¹-R⁴⁴Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R⁴¹-R⁴⁴May be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring. R⁴¹-R⁴⁴As examples of the substituent represented by formula (1), a substituent of a heterocyclic ring formed by Y in the general formula (1) can be given, and more preferable groups are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryls. Examples include formation of a phthalazine ring by a group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, and a benzo condensed ring. When a hydroxyl group is substituted on the carbon adjacent to the nitrogen atom of the compound represented by the general formula (4), an equilibrium exists with pyridazinone.
The compound represented by the general formula (4) particularly preferably forms a phthalazine ring, and this phthalazine ring may further have a substituent. Preferable substituents on the phthalazine ring include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, and an aryloxy group.
[0087]
The compound represented by the general formula (1) is also preferably a pyridazine derivative represented by the following general formula (4).
[0088]
[Formula 4]

[0089]
In the general formulas (5) to (7), R⁵¹-R⁵², R⁶¹-R⁶², R⁷¹-R⁷³Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R⁵¹-R⁵², R⁶¹-R⁶², R⁷²As examples of the substituent represented by formula (1), a heterocyclic substituent formed by Y in the general formula (1) can be given. R⁷¹, R⁷²Examples of the substituent represented by formula (1) include alkyl groups (including cycloalkyl groups such as bicycloalkyl groups), alkenyl groups (including cycloalkenyl groups such as bicycloalkenyl groups), alkynyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups. And so on. , R⁵¹-R⁵², R⁶¹-R⁶², R⁷¹-R⁷³May be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring.
[0090]
The compound represented by the general formula (2) is preferably a compound represented by the following general formula (8) or (9).
[0091]
[Chemical formula 5]

[0092]
In the general formulas (8) to (9), R⁸¹-R⁸⁵, R⁹¹-R⁹²Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. L represents a divalent linking group. R⁸¹-R⁸⁵, R⁹¹-R⁹²As the substituent represented by formula (1), an alkyl group (including a cycloalkyl group such as a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group such as a bicycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group Examples include groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, imide groups and the like.
[0093]
The divalent linking group represented by L is preferably a linking group having a length of 1 to 6 atoms, more preferably 1 to 3 atoms, and may further have a substituent. A preferred example is -CH₂-, -CH₂CH₂-, -CH (CH₃)-, -CH (OH) CH₂-, -CH (CH₂CH₃) CH₂-Etc. can be mentioned. m represents 0 or 1;
[0094]
Although the preferable example of a compound represented by General formula (1) or General formula (2) below is given, this invention is not limited to these.
.
[0095]
[Chemical 6]

[0096]
[Chemical 7]

[0097]
[Chemical 8]

[0098]
[Chemical 9]

[0099]
[Chemical Formula 10]

[0100]
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[0101]
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[0102]
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[0103]
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[0104]
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[0105]
The silver iodide complex-forming agent in the present invention may be a common compound with the color tone agent when it functions as a conventionally known color tone agent. When the silver iodide complex forming agent in the present invention does not have a function as a color toning agent, it can be used in combination with the color toning agent. For example, among the pyridazine derivatives represented by the general formula (4) in the present invention (for example, phthalazine), there are compounds known as toning agents. However, although the phthalazine compound has been known to be effective in a photothermographic material as a color toning agent, it is not known at all to have a function of a silver iodide complex forming agent in the present invention. Since there was no recognition of the compound itself having the function of a silver halide complex forming agent, its function was not expected. When a phthalazine compound is used as a color tone agent, phthalazine may be used alone, or different phthalazine derivatives may be mixed and used.
[0106]
In order for the silver iodide complex forming agent in the present invention to act effectively without adversely affecting the raw storage stability of the photothermographic material and without interfering with the image forming reaction, it is heated for heat development. It is desirable that it does not act on the photosensitive silver halide until it is heated, and acts after the heating so that it does not substantially affect the heat development. For that purpose, the silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably present in the film in a state separated from the photosensitive silver halide, for example, in the film in a solid state. It is also preferable to add to the adjacent layer. The silver iodide complex-forming agent in the present invention has a melting point obtained by mixing a compound having a compound melting point in an appropriate range so that it melts when heated to a heat development temperature at a temperature below room temperature, or a melting point modifier. It is preferable to use a combination of means such as adjustment.
[0107]
In the present invention, in order to greatly improve image storage stability, particularly image storage stability under light irradiation, the absorption intensity of the ultraviolet-visible absorption spectrum of the photosensitive silver halide after heat development is compared with that before heat development. Therefore, it is preferably 80% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 20% or less. Most preferably, it is 10% or less.
[0108]
The silver iodide complex-forming agent in the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
Well-known emulsification dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying the dispersion. The method of producing is mentioned.
[0109]
As the solid fine particle dispersion method, the silver iodide complex-forming powder in the present invention is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave. And a method of producing a solid dispersion. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably used as a solid dispersion.
[0110]
The silver iodide complex-forming agent in the present invention is preferably used in the range of 1 to 5000 mol%, more preferably in the range of 10 to 1000 mol%, still more preferably 50, based on the photosensitive silver halide. It is in the range of ˜300 mol%.
[0111]
(Compound with adsorbing group and reducing group on silver halide)
In the present invention, it is preferable to contain a compound having an adsorbing group for silver and a reducing group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “adsorbing redox compound”) or a precursor thereof. The compound is preferably a compound represented by the following formula (I).
[0112]
Formula (I) A- (W) n-B
[In the formula (I), A represents a group capable of being adsorbed to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group. Represents. ]
[0113]
In the formula (I), the adsorption group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide, or a group that promotes adsorption to silver halide, and specifically, a mercapto group (or a salt thereof). , A thione group (—C (═S) —), a heterocyclic group, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or an ethynyl group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom Etc.
[0114]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably, a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated to form a meso ion. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺And the like, ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions, and the like.
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group.
The thione group as an adsorbing group also includes a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group.
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as an adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group, or a '-S-' group, a '-Se-' group, a '-Te-' group or a '= N-' group that can be coordinated to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, tri Jin group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, such as benzo tellurium azole group.
Examples of the sulfide group or disulfide group as the adsorptive group include all groups having a partial structure of '-S-' or '-S-S-'.
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like.
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
The adsorbing group may have an arbitrary substituent.
[0115]
Further, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.
[0116]
In the formula (I), preferred as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 2-mercapto-5-aminothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4). -Triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group), or Nitrogen-containing heterocyclic group having —NH— group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of heterocyclic ring (for example, benzotriazo Group, benzimidazole group, an indazole group), more preferable as an adsorptive group is a 2-mercaptobenzimidazole group, a 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group.
[0117]
In formula (I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, etc.), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms. An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenylene group, a naphthylene group, etc.), -CO-, -SO₂-, -O-, -S-, -NR₁-, The combination of these coupling groups, etc. are mention | raise | lifted. Where R₁Represents a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocyclic group, or an aryl group.
The linking group represented by W may have an arbitrary substituent.
[0118]
In formula (I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions. For example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxylamines. Hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, (Including aminophenols, sulfonamidophenols, and hydroquinones, catechols, resorcinols, polyphenols such as benzenetriols, bisphenols), acylhydrazines, carbamoylhydrazines, 3-pyrazolidones, etc. Residue with one removed And the like. Of course, these may have an arbitrary substituent.
[0119]
In the formula (I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential by Akira Fujishima “Electrochemical measurement method” (pages 150-208, published by Gihodo) or “The Experimental Chemistry Course” edited by the Chemical Society of Japan, 4th edition ( 9 pages 282-344, Maruzen). For example, by rotating disk voltammetry, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5, Briton-Robinson buffer (Britton-Robinson buffer) = 10%: 90% (volume%), and nitrogen is added for 10 minutes. After aeration of gas, a rotating disc electrode (RDE) made of glassy carbon is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. It can be measured at the sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
In the present invention, the reducing group represented by B preferably has an oxidation potential in the range of about −0.3 V to about 1.0 V when measured by the above measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0 to about 0.7V.
[0120]
In the formula (I), the reducing group represented by B is preferably selected from hydroxylamines, hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxysemicarbazides, reductones, phenols, acylhydrazines, carbamoylhydrazines, and 3-pyrazolidones. A residue obtained by removing one hydrogen atom.
[0121]
Specific examples of the reducing group represented by B are illustrated below, but the present invention is not limited thereto. Here, the mark * indicates the position where A or W is bonded in the formula (I).
[0122]
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[0123]
The compound of the formula (I) in the present invention may be one in which a ballast group or polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
[0124]
The compound of the formula (I) in the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compound of formula (I) in the present invention is preferably between 100 and 10000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.
[0125]
Examples of the compound of formula (I) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0126]
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[0127]
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[0128]
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[0129]
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[0130]
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[0131]
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[0132]
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[0133]
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[0134]
A precursor of a compound having an adsorbing group and a reducing group for photosensitive silver halide may be added to the photothermographic material. The precursor is a compound that is released from the bond during thermal development and generates the adsorptive redox compound. If it is such a compound, there will be no restriction | limiting in particular. Preferred precursors include compounds in which the reducing group portion of the adsorptive redox compound is blocked with a releasable group, and the releasable group is removed by thermal development.
[0135]
These compounds can be easily synthesized according to known methods.
As the compound of the formula (I) in the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.
[0136]
The compound of formula (I) in the present invention is preferably added to the silver halide emulsion layer, and more preferably added during preparation of the emulsion. When added at the time of emulsion preparation, it can be added at any time during the process. For example, silver halide grain formation process, before the start of desalting process, desalting process, chemical ripening Examples include a step before starting, a chemical ripening step, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also be added in several steps in these processes. Although it is preferably used in the emulsion layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of compound to be added, but generally 1 × 10 5 per mole of photosensitive silver halide.^-6~ 1 mole, preferably 1 x 10^-5~ 5x10^-1Mole more preferably 1 × 10^-4~ 1x10^-1Is a mole.
[0137]
The compound of the formula (I) in the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.
[0138]
(Compound capable of emitting one or more electrons from a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation)
In the photothermographic material of the invention, it is preferable that a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one or more electrons.
[0139]
The compound capable of emitting one or more electrons by the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the photothermographic material of the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5.
[0140]
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with subsequent bond cleavage reaction, and has two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule. Compound.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can further emit one or more electrons after undergoing a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(Type 5)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
[0141]
Preferred among the compounds of type 1 and type 3 to 5 are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ". More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”. The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compounds having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.
[0142]
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant, followed by a bond cleavage reaction.
[0143]
A preferable compound among the compounds of type 1 is represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2), or general formula (3).
[0144]
Formula (A)
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[0145]
General formula (B)
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[0146]
In general formula (A), RED₁₁Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₁Represents a leaving group. R₁₁₂Represents a hydrogen atom or a substituent. R₁₁₁Is carbon atom (C) and RED₁₁And a nonmetallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form, or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle).
[0147]
In the general formula (B), RED₁₂Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₂Represents a leaving group. R₁₂₁And R₁₂₂Each represents a hydrogen atom or a substituent. ED₁₂Represents an electron donating group. R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0148]
These compounds represented by the general formula (A) or the general formula (B) are represented by RED.₁₁Or RED₁₂After the reducing group represented by₁₁Or L₁₂Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0149]
General formula (1), general formula (2), general formula (3)
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[0150]
In general formula (1), Z₁Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring, and R₁, R₂, R_N1Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₁Represents an integer of 0 to 3, L₁Represents a leaving group. ED in general formula (2)₂₁Represents an electron donating group, R₁₁, R₁₂, R_N21, R₁₃, R₁₄Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₂₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₂₁Represents an integer of 0 to 3, L₂₁Represents a leaving group. R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁May be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (3), R₃₂, R₃₃, R₃₁, R_N31, R_a, R_bEach represents a hydrogen atom or a substituent, and L₃₁Represents a leaving group. However, R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring.
[0151]
After these compounds are oxidized by one electron,₁, L₂₁Or L₃₁Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0152]
Hereinafter, the compound represented by the general formula (A) will be described in detail first.
In general formula (A), RED₁₁A reducing group that can be oxidized by one electron is represented by R described later.₁₁₁And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable site for ring formation from the following monovalent group. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thio Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) A monocyclic or condensed heterocyclic ring containing at least one heteroatom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, and a tetrahydroquinoxaline ring. , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazole , Carbazole ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl ring (Hereinafter referred to as RED for convenience)₁₁Is described as a monovalent radical name). RED₁₁May have a substituent.
[0153]
In the present invention, the substituent means a substituent selected from the following groups unless otherwise specified. Halogen atom, alkyl group (including aralkyl group, cycloalkyl group, active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (regarding the position of substitution), quaternized nitrogen atom Heterocyclic group (eg, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfa Moylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy or propyleneoxy group units repeatedly), aryloxy group , F B-ringoxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group Thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, Acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfini Group, a sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0154]
RED₁₁Are preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, more preferably an arylamino group (especially an anilino group), an aryl group (especially a phenyl group). Group). When these have a substituent, the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an acylamino group, or a sulfonamide group.
However, RED₁₁When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. Here, “electron-donating group” means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, or a nitrogen atom in the ring. 5-membered, monocyclic or condensed, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group) containing at least one, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group (a group that can also be called a cyclic amino group such as a pyrrolidinyl group, an indolinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, or a morpholino group) substituted with an atom. Here, the active methine group means a methine group substituted by two “electron-withdrawing groups”, and the “electron-withdrawing group” means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, It means a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0155]
In general formula (A), L₁₁Specifically, a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkylstannyl group, a trialkylgermyl group, or CR_C1R_C2R_C3Represents a group. Here, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, or the like, and may have an arbitrary substituent.
[0156]
L₁₁Represents a carboxy group salt, the counter ions forming the salt include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions, etc., preferably alkali metal ions or ammonium ions. , Alkali metal ions (especially Li⁺, Na⁺, K⁺Ion) is most preferred.
[0157]
L₁₁-CR_C1R_C2R_C3When representing a group, here R_C1, R_C2, R_C3Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group. May be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further have an arbitrary substituent. However, R_C1, R_C2, R_C3When one of them represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group. R_C1, R_C2, R_C3Preferably, each independently represents an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or a hydroxy group. For example, phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, methoxy group, ethoxy group, dimethylamino Group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like. Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
-CR_C1R_C2R_C3The group is R_C1, R_C2, R_C3As a result of each selected within the above-mentioned range, the general formula (A) to L₁₁It is also preferred if it represents the same group as the residue excluding.
[0158]
In general formula (A), L₁₁Is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferred is a carboxy group or a salt thereof.
[0159]
L₁₁When represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety inherent in the molecule. After the compound represented by the general formula (A) is oxidized by the action of this base moiety,₁₁Is deprotonated, and further electrons are emitted therefrom.
[0160]
Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO⁻), Sulfate (-SO₃ ⁻) Or amine oxide (> N⁺(O⁻)-) And the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate, or amine oxide, and particularly preferably carboxylate. When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like. These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites are bonded includes RED of the general formula (A).₁₁, R₁₁₁, R₁₁₂Any of these may be sufficient, and you may connect with the substituent of these groups.
[0161]
R in the general formula (A)₁₁₂Represents a substituent substitutable on a hydrogen atom or a carbon atom. However, R₁₁₂Is L₁₁Does not represent the same group.
R₁₁₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group and a butylthio group), an amino group, and an alkyl group An amino group, an arylamino group and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group and an alkylamino group.
[0162]
R in the general formula (A)₁₁₁Is a ring structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle), where the hydro form is an aromatic A ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) in a ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated means a tetrahydro form, and two tetrahydro forms are hexahydro forms The three and octahydro forms mean a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
Specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring and oxazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, And tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, octahydrophenanthridine ring and the like. These ring structures may have an arbitrary substituent.
[0163]
R₁₁₁More preferably, the cyclic structure formed by pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, most preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring. , Tetrahydroquinoline ring and tetrahydroisoquinoline ring.
[0164]
In the general formula (B), RED₁₂, L₁₂Are respectively RED of the general formula (A)₁₁, L₁₁The preferred range is also the same. However, RED₁₂Is a monovalent group except when it forms the following cyclic structure, specifically RED.₁₁And monovalent group names described in the above. R₁₂₁And R₁₂₂Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. ED₁₂Represents an electron donating group. R₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0165]
ED in general formula (B)₁₂The electron donating group represented by RED₁₁Is the same as the electron-donating group described as the substituent for when A represents an aryl group. ED₁₂Preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron containing at least one nitrogen atom in the ring An excess aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and a phenyl group substituted with these electron donating groups, and further, a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group Group, arylamino group, active methine group, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom, and phenyl group substituted with these electron-donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group) , O, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are more preferable.
[0166]
R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₂And R₁₂₁Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and a substituted or unsubstituted cyclic structure. R₁₂₁And RED₁₂When and form a ring structure, specific examples thereof include R in general formula (A).₁₁₁In addition to those listed as examples of the cyclic structure formed by pyrrole, imidazoline, thiazoline, pyrazoline, oxazoline, indane, morpholine, indoline, tetrahydro-1,4-oxazine, 2, 3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene A ring etc. are mentioned. ED₁₂And RED₁₂And form a ring structure, ED₁₂Preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the ring structure formed include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring. R₁₂₂And R₁₂₁When and form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
[0167]
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. L₁, L₂₁, L₃₁Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same leaving group as the specific examples given in the description, and preferred ranges thereof are also the same. X₁, X₂₁As the substituent represented by the formula (A),₁₁Is the same as the example of the substituent when has a substituent, and the preferred range is also the same. m₁, M₂₁Is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0168]
R_N1, R_N21, R_N31When represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these may further have an arbitrary substituent. R_N1, R_N21, R_N31Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
[0169]
R₁₃, R₁₄, R₃₃, R_a, R_bWhen represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, alkylthio group. An arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, and the like.
[0170]
In general formula (1), Z₁The 6-membered ring formed by is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1). Specifically, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring as a ring structure including the condensed benzene ring, A tetrahydroquinazoline ring, preferably a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring. These may have a substituent.
[0171]
ED in general formula (2)₂₁Is the ED of the general formula (B)₁₂The preferred range is also the same.
[0172]
In the general formula (2), R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁Any two of these may combine with each other to form a cyclic structure. Where R_N21And X₂₁The cyclic structure formed by bonding is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. Specific examples thereof include a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline. Ring, indoline ring, 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring and the like. Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.
[0173]
In the general formula (3), R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring. Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, a phenyl group or a naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, a pyridine ring group, a pyrrole ring group, a quinoline ring group, or an indole ring group), and an aryl group is preferable. The aromatic ring group may have an arbitrary substituent.
In the general formula (3), R_aAnd R_bAre preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).
[0174]
In the general formula (3), R₃₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an amino group, etc., where R₃₂When R represents a hydroxy group,₃₃The case where represents an “electron-withdrawing group” is also a preferred example. Here, the “electron withdrawing group” is the same as described above, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.
[0175]
Next, the type 2 compound will be described.
In the type 2 compound, “bond cleavage reaction” means carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, carbon-germanium bond cleavage, and carbon-hydrogen. This may be accompanied by cleavage of the bond.
[0176]
The type 2 compound is a compound having two or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.
[0177]
A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).
[0178]
General formula (C)
Embedded image

[0179]
The compound represented by the general formula (C) is RED₂After the reducing group represented by₂It is a compound that can release one more electron with this by leaving the group by bond cleavage reaction.
[0180]
In the general formula (C), RED₂Is the RED of the general formula (B)₁₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. L₂Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same group as described above, and its preferred range is also the same. L₂When represents a silyl group, the compound is a compound having, as an adsorptive group, a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups in the molecule. R₂₁, R₂₂Represents a hydrogen atom or a substituent, and these are R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. RED₂And R₂₁And may be bonded to each other to form a ring structure.
[0181]
The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent. However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle. The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, 2-pyrroline ring, 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like, preferably 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzoimidazoline ring, benzothiazoline ring, Benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquinolyl Ring, 1,2-dihydro-quinazoline ring, and the like 1,2-dihydro-quinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, a benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring is more preferable, indoline ring is particularly preferred.
[0182]
Next, the compound of type 3 will be described.
In the type 3 compound, “bond formation process” means formation of an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like.
[0183]
The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.
[0184]
More specifically, a type 3 compound has a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation (a cation radical species or a neutral radical species produced by elimination of a proton therefrom) in the same molecule. It reacts with the coexisting reactive group, forms a bond, and generates a radical species having a new ring structure in the molecule. This radical species is characterized in that the second electron is emitted directly or with proton desorption.
And in some Type 3 compounds, the two-electron oxidant so produced is then subjected to a hydrolysis reaction in some cases, and in some cases tautomerization with direct proton transfer. There is a case in which one or more electrons, usually two or more electrons are emitted from the oxidization reaction. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, directly from a two-electron oxidant without going through such a tautomerization reaction are also included.
[0185]
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).
[0186]
Formula (D)
Embedded image

[0187]
In general formula (D), RED₃Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, Y₃Is RED₃Represents a reactive group site that reacts after one-electron oxidation, specifically a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocycle An organic group containing a ring group site is represented. L₃Is RED₃And Y₃Represents a linking group for linking.
[0188]
RED₃Is the RED of the general formula (B)₁₂And is preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group (particularly a nitrogen-containing heterocyclic group is preferred). And more preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, a tetrahydroquinoline ring group, a tetrahydroquinoxaline ring group, a tetrahydroquinazoline ring Group, indoline ring group, indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoimidazoline ring group, Benzothiazoline ring group, 3,4-methylenedioxyphenyl-1- Etc. Le group.
RED₃Particularly preferred are an arylamino group (particularly anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), and an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.
[0189]
Where RED₃When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. The “electron donating group” is the same as described above.
[0190]
RED₃When represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0191]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon double bond site represented by (for example, vinyl group) has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, A carbamoyl group, an electron donating group, and the like. As the electron donating group, an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group, such as a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, Phenylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, phenyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group, alkylamino group, arylamino group, sulfonamide group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and these electron donors It is a phenyl group having a functional group as a substituent.
[0192]
Here, when the organic group containing a carbon-carbon double bond site has a hydroxy group as a substituent, Y₃Is the partial structure on the right:> C₁= C₂(—OH) — is included, but this is tautomerized and the partial structure shown on the right:> C₁HC₂It may be (= O)-. In this case, the C₁It is also preferred that the substituent substituted for carbon is an electron withdrawing group, in which case Y₃Has a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”. The electron-attracting group that can give such a partial structure of an active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above-mentioned “active methine group”.
[0193]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon triple bond site represented by (for example, ethynyl group) has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an electron donating group. preferable.
[0194]
Y₃Is an aryl group having an electron donating group as a substituent (especially a phenyl group is preferred) or an indole ring group, wherein the electron donating group is an aromatic group. Preferred are a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group and a mercapto group.
[0195]
Y₃Represents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group portion of a benzo-fused ring, preferably a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group that preferably has an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like can be mentioned.
[0196]
Y₃More preferred as the reactive group represented by is an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group. More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure. Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.
[0197]
Y₃As a result of the selection of the reactive group represented by₃The case where it has the same partial structure as the reducing group represented by general formula (D) is also a preferred example of the compound represented by general formula (D).
[0198]
L₃RED₃And Y₃And specifically represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR._N-, -C (= O)-, -SO₂A group consisting of a single group of —, —SO—, and —P (═O) — or a combination of these groups is represented. R here_NRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. L₃The linking group represented by may have an arbitrary substituent. L₃The linking group represented by RED₃And Y₃In any position of the group represented by the formula (1), each of the hydrogen atoms may be linked to replace any one hydrogen atom.
L₃Preferred examples of are: a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, an —NH— group, -N (alkyl group)-group and the bivalent coupling group which consists of a combination of these groups are mentioned.
[0199]
L₃The group represented by₃Cation radical species (X⁺.), Or a radical species (X.) generated from the proton withdrawn therefrom, and Y₃When the reactive group represented by the above reacts to form a bond, the atomic group involved in this reaction is L₃It is preferable that a 3-7 membered cyclic structure including can be formed. For this purpose, radical species (X⁺-Or X.), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.
[0200]
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group. After the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted with a ring structure cleavage reaction. Compound. The ring structure cleavage reaction referred to here means one having the following form.
[0201]
Embedded image

[0202]
In the formula, compound a represents a type 4 compound. In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, the compound a is one-electron oxidized to produce a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring-opening body e may be similarly generated therefrom. These compounds are characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
[0203]
The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring and an azetidine ring, and particularly preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring and an azetidine ring. The ring structure may have an arbitrary substituent.
[0204]
The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).
[0205]
General formula (E)
Embedded image

[0206]
Formula (F)
Embedded image

[0207]
RED in general formula (E) and general formula (F)₄₁And RED₄₂Are respectively RED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same. R₄₀~ R₄₄And R₄₅~ R₄₉Each represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (F), Z₄₂Is -CR₄₂₀R₄₂₁-, -NR₄₂₃-Represents O or O-. R here₄₂₀, R₄₂₁Each represents a hydrogen atom or a substituent, and R₄₂₃Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0208]
R in general formula (E) and general formula (F)₄₀And R₄₅Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R₄₁~ R₄₄And R₄₆~ R₄₉And preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an arylthio group, an alkylthio group, an acylamino group, or a sulfonamide group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. is there.
[0209]
R₄₁~ R₄₄In which at least one of these is a donor group and R₄₁And R₄₂Or R₄₃And R₄₄Are preferably electron withdrawing groups. More preferably R₄₁~ R₄₄This is a case where at least one of the above is a donor group. More preferably R₄₁~ R₄₄At least one of them is a donor group and R₄₁~ R₄₄In this case, the group that is not a donor group is a hydrogen atom or an alkyl group.
[0210]
The donor group mentioned here is an “electron-donating group” or an aryl group substituted with at least one “electron-donating group”. The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron-rich aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with an atom or a phenyl group substituted with at least one electron-donating group is used. More preferably, it is an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-excessive aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring (indole ring, pyrrole ring, carbazole ring, etc. ), A phenyl group substituted with an electron donating group (such as a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group). Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-containing electron-rich aromatic heterocyclic group (particularly a 3-indolyl group) or an electron donating group containing at least one nitrogen atom in the ring is substituted. A phenyl group (particularly a phenyl group substituted with a trialkoxyphenyl group, an alkylamino group or an arylamino group) is used.
[0211]
Z₄₂Preferably as -CR₄₂₀R₄₂₁-Or NR₄₂₃-, More preferably -NR₄₂₃-. R₄₂₀, R₄₂₁Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group, or a sulfoneamino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R₄₂₃Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
[0212]
R₄₀~ R₄₉And R₄₂₀, R₄₂₁, R₄₂₃When each of these groups is a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and particularly preferably 15 or less. These substituents may be bonded to each other or other sites in the molecule (RED₄₁, RED₄₂Or Z₄₂) To form a ring.
[0213]
In the compounds of types 1 to 4 in the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide, or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, A heterocyclic group containing at least one atom selected from a mercapto group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, and a cationic group Or an ethynyl group. However, the type 2 compound in the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
[0214]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺And the like, ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions, and the like.
[0215]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0216]
The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
[0217]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a partial structure of a heterocyclic ring, which can form an imino silver (> NAg) A nitrogen-containing heterocyclic group, or a '-S-' group, a '-Se-' group, a '-Te-' group, or a '= N-' group that can coordinate to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group, selenoa Lumpur group, benz seleno azole group, tellurium azole group, such as benz tellurium azole group. The former is preferred.
[0218]
The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
[0219]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore). Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or an acylamino group. , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
[0220]
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
[0221]
Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
[0222]
Preferred as the adsorptive group in the present invention is a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. Particularly preferred are a 5-mercaptotetrazole group, a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and a benzotriazole group, and most preferred are a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
[0223]
Among these compounds, compounds having two or more mercapto groups as partial structures in the molecule are also particularly preferable compounds. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Examples of such compounds include the above-described adsorptive groups having a mercapto group or thione group as a partial structure (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group) in the molecule. Or an adsorbing group having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group). You may have one or more.
[0224]
Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, 5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s -Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-di And mercaptopyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, etc., 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, - dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.
[0225]
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted.
[0226]
The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing the chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Includes styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Research Disclosure or F.I. M.M. One of ordinary skill in the art can synthesize these dyes by the procedure described in Hammer's The Cyanines and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Further, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.
[0227]
The compounds of types 1 to 4 in the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 15-50, More preferably, it is 18-40, Most preferably, it is 18-30.
[0228]
The compounds of types 1 to 4 in the present invention are subjected to one-electron oxidation triggered by the exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, one more electron or two or more electrons depending on the type Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
[0229]
Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
[0230]
In the case where the compounds of types 1 to 4 in the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V--2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
[0231]
In the case where the compound of type 1 to 4 in the present invention is a compound which is oxidized by one electron and then emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
[0232]
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted. The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.
[0233]
Embedded image

[0234]
The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.
[0235]
The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).
[0236]
General formula (G)
Embedded image

[0237]
In general formula (G), RED₀Represents a reducing group, L₀Represents a leaving group, R₀And R₀₀Represents a hydrogen atom or a substituent. RED₀And R₀And R₀And R₀₀And may be bonded to each other to form a ring structure. RED₀Is RED of general formula (C)₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Is R in the general formula (C)₂₁And R₂₂The preferred range is also the same. However, R₀And R₀₀Except for the hydrogen atom, L₀Does not represent the same group as RED₀And R₀May be bonded to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure include RED of the general formula (C).₂And R₂₁Examples are the same as in the case of linking to form a ring structure, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Examples of the ring structure formed by bonding to each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring. In general formula (G), L₀Is L in the general formula (C)₂The preferred range is also the same.
[0238]
The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorbing group to silver halide or a partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule.₀When represents a group other than a silyl group, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time. However, the sulfide group as the adsorptive group here is L₀You may have two or more regardless of this.
[0239]
Examples of the adsorptive group to the silver halide which the compound represented by the general formula (G) has are the same as the adsorptive groups which the compounds of types 1 to 4 in the present invention may have. In addition, all those described as “silver halide adsorbing groups” on pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 in the present invention may have. However, at the same time, all those described as “light-absorbing groups” on pages 7 to 14 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
[0240]
Although the specific example of the compound of the types 1-5 in this invention is enumerated below, this invention is not limited to these.
[0241]
Embedded image

[0242]
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[0243]
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[0244]
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[0245]
The compounds of types 1 to 4 in the present invention are described in detail in Japanese Patent Application No. 2002-192373, Japanese Patent Application No. 2002-188537, Japanese Patent Application No. 2002-188536, Japanese Patent Application No. 2001-272137, and Japanese Patent Application No. 2002-192374, respectively. Same as described compound. Specific examples of compounds described in these patent application specifications can also be given as specific examples of compounds of types 1 to 4 in the present invention. Moreover, the synthesis example of the type 1-4 compound in this invention is also the same as what was described in these patents.
[0246]
Specific examples of the compound of type 5 in the present invention are further described in JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28-32) and JP-A-9-211174. JP-A-11-95355 (compounds INV1-36), JP-T-2001-99696 (compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747, No. 236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Examples of compounds referred to as “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.
[0247]
The compounds of types 1 to 5 in the present invention may be used at any time during the production process of the photothermographic material when preparing the photosensitive silver halide emulsion. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.
[0248]
The compounds of types 1 to 5 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is raised or lowered may be dissolved at a higher or lower pH and added.
[0249]
The compounds of types 1 to 5 in the present invention are preferably used in an image forming layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer or intermediate layer together with the image forming layer to be contained and diffused during coating. The timing of addition of these compounds is preferably before or after the sensitizing dye, and preferably 1 × 10 5 per mole of silver halide.^-9~ 5x10^-1Mole, more preferably 1 × 10^-8~ 5x10^-2It is contained in the silver halide emulsion layer in a molar ratio.
[0250]
(Development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in JP-A-2001-92075, general formula (I) described in JP-A-10-62895, JP-A-11-15116, and the like, A hydrazine-based compound represented by general formula (D) of JP-A No. 2002-156727 or general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017, and described in JP-A No. 2001-264929 A phenolic or naphtholic compound represented by the general formula (2) is preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 to 10 mol%, more preferably in the range of 1 to 5 mol%. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsified dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the development accelerators described above, hydrazine compounds represented by the general formula (D) described in JP-A No. 2002-156727 and those described in JP-A No. 2001-264929 A phenol-based or naphthol-based compound represented by the formula (2) is more preferable.
[0251]
Particularly preferred development accelerators of the present invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q₁-NHNH-Q₂
(Where Q₁Is a carbon atom -NHNH-Q₂Represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to₂Represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group. )
[0252]
In general formula (A-1), Q₁The aromatic group or heterocyclic group represented by is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, thiophene ring, etc. are preferable, and these Also preferred are fused rings in which the rings are fused together.
[0253]
These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.
[0254]
Q₂Is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N -Sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3- ( 2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxy) Carbonyl Eniru) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.
[0255]
Q₂Is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2-hexyl. Examples include decanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, and 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyl. Examples include oxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.
[0256]
Q₂Is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxymethylphenoxy. Examples include carbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3-dodecyl. Examples include oxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.
[0257]
Q₂Is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, or N- (2-ethylhexyl). Sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl. Q₂In the group represented by₁May have the groups mentioned as examples of the substituents of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by the formula (1), and when they have two or more substituents, these substituents are the same. Or different.
[0258]
Next, a preferable range of the compound represented by formula (A-1) is described. Q₁Is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1 , 2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these rings are benzene More preferred is a ring fused to a ring or an unsaturated heterocycle. Q₂Is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.
[0259]
Formula (A-2)
[0260]
Embedded image

[0261]
In the general formula (A-2), R₁Represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R₂Represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate group. R₃, R₄Each represents a group capable of substituting for the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R₃And R₄May be linked together to form a condensed ring.
R₁Is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, butyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, etc.), acylamino group (for example, acetylamino group, benzoylamino group, methylureido). Groups, 4-cyanophenylureido groups, etc.), carbamoyl groups (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) and acylamino groups (Including a ureido group and a urethane group) is more preferable. R2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, methoxy group, butoxy group, n-hexyloxy group, n-decyloxy group, cyclohexyloxy group, benzyloxy group, etc.), aryloxy A group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.).
R₃Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R₄Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferred substituents are R₁It is the same. R₄R is an acylamino group₄Is R₃It is also preferred to form a carbostyryl ring by linking with.
[0262]
In the general formula (A-2), R₃And R₄Are connected to each other to form a condensed ring, the naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphtholic compound, R₁Is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R₂Is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, particularly preferably an alkoxy group.
[0263]
Hereinafter, preferred specific examples of the development accelerator of the present invention will be given. The present invention is not limited to these.
[0264]
Embedded image

[0265]
(Phthalic acid and its derivatives)
In this invention, it is preferable to contain the compound chosen from a phthalic acid and its derivative with a silver iodide complex formation agent. As the phthalic acid and derivatives thereof used in the present invention, compounds represented by the following general formula (PH) are preferable.
[0266]
Embedded image

[0267]
In the formula, T represents a halogen atom (fluorine, bromine, iodine), an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or a nitro group, and k represents an integer of 0 to 4. When k is 2 or more, a plurality of k may be the same as or different from each other. k is preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
[0268]
The compound of the general formula (PH) may be used as it is, or may be used as an appropriate salt from the viewpoint of easy addition to the coating solution and pH adjustment. As the salt, an alkali metal salt, an ammonium salt, an alkaline earth metal salt, an amine salt, or the like can be used. Preference is given to alkali metal salts (Li, Na, K etc.) and ammonium salts.
[0269]
Specific examples of phthalic acid and derivatives thereof used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited to these compounds.
[0270]
Embedded image

[0271]
In the present invention, phthalic acid and its derivatives are 1.0 × 10 6 per mole of silver applied.^-4Mol to 1 mol, preferably 1.0 × 10^-3Mol to 0.5 mol, more preferably 2.0 × 10^-3Mol to 0.2 mol.
[0272]
(Description of organic silver salt)
The non-photosensitive organic silver salt used in the present invention is relatively stable to light, but when heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. A silver salt that forms a silver image. The organic silver salt may be any organic material containing a source capable of reducing silver ions. Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the organic silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. In the present invention, among these organic silver salts, it is preferable to use organic acid silver having a silver behenate content of 50 mol% to 100 mol%. In particular, the silver behenate content is preferably 75 mol% or more and 98 mol% or less.
[0273]
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, or a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic silver salt was observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped were designated as a, b, and c from the shortest side (even though c was the same as b) Good)), and calculate with the shorter numbers a and b, and find x as follows.
x = b / a
[0274]
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
[0275]
In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, still more preferably 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or more and 2 or less.
[0276]
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes, respectively. Indicates the following. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method of obtaining from the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.
[0277]
Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-163711, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-163827. JP-A-2001-163889-90, JP-A-11-203413, Japanese Patent Application Nos. 2000-90093, 2000-195621, 2000-191226, 2000-213813, 2000-214155, 2000-. Reference may be made to 191226 and the like.
[0278]
In the present invention, a photosensitive material can be produced by mixing an organic silver salt water dispersion and a photosensitive silver salt water dispersion. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.
[0279]
The organic silver salt in the present invention can be used in a desired amount, but the amount of silver is 0.1 to 5 g / m.²Is preferable, and more preferably 1 to 3 g / m.²It is. Particularly preferably 1.2 to 2.5 g / m²It is.
[0280]
(Description of reducing agent)
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for organic silver salt. The reducing agent may be any substance (preferably an organic substance) that can reduce silver ions to metallic silver. Examples of the reducing agent are disclosed in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0043 to 0045, European Patent No. 0803764, p. 7, 34-p. 18 and 12 lines.
[0281]
A preferable reducing agent used in the present invention is a so-called hindered phenol reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, or a bisphenol reducing agent. Particularly preferred are compounds represented by the following general formula (R).
[0282]
Formula (R)
Embedded image

[0283]
In general formula (R), R¹¹And R¹¹Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a substituent capable of substituting for a benzene ring. L is a -S- group or CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
[0284]
Each substituent will be described in detail.
1) R¹¹And R¹¹’
R¹¹And R¹¹Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group Group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, ester group, halogen atom and the like.
[0285]
2) R¹²And R¹²', X¹And X¹’
R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
Preferred examples of each group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.
[0286]
3) L
L is a -S- group or CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent.
R¹³Specific examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group and the like. .
[0287]
Examples of substituents for alkyl groups are R¹¹In the same manner as the above substituent, a halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group and the like can be mentioned.
[0288]
4) Preferred substituents
R¹¹And R¹¹'Is preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, A cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like can be mentioned. R¹¹And R¹¹'Is more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, among which a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable.
[0289]
R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methyl group. Examples include cyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
[0290]
X¹And X¹'Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0291]
L is preferably -CHR¹³-Group.
[0292]
R¹³Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. R¹³Particularly preferred is a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group or an isopropyl group.
[0293]
R¹³R is a hydrogen atom, R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
[0294]
R¹³Is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R¹²And R¹²'Is preferably a methyl group. R¹³As the primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, or a propyl group is still more preferable.
[0295]
R¹¹, R¹¹'And R¹², R¹²When both are methyl groups,¹³Is preferably a secondary alkyl group. In this case, R¹³As the secondary alkyl group, isopropyl group, isobutyl group, and 1-ethylpentyl group are preferable, and isopropyl group is more preferable.
[0296]
The reducing agent is R¹¹, R¹¹'And R¹²And R¹²'And R¹³Depending on the combination, various heat development performances differ. Since these heat development performances can be prepared by using two or more reducing agents in combination at various mixing ratios, it is preferable to use two or more reducing agents in combination depending on the purpose.
[0297]
Specific examples of the reducing agent including the compound represented by the general formula (R) according to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0298]
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[0299]
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[0300]
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[0301]
Particularly preferred are compounds as shown in (R-1) to (R-20).
[0302]
In the present invention, the reducing agent is added in an amount of 0.01 to 5.0 g / m.²Preferably, 0.1 to 3.0 g / m²More preferably, it is contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer.
[0303]
The reducing agent according to the present invention can be added to an image forming layer containing an organic silver salt and a photosensitive silver halide, and an adjacent layer thereof, but is more preferably contained in the image forming layer.
[0304]
The reducing agent according to the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
[0305]
Well-known emulsification dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying the dispersion. The method of producing is mentioned.
[0306]
Further, as the solid fine particle dispersion method, there is a method in which a reducing agent is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. Can be mentioned. A dispersion method using a sand mill is preferable. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. The aqueous dispersion can contain a preservative (eg, benzoisothiazolinone sodium salt).
[0307]
Particularly preferable is a solid particle dispersion method of a reducing agent, and it is preferable to add fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm. In the present invention, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in this range of particle sizes.
[0308]
(Description of hydrogen bonding compounds)
In the present invention, it is also possible to use an aromatic hydroxyl group (—OH) of the reducing agent or a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with the amino group when it has an amino group. It is.
[0309]
Examples of the group capable of forming a hydrogen bond include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
[0310]
In the present invention, particularly preferred hydrogen bonding compounds are compounds represented by the following general formula (D).
[0311]
Formula (D)
Embedded image

[0312]
R in general formula (D)²¹Or R²³Each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted or may have a substituent.
[0313]
R²¹Or R²³In the case where has a substituent, the substituent is a halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, acyl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfonamido group, acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl Group, sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like. Preferred as substituents are alkyl groups or aryl groups such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like can be mentioned.
[0314]
R²¹Or R²³Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, and 1-methylcyclohexyl group. Benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group, and the like.
[0315]
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
[0316]
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
[0317]
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
[0318]
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
[0319]
R²¹Or R²³Are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In terms of the effect of the present invention, R²¹Or R²³Of these, at least one is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Also, R can be obtained at a low price.²¹Or R²³Are preferably the same group.
[0320]
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0321]
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[0322]
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[0323]
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-156727, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-318431.
[0324]
The hydrogen bonding compound in the present invention can be used in a light-sensitive material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. These compounds form a complex by hydrogen bonding with a compound having a phenolic hydroxyl group in a solution state, and are isolated in a crystalline state as a complex depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (A) in the present invention. can do.
[0325]
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the hydrogen bonding compound in the present invention are mixed in a powder form, and a complex is formed at the time of dispersion by a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
[0326]
The hydrogen bonding compound in the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably in the range of 30 to 100 mol% with respect to the reducing agent. It is a range.
[0327]
(Description of binder)
The binder of the organic silver salt-containing layer in the present invention may be any polymer, and suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, natural resins and polymers and copolymers, synthetic resins and polymers and copolymers, etc. Film-forming media such as gelatins, rubbers, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) ), Poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers , Poly (vinyl acetals) (e.g., poly (vinyl Nylformal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethanes), phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be formed from water, an organic solvent or an emulsion.
[0328]
In the present invention, the glass transition temperature of the binder of the layer containing the organic silver salt is preferably 10 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. to 70 ° C., and 23 ° C. or higher and 65 ° C. or lower. More preferably.
[0329]
In this specification, Tg is calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
[0330]
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the weight fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n.
As the transition temperature value (Tgi) of the homopolymer glass of each monomer, the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)) was adopted.
[0331]
The polymer used as the binder may be used alone or in combination of two or more as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended, the weight average Tg is preferably within the above range.
[0332]
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further added to an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium water content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH.
The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of performing purification treatment using a separation functional membrane after polymer synthesis.
[0333]
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water and 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent.
Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ethyl acetate, and dimethylformamide.
[0334]
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the weight W1 of the polymer in the humidity-controlled equilibrium under the atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the weight W0 of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = {(W1−W0) / W0} × 100 (mass%)
For the definition and measurement method of moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Society of Polymer Sciences, Jinshokan) can be referred to.
[0335]
The equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer in the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and still more preferably 0.02%. Desirably, the content is from 1% by mass to 1% by mass.
[0336]
The binder in the present invention is particularly preferably a polymer that can be dispersed in an aqueous solvent. Examples of the dispersed state include latex in which fine particles of a water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed and polymer molecules in which a molecular state or micelle is dispersed, and all are preferable. The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
[0337]
In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
[0338]
These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable.
[0339]
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
[0340]
Latex of P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg 61 ° C.)
Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg 59 ° C.)
P-3; latex of -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
Latex of P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 17 ° C.)
Latex of P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 24 ° C.)
Latex of P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-(crosslinkability)
Latex of P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg 29 ° C.)
P-8; Latex (crosslinkable) of -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-
Latex (crosslinkability) of P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-
P-10; latex of VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-(molecular weight 80000)
P-11; latex of VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-(molecular weight 67000)
Latex of P-12; -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
P-13; Latex of -St (70) -2EHA (27) -AA (3) (molecular weight 130000, Tg 43 ° C)
P-14; latex of MMA (63) -EA (35) -AA (2) (molecular weight 33000, Tg 47 ° C.)
Latex of P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 23 ° C.)
Latex of P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 20.5 ° C)
[0341]
The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; Methyl methacrylate, EA; Ethyl acrylate, MAA; Methacrylic acid, 2EHA; 2-Ethylhexyl acrylate, St; Styrene, Bu; Butadiene, AA; Acrylic acid, DVB; Divinylbenzene, VC; Vinyl chloride, AN; Acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
[0342]
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters) include, for example, poly (urethanes) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (more made by Eastman Chemical). Examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (made by Nippon Zeon Co., Ltd.) However, examples of poly (vinyl chloride) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of poly (vinylidene chloride) include L502 and L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
[0343]
As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. The preferred molecular weight range is the same as described above.
[0344]
Examples of the latex of styrene-butadiene copolymer that is preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-8, 14, and 15, commercially available LACSTAR-3307B and 7132C, and Nipol Lx416.
[0345]
If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention.
[0346]
The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
[0347]
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) in the present invention is preferably formed using a polymer latex as a binder. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is preferably such that the weight ratio of total binder / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1.
[0348]
Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (image forming layer or emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The binder / silver halide weight ratio is preferably in the range of 400-5, more preferably 200-10.
[0349]
The total binder amount of the image forming layer in the present invention is 0.2 to 30 g / m.², More preferably 1-15 g / m²The range of is preferable. In the image forming layer of the present invention, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added.
[0350]
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent is more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
[0351]
Specific examples of the preferred solvent composition include water 100, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl. Alcohol / ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are mass%).
[0352]
(Description of antifogging agent)
The present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (H) as an antifoggant.
[0353]
Formula (H) Q- (Y) n-C (Z₁) (Z₂) X
[0354]
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z₁And Z₂Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
[0355]
Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-attracting group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to.
[0356]
Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic / aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group.
The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0.
[0357]
Preferred as the electron withdrawing group are a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an alkylphosphoryl group, a carboxyl group, an alkyl or arylcarbonyl group, and an arylsulfonyl group, and particularly preferably a carbamoyl group and an alkoxycarbonyl group. , An alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and a carbamoyl group is most preferred.
[0358]
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom.
Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
[0359]
Y is preferably -C (= O)-, -SO- or SO₂-, More preferably -C (= O)-, -SO₂-, Particularly preferably -SO₂-. n represents 0 or 1, and is preferably 1.
[0360]
Although the specific example of the compound of general formula (H) in this invention is shown below, this invention is not limited to these.
[0361]
Embedded image

[0362]
Embedded image

[0363]
The compound represented by the general formula (H) in the present invention is 10 per mole of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer.^-4It is preferable to use in the range of ~ 0.8 mol, more preferably 10^-3In the range of ~ 0.1 mol, more preferably 5 × 10^-3It is preferable to use in the range of ˜0.05 mol.
In particular, when a silver halide having a high silver iodide content in the present invention is used, the addition amount of the compound of the general formula (H) is important in order to obtain a sufficient antifogging effect. 10^-3Most preferably, it is used in the range of ˜0.03 mol.
[0364]
In the present invention, examples of the method for incorporating the compound represented by the general formula (H) into the photosensitive material include the methods described in the method for containing a reducing agent.
[0365]
The melting point of the compound represented by the general formula (H) is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower.
[0366]
Other organic polyhalides used in the present invention include those disclosed in the patents described in paragraph Nos. 0111 to 0112 of JP-A No. 11-65021. In particular, an organic halogen compound represented by the formula (P) of Japanese Patent Application No. 11-87297, an organic polyhalogen compound represented by the general formula (II) of Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-339934, and Japanese Patent Application No. 11-205330 The organic polyhalogen compounds described are preferred.
[0367]
(Description of other antifoggants)
Examples of other antifoggants include mercury (II) salts described in JP-A No. 11-65021, paragraph number 0113, benzoic acids described in paragraph No. 0114, salicylic acid derivatives disclosed in JP-A No. 2000-206642, and formulas described in JP-A No. 2000-221634. A formalin scavenger compound represented by (S), a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by formula (III) of JP-A-6-11791, 4-hydroxy-6-6 Examples include methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene.
[0368]
Antifoggant, stabilizer and stabilizer precursor that can be used in the present invention described in paragraph No. 0070 of JP-A No. 10-62899, page 20, line 57 to page 21, line 7 of European Patent No. 0803764A1 Patented compounds and compounds described in JP-A Nos. 9-281737 and 9-329864 can be mentioned.
[0369]
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the light-sensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the image forming layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer.
[0370]
The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
[0371]
In the present invention, any amount of the azolium salt may be added, but 1 × 10 10 per silver mole.^-6Preferred is 1 to 10 moles.^-3More preferably, it is at least 0.5 moles.
[0372]
(Description of other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development to control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. JP-A-10-62899, paragraphs 0067 to 0069, JP-A-10-186572, the compound represented by the general formula (I) and specific examples thereof include paragraphs 0033 to 0052, EP 080376A1, No. 20 pages, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100388, JP-A-2002-303955, JP-A-2002-303951, and the like are preferable. .
[0373]
2) Color preparation
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to add a color toning agent. For the color toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A No. 10-62899, p. Lines 21, 23 to 48, JP-A No. 2000-356317 and Japanese Patent Application No. 2000-187298, and in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, A combination of diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6 -T-Butylphthalazine, 6-chlorophthale Gin, 5.7-dimethoxyphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine), and particularly in combination with silver halide having a high silver iodide content, the combination of phthalazines and phthalic acids is preferable.
[0374]
The amount of phthalazine added is preferably 0.01 to 0.3 mol, more preferably 0.02 to 0.2 mol, particularly preferably 0.02 to 0.1 mol, per mol of the organic silver salt. It is. This addition amount is an important factor in the acceleration of development, which is a problem with silver halide emulsions having a high silver iodide content as in the present invention, and sufficient development can be achieved by selecting an appropriate addition amount. Compatibility with low fog is possible.
[0375]
3) Plasticizer, lubricant
A plasticizer and a lubricant that can be used in the image forming layer in the invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.
[0376]
4) Dyes and pigments
In the image forming layer of the present invention, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 64, C.I. Pigment Blue 64, C.I. I. Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.
[0377]
5) Ultra-high contrast agent
In order to form an ultrahigh contrast image suitable for printing plate making applications, it is preferable to add an ultrahigh contrast agent to the image forming layer. As for the ultrahigh contrast agent and its addition method and addition amount, the formulas of JP-A-11-65021, paragraph No. 0118, JP-A-11-223898, paragraphs 0136 to 0193, and Japanese Patent Application No. 11-87297 ( H), compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: Chemical Formula 21 to Chemical Formula 24) and the high contrast accelerator are described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.
[0378]
In order to use a substance that decomposes and generates formic acid or formate as a strong fogging substance, it is 5 mmol or less per 1 mol of silver on the side having an image forming layer containing photosensitive silver halide, and further 1 mmol or less. It is preferable to contain.
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, ammonium hexametaphosphate and the like.
Amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (photosensitive material 1 m²The coating amount per unit) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but 0.1 to 500 mg / m²Is preferably 0.5 to 100 mg / m²Is more preferable.
[0379]
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution in the present invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
[0380]
2. Layer structure and other components
The photothermographic material of the present invention may be a “single-sided type” having an image forming layer only on one side of a support, or a double-sided type having image forming layers on both sides.
[0381]
(Double-sided photothermographic material)
The double-sided photothermographic material in the invention can be preferably used in an image forming method for recording an X-ray image using an X-ray intensifying screen.
The image forming method using the double-sided photothermographic material preferably includes at least the following steps.
(A) obtaining the image forming assembly by placing the photothermographic material between a pair of X-ray intensifying screens;
(B) placing a subject between the assembly and the X-ray source;
(C) irradiating the subject with X-rays having an energy level of 25 kVp or more and 125 kVp or less;
(D) removing the photothermographic material from the assembly;
(E) A step of heating the taken photothermographic material at 90 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.
[0382]
The photothermographic material used in the assembly of the present invention is an image obtained by performing stair exposure with X-rays, and the image obtained by heat development on orthogonal coordinates having the same optical axis (D) and exposure amount (log E) coordinate axis unit length. In the characteristic curve, the average gamma (γ) formed by the point of minimum density (Dmin) + density 0.1 and the point of minimum density (Dmin) + density 0.5 is 0.5 to 0.9, and A characteristic curve having an average gamma (γ) value of 3.2 to 4.0 formed by a point of minimum density (Dmin) + density 1.2 and a point of minimum density (Dmin) + density 1.6 is provided. It is preferably prepared. When a photothermographic material having such a characteristic curve is used in an X-ray imaging system, X-rays having excellent photographic characteristics such that the legs of the characteristic curve are extremely extended and the gamma value is high in the middle density portion. An image is obtained. Due to this photographic characteristic, the description of the low density region such as the mediastinum with a small amount of X-ray transmission and heart shadow is good, and the density becomes easy to see even in the image of the lung field with a large amount of X-ray transmission. In addition, there is an advantage that the contrast becomes good.
When photographing soft tissue, it is preferable to photograph using X-rays with a tube voltage of 40 kV or less. More preferably, it is an X-ray of 35 kV or less. When such a tube voltage is used, the soft tissue can be photographed as an image that can be easily seen.
[0383]
The photothermographic material having the preferable characteristic curve as described above can be easily obtained by, for example, a method in which each of the image forming layers on both sides is composed of two or more silver halide emulsion layers having different sensitivities. Can be manufactured. In particular, it is preferable to form an image forming layer using a high-sensitivity emulsion for the upper layer and an emulsion having low sensitivity and high photographic characteristics for the lower layer. When such an image forming layer comprising two layers is used, the difference in sensitivity of the silver halide emulsions between the respective layers is 1.5 to 20 times, preferably 2 to 15 times. The ratio of the amount of emulsion used to form each layer varies depending on the sensitivity difference and covering power of the emulsion used. In general, the larger the sensitivity difference, the lower the usage ratio of the emulsion on the high sensitivity side. For example, when the difference in sensitivity is double, the preferable ratio of each emulsion is 1:20 or more and 1:50 or less as a high-sensitivity emulsion and a low-sensitivity emulsion in terms of silver when the covering power is almost equal. It is adjusted to be a range value.
[0384]
There are no particular restrictions on the emulsion sensitization method, various additives, constituent materials, etc. used in the production of the photothermographic material of the present invention. For example, JP-A-2-68539, JP-A-2-103737, In addition, various techniques described in JP-A-2-115837 can be used.
[0385]
The technique of crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material) is described in JP-A-2-68539, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column, line 9. Dyes or dyes and mordants can be used.
[0386]
The sensitivity of the double-sided photothermographic material will be described.
Using an X-ray intensifying screen, exposure is performed using X-rays having the same wavelength as the main emission peak wavelength of the X-ray intensifying screen and a half-value width of 15 ± 5 nm as a light source. As a method for obtaining such light, a method using a filter system combined with an interference filter can be used. According to this method, although depending on the combination of interference filters, it is usually possible to easily obtain light having a necessary exposure amount and a half width of 15 ± 5 nm.
Using the illuminometer that has been corrected in advance, the light beam whose illuminance is correctly measured is used as a light source, and a photosensitive material 1 m away is exposed through a step wedge of a neutral filter for 1 second.
After the heat development treatment, the image density obtained by removing the image forming layer on the opposite side of the exposure surface relative to the support is measured, and the exposure amount at which fog + density 0.5 is obtained is measured. Sensitivity is required. Sensitivity can be expressed in lux seconds. In order to remove the image forming layer, it can be removed with an organic solvent such as acetone, DMF, and MEK.
[0387]
The sensitivity of the double-sided photothermographic material in the invention is preferably from 0.005 lux · sec to 0.07 lux · sec. More preferably, it is 0.007 lux · second or more and 0.05 lux · second or less.
[0388]
Next, the fluorescent intensifying screen (radiation intensifying screen) in the present invention will be described. The radiation intensifying screen includes, as a basic structure, a support and a phosphor layer formed on one side thereof. The phosphor layer is a layer in which a phosphor is dispersed in a binder. In general, a transparent protective film is provided on the surface of the phosphor layer opposite to the support (the surface not facing the support), and the phosphor layer is chemically altered or Protects against physical shock.
[0389]
In the present invention, preferred phosphors include those shown below.
Tungstate phosphor (CaWO₄, MgWO₄, CaWO₄: Pb, etc.), terbium activated rare earth oxysulfide phosphor [Y₂O₂S: Tb, Gd₂O₂S: Tb, La₂O₂S: Tb, (Y, Gd)₂O₂S: Tb, (Y, Gd) O₂S: Tb, Tm, etc.], terbium-activated rare earth phosphate phosphors (YPO₄: Tb, GdPO₄: Tb, LaPO₄: Tb, etc.), terbium activated rare earth oxyhalide phosphors (LaOBr: Tb, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: Tb, Tm, LaOBr: Tb, GdOBr: Tb, GdOCl: Tb, etc.), thulium Activated rare earth oxyhalide phosphors (LaOBr: Tm, LaOCl: Tm, etc.), barium sulfate phosphors [BaSO₄: Pb, BaSO₄: Eu²⁺, (Ba, Sr) SO₄: Eu²⁺Etc.] Divalent europium-activated alkaline earth metal phosphate phosphor [(Ba₂PO₄)₂: Eu²⁺, (Ba₂PO₄)₂: Eu²⁺Etc.] Divalent europium activated alkaline earth metal fluoride halide phosphor [BaFCl: Eu²⁺, BaFBr: Eu²⁺, BaFCl: Eu²⁺, Tb, BaFBr: Eu²⁺, Tb, BaF₂・ BaCl ・ KCl: Eu²⁺, (Ba, Mg) F₂・ BaCl ・ KCl: Eu²⁺Etc.], iodide phosphors (CsI: Na, CsI: Tl, NaI, KI: Tl, etc.), sulfide phosphors [ZnS: Ag (Zn, Cd) S: Ag, (Zn, Cd) S: Cu, (Zn, Cd) S: Cu, Al, etc.], hafnium phosphate phosphors (HfP₂O₇However, the phosphor used in the present invention is not limited to these, and any phosphor that emits light in the visible or near ultraviolet region when irradiated with radiation can be used.
[0390]
The fluorescent intensifying screen used in the present invention is preferably filled with a phosphor with an inclined particle size structure. In particular, it is preferable to apply phosphor particles having a large particle size to the surface protective layer side, and to apply phosphor particles having a small particle size to the support side. The thing of a particle size has the preferable range of 10-30 micrometers.
[0390]
(Single-sided photothermographic material)
The single-sided photothermographic material of the present invention is particularly preferably used as a mammographic X-ray photosensitive material.
In the single-sided photothermographic material used for this purpose, it is important to design the contrast of the obtained image within an appropriate range.
[0392]
A method for obtaining the characteristic curve of the photothermographic material in the invention will be described. In mammography, exposure is usually performed with a Mo target tube that emits low-pressure X-rays.₂O₂Only when an intensifying screen using a phosphor composed of S: Tb is used, a characteristic curve is obtained by a method of changing an X-ray exposure amount by a distance method using X-rays generated from a tungsten target tube as a radiation source. Is substantially unchanged.
[0393]
Specifically, for this measurement, X-rays generated from a tungsten target tube operated at 50 kVp with three-phase power supply were transmitted through an aluminum plate having a thickness of 3 mm. A commercially available UM-Fine screen and a sensitive material to be measured were brought into close contact with each other and loaded into an ECMA cassette manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. In order from the X-ray tube, X-ray irradiation was performed by arranging the cassette top plate, film, and screen. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15.
[0394]
The exposed film is thermally developed under a predetermined condition. Thereafter, the density is measured, and the characteristic curve is obtained by taking the logarithm of the exposure dose of the irradiation on the horizontal axis and the optical density on the vertical axis. The contrast is obtained from the slope of the straight line connecting the density points of fog + 0.25 and fog + 2.0 (tan θ, where θ is the angle formed with the horizontal axis).
[0395]
Next, a method for measuring the sensitivity of the photosensitive material will be described. As the light source, monochromatic light having the same wavelength as the main emission peak wavelength of the X-ray intensifying screen used is used, as in the case of the double-sided photothermographic material. The exposure method is also the same as in the case of the double-sided photothermographic material. After the heat development processing, the density of the obtained image is measured, and the sensitivity of the photosensitive material is determined by measuring the exposure amount at which fog + density 0.5 is obtained.
[0396]
The sensitivity of the single-sided photothermographic material in the invention is preferably 0.01 lux · sec or more and 0.07 lux · sec or less. More preferably, it is 0.01 lux · second or more and 0.05 lux · second or less. The contrast is preferably 3.0 or more and 5.0 or less. In particular, when used for mammography, it is effective to be within the above range.
[0397]
The mammography intensifying screen used in the present invention will be described in detail below. The X-ray intensifying screen of the mammographic photographic assembly is required to have a higher resolution than that for breast diagnosis. Therefore, the resolution of the commercially available X-ray intensifying screen for mammography is increased by coloring the phosphor layer. However, such coloring cannot effectively extract emitted light by X-rays absorbed by the phosphor behind the X-ray incident surface. The X-ray intensifying screen according to the present invention provides a screen that obtains a necessary high sharpness after applying a phosphor capable of sufficiently absorbing X-rays without substantially coloring the phosphor layer. It is necessary.
[0398]
In order to achieve such a screen target, it is preferable that the particle size of the phosphor is not more than a certain size. The method for measuring the size of the phosphor can be measured by a Coulter counter method, observation with an electron microscope, or the like. The average sphere equivalent diameter of the phosphor size is preferably 1 μm or more and 5 μm or less. More preferably, it is 1 μm or more and 4 μm or less. This is not important in a mammography screen for staining a phosphor layer as in the prior art, but is important in the present invention.
[0399]
In order to increase the sharpness in such a screen, it is preferable that the binder has less binder in the weight ratio of the binder to the phosphor in the phosphor layer. The weight ratio of the binder / phosphor is preferably 1/50 or more and 1/20 or less, and more preferably 1/50 or more and 1/25 or less.
[0400]
As the binder, publicly known materials described in JP-A-6-75097, page 4, right column, line 45 to page 5, left column, line 10 can be used. It is preferable to use a thermoplastic elastomer at 150 ° C. alone or in combination with another binder polymer. In particular, in the case of a screen with a small amount of binder to increase the sharpness as in the present invention, the durability of the screen is deteriorated. Therefore, it is important to select a binder that can withstand this. As a solution, it is preferable to select a sufficiently flexible binder. It is also preferable to add a plasticizer or the like in the phosphor layer. Examples of thermoplastic elastomers include polystyrene, polyolefin, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, ethylene vinyl acetate, natural rubber, fluororubber, polyisoprene, chlorinated polyethylene, styrene-butadiene rubber, silicon rubber, and the like. . Of these, polyurethane is particularly preferable. It is also important to select a binder for the undercoat of the phosphor layer. An acrylic binder is preferably used.
[0401]
It is also preferable that the screen has a thin surface protective layer as long as scratch resistance and contamination resistance allow. The thickness of the surface protective layer is preferably 2 μm or more and 7 μm or less.
[0402]
The material of the surface protective layer can be a film of PET (particularly stretched type), PEN, nylon or the like. In addition, it is also preferable to form a surface protective film by dissolving a fluorine-based resin in a solvent and applying it from the viewpoint of preventing contamination. The preferred embodiment of the fluororesin is detailed in JP-A-6-75097, page 6, left column, line 4 to right column, line 43. In addition to the fluororesin, examples of the resin capable of forming the surface protective layer by the solvent coating type include polyurethane resin, polyacrylic resin, cellulose derivative, polymethyl methacrylate, polyester resin, and epoxy resin.
[0403]
In addition, a sufficiently high filling rate of the phosphor is important for obtaining a screen with high sensitivity and high sharpness. Specifically, the volume filling factor of the phosphor is preferably 60% or more and 80% or less. More preferably, it is 65% or more and 80% or less. Here, in order to keep the volume filling rate high with the fine particle phosphor as in the present invention, it is described in JP-A-6-75097, page 4, right column, line 29 to page 6, left column, line 1. A step of compressing the phosphor layer is preferably used.
[0404]
The phosphor used in the present invention is substantially Gd.₂O₂S: Tb is preferable. Here, substantially, the main component of the phosphor is Gd.₂O₂It means S: Tb, and an additive of about several percent for improving its performance, silica for modifying the surface, and the like can be preferably used. Further, instead of Gd, Y, La, and Lu can be mixedly used at a rate within about several tens of percent.
[0405]
In general, it is preferable that the phosphor has a high density because it effectively absorbs X-rays. As such a phosphor exhibiting preferable X-ray absorption ability in a radiation source used for mammography, Gd₂O₂S: In addition to Tb, YTaO₄And a variety of activators added as luminescent centers, CaWO₄BaFBr: Eu and the like.
[0406]
(Combination with ultraviolet fluorescent screen)
As an image forming method using the photothermographic material of the present invention, a method of forming an image by combining with a phosphor having a main peak preferably at 400 nm or less can be used. More preferably, a method of forming an image in combination with a phosphor having a main peak at 380 nm or less is preferable. Either a double-sided sensitive material or a single-sided sensitive material can be used as an assembly. As the screen having a main emission peak at 400 nm or less, the screens described in JP-A-6-11804 and WO93 / 01521 are used, but not limited thereto. As a technique of ultraviolet crossover cut (double-sided photosensitive material) and antihalation (single-sided photosensitive material), the technique described in JP-A-8-76307 can be used.
The photothermographic material in the invention preferably contains an ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, dyes described in JP-A No. 2002-328090 are particularly preferable.
[0407]
The photothermographic material of the invention can have a non-image forming layer in addition to the image forming layer. The non-image forming layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther from the support), (b) between the plurality of image forming layers, It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
[0408]
In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
[0409]
1) Surface protective layer
In the photothermographic material of the invention, a surface protective layer can be provided for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2001-348546.
[0410]
As the binder for the surface protective layer in the present invention, gelatin is preferable, but polyvinyl alcohol (PVA) is preferably used or used in combination. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used.
[0411]
Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
[0412]
Polyvinyl alcohol coating amount of protective layer (per layer) (support 1m²Per unit) as 0.3 to 4.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0413]
Total binder (including water-soluble polymer and latex polymer) coating amount of surface protective layer (per layer) (support 1m)²As per) 0.3 to 5.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0414]
2) Antihalation layer
In the photothermographic material of the present invention, the antihalation layer can be provided on the side farther from the exposure light source than the image forming layer. As for the antihalation layer, paragraph numbers 0123 to 0124 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
[0415]
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
[0416]
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decoloring dye and a base precursor to the non-image forming layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
[0417]
The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) measured at the target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.2-2. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.001 to 1 g / m.²Degree.
[0418]
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
[0419]
In thermal decoloration using such decoloring dyes and base precursors, substances that lower the melting point by 3 ° C. or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626 (for example, diphenylsulfone, 4-chlorophenyl, etc.) (Phenyl) sulfone) is preferably used in view of thermal decoloring properties.
[0420]
3) Back layer
The back layer applicable to the present invention is described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
[0421]
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-314535, and JP-A-01-61745. And JP-A No. 2001-100363. Such colorants are typically 0.1 mg / m²~ 1g / m²A back layer provided on the opposite side of the image forming layer is preferable as the layer to be added in the range of.
[0422]
4) Matting agent
In the present invention, it is preferable to add a matting agent to the surface protective layer and the back layer in order to improve transportability. Matting agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0126 to 0127.
Matting agent is photosensitive material 1m²When expressed in a coating amount per unit, preferably 1 to 400 mg / m², More preferably 5 to 300 mg / m²It is.
[0423]
Further, the matte degree of the emulsion surface may be any as long as a so-called stardust failure in which small white spots occur in the image area and light leakage occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less. It is preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily determined by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.
[0424]
In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
[0425]
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer, the layer functioning as the outermost surface layer of the photosensitive material, or a layer close to the outer surface, and also contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
[0426]
5) Polymer latex
A polymer latex can be added to the surface protective layer or the back layer in the present invention.
For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.
[0427]
The polymer latex is preferably used in an amount of 10% by mass to 90% by mass, particularly preferably 20% by mass to 80% by mass, based on the total binder (including the water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer or the back layer.
[0428]
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2.
[0429]
For the adjustment of the film surface pH, it is preferable to use an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, and a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or thermal development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. In addition, the measuring method of film surface pH is described in paragraph number 0123 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-2843997.
[0430]
7) Hardener
A hardener may be used for each layer such as the image forming layer, protective layer, and back layer in the present invention.
Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in “THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION” by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87. Chrome Alum, 2,4-Dichloro-6-hydroxy -S-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfonacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same, U.S. Pat. No. 4,281, Polyisocyanates such as 060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used. It is.
[0431]
The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation.
[0432]
Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi's “Liquid Mixing Technology” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0433]
8) Surfactant
Surfactants applicable to the present invention are described in paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021.
In the present invention, it is preferable to use a fluorochemical surfactant. Preferable specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the present invention, the use of a fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2000-206560 is particularly preferred.
[0434]
9) Antistatic agent
In the present invention, an antistatic layer containing various known metal oxides or conductive polymers may be provided. The antistatic layer may also serve as the above-described undercoat layer, back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. Regarding the antistatic layer, paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, paragraphs of JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, and paragraphs of JP-A No. 11-84573. The techniques described in Paragraph Nos. 0078 to 0084 of Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957 and JP-A-11-223898 can be applied.
[0435]
10) Support
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used.
[0436]
PEN can be preferably used as the support for the thermosensitive material used in combination with the ultraviolet light emitting screen. However, it is not limited to this. PEN is preferably polyethylene-2,6-naphthalate. The polyethylene-2,6-naphthalate referred to in the present invention is not limited as long as the repeating structural unit is substantially composed of an ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate unit. 6-naphthalene dicarboxylate as well as copolymers in which not more than 10%, preferably not more than 5% of the number of repeating structural units are modified with other components, and mixtures and compositions with other polymers. It is a waste.
[0437]
Polyethylene-2,6-naphthalate is synthesized by conjugating naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, or a functional derivative thereof, and ethylene glycol or a functional derivative thereof in the presence of a catalyst under suitable reaction conditions. However, one or more appropriate third components (modifiers) are added to the polyethylene-2,6-naphthalate referred to in the present invention before the completion of polymerization of the polyethylene-2,6-naphthalate. Copolymerized or mixed polyester may be used. Suitable third components include compounds having a divalent ester-forming functional group, such as oxalic acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalene-2,7-dicarboxylic acid, succinic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid Dicarboxylic acids such as, lower alkyl esters thereof, oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and p-oxyethoxybenzoic acid, or lower alkyl esters thereof, and dihydric alcohols such as propylene glycol and trimethylene glycol, etc. Compounds. Polyethylene-2,6-naphthalate or a modified polymer thereof is obtained by blocking a terminal hydroxyl group and / or carboxyl group with a monofunctional compound such as benzoic acid, benzoylbenzoic acid, benzyloxybenzoic acid, and methoxypolyalkylene glycol. Alternatively, it may be modified with a very small amount of a trifunctional or tetrafunctional ester-forming compound such as glycerin or pentaerythritol so long as a substantially linear copolymer is obtained.
[0438]
In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored.
Specific examples of the support are described in paragraph No. 0134 of JP-A No. 11-65021.
[0439]
Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer.
[0440]
11) Other additives
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. A solvent described in paragraph No. 0133 of JP-A No. 11-65021 may be added. Various additives are added to either the image forming layer or the non-image forming layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.
[0441]
12) Application method
The photothermographic material of the present invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. Extrusion coating or slide coating described in pages 399 to 536 by Schweizer's “LIQUID FILM COATING” (published by CHAPMAN & HALL, 1997) is preferably used, and slide coating is particularly preferably used.
[0442]
An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. .
[0443]
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to.
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention has a shear rate of 0.1 S.^-1The viscosity is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less.
Also, shear rate 1000S^-1Is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.
[0444]
13) Packaging materials
The photothermographic material of the present invention has an oxygen transmission rate and a photosensitivity in order to prevent deterioration of photographic performance during storage before use, or to prevent curling or curling in the case of a rolled product form. It is preferable to hermetically package with a packaging material having a low moisture permeability. Oxygen permeability is 50 ml / atm / m at 25 ° C²-Day or less is preferable, more preferably 10 ml / atm / m²-Day or less, more preferably 1.0 ml / atm / m²-Day or less. Moisture permeability is 10 g / atm / m²-Day or less is preferable, more preferably 5 g / atm / m²-Day or less, more preferably 1 g / atm / m²-Day or less. As specific examples of the packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability, those described in, for example, JP-A-8-254793 and JP-A-2000-206653 can be used.
[0445]
14) Other available technologies
Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP56-62648, 58-62644, JP9-43766, and 9-. 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171106, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10- 07001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288824, 10-307365, 10-312038, 10-339934 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11- 305377, 11-305378, 11-305384, 11-30538 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, Japanese Patent Application 2000-187298, 2000-10229 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060, 2000-112104, 2000-112604, No. 2000-171936 is also mentioned.
[0446]
15) Color image formation
The construction of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and contains all the components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included.
In the case of a multicolor color photothermographic material, each image forming layer is generally a functional or non-functional barrier between each image forming layer as described in US Pat. No. 4,460,681. By using layers, they are kept distinct from each other.
[0447]
3. Image forming method
1) Exposure
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but laser light is preferred as the exposure light source. A silver halide emulsion having a high silver iodide content as in the present invention has been problematic because of its low sensitivity. However, it has been found that writing with high illuminance such as laser light eliminates the problem of low sensitivity and enables image recording with less energy. The target sensitivity can be achieved by writing with such strong light in a short time.
[0448]
In particular, when an exposure amount giving the maximum density (Dmax) is given, the preferable light amount on the surface of the photosensitive material is 0.1 W / mm.²~ 100W / mm²It is. More preferably 0.5 W / mm²~ 50W / mm²And most preferably 1 W / mm²~ 50W / mm²It is.
[0449]
As the laser light according to the present invention, a gas laser (Ar⁺, He—Ne, He—Cd), YAG laser, dye laser, semiconductor laser and the like are preferable. A semiconductor laser and a second harmonic generation element can also be used. The laser preferably used is determined according to the light absorption peak wavelength of the photosensitizing material such as a spectral sensitizing dye, but it is a red to infrared emitting He-Ne laser, a red semiconductor laser, or a blue to green emitting Ar.⁺, He—Ne, He—Cd laser, blue semiconductor laser. In recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. The peak wavelength of the laser light is 300 nm to 500 nm of blue, preferably 400 nm to 500 nm, and 600 nm to 900 nm of red to near infrared, preferably 620 nm to 850 nm.
[0450]
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.
[0451]
2) Thermal development
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 5 to 30 seconds, and particularly preferably 5 to 20 seconds.
[0452]
A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using the plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572. The heat development photosensitive material on which a latent image is formed is brought into contact with a heating means in a heat development part, and heat for obtaining a visible image. In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 to 10 ° C. at the tip.
[0453]
Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.
[0454]
3) System
Fuji Medical Dry Imager-FM-DPL and DRYPIX7000 can be listed as medical laser imagers equipped with an exposure unit and a heat development unit. The system is Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and these techniques can be used. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Medical Co., Ltd. as a network system conforming to the DICOM standard.
[0455]
4). Application of the present invention
The photothermographic material using the high silver iodide photographic emulsion of the present invention forms a black-and-white image with a silver image, and is a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, and a photothermographic material for printing. It is preferably used as a photothermographic material for COM.
[0456]
【Example】
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0457]
Example 1
1. Preparation of PET support
1-1. Film formation
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio)) was obtained according to a conventional method. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to produce an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting.
[0458]
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends and 4 kg / cm.²And a roll having a thickness of 175 μm was obtained.
[0459]
(Surface corona discharge treatment)
Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, the support is 0.375 kV · A · min / m.²It was found that the process was done. The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
[0460]
(Preparation of undercoat support)
(1) Preparation of undercoat layer coating solution

[0461]

[0462]

[0463]
After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation {circle around (1)} is applied to one surface (image forming layer surface) with a wire bar. .6ml / m²(Per side) and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating liquid formulation (2) is applied to the back side (back side) with a wire bar at a wet coating amount of 5.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 5 minutes. Further, apply the above undercoat coating liquid formulation (3) on the back surface (back surface) with a wire bar at a wet coating amount of 7.7 ml / m.²And then dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.
[0464]
2. Back layer
1) Preparation of back layer coating solution
(Preparation of solid fine particle dispersion (a) of base precursor)
64 g of base precursor compound-1, 10 g of demole N (trade name, Kao Co., Ltd.), 28 g of diphenyl sulfone and 220 ml of distilled water were added and mixed, and the mixture was mixed with a 1/4 G sand grinder mill (manufactured by Imex Corporation). ) To obtain a solid fine particle dispersion (a) of a base precursor compound having an average particle size of 0.2 μm.
[0465]
(Preparation of dye solid fine particle dispersion (a))
9.6 g of cyanine dye compound-1, 5.8 g of sodium p-dodecyl sulfonate, and 305 ml of distilled water were mixed, and the mixture was dispersed in beads with a 1/4 G sand grinder mill (manufactured by AIMEX Co., Ltd.). A dye fine particle dispersion (a) having an average particle diameter of 0.2 μm was obtained.
[0466]
(Preparation of antihalation layer coating solution)
Gelatin 17 g, polyacrylamide 9.6 g, solid fine particle dispersion (a) 70 g of the above-mentioned base precursor, 56 g of the above dye solid fine particle dispersion (a), monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size) Standard deviation 0.4) 1.5 g, benzoisothiazolinone 0.03 g, sodium polyethylene sulfonate 2.2 g, blue dye compound-1 0.2 g, ultraviolet light absorber-1 4.2 g, and water 844 ml. Were mixed to prepare an antihalation layer coating solution.
[0467]
(Preparation of back surface protective layer coating solution)
The container was kept at 40 ° C., 50 g of gelatin, 0.2 g of sodium polystyrenesulfonate, 2.4 g of N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), 1 g of sodium t-octylphenoxyethoxyethanesulfonate, 30 mg of benzoisothiazolinone , 37 mg of fluorosurfactant (F-1), 0.15 g of fluorosurfactant (F-2), 64 mg of fluorosurfactant (F-3), 32 mg of fluorosurfactant (F-4) 8.8 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95), 0.6 g of aerosol OT (American Cyanamid), 1.8 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, water Was mixed to prepare a coating solution for the back surface protective layer.
2) Application of back layer
On the back surface side of the undercoat support, an antihalation layer coating solution is applied at a solid fine particle dye coating amount of 0.04 g / m.²In addition, the back surface protective layer coating solution has a gelatin coating amount of 1.7 g / m.²Then, a simultaneous multilayer coating was applied and dried to prepare a back layer.
[0468]
[0469]
3. Image forming layer, intermediate layer, surface protective layer
3-1. Preparation of coating materials
1) Preparation of silver halide emulsion
(Preparation of silver halide emulsion A)
Add 2.3 ml of 10 wt% potassium iodide solution to 1421 ml of distilled water, then add 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, 36.5 g of phthalated gelatin, 5 wt of 2,2 '-(ethylenedithio) diethanol. The solution to which 160 ml of a methanol solution was added was maintained in a stainless steel reaction vessel while maintaining the liquid temperature at 78 ° C., and 222.22 g of silver nitrate was added with distilled water and diluted to 218 ml with potassium iodide 36. Solution B in which 6 g was diluted to 366 ml with distilled water was added in a total amount over 38 minutes at a constant flow rate, and solution B was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate to be diluted to 508.2 ml and a solution D in which 63.9 g of potassium iodide was diluted to 639 ml with distilled water were used. The entire amount was added, and Solution D was added by the control double jet method while maintaining pAg at 10.2. 1 x 10 per mole of silver^-4A total amount of iridium (III) hexachloride potassium salt was added in a molar amount 10 minutes after the start of addition of solution C and solution D. In addition, 40 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5 per mol of silver.^-4The whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 9.0.
[0470]
This silver halide emulsion is a pure silver iodide emulsion, and is a flat plate having an average projected area diameter of 1.35 μm, an average projected area diameter variation coefficient of 18.5%, an average thickness of 0.110 μm, and an average aspect ratio of 12.2. The grains accounted for over 76% of the total projected area. The equivalent sphere diameter was 0.69 μm. As a result of analysis by X-ray powder diffraction analysis, 90% or more of silver iodide was present in the γ phase.
[0471]
The silver halide dispersion equivalent to 1 mol of silver was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a methanol solution of 0.34% by mass of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and after 40 minutes, 47 ° C. The temperature was raised to. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-55 minutes later, tellurium sensitizer C was added with methanol solution to 6.4 × 10 6 per mole of silver.^-5Mole was added and aged for 60 minutes. Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 is 1.2 × 10 as the total of the sensitizing dyes A and B per mole of silver.^-3After 1 minute, 1.3 ml of a 0.8% by weight methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ and N ″ -diethylmelamine was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzo was added. Imidazole in methanol solution at 4.8 x 10 per mole of silver^-3Mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution to 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3Mole and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in aqueous solution to 8.5 × 10 5 per mole of silver^-3A silver halide emulsion A was prepared by adding a molar amount.
[0472]
(Preparation of silver halide emulsion B)
One mole of tabular grain AgI emulsion similar to that prepared with silver halide emulsion A was placed in a reaction vessel. Then, by double jet addition, 0.5 mol / L potassium bromide solution and 0.5 mol / L AgNO3 were added.₃The solution was added at 10 ml / min over 10 minutes to substantially precipitate 5 mol% silver bromide on the AgI host emulsion. During operation, the silver potential was maintained at +100 mV. Furthermore, the pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 9.0.
[0473]
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-55 minutes later, tellurium sensitizer C was added with methanol solution to 6.4 × 10 6 per mole of silver.^-5Mole was added and aged for 60 minutes. Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 is 1.2 × 10 as the total of the sensitizing dyes A and B per mole of silver.^-3After 1 minute, 1.3 ml of a 0.8% by weight methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ′, N ″ -diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added. 4.8 × 10 5 per mole of silver with methanol solution^-3Mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution to 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3Mole and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in aqueous solution to 8.5 × 10 5 per mole of silver^-3A silver halide emulsion B was prepared by adding a molar amount.
[0474]
(Preparation of silver halide emulsion C)
One mole of tabular grain AgI emulsion similar to that prepared with silver halide emulsion A was placed in a reaction vessel. Then, by double jet addition, 0.5 mol / liter potassium thiocyanate solution and 0.5 mol / liter AgNO3₃The solution was added at 10 ml / min over 10 minutes, causing substantially 5 mol% silver thiocyanate to precipitate on the AgI host emulsion. During operation, pAg was maintained at 10.2.
Furthermore, the pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 9.0.
[0475]
In the same manner as Emulsion B, the above-mentioned silver halide dispersion was sequentially added with dyes, tellurium sensitizers and the like to be ripened to prepare Silver Halide Emulsion C.
[0476]
(Preparation of silver halide emulsion D)
One mole of tabular grain AgI emulsion similar to that prepared with silver halide emulsion A was placed in a reaction vessel. The pAg was 10.2 measured at 38 ° C. Then, by double jet addition, a 0.25 mol / liter KBr solution, a 0.25 mol / liter aqueous potassium thiocyanate solution and 0.5 mol / liter AgNO3 were added.₃The solution was added at 10 ml / min over 10 minutes and a mixture of substantially 5 mol% silver thiocyanate and silver bromide was precipitated onto the AgI host emulsion. During operation, the silver potential was maintained at +100 mV.
Subsequently, pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 9.0.
[0477]
In the same manner as Emulsion B, the above-mentioned silver halide dispersion was sequentially added with dyes, tellurium sensitizers and the like, and ripened to prepare Silver Halide Emulsion D.
[0478]
(Preparation of silver halide emulsion for coating solution preparation)
One of the silver halide emulsions was dissolved at 40 ° C., and benzothiazolium iodide was dissolved in a 1% by mass aqueous solution at 7 × 10 5 per silver mole.^-3Mole was added.
Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution is 38.2 g as silver, and 1- (3-methylureidophenyl) is adjusted to 0.34 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution. -5-mercaptotetrazole was added. Further, as a compound having an adsorbing group and a reducing group, the compound (19) is converted to 2 × 10 2 per mol of silver halide.^-3Molar amounts were added.
[0479]
2) Preparation of fatty acid silver dispersion A
<Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96%, and in addition, 2% lignoceric acid, 2% arachidic acid, and 0.001% erucic acid were contained.
[0480]
<Preparation of fatty acid silver dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate of 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 14 minutes and 15 seconds. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
[0481]
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
[0482]
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. It was a crystal having a variation coefficient of 11% (a, b, and c are defined in the text).
[0483]
19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg, and the whole amount is made 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and further a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
[0484]
Next, the pre-dispersed stock solution is subjected to a pressure of 1150 kg / cm of a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber).²And was treated three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
[0485]
3) Preparation of reducing agent dispersion
<Preparation of Reducing Agent-1 Dispersion>
Reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP-203) 10% by weight aqueous solution 16 kg 10 kg was added and mixed well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
<Preparation of reducing agent-2 dispersion>
Reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) 10 kg and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP-203) 10 kg of water was added to 16 kg of a 10% by mass aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0486]
4) Preparation of hydrogen bonding compound dispersion
<Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion>
10 kg of water was added to 16 kg of a 10 wt% aqueous solution of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval <P-203). And mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0487]
5) Preparation of development accelerator dispersion and color tone modifier dispersion
<Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion>
10 kg of development accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP-203) were added to 10 kg of water and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0488]
The solid dispersions of the development accelerator-2 and the color tone modifier-1 were also dispersed by the same method as the development accelerator-1, and 20% by mass and 15% by mass of a dispersion liquid were obtained, respectively.
[0489]
6) Preparation of polyhalogen compound dispersion
<Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion>
10 kg of an organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate. 4 kg and 14 kg of water were added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0490]
<Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion>
10 kg of an organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of a 10% by mass aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0491]
7) Preparation of silver iodide complex forming agent
(Compound No. F-440)
8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 was dissolved in 174.57 kg of water, then 3.15 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and compound no. 14.28 kg of a 70% by mass aqueous solution of F-440 was added, and the compound no. A 5 mass% solution of F-440 was prepared.
8 mol% of silver iodide complex forming agent per mol of silver was added to the coated sample.
[0492]
8) Preparation of mercapto compound
<Preparation of Mercapto Compound-1 Aqueous Solution>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
[0493]
<Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution>
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
[0494]
9) Preparation of pigment-1 dispersion
c. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. demole N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to prepare a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
[0495]
10) Preparation of SBR latex solution
The SBR latex was prepared as follows.
An SBR latex having a Tg of 23 ° C. was prepared as follows.
Ammonium persulfate is used as a polymerization initiator, an anionic surfactant is used as an emulsifier, 70.5 parts by mass of styrene, 26.5 parts by mass of butadiene and 3 parts by mass of acrylic acid are emulsion-polymerized, and then aging is performed at 80 ° C. for 8 hours. went. Thereafter, the mixture was cooled to 40 ° C., adjusted to pH 7.0 with aqueous ammonia, and Sandet BL manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd. was further added to 0.22% by mass. Next, 5 mass% sodium hydroxide aqueous solution was added to adjust to pH 8.3, and further adjusted to pH 8.4 with aqueous ammonia. Na used at this time⁺Ion and NH₄ ⁺The molar ratio of ions was 1: 2.3. Further, 0.15 ml of a 7% by weight aqueous solution of benzoisothiazoline non sodium salt was added to 1 kg of this liquid to prepare an SBR latex liquid.
[0496]
(SBR latex: Latex of -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-)
Tg = 23 ° C. Average particle size 0.1 μm, concentration 43% by mass, equilibrium water content 0.6% by mass at 25 ° C. 60% RH, ion conductivity 4.2 mS / cm (Ion conductivity is measured by Toa Denpa Kogyo ( Co., Ltd. conductivity meter CM-30S was used, and the latex stock solution (43% by mass) was measured at 25 ° C.), pH 8.4.
[0497]
3-2. Preparation of coating solution
1) Image forming layer coating solution
1000 g of fatty acid silver dispersion A obtained above, 35 g of pigment-1 dispersion in 104 ml of water, 6.3 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, 20.7 g of organic polyhalogen compound-2 dispersion, SBR latex (Tg: 23 C) Liquid 1060g, reducing agent-1 dispersion 75g, reducing agent-2 dispersion 75g, hydrogen bonding compound-1 dispersion 106g, development accelerator-1 dispersion 4.8g, development accelerator-2 dispersion 3 1.0 g, 2.0 g of the color tone modifier-1 dispersion, 9 ml of the mercapto compound-1 aqueous solution, and 27 ml of the mercapto compound-2 aqueous solution were sequentially added, and the silver iodide complex forming agent F-440 was added at 8 mol% per mol of silver. Is added, and immediately before coating, a silver halide emulsion for preparing a coating solution (shown in Table 1) is added in an amount of 0.25 mol per mol of silver fatty acid and mixed well to form a coating solution for an image forming layer. It was fed directly to a coating die. The amount of silver applied is 1.65 g / m in total of fatty acid silver and silver halide.²It was made to become.
[0498]
2) Preparation of intermediate layer coating solution
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, pigment-1 dispersion 272 g, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20/5 / 2) 27200 ml of an aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co.) was added to 4200 ml of a latex 19 mass% solution, 135 ml of a 20 mass% aqueous solution of diammonium phthalate, and water was added to a total amount of 10000 g. In addition, an intermediate layer coating solution was prepared by adjusting with NaOH so that the pH was 7.5, and 9.1 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0499]
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution
Inert gelatin (64 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 19.0% by weight of latex 112 g, 30 ml of 15% by weight methanol solution of phthalic acid, 23 ml of 10% by weight aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, and 5% by weight aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) Add 5 ml, 0.5 g phenoxyethanol, 0.1 g benzoisothiazolinone, add water to make a total amount of 750 g, and use 26 ml of 4% by weight chromium alum mixed with a static mixer just before coating. 18.6 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0500]
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution
Inert gelatin (80 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 27.5% by weight of latex 102 g, 5.4 ml of a 2% by weight solution of a fluorosurfactant (F-1), 5.4 ml of a 2% by weight aqueous solution of a fluorosurfactant (F-2), Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) ) 23 ml, 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm, volume weighted average distribution 30%), polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3.6 μm, volume weighted average distribution 60%) ) 21 g, 4-methylphthalic acid 1.6 g, phthalic acid 4.8 g, 0.5 mol / L sulfuric acid 44 ml, benzoisothiazoli Water was added to a total amount of 650 g in 10 mg of non, and 445 ml of an aqueous solution containing 4% by weight of chromium alum and 0.67% by weight of phthalic acid was mixed with a static mixer immediately before application, and a surface protective layer was applied. 8.3 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0501]
3-3. Preparation of photothermographic material
On the surface opposite to the back surface, simultaneous overlaying by the slide bead coating method in the order of the image forming layer coating solution, the intermediate layer coating solution, the surface protective layer first layer coating solution, and the surface protective layer second layer coating solution from the undercoat surface The sample was applied to prepare a photothermographic material sample. At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 35 ° C., the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
[0502]
The coating and drying conditions are as follows.
The support was neutralized with ion wind before coating, and coating was performed at a speed of 160 m / min. The coating and drying conditions were adjusted within the following ranges for each sample, and were set to conditions that would provide the most stable surface shape.
The gap between the coating die tip and the support is 0.10 to 0.30 mm.
The pressure in the decompression chamber is set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure.
In the subsequent chilling zone, the coating solution is cooled with air at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C.
It is transported in a non-contact manner, and dried with a dry air having a dry bulb temperature of 23 to 45 ° C. and a wet bulb temperature of 15 to 21 ° C. in a helical contactless dryer.
After drying, the humidity is adjusted at 25 ° C. and humidity of 40-60% RH.
Subsequently, the film surface was heated to 70 to 90 ° C., and after the heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
[0503]
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the photosensitive layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the photosensitive layer surface side was measured and found to be 6.0.
[0504]
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
[0505]
The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.
[0506]
Embedded image

[0507]
Embedded image

[0508]
Embedded image

[0509]
Embedded image

[0510]
Embedded image

[0511]
Embedded image

[0512]
4). Evaluation of photographic performance
1) Preparation
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
(Packaging material)
PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon;
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m²・ 25 ℃ ・ day,
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m²-25 degreeCday.
[0513]
As a sample, an NLHV3000E semiconductor laser manufactured by Nichia Corporation was mounted as a semiconductor laser light source on the exposure part of a dry laser imager DRYPIX7000 of FUJIFILM Medical Co., Ltd., and the beam diameter was reduced to 100 μm. The illuminance on the photosensitive material surface of the laser beam is 0 and 1 mW / mm²~ 1000mW / mm²Vary between 10^-5Exposure was performed in seconds. The oscillation wavelength of the laser beam was 405 nm. In the heat development, three panel heaters were set at 107 ° C.-121 ° C.-121 ° C. and developed so that the total time was 14 seconds. The obtained image was evaluated with a densitometer.
[0514]
2) Evaluation items
The obtained image was subjected to density measurement with a Macbeth densitometer to produce a density characteristic curve with respect to the logarithm of the exposure amount.
(sensitivity)
The sensitivity is expressed by the reciprocal of the exposure amount giving a density of Dmin + a blackening density of 1.0. The sensitivity of 2 is taken as 100, and the relative value is shown. A larger value indicates higher sensitivity.
(Fog (Dmin))
The density of the non-image area was measured with a Macbeth densitometer.
(Image preservation (printout))
The heat-developed sample was exposed to light under a fluorescent lamp with an illuminance of 850 Lux under an environment of 40 ° C. and a relative humidity of 50%, and then an increase in the fog density of the Dmin part was evaluated. The optical density at this time is Dmin.₂Dmin before exposure to fluorescent light₁(ΔDmin) was calculated.
ΔDmin = Dmin₂-Dmin₁
[0515]
[Table 1]

[0516]
As is apparent from Table 1, the photothermographic material using high silver iodide grains added with silver thiocyanate according to the present invention has higher sensitivity and lower fog than when silver bromide is added. Good image storage stability was obtained. This was an unexpectedly favorable result.
[0517]
Example 2
Similar to silver halide emulsions B and C of Example 1, except that chemical sensitization was performed using 32 micromoles of sodium thiosulfate and 16 micromoles of chloroauric acid per mol of silver instead of tellurium sensitizer. Silver halide emulsions B-2 and C-2 were prepared, and coated samples 10 and 11 were prepared in the same manner as in Example 1 to obtain the results shown in Table 2.
The sensitivity of sample 10 was 100.
As is apparent from Table 2, the silver halide emulsion of the present invention had low fog and high sensitivity when gold-sulfur sensitized.
[0518]
[Table 2]

[0519]
Example 3
1) Support
The undercoat of the formulation {circle around (1)} in Example 1 was applied to both sides of a PET support having a thickness of 175 μm and blue-colored with a blue dye (1,4-bis (2,6-diethylanilinoanthraquinone)).
[0520]
2) Preparation of coated sample
An image forming layer having the same composition as that of Sample 3 of Example 1 (provided, instead of spectral sensitizing dyes A and B of silver halide emulsion C, sensitizing dyes-1, 2, and 3 were provided on both sides of this support. Used), the intermediate layer, the surface protective layer first layer, and the surface protective layer second layer were simultaneously applied and dried. That is, the coating silver amount is 1.65 g / m in total of fatty acid silver and silver halide.²The total amount of coated silver having the image forming layer on both sides of the support was 3.3 g / m.²A photothermographic material was prepared.
[0521]
Embedded image

[0522]
3) Performance evaluation
The double-sided coated photosensitive material thus prepared was evaluated as follows.
FUJIFILM Corporation X-ray regular screen HI-SCREEN B3 (CaWO as phosphor)₄use. An image forming assembly was manufactured by using two pieces of emission peak wavelength (425 m) and sandwiching a sample between them. This assembly was subjected to X-ray exposure for 0.05 seconds, and X-ray sensitometry was performed. The X-ray apparatus used was a trade name DRX-3724HD manufactured by Toshiba Corporation, and a tungsten target was used. A voltage of 80 kVp was applied to the three phases by a pulse generator, and X-rays passed through a 7 cm water filter having absorption almost equivalent to that of the human body were used as a light source. The X-ray exposure was changed by the distance method, and step exposure was performed with a width of logE = 0.15. After the exposure, heat development was performed under the following heat development conditions. The obtained image was evaluated with a densitometer.
[0523]
The heat development unit of the Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL was modified to produce a heat development machine that can be heated from both sides. In addition, the film was remodeled so that the film sheet could be conveyed by changing the conveyance roller of the heat developing unit to a heat drum. Four panel heaters were set to 112 ° C-118 ° C-120 ° C-120 ° C, and the temperature of the heat drum was set to 120 ° C. Furthermore, the conveyance speed was increased and set to a total of 14 seconds.
[0524]
On the other hand, a regular photosensitive material RX-U of a wet development system manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. is exposed under the same conditions, and an automatic development processor CEPROS-M2 and a processing solution CE-DF1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. are exposed. For 45 seconds.
As a result of comparing the photographic properties of the image obtained by the photothermographic material of the present invention and the image obtained by the wet development system, it was found that the performance was equivalent.
[0525]
Example 4
(Preparation of silver halide fine particles E)
This is a comparative emulsion.
While stirring a solution obtained by adding 36.7 g of phthalated gelatin to 1420 ml of distilled water in a stainless steel reaction vessel, the solution temperature is maintained at 40 ° C., and distilled water is diluted to 195.6 ml by adding distilled water to 22.22 g of silver nitrate. Solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted with distilled water to a volume of 218 ml was added at a constant flow rate over 10 minutes.
[0526]
Further, after 5 minutes, distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate to dilute to 317.5 ml, and solution D was diluted to 60 ml of potassium iodide with distilled water to a volume of 600 ml, and solution C was at a constant flow rate for 120 minutes. The solution D was added by the controlled double jet method while maintaining the silver potential at +220 mV. 1 x 10 per mole of silver^-4The total amount of potassium hexachloroiridate (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so as to have a molar ratio. In addition, 5 seconds after completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5 per mol of silver.^-4The whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide, and an aqueous silver nitrate solution was added to prepare a silver halide dispersion of pAg5. The prepared silver halide grains were silver iodide grains having an average equivalent sphere diameter of 0.031 μm and a variation coefficient of the equivalent sphere diameter of 24%.
To this emulsion, tellurium sensitizer (N-phenyl-N-methylcarbamoyl telluride) was added at 0.3 mmol per mol of silver and ripened at 45 ° C. for 40 minutes to obtain silver halide emulsion E.
[0527]
(Preparation of silver halide fine particles F)
This is the emulsion of the present invention.
After preparing 0.031 μm silver iodide grains in the same manner as silver halide fine grain E, 0.2N potassium thiocyanate aqueous solution and 0.2N silver nitrate aqueous solution were added simultaneously while maintaining the silver potential at +100 mV, and 7 mol % Silver thiocyanate was deposited on the grain surface. Thereafter, tellurium sensitization was carried out in the same manner as the silver halide fine grain E to obtain a silver halide emulsion F.
[0528]
(Preparation of silver halide fine particles G)
This is a comparative emulsion.
After preparing a silver iodide grain of 0.031 μm in the same manner as the silver halide fine grain E, a 0.2N potassium iodide aqueous solution and a 0.2N silver nitrate aqueous solution were simultaneously added while maintaining the silver potential at +100 mV. % Silver iodide was further deposited on the grain surface. Thereafter, tellurium sensitization was performed in the same manner as the silver halide fine grain E to obtain a silver halide emulsion G.
[0529]
(Preparation of silver halide emulsion for coating solution)
Each of the above silver halide emulsions was dissolved, and benzothiazolium iodide was dissolved in a 1% by mass aqueous solution at 7 × 10 5 per mol of silver.^-31- (3-Methylureido) -5-mercaptotetrazole was added so that the molar amount was 0.34 g per kg of the emulsion.
[0530]
Subsequently, the compound (19) having an adsorbing group and a reducing group was added in an amount of 1.5 × 10 5^-3Molar amounts were added.
[0531]
(Preparation of SBR latex)
In the same manner as in the preparation of the SBR latex of Example 1, a latex having a Tg = 17 ° C. was synthesized by changing the monomer ratio.
[0532]
(Preparation of image forming layer coating solution)
1,000 g of fatty acid silver dispersion, 276 ml of water, pigment-1 dispersion, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion, phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C.) solution, reduction Agent-1 dispersion, reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator-2 dispersion, color tone modifier-1 dispersion, mercapto compound-1 Aqueous solutions were sequentially added, and the emulsion layer coating solution mixed with the above-described silver halide emulsion for coating solution added immediately before coating was fed to the coating die as it was and coated.
These mixing ratios were adjusted so as to be the application amounts of the following materials.
[0533]
(Preparation of coated sample)
In the same manner as in Example 1, the image forming layer coating solution was changed to the above coating solution to prepare sample coatings 20 to 22.
[0534]
Coating amount of each compound in the image forming layer (g / m²) Is as follows.
[0535]
Silver behenate 5.27
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.09
Polyhalogen compound-2 0.14
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex 9.43
Reducing agent-1 0.55
Reducing agent-2 0.22
Hydrogen bonding compound-1 0.28
Development accelerator-1 0.025
Development accelerator-2 0.020
Color tone adjusting agent-1 0.008
Mercapto Compound-1 0.006
Silver halide (as Ag) 0.046
[0536]
(Normal evaluation)
In the same manner as in Example 1, exposure and development were performed, and the results shown in Table 3 were obtained.
The sensitivity was expressed as a relative value with the sensitivity of the sample 20 as 100.
[0537]
[Table 3]

[0538]
From Table 3, it was found that even in a photothermographic material using fine silver iodide, when using the silver halide added with silver thiocyanate of the present invention, high sensitivity can be obtained with low fog. This was a sensitivity that could not be obtained with Emulsion G which was simply increased in size by adding the same amount of silver iodide.
[0539]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material and an image forming method using high silver iodide, which are highly sensitive and have low fog and excellent image storage stability.

Claims (23)

A photothermographic material having an image forming layer containing a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide, a binder, and a reducing agent, wherein 40 mol% or more of the photosensitive silver halide is silver iodide. A photothermographic material, wherein the photosensitive silver halide contains silver thiocyanate. 2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver thiocyanate is attached to the surface of the silver iodide grain. 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.02 mol% to 50 mol% with respect to the photosensitive silver halide. 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.05 mol% to 40 mol% with respect to the photosensitive silver halide. 5. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver thiocyanate is contained in an amount of 0.2 mol% to 30 mol% with respect to the photosensitive silver halide. 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein 50% or more of the projected area of the photosensitive silver halide is a tabular grain having an aspect ratio of 2 or more. 7. The photothermographic material according to claim 6, wherein the tabular grains have an average equivalent sphere diameter of 0.3 to 5.0 [mu] m. 7. The photothermographic material according to claim 6, wherein an average sphere equivalent diameter of the tabular grains is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein an average grain size of the photosensitive silver halide is 70 nm or less and 5 nm or more. 10. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a silver iodide complex forming agent. 11. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide contains one epitaxial silver salt containing at least silver chloride and silver bromide. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver iodide content of the photosensitive silver halide is 80 mol% or more. 13. The photothermographic material according to claim 1, wherein a silver iodide content of the photosensitive silver halide is 90 mol% or more. The heat development according to any one of claims 1 to 13, wherein the photosensitive silver halide is subjected to at least one of reduction sensitization, chalcogen sensitization, and gold chalcogen sensitization. Photosensitive material. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide has at least one dislocation line. 16. The photothermographic material according to claim 1, comprising at least one of a compound having an adsorbing group and a reducing group for photosensitive silver halide and a precursor thereof. 17. The photothermographic material according to claim 1, wherein the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one or more electrons. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a development accelerator. 19. The photothermographic material according to claim 1, comprising at least one of phthalic acid and a phthalic acid derivative. The photothermographic material according to claim 1, wherein the image forming layer is provided on one side of a support. The photothermographic material according to claim 1, wherein the image forming layer is provided on both sides of a support. 21. An image forming method comprising scanning exposure with a laser beam using the photothermographic material according to claim 1. An image forming method, wherein the photothermographic material according to claim 1 is exposed by an X-ray intensifying screen.