JP2005030780A - Semiconductor inspection device - Google Patents

Semiconductor inspection device Download PDF

Info

Publication number
JP2005030780A
JP2005030780A JP2003192896A JP2003192896A JP2005030780A JP 2005030780 A JP2005030780 A JP 2005030780A JP 2003192896 A JP2003192896 A JP 2003192896A JP 2003192896 A JP2003192896 A JP 2003192896A JP 2005030780 A JP2005030780 A JP 2005030780A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
inspected
displayed
semiconductor
display area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003192896A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidehiko Aso
英彦 麻生
Masayuki Takesawa
政之 武澤
Takashi Hamazaki
孝 濱崎
Akihiko Hoshina
明彦 保科
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Science Systems Ltd
Original Assignee
Hitachi Science Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Science Systems Ltd filed Critical Hitachi Science Systems Ltd
Priority to JP2003192896A priority Critical patent/JP2005030780A/en
Publication of JP2005030780A publication Critical patent/JP2005030780A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor inspection device capable of easily selecting a target inspecting position. <P>SOLUTION: The photograph of an object to be inspected is displayed on a monitor and the component difference between the present coordinates and the coordinates of the region designated by a pointing device is calculated as the number of pixels of the photograph of the object to be inspected displayed on the monitor. An actual moving distance is calculated from the number of pixels and the display resolving power of the image of the object to be inspected to control the movement of the object to be inspected. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ等の被検査対象物の検査個所が検知手段で検査できる位置に来るように移動体駆動手段で移動調整する半導体検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、このような半導体検査装置では、例えば、半導体ウェーハを移動させる場合、検査個所の移動方向、および移動距離を直接指定するようにした。あるいはまた、半導体ウェーハ上のチップ配列をイメージ化して表示し、目標とするチップを指定して現チップの検査個所(該部位)と同じ目標チップの該部位へ移動させるのが一般的であった。
【0003】
また、表示されたイメージと半導体ウェーハの大きさの間に相関関係は存在しておらず、上記のような方式では、任意の目標位置へ移動させるのに、現在の該部位の位置を常に意識する必要があり、移動方向、距離をオペレータが計算したり、該部位への移動後に目標位置まで再度操作を行うなど、任意の位置へ移動するには手間が必要であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、検査する目標位置(検査個所)の選定が容易でき、かつその検査個所が検知手段で検査できる位置に自動的に移動が行われる使い勝手のよい半導体検査装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被検査対象物の検査個所が検知手段で検査できる位置に来るように移動体駆動手段で移動調整が行われる半導体検査装置において、検査ヘッドに設けられ、かつ被検査対象物を全体的に収めるように撮影できるCCDカメラと、このCCDカメラが撮影した縦横の座標情報を演算する計算機と、CCDカメラが撮影した画像が表示される画像表示エリアを含む表示画面を有するモニター装置と、画像表示エリア上に検査目標位置を任意に指定できるポインティングデバイスとを設け、画像表示エリア上には、CCDカメラで撮影する際に検知手段が検査可能な検査可能位置を現在位置として表示し、この現在位置と検査目標位置の座標情報をもとに計算機で演算して、ポインティングデバイスで指定した検査目標位置が前記検知手段で検査できる位置に来るように移動体駆動手段を制御することを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
【0007】
まず、本発明の実施例に係わる半導体検査装置の概要を図1に沿って説明する。
【0008】
半導体のウェーハ6(検査対象物)は、縦横に移動するステージ5(載置移動体)に載置される。ステージ駆動装置7(ステージ駆動手段)は、3次元直交座標系におけるX、Y方向(縦横)にステージ5を駆動する。モニター装置1は検査対象物のウェーハ6を表示する。
【0009】
検査ヘッド50は、検知部8(検知手段)、CCDカメラ4を有する。検知部8(検知手段)は発光手段と受光手段の有し、検査対象物(ウェーハ6)の検査位置から跳ね返る発光手段の投光を受光手段が受光し、この受光の検査信号によって検査位置の検査が行われる。検知部8(検知手段)とCCDカメラ4は、近接して設けることが望ましい。検査目標位置の位置合わせ精度が上がる。受光手段が受光した検査信号は計算機3に送られ、計算機3で演算処理されて検査の評価等が行われる。
【0010】
CCDカメラ4が撮影した画像信号は、計算機3に送られる。モニター装置1には、計算機3から送られる画像情報信号で基づいて撮影したウェーハ6の表示が行われる。
【0011】
ポインティングデバイス2は、計算機3を介して表示画面11で検査する位置の選定指示を行う。キーボード9は計算機3を介して各種の設定や操作指示(汎用入力を行う)を司る。
【0012】
モニター装置1の表示画面11は、図2に示すように画像表示エリア、コマンド表示エリアを有する。画像表示エリアには、撮影したウェーハ6が表示される。ウェーハ6の表示に加え、十字カーソル12が撮影画像に重なるように表示される。十字カーソル12のクロスポイントが現在位置10を示す。この現在位置10は、検知部8(検知手段)の検査信号が跳ね返る検査対象物(ウェーハ6)の検査位置に対応するところである。本実施例では検知部8(検知手段)の真下が検査対象物(ウェーハ6)の検査位置になっている。
【0013】
画像表示エリアには、検査対象物の格子状に配置されているチップが表示されるので、その表示を目視しながら検査するチップの検査目標位置15をポインティングデバイス2のポイントで辿りながら指定できる。このため、検査目標位置15の選定が誤りなく、容易にできる。
【0014】
また、ポインティングデバイス2の指定(クリック)により、現在位置10と検査目標位置15とを結ぶ移動ベクトル14が表示され、移動量(移動長さ)を視覚的に知ることができる。
【0015】
表示画面11のコマンド表示エリアには、表示倍率、倍率設定スライダー16、移動指示のボタン13が表示される。
【0016】
コマンド表示エリアの倍率設定スライダー16をポインティングデバイス2で操作することで、ウェーハの表示が拡大/縮小される。図3は拡大表示を示している。拡大/縮小は、倍率設定スライダー16にポインティングデバイス2のポイントを当て、左右に動かすことにより、倍率がリニアーに変化する。拡大表示の切り換えは繰り返し可能である。
【0017】
コマンド表示エリアのボタン13は、ステージ5を移動させるステージ駆動装置7の駆動を指示する機能ボタンである。ボタン13にポインティングデバイス2のポイントを当ててクリックすることで、指示が行われる。
【0018】
ボタン13の指示で、ステージ5が移動し、検査目標位置15が現在位置10のところに運ばれる。つまり、検査目標位置15が検知部8(検知手段)の真下に来るように移動が行われるのである。
【0019】
ステージ5の移動を行うステージ駆動装置7は、X、Y方向(縦横)に運ぶサーボモータをそれぞれ有し、両サーボモータの協働で、ステージ5を所定の位置まで動かす。
【0020】
次に、ステージ駆動装置7の駆動制御について述べる。
【0021】
ステージ駆動装置7の駆動制御(移動体駆動手段の制御)は、計算機3の演算により行われる。計算機3は、CCDカメラ4が撮影した検査対象物(ウェーハ6)の画像信号が記録されている。
【0022】
この画像信号は、CCDカメラ4が撮影した画素単位で構成されているので、現在位置10とポインティングデバイス2で指定した検査目標位置15を結ぶ移動ベクトル14のX(横方向)成分、Y(縦方向)成分を画素数として求められる。撮影画像の表示分解能から数えられる画素数を移動距離に変換する。この移動距離に応じたステージ駆動装置7の駆動制御により、ステージ5は動かされ、検査目標位置15が十字カーソル12のクロスポイントに移動し、検査目標位置15(検査するチップ)が検知部8(検知手段)の真下に来るのである。
【0023】
このようにステージ駆動装置7の駆動制御により、選択した検査目標位置15が検知部8(検知手段)の真下(検査できる位置)に来る位置合わせが自動的に行われる使い勝手のよいものである。しかも、CCDカメラ4が撮影する細かな画素数より求めた駆動制御によって位置合わせが行われるので、位置合わせ精度が高い。
【0024】
次に、このように構成された半導体検査装置のステージ移動処理について図4に示すフローチャートを用いて説明する。
【0025】
ステップAにおいて、ウェーハロード時にウェーハ全体の画像を撮影する。ステップBでモニター装置1にウェーハの撮影画像を示す表示画面11として表示し、倍率設定スライダー16により表示倍率を設定する。ステップCでモニター装置1に表示した表示画面11に対して、ポインティングデバイス2を用いて検査目標位置15の指定を行う。拡大表示機能が指定されていれば、ステップBのウェーハ写真表示に戻る。このとき表示されるのは、拡大された表示画面17である。オペレータは検査目標位置15の確認をした後、ステップDにてボタン13を押す。ステップEにおいて撮影した画像の視野と表示画面11の表示領域の画素数から表示画面11の表示分解能を計算する。ステップFにおいて移動ベクトル14の画素数を現在位置10の座標と検査目標位置15の座標のX、Y成分の画素数差分として求め、ステップGでX、Y成分に表示画面11の表示分解能を乗じることにより移動距離を算出する。
【0026】
【発明の効果】
本発明によれば、検査する目標位置の選定が容易にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係わるもので、半導体検査装置の概要を示す図。。
【図2】本発明の実施例に係わるもので、ウェーハの撮影画像を示す表示画面。
【図3】本発明の実施例に係わるもので、ウェーハの撮影画像を拡大して示す表示画面。
【図4】本発明の実施例に係わるもので、ステージの移動ステップを示すフローチャート。
【符号の説明】
1…モニター装置、2…ポインティングデバイス、3…計算機、4…CCDカメラ、5…ステージ、6…ウェーハ、7…ステージ駆動装置、8…ウェーハ検査装置、9…キーボード、10…現在位置、11…表示画面、12…十字カーソル、13…ボタン、14…移動ベクトル、15…検査目標位置、16…倍率設定スライダー、17…拡大された表示画面。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor inspection apparatus that moves and adjusts by a moving body driving means so that an inspection portion of an object to be inspected such as a semiconductor wafer comes to a position where inspection means can inspect.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in such a semiconductor inspection apparatus, for example, when a semiconductor wafer is moved, the moving direction and moving distance of the inspection location are directly designated. Alternatively, it is general that the chip arrangement on the semiconductor wafer is imaged and displayed, and the target chip is designated and moved to the same target chip location as the current chip inspection location (this location). .
[0003]
In addition, there is no correlation between the displayed image and the size of the semiconductor wafer, and in the above method, the current position of the part is always conscious in order to move to an arbitrary target position. It takes time and effort to move to an arbitrary position, such as the operator calculating the moving direction and distance, or performing the operation again to the target position after moving to the part.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide an easy-to-use semiconductor inspection apparatus in which a target position (inspection location) to be inspected can be easily selected, and the inspection location is automatically moved to a position where it can be inspected by a detection means. To do.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a semiconductor inspection apparatus in which movement adjustment is performed by a moving body driving means so that an inspection portion of an inspection object comes to a position where inspection can be performed by a detection means. A CCD camera that can be photographed so as to be housed, a calculator that calculates vertical and horizontal coordinate information photographed by the CCD camera, a monitor device having a display screen including an image display area on which an image photographed by the CCD camera is displayed, A pointing device that can arbitrarily specify the inspection target position is provided on the image display area. On the image display area, an inspectable position that can be inspected by the detection means when photographing with the CCD camera is displayed as the current position. Based on the coordinate information of the current position and inspection target position, it is calculated by a computer, and the inspection target position specified by the pointing device is In and controlling the movable body drive means to come to a position that can be inspected.
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0007]
First, an outline of a semiconductor inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0008]
A semiconductor wafer 6 (inspection object) is placed on a stage 5 (placement moving body) that moves vertically and horizontally. The stage driving device 7 (stage driving means) drives the stage 5 in the X and Y directions (vertical and horizontal) in the three-dimensional orthogonal coordinate system. The monitor device 1 displays the wafer 6 to be inspected.
[0009]
The inspection head 50 includes a detection unit 8 (detection means) and the CCD camera 4. The detection unit 8 (detection means) has a light emitting means and a light receiving means, and the light receiving means receives the light emitted from the light emitting means that rebounds from the inspection position of the inspection object (wafer 6). Inspection is performed. The detector 8 (detector) and the CCD camera 4 are desirably provided close to each other. The alignment accuracy of the inspection target position is improved. The inspection signal received by the light receiving means is sent to the computer 3 where the computer 3 performs arithmetic processing to evaluate the inspection.
[0010]
The image signal captured by the CCD camera 4 is sent to the computer 3. The monitor device 1 displays the wafer 6 photographed based on the image information signal sent from the computer 3.
[0011]
The pointing device 2 gives an instruction to select a position to be inspected on the display screen 11 via the computer 3. The keyboard 9 manages various settings and operation instructions (performs general-purpose input) via the computer 3.
[0012]
The display screen 11 of the monitor device 1 has an image display area and a command display area as shown in FIG. The photographed wafer 6 is displayed in the image display area. In addition to the display of the wafer 6, the cross cursor 12 is displayed so as to overlap the photographed image. The cross point of the cross cursor 12 indicates the current position 10. The current position 10 corresponds to the inspection position of the inspection object (wafer 6) where the inspection signal of the detection unit 8 (detection means) rebounds. In this embodiment, the inspection position of the inspection object (wafer 6) is directly below the detection unit 8 (detection means).
[0013]
In the image display area, chips arranged in a lattice pattern of the inspection object are displayed, so that the inspection target position 15 of the chip to be inspected can be specified by following the point of the pointing device 2 while viewing the display. For this reason, selection of the inspection target position 15 can be easily performed without error.
[0014]
In addition, when the pointing device 2 is specified (clicked), a movement vector 14 that connects the current position 10 and the inspection target position 15 is displayed, and the movement amount (movement length) can be visually recognized.
[0015]
In the command display area of the display screen 11, a display magnification, a magnification setting slider 16, and a movement instruction button 13 are displayed.
[0016]
By operating the magnification setting slider 16 in the command display area with the pointing device 2, the display of the wafer is enlarged / reduced. FIG. 3 shows an enlarged display. Enlarging / reducing is performed by placing the point of the pointing device 2 on the magnification setting slider 16 and moving it to the left or right to change the magnification linearly. The switching of the enlarged display can be repeated.
[0017]
The button 13 in the command display area is a function button for instructing driving of the stage driving device 7 that moves the stage 5. An instruction is given by placing the point of the pointing device 2 on the button 13 and clicking.
[0018]
In response to an instruction from the button 13, the stage 5 moves and the inspection target position 15 is carried to the current position 10. That is, the movement is performed so that the inspection target position 15 is directly below the detection unit 8 (detection means).
[0019]
The stage driving device 7 that moves the stage 5 has servo motors that move in the X and Y directions (vertical and horizontal), and moves the stage 5 to a predetermined position by the cooperation of both servo motors.
[0020]
Next, drive control of the stage drive device 7 will be described.
[0021]
Drive control of the stage drive device 7 (control of the moving body drive means) is performed by calculation of the computer 3. The computer 3 records an image signal of the inspection object (wafer 6) taken by the CCD camera 4.
[0022]
Since this image signal is configured in units of pixels taken by the CCD camera 4, the X (horizontal direction) component of the movement vector 14 connecting the current position 10 and the inspection target position 15 designated by the pointing device 2, Y (vertical) (Direction) component is obtained as the number of pixels. The number of pixels counted from the display resolution of the captured image is converted into a moving distance. The stage 5 is moved by the drive control of the stage driving device 7 in accordance with the moving distance, the inspection target position 15 moves to the cross point of the cross cursor 12, and the inspection target position 15 (chip to be inspected) is detected by the detection unit 8 ( It comes under the detection means).
[0023]
As described above, by the drive control of the stage driving device 7, the alignment is automatically performed in which the selected inspection target position 15 is positioned directly below the detection unit 8 (detection means) (a position where inspection can be performed). In addition, since the alignment is performed by the drive control obtained from the fine number of pixels photographed by the CCD camera 4, the alignment accuracy is high.
[0024]
Next, the stage moving process of the semiconductor inspection apparatus configured as described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
[0025]
In step A, an image of the entire wafer is taken when the wafer is loaded. In step B, the image is displayed on the monitor device 1 as a display screen 11 showing a photographed image of the wafer, and a display magnification is set by a magnification setting slider 16. The inspection target position 15 is specified using the pointing device 2 on the display screen 11 displayed on the monitor device 1 in step C. If the enlarged display function is designated, the process returns to the wafer photo display in step B. What is displayed at this time is an enlarged display screen 17. The operator confirms the inspection target position 15 and then presses the button 13 in step D. The display resolution of the display screen 11 is calculated from the field of view of the image taken in step E and the number of pixels in the display area of the display screen 11. In step F, the number of pixels of the movement vector 14 is obtained as the difference in the number of X and Y components between the coordinates of the current position 10 and the coordinates of the inspection target position 15, and in step G, the X and Y components are multiplied by the display resolution of the display screen 11. Thus, the moving distance is calculated.
[0026]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to easily select a target position to be inspected.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a semiconductor inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. .
FIG. 2 is a display screen showing a photographed image of a wafer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 relates to an embodiment of the present invention, and is a display screen showing an enlarged photographed image of a wafer.
FIG. 4 is a flowchart showing a stage moving step according to the embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Monitor apparatus, 2 ... Pointing device, 3 ... Computer, 4 ... CCD camera, 5 ... Stage, 6 ... Wafer, 7 ... Stage drive device, 8 ... Wafer inspection apparatus, 9 ... Keyboard, 10 ... Current position, 11 ... Display screen, 12 ... cross cursor, 13 ... button, 14 ... movement vector, 15 ... inspection target position, 16 ... magnification setting slider, 17 ... enlarged display screen.

Claims (4)

半導体ウェハ等の被検査対象物を載置して縦横に移動する載置移動体と、この載置移動体を駆動する移動体駆動手段と、前記被検査対象物の検査位置から跳ね返る検査信号を検知する検知手段が備わる検査ヘッドとを有し、前記被検査対象物の検査個所が前記検知手段で検査できる位置に来るように移動体駆動手段で移動調整が行われる半導体検査装置において、
前記検査ヘッドに設けられ、かつ前記被検査対象物を全体的に収めるように撮影できるCCDカメラと、このCCDカメラが撮影した縦横の座標情報を演算する計算機と、前記CCDカメラが撮影した画像が表示される画像表示エリアを含む表示画面を有するモニター装置と、前記画像表示エリア上に検査目標位置を任意に指定できるポインティングデバイスとを設け、
記画像表示エリア上には、前記CCDカメラで撮影する際に前記検知手段が検査可能な検査可能位置を現在位置として表示し、
この現在位置と前記検査目標位置の座標情報をもとに前記計算機で演算して、前記ポインティングデバイスで指定した前記検査目標位置が前記検知手段で検査できる位置に来るように移動体駆動手段を制御することを特徴とする半導体検査装置。
A mounting moving body for moving an object to be inspected such as a semiconductor wafer and moving vertically and horizontally, a moving body driving means for driving the mounting moving body, and an inspection signal rebounding from an inspection position of the object to be inspected. In a semiconductor inspection apparatus having an inspection head provided with a detecting means for detecting, and moving adjustment is performed by a moving body driving means so that an inspection portion of the inspection object is located at a position where the inspection means can be inspected,
A CCD camera provided on the inspection head and capable of photographing so as to accommodate the entire object to be inspected, a calculator for calculating vertical and horizontal coordinate information photographed by the CCD camera, and an image photographed by the CCD camera A monitor device having a display screen including an image display area to be displayed, and a pointing device capable of arbitrarily specifying an inspection target position on the image display area;
On the recording image display area, an inspectable position that can be inspected by the detection means when photographing with the CCD camera is displayed as a current position,
Based on the coordinate information of the current position and the inspection target position, calculation is performed by the computer, and the moving body driving means is controlled so that the inspection target position designated by the pointing device is located at a position where inspection can be performed by the detection means. A semiconductor inspection apparatus.
請求項1記載の半導体検査装置において、
前記画像表示エリアに表示される前記画像の表示倍率を変える表示倍率調整機能が備わることを特徴とする半導体検査装置。
The semiconductor inspection apparatus according to claim 1,
A semiconductor inspection apparatus comprising a display magnification adjustment function for changing a display magnification of the image displayed in the image display area.
請求項1記載の半導体検査装置において、
前記現在位置と前記検査目標位置とを結ぶ移動ベクトル線を表示することを特徴とする半導体検査装置。
The semiconductor inspection apparatus according to claim 1,
A semiconductor inspection apparatus, wherein a movement vector line connecting the current position and the inspection target position is displayed.
請求項1記載の半導体検査装置において、
前記表示画面にコマンド表示エリアを設け、このコマンド表示エリアに、表示倍率調整機能を作動させる表示倍率調整コマンドや前記検査目標位置が前記検知手段で検査できる位置に移動させる指示用の移動コマンドを表示したことを特徴とする半導体検査装置。
The semiconductor inspection apparatus according to claim 1,
A command display area is provided on the display screen, and a display magnification adjustment command for operating a display magnification adjustment function and an instruction movement command for moving the inspection target position to a position where the detection means can be inspected are displayed in the command display area. A semiconductor inspection apparatus characterized by that.
JP2003192896A 2003-07-07 2003-07-07 Semiconductor inspection device Pending JP2005030780A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003192896A JP2005030780A (en) 2003-07-07 2003-07-07 Semiconductor inspection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003192896A JP2005030780A (en) 2003-07-07 2003-07-07 Semiconductor inspection device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005030780A true JP2005030780A (en) 2005-02-03

Family

ID=34204558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003192896A Pending JP2005030780A (en) 2003-07-07 2003-07-07 Semiconductor inspection device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005030780A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016024045A (en) * 2014-07-18 2016-02-08 株式会社ミツトヨ Image measurement apparatus
KR102063230B1 (en) * 2017-11-22 2020-01-07 마하비전 아이엔씨. Projection-type recheck machine and compensation method therof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016024045A (en) * 2014-07-18 2016-02-08 株式会社ミツトヨ Image measurement apparatus
KR102063230B1 (en) * 2017-11-22 2020-01-07 마하비전 아이엔씨. Projection-type recheck machine and compensation method therof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6606749B2 (en) Focus adjustment method and apparatus
JP7194831B2 (en) INSPECTION DEVICE AND INSPECTION IMAGING METHOD
KR101789908B1 (en) Operating method for inspecting equipment
KR100679550B1 (en) Defect detector and defect detection method
JP4954608B2 (en) Method for moving object to be imaged and processing apparatus using this method
JP2003028812A (en) Radioscopic apparatus
JP2005030780A (en) Semiconductor inspection device
JP2012104154A (en) Method of moving object to be imaged and processing apparatus employing the method
US20080008381A1 (en) Coordinate acquisition apparatus for test of printed board, and coordinate acquisition method and program for test thereof
JP2005030966A (en) Inspection data setting method, and inspection method and device using it
JP4742902B2 (en) X-ray inspection equipment
JP2008122097A (en) Inspection measuring device
JP4687853B2 (en) X-ray fluoroscopic equipment
JP2007101391A (en) X-ray inspection device
JPH08114426A (en) Method and device for inspecting bending of wire
JP2000155268A (en) Enlarging observation device
JP2012002696A (en) X-ray inspection device
JPH11295045A (en) Inspecting apparatus
KR100556013B1 (en) Microscopic size measurement apparatus
JP4158027B2 (en) X-ray fluoroscopy system
JP2007174355A (en) Instrument and method of evaluating display, and program
JP3897102B2 (en) X-ray fluoroscope
JP2002323462A (en) Fluoroscopic imaging equipment
KR100951418B1 (en) Apparatus and method for merging image
TWI847205B (en) Charged particle beam device