JP2005020007A - シーリング組立体、リソグラフィ投影装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本組立体は、スリット横方向Tでの粒子通過を少なくとも部分的に防ぐために、スリットのほぼ長手方向に延びるシーリング手段を備え、このシーリング手段は真空排気手段5を備える。本発明は、さらに、少なくとも1つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも1つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。本発明は、さらにデバイス製造方法を提供する。
【選択図】図2
Description
少なくとも1つの基板を保持するための基板ホルダと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、
前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも1つの真空チャンバを備え、装置の第1の部分と装置の第2の部分が、少なくとも1つのスリットによって互いに機械的に分離されるリソグラフィ投影装置に関連する。
マスク。マスクの概念は、リソグラフィではよく知られており、様々な混成マスクの種類はもちろんのこと、2進位相シフト、交番位相シフト及び減衰位相シフトのようなマスクの種類を含む。そのようなマスクを放射ビーム内に配置することで、マスクのパターンに応じて、マスクに当る放射の選択的な透過(透過マスクの場合)又は反射(反射マスクの場合)が起こる。マスクの場合、支持構造は一般にマスク・テーブルであり、このマスク・テーブルによって、マスクは、確実に入射放射ビーム内の所望の位置に保持することができるようになり、さらに、望むならば、マスクをビームに対して移動させることができるようになる。
プログラム可能ミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリックス・アドレス指定可能表面である。そのような装置の基本原理は、(例えば)反射表面のアドレス指定された領域は入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されない領域は入射光を非回折光として反射する。適切なフィルタを使用して、前記の非回折光を、反射ビームからフィルタ除去して、後に回折光だけを残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス指定可能表面のアドレス指定パターンに従って、ビームはパターン化されるようになる。プログラム可能ミラー・アレイの他の実施例では、小さなミラーのマトリックス配列が使用される。この小さなミラーの各々は、適切な局部電界を加えることで、又は圧電作動手段を使用することで、軸のまわりに個々に傾斜させることができる。再び、アドレス指定されたミラーが、アドレス指定されないミラーに対して異なる方向に入射放射ビームを反射するように、ミラーはアドレス指定可能なマトリックスである。このようにして、反射ビームは、マトリックス・アドレス指定可能ミラーのアドレス指定パターンに応じてパターン形成される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子的な手段を使用して行うことができる。上記の両方の状況で、パターン化手段は1つ又は複数のプログラム可能ミラー・アレイを含むことができる。ここで参照したようなミラー・アレイについて、例えば、米国特許第5,296,891号及び米国特許第5,523,193号、及びPCT特許出願WO98/38597及びWO98/33096からより多くの情報を収集することができる。これらの特許及び特許出願は、参照によってここに援用される。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記の支持構造は、例えば、フレーム又はテーブルとして具体化することができ、それは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
プログラム可能LCDアレイ。そのような構造の実施例は、米国特許第5,229,872号に与えられている。この特許は、参照によってここに援用される。上記のように、この場合の支持構造は、例えば、フレーム又はテーブルとして具体化することができ、それは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
放射(例えば、深い紫外線領域の光)の投影ビームPBを供給するための、この特定の場合には放射源LAも備える、放射システムEx、ILと、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、かつ要素PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続された第1の物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジスト被覆シリコン・ウェーハ)を保持するための基板ホルダを備え、かつ要素PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続された第2の物体テーブル(基板テーブル)WTと、
マスクMAの放射照射部分の像を、基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイで構成される)に形成するための投影システム(「レンズ」)PLとを備える。投影システムPLは、ベース・フレーム1から振動的に分離されたメトロ・フレーム2に取り付けられている。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは基本的に静止したままであり、全マスク像が一括して(すなわち、単一「フラッシュ」で)目標部分Cに投影される。次に、異なる目標部分CがビームPBで照射されるように、基板テーブルWTがx及び/又はy方向に移動される。
2.走査モードでは、基本的に同じシナリオが当てはまるが、ただ、特定の目標部分Cが単一「フラッシュ」で露光されないことが異なる。代わりに、マスク・テーブルMTが、特定の方向(いわゆる「走査方向」、例えば、y方向)に速度vで移動可能であり、その結果、投影ビームPBはマスク像全体を走査することができるようになる。これと並行して、基板テーブルWTが、速度V=Mvで、同じ方向又は反対方向に同時に移動する。ここで、MはレンズPLの拡大率である(一般に、M=1/4又は1/5)。このようにして、分解能で妥協する必要なく、比較的大きな目標部分Cを露光することができる。
少なくとも1つの基板を保持するための基板ホルダと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、
前記基板の目標部分に前記パターン化された投影ビームを投影するための投影手段とを含む少なくとも1つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置で効果的に使用される。少なくとも前記装置の第1の部分1と前記装置の第2の部分2は、少なくとも1つのスリット3で互いに機械的に分離されている。
放射システムを使用して少なくとも1つの放射投影ビームを供給するステップと、
少なくとも部分的に放射感応材料で覆われている少なくとも1つの基板を真空環境中に供給するするステップと、
真空環境中でパターン化手段を使用して、前記投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
真空環境中で投影手段を使用して、前記パターン化された放射ビームを前記基板の放射感応材料の層の目標部分に投影するステップとを備え、少なくとも前記装置の第2の部分2が、少なくとも1つのスリット3によって装置の第1の部分1から機械的に分離されているデバイス製造で、本発明は効果的に使用される。
Claims (11)
- スリットをシールするためのシーリング組立体であって、前記組立体が、スリットの横方向(T)の粒子通過を少なくとも部分的に防ぐために、スリットのほぼ長手方向に延びるシーリング手段を備え、前記シーリング手段が真空排気手段(5、15)を備えることを特徴とするシーリング組立体。
- 前記スリット(3)が、真空装置の第1の部分(1)と第2の部分(2)の間に延びて、前記第1の部分(1)と前記第2の部分(2)を互いに機械的に分離する、請求項1に記載の組立体。
- 前記真空排気手段が、前記スリットのほぼ長手方向に延びる少なくとも1つの粒子吸収要素(5、15)を備える、請求項1又は2に記載の組立体。
- 前記吸収要素が、極低温要素及び/又はゲッタ要素(5、15)である、請求項3に記載の組立体。
- 前記スリット(3)が、前記横方向(T)で見て光学的に不透明である、請求項1から4のいずれかに記載の組立体。
- 前記スリット(3)が、前記スリットの横方向(T)で見て少なくとも1つの屈曲部(6)を備え、前記真空手段(5、15)が前記屈曲部(6)に配列されている、請求項5に記載の組立体。
- 前記真空手段(15)が、少なくとも1つのスリットの横端部(8、9)の見えるところに配列されている、請求項1から6のいずれかに記載の組立体。
- 前記スリット(3)が、前記真空排気手段(5、15)を含んだ少なくとも1つの長手方向のシーリング・チャンバ(3b)を備える、請求項1から7のいずれかに記載の組立体。
- 前記スリット3を機械的に閉じる閉鎖手段を備える、請求項1から8のいずれかに記載の組立体。
- リソグラフィ投影装置であって、
少なくとも1つの基板を保持するための基板ホルダと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、
前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも1つの真空チャンバを備え、少なくとも前記装置の第1の部分(1)と前記装置の第2の部分(2)が、少なくとも1つのスリット(3)によって互いに機械的に分離され、前記スリット(3)が、前記スリット(3)をシールするために請求項1から9までのいずれかに記載のシーリング組立体を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - デバイス製造方法であって、
放射システムを使用して少なくとも1つの放射投影ビームを供給するステップと、
少なくとも部分的に放射感応材料の層で覆われている少なくとも1つの基板を真空環境中に供給するステップと、
真空環境中でパターン化手段を使用して、前記投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
真空環境中で投影手段を使用して、前記パターン化された放射ビームを前記基板の前記放射感応材料の層の目標部分に投影するステップとを備え、少なくとも装置の第2の部分(2)が、少なくとも1つのスリット(3)によって装置の第1の部分(1)から機械的に分離され、前記スリット(3)が請求項1から9までのいずれかに記載のシーリング組立体でシールされることを特徴とするデバイス製造方法。
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