JP2005000862A - Adsorption apparatus and adsorption method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、吸着装置及び吸着方法に関する。
【0002】
【背景技術】
従来から、有機溶剤等の揮発性有機化合物(VOC)は、機器製造業をはじめ様々な業種で幅広く使用されている。この有機溶剤を貯蔵する貯蔵設備や有機溶剤を使用する反応設備からは、揮発した有機溶剤等の被処理ガスが排出される。このような被処理ガス中には、大気中に放出されると、周辺住民の健康被害が生じたり、地球温暖化等の原因となったりする成分が含まれていることから、厳しい排出規制が設けられようとしている。
【0003】
この排出規制に対応するために、被処理ガス中の除去成分を除去し、回収する方法として、吸着剤を使用する方法が使用されている。
一般に、吸着剤は、その吸着容量に達すると吸着効率が著しく低下し、破過してしまうため、吸着剤を吸着容量に達する前に再生する必要がある。吸着剤の再生方法としては、吸着剤を吸着塔から抜き取り、別の場所でスチーム等で加熱して、吸着剤に吸着していた除去成分を脱着させて再生する方法がある(スチーム加熱方式)。
しかしながら、このスチーム加熱方式では、スチームが水へと液化するため、飽和状態の除去成分を含む多量の排水が発生してしまう。
また、この排水を除去成分を含む相と水相とに分離することは困難であり、排水中から除去成分を取り出すことができない。
【0004】
このような問題を解決するために、水分含有量が少ない不活性ガス等を用いて吸着剤を再生する吸着装置100(図3参照)が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
この吸着装置100では、吸着操作終了後の吸着塔100Aを、下記工程(a)〜(e)の順序で脱着する。
【0005】
なお、吸着塔100Aの再生処理時には、吸着塔100Bは再生運転中となっており、被処理ガス導入ライン113から導入された被処理ガスはブロア114により、配管115を介して吸着塔100Bに導入されている。
(a)まず、脱着する吸着塔100A内を配管106を介して接続された真空ポンプ107により減圧するとともに、該塔100A内を不活性ガスで置換する(不活性ガス供給装置108から、配管109及びこの配管109から分岐する配管109Aを介して導入する)操作を1回以上行う。
(b)置換した不活性ガスを、該吸着塔100Aを含む循環ライン(吸着塔100A、配管101、ブロア102、配管103、配管104、ガスヒータ105、吸着塔100A)中で循環させながら加温し、該塔100A内の吸着層を加熱する。
【0006】
(c)循環を止め、該吸着塔100A内を配管106に接続された真空ポンプ107で減圧し、被処理ガスの1/10以下の流量の不活性ガスを加温しながら吸着層の脱着を行った後、脱着ガスから冷却器110、除湿機111、深冷機112等を介して除去成分を凝縮回収する。
(d)脱着後の吸着塔100Aに、不活性ガスを被処理ガスの1/10以下の流量で流しながら吸着層のパージと冷却を行う。
(e)別の吸着運転中の吸着塔100Bの処理ガス(清浄ガス)を、配管116、配管117、配管104を介して、工程(d)を終了した吸着塔100Aに導入して吸着層を冷却し、冷却に用いた処理ガスを被処理ガス側に戻す。
【0007】
【特許文献1】
特開平6−226029号公報(第3,4頁、図1)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような方法では、上記した工程(c)の除去成分の回収工程において、不活性ガスの循環を止め、凝縮回収できなかった未凝縮の除去成分を吸着運転中の吸着塔100B内に戻している。除去成分の回収工程の開始当初段階においては、除去成分の量が多いため、未凝縮の除去成分の量も多くなる。これを吸着塔100Bに戻すことで、吸着塔100Aの脱着工程において、吸着塔100Bの吸着負荷が増大するという問題が生じる。
また、工程(c)で減圧操作を行うため、吸着塔100A,100Bを減圧に耐えられるよう肉厚で曲面構造としなければならない。これに加え、減圧するための真空ポンプ107等が必要となるため、高価な設備となるという問題がある。
【0009】
本発明の目的は、吸着運転中の吸着塔の吸着負荷が増大せず、設備の低コスト化を図ることができる吸着装置及び吸着方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の吸着装置は、吸着塔内に充填された吸着剤により有機成分を含む被処理ガス中の除去成分を吸着除去し、その吸着剤の再生を行う吸着装置であって、複数の吸着塔の被処理ガス供給口及び排出口に接続され、切り換え手段で循環経路を換えることにより、前記複数の吸着塔のうち何れかの吸着塔内にキャリアガスを循環させる循環ループと、前記循環ループに設けられ、前記吸着剤に吸着された除去成分の脱着温度まで、前記キャリアガスを加熱する加熱手段と、前記循環ループに接続され、前記吸着剤から脱着された除去成分を含むキャリアガスを冷却して、前記除去成分を凝縮する冷却部が設けられるとともに、前記冷却部による凝縮後のキャリアガスを再度、循環ループに戻す凝縮手段と、前記凝縮手段に設けられた前記冷却部により、前記吸着剤が吸着性能を発揮できる温度まで吸着剤冷却用のガスを冷却し、前記複数の吸着塔のうち、吸着運転中の他の吸着塔を介して再生処理中の前記吸着塔に導入する吸着剤冷却手段とを備えたことを特徴とする。
【0011】
ここで、被処理ガスのもととなる有機溶剤としては、以下のようなものが例示できる。合繊化繊工業においては、例えば、アセトン、トルエン、二硫化炭素等が挙げられる。合成樹脂工業においては、MEK(メチルエチルケトン)、THF(テトラヒドロフラン)、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、塩化メチレン等が挙げられる。合成・天然ゴム工業では、n−ヘキサン、ベンゼン等が挙げられる。合成皮革工業では、MEK、THF、ジメチルフォルムアミド等が挙げられる。
【0012】
医薬品工業においては、メタノール、エタノール等が挙げられる。加工紙工業においては、MEK、IPA(イソプロピルアルコール)、酢酸エチル、メチルセルソルブ等が挙げられる。フィルム工業では、THF、IPA、エタノール、塩化メチル等が挙げられる。粘着テープ工業では、MEK、IPA、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。磁気テープ工業では、アセトン、トルエン、二硫化硫黄等が挙げられる。
【0013】
合成樹脂工業においては、MEK、MIBK(イソブチルメチルケトン)、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、トルエン、キシレン等が挙げられる。塗装工業では、MEK、ブタノール、n−ヘキサン、トルエン等が挙げられる。印刷工業では、MEK、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。その他の分野では、硫化水素、塩化水素、亜硫酸ガス、クロロカーボン類、クロロフルオロカーボン類、ハイドロフルオロカーボン類、6弗化硫黄、亜酸化窒素等が挙げられる。
【0014】
また、吸着塔に充填される吸着剤としては、熱履歴に耐えるものであれば特に限定されない。例えば、シリカゲル、ゼオライト、活性炭等各種の吸着剤を使用することができる。
【0015】
このような本発明によれば、循環ループには、加熱手段と、凝縮手段とが設けられているため、加熱手段により加熱されて吸着剤の除去成分を脱着させたキャリアガスを凝縮手段により冷却し、除去成分を除去し、再度、循環ループに戻している。この間、キャリアガスが吸着運転中の吸着塔内に流れることはほとんどないので、吸着運転中の吸着塔の負荷を増大させることはない。
また、本発明の吸着装置では、吸着塔内を減圧する減圧工程が不要であるため、吸着塔を減圧に耐えうる特殊な構造とする必要がなく、吸着塔にかかるコストを低減することができる。また、減圧用の真空ポンプ等が不要となるため、部品点数を削減でき、装置のコストを低減することができる。
【0016】
さらに、凝縮手段に設けられた冷却部により、吸着剤を冷却するためのガスの冷却を行っているため、吸着剤冷却手段に新たな冷却部を設ける場合に比べ、冷却部の数を削減できる。これにより吸着装置のコストを低減することができる。
また、本発明では、循環ループ内で加熱手段により加熱されたキャリアガスを循環させる構成を採用しているので、キャリアガスの循環量により、吸着塔の再生時間を調整することができる。
【0017】
さらに、吸着剤の冷却を行う吸着剤冷却手段は、冷却部で冷却した吸着剤冷却用のガスを運転処理中の吸着塔を介して再生処理中の吸着塔内に導入する構成であるため、冷却部による冷却により、吸着剤冷却用のガスの体積が収縮した場合であっても、運転処理中の吸着塔からの処理済の清浄ガスを加えることができ、これにより、体積収縮分を補給することができる。
【0018】
この際、前記凝縮手段により除去成分が除去され、前記循環ループに戻されたキャリアガスは、再度加熱手段により加熱されて循環ループ内を循環することが好ましい。
凝縮手段で、循環ループを循環するキャリアガスの一部を凝縮することで、循環ループ内には、除去成分が除去されたキャリアガスが順次導入される。そして、この除去成分をほとんど含まないガスが加熱手段により加熱され、再度、吸着剤の除去成分の脱着を行うため、吸着剤からの除去成分の脱着を効率よく行うことができる。
【0019】
この際、前記冷却部からのガスの排出経路を切り換えることにより、前記凝縮手段と、前記吸着剤冷却手段とが切り換えられ、この切り換えに応じて前記冷却部では、除去成分を含有するキャリアガスの冷却及び吸着剤冷却用のガスの冷却のうち何れか一方が行われること好ましい。
除去成分を除去するためのキャリアガスの冷却と、吸着剤冷却用のガスの冷却とを同時に行った場合には、冷却部に大きな負荷がかかることとなる。
これに対し、本発明によれば、除去成分を含有するキャリアガスの冷却及び吸着剤冷却用のガスの冷却の何れか一方のみが冷却部で行われ、これらが同時に行われることがないので、冷却部に大きな負荷がかかることがない。
【0020】
また、本発明では、前記吸着剤は、JIS−A型のシリカゲルであることが好ましい。さらには、比表面積が500m2/g以上であり、関係湿度50%での吸湿率25%が以下の疎水性シリカゲルであることが好ましい。
JIS−A型のシリカゲルは、非常に微細で多孔質な毛細管構造になっており、被処理ガス中の除去成分の吸着力が高いため、吸着塔内の吸着剤の再生に長時間かかることがあっても、運転中の他の吸着塔内の吸着剤が破過しない。
また、JIS−A型のシリカゲルは、空気中の湿分を吸着しにくく、湿分による吸着負荷や脱着負荷が少ないため、吸着塔内への吸着剤の充填量が少なくてすみ、再生時間を短縮することができる。
さらに、比表面積が500m2/g以上であり、関係湿度50%での吸湿率25%以下の疎水性シリカゲルとすれば、比表面積が大きく、かつ、吸湿率が小さいので、上述したような効果をより発揮することができる。
【0021】
また、本発明では、前記吸着塔は、その下部が被処理ガスの供給口とされ、その上部が排出口とされ、前記循環ループは、前記吸着塔の排出口から供給口に向かって前記キャリアガスを循環させる送風手段を備えていることが好ましい。
吸着運転中の吸着塔においては、排出口側の吸着剤の精度により、排出される清浄ガスの清浄度(除去成分の除去の度合い)が左右される。すなわち、排出口側の吸着剤の吸着力が強ければ、排出される清浄ガス中には除去成分がほとんどないものとなる。
このような本発明によれば、キャリアガスを吸着塔の排出口から供給口に向かって循環させているため、吸着剤のうち、排出口側(上部側)に位置する吸着剤が高度に再生される。これにより、吸着塔を吸着運転させた際、排出口側の吸着剤の吸着力が高まるので、排出される清浄ガスの清浄度をより高めることができる。
【0022】
さらに、本発明では、前記吸着剤冷却手段において、前記循環ループの送風手段により、前記冷却部で冷却された吸着剤冷却用のガスを再生処理中の吸着塔の供給口に導入することが好ましい。
キャリアガスを循環させる送風手段により、冷却された吸着剤冷却用のガスを再生処理中の吸着塔の供給口に導入することで、吸着剤冷却手段において、送風手段を別途設ける必要がなく、これにより吸着装置の部材点数を削減することができる。
【0023】
以上のような、本発明は、吸着装置としてのみならず、吸着方法としても成立しうるものである。すなわち、本発明の吸着方法は、吸着塔内に充填された吸着剤により有機成分を含む被処理ガス中の除去成分を吸着除去し、その吸着剤の再生を行う吸着方法であって、複数の吸着塔の被処理ガス供給口及び排出口に接続され、切り換え手段で循環経路を換えることにより、前記複数の吸着塔のうち、何れかの吸着塔内に循環ループによりキャリアガスを循環させるとともに、前記循環ループに設けられた加熱手段により、前記吸着剤に吸着された除去成分の脱着温度まで、前記キャリアガスを加熱して、前記吸着塔内の吸着剤から除去成分を脱着させる脱着工程と、前記循環ループに接続された凝縮手段に設けられた冷却部により、除去成分を含むキャリアガスを冷却して前記除去成分を凝縮し、凝縮後のキャリアガスを再度、循環ループに戻す凝縮工程と、前記循環ループにキャリアガスをパージして除去成分を含むキャリアガスを取り除くスウィープ工程と、このスウィープ工程の後、吸着剤冷却用のガスを前記吸着剤が吸着性能を発揮できる温度まで、前記冷却部により冷却し、前記複数の吸着塔のうち吸着運転中の他の吸着塔を介して、再生処理中の前記吸着塔に導入する吸着剤冷却工程とを備えたことを特徴とする。
【0024】
このような本発明によれば、前述した吸着装置と同様の効果を奏することができる。
さらに、吸着塔内の吸着剤の脱着工程が終了した状態では、吸着塔や循環ループ内のキャリアガスには、吸着剤から脱着した除去成分が、冷却部の温度における平衡濃度で含有されている。除去成分が除去された吸着剤を吸着性能が発揮できる温度まで冷却する必要があるが、このまま冷却したのでは吸着塔内の温度の低下につれて、除去成分が再び吸着剤に吸着される場合がある。そこで、本発明のように、スウィープ工程を設け、除去成分を含むキャリアガスを取り除き、その後、吸着剤冷却工程を設けることで、吸着剤に除去成分が再吸着することが防止できる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。
図1には、本実施形態の吸着装置1が示されている。この吸着装置1は、2塔の吸着塔10A,10Bと、この吸着塔10A,10Bに被処理ガスを導入するための被処理ガス導入ライン11と、吸着塔10A,10Bからの清浄ガスを放出するための放出ライン12と、循環ループ20とを備えている。
吸着塔10A、10Bは、被処理ガス導入ライン11を介して導入される有機成分を含む被処理ガス中の除去成分(例えば、有機溶剤等)を吸着剤により吸着し、除去成分が除去された清浄な排気ガス(清浄ガス)を放出ライン12から放出する設備である。
なお、本実施形態では、吸着塔を2塔としたが、これに限らず、吸着運転時間と、吸着剤の再生処理時間を考慮して吸着塔を3塔以上としてもよい。
【0026】
吸着塔10A、10B内に充填される吸着剤は、JIS−A型のシリカゲルであり、比表面積が500m2/g以上、関係湿度50%での吸湿率が25%以下の疎水性シリカゲルである。このような疎水性シリカゲルは、JIS−A型のシリカゲルを400〜600℃で、20分〜4時間程度焼成することで得られる。また、シランカップリング剤等で表面処理することによっても得ることができる。
なお、本実施形態では、吸着剤をシリカゲルとしたが、これに限らず、熱履歴に耐えられるものであればよく、例えば、ゼオライト等であってもよい。また、活性炭を使用してもよい。
【0027】
被処理ガス導入ライン11は、途中で配管13A,13Bによって2本に分岐され、この配管13A,13Bが、吸着塔10A,10Bの下部に設けられた供給口にそれぞれ接続されている。この配管13A,13Bの途中にはバルブ131A,131Bが設けられている。
一方、吸着塔10A,10Bの上部に設けられる排出口には、それぞれ、配管15A,15Bが接続されている。この配管15A,15Bには、バルブ151A,151Bが設けられ、配管15A,15Bは、バルブ151A,151Bの下流側で合流して放出ライン12に接続される。
【0028】
循環ループ20は、吸着塔10A,10Bの被処理ガス供給口及び排出口に接続され、切り換え手段であるバルブにより循環経路を換えることにより、吸着塔10A,10Bのうち何れか一方の吸着塔内にキャリアガスを循環させるものである。すなわち、本実施形態の循環ループ20は、吸着塔10A,10Bの供給口に接続された配管13A、13Bと、この配管13A、13Bから分岐された配管21A,21Bと、この配管21A,21Bの合流点に設置されるブロア22と、ブロア22の下流側に配置される配管23と、この配管23から分岐する配管24A,24Bと、この配管24A,24Bが接続され、吸着塔10A,10Bの排出口に接続された配管15A,15Bとを備えて構成されている。
【0029】
配管21A,21Bには切り換え手段となるバルブ211A,211Bがそれぞれ設けられている。また、配管23にもバルブ231が取り付けられている。さらに、配管24A,24Bにも切り換え手段となるバルブ241A,241Bが、それぞれ取り付けられている。
ブロア22は、吸着塔10A,10Bの排出口から供給口に向かって循環ループ20内のキャリアガスを循環させる送風手段である。
そして、このような循環ループ20のうち、配管13B,21B、ブロア22、配管23,24B,15Bが、吸着塔10Bを再生処理する際に使用される第1の経路となり、配管13A,21A、ブロア22、配管23,24A,15Aが吸着塔10Aを再生処理する際に使用される第2の経路となる。この第1の経路と、第2の経路とは、前述した切り換え手段となるバルブを開閉することにより、切り換えられる。
【0030】
また、循環ループ20には、循環ループ20内にキャリアガスを導入するキャリアガス導入ライン25及び、キャリアガスを加熱する加熱手段としての加熱器30が設けられている。
ここで、キャリアガスは、不活性ガスを使用することが好ましく、不活性ガスとしては、窒素ガス、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を採用することができる。この中でも、安価な窒素ガスを用いることがより好ましい。
【0031】
加熱器30は、配管23のバルブ231と、配管24A,24Bへの分岐点との間に取り付けられており、循環ループ20内を循環するキャリアガスを、吸着剤に吸着された除去成分の脱着温度まで加熱するものである。この加熱器30は、スチームを熱源とするものであり、プレートフィン式、シェルアンドチューブ式、プレート式等の熱交換器である。
なお、本実施形態では、加熱器30の熱原としてスチームを採用したが、これに限られず、例えば、熱水、熱油、熱源としてもよい。さらに、加熱器として電気ヒータを使用してもよい。
【0032】
以上のような、循環ループ20には、吸着剤から除去成分を脱着させたキャリアガスを冷却して、除去成分を凝縮し、さらに、この除去成分を除去したキャリアガスを循環ループ20に戻す凝縮手段40と、吸着剤冷却用のガスを冷却して吸着剤の温度を下げる吸着剤冷却手段50とが接続されている。
【0033】
この凝縮手段40は、循環ループ20の配管23のブロア22と、バルブ231との間の部分に接続された配管41と、この配管41に接続された冷却部42と、冷却部42に接続された配管43と、配管43から分岐して、配管21Bに接続される配管44とを備える。なお、配管43は配管44と、配管51とに分岐されている。
配管41には、バルブ411が取り付けられている。また、配管44にもバルブ441(切り換え手段)が取り付けられている。
【0034】
冷却部42は、冷却器421と、凝縮液受槽422と、ポンプ423と、チラーユニット424とを備えており、熱交換用冷媒(例えば、水等)の循環のための閉ループを形成している。
冷却器421としては、プレートフィン式、シェルアンドチューブ式、プレート式等の一般的な熱交換器を採用することができるが、凝縮液が凝縮液受槽422にスムーズに落下するものが好ましい。
【0035】
また、冷却器421の上部に配管43が接続されており、冷却器421の冷却により凝縮しない非凝縮性のガスは上部から排出される構成となっている。このようにすることで、非凝縮性のガスを確実に排出することができる。そして、このように、非凝縮性のガスを確実に排出させることで、冷却器421内の伝熱面が非凝縮性のガスでブロッキングされてしまうことがなく、伝熱効果、すなわち、冷却効果の低減を防止することができる。
【0036】
凝縮液受槽422は、冷却器421の下部から延びる凝縮液導入管422Aに接続されている。ここで、凝縮液導入管422Aは、重質液でシールされたシール管である。一般に、被処理ガス中には、空気に由来する水分が含まれており、吸着剤は除去成分と、この水分とを吸着する。そして、この吸着剤から除去成分を脱着させる際に、水分も脱着されることとなるので、キャリアガスは水分を含有するものとなる。従って、このキャリアガスを凝縮した際に、凝縮液は、水槽と、有機物層の2層となることが多い。そのため、回収した凝縮液の2層の界面が乱れないように、凝縮液導入管422Aをシール管とすることが好ましいのである。
なお、凝縮液が2層に分離するような場合には、分離効果を確保できるように滞留時間を持たせることが好ましい。
【0037】
また、凝縮液受槽422には、凝縮液受槽422内の気層部分と連通するベント(図示略)が設けられている。凝縮液を凝縮液受槽422に落とす際に、同体積のガスを冷却器421に戻す必要があり、前記ベントは、同体積のガスを送り込むことに使用される。また、凝縮液が所定量溜まった場合には、凝縮液受槽422から凝縮液を排出させる必要があり、その際に凝縮液と同体積のガスを送り込むのにも前記ベントが使用される。
なお、本実施形態では、冷却器421と、凝縮液受槽422とを別体としたが、これに限らず、凝縮液の量が少ない場合には、冷却器421の下部にブーツとして凝縮液受槽を設置してもよい。さらに、冷却器421と、凝縮液受槽422とを一体化させて、冷却器421内のガスを下降流として凝縮液とともに受槽に導入し、受槽内で気液分離した後、非凝縮ガスを抜き出す構成としてもよい。この場合、非凝縮ガスの抜き出し口には、非凝縮ガス中に液滴が混在してしまうことを防止するためのデミスタを設置することが好ましい。
【0038】
ポンプ423は、凝縮手段40の閉ループ内に熱交換用冷媒を循環させるものである。
チラーユニット424は、熱交換用冷媒を冷却するものである。冷媒の温度は凝縮させようとする除去成分がどのような蒸気圧特性を示すかに依存する。一般的には、除去成分の蒸気圧が10〜20Torr以下になるような温度とすることが好ましい。例えば、除去成分がベンゼン(融点5.5℃)である場合には、冷却媒体を7〜10℃に冷却することが好ましい。
【0039】
吸着剤冷却手段50は、再生処理中の吸着塔内の吸着剤を冷却するものである。この吸着剤冷却手段50は、吸着塔10A,10B内の吸着剤が吸着性能を発揮できる温度まで、吸着剤冷却用のガスを冷却し、このガスを吸着塔10A,10Bのうち、吸着運転中の吸着塔(例えば、吸着塔10A)を介して再生処理中の吸着塔(例えば、吸着塔10B)に導入する。
【0040】
吸着剤冷却手段50は、循環ループ20の配管23のブロア22とバルブ231との間の部分に接続された配管41と、この配管41に接続された冷却部42と、冷却部42に接続された配管43と、配管43から分岐して配管13Bのバルブ131Bの前段部分に接続される配管51と、配管13B,13Aと、配管15A,15Bと、配管15Bのバルブ151Bの後段部分に接続される配管52と、配管52に接続されるブロア53と、ブロア53の排出方向先端から延びる配管54と、この配管54から分岐し、その先端が配管23の加熱器30及び配管24A,24Bへの分岐点の間に接続される配管55と、配管24A,24Bと、配管21A,21Bと、ブロア22とを備えている。
【0041】
このような吸着剤冷却手段50では、凝縮手段40を構成する配管41、冷却部42、配管43、循環ループ20を構成する配管13A、13B、配管24A,24B、配管21A,21B、ブロア22を使用している。
なお、配管54は、配管55と、配管56とに分岐しており、配管56の先端は、配管23の加熱器30と、バルブ231との間に接続されている。また、この配管56には、バルブ561が設けられている。
配管51には、切り換え手段となるバルブ511が設けられている。また、配管55にもバルブ551が設けられている。
ブロア53は、ブロア22と略同様の性能を有するものであり、冷却部42で吸着剤を冷却するために冷却されたガスを吸着運転中の吸着塔を介して、再生処理中の吸着塔に送る役割を果たしている。
【0042】
以上のような、吸着剤冷却手段50と、凝縮手段40とは、冷却部42からのガスの排出経路を切り換え手段であるバルブ511、バルブ441で切り換えることにより、切り換えられ、この切り換えに応じて冷却部42では、キャリアガスの冷却又は吸着剤冷却用のガスの冷却の何れか一方のみが行われる。
【0043】
次に、このような吸着装置1の運転方法について説明する。
吸着装置1では、吸着塔10A,10Bは、吸着と、再生とを交互に切り換えて使用する。ここでは、吸着塔10Aが吸着運転を行い、吸着塔10Bが再生処理を行う場合について詳細に説明する。
(吸着塔10Aの吸着運転)
まず、バルブ131A、151Aを開き、バルブ211A、241Aを閉じ、被処理ガス導入ライン11から被処理ガスを吸着塔10Aに導入し、清浄ガスを配管15A及び放出ライン12から放出する。
【0044】
(吸着塔10Bの再生処理)
吸着塔10Bは、吸着運転が終わった状態となっている。
吸着塔10Bの再生処理は、再生処理準備工程、脱着工程、凝縮工程、スウィープ工程、吸着剤冷却工程を備えている。この再生処理に要する時間は、例えば、1時間〜3時間程度である。
【0045】
(再生処理準備工程)
バルブ131B,151B、231,441,561,551を閉じ、バルブ211B,241B,411,511を開く。次に、循環ループ20のインベントリーの約60%以上に相当する量のキャリアガスを、キャリアガス導入ライン25から被処理ガス導入ライン11へ向かって導入する。このキャリアガスは、キャリアガス導入ライン25から、配管23、加熱器30、配管24B、吸着塔10B、配管13B、配管21B、ブロア22、配管41、冷却部42、配管43、配管51へと流れる。
このようにすることで、循環ループ20の第1の経路内の酸素濃度を最小燃焼酸素濃度(MOC)以下に下がることとなる。
【0046】
(脱着工程)
まず、ブロア22を起動し、さらに加熱器30を駆動する。次に、バルブ231、411を開き、バルブ511を閉じる。これにより、キャリアガスは、循環ループ20の第1の経路を流れることとなる。具体的にはキャリアガスはブロア22,配管23、加熱器30、配管24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B、ブロア22と循環することとなる。キャリアガスの循環量は、所定の時間内に、除去成分が脱着する温度まで吸着剤を加熱するのに必要な量とする。加熱器30によりキャリアガスは、約40〜160℃になるまで加熱される。また、キャリアガスを前記温度で5分以上保持できるよう加熱器30より加熱する。このようにして加熱されたキャリアガスにより吸着剤から除去成分が脱着されることとなる。
【0047】
(凝縮工程)
さらに、第1の経路を循環し、吸着剤からの除去成分を含有するキャリアガスの一部を凝縮手段40により冷却し、除去成分を凝縮した後、再度循環ループ20の第1の経路内に戻す。具体的には、ブロア22から排出されたキャリアガスの一部を配管41、冷却部42、配管43、配管44へと流す。そして、キャリアガスは、配管44から配管21Bに流れ、第1の経路を再度循環することとなる。
【0048】
凝縮手段40側に流すキャリアガスの量は、第一の経路内を循環するキャリアガスの5〜30%程度が好ましい。5%を大きく下回ると、第1の経路内を循環する除去成分の濃度が高くなり、吸着剤からの除去成分の除去効率が低下する可能性がある。また、30%を大きく超えた場合には、凝縮及び加熱に大きなエネルギーを必要とするため、コストが増加する可能性がある。
ここで、循環ループ20の第1の経路内の温度上昇と、吸着剤からの除去成分の発生により、第1の経路内の圧力が上昇することがある。このような場合には、バルブ511を開き、第1の経路内の圧力を調整することが好ましい。
【0049】
(スウィープ工程)
次に、キャリアガス導入ライン25からキャリアガス(窒素ガス)を導入し、循環ループ20の第1経路内のスウィープを行う。まず、ブロア22の吸い込み側ダンパーを絞ること又は、インバータ制御等によりブロア22の回転数を下げることにより、キャリアガスの流量を設定する。この流量は、ブロア22がサージング(流量が周期的に変動)しない条件とする。
【0050】
その後、バルブ231,441を閉じ、バルブ511を開き、キャリアガス導入ライン25から循環ループ20内の第1の経路のインベントリーの約60%に相当するキャリアガスを導入し、被処理ガス導入ライン11に向けてパージする。具体的には、キャリアガス導入ライン25から導入されたキャリアガスは、配管23,24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B、ブロア22、配管41、冷却部42、配管43,51と流れる。これにより、第1の経路内の酸素濃度を最小燃焼酸素濃度(MOC)以下に下がることとなる。
【0051】
次に、キャリアガス導入ライン25からのガスの導入を停止するとともに、加熱器30の駆動を停止する。その後、バルブ561を開き、さらに、ブロア53を起動する。すると、吸着塔10Aからの清浄ガスが配管15A,52、ブロア53、配管56、配管23,24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B,ブロア22、配管41、冷却部42、配管43、配管51と流れ、吸着塔10B及び循環ループ20の第1の経路がスウィープされる。ここで、スウィープを行うために必要なガスの量は一般には、吸着塔10Bの容積の1〜10倍程度である。
なお、キャリアガス導入ライン25からのキャリアガスの供給に余裕がある場合には、キャリアガスの導入を継続し、吸着塔10Aからの清浄ガスの導入を省くことも可能である。
【0052】
(吸着剤冷却工程)
冷却は、前記スウィープ操作で循環ループ20の第1の経路内にパージされた清浄ガスを吸着剤冷却用のガスとして使用し、これを冷却部42で冷却し、吸着運転中の吸着塔10Aを介して吸着塔10Bに導入することで行われる。
まず、バルブ561を閉め、バルブ551を開く。次に、ブロア22,53の吸い込み側のダンパーを開けるか、インバータ制御等によりブロア22,53の回転数を上げることにより、流量を設定する。この流量は、所定の時間内で吸着塔10B内の吸着剤を冷却するのに必要な流量とする。
【0053】
第1の経路中の清浄ガスは、吸着剤冷却手段50の配管41、冷却部42、配管43,51,13A、吸着塔10A、配管15A,52、ブロア53、配管54,55,23,24B,15Bを介して吸着塔10Bに導入される。さらに、配管13B,21B、ブロア22を介して、再度配管41に導入される。
このように清浄ガスを循環させ、吸着塔10Bから排出される清浄ガスの温度が所定の温度まで下がった時点で冷却操作を終了し、ブロア53,22を停止させる。
【0054】
以上のようにして、吸着塔10Bの再生処理は終了する。次に、吸着塔10Bを吸着運転させ、吸着塔10Aの再生処理を行う。まず、バルブ131B,151Bを開き、バルブ211B,241Bを閉じる。また、バルブ131A,151A、231,441,561,551を閉じ、バルブ211A,241A,411,511を開く。そして、前述した再生処理準備で述べた手順と略同様にキャリアガスを充填し、再生処理を行う。
【0055】
従って、このような第1実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
(1−1)循環ループ20には、加熱器30と、凝縮手段40とが設けられているため、加熱器30により加熱されて吸着剤の除去成分を脱着させたキャリアガスを凝縮手段40により冷却して、除去成分を除去し、再度、循環ループ20に戻している。この間、キャリアガスが吸着運転中の吸着塔(例えば、吸着塔10A)内に流れることはほとんどないので、吸着運転中の吸着塔10Aの負荷を増大させることはない。
なお、脱着工程において、循環ループ20内の圧力が上昇した場合に、バルブ511を開き、圧力を調整するとしたが、この際、配管51から排出されるガスは、非常に微量であるため、このガスが配管51から配管13Aに導入されても、吸着塔10Aには、大きな負荷がかからない。
また、スウィープ工程においても、未凝縮の除去成分を含むキャリアガスを吸着塔10A内に導入することとなるが、この除去成分の量も非常に微量であるため、吸着塔10Aには、大きな負荷がかからない。
【0056】
(1−2)また、凝縮手段40で、循環ループ20を循環するキャリアガスの一部を凝縮することで、循環ループ20内には、除去成分をほとんど含まないキャリアガスが順次導入される。そして、この除去成分をほとんど含まないキャリアガスが加熱器30により加熱されて、吸着剤の除去成分の脱着を行うため、吸着剤からの除去成分の脱着を効率よく行うことができる。
【0057】
(1−3)吸着装置1では、吸着剤から除去成分を除去する際に、減圧を行う必要がないため、吸着塔10A,10Bを減圧に耐えうる構造とする必要がなく、吸着塔10A,10Bにかかるコストを低減することができる。また、減圧を行う必要がないので、減圧用の真空ポンプ等が不要であり、吸着装置1の部品点数を削減でき、コスト低減を図ることができる。
【0058】
(1−4)さらに、吸着剤冷却手段50では、凝縮手段40に設けられた冷却部42により、吸着剤を冷却するためのガスの冷却を行っている。従って、吸着剤冷却手段50に新たな冷却部を設ける場合にくらべ、冷却部の数を削減できる。これにより吸着装置1のコストを低減することができる。
(1−5)循環ループ20内で加熱器30により加熱されたキャリアガスを循環させる構成を採用しているので、キャリアガスの循環量により、吸着塔10A,10Bの再生時間を調整することができる。
【0059】
(1−6)吸着剤の冷却の際に、運転処理中の吸着塔(例えば吸着塔10A)を介して再生処理中の吸着塔(例えば吸着塔10B)内に吸着剤冷却用のガスを導入する構成としたので、吸着剤冷却用のガスの冷却に伴って体積が収縮した場合であっても、運転処理中の吸着塔10Aからの処理済の清浄ガスを加えることができ、体積収縮分を補給することができる。
【0060】
(1−7)除去成分を除去するためのキャリアガスの冷却と、吸着剤を冷却するための吸着剤冷却用のガスの冷却とを同時に行った場合には、冷却部42に大きな負荷がかかることとなる。これに対し、本実施形態では除去成分を除去するための冷却と、吸着剤冷却用のガスの冷却の何れか一方のみが冷却部42で行われ、これらが同時に行われることがないので、冷却部42に大きな負荷がかかることがない。
【0061】
(1−8)本実施形態では、吸着剤冷却手段50は、凝縮手段40を構成する配管41、42、43、循環ループ20を構成する配管13A、13B、24A,24B、21A,21B、ブロア22を備えて構成されているため、吸着剤冷却手段50として設ける新たな配管等の数を削減できる。
【0062】
(1−9)吸着塔10A,10B内に充填されているJIS−A型のシリカゲルは、非常に微細で多孔質な毛細管構造になっており、被処理ガス中の除去成分の吸着力が高いため、吸着塔(例えば吸着塔10B)内の吸着剤の再生に長時間かかっても、運転中の他の吸着塔(例えば、吸着塔10A)内の吸着剤が破過しない。
また、JIS−A型のシリカゲルは、空気中の湿分を吸着しにくく、湿分による吸着剤への吸着負荷や脱着負荷が少ないため、吸着塔10A,10B内への吸着剤の充填量が少なくてすみ、再生時間を短縮することができる。
さらに、吸着剤を比表面積が500m2/g以上であり、関係湿度50%での吸湿率が25%以下の疎水性シリカゲルとしており、比表面積が大きく、かつ、吸湿率が小さいので、上述したような効果をより発揮することができる。
【0063】
(1−10)吸着運転中の吸着塔においては、排出口側の吸着剤の精度により、排出される清浄ガスの清浄度(除去成分の除去の度合い)が左右される。すなわち、排出口側の吸着剤の吸着力が強ければ、排出される清浄ガス中には除去成分がほとんどないものとなる。
本実施形態では、キャリアガスを吸着塔10A,10Bの排出口から供給口に向かって循環させているため、吸着剤のうち、排出口(上部側)に位置する吸着剤が高度に再生される。これにより、吸着塔10A,10Bを吸着運転させた際、排出される清浄ガスの清浄度をより高いものとすることができる。
【0064】
(1−11)吸着塔10A,10Bは、被処理ガスの供給口が下部側に設けられており、排出口が上部側に設けられているため、被処理ガスが上昇流として吸着塔10A,10B内を流れることとなる。
通常、吸着塔10A,10B内の吸着剤には、微粉末等が含まれているため、被処理ガスを下降流となるように供給すると、吸着剤の層が微粉末により閉塞され、圧力損失が増大してしまい、被処理ガスがスムーズに流れなくなる可能性がある。これに対し、本実施形態のように、処理ガスが上昇流として吸着塔10A,10B内を通るような構成とすることで、スムーズに被処理ガスを流すことができ、効率的に被処理ガスの吸着処理を行うことができる。
【0065】
(1−12)吸着塔10A,10B内の吸着剤の脱着工程が終了した状態では、吸着塔10A,10Bや循環ループ20内のキャリアガスには、吸着剤から脱着した除去成分が、冷却部42の温度における平衡濃度で存在する。除去成分が除去された吸着剤を吸着性能が発揮できる温度まで冷却する必要があるが、このまま冷却したのでは吸着塔10A,10B内の温度の低下につれて、除去成分が再び吸着剤に吸着される場合がある。そこで、本実施形態のように、スウィープ工程を設け、除去成分を含むキャリアガスを取り除き、その後、吸着剤冷却工程を設けることで、吸着剤に除去成分が再吸着することが防止できる。これにより、吸着剤の吸着性能の低下を防ぐことができる。
【0066】
次に、図2を参照して本発明の第2実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明した部分と同一の部分については、同一符号を付してその説明を省略する。
前記実施形態では、吸着装置1は、ブロアを2基備えていた。これに対し、本実施形態の吸着装置2は、ブロアを1基しか備えていない。
すなわち、本実施形態の吸着装置2のブロア61(送風手段)は、吸着塔10A,10Bの排出口から供給口に向かって循環ループ60内のキャリアガスを循環させる役割と、冷却部42で吸着剤を冷却するために冷却されたガスを吸着運転中の吸着塔を介して、再生処理中の吸着塔に送る役割を果たしている。
本実施形態の循環ループ60は、配管13A、13Bと、この配管13A、13Bから分岐された配管21A,21Bと、この配管21A,21Bを合流させた配管23と、この配管23に接続されたブロア61と、ブロア61に接続された配管26と、この配管26から分岐する24A,24Bと、この配管24A,24Bが接続される配管15A,15Bとを備えて構成されている。
【0067】
また、前記実施形態では、凝縮手段40の冷却部42に接続された配管43から分岐した配管44は、配管21Bに接続されていたが、本実施形態では、冷却部42に接続された配管43から分岐した配管71は、配管23のバルブ231と、加熱器30との間に接続されている。
本実施形態の凝縮手段70は、配管23のバルブ231及び配管21A,21Bの合流地点の間に接続された配管41と、冷却部42と、冷却部42に接続された配管43と、この配管43から分岐し、配管23のバルブ231と加熱器30との間に接続された配管71とを備える。この配管71には切り換え手段となるバルブ711が設けられている。
【0068】
さらに、前記実施形態では、吸着剤冷却手段50において、配管52は、ブロア53に接続されていたが、本実施形態の吸着剤冷却手段80においては、配管52はブロアに接続されておらず、配管56と、配管55とに分岐されている。
すなわち、本実施形態の吸着剤冷却手段80は、循環ループ20の配管23に接続された配管41と、この配管41に接続された冷却部42と、冷却部42に接続された配管43と、配管43から分岐して配管13Bのバルブ131Bの前段部分に接続される配管51と、配管13B,配管13Aと、配管15A,15Bと、配管15Bのバルブ151Bの後段部分に接続される配管52と、この配管52から分岐し、その先端が配管23に接続される配管55と、ブロア61と、配管24A,24Bと、配管21A,21Bとを備えている。
【0069】
このような吸着装置2の運転方法は、前記実施形態と略同様であるが、吸着塔10Bの再生処理において、再生処理準備工程では、キャリアガス導入ライン25から、配管23、加熱器30、配管24B、吸着塔10B、配管13B、配管21B、配管41、冷却部42、配管43、配管51へと流れる。
【0070】
脱着工程では、前記実施形態のブロア22にかえてブロア61を駆動する。キャリアガスは、配管23、加熱器30、ブロア61、配管24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B、配管23と循環することとなる。
また、凝縮手段70では、循環ループ20内を循環するキャリアガスの一部を配管41、冷却部42、配管43、配管71へと流す。
【0071】
スウィープ工程では、キャリアガス導入ライン25から導入されたキャリアガスは、配管23、ブロア61、配管24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B、配管41、冷却部42、配管43,51と流れる。そして、キャリアガス導入ライン25からの導入を停止し、吸着塔10Aからの清浄ガスを配管15A,52、配管56、配管23、ブロア61、配管24B,15B、吸着塔10B、配管13B,21B、配管41、冷却部42、配管43、配管51と流す。
【0072】
吸着剤冷却工程では、バルブ561を閉め、バルブ551を開く。そして、循環ループ60の第1の経路中の清浄ガスを配管41、冷却部42、配管43,51,13A、吸着塔10A、配管15A,52,55,23、ブロア61、配管24B,15Bを介して吸着塔10Bに導入する。さらに、配管13B,21Bを介して、再度配管41に導入する。
【0073】
このような本実施形態では。前記実施形態の(1−1)〜(1−12)と略同様の効果を奏することができるうえ、以下の効果を奏することができる。
(2−1)吸着装置2は、ブロア61を1基のみ有するものであるため、第1実施形態のように2基備える場合に比べ、吸着装置2の構造を簡略化でき、コストダウンを図ることができる。
【0074】
なお、本発明は前述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記各実施形態では、吸着装置1,2は、スウィープ工程を実施できるものであるとしたが、これに限らず、スウィープ工程が実施できないような構成であってもよい。この場合には、再生処理時間を短縮することができる。
また、前記各実施形態では、吸着剤冷却手段50,80は、凝縮手段40,70を構成する配管41、冷却部42、配管43、循環ループ20,60を構成する配管13A、13B、配管24A,24B、配管21A,21Bを備えて構成されているとしたが、これに限らず、凝縮手段40,70や循環ループ20,60とは別の配管を設けて構成してもよい。
【0075】
さらに、前記各実施形態では、吸着塔10A,10Bの被処理ガスの排出口から循環ループ20,60内のキャリアガスを導入し、被処理ガスの供給口からキャリアガスを排出する構成としたが、これに限らず、供給口からキャリアガスを供給し、排出口からキャリアガスを排出させてもよい。
また、吸着塔10A,10Bの下部を被処理ガスの供給口とし、上部を排出口としたが、これに限らず、上部を供給口、下部を排出口としてもよい。
【0076】
【実施例】
以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。
[実施例1]
前記第1実施形態と同様の吸着装置1を用いて以下に示すような被処理ガスの処理を行った。
(被処理ガスの流量及び組成)
【0077】
吸着塔10A,10Bに充填された吸着剤は、JIS−A型のシリカゲルを500℃、2時間焼成した疎水性のシリカゲルである。比表面積は580m2/g、関係湿度50%での吸湿率は21%である。この吸着剤の充填量は600kgである。
【0078】
(再生処理の条件)
また、再生処理の条件は、以下のようである。
吸着剤の冷却は、1000 m3/hrで、ガスを30℃に冷却して30分間循環させ、吸着剤の温度を40℃以下まで冷却した。(再生処理中の吸着塔の排出口付近で32℃、供給口付近で40℃であった。)
【0079】
以上のような条件のもと、吸着運転、再生処理の切り換えのインターバルを1時間40分に設定した。
(結果)
吸着塔から排出されたガス中にはトルエンが40体積ppm含まれており、除去効率は96%となった。
【0080】
[実施例2]
実施例1と同様に、吸着装置1を用いて以下に示すような被処理ガスの処理を行った。
(被処理ガスの流量及び組成)
【0081】
(再生処理の条件)
再生処理の条件は、以下のようである。
吸着剤の冷却は、2000 m3/hrで、ガスを30℃に冷却して40分間循環させ、吸着剤の温度を40℃以下まで冷却した。(再生処理中の吸着塔の排出口付近で33℃、供給口付近で40℃であった。)
他の条件は実施例1と同じである。
【0082】
(結果)
吸着塔から排出されたガス中にはイソプロピルアルコールが30体積ppm含まれており、除去効率は95%となった。また、吸着塔から排出されたガス中には酢酸プロピルが10体積ppm含まれており、除去効率は97%となった。
【0083】
[実施例3]
吸着剤としてJIS−B型のシリカゲルを500℃、2時間焼成したもの(比表面積450m2/g、関係湿度50%での吸湿率28%)を用いた。他の条件は実施例1と同じである。
(結果)
吸着塔から排出されたガス中にはトルエンが150体積ppm含まれており、除去効率は85%となった。
【0084】
[実施例1〜3の考察]
以上のような実施例1〜3の結果より、除去効率が高いため、吸着負荷を増大させることなく、被処理ガスより除去成分を除去していることが確認された。
【0085】
【発明の効果】
このような本発明によれば、吸着運転中の吸着塔の吸着負荷が増大せず、設備の低コスト化を図ることができる吸着装置及び吸着方法を提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる吸着装置を示す模式図である。
【図2】本発明の第2実施形態にかかる吸着装置を示す模式図である。
【図3】従来の吸着装置を示す模式図である。
【符号の説明】
1 吸着装置
2 吸着装置
10A 吸着塔
10B 吸着塔
20 循環ループ
60 循環ループ
22 ブロア(送風手段)
61 ブロア(送風手段)
30 加熱器(加熱手段)
40 凝縮手段
70 凝縮手段
42 冷却部
50 吸着剤冷却手段
80 吸着剤冷却手段[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an adsorption device and an adsorption method.
[0002]
[Background]
Conventionally, volatile organic compounds (VOC) such as organic solvents have been widely used in various industries including the equipment manufacturing industry. From the storage equipment for storing the organic solvent and the reaction equipment using the organic solvent, a gas to be treated such as a volatile organic solvent is discharged. Such gas to be treated contains components that, if released into the atmosphere, may cause health damage to the surrounding residents or cause global warming. It is about to be provided.
[0003]
In order to comply with this emission regulation, a method using an adsorbent is used as a method for removing and recovering the removed components in the gas to be treated.
Generally, when the adsorbent reaches its adsorption capacity, the adsorption efficiency is remarkably lowered and breaks through. Therefore, it is necessary to regenerate the adsorbent before reaching the adsorption capacity. As a method for regenerating the adsorbent, there is a method in which the adsorbent is removed from the adsorption tower and heated with steam or the like in another place to remove the removed components adsorbed on the adsorbent and regenerate (steam heating method). .
However, in this steam heating method, since steam liquefies into water, a large amount of drainage containing a saturated removal component is generated.
Moreover, it is difficult to separate this waste water into a phase containing a removal component and an aqueous phase, and the removal component cannot be taken out from the waste water.
[0004]
In order to solve such a problem, an adsorption device 100 (see FIG. 3) that regenerates an adsorbent using an inert gas or the like having a low water content has been proposed (for example, see Patent Document 1).
In the
[0005]
During the regeneration process of the
(A) First, the inside of the
(B) The substituted inert gas is heated while circulating in the circulation line (
[0006]
(C) Stop the circulation, depressurize the inside of the
(D) The adsorption layer is purged and cooled while an inert gas is allowed to flow through the
(E) The processing gas (clean gas) of the
[0007]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 6-226029 (pages 3, 4 and FIG. 1)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, in such a method, in the recovery step of the removed component in step (c) described above, the circulation of the inert gas is stopped, and the uncondensed removed component that could not be condensed and recovered is placed in the
Further, since the decompression operation is performed in the step (c), the
[0009]
The objective of this invention is providing the adsorption | suction apparatus and adsorption | suction method which can aim at the cost reduction of an installation, without the adsorption | suction load of the adsorption tower in adsorption operation increasing.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
An adsorption apparatus according to the present invention is an adsorption apparatus that adsorbs and removes removed components in a gas to be treated including organic components by an adsorbent packed in an adsorption tower, and regenerates the adsorbent. A circulation loop that circulates a carrier gas in any one of the plurality of adsorption towers by switching a circulation path with a switching means, and a circulation loop connected to the gas supply port and discharge outlet A heating means for heating the carrier gas to a desorption temperature of the removal component adsorbed by the adsorbent; and a carrier gas connected to the circulation loop and including the removal component desorbed from the adsorbent; A cooling unit for condensing the removed component, a condensing unit for returning the carrier gas condensed by the cooling unit to the circulation loop again, and the cooling unit provided in the condensing unit Thus, the adsorbent cooling gas is cooled to a temperature at which the adsorbent can exhibit the adsorption performance, and among the plurality of adsorption towers, the other adsorption towers during the adsorption operation are passed through to the adsorption tower being regenerated. And an adsorbent cooling means to be introduced.
[0011]
Here, the following can be illustrated as an organic solvent used as the base of to-be-processed gas. In the synthetic fiber industry, for example, acetone, toluene, carbon disulfide and the like can be mentioned. In the synthetic resin industry, MEK (methyl ethyl ketone), THF (tetrahydrofuran), ethyl acetate, butyl acetate, toluene, methylene chloride and the like can be mentioned. In the synthetic / natural rubber industry, n-hexane, benzene and the like can be mentioned. In the synthetic leather industry, MEK, THF, dimethylformamide and the like can be mentioned.
[0012]
In the pharmaceutical industry, methanol, ethanol and the like can be mentioned. In the processed paper industry, MEK, IPA (isopropyl alcohol), ethyl acetate, methyl cellosolve and the like can be mentioned. In the film industry, THF, IPA, ethanol, methyl chloride and the like can be mentioned. In the adhesive tape industry, MEK, IPA, ethyl acetate, toluene and the like can be mentioned. In the magnetic tape industry, acetone, toluene, sulfur disulfide and the like are listed.
[0013]
In the synthetic resin industry, MEK, MIBK (isobutyl methyl ketone), cyclohexanone, butyl acetate, toluene, xylene and the like can be mentioned. In the coating industry, MEK, butanol, n-hexane, toluene and the like can be mentioned. In the printing industry, MEK, ethyl acetate, toluene and the like can be mentioned. In other fields, hydrogen sulfide, hydrogen chloride, sulfurous acid gas, chlorocarbons, chlorofluorocarbons, hydrofluorocarbons, sulfur hexafluoride, nitrous oxide and the like can be mentioned.
[0014]
The adsorbent filled in the adsorption tower is not particularly limited as long as it can withstand the heat history. For example, various adsorbents such as silica gel, zeolite, activated carbon and the like can be used.
[0015]
According to the present invention, since the circulation loop is provided with the heating means and the condensation means, the carrier gas heated by the heating means and desorbing the adsorbent removal component is cooled by the condensation means. Then, the removed component is removed and returned to the circulation loop again. During this time, since the carrier gas hardly flows into the adsorption tower during the adsorption operation, the load on the adsorption tower during the adsorption operation is not increased.
Moreover, in the adsorption apparatus of the present invention, since the depressurization step for depressurizing the inside of the adsorption tower is unnecessary, it is not necessary to make the adsorption tower special structure that can withstand depressurization, and the cost for the adsorption tower can be reduced. . Further, since a vacuum pump for decompression or the like is not necessary, the number of parts can be reduced, and the cost of the apparatus can be reduced.
[0016]
Furthermore, since the cooling unit provided in the condensing unit cools the gas for cooling the adsorbent, the number of cooling units can be reduced compared to the case where a new cooling unit is provided in the adsorbent cooling unit. . Thereby, the cost of the adsorption device can be reduced.
In the present invention, since the carrier gas heated by the heating means is circulated in the circulation loop, the regeneration time of the adsorption tower can be adjusted by the circulation amount of the carrier gas.
[0017]
Furthermore, the adsorbent cooling means for cooling the adsorbent is configured to introduce the adsorbent cooling gas cooled in the cooling section into the adsorption tower during the regeneration process through the adsorption tower during the operation process. Even when the volume of the adsorbent cooling gas shrinks due to cooling by the cooling section, the treated clean gas from the adsorption tower during operation processing can be added, thereby replenishing the volume shrinkage can do.
[0018]
At this time, it is preferable that the removed component is removed by the condensing means and the carrier gas returned to the circulation loop is heated again by the heating means and circulates in the circulation loop.
By condensing a part of the carrier gas circulating in the circulation loop by the condensing means, the carrier gas from which the removed components are removed is sequentially introduced into the circulation loop. And since the gas which hardly contains this removal component is heated by a heating means and desorbs the removal component of an adsorbent again, the desorption of the removal component from an adsorption agent can be performed efficiently.
[0019]
At this time, the condensing unit and the adsorbent cooling unit are switched by switching the gas discharge path from the cooling unit, and in response to this switching, in the cooling unit, the carrier gas containing the removal component is switched. It is preferable that either one of cooling and cooling of the adsorbent cooling gas is performed.
When the cooling of the carrier gas for removing the removal component and the cooling of the adsorbent cooling gas are performed simultaneously, a large load is applied to the cooling unit.
On the other hand, according to the present invention, only one of the cooling of the carrier gas containing the removal component and the cooling of the adsorbent cooling gas is performed in the cooling unit, and these are not performed at the same time. A large load is not applied to the cooling section.
[0020]
In the present invention, the adsorbent is preferably JIS-A type silica gel. Furthermore, the specific surface area is 500 m. 2 It is preferable that the hydrophobic silica gel has a moisture absorption rate of 25% at a relative humidity of 50%.
JIS-A type silica gel has a very fine and porous capillary structure, and it has a high adsorption power of the removal component in the gas to be treated, so it may take a long time to regenerate the adsorbent in the adsorption tower. Even if it exists, the adsorbent in the other adsorption towers in operation does not break through.
In addition, JIS-A type silica gel is difficult to adsorb moisture in the air and has little adsorption load and desorption load due to moisture, so the amount of adsorbent packed in the adsorption tower can be reduced, and the regeneration time can be reduced. It can be shortened.
Furthermore, the specific surface area is 500m 2 / G and a hydrophobic silica gel having a moisture absorption rate of 25% or less at a relative humidity of 50%, the specific surface area is large and the moisture absorption rate is small, so that the effects as described above can be further exhibited. .
[0021]
In the present invention, the lower part of the adsorption tower is a supply port for a gas to be processed, and the upper part is a discharge port. The circulation loop is directed from the discharge port of the adsorption tower toward the supply port. It is preferable to provide a blowing means for circulating the gas.
In the adsorption tower during the adsorption operation, the cleanliness of the clean gas discharged (the degree of removal of the removed component) depends on the accuracy of the adsorbent on the discharge port side. That is, if the adsorbing power of the adsorbent on the discharge port side is strong, there will be almost no removed component in the exhausted clean gas.
According to the present invention, since the carrier gas is circulated from the outlet of the adsorption tower toward the supply port, the adsorbent located on the outlet side (upper side) of the adsorbent is highly regenerated. Is done. Thereby, when the adsorption tower is operated for adsorption, the adsorbing power of the adsorbent on the outlet side is increased, so that the cleanliness of the exhausted clean gas can be further increased.
[0022]
Furthermore, in the present invention, in the adsorbent cooling means, it is preferable that the adsorbent cooling gas cooled by the cooling section is introduced into the supply port of the adsorption tower during the regeneration process by the air blowing means of the circulation loop. .
By introducing the cooled adsorbent cooling gas into the supply port of the adsorption tower during the regeneration process by the blowing means for circulating the carrier gas, it is not necessary to separately provide the blowing means in the adsorbent cooling means. Thus, the number of members of the adsorption device can be reduced.
[0023]
As described above, the present invention can be established not only as an adsorption device but also as an adsorption method. That is, the adsorption method of the present invention is an adsorption method in which a removed component in a gas to be treated containing an organic component is adsorbed and removed by an adsorbent packed in an adsorption tower, and the adsorbent is regenerated. Connected to the treated gas supply port and the discharge port of the adsorption tower, and by changing the circulation path by the switching means, the carrier gas is circulated by a circulation loop in one of the plurality of adsorption towers, A desorption step of heating the carrier gas to a desorption temperature of the removed component adsorbed on the adsorbent by a heating means provided in the circulation loop, and desorbing the removed component from the adsorbent in the adsorption tower; The cooling unit provided in the condensing means connected to the circulation loop cools the carrier gas containing the removed component to condense the removed component, and the condensed carrier gas is again recycled to the circulation loop. A condensing step for returning, a sweep step for purging the carrier gas in the circulation loop to remove the carrier gas containing the removal component, and a temperature at which the adsorbent can exhibit the adsorption performance of the adsorbent cooling gas after the sweep step. And an adsorbent cooling step of cooling to the adsorption tower during the regeneration process through the other adsorption tower during the adsorption operation among the plurality of adsorption towers. To do.
[0024]
According to the present invention as described above, the same effects as those of the adsorption device described above can be obtained.
Furthermore, in the state where the desorbing process of the adsorbent in the adsorption tower is completed, the carrier gas in the adsorption tower and the circulation loop contains the removal component desorbed from the adsorbent at an equilibrium concentration at the temperature of the cooling section. . It is necessary to cool the adsorbent from which the removed components have been removed to a temperature at which the adsorption performance can be exhibited. However, if the adsorbent is cooled as it is, the removed components may be adsorbed again by the adsorbent as the temperature in the adsorption tower decreases. . Thus, as in the present invention, by providing a sweep process, removing the carrier gas containing the removed component, and then providing an adsorbent cooling process, it is possible to prevent the removed component from being re-adsorbed on the adsorbent.
[0025]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of the invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an adsorption device 1 of the present embodiment. This adsorption apparatus 1 discharges clean gas from two
The adsorption towers 10A and 10B adsorb the removal components (for example, organic solvent etc.) in the gas to be treated including the organic components introduced through the gas to be treated
In the present embodiment, two adsorption towers are used. However, the number of adsorption towers may be three or more in consideration of the adsorption operation time and the adsorbent regeneration time.
[0026]
The adsorbent filled in the adsorption towers 10A and 10B is JIS-A type silica gel having a specific surface area of 500 m. 2 / G and hydrophobic silica gel having a moisture absorption rate of 25% or less at a relative humidity of 50%. Such a hydrophobic silica gel is obtained by baking JIS-A type silica gel at 400 to 600 ° C. for about 20 minutes to 4 hours. It can also be obtained by surface treatment with a silane coupling agent or the like.
In this embodiment, silica gel is used as the adsorbent. However, the adsorbent is not limited to this, and any material that can withstand the heat history may be used. For example, zeolite may be used. Activated carbon may also be used.
[0027]
The treated
On the other hand,
[0028]
The
[0029]
The
Of such a
[0030]
The
Here, an inert gas is preferably used as the carrier gas, and as the inert gas, nitrogen gas, carbon dioxide, helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like can be employed. Among these, it is more preferable to use inexpensive nitrogen gas.
[0031]
The
In the present embodiment, steam is employed as the heat source of the
[0032]
In the
[0033]
The condensing means 40 is connected to a
A
[0034]
The cooling
As the cooler 421, a general heat exchanger such as a plate fin type, a shell and tube type, a plate type, or the like can be used, but it is preferable that the condensate falls smoothly into the
[0035]
Further, a
[0036]
The
In the case where the condensate is separated into two layers, it is preferable to have a residence time so as to ensure the separation effect.
[0037]
Further, the
In the present embodiment, the cooler 421 and the
[0038]
The
The
[0039]
The adsorbent cooling means 50 cools the adsorbent in the adsorption tower during the regeneration process. The adsorbent cooling means 50 cools the adsorbent cooling gas to a temperature at which the adsorbent in the adsorption towers 10A and 10B can exhibit the adsorption performance, and this gas is being adsorbed in the adsorption towers 10A and 10B. It is introduced into the adsorption tower (for example, adsorption tower 10B) during the regeneration process through the adsorption tower (for example,
[0040]
The adsorbent cooling means 50 is connected to the
[0041]
In such an adsorbent cooling means 50, the piping 41, the
The
The
The
[0042]
As described above, the adsorbent cooling means 50 and the condensing means 40 are switched by switching the gas discharge path from the
[0043]
Next, the operation method of such an adsorption device 1 will be described.
In the adsorption device 1, the adsorption towers 10A and 10B are used by alternately switching between adsorption and regeneration. Here, the case where the
(Adsorption operation of the
First, the
[0044]
(Regeneration processing of adsorption tower 10B)
The adsorption tower 10B is in a state where the adsorption operation is finished.
The regeneration process of the adsorption tower 10B includes a regeneration process preparation process, a desorption process, a condensation process, a sweep process, and an adsorbent cooling process. The time required for this reproduction process is, for example, about 1 to 3 hours.
[0045]
(Regeneration processing preparation process)
The
By doing in this way, the oxygen concentration in the 1st path | route of the
[0046]
(Desorption process)
First, the
[0047]
(Condensation process)
Furthermore, after circulating through the first path, a part of the carrier gas containing the component removed from the adsorbent is cooled by the condensing means 40 to condense the removed component, and then again into the first path of the
[0048]
The amount of carrier gas flowing to the condensing means 40 side is preferably about 5 to 30% of the carrier gas circulating in the first path. If it greatly falls below 5%, the concentration of the removal component circulating in the first path becomes high, and the removal efficiency of the removal component from the adsorbent may be reduced. Further, if it greatly exceeds 30%, a large amount of energy is required for condensation and heating, which may increase the cost.
Here, the pressure in the first path may increase due to the temperature rise in the first path of the
[0049]
(Sweep process)
Next, a carrier gas (nitrogen gas) is introduced from the carrier
[0050]
Thereafter, the
[0051]
Next, the introduction of gas from the carrier
In addition, when there is a margin in the supply of the carrier gas from the carrier
[0052]
(Adsorbent cooling process)
For the cooling, the clean gas purged in the first path of the
First, the
[0053]
The clean gas in the first path is the
In this way, the clean gas is circulated, and when the temperature of the clean gas discharged from the adsorption tower 10B is lowered to a predetermined temperature, the cooling operation is finished and the
[0054]
As described above, the regeneration process of the adsorption tower 10B is completed. Next, the adsorption tower 10B is operated for adsorption, and the regeneration process of the
[0055]
Therefore, according to such 1st Embodiment, there can exist the following effects.
(1-1) Since the
In the desorption process, when the pressure in the
Also in the sweep process, a carrier gas containing uncondensed removal components is introduced into the
[0056]
(1-2) Further, by condensing a part of the carrier gas circulating through the
[0057]
(1-3) In the adsorption device 1, since it is not necessary to reduce the pressure when removing the removal component from the adsorbent, the adsorption towers 10A and 10B do not need to have a structure that can withstand the reduced pressure. The cost for 10B can be reduced. Further, since it is not necessary to perform decompression, a vacuum pump for decompression or the like is unnecessary, the number of parts of the suction device 1 can be reduced, and cost can be reduced.
[0058]
(1-4) Further, in the adsorbent cooling means 50, the cooling
(1-5) Since the configuration in which the carrier gas heated by the
[0059]
(1-6) When cooling the adsorbent, a gas for cooling the adsorbent is introduced into the adsorption tower (for example, the adsorption tower 10B) being regenerated through the adsorption tower (for example, the
[0060]
(1-7) When the cooling of the carrier gas for removing the removal component and the cooling of the adsorbent cooling gas for cooling the adsorbent are performed simultaneously, a large load is applied to the
[0061]
(1-8) In this embodiment, the adsorbent cooling means 50 includes
[0062]
(1-9) The JIS-A type silica gel packed in the adsorption towers 10A and 10B has a very fine and porous capillary structure, and has a high adsorption power for the removed components in the gas to be treated. Therefore, even if it takes a long time to regenerate the adsorbent in the adsorption tower (for example, the adsorption tower 10B), the adsorbent in the other adsorption tower (for example, the
In addition, since JIS-A type silica gel hardly adsorbs moisture in the air, and there is little adsorption load or desorption load on the adsorbent due to moisture, the amount of adsorbent packed in the adsorption towers 10A and 10B is small. Less time is required and the playback time can be shortened.
Furthermore, the adsorbent has a specific surface area of 500 m. 2 Is a hydrophobic silica gel having a moisture absorption rate of 25% or less at a relative humidity of 50%, a specific surface area is large, and the moisture absorption rate is small, so that the above-described effects can be further exhibited. .
[0063]
(1-10) In the adsorption tower during the adsorption operation, the cleanliness of the clean gas discharged (the degree of removal of the removed component) depends on the accuracy of the adsorbent on the discharge port side. That is, if the adsorbing power of the adsorbent on the discharge port side is strong, there will be almost no removed component in the exhausted clean gas.
In the present embodiment, since the carrier gas is circulated from the discharge ports of the adsorption towers 10A and 10B toward the supply port, among the adsorbents, the adsorbent located at the discharge port (upper side) is highly regenerated. . Thereby, when the adsorption towers 10A and 10B are operated for adsorption, the cleanliness of the clean gas discharged can be made higher.
[0064]
(1-11) In the adsorption towers 10A and 10B, the supply port of the gas to be processed is provided on the lower side, and the discharge port is provided on the upper side. It will flow in 10B.
Usually, since the adsorbent in the adsorption towers 10A and 10B contains fine powder or the like, if the gas to be treated is supplied in a downward flow, the adsorbent layer is clogged with the fine powder, resulting in pressure loss. May increase and the gas to be processed may not flow smoothly. On the other hand, as in the present embodiment, the gas to be processed can be smoothly flowed by the configuration in which the processing gas passes through the adsorption towers 10A and 10B as an upward flow, and the gas to be processed efficiently. Can be adsorbed.
[0065]
(1-12) In the state where the desorbing step of the adsorbent in the adsorption towers 10A and 10B is completed, the removed component desorbed from the adsorbent is added to the cooling gas in the carrier gas in the adsorption towers 10A and 10B and the
[0066]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the following description, the same parts as those already described are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.
In the embodiment, the adsorption device 1 includes two blowers. On the other hand, the adsorption device 2 of this embodiment includes only one blower.
That is, the blower 61 (air blowing means) of the adsorption device 2 of the present embodiment serves to circulate the carrier gas in the
The
[0067]
Moreover, in the said embodiment, although the piping 44 branched from the piping 43 connected to the cooling
The condensing means 70 of this embodiment includes a
[0068]
Further, in the embodiment, in the adsorbent cooling means 50, the
That is, the adsorbent cooling means 80 of the present embodiment includes a
[0069]
The operation method of the adsorption device 2 is substantially the same as that of the above embodiment. In the regeneration process of the adsorption tower 10B, in the regeneration process preparation process, the carrier
[0070]
In the desorption process, the
In the condensing means 70, a part of the carrier gas that circulates in the
[0071]
In the sweep process, the carrier gas introduced from the carrier
[0072]
In the adsorbent cooling process, the
[0073]
In this embodiment. In addition to the effects similar to (1-1) to (1-12) of the above embodiment, the following effects can be achieved.
(2-1) Since the adsorption device 2 has only one
[0074]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but includes modifications and improvements as long as the object of the present invention can be achieved.
For example, in each of the above-described embodiments, the adsorption devices 1 and 2 can perform the sweep process. However, the present invention is not limited to this, and may be configured such that the sweep process cannot be performed. In this case, the reproduction processing time can be shortened.
Further, in each of the above-described embodiments, the adsorbent cooling means 50, 80 includes the
[0075]
Furthermore, in each said embodiment, it was set as the structure which introduce | transduces the carrier gas in the
Moreover, although the lower part of
[0076]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
[Example 1]
The gas to be processed as shown below was processed using the same adsorption apparatus 1 as in the first embodiment.
(Processing gas flow rate and composition)
[0077]
The adsorbent packed in the adsorption towers 10A and 10B is hydrophobic silica gel obtained by baking JIS-A type silica gel at 500 ° C. for 2 hours. Specific surface area is 580m 2 / G, moisture absorption at a relative humidity of 50% is 21%. The filling amount of this adsorbent is 600 kg.
[0078]
(Conditions for playback processing)
In addition, the conditions for the reproduction process are as follows.
Adsorbent cooling is 1000 m 3 / Hr, the gas was cooled to 30 ° C. and circulated for 30 minutes, and the temperature of the adsorbent was cooled to 40 ° C. or lower. (It was 32 ° C. near the discharge port of the adsorption tower during the regeneration treatment and 40 ° C. near the supply port.)
[0079]
Under the above conditions, the interval between the adsorption operation and the regeneration process was set to 1 hour and 40 minutes.
(result)
The gas discharged from the adsorption tower contained 40 ppm by volume of toluene, and the removal efficiency was 96%.
[0080]
[Example 2]
In the same manner as in Example 1, the gas to be processed as described below was processed using the adsorption device 1.
(Processing gas flow rate and composition)
[0081]
(Conditions for playback processing)
The conditions for the reproduction process are as follows.
Adsorbent cooling is 2000 m 3 / Hr, the gas was cooled to 30 ° C. and circulated for 40 minutes, and the temperature of the adsorbent was cooled to 40 ° C. or lower. (It was 33 ° C. near the discharge port of the adsorption tower during the regeneration treatment and 40 ° C. near the supply port.)
Other conditions are the same as those in Example 1.
[0082]
(result)
The gas discharged from the adsorption tower contained 30 ppm by volume of isopropyl alcohol, and the removal efficiency was 95%. The gas discharged from the adsorption tower contained 10 ppm by volume of propyl acetate, and the removal efficiency was 97%.
[0083]
[Example 3]
JIS-B type silica gel baked as an adsorbent at 500 ° C. for 2 hours (specific surface area 450 m 2 / G, moisture absorption 28% at a relative humidity of 50%). Other conditions are the same as those in Example 1.
(result)
The gas discharged from the adsorption tower contained 150 ppm by volume of toluene, and the removal efficiency was 85%.
[0084]
[Consideration of Examples 1 to 3]
From the results of Examples 1 to 3 as described above, it was confirmed that the removal component was removed from the gas to be treated without increasing the adsorption load because the removal efficiency was high.
[0085]
【The invention's effect】
According to the present invention as described above, there is an effect that it is possible to provide an adsorption device and an adsorption method capable of reducing the cost of equipment without increasing the adsorption load of the adsorption tower during the adsorption operation.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view showing an adsorption device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing an adsorption device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic view showing a conventional adsorption device.
[Explanation of symbols]
1 Adsorption device
2 Adsorption device
10A adsorption tower
10B adsorption tower
20 Circulation loop
60 Circulation loop
22 Blower (Blower)
61 Blower (Blower)
30 Heater (heating means)
40 Condensing means
70 Condensing means
42 Cooling unit
50 Adsorbent cooling means
80 Adsorbent cooling means
Claims (8)
複数の吸着塔の被処理ガス供給口及び排出口に接続され、切り換え手段で循環経路を換えることにより、前記複数の吸着塔のうち何れかの吸着塔内にキャリアガスを循環させる循環ループと、
前記循環ループに設けられ、前記吸着剤に吸着された除去成分の脱着温度まで、前記キャリアガスを加熱する加熱手段と、
前記循環ループに接続され、前記吸着剤から脱着された除去成分を含むキャリアガスを冷却して、前記除去成分を凝縮する冷却部が設けられるとともに、前記冷却部による凝縮後のキャリアガスを再度、循環ループに戻す凝縮手段と、
前記凝縮手段に設けられた前記冷却部により、前記吸着剤が吸着性能を発揮できる温度まで吸着剤冷却用のガスを冷却し、前記複数の吸着塔のうち、吸着運転中の他の吸着塔を介して再生処理中の前記吸着塔に導入する吸着剤冷却手段とを備えたことを特徴とする吸着装置。An adsorption device that adsorbs and removes removed components in a gas to be treated containing organic components by an adsorbent packed in an adsorption tower, and regenerates the adsorbent,
A circulation loop connected to the gas supply ports and discharge ports of the plurality of adsorption towers and circulating the carrier gas in any one of the plurality of adsorption towers by changing the circulation path with the switching means;
A heating means provided in the circulation loop for heating the carrier gas up to the desorption temperature of the removal component adsorbed by the adsorbent;
A cooling unit that is connected to the circulation loop and cools the carrier gas containing the removed component desorbed from the adsorbent and condenses the removed component is provided, and the carrier gas condensed by the cooling unit is again, Condensing means to return to the circulation loop;
The cooling unit provided in the condensing means cools the adsorbent cooling gas to a temperature at which the adsorbent can exhibit adsorption performance, and among the plurality of adsorption towers, other adsorption towers in the adsorption operation are installed. And an adsorbent cooling means for introducing the adsorbent into the adsorption tower during the regeneration process.
前記凝縮手段により除去成分が除去され、前記循環ループに戻されたキャリアガスは、再度加熱手段により加熱されて循環ループ内を循環することを特徴とする吸着装置。The adsorption device according to claim 1,
The adsorbing device, wherein the removal component is removed by the condensing means and the carrier gas returned to the circulation loop is heated again by the heating means and circulates in the circulation loop.
前記冷却部からのガスの排出経路を切り換えることにより、前記凝縮手段と、前記吸着剤冷却手段とが切り換えられ、
この切り換えに応じて前記冷却部では、除去成分を含有するキャリアガスの冷却及び吸着剤冷却用のガスの冷却のうちの何れか一方が行われることを特徴とする吸着装置。In the adsorption device according to claim 1 or 2,
By switching the gas discharge path from the cooling unit, the condensing means and the adsorbent cooling means are switched,
In accordance with this switching, the cooling unit performs any one of cooling of the carrier gas containing the removal component and cooling of the adsorbent cooling gas.
前記吸着剤は、JIS−A型のシリカゲルであることを特徴とする吸着装置。In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 1 to 3,
The adsorber is a JIS-A type silica gel.
前記吸着剤は、比表面積が500m2/g以上であり、関係湿度50%での吸湿率が25%以下の疎水性シリカゲルであることを特徴とする吸着装置。In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 1 to 4,
The adsorbent is a hydrophobic silica gel having a specific surface area of 500 m 2 / g or more and a moisture absorption rate of 25% or less at a relative humidity of 50%.
前記吸着塔は、その下部が被処理ガスの供給口とされ、その上部が排出口とされ、
前記循環ループは、前記吸着塔の排出口から供給口に向かって前記キャリアガスを循環させる送風手段を備えていることを特徴とする吸着装置。In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 1 to 5,
The lower part of the adsorption tower is a gas supply port, and the upper part is a discharge port.
The said circulation loop is equipped with the ventilation means which circulates the said carrier gas toward the supply port from the discharge port of the said adsorption tower, The adsorption | suction apparatus characterized by the above-mentioned.
前記吸着剤冷却手段において、前記循環ループの送風手段により、前記冷却部で冷却された吸着剤冷却用のガスを再生処理中の吸着塔の供給口に導入することを特徴とする吸着装置。The adsorption device according to claim 6,
In the adsorbent cooling means, the adsorbent cooling gas cooled by the cooling unit is introduced into the supply port of the adsorption tower during the regeneration process by the air blowing means of the circulation loop.
複数の吸着塔の被処理ガス供給口及び排出口に接続され、切り換え手段で循環経路を換えることにより、前記複数の吸着塔のうち、何れかの吸着塔内に循環ループによりキャリアガスを循環させるとともに、前記循環ループに設けられた加熱手段により、前記吸着剤に吸着された除去成分の脱着温度まで、前記キャリアガスを加熱して、前記吸着塔内の吸着剤から除去成分を脱着させる脱着工程と、
前記循環ループに接続された凝縮手段に設けられた冷却部により、除去成分を含むキャリアガスを冷却して前記除去成分を凝縮し、凝縮後のキャリアガスを再度、循環ループに戻す凝縮工程と、
前記循環ループにキャリアガスをパージして除去成分を含むキャリアガスを取り除くスウィープ工程と、
このスウィープ工程の後、吸着剤冷却用のガスを前記吸着剤が吸着性能を発揮できる温度まで、前記冷却部により冷却し、前記複数の吸着塔のうち吸着運転中の他の吸着塔を介して、再生処理中の前記吸着塔に導入する吸着剤冷却工程とを備えたことを特徴とする吸着方法。An adsorption method for adsorbing and removing removed components in a gas to be treated containing organic components with an adsorbent packed in an adsorption tower, and regenerating the adsorbent,
The carrier gas is circulated in one of the plurality of adsorption towers by a circulation loop by being connected to the gas supply ports and discharge ports of the plurality of adsorption towers and changing the circulation path by the switching means. And a desorption step of heating the carrier gas up to the desorption temperature of the removed component adsorbed on the adsorbent by a heating means provided in the circulation loop to desorb the removed component from the adsorbent in the adsorption tower. When,
A condensing step of cooling the carrier gas containing a removed component by condensing the removed component by a cooling unit provided in the condensing means connected to the circulation loop, and returning the condensed carrier gas to the circulation loop again;
A sweep step of purging the circulation gas in the circulation loop to remove the carrier gas containing a removal component;
After this sweep step, the cooling gas is cooled by the cooling unit to a temperature at which the adsorbent can exhibit the adsorption performance, and the other adsorbing towers among the plural adsorbing towers are passed through the other adsorption towers. And an adsorbent cooling step for introducing the adsorbent into the adsorption tower during the regeneration process.
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JP2003169311A JP2005000862A (en) | 2003-06-13 | 2003-06-13 | Adsorption apparatus and adsorption method |
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