JP2004538108A - 改良型ハンドヘルド式レーザ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
【解決手段】低レベルレーザ療法の多様なタイプを同時に提供できる改良型ハンドヘルド式レーザ装置。前記装置は、異なるパルス幅、異なる光線形状及びスポットサイズのレーザ光が患者の体に外部から適用されることを可能にする。前記装置は、複数のレーザ源を含む。好適な実施形態において、２つの半導体ダイオードレーザ源は、２つの別々のレーザ光線を同時に提供するものであり、１レーザ光線が連続赤色レーザ光のラインを形成し、もう１つのレーザ光線がパルスレーザ光のスポットを形成する。
【選択図】図４

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザを使用する装置に関するものである。より具体的には、改良型ハンドヘルド式レーザ光線生成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
低出力レーザ治療（ＬＬＬＴ）は、幅広い状況の治療に用いられる。ＬＬＬＴは、創傷治癒を改善し、浮腫を軽減し、様々な病因痛を緩和するものであり、リポサクション（脂肪吸引）術後の炎症及び痛みを軽減するための適用にも成功している。ＬＬＬＴはまた、リポサクション処置中に使用されるものであり、細胞内の脂肪を細胞間の隙間（ｉｎｔｅｒｓｔｉｃｅ）に放出させることによって脂肪除去を促進する。また、損傷した筋肉及び腱の治療及び修復にも使用される。
【０００３】
ＬＬＬＴは、低レベルレーザエネルギーを用いるものである。すなわち、この治療は、治療された組織の即時の検出可能な温度上昇や組織構造中の肉眼的に明らかな変化をもたらさないような線量率を有する。その結果として、治療された組織及び周囲の組織は加熱されず且つ損傷されない。レーザ治療においては、レーザ光線の波長、レーザ光線による作用領域、レーザエネルギー、パルス幅、治療期間、及び組織の特性を含む複数の可変要素がある。各治療が成功するか否かは、これらの可変要素の関係及び組み合わせに依存する。例えば、リポサクションは、所定の波長及び治療期間による１つの処置で促進され、痛みは上記と異なる波長及び治療期間を用いる別の処置で治療され、炎症は別の第３の処置で治療される。当技術分野において周知のように特定の装置が治療の各タイプに対して用いられる。
【０００４】
ある１つのタイプの治療を行っている最中に、他の複数のタイプの問題に対して患者を治療したい場合が度々生じる。特定の治療においては、異なる複数の処置が必要になる場合があるが、現在のところこの複数の問題を治療するためには複数のレーザ装置が必要になる。したがって、１つの装置で複数タイプの治療ができる装置を供給することが望ましい。また１つの装置で複数のタイプの治療を同時に提供できることも望ましい。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、複数のタイプの治療が可能であるレーザ装置を提供することにある。もう１つの目的は、これらの治療を同時に提供する１つの装置を提供することにある。本発明のもう１つの目的は、レーザ光の複数の光線を同時に照射することができる装置を提供することにある。本発明のその他の目的は、複数の異なるパルス幅でレーザ光を同時に照射することができる装置を提供することである。本発明のさらなる目的は、複数の光線形状及びスポットサイズでレーザ光を同時に照射することができる装置を提供することである。本発明の具体的な目的は、リポサクションを促進し、術後の炎症及び術後の痛みの治療に同時に使われることができる低レベルレーザ治療を提供するハンドヘルド式レーザ装置を提供することである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、複数のタイプの低レベルレーザ治療を同時に提供できる改良型ハンドヘルド式レーザ装置である。前記装置は、異なるパルス幅、異なる光線形状及びスポットサイズのレーザ光が患者の体に外部から適用されることを可能にする。前記装置は、複数のレーザ源を含む。好適な実施形態において、２つの半導体ダイオードレーザ源は、２つの別々のレーザ光線を同時に提供するものであって、１つのレーザ光線が連続赤色レーザ光のラインを形成し、もう１つのレーザ光線がパルスレーザ光のスポットを形成する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図面を参照すると、ハンドヘルド式レーザ装置が１０で示される。前記装置は、複数のレーザエネルギー源、電源、光学配置、杖部（ｗａｎｄ）、及び制御回路を含む。
【０００８】
図１は、第１のレーザエネルギー源１１と第２のエネルギー源１２が電源１３に接続されてなる好適な実施形態を示している。前記電源は、好ましくは電池によって提供されるような直流を提供するが、次に直流に変換される従来のビルディング電流（ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎａｌ ｂｕｉｌｄｉｎｇ ｃｕｒｒｅｎｔ）によって提供されるような交流を代替的に提供してもよい。別々の制御手段１５、１６が、前記レーザエネルギー源１１、１２に個々に接続され、前記レーザ光が生成される期間を制御する電源スイッチとして作動する。これらのレーザエネルギー源は、単独又は同時に起動されることが可能なものであるが、本明細書全体を通してその作用は概して同時に発生するものであるとする。
【０００９】
レーザエネルギー源は、低レベルレーザ治療の使用で当技術分野において周知である。それらは、６３２ｎｍ波長を有するヘリウムネオンレーザ、及び６００〜８００ｎｍの広範囲な波長を有する半導体ダイオードを含む。好適な実施形態において、前記レーザエネルギー源は、約６３５ｎｍの波長を有する可視スペクトルの赤色範囲内にある光を生成する２つの半導体レーザダイオードである。その他の適切な波長が、その他の具体的な適用例において使用される。多くのＬＬＬＴ処置が可視レーザ光を含むため、前記可視／ＵＶエネルギースペクトル内のレーザ光線の少なくとも１つを用いることが有利であり、オペレータは前記レーザ光が患者の体に作用するのを見ることができ、治療された領域を容易に特定することが可能である。固体及び波長可変半導体レーザダイオードもまた所望の波長を得るために使用されることが可能である。
【００１０】
異なる治療処置は、異なるワット量のダイオードを必要とする。前記所望のレーザダイオードが１ワット未満の電力をそれぞれ使用し、それは同時にリポサクションを容易にし、術後の炎症及び術後の痛みを治療する。様々なその他のワット量のダイオードは、前記所定の処置において所望のレーザエネルギーを得るために使用することが可能である。さらに患者は人間又はその他の動物であってもよく、異なる治療処置が、患者の種類に応じて活用される。
【００１１】
制御手段２１、２２は、照射されたレーザ光の各パルス期間（ここではパルス幅として参照される）を制御している制御回路を形成する前記レーザエネルギー源１１、１２に個々に接続される。パルスが無い場合、レーザ光の連続光線が生成される。０〜１００，０００Ｈｚのパルス幅が患者の組織への所望の影響を得るために使用されることが可能である。ＬＬＬＴ処置の目的は、標的組織を効果的に活性化させ、隣接組織に熱損傷を避けるのに十分に短いパルス幅を用いて標的組織にレーザエネルギーを与えることである。
【００１２】
各レーザ光線４１、４２がレーザを放出し、ある特定の形状のビームスポット５１、５２を個々に生成する光学配置３１、３２を通して個々に照射される。前記ビームスポットは、光学配置から放出された時の断面形状及び照射された光線のサイズである。例えば、円形断面のレーザ光線は、前記レーザ光が患者の皮膚に作用する時に円形のビームスポットを生じる。前記照射されたレーザ光が可視範囲内にある場合、円形スポットは患者の皮膚上に見ることができる。好適な実施形態において、第１のレーザ光線は略線状断面の光線を生成する光学配置を通過し、結果としてレーザ光のラインが患者の皮膚上に見られる。第２のレーザが円形断面の光線を生成する光学配置を通過し、結果として円形スポット形状が患者の皮膚上に見られる。
【００１３】
図２に示すように、前記好適な装置の第１の光学配置３１は、コリメータレンズ３４及びライン生成プリズム３６を含む。前記コリメータレンズ３４及び前記ライン生成プリズム３６は、前記レーザエネルギー源１１に連続的な関係に配置される。前記コリメータレンズ３４及び前記ライン生成プリズム３６は、レーザ光の生成光線を受け取り、レーザ光のラインＬに成形する。別の方法として、適切な電気的又は機械的配置は、前記光学配置３１に代替できる。
【００１４】
図３に示すように、前記好適な装置の第２の光学配置３２は、コリメータレンズ３４を含む。前記第１の光学配置と同様に、前記コリメータレンズ３４は前記レーザエネルギー源１２に連続的な関係に配置される。前記コリメータレンズ３４はレーザ光の生成光線を受け取り、レーザ光の円形ビームスポットＣに成形する。別の方法として、適切な電気的又は機械的配置は、所望のスポット形状を得る光学配置３２に代替できる。
【００１５】
前記装置は、所望の照射及びスポット形状を得るのに必要なほど多くのレーザ及び光学配置を活用してもよい。例えば、前記装置は、それぞれにコリメータレンズを有する２つのレーザダイオードを使用することが可能であり、そのため２つの略円形のスポット形状が得られる。又は、例えば、前記装置がそれぞれ光学配置を有する２つのレーザダイオードを使用することが可能であり、そのため２つの略線状のスポット形状が得られる。又は別の例において、２つ以上のレーザが使用され、光学配置が調整され、そのため２つ又はそれ以上のレーザビームは略同様なスポット形状を有し、それらが患者の皮膚に作用する場所に同等に投射される。
【００１６】
前記レーザ光を患者の所望な領域に当てるために、前記レーザ光は、軽量で、ハンドヘルド式ポインター（ここにおいて杖部６１として参照される）から照射される。図４参照。前記杖部６１は、好ましくは内部空洞を定義している細長い空洞のチューブであって、ユーザの手に容易に保持されるように形作られている。好適な実施形態において、前記レーザエネルギー源１１、１２は、前記杖部の内部空洞に取り付けられており、前記レーザエネルギー源は、遠隔に位置されることが可能であり、前記レーザ光が光ファイバーによって杖部へ伝導される。前記杖部は、必要に応じて前記レーザ光を向けることができるいかなる形状、例えばチューブ状、Ｔ形状、略球状、又は長方形等の形状（テレビの遠隔操作装置のようなもの）を呈してもよい。
【００１７】
本発明の好適な実施形態として何が現在考慮されるのかを図解し、記載しているが、当業者にとって、様々な変更や修正がなされ、同等のものが本発明の範囲内から逸脱することなくその要素に代替することが可能である事は明らかである。それゆえに、本発明が本発明を実施するために熟慮された最良の形態として開示された具体的な実施形態に限定されるのではなく、本発明は、添付された特許請求の範囲内に収まる全ての実施形態を含む。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明の好適な実施形態の概略構成図である。
【図２】図２は、前記好適な実施形態における線状スポット形状の光学配置の概略を示す図である。
【図３】図３は、前記好適な実施形態における円形スポット形状の光学配置の概略を示す図である。
【図４】図４は、本発明の前記好適な実施形態に使われる人体への低レベルレーザ照射の適用を説明する図である。

Claims (13)

1. レーザ光線を照射する杖部（ｗａｎｄ）を有し、この杖部はユーザの手に保持され患者の皮膚面に対して自由に動かすことが可能である、レーザ装置であって、
   ａ）複数のレーザ光線を生成する複数のレーザエネルギー源と、
   ｂ）前記杖部に接続された光学配置であって、前記レーザ光線を受け取り、各前記レーザ光線を所望のスポット形状に成形する、光学配置と
   を有することを特徴とするレーザ装置。
2. 請求項１記載の装置において、前記レーザ光線のうち少なくとも２つは同時に照射されるものである。
3. 請求項１記載の装置は、各前記複数のレーザエネルギー源によるレーザエネルギーの生成を個別に制御するコントローラを更に有することを特徴とする。
4. 請求項１記載の装置において、各前記レーザエネルギー源は、１ワット未満である。
5. 請求項１記載の装置において、前記レーザエネルギー源のうち少なくとも１つは半導体ダイオードである。
6. 請求項５記載の装置において、前記レーザエネルギー源は、可視範囲内の波長を有するレーザ光線を生成するものである。
7. 請求項１記載の装置において、前記スポット形状のうち少なくとも１つは略線状である。
8. 請求項１記載の装置は、第１のスポット形状を有する第１のレーザ光線と、第２のスポット形状を有する第２のレーザ光線とを更に有し、前記第１のスポット形状は略線状であり、前記第２のスポット形状は円形であることを特徴とする。
9. 請求項１記載の装置は、各レーザ光線のパルス幅を制御するための制御回路を更に有することを特徴とする。
10. 請求項９記載の装置において、前記レーザ光線のうち少なくとも１つのパルス幅は、照射されたレーザ光が実質的に連続するようになっている。
11. 請求項９記載の装置は、第１のパルス幅を有する第１のレーザ光線と、第２のパルス幅を有する第２のレーザ光線とを更に有し、前記第１のパルス幅は照射されたレーザ光が実質的に連続するようなものであり、前記第２のパルス幅はゼロではない、ことを特徴とする。
12. 請求項１１記載の装置において、前記第２のパルス幅のパルス幅は、１００，０００Ｈｚ未満である。
13. 前記レーザ光線が照射される杖部を有し、前記杖部は内部空洞を有しユーザの手に保持され患者の皮膚面に対して自由に動かすことができるものである、レーザ装置であって、
    ａ）第１のレーザ光線を生成している第１の半導体ダイオードレーザエネルギー源、及び第２のレーザ光線を生成している第２の半導体ダイオードレーザエネルギー源であって、前記レーザ光線のうち少なくとも１つは可視スペクトルの赤色範囲内の波長を有するものである、前記第１、第２のレーザエネルギー源と、
    ｂ）前記杖部の内部空洞に組み込まれた光学配置であって、前記レーザ光線を受け取り、各前記レーザ光線を所望のスポット形状に成形するものであり、前記第１のレーザ光線のスポット形状は略線状であり、前記第２のレーザ光線のスポット形状は略円形である、前記光学装置と、
    ｃ）各レーザ光線のパルス幅を制御する制御回路であって、前記第１のレーザ光線は、連続照射であり、前記第２のレーザ光線はゼロ以上である第２のパルス幅を有するものである、前記制御回路と、
    を有することを特徴とする。

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